DE10028970C1 - Röntgenoptische Anordnung zur Erzeugung einer parallelen Röntgenstrahlung - Google Patents
Röntgenoptische Anordnung zur Erzeugung einer parallelen RöntgenstrahlungInfo
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Abstract
Die Erfindung betrifft eine röntgenoptische Anordnung mit einer Röntgenstrahlquelle, einem Röntgenstrahlen fokussierenden und einem Röntgenstrahlen reflektierenden Element, zur Erzeugung einer parallelen Röntgenstrahlung mit kleinem Strahlquerschnitt, hoher Photonendichte. Zur Lösung dieses Problems wird die Röntgenstrahlquelle mit dem fokussierenden Element auf die konkave, parabelförmige und reflektierende Oberfläche des reflektierenden Elementes gerichtet und kann vorteilhaft in der Röntgenanalytik, z. B. bei der Röntgendiffaktometrie, der Reflektometrie und/oder der Fluoreszenzanalyse eingesetzt werden.
Description
Die Erfindung betrifft eine röntgenoptische Anordnung
nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1. Sie kann beson
ders vorteilhaft in der Röntgenanalytik, z. B. bei der
Röntgendiffaktometrie, der Reflektometrie und/oder
der Fluoreszenzanalyse eingesetzt werden.
In der Röntgenanalytik werden für die verschiedensten
Applikationen Röntgenstrahlung mit hoher Intensität,
d. h. insbesondere hoher Photonendichte gefordert.
Dies kann durch eine Fokussierung der Röntgenstrahlen
erreicht werden. In vielen Fällen ist es jedoch gün
stiger, Röntgenstrahlung mit sehr kleiner Divergenz,
im besten Fall, als parallele Röntgenstrahlung ein
setzen zu können.
In der Röntgenanalytik kann es aber auch erforderlich
sein, die Röntgenstrahlung zu monochromatisieren, um
bestimmte Analysen durchführen zu können.
In der Röntgenanalytik ist es außerdem gewünscht,
eine hohe Oberflächensensitivität der Röntgenstrah
lung auf zu analysierenden Oberflächen oder in flui
dischen Proben, die auf Substratträgern vorhanden
sind, zu erreichen. In diesen Fällen wird die Rönt
genstrahlung bevorzugt streifend, d. h. mit relativ
kleinen Einfallswinkeln bis maximal wenigen Grad Einfallswinkeln
bzw. wenigen zehntel Grad Einfallswin
kel, d. h. nahe dem Grenzwinkel der Totalreflexion,
auf eine Proben- bzw. eine entsprechende Substrat
oberfläche gerichtet und demzufolge der Strahlungs
querschnitt gemäß 1/sin θ auf die Probenfläche proji
ziert wird. Es ist erwünscht, die Photonendichte je
Fläche auf der Projektionsfläche weiter zu erhöhen
bzw. auf eine kleinere Projektionsfläche zu konzen
trieren. Die Oberflächenintensität und demzufolge
auch die Photonendichte kann bekanntermaßen durch
starke Bündelung paralleler bzw. annähernd paralleler
Röntgenstrahlen erhöht werden und demzufolge auch das
jeweils lokal erfassbare Messsignal einer Probe ver
größert werden. Insbesondere die Ortsauflösung der
Messsignale, d. h. die möglichst genaue Zuordnung der
Messsignale zum Messort stellt hohe Anforderungen an
den Messaufbau.
Üblicherweise werden entsprechend klein dimensionier
te Blenden in den Strahlengang der Röntgenstrahlung
angeordnet, so dass nur ein Teil der Röntgenstrahlung
durch die Blendenöffnung zum Messort gelangen kann
und so eine lokal definierte Zuordnung des Mess
signals zum Messort erreicht wird. Selbstverständlich
bedingt der Einsatz solcher Blenden Intensitätsver
luste der Röntgenstrahlung, die zur Messung nicht
ausgenutzt werden können. Darunter leidet die Mess
genauigkeit bzw. es muss eine Erhöhung der erforder
lichen Messzeit in Kauf genommen werden, was für vie
le Anwendungsfälle nicht gewünscht ist bzw. auch Mes
sungen unmöglich macht.
Die genannten Nachteile konnten auch mit röntgenopti
schen Aufbauten, bei denen Multischichtsysteme mit an
konkave Krümmungen angepassten Periodendicken, die
beispielsweise in DE 44 43 853 A1 beschrieben sind,
nicht vollständig beseitigt werden und es ist nicht
gelungen, den Strahlquerschnitt der Röntgenstrahlung
soweit zu reduzieren, daß die in Folge der erforder
lichen Blenden auftretenden Intensitätsverluste, nach
wie vor, zwar in verringerter Form auftreten.
Des weiteren ist in US 6,049,588 A ein Röntgenstrahlko
limator für röntgenlithographische Anwendungen bei
der Halbleiterherstellung beschrieben, bei dem mit
mehreren Kanälen gearbeitet werden kann. Dabei wird
für jeden einzelnen Kanal mindestens ein Paar von
Spiegeln mit sphärischen Oberflächen verwendet.
Aus WO 99/43009 A1 ist ein Röntgenstrahlungs-Reflexions
system in einer Kirkpatrick-Baez-Anordnung mit einem
Multischichtsystem beschrieben.
Ein Spiegelsystem mit mindestens drei konkaven Spie
geln, die zylindrisch geformt sind, und für die
Strahlführung elektromagnetischer Wellen eingesetzt
werden kann, ist in EP 0 340 097 A1 offenbart. Dieses
Spiegelsystem soll vorteilhaft in der Plasmaphysik
eingesetzt werden können.
In allgemeiner Form ist im Lehrbuch der Experimental
physik, Band III, Optik, H. Gobrecht, W. de Gruyter-
Verlag, Berlin, 1978, Seite 14 auf gekrümmte Spiegel,
als Konkav- und Konvexspiegel verwiesen.
Insbesondere in der Halbleitertechnik schreitet die
Miniaturisierung stark voran und der Schritt aus dem
Micro- und den Nanobereich erfordert von der Analytik
Möglichkeiten, um bestimmte Elemente und Verbindungen
mit hoher Messgenauigkeit, bei gleichzeitig hoher
Ortsauflösung in kurzer Zeit analysieren zu können.
Es ist daher Aufgabe der Erfindung eine röntgenopti
sche Anordnung zur Verfügung zu stellen, mit der par
allele, zumindest jedoch annähernd parallele Röntgen
strahlung mit kleinem Strahlquerschnitt und entspre
chend hoher Photonendichte zur Verfügung gestellt
werden kann.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe mit den Merkmalen
des Anspruchs 1 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungs
formen und Weiterbildungen der Erfindung, können mit
den in den untergeordneten Ansprüchen genannten Merk
malen erreicht werden.
Die erfindungsgemäße röntgenoptische Anordnung ver
wendet übliche röntgenoptische Elemente, wie eine
geeignete Röntgenstrahlquelle, ein Röntgenstrahlen
fokussierendes und ein Röntgenstrahlen reflektieren
des Element. Dabei wird die Röntgenstrahlung der
Röntgenstrahlquelle auf das fokussierende Element
gerichtet, wobei es sich um ein einen Linseneffekt
erreichendes Element, günstiger jedoch um einen entsprechend
geformten Reflektor handeln kann. Die von
diesem Element fokussierte Röntgenstrahlung ist auf
ein Röntgenstrahlung reflektierendes Element gerich
tet, dessen reflektierende Oberflächen konvex und
parabelförmig ausgebildet ist.
Durch diese Oberflächenform des reflektierenden Ele
mentes kann gleichzeitig eine Bündelung (Kompression)
der Röntgenstrahlung und deren parallele Ausrichtung
mit vernachlässigbarer Differgenz erhalten werden,
die auf eine entsprechend angeordnete und ausgerich
tete Oberfläche einer Probe bzw. eines Substrates
gerichtet werden kann.
Je nach Form des fokussierenden Elementes kann die
konvergente Röntgenstrahlung mit punktförmigem,
elliptischem oder linienförmigem Querschnitt erzeugt
werden, wobei selbstverständlich auch die Oberf
lächenkontur des die Röntgenstrahlung reflektierenden
Elementes dieser Geometrie angepasst ist. Für linien
förmige Strahlquerschnitte können das fokussierende
und das reflektierende Element Zylindersymmetrie be
sitzen.
Für viele Einsatzfälle ändert sich die Funktion der
eingesetzten Blende und sie dient zur Streulichtun
terdrückung. Sind jedoch im Einzelfall nach wie vor
Blenden erforderlich, um die Ortsauflösung zu erhö
hen, wird ein wesentlich geringerer Teil der Röntgen
intensität von den Blenden ausgeblendet, da die Pho
tonendichte in der entsprechend komprimierten Rönt
genstrahlung erheblich höher ist, als dies bei be
kannten Lösungen der Fall ist. So kann ein Intensi
tätsgewinn größer 2 erreicht werden.
Zumindest die Oberfläche des reflektierenden Elemen
tes kann eine einzelne reflektierende Schicht, in
vielen Fällen jedoch günstiger, ein Multischichtsy
stem aufweisen.
Wird lediglich eine einzelne reflektierende Schicht
oder ein reflektierendes Element, das aus einem ent
sprechend geeigneten Material besteht, verwendet,
kann die Röntgenstrahlung vom fokussierenden Element
mit einem Winkel ≦ dem Grenzwinkel θc der Totalrefle
xion auf das reflektierende Element gerichtet und der
gewünschte Effekt erreicht werden.
In vielen Fällen ist es jedoch günstiger, ein Gra
dienten-Multischichtsystem zu verwenden, bei dem die
einzelnen Schichten des Multischichtsystems, die un
terschiedlichen Einfallswinkel der Röntgenstrahlen
berücksichtigend, eine entsprechend angepasste Dic
kenverteilung aufweisen, mit denen die jeweiligen
Einfallswinkel θi, bei einer vorgebbaren Röntgen
strahlungswellenlänge die Braggsche Gleichung auf
jedem Flächenelement des reflektierenden Elementes
erfüllen. Die Gradientenschichten weisen eine sich
über die Länge veränderte Doppelschichtdicke auf.
Dadurch kann eine weitere Erhöhung der Photonendichte
und auch eine verbesserte Monochromatisierung der
Röntgenstrahlung erreicht werden. Die jeweils benach
barten Einzelschichten eines Multischichtsystems wei
sen unterschiedliche röntgenoptische Brechungsindizes
auf.
Eine möglichst große Kompression der Röntgenstrahlung
kann erreicht werden, wenn die Fokuspunkte F von fo
kussierendem und reflektierendem Element miteinander
übereinstimmen, zumindest jedoch in unmittelbarer
Nähe zueinander angeordnet sind.
Bildet das fokussierende Element die Röntgenstrahl
quelle in einem Linienfokus ab, ist weiterhin vor
teilhaft, die Parabelform des reflektierenden Elemen
tes zylindersymmetrisch zu wählen, um eine linienför
mige Parallelstrahlung zu erhalten.
Neben den bereits erwähnten Vorteilen, kann mit der
erfindungsgemäßen röntgenoptischen Anordnung auch bei
kleinen Einfallswinkeln der Röntgenstrahlung auf die
Proben eine höhere Ortsauflösung der Messsignale er
reicht werden, da bei annähernd gleicher Photonenzahl
die projezierte Fläche auf der Probe verkleinert
wird.
Generell kann mit der Erfindung auch das Signal-
Rauschverhältnis verbessert werden, da mit dem re
flektierten Element ein zusätzlicher Monochromator im
Strahlengang angeordnet ist.
Neben der Verkürzung der Messzeit kann auch der dyna
mische Bereich der Messung erhöht werden, was z. B.
den Informationsgehalt eines gemessenen Reflekto
gramms ansteigen lässt, da eventuell durch Unter
grundsignale verdeckte Beugungsordnungen erfasst wer
den können.
Durch translatorische Bewegung und/oder Verschwenkung
um bestimmte Wegstrecken und Winkel des fokussieren
den und/oder reflektierenden Elementes kann die Rönt
genstrahlung auf bestimmte kleine Messorte/-flächen
gerichtet werden.
Nachfolgend soll die Erfindung anhand eines Ausfüh
rungsbeispieles erläutert werden.
Dabei zeigen:
Fig. 1 schematisch ein Beispiel einer röntgenopti
schen Anordnung nach der Erfindung, bei der
divergente Röntgenstrahlung, einer Röntgen
strahlungsquelle auf ein fokussierendes
Element gerichtet und in Parallelstrahlung
mit kleinerem Strahlquerschnitt umgewandelt
wird und
Fig. 2 in schematischer Form ein Beispiel einer
Anordnung, bei der parallele Röntgenstrah
lung auf ein fokussierendes Element gerich
tet und in Parallelstrahlung mit deutlich
kleinerem Strahlquerschnitt umgewandelt
wird.
Bei dem in Fig. 1 gezeigten Beispiel wird divergente
Röntgenstrahlung einer Röntgenstrahlungsquelle 1 auf
eine konkave, in Parabelform ausgebildete Oberfläche,
mit für die verwendete Röntgenstrahlung reflektieren
der Oberfläche, in diesem Fall ein Multischicht
system, gerichtet. Die Röntgenstrahlung wird von dort
reflektiert und gleichzeitig auf die konvexe, para
belförmige reflektierende Oberfläche des reflektie
renden Elementes gerichtet, wobei die vom reflektie
renden Element 3 reflektierte Röntgenstrahlung
gleichzeitig verdichtet und parallel ausgerichtet
wird. Die so gebündelte parallele Röntgenstrahlung
kann dann für die verschiedenen Röntgenanalysetechni
ken eingesetzt werden, wobei Röntgenstrahlquerschnit
te im Bereich kleiner 200 µm ohne weiteres erreichbar
sind.
Auf die reflektierende Oberfläche des reflektierenden
Elementes 3 kann ebenfalls ein Multischichtsystem,
bei dem die Schichtdicken der einzelnen Schichten
lokal, entsprechend den unterschiedlichen Einfalls
winkeln der einfallenden Röntgenstrahlung berücksich
tigt sind, vorhanden sein. In diesem Fall kann die
parallele, reflektierte Röntgenstrahlung nicht nur
eine höhere Intensität aufweisen, sondern sie wird
außerdem monochromatisiert.
Bei dem in Fig. 2 gezeigten Beispiel einer erfin
dungsgemäßen Anordnung wird Röntgenstrahlung mit ge
ringer bzw. keiner Divergenz in paralleler Form auf
die konkave, parabelförmige reflektierende Oberfläche
eines fokussierenden Elementes 2 gerichtet. Von die
ser Oberfläche wird die Röntgenstrahlung entsprechend
reflektiert und gleichzeitig fokussiert und auf die
Oberfläche des reflektierenden Elementes 3 gerichtet.
Aus der Darstellung ist eindeutig erkennbar, dass der
Strahlquerschnitt b', der vom reflektierenden Element
3 parallel reflektierten Röntgenstrahlung wesentlich
kleiner als der Strahlquerschnitt b, der ursprünglich
eingesetzten parallelen Röntgenstrahlung ist. Daraus
folgt, dass bei hinreichend hoher Reflektivität von
(2) und (3) die Photonendichte in der vom reflektie
renden Element 3 reflektierten Röntgenstrahlung ge
genüber der urspsrünglichen Parallelstrahlung vergrö
ßert worden ist.
Vorteilhafterweise ist das reflektierende Element
wieder mit einem Multischichtsystem an der reflektie
renden Oberfläche versehen, wobei die Periodendicke d
der Einzelschichten die Braggsche Gleichung
λ = 2deff sin θ erfüllen (deff = die die Dispersion
berücksichtigende effektive Periodendicke).
Da die fokussierte Röntgenstrahlung unterschiedliche
Einfallswinkel θi auf die reflektierende Oberfläche
des reflektierenden Elementes 3 vorgibt, ist es dem
zufolge auch erforderlich, ein entsprechendes
Gradientenmultischichtsystem einzusetzen, das bei der
entsprechenden Röntgenstrahlungswellenlänge den je
weiligen Einfallswinkeln entsprechend, eine unter
schiedliche Periodendicke di aufweist.
Möglichkeiten zur Ausbildung eines solchen Multi
schichtsystems sind in der unveröffentlichten DE 199 32 275
genannt, auf deren diesbezüglichen Offenba
rungsgehalt voll umfänglich zurückgegriffen werden
soll.
Sowohl in Fig. 1, wie auch in Fig. 2 ist darge
stellt, dass die entsprechenden reflektierenden Ober
flächen des fokussierenden Elementes 2 und des
reflektierenden Elementes 3 so ausgebildet und die
beiden Elemente 2 und 3 so zueinander angeordnet
sind, dass deren Fokuspunkte F miteinander überein
stimmen.
Bei den Beispielen nach Fig. 1 und 2 weist die re
flektierende Oberfläche des fokussierenden Elementes
2 eine Parabelform (Fig. 2) auf, es kann jedoch auch
eine elliptische Kontur (Fig. 1) eingesetzt werden.
Bei dem Beispiel nach Fig. 2, bei der parallele bzw.
nahezu parallele Ausgangsröntgenstrahlung verwendet
wird, gilt insbesondere die Gleichung
wobei die Parabelgleichungen
Y = √2px
Y' = √2p'x'
zugrunde gelegt werden
bzw.
unter Verwendung von Strahlensatz und Parabel gleichung kann diese zu
unter Verwendung von Strahlensatz und Parabel gleichung kann diese zu
vereinfacht werden, wobei p und p' die jeweiligen
Parabelparameter von fokussierendem Element 2 und
reflektierendem Element 3 sind.
Daraus folgt, dass eine Erhöhung der Photonenfluss
dichte immer dann erreicht werden kann, wenn das mit
dem Produkt der mittleren Reflektivitäten von fokus
sierendem Element 2 R(2) und reflektierendem Element
3 R(3) multiplizierte Verhältnis der Strahlquer
schnitte R(2).R(3).b/b' < 1 wird.
Claims (10)
1. Röntgenoptische Anordnung mit einer Röntgen
strahlquelle, einem Röntgenstrahlen fokussieren
den und einem Röntgenstrahlen reflektierenden
Element, zur Erzeugung einer parallelen Röntgen
strahlung mit kleinem Strahlquerschnitt, hoher
Photonendichte,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Röntgenstrahlung der Röntgenstrahlquel
le (1) mit dem fokussierenden Element (2) auf
die konvexe, parabelförmige und reflektierende
Oberfläche des reflektierenden Elementes (3)
gerichtet ist.
2. Röntgenoptische Anordnung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, dass auf der Oberfläche
des reflektierenden Elementes (3) eine reflek
tierende Schicht oder ein Multischichtsystem
vorhanden ist.
3. Röntgenoptische Anordnung nach Anspruch 1 oder
2, dadurch gekennzeichnet, dass die einzelnen
Schichten des Multischichtsystems Gradienten
schichten sind.
4. Röntgenoptische Anordnung nach Anspruch 1 oder
2, dadurch gekennzeichnet, dass die Röntgen
strahlung mit einem Winkel ≦ dem Grenzwinkel θc
der Totalreflexion auf das reflektierende Ele
ment (3) gerichtet ist.
5. Röntgenoptische Anordnung nach einem der Ansprü
che 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die
Röntgenstrahlung mit Einfallswinkeln θi auf das
Multischichtsystem mit Gradientenschichten ge
richtet ist, so dass bei einer vorgebbaren Rönt
genstahlungswellenlänge die Braggsche Gleichung
auf jedem Flächenelement des reflektierenden
Elementes (3) erfüllt ist.
6. Röntgenoptische Anordnung nach einem der Ansprü
che 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die
Fokuspunkte F des fokussierenden Elementes (2)
und des reflektierenden Elementes (3) überein
stimmen.
7. Röntgenoptische Anordnung nach einem der Ansprü
che 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass das
fokussierende Element (2) eine konkave, parabel
förmige oder elliptische Oberfläche aufweist.
8. Röntgenoptische Anordnung nach einem der Ansprü
che 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die
Parabelform des reflektierenden Elementes (3)
zylindersymmetrisch ist.
9. Röntgenoptische Anordnung nach einem der Ansprü
che 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass je
weils benachbarte Einzelschichten des Multi
schichtsystems unterschiedliche röntgenoptische
Brechungsindizes aufweisen.
10. Verwendung einer röntgenoptischen Anordnung nach
einem der Ansprüche 1 bis 9 bei der Röntgen
diffaktometrie, der Reflektometrie und/oder der
Röntgenfluoreszenzanalyse.
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Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7403593B1 (en) * | 2004-09-28 | 2008-07-22 | Bruker Axs, Inc. | Hybrid x-ray mirrors |
US7991116B2 (en) * | 2005-08-04 | 2011-08-02 | X-Ray Optical Systems, Inc. | Monochromatic x-ray micro beam for trace element mapping |
EP4070342A4 (de) * | 2020-01-10 | 2024-01-03 | IPG Photonics Corporation | Röntgenvorrichtung |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0340097A1 (de) * | 1988-04-29 | 1989-11-02 | Thomson-Csf | Spiegelsystem zur Führung einer elektromagnetischen Strahlung |
US5461657A (en) * | 1993-06-30 | 1995-10-24 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray mirror, and x-ray exposure apparatus and device manufacturing method employing the same |
DE4443853A1 (de) * | 1994-12-09 | 1996-06-13 | Geesthacht Gkss Forschung | Vorrichtung mit einer Röntgenstrahlungsquelle |
WO1999043009A1 (en) * | 1998-02-19 | 1999-08-26 | Osmic, Inc. | Single corner kirkpatrick-baez beam conditioning optic assembly |
US6049588A (en) * | 1997-07-10 | 2000-04-11 | Focused X-Rays | X-ray collimator for lithography |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4684565A (en) * | 1984-11-20 | 1987-08-04 | Exxon Research And Engineering Company | X-ray mirrors made from multi-layered material |
JP3060624B2 (ja) * | 1991-08-09 | 2000-07-10 | 株式会社ニコン | 多層膜反射鏡 |
BE1007607A3 (nl) * | 1993-10-08 | 1995-08-22 | Philips Electronics Nv | Multilaagspiegel met verlopende brekingsindex. |
US5646976A (en) * | 1994-08-01 | 1997-07-08 | Osmic, Inc. | Optical element of multilayered thin film for X-rays and neutrons |
JPH08146199A (ja) * | 1994-11-18 | 1996-06-07 | Nikon Corp | 平行x線照射装置 |
US5911858A (en) * | 1997-02-18 | 1999-06-15 | Sandia Corporation | Method for high-precision multi-layered thin film deposition for deep and extreme ultraviolet mirrors |
JPH1138192A (ja) * | 1997-07-17 | 1999-02-12 | Nikon Corp | 多層膜反射鏡 |
US6295164B1 (en) * | 1998-09-08 | 2001-09-25 | Nikon Corporation | Multi-layered mirror |
-
2000
- 2000-06-05 DE DE10028970A patent/DE10028970C1/de not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-05-18 EP EP01943167A patent/EP1323170B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-18 US US10/048,873 patent/US6724858B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-18 WO PCT/DE2001/002043 patent/WO2001094987A2/de active IP Right Grant
- 2001-05-18 JP JP2002502480A patent/JP2003536081A/ja active Pending
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- 2001-05-18 AT AT01943167T patent/ATE301328T1/de not_active IP Right Cessation
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0340097A1 (de) * | 1988-04-29 | 1989-11-02 | Thomson-Csf | Spiegelsystem zur Führung einer elektromagnetischen Strahlung |
US5461657A (en) * | 1993-06-30 | 1995-10-24 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray mirror, and x-ray exposure apparatus and device manufacturing method employing the same |
DE4443853A1 (de) * | 1994-12-09 | 1996-06-13 | Geesthacht Gkss Forschung | Vorrichtung mit einer Röntgenstrahlungsquelle |
US6049588A (en) * | 1997-07-10 | 2000-04-11 | Focused X-Rays | X-ray collimator for lithography |
WO1999043009A1 (en) * | 1998-02-19 | 1999-08-26 | Osmic, Inc. | Single corner kirkpatrick-baez beam conditioning optic assembly |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
Lehrbuch der Experimentalphysik, Bd. III, Optik, H. Gobrecht (Hrsg.), W. de Gruyter-Verlag, Berlin, 1978, S. 14 * |
Rev. Sc: Instrum. 66, (10), Oct. 1995, S. 4845-4846 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20020159562A1 (en) | 2002-10-31 |
DE50106990D1 (de) | 2005-09-08 |
EP1323170B1 (de) | 2005-08-03 |
WO2001094987A2 (de) | 2001-12-13 |
ATE301328T1 (de) | 2005-08-15 |
WO2001094987A3 (de) | 2003-04-03 |
JP2003536081A (ja) | 2003-12-02 |
US6724858B2 (en) | 2004-04-20 |
EP1323170A2 (de) | 2003-07-02 |
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