DE10028970C1 - Röntgenoptische Anordnung zur Erzeugung einer parallelen Röntgenstrahlung - Google Patents

Röntgenoptische Anordnung zur Erzeugung einer parallelen Röntgenstrahlung

Info

Publication number
DE10028970C1
DE10028970C1 DE10028970A DE10028970A DE10028970C1 DE 10028970 C1 DE10028970 C1 DE 10028970C1 DE 10028970 A DE10028970 A DE 10028970A DE 10028970 A DE10028970 A DE 10028970A DE 10028970 C1 DE10028970 C1 DE 10028970C1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
ray
optical arrangement
arrangement according
reflecting
rays
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE10028970A
Other languages
English (en)
Inventor
Thomas Holz
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV
Original Assignee
Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV filed Critical Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV
Priority to DE10028970A priority Critical patent/DE10028970C1/de
Priority to PCT/DE2001/002043 priority patent/WO2001094987A2/de
Priority to EP01943167A priority patent/EP1323170B1/de
Priority to JP2002502480A priority patent/JP2003536081A/ja
Priority to AT01943167T priority patent/ATE301328T1/de
Priority to US10/048,873 priority patent/US6724858B2/en
Priority to DE50106990T priority patent/DE50106990D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE10028970C1 publication Critical patent/DE10028970C1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/06Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft eine röntgenoptische Anordnung mit einer Röntgenstrahlquelle, einem Röntgenstrahlen fokussierenden und einem Röntgenstrahlen reflektierenden Element, zur Erzeugung einer parallelen Röntgenstrahlung mit kleinem Strahlquerschnitt, hoher Photonendichte. Zur Lösung dieses Problems wird die Röntgenstrahlquelle mit dem fokussierenden Element auf die konkave, parabelförmige und reflektierende Oberfläche des reflektierenden Elementes gerichtet und kann vorteilhaft in der Röntgenanalytik, z. B. bei der Röntgendiffaktometrie, der Reflektometrie und/oder der Fluoreszenzanalyse eingesetzt werden.

Description

Die Erfindung betrifft eine röntgenoptische Anordnung nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1. Sie kann beson­ ders vorteilhaft in der Röntgenanalytik, z. B. bei der Röntgendiffaktometrie, der Reflektometrie und/oder der Fluoreszenzanalyse eingesetzt werden.
In der Röntgenanalytik werden für die verschiedensten Applikationen Röntgenstrahlung mit hoher Intensität, d. h. insbesondere hoher Photonendichte gefordert. Dies kann durch eine Fokussierung der Röntgenstrahlen erreicht werden. In vielen Fällen ist es jedoch gün­ stiger, Röntgenstrahlung mit sehr kleiner Divergenz, im besten Fall, als parallele Röntgenstrahlung ein­ setzen zu können.
In der Röntgenanalytik kann es aber auch erforderlich sein, die Röntgenstrahlung zu monochromatisieren, um bestimmte Analysen durchführen zu können.
In der Röntgenanalytik ist es außerdem gewünscht, eine hohe Oberflächensensitivität der Röntgenstrah­ lung auf zu analysierenden Oberflächen oder in flui­ dischen Proben, die auf Substratträgern vorhanden sind, zu erreichen. In diesen Fällen wird die Rönt­ genstrahlung bevorzugt streifend, d. h. mit relativ kleinen Einfallswinkeln bis maximal wenigen Grad Einfallswinkeln bzw. wenigen zehntel Grad Einfallswin­ kel, d. h. nahe dem Grenzwinkel der Totalreflexion, auf eine Proben- bzw. eine entsprechende Substrat­ oberfläche gerichtet und demzufolge der Strahlungs­ querschnitt gemäß 1/sin θ auf die Probenfläche proji­ ziert wird. Es ist erwünscht, die Photonendichte je Fläche auf der Projektionsfläche weiter zu erhöhen bzw. auf eine kleinere Projektionsfläche zu konzen­ trieren. Die Oberflächenintensität und demzufolge auch die Photonendichte kann bekanntermaßen durch starke Bündelung paralleler bzw. annähernd paralleler Röntgenstrahlen erhöht werden und demzufolge auch das jeweils lokal erfassbare Messsignal einer Probe ver­ größert werden. Insbesondere die Ortsauflösung der Messsignale, d. h. die möglichst genaue Zuordnung der Messsignale zum Messort stellt hohe Anforderungen an den Messaufbau.
Üblicherweise werden entsprechend klein dimensionier­ te Blenden in den Strahlengang der Röntgenstrahlung angeordnet, so dass nur ein Teil der Röntgenstrahlung durch die Blendenöffnung zum Messort gelangen kann und so eine lokal definierte Zuordnung des Mess­ signals zum Messort erreicht wird. Selbstverständlich bedingt der Einsatz solcher Blenden Intensitätsver­ luste der Röntgenstrahlung, die zur Messung nicht ausgenutzt werden können. Darunter leidet die Mess­ genauigkeit bzw. es muss eine Erhöhung der erforder­ lichen Messzeit in Kauf genommen werden, was für vie­ le Anwendungsfälle nicht gewünscht ist bzw. auch Mes­ sungen unmöglich macht.
Die genannten Nachteile konnten auch mit röntgenopti­ schen Aufbauten, bei denen Multischichtsysteme mit an konkave Krümmungen angepassten Periodendicken, die beispielsweise in DE 44 43 853 A1 beschrieben sind, nicht vollständig beseitigt werden und es ist nicht gelungen, den Strahlquerschnitt der Röntgenstrahlung soweit zu reduzieren, daß die in Folge der erforder­ lichen Blenden auftretenden Intensitätsverluste, nach wie vor, zwar in verringerter Form auftreten.
Des weiteren ist in US 6,049,588 A ein Röntgenstrahlko­ limator für röntgenlithographische Anwendungen bei der Halbleiterherstellung beschrieben, bei dem mit mehreren Kanälen gearbeitet werden kann. Dabei wird für jeden einzelnen Kanal mindestens ein Paar von Spiegeln mit sphärischen Oberflächen verwendet.
Aus WO 99/43009 A1 ist ein Röntgenstrahlungs-Reflexions­ system in einer Kirkpatrick-Baez-Anordnung mit einem Multischichtsystem beschrieben.
Ein Spiegelsystem mit mindestens drei konkaven Spie­ geln, die zylindrisch geformt sind, und für die Strahlführung elektromagnetischer Wellen eingesetzt werden kann, ist in EP 0 340 097 A1 offenbart. Dieses Spiegelsystem soll vorteilhaft in der Plasmaphysik eingesetzt werden können.
In allgemeiner Form ist im Lehrbuch der Experimental­ physik, Band III, Optik, H. Gobrecht, W. de Gruyter- Verlag, Berlin, 1978, Seite 14 auf gekrümmte Spiegel, als Konkav- und Konvexspiegel verwiesen.
Insbesondere in der Halbleitertechnik schreitet die Miniaturisierung stark voran und der Schritt aus dem Micro- und den Nanobereich erfordert von der Analytik Möglichkeiten, um bestimmte Elemente und Verbindungen mit hoher Messgenauigkeit, bei gleichzeitig hoher Ortsauflösung in kurzer Zeit analysieren zu können.
Es ist daher Aufgabe der Erfindung eine röntgenopti­ sche Anordnung zur Verfügung zu stellen, mit der par­ allele, zumindest jedoch annähernd parallele Röntgen­ strahlung mit kleinem Strahlquerschnitt und entspre­ chend hoher Photonendichte zur Verfügung gestellt werden kann.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungs­ formen und Weiterbildungen der Erfindung, können mit den in den untergeordneten Ansprüchen genannten Merk­ malen erreicht werden.
Die erfindungsgemäße röntgenoptische Anordnung ver­ wendet übliche röntgenoptische Elemente, wie eine geeignete Röntgenstrahlquelle, ein Röntgenstrahlen fokussierendes und ein Röntgenstrahlen reflektieren­ des Element. Dabei wird die Röntgenstrahlung der Röntgenstrahlquelle auf das fokussierende Element gerichtet, wobei es sich um ein einen Linseneffekt erreichendes Element, günstiger jedoch um einen entsprechend geformten Reflektor handeln kann. Die von diesem Element fokussierte Röntgenstrahlung ist auf ein Röntgenstrahlung reflektierendes Element gerich­ tet, dessen reflektierende Oberflächen konvex und parabelförmig ausgebildet ist.
Durch diese Oberflächenform des reflektierenden Ele­ mentes kann gleichzeitig eine Bündelung (Kompression) der Röntgenstrahlung und deren parallele Ausrichtung mit vernachlässigbarer Differgenz erhalten werden, die auf eine entsprechend angeordnete und ausgerich­ tete Oberfläche einer Probe bzw. eines Substrates gerichtet werden kann.
Je nach Form des fokussierenden Elementes kann die konvergente Röntgenstrahlung mit punktförmigem, elliptischem oder linienförmigem Querschnitt erzeugt werden, wobei selbstverständlich auch die Oberf­ lächenkontur des die Röntgenstrahlung reflektierenden Elementes dieser Geometrie angepasst ist. Für linien­ förmige Strahlquerschnitte können das fokussierende und das reflektierende Element Zylindersymmetrie be­ sitzen.
Für viele Einsatzfälle ändert sich die Funktion der eingesetzten Blende und sie dient zur Streulichtun­ terdrückung. Sind jedoch im Einzelfall nach wie vor Blenden erforderlich, um die Ortsauflösung zu erhö­ hen, wird ein wesentlich geringerer Teil der Röntgen­ intensität von den Blenden ausgeblendet, da die Pho­ tonendichte in der entsprechend komprimierten Rönt­ genstrahlung erheblich höher ist, als dies bei be­ kannten Lösungen der Fall ist. So kann ein Intensi­ tätsgewinn größer 2 erreicht werden.
Zumindest die Oberfläche des reflektierenden Elemen­ tes kann eine einzelne reflektierende Schicht, in vielen Fällen jedoch günstiger, ein Multischichtsy­ stem aufweisen.
Wird lediglich eine einzelne reflektierende Schicht oder ein reflektierendes Element, das aus einem ent­ sprechend geeigneten Material besteht, verwendet, kann die Röntgenstrahlung vom fokussierenden Element mit einem Winkel ≦ dem Grenzwinkel θc der Totalrefle­ xion auf das reflektierende Element gerichtet und der gewünschte Effekt erreicht werden.
In vielen Fällen ist es jedoch günstiger, ein Gra­ dienten-Multischichtsystem zu verwenden, bei dem die einzelnen Schichten des Multischichtsystems, die un­ terschiedlichen Einfallswinkel der Röntgenstrahlen berücksichtigend, eine entsprechend angepasste Dic­ kenverteilung aufweisen, mit denen die jeweiligen Einfallswinkel θi, bei einer vorgebbaren Röntgen­ strahlungswellenlänge die Braggsche Gleichung auf jedem Flächenelement des reflektierenden Elementes erfüllen. Die Gradientenschichten weisen eine sich über die Länge veränderte Doppelschichtdicke auf.
Dadurch kann eine weitere Erhöhung der Photonendichte und auch eine verbesserte Monochromatisierung der Röntgenstrahlung erreicht werden. Die jeweils benach­ barten Einzelschichten eines Multischichtsystems wei­ sen unterschiedliche röntgenoptische Brechungsindizes auf.
Eine möglichst große Kompression der Röntgenstrahlung kann erreicht werden, wenn die Fokuspunkte F von fo­ kussierendem und reflektierendem Element miteinander übereinstimmen, zumindest jedoch in unmittelbarer Nähe zueinander angeordnet sind.
Bildet das fokussierende Element die Röntgenstrahl­ quelle in einem Linienfokus ab, ist weiterhin vor­ teilhaft, die Parabelform des reflektierenden Elemen­ tes zylindersymmetrisch zu wählen, um eine linienför­ mige Parallelstrahlung zu erhalten.
Neben den bereits erwähnten Vorteilen, kann mit der erfindungsgemäßen röntgenoptischen Anordnung auch bei kleinen Einfallswinkeln der Röntgenstrahlung auf die Proben eine höhere Ortsauflösung der Messsignale er­ reicht werden, da bei annähernd gleicher Photonenzahl die projezierte Fläche auf der Probe verkleinert wird.
Generell kann mit der Erfindung auch das Signal- Rauschverhältnis verbessert werden, da mit dem re­ flektierten Element ein zusätzlicher Monochromator im Strahlengang angeordnet ist.
Neben der Verkürzung der Messzeit kann auch der dyna­ mische Bereich der Messung erhöht werden, was z. B. den Informationsgehalt eines gemessenen Reflekto­ gramms ansteigen lässt, da eventuell durch Unter­ grundsignale verdeckte Beugungsordnungen erfasst wer­ den können.
Durch translatorische Bewegung und/oder Verschwenkung um bestimmte Wegstrecken und Winkel des fokussieren­ den und/oder reflektierenden Elementes kann die Rönt­ genstrahlung auf bestimmte kleine Messorte/-flächen gerichtet werden.
Nachfolgend soll die Erfindung anhand eines Ausfüh­ rungsbeispieles erläutert werden.
Dabei zeigen:
Fig. 1 schematisch ein Beispiel einer röntgenopti­ schen Anordnung nach der Erfindung, bei der divergente Röntgenstrahlung, einer Röntgen­ strahlungsquelle auf ein fokussierendes Element gerichtet und in Parallelstrahlung mit kleinerem Strahlquerschnitt umgewandelt wird und
Fig. 2 in schematischer Form ein Beispiel einer Anordnung, bei der parallele Röntgenstrah­ lung auf ein fokussierendes Element gerich­ tet und in Parallelstrahlung mit deutlich kleinerem Strahlquerschnitt umgewandelt wird.
Bei dem in Fig. 1 gezeigten Beispiel wird divergente Röntgenstrahlung einer Röntgenstrahlungsquelle 1 auf eine konkave, in Parabelform ausgebildete Oberfläche, mit für die verwendete Röntgenstrahlung reflektieren­ der Oberfläche, in diesem Fall ein Multischicht­ system, gerichtet. Die Röntgenstrahlung wird von dort reflektiert und gleichzeitig auf die konvexe, para­ belförmige reflektierende Oberfläche des reflektie­ renden Elementes gerichtet, wobei die vom reflektie­ renden Element 3 reflektierte Röntgenstrahlung gleichzeitig verdichtet und parallel ausgerichtet wird. Die so gebündelte parallele Röntgenstrahlung kann dann für die verschiedenen Röntgenanalysetechni­ ken eingesetzt werden, wobei Röntgenstrahlquerschnit­ te im Bereich kleiner 200 µm ohne weiteres erreichbar sind.
Auf die reflektierende Oberfläche des reflektierenden Elementes 3 kann ebenfalls ein Multischichtsystem, bei dem die Schichtdicken der einzelnen Schichten lokal, entsprechend den unterschiedlichen Einfalls­ winkeln der einfallenden Röntgenstrahlung berücksich­ tigt sind, vorhanden sein. In diesem Fall kann die parallele, reflektierte Röntgenstrahlung nicht nur eine höhere Intensität aufweisen, sondern sie wird außerdem monochromatisiert.
Bei dem in Fig. 2 gezeigten Beispiel einer erfin­ dungsgemäßen Anordnung wird Röntgenstrahlung mit ge­ ringer bzw. keiner Divergenz in paralleler Form auf die konkave, parabelförmige reflektierende Oberfläche eines fokussierenden Elementes 2 gerichtet. Von die­ ser Oberfläche wird die Röntgenstrahlung entsprechend reflektiert und gleichzeitig fokussiert und auf die Oberfläche des reflektierenden Elementes 3 gerichtet. Aus der Darstellung ist eindeutig erkennbar, dass der Strahlquerschnitt b', der vom reflektierenden Element 3 parallel reflektierten Röntgenstrahlung wesentlich kleiner als der Strahlquerschnitt b, der ursprünglich eingesetzten parallelen Röntgenstrahlung ist. Daraus folgt, dass bei hinreichend hoher Reflektivität von (2) und (3) die Photonendichte in der vom reflektie­ renden Element 3 reflektierten Röntgenstrahlung ge­ genüber der urspsrünglichen Parallelstrahlung vergrö­ ßert worden ist.
Vorteilhafterweise ist das reflektierende Element wieder mit einem Multischichtsystem an der reflektie­ renden Oberfläche versehen, wobei die Periodendicke d der Einzelschichten die Braggsche Gleichung λ = 2deff sin θ erfüllen (deff = die die Dispersion berücksichtigende effektive Periodendicke).
Da die fokussierte Röntgenstrahlung unterschiedliche Einfallswinkel θi auf die reflektierende Oberfläche des reflektierenden Elementes 3 vorgibt, ist es dem­ zufolge auch erforderlich, ein entsprechendes Gradientenmultischichtsystem einzusetzen, das bei der entsprechenden Röntgenstrahlungswellenlänge den je­ weiligen Einfallswinkeln entsprechend, eine unter­ schiedliche Periodendicke di aufweist.
Möglichkeiten zur Ausbildung eines solchen Multi­ schichtsystems sind in der unveröffentlichten DE 199 32 275 genannt, auf deren diesbezüglichen Offenba­ rungsgehalt voll umfänglich zurückgegriffen werden soll.
Sowohl in Fig. 1, wie auch in Fig. 2 ist darge­ stellt, dass die entsprechenden reflektierenden Ober­ flächen des fokussierenden Elementes 2 und des reflektierenden Elementes 3 so ausgebildet und die beiden Elemente 2 und 3 so zueinander angeordnet sind, dass deren Fokuspunkte F miteinander überein­ stimmen.
Bei den Beispielen nach Fig. 1 und 2 weist die re­ flektierende Oberfläche des fokussierenden Elementes 2 eine Parabelform (Fig. 2) auf, es kann jedoch auch eine elliptische Kontur (Fig. 1) eingesetzt werden.
Bei dem Beispiel nach Fig. 2, bei der parallele bzw. nahezu parallele Ausgangsröntgenstrahlung verwendet wird, gilt insbesondere die Gleichung
wobei die Parabelgleichungen
Y = √2px
Y' = √2p'x'
zugrunde gelegt werden bzw.
unter Verwendung von Strahlensatz und Parabel­ gleichung kann diese zu
vereinfacht werden, wobei p und p' die jeweiligen Parabelparameter von fokussierendem Element 2 und reflektierendem Element 3 sind.
Daraus folgt, dass eine Erhöhung der Photonenfluss­ dichte immer dann erreicht werden kann, wenn das mit dem Produkt der mittleren Reflektivitäten von fokus­ sierendem Element 2 R(2) und reflektierendem Element 3 R(3) multiplizierte Verhältnis der Strahlquer­ schnitte R(2).R(3).b/b' < 1 wird.

Claims (10)

1. Röntgenoptische Anordnung mit einer Röntgen­ strahlquelle, einem Röntgenstrahlen fokussieren­ den und einem Röntgenstrahlen reflektierenden Element, zur Erzeugung einer parallelen Röntgen­ strahlung mit kleinem Strahlquerschnitt, hoher Photonendichte, dadurch gekennzeichnet, dass die Röntgenstrahlung der Röntgenstrahlquel­ le (1) mit dem fokussierenden Element (2) auf die konvexe, parabelförmige und reflektierende Oberfläche des reflektierenden Elementes (3) gerichtet ist.
2. Röntgenoptische Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass auf der Oberfläche des reflektierenden Elementes (3) eine reflek­ tierende Schicht oder ein Multischichtsystem vorhanden ist.
3. Röntgenoptische Anordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die einzelnen Schichten des Multischichtsystems Gradienten­ schichten sind.
4. Röntgenoptische Anordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Röntgen­ strahlung mit einem Winkel ≦ dem Grenzwinkel θc der Totalreflexion auf das reflektierende Ele­ ment (3) gerichtet ist.
5. Röntgenoptische Anordnung nach einem der Ansprü­ che 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Röntgenstrahlung mit Einfallswinkeln θi auf das Multischichtsystem mit Gradientenschichten ge­ richtet ist, so dass bei einer vorgebbaren Rönt­ genstahlungswellenlänge die Braggsche Gleichung auf jedem Flächenelement des reflektierenden Elementes (3) erfüllt ist.
6. Röntgenoptische Anordnung nach einem der Ansprü­ che 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Fokuspunkte F des fokussierenden Elementes (2) und des reflektierenden Elementes (3) überein­ stimmen.
7. Röntgenoptische Anordnung nach einem der Ansprü­ che 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass das fokussierende Element (2) eine konkave, parabel­ förmige oder elliptische Oberfläche aufweist.
8. Röntgenoptische Anordnung nach einem der Ansprü­ che 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Parabelform des reflektierenden Elementes (3) zylindersymmetrisch ist.
9. Röntgenoptische Anordnung nach einem der Ansprü­ che 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass je­ weils benachbarte Einzelschichten des Multi­ schichtsystems unterschiedliche röntgenoptische Brechungsindizes aufweisen.
10. Verwendung einer röntgenoptischen Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 9 bei der Röntgen­ diffaktometrie, der Reflektometrie und/oder der Röntgenfluoreszenzanalyse.
DE10028970A 2000-06-05 2000-06-05 Röntgenoptische Anordnung zur Erzeugung einer parallelen Röntgenstrahlung Expired - Fee Related DE10028970C1 (de)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10028970A DE10028970C1 (de) 2000-06-05 2000-06-05 Röntgenoptische Anordnung zur Erzeugung einer parallelen Röntgenstrahlung
PCT/DE2001/002043 WO2001094987A2 (de) 2000-06-05 2001-05-18 Röntgenoptische anordnung
EP01943167A EP1323170B1 (de) 2000-06-05 2001-05-18 Röntgenoptische anordnung
JP2002502480A JP2003536081A (ja) 2000-06-05 2001-05-18 X線光学系
AT01943167T ATE301328T1 (de) 2000-06-05 2001-05-18 Röntgenoptische anordnung
US10/048,873 US6724858B2 (en) 2000-06-05 2001-05-18 X-ray optical system
DE50106990T DE50106990D1 (de) 2000-06-05 2001-05-18 Röntgenoptische anordnung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10028970A DE10028970C1 (de) 2000-06-05 2000-06-05 Röntgenoptische Anordnung zur Erzeugung einer parallelen Röntgenstrahlung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE10028970C1 true DE10028970C1 (de) 2002-01-24

Family

ID=7645490

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE10028970A Expired - Fee Related DE10028970C1 (de) 2000-06-05 2000-06-05 Röntgenoptische Anordnung zur Erzeugung einer parallelen Röntgenstrahlung
DE50106990T Expired - Lifetime DE50106990D1 (de) 2000-06-05 2001-05-18 Röntgenoptische anordnung

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE50106990T Expired - Lifetime DE50106990D1 (de) 2000-06-05 2001-05-18 Röntgenoptische anordnung

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6724858B2 (de)
EP (1) EP1323170B1 (de)
JP (1) JP2003536081A (de)
AT (1) ATE301328T1 (de)
DE (2) DE10028970C1 (de)
WO (1) WO2001094987A2 (de)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7403593B1 (en) * 2004-09-28 2008-07-22 Bruker Axs, Inc. Hybrid x-ray mirrors
WO2007019053A1 (en) * 2005-08-04 2007-02-15 X-Ray Optical Systems, Inc. Monochromatic x-ray micro beam for trace element mapping
WO2021142463A1 (en) * 2020-01-10 2021-07-15 Ipg Photonics Corporation X-ray apparatus

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0340097A1 (de) * 1988-04-29 1989-11-02 Thomson-Csf Spiegelsystem zur Führung einer elektromagnetischen Strahlung
US5461657A (en) * 1993-06-30 1995-10-24 Canon Kabushiki Kaisha X-ray mirror, and x-ray exposure apparatus and device manufacturing method employing the same
DE4443853A1 (de) * 1994-12-09 1996-06-13 Geesthacht Gkss Forschung Vorrichtung mit einer Röntgenstrahlungsquelle
WO1999043009A1 (en) * 1998-02-19 1999-08-26 Osmic, Inc. Single corner kirkpatrick-baez beam conditioning optic assembly
US6049588A (en) * 1997-07-10 2000-04-11 Focused X-Rays X-ray collimator for lithography

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4684565A (en) * 1984-11-20 1987-08-04 Exxon Research And Engineering Company X-ray mirrors made from multi-layered material
JP3060624B2 (ja) * 1991-08-09 2000-07-10 株式会社ニコン 多層膜反射鏡
BE1007607A3 (nl) * 1993-10-08 1995-08-22 Philips Electronics Nv Multilaagspiegel met verlopende brekingsindex.
US5646976A (en) * 1994-08-01 1997-07-08 Osmic, Inc. Optical element of multilayered thin film for X-rays and neutrons
JPH08146199A (ja) * 1994-11-18 1996-06-07 Nikon Corp 平行x線照射装置
US5911858A (en) * 1997-02-18 1999-06-15 Sandia Corporation Method for high-precision multi-layered thin film deposition for deep and extreme ultraviolet mirrors
JPH1138192A (ja) * 1997-07-17 1999-02-12 Nikon Corp 多層膜反射鏡
US6295164B1 (en) * 1998-09-08 2001-09-25 Nikon Corporation Multi-layered mirror

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0340097A1 (de) * 1988-04-29 1989-11-02 Thomson-Csf Spiegelsystem zur Führung einer elektromagnetischen Strahlung
US5461657A (en) * 1993-06-30 1995-10-24 Canon Kabushiki Kaisha X-ray mirror, and x-ray exposure apparatus and device manufacturing method employing the same
DE4443853A1 (de) * 1994-12-09 1996-06-13 Geesthacht Gkss Forschung Vorrichtung mit einer Röntgenstrahlungsquelle
US6049588A (en) * 1997-07-10 2000-04-11 Focused X-Rays X-ray collimator for lithography
WO1999043009A1 (en) * 1998-02-19 1999-08-26 Osmic, Inc. Single corner kirkpatrick-baez beam conditioning optic assembly

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Lehrbuch der Experimentalphysik, Bd. III, Optik, H. Gobrecht (Hrsg.), W. de Gruyter-Verlag, Berlin, 1978, S. 14 *
Rev. Sc: Instrum. 66, (10), Oct. 1995, S. 4845-4846 *

Also Published As

Publication number Publication date
JP2003536081A (ja) 2003-12-02
EP1323170A2 (de) 2003-07-02
WO2001094987A3 (de) 2003-04-03
ATE301328T1 (de) 2005-08-15
DE50106990D1 (de) 2005-09-08
WO2001094987A2 (de) 2001-12-13
US6724858B2 (en) 2004-04-20
US20020159562A1 (en) 2002-10-31
EP1323170B1 (de) 2005-08-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1225481B1 (de) Kollektor für Beleuchtungssysteme
DE69909599T2 (de) Einzelecke kirkpatrick-baez optische strahlbehandlungsanordnung
DE60308645T2 (de) Optische anordnung und verfahren dazu
DE3942385B4 (de) Beugungsgitter-Verschiebungsmeßgerät
DE102012204704A1 (de) Messvorrichtung zum Vermessen einer Abbildungsgüte eines EUV-Objektives
DE4214069A1 (de) Hochaufloesendes optisches mikroskop und maske zum bilden von beleuchtungsfleckstrahlen
WO2017207401A1 (de) Euv-kollektor
DE102007051671A1 (de) Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer derartigen abbildenden Optik
DE102020216337A1 (de) Messvorrichtung zur Messung von Reflexionseigenschaften einer Probe im extremen ultravioletten Spektralbereich
DE19639939A1 (de) Optische Spektralmeßvorrichtung
DE19700615A1 (de) Kondensor-Monochromator-Anordnung für Röntgenstrahlung
DE102009058244A1 (de) Vorrichtung für die Untersuchung eines Gegenstands, vorzugsweise eines Wertdokuments, unter Verwendung optischer Strahlung
DE3147689A1 (de) Zusatzgeraet zur durchfuehrung von reflexionsmessungen mit einem ir-spektrometer
DE102016206088A1 (de) Verfahren zum Bestimmen der Dicke einer kontaminierenden Schicht und/oder der Art eines kontaminierenden Materials, optisches Element und EUV-Lithographiesystem
DE10028970C1 (de) Röntgenoptische Anordnung zur Erzeugung einer parallelen Röntgenstrahlung
DE2758149B1 (de) Interferometrisches Verfahren mit lambda /4-Aufloesung zur Abstands-,Dicken- und/oder Ebenheitsmessung
WO2010127872A1 (de) Vorrichtung und verfahren zur winkelaufgelösten streulichtmessung
EP1422725B1 (de) Reflektor für Röntgenstrahlung
EP1360699B1 (de) Anordnung für röntgenanalytische anwendungen
DE10146944A1 (de) Meßanordnung
DE102007054283B4 (de) Anordnung zur Aufteilung von Strahlenbündeln für ein Interferometer zur Bildgebung an stark streuenden Proben geringer Reflexion
DE102007062825A1 (de) Gitterspiegel zur Online-Überwachung eines Laserstrahls und Überwachungsvorrichtung damit
DE4137673C2 (de) Röntgenreflektometer
DD219565A1 (de) Anordnung zur interferometrischen ebenheitspruefung technischer oberflaechen
DE19954520A1 (de) Vorrichtung zur Führung von Röntgenstrahlen

Legal Events

Date Code Title Description
8100 Publication of patent without earlier publication of application
D1 Grant (no unexamined application published) patent law 81
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee