JPH04147046A - X線光学系の評価方法 - Google Patents

X線光学系の評価方法

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JPH04147046A
JPH04147046A JP26954590A JP26954590A JPH04147046A JP H04147046 A JPH04147046 A JP H04147046A JP 26954590 A JP26954590 A JP 26954590A JP 26954590 A JP26954590 A JP 26954590A JP H04147046 A JPH04147046 A JP H04147046A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、湾曲結晶モノクロメータを有するX線光学
系のX線強度分布を評価する方法に関する。
[従来の技術] 第5図は粉末試料を集中法によってX線回折測定すると
きの原理図である。X線源26からのX線は所定の発散
角で試料28に照射され、試料28からの回折線は受光
スリット2つに集中して、X線検出器30て検出される
。この場合、試料表面の所定面積のX線照射領域からの
回折情報か、累積された状態でX線検出器で検出される
これに対して、試料表面の各位置からの回折情報を区別
して測定するには、試料の任意の位置にX線を集中させ
る必要がある。第1図はそのためのX線光学系を示した
平面図である。X線源10からのX線は第1の湾曲結晶
モノクロメータ14で反射(回折)して試料16の任意
の位置に集中する。試料16で回折したX線は第2の湾
曲結晶モノクロメータ18て反射して受光スリット19
に集中し、X線検出器20て検出される。
このようなX線光学系を採用すると、試料の任意の位置
からの回折情報を得ることかできる。そして、試料16
を例えば矢印22の方向に移動して回折X線の強度の測
定を繰り返せば、試料16の1次元方向における各位置
からの個別の回折情報を得ることかできる。さらに、二
つの湾曲結晶モノクロメータ14.18を所定の高さ(
紙面に垂直な方向)に形成して、かつ、X線検出器20
も高さ方向に位置敏感特性を有する位置敏感型X線検出
器とすれば、試料16の高さ方向の各位置からの回折情
報も得る二とかできる。これにより、試料表面の2次元
方向の各位置からの回折情報かそれぞれ別個に得られる
。その結果、試料表面上の2次元分布情報(粉末試料に
含まれる結晶粒子の大きさ、形、方向などの分布情報)
を知ることかできる。いわゆる、走査型のX線回折顕微
鏡となる。
[発明が解決しようとする課題」 上述した従来の走査型X線回折顕微鏡タイプのX線光学
系においては、二つの湾曲結晶モノクロメータの反射率
が場所によって異ならないようにすることが必要である
。すなわち、反射率分布の一様性か要求される。
ところで、湾曲結晶モノクロメータ単体の反射強度分布
を検査するには、従来は、回折写真を利用していた。
これに対して、二つの湾曲結晶モノクロメータを有する
第1図に示すようなX線光学系では、光学系全体として
の総合的な反射率分布を知ることが望ましい。このよう
な反射率分布を知ることかできれば、粉末試料表面の2
次元方向の各位置からの回折情報を得たときに、上述の
反射率分布に基づいてこの回折情報を補正することか可
能となる。
そこで、この発明の目的は、二つの湾曲結晶モノクロメ
ータを有するX線光学系において、その総合的なX線強
度分布を評価する方法を提供することにある。
[課題を解決するための手段] 上記の目的を達成するために、この発明に係る評価方法
は、以下の特徴を有している。
すなわち、第一の発明は、X線源と試料との間に第1の
湾曲結晶モノクロメータを配置して試料表面上に入射X
線を集中させるとともに、試料とX線検出器との間に第
2の湾曲結晶モノクロメタを配置して試料からの回折X
線をX線検出器に集中させるようにしたX線光学系にお
いて、前記試料として単結晶試料を用い、ゴニオメタの
回転中心線の回りに回転させて、その回転角とX線検出
強度との関係を求めることによって、前記二つの湾曲結
晶モノクロメータの湾曲面に沿った方向に関連したX線
強度分布を評価することを特徴とする。
第二の発明では、前記X線検出器として、前記回転中心
線に平行な方向に関して位置敏感特性を有する位置敏感
型X線検出器を使用上前記湾曲面に沿った方向に関連し
たX線強度分布に加えて前記二つの湾曲結晶モノクロメ
ータの高さ方向に関連したX線強度分布をも評価するこ
とを特徴としている。
第三の発明では、試料として均一な粉末試料を用い、X
線検出器として、ゴニオメータの回転中心線に平行な方
向に関して位置敏感特性を有する位置敏感型X線検出器
を使用することによって、二つの湾曲結晶モノクロメー
タの高さ方向に関連したX線強度分布を評価することを
特徴としている。
[作用] X線光学系の評価のために、試料として単結晶試料を用
いると、この単結晶試料の特定の結晶格子面について回
折条件を満足するX線は、第1の湾曲結晶モノクロメー
タの湾曲面に沿った方向の特定の位置からのX線だけと
なり、また、この単結晶試料で回折したX線は、第2の
湾曲結晶モノクロメータの湾曲面に沿った方向の特定の
位置に当たってから、そこで反射してX線検出器に到達
する。すなわち、二つの湾曲結晶モノクロメータの特定
の位置での反射率を反映したX線強度が検出される。次
に、単結晶試料をゴニオメータの回転中心線の回りに回
転させて別の角度位置に設定すると、今度は、回折条件
を満足するX線は、第1の湾曲結晶モノクロメータの湾
曲面に沿った方向の別の位置からのX線たけとなり、ま
た、この単結晶試料で回折したX線は、第2の湾曲結晶
モノクロメータの湾曲面に沿った方向の別の位置に当た
ってからそこで反射してX線検出器に到達する。このよ
うにして、単結晶試料の回転角に応じてその回折X線強
度を検出すれば、二つの湾曲結晶モノクロメータの湾曲
面に沿った方向の各位置での反射率分布を知ることがで
きる。すなわち、二つの湾曲結晶モノクロメータを経由
した総合的な反射率分布を知ることができる。
ところで、上述の説明では、二つの湾曲結晶モノクロメ
ータの反射率分布たけを取り上げて説明したが、実際の
X線光学系では、X線源の強度分布や、窓材の透過率分
布、検出器の検出効率分布なども存在し、これらはいず
れも、検出されるX線強度分布に影響を与える。そこで
、この発明において、「二つの湾曲結晶モノクロメータ
の湾曲面に沿った方向に関連したX線強度分布」という
表現は、湾曲結晶モノクロメータの湾曲面に沿つた方向
の反射率分布に加えて、この方向での、X線源の強度分
布や、窓材の透過率分布、検出器の検出効率分布なとを
含んた、X線光学系全体としての総合的なX線強度分布
を意味している。
以上のような評価方法に加えて、位置敏感型X線検出器
を使用すると、湾曲結晶モノクロメータの高さ方向に関
連したX線強度分布を評価することも可能となる。
また、高さ方向に関連したX線強度分布を得るだけなら
ば、単結晶試料の代わりに、均一な粉末試料を用いるこ
ともできる。この場合は、粉末試料を静止させておいて
も、湾曲結晶モノクロメタの湾曲面に沿った方向のすべ
ての位置で反射したX線か、X線検出強度に寄与するこ
とになる。
そこで、位置敏感型X線検出器を使用することにより、
湾曲結晶モノクロメータの高さ方向に関連したX線強度
分布を直接得ることができる。
[実施例] 次に、図面を参照してこの発明の詳細な説明する。
第1図は、この発明の評価方法を適用するX線光学系の
一例を示した平面図である。その概略構成は従来技術の
ところで説明した通りである。その構成を詳しく説明す
ると、X線源10からのX線は、発散スリット12て所
定の発散角に絞られてから、第1の湾曲結晶モノクロメ
ータ14て回折して、試料16の特定の位置(ここでは
、試料16の回転中心線上)に集中する。試料16で回
折したX線は第2の湾曲結晶モノクロメータ18で回折
して受光スリット1つに集中し、X線検出器20て検出
される。第2の湾曲結晶モノクロメータ18と受光スリ
ット1つとX線検出器20は、ゴニオメータの26回転
台に載っており、試料16の回転角θと同期して回転で
きるようになっている。
X線検出器20は、高さ方向(紙面に垂直な方向)に位
置敏感特性を有する位置敏感型比例計数管である。その
検出面の高さ方向の寸法は約3cmであり、その位置分
解能は約150μmである。
第1の湾曲結晶モノクロメータ14と、第2の湾曲結晶
モノクロメータ18は、同一の構成であり、水晶の(1
011)面を反射面としている。
X線源10にはCuKαの特性X線を使用し、X線の発
散角δは2°としである。
このようなX線光学系において、試料16として単結晶
試料を用いることによって、このX線光学系の評価をす
る。まず、単結晶試料16の所定の結晶格子面について
回折条件を満足するように試料台と2θ回転台の回転角
度位置を設定する。
次に、2θ回転台を静止させた状態で、単結晶試料16
を、ゴニオメータの回転中心線15(第2図参照)を中
心として時計回りに所定角度だけ回転する。このとき、
第1の湾曲結晶モノクロメタ14のA1点からの回折X
線だけが、単結晶試料16での回折条件を満足すること
になる。単結晶試料16て回折したX線は第2の湾曲結
晶モノクロメータ18のA2点に当たり、ここで回折し
てX線検出器20に入る。すなわち、第1の湾曲結晶モ
ノクロメータ14のA1点の反射率と第2の湾曲結晶モ
ノクロメータ18のA2点の反射率とを反映したX線強
度がX線検出器20で検出される。
次に、単結晶試料16を中央に戻したと仮定すると、第
1の湾曲結晶モノクロメータ14のB1点の反射率と第
2の湾曲結晶モノクロメータ18のB2点の反射率とを
反映したX線強度がX線検出器20て検出される。さら
に、単結晶試料16を反時計方向に所定角度たけ回転さ
せたと仮定すると、第1の湾曲結晶モノクロメータ14
の01点の反射率と第2の湾曲結晶モノクロメータ18
の02点の反射率とを反映したX線強度がX線検出器2
0て検出される。
以上の説明から明らかなように、単結晶試料16の回転
角に応じて二つの湾曲結晶モノクロメタ14.18の湾
曲面に沿った方向の各位置での反射率を反映したX線強
度がX線検出器で検出されることになる。したがって、
単結晶試料16を回転中心線15の回りに連続的にまた
はステップ的に回転させて、それに対応した回折X線強
度をX線検出器20て測定すれば、湾曲結晶モノクロメ
ータ14.18の湾曲面に沿った方向の反射率分布か得
られることになる。
第3図(a)は、発散スリット12て絞られた発散角δ
の範囲内での各角度位置におけるX線強度を示す。理想
的には、この範囲内でX線強度は一様になっている。
第3図(b)は、単結晶試料16を中央の試料台(θ軸
)に固定した状態で、ゴニオメータを微小角度範囲でθ
−2θ走査をしたときの、単結晶試料16による回折ピ
ークのプロファイルを測定したものである。ピークの半
価幅は角度にして数十秒程度である。
第3図(c)は、2θ回転台を静止させて、単結晶試料
16を回転させ(この回転角をεと呼ぶことにする。)
、この回転角εに対応したX線検出強度を示したクラブ
である。このグラフは、第3図(b)の回折ピークをε
方向に多数重ね合わせたものに等しい。なお、この第3
図(C)は、二つの湾曲結晶モノクロメータ14.18
の湾曲面に沿った方向の反射率分布が完全に一様である
と仮定した場合のクラブである。
第3図(d)は第3図(c)と同様のクラブであるか、
二つの湾曲結晶モノクロメータの湾曲面に沿った方向の
反射率分布が一様でない場合である。このときは、例え
ば、第1の湾曲結晶モノクロメータ14のA1点の反射
率と第2の湾曲結晶モノクロメータ18のA2点の反射
率とを反映したX線強度かA点に現れ、B1点と82点
の反射率を反映したX線強度がB点に現れ、01点とC
2点の反射率を反映したX線強度か6点に現れる。
この第3図(d)のようなX線強度分布°を求めること
によって、二つの湾曲結晶モノクロメータ14.18を
経由したときの、湾曲面に沿った方向での総合的な反射
率分布を知ることかできる。
これにより、このX線光学系を走査型X線回折顕微鏡と
して使用した場合に、その測定結果に対して、X線光学
系に起因するX線強度分布を考慮した強度補正か可能と
なる。
次に、湾曲結晶モノクワメータの高さ方向の反耐重分布
について述べる。二つの湾曲結晶モノクロメータ14.
18は、第2図に示すように所定の高さHを有している
。そして、X線検出器2゜は、高さ方向に位置敏感特性
を有する位置敏感型比例計数管で構成され、その検出窓
24は高さ方向に延びている。したがって、単結晶試料
16からの回折X線をX線検出器2oて検出すると、二
つの湾曲結晶モノクロメータ14.18の高さ方向の反
射率分布を反映したX線強度が検出できる。
第4図(a)は発散スリット12を通過した後の、任意
の発散角度位置における、高さ方向のX線強度分布を示
す。理想的には、任意の高さ位置りにおいてX線強度は
等しい。
第4図(b)は、二つの湾曲結晶モノクロメータ14.
18と単結晶試料16とを経由して検出されたX線強度
の分布である。このグラフでは、湾曲結晶モノクロメー
タ14.18の高さ方向の反射率分布を反映したX線強
度となる。このグラフから、二つの湾曲結晶モノクロメ
ータの高さ方向の総合的な反射率分布を知ることができ
る。
以上の説明から明らかなように、X線検出器20で検出
されるX線強度■は、単結晶試料16の回転角度位置ε
と、検出窓の高さhとの関数となり、I=1  (ε、
h)となる。すなわち、単結晶試料の特定の回転角度位
置に対しては第4図(b)に示すようなグラフが得られ
、さらに単結晶試料を回転させることによって、I=I
  (ε、h)が得られる。このX線強度分布1=1 
 (ε、h)は、二つの湾曲結晶モノクロメータの湾曲
面に沿った反射率分布と、高さ方向の反射率分布とを含
んでいることになる。すなわち、二つの湾曲結晶モノク
ロメータの面内位置(2次元位置)に依存した反射率分
布を評価したことになる。ただし、個別のモノクロメー
タ単体の評価ではなく、二つのモノクロメータを第1図
のように配置したときの総合的な評価である。
湾曲結晶モノクロメータが完全に一様に作られていれば
上述のX線強度分布■は一様になるはずである。
ところで、以上の説明では、湾曲結晶モノクロメータの
反射率分布の影響だけを述べてきたが、実際のX線光学
系では、X線源の強度分布、窓材の透過率分布、検出器
の検出効率分布などの影響をすべて含んだ形でX線強度
分布が評価されることになる。
得られたX線強度分布1−I (ε、h)の利用方法と
しては、次のものが考えられる。
l (ε、h)をεについて積分すると、湾曲面に沿っ
た方向の反射率をすべて含んだ形での、高さ方向にのみ
依存したX線強度分布I=I(h)が得られる。第1図
の装置を走査型X線回折顕微鏡として利用する場合、粉
末試料からの回折X線は、常に、湾曲結晶モノクロメー
タの湾曲面に沿った方向のすべての位置からの反射情報
を含むことになる。そこで、このX線光学系について評
価したX線強度分布I=I、(h)を用いて、測定結果
を補正することかできる。すなわち、評価したX線強度
Iが大きくなるような高さ位置りては、実際の測定X線
強度を小さく補正してやり、評価X線強度Iが小さくな
るような高さ位置りでは、実際の測定X線強度を大きく
補正してやる。これにより、湾曲結晶モノクロメータの
高さ方向の反射率分布に基づく測定誤差が少なくなる。
なお、高さ方向に関連したX線強度分布を得るだけなら
ば、単結晶試料の代わりに、均一な粉末試料を用いるこ
ともてきる。この場合、粉末試料を静止させておいても
、湾曲結晶モノクロメータの湾曲面に沿った方向のすべ
ての位置で反射したX線が、X線検出強度に寄与するこ
とになる。そこで、位置敏感型X線検出器を使用するこ
とにより、湾曲結晶モノクロメータの高さ方向に関連し
たX線強度分布を直接溝ることができる。なお、X線光
学系の評価に使用する「均一なJ粉末試料は、実際のX
線回折顕微鏡の観察対象となる粉末試料よりも十分に均
一である必要がある。
[発明の効果] 以上説明したようにこの発明は、単結晶試料を回転させ
てX線強度分布を測定することにより、二つの湾曲結晶
モノクロメータを含むX線光学系の、湾曲面に沿った方
向に関連したX線強度分布を評価することが可能となっ
た。
さらに、位置敏感型X線検出器を利用することにより、
二つの湾曲結晶モノクロメータを含むX線光学系の、高
さ方向に関連したX線強度分布をも評価することが可能
となった。
また、高さ方向に関連したX線強度分布を得るだけなら
ば、単結晶試料の代わりに、均一な粉末試料を用いるこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明を適用すべきX線光学系の一例の平面
図、 第2図は第1図のX線光学系の一部の斜視図、第3図は
湾曲面に沿った方向の反射率分布に関連して説明したX
線強度分布のグラフ、第4図は高さ方向の反射率分布に
関連して説明したX線強度分布のグラフである。 第5図は通常の集中法のX線光学系の原理図である。 10・・・X線源 14・・・第1の湾曲結晶モノクロメータ16・・・試
料 18・・・第2の湾曲結晶モノクロメ タ 20・・・X線検出器

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)X線源と試料との間に第1の湾曲結晶モノクロメ
    ータを配置して試料表面上に入射X線を集中させるとと
    もに、試料とX線検出器との間に第2の湾曲結晶モノク
    ロメータを配置して試料からの回折X線をX線検出器に
    集中させるようにしたX線光学系において、前記試料と
    して単結晶試料を用い、この単結晶試料をゴニオメータ
    の回転中心線の回りに回転させて、その回転角とX線検
    出強度との関係を求めることによって、前記二つの湾曲
    結晶モノクロメータの湾曲面に沿った方向に関連したX
    線強度分布を評価することを特徴とする、X線光学系の
    評価方法。
  2. (2)前記X線検出器として、前記回転中心線に平行な
    方向に関して位置敏感特性を有する位置敏感型X線検出
    器を使用し、前記湾曲面に沿った方向に関連したX線強
    度分布に加えて前記二つの湾曲結晶モノクロメータの高
    さ方向に関連したX線強度分布をも評価することを特徴
    とする、請求項1記載の評価方法。
  3. (3)X線源と試料との間に第1の湾曲結晶モノクロメ
    ータを配置して試料表面上に入射X線を集中させるとと
    もに、試料とX線検出器との間に第2の湾曲結晶モノク
    ロメータを配置して試料からの回折X線をX線検出器に
    集中させるようにしたX線光学系において、前記試料と
    して均一な粉末試料を用い、前記X線検出器として、ゴ
    ニオメータの回転中心線に平行な方向に関して位置敏感
    特性を有する位置敏感型X線検出器を使用することによ
    って、前記二つの湾曲結晶モノクロメータの高さ方向に
    関連したX線強度分布を評価することを特徴とする、X
    線光学系の評価方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008170236A (ja) * 2007-01-10 2008-07-24 High Energy Accelerator Research Organization X線及び中性子線の反射率曲線測定方法及び測定装置

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JP4521573B2 (ja) * 2007-01-10 2010-08-11 大学共同利用機関法人 高エネルギー加速器研究機構 中性子線の反射率曲線測定方法及び測定装置

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