JP2003517568A - 単一隅カークパトリック・バエズのビーム調整光学素子組立体 - Google Patents

単一隅カークパトリック・バエズのビーム調整光学素子組立体

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JP2003517568A JP2000532856A JP2000532856A JP2003517568A JP 2003517568 A JP2003517568 A JP 2003517568A JP 2000532856 A JP2000532856 A JP 2000532856A JP 2000532856 A JP2000532856 A JP 2000532856A JP 2003517568 A JP2003517568 A JP 2003517568A
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Abstract

(57)【要約】 多層ブラッグX線反射面を有する単一隅構成でカークパトリック・バエズの並列光学素子を含むX線反射システム。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 (発明の背景) 本発明は、X線光学素子に関する。更に詳しくは、本発明は、X線ビームを調
整し、方向付けし、集束し、または平行にするための改良したカークパトリック
・バエズの光学装置に関する。
【0002】 調整し、方向付けし、集束し、または平行にしたX線を利用する種々の用途が
ある。例えば、放射線治療システムは、悪性組織を破壊するためにX線を利用し
、X線回折またはミクロ回折システムは、試料結晶にその格子構造に対応する回
折パターンを作るためにX線放射を向け、および蛍光X線分光システムは、指向
性X線ビームを使用する。
【0003】 多くの用途で、ビームを2方向に導くのが望ましい。ビームを2次元で平行に
するために、伝統的カークパトリック・バエズの光学方式が使われることがある
。連続する順序に配列した二つの交差ミラーが発散X線ビームを二つの方向に沿
って独立に平行にする。点線源では、二つの放物面ミラーを備えるこの連続順序
のシステムが平行なビームを形成するだろう。有限線源では、このシステムが2
方向に発散の異なるビームを形成するだろう。二つの楕円ミラーを備えるこの連
続順序のシステムは、その焦点に点線源があれば、完全な実点像を生み出すこと
ができる。被写界物体に対しては、この像をこのシステムによって拡大または縮
小するだろう。二つのミラーが物体から異なる距離にあるので、この倍率は、両
方向で異なるだろう。
【0004】 本発明は、並列方式および多層ブラッグX線反射面を使うカークパトリック・
バエズのシステムの革新的変形を使用する。この並列システムは、連続システム
に関連する問題に対する解を与えると共に、他の利点をもたらす。並列システム
のミラーは、線束を増し、X線検出装置によるデータ収集に要する時間を短縮す
るために最適化した光学性能のために最も適切な位置に配列できる。この並列シ
ステムは、表面不完全性の欠点が少なく、それで整列誤差を防ぐために予備整列
して接着する。この並列光学素子は、また連続方式のそれより遙かにコンパクト
で、スペースが貴重な用途に使えるようにする。並列光学素子の性能は、傾斜d
多層ブラッグX線反射器を組込むことによって更に改善さえできる。この多層反
射器は、大きな反射角を有し、収集効率が高い結果になり、反射したX線の周波
数を選択する能力を与える。
【0005】 (発明の概要) 本発明は、カークパトリック・バエズの並列方式および多層ブラッグX線反射
面に基づく、新しい型式のX線光学素子である。本発明は、カークパトリック・
バエズ方式で予備整列し且つ互いに接着した傾斜d多層ブラッグ反射器を組込む
。これらの反射器は、小さい試料上に集束したとき大きい線束密度を生じ、多層
構造がこのX線光学素子に反射した周波数帯域を制御させる。このX線光学素子
は、X線を広帯域、狭帯域、または単色状態で反射する能力を有するだろう。
【0006】 本発明の目的は、試料上の線束を増すことである。 本発明の他の目的は、X線光学素子の収差を減らすことである。 本発明の他の目的は、容易に操作できるコンパクトなX線光学素子を創ること
である。 本発明の更なる目的は、容易に整列できるX線光学素子を提供することである
。 本発明のその上更なる目的は、狭帯域、単色、または周波数選択可能多色X線
ビームを提供することである。
【0007】 (好適実施例の詳細な説明) 図1は、伝統的な連続して配列したカークパトリック・バエズ・ミラーシステ
ムの模式図である。この連続して配列したミラーシステムは、発散X線ビームを
二つの方向に沿って独立に反射することによって、X線ビームを集束または平行
にすることができる。ミラー12aおよび12bは、連続する順序に配列し、放
物面または楕円面で構成してもよい。点線源10では、二つの放物面ミラーを備
えるこの連続順序のシステムが平行なビームを形成するだろう。有限線源では、
この放物面システムが2方向に異なる発散のビームを形成するだろう。楕円ミラ
ーが放物面ミラーに置き換わるとき、この連続して配列したシステムは、その焦
点に点線源があれば、集束したビームを形成し、完全な実点像を生み出すだろう
。被写界物体に対しては、この像をこのシステムによって拡大または縮小するだ
ろう。二つのミラーが物体から異なる距離にあるので、この倍率は、これらのミ
ラーと物体を隔てる距離で変るだろう。
【0008】 連続順序のカークパトリック・バエズのシステムの性能に大きく影響する幾つ
かの制限がある。両ミラーを最も最適化した位置に設置する方法がなく、それが
線束が少なく、収差が大きい結果になる。反射面の理想的曲率からの象徴的ずれ
Δαを考えると、画像計画での理想的位置からのX線のずれは、2Δαlに等し
いだろう。但し、lは、入射点と像面の間の距離である。連続システムに対して
、物体近くのミラー上の象徴的誤差が大きなずれになる。これらのミラーが反射
器から異なる距離にあるとき、もし両ミラーが同じ角度ずれを有するならば、線
源に最も近いミラーからの収差が大きいだろう。連続順序のカークパトリック・
バエズのシステムは、ミラーが被写界物体距離に関して異なる位置にあるので、
種々の倍率を有するだろう。最後に、連続順序のカークパトリック・バエズのミ
ラー用整列装置は、嵩張り、且つ複雑で、この整列手続は、これらの調整がビー
ムに対する整列と両ミラーに対する整列を含むので、困難且つ時間が掛る。
【0009】 並列カークパトリック・バエズ・システムは、連続システムに関連する問題に
解を与えると共に、他の利点をもたらす。図2に、並列システムを全体を16で
示す。反射面18aおよび18bを90°の角度に隣接して取付ける。この並列
システムは、連続順序のシステムが有するように、反射面間に距離オフセットが
なく、可能性ある収差問題を減らす。
【0010】 図3a〜図3bは、ミラー面上の第1作動領域20aおよび第2作動領域20
bを示す、並列カークパトリック・バエズのミラーシステムの模式図である。こ
れらの作動領域20aおよび20bは、反射面18aおよび18bの結合によっ
て作られた隅上およびそれに隣接して位置する。
【0011】 図4は、入射および反射X線ビーム経路を示す、並列カークパトリック・バエ
ズ・システムの更に詳しい模式図である。個々のX線ビーム26aおよび26b
は、X線源10から放射され、このX線ビームの断面22で最初に調べてもよい
。このビームの断面22は、X線源10から出るX線ビームの多くの発散方向を
示す。個々のX線ビーム26aは、一般的に反射面18aと18bの接合部上に
ある作動領域20aに入射する。個々のX線ビーム26bも作動領域20aに入
射する。ビーム26aおよび26bは、作動領域20aによって反射され、図3
aおよび図3bに示すように、やはり一般的に反射面18aと18bの接合部上
に作動領域20aと対抗して一部それと重複して位置する作動領域20bへ方向
転換される。ビーム26aおよび26bは、次にこのシステム16を出て、反射
面18aと18bの形状およびX線源の形に依って、発散、平行または集束形で
もよい。この構成は、一般的に単一隅構成として知られている。
【0012】 本発明に対して、放物面または楕円ミラー面のどの様な組合せを使ってもよい
。例えば、一つの反射面が楕円面を有し、第2の反射面が放物反射面を有しても
よい。
【0013】 本発明に於ける反射面は、多層または傾斜d多層ブラッグX線反射面として構
成する。ブラッグ構造は、次のブラッグの式を満足するときだけX線放射を反射
する: nλ=2dsin(θ) 但し、 n = 反射次数 λ = 入射放射線の波長 d = ブラッグ構造の層設定間隔または 結晶の格子面間隔 θ = 入射角。
【0014】 多層または傾斜d多層ブラッグミラーは、狭帯域または単色X線放射を反射す
るためにそれら固有のブラッグ構造を利用する、固定焦点を有する光学素子であ
る。反射したX線放射の帯域幅は、この光学および多層パラメータを操作するこ
とによってカスタマイズできる。この多層ミラーのd間隔は、この多層ミラー上
のあらゆる点でブラッグの条件を満足するような方法で作ることができる。この
d間隔は、多層ミラーの帯域通過を制御するために横にまたは深さ方向に変える
ことができる。
【0015】 この多層ミラーは、大きな反射角を有し、入射X線に対して高い収集効率dで
ある結果となる。これらの多層ミラーは、全反射ミラーに比べて、微小焦点X線
管で線束を1桁以上増すことができる。多層ミラーは、それらの単色出力のため
に、回折解析中に試料から出る望ましくない特性の放射線を数千倍減少すること
もできる。
【0016】 図5で分るように、この単一隅光学素子を使うとき、同軸直行X線、単一反射
X線または散乱X線をなくするために、開口58を有するX線開口組立体56を
入口領域、出口領域または両方に配置してもよい。
【0017】 並列カークパトリック・バエズ方式と多層または傾斜d多層ブラッグX線反射
面の組合せは、方向付けし、集束し、または平行にしたX線を要する多くの用途
に対して優れた光学素子を提供することができる。
【0018】 図6は、本発明の整列方法を示す模式図である。カークパトリック・バエズの
ミラーが正しく動作するためには、非常に特別な整列をしなければならない。本
発明は、カークパトリック・バエズのミラーを正しく方向付けるために微細調整
装置を利用する。この光学素子の整列は、五自由度:即ち、二つの回転および三
つの平行移動の調整で達成できる。二つのミラーの回転軸は、この模式図に示す
ように、二つのミラーの交差中心を貫通し、それぞれ、ミラーに平行であるべき
である。この光学素子(図6)に垂直な二つの平行移動は、それぞれ、ミラー面
に平行であるべきである(図6の下部参照)。これらの自由度は、入射角および
ビーム位置の調整を可能にする。
【0019】 この発明は、上に図示し且つ説明した厳密な構造には限定されず、前記請求項
で定義するこの発明の精神および範囲から逸脱することなく、種々の変更および
修整をなすことができることを理解すべきである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 伝統的な連続して配列したカークパトリック・バエズ・ミラーシステムの模式
図である。
【図2】 並列カークパトリック・バエズ・ミラーシステムの模式図である。
【図3】 a〜bは並列カークパトリック・バエズ・ミラーシステムの作動領域を示す模
式図である。
【図4】 並列カークパトリック・バエズシステムのX線ビーム経路を示す更に詳しい模
式図である。
【図5】 開口組立体を備える並列カークパトリック・バエズ・ミラーシステムの模式図
である。
【図6】 本発明の整列方法の模式図である。
【手続補正書】
【提出日】平成14年6月21日(2002.6.21)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0003
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0003】 多くの用途で、ビームを2方向に導くのが望ましい。ビームを2次元で平行に
するために、伝統的カークパトリック・バエズの光学方式が使われることがある
。連続する順序に配列した二つの交差ミラーが発散X線ビームを二つの方向に沿
って独立に平行にする。点線源では、二つの放物面ミラーを備えるこの連続順序
のシステムが平行なビームを形成するだろう。有限線源では、このシステムが2
方向に発散の異なるビームを形成するだろう。二つの楕円ミラーを備えるこの連
続順序のシステムは、その焦点に点線源があれば、完全な実点像を生み出すこと
ができる。被写界物体に対しては、この像をこのシステムによって拡大または縮
小するだろうが、二つのミラーが物体から異なる距離にあるので、この倍率は、
両方向で異なるだろう。連続して配列したカークパトリック・バエズの光学方式 を開示する、アンダーウッドJH外の論文:“多層ミラーを備えるX線顕微鏡” 、アプライド・オプチックス;米国;1986年6月1日、25巻11号、pp 1730〜1732;XP002104740;ISSN0003−6935を 参照する。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0004
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0004】 本発明は、並列方式および多層ブラッグX線反射面を使うカークパトリック・
バエズのシステムの革新的変形を使用する。この並列システムは、連続システム
に関連する問題に対する解を与えると共に、他の利点をもたらす。並列システム
のミラーは、線束および解像度を増し、X線検出装置によるデータ収集に要する
時間を短縮するために最適化した光学性能のために最も適切な位置に配列できる
。この並列システムは、表面不完全性の欠点が少なく、それで整列誤差を防ぐた
めに予備整列して接着する。この並列光学素子は、また連続方式のそれより遙か
にコンパクトで、スペースが貴重な用途に使えるようにする。並列光学素子の性
能は、傾斜d多層ブラッグX線反射器を組込むことによって更に改善さえできる
。この多層反射器は、大きな反射角を有し、収集効率が高い結果になり、反射し
たX線の周波数を選択する能力を与える。多層X線反射器を開示する、ヨーロッ パ特許WOA9604665を参照する。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0005
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0005】 (発明の概要) 本発明は、カークパトリック・バエズの並列方式および多層ブラッグX線反射
面に基づく、新しい型式のX線光学素子である。本発明は、並列カークパトリッ
ク・バエズ方式で予備整列し且つ互いに接着した傾斜d多層ブラッグ反射器を組
込む。これらの反射器は、小さい試料上に集束したとき大きい線束密度を生じ、
多層構造がこのX線光学素子に反射した周波数帯域を制御させる。このX線光学
素子は、X線を広帯域、狭帯域、単色、または周波数選択可能多色状態で反射す
る能力を有するだろう。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SZ,UG,ZW),EA(AM ,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM) ,AL,AM,AT,AU,AZ,BA,BB,BG, BR,BY,CA,CH,CN,CU,CZ,DE,D K,EE,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM ,HR,HU,ID,IL,IN,IS,JP,KE, KG,KP,KR,KZ,LC,LK,LR,LS,L T,LU,LV,MD,MG,MK,MN,MW,MX ,NO,NZ,PL,PT,RO,RU,SD,SE, SG,SI,SK,SL,TJ,TM,TR,TT,U A,UG,UZ,VN,YU,ZW Fターム(参考) 2H087 KA11 KA12 LA21 LA25 NA05 TA04 TA06

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 X線指向システムであって: X線を方向転換するカークパトリック・バエズの並列光学素子を含み、上記カ
    ークパトリック・バエズの並列光学素子が多層ブラッグX線反射面を含むシステ
    ム。
  2. 【請求項2】 請求項1のX線指向システムに於いて、上記多層ブラッグX
    線反射面が傾斜d間隔を有するシステム。
  3. 【請求項3】 請求項2のX線指向システムに於いて、上記傾斜d間隔が横
    勾配であるシステム。
  4. 【請求項4】 請求項2のX線指向システムに於いて、上記傾斜d間隔が深
    さ勾配であるシステム。
  5. 【請求項5】 請求項1のX線指向システムに於いて、上記多層ブラッグX
    線反射面が楕円面を有するシステム。
  6. 【請求項6】 請求項1のX線指向システムに於いて、上記多層ブラッグX
    線反射面が放物面を有するシステム。
  7. 【請求項7】 請求項1のX線指向システムに於いて、上記多層ブラッグX
    線反射面が楕円面および放物面であるシステム。
  8. 【請求項8】 請求項1のX線指向システムであって、更に、少なくとも一
    つのX線開口組立体を含み、上記組立体が上記X線の一部を掩蔽するシステム。
  9. 【請求項9】 請求項のX線指向システムであって: 複数のX線反射器を含み; 上記X線反射器が多層ブラッグX線反射器であり;および 上記X線反射器が入射ビームを2方向に独立に反射するシステム。
  10. 【請求項10】 請求項9のX線指向システムに於いて、上記多層ブラッグ
    X線反射器が傾斜d間隔を有するシステム。
  11. 【請求項11】 請求項10のX線指向システムに於いて、上記傾斜d間隔
    が横勾配であるシステム。
  12. 【請求項12】 請求項10のX線指向システムに於いて、上記傾斜d間隔
    が深さ勾配であるシステム。
  13. 【請求項13】 請求項9のX線指向システムに於いて、上記多層ブラッグ
    X線反射器が楕円面を有するシステム。
  14. 【請求項14】 請求項9のX線指向システムに於いて、上記多層ブラッグ
    X線反射器が放物面を有するシステム。
  15. 【請求項15】 請求項9のX線指向システムに於いて、上記多層ブラッグ
    X線反射面が楕円面および放物面であるシステム。
  16. 【請求項16】 請求項9のX線指向システムであって、更に、少なくとも
    一つのX線開口組立体を含み、上記組立体が上記X線の一部を掩蔽するシステム
JP2000532856A 1998-02-19 1999-02-18 単一隅カークパトリック・バエズのビーム調整光学素子組立体 Expired - Lifetime JP3721305B2 (ja)

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US09/026,385 US6041099A (en) 1998-02-19 1998-02-19 Single corner kirkpatrick-baez beam conditioning optic assembly
US09/026,385 1998-02-19
PCT/US1999/003442 WO1999043009A1 (en) 1998-02-19 1999-02-18 Single corner kirkpatrick-baez beam conditioning optic assembly

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EP (1) EP1060477B1 (ja)
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