JP2007217242A - 無機酸化物透明分散液と透明複合体、発光素子封止用組成物及び発光素子並びに透明複合体の製造方法 - Google Patents
無機酸化物透明分散液と透明複合体、発光素子封止用組成物及び発光素子並びに透明複合体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007217242A JP2007217242A JP2006041094A JP2006041094A JP2007217242A JP 2007217242 A JP2007217242 A JP 2007217242A JP 2006041094 A JP2006041094 A JP 2006041094A JP 2006041094 A JP2006041094 A JP 2006041094A JP 2007217242 A JP2007217242 A JP 2007217242A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inorganic oxide
- transparent
- resin
- group
- transparent composite
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 103
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 title claims abstract description 72
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 70
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 125
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 60
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 60
- 239000003607 modifier Substances 0.000 claims abstract description 29
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 26
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 5
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical group O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 140
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 27
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 26
- -1 siloxane compound Chemical class 0.000 claims description 12
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 9
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 8
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 8
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims description 8
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 claims description 5
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 238000011049 filling Methods 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 3
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 abstract description 17
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 abstract description 11
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 abstract description 9
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 abstract description 8
- 238000013329 compounding Methods 0.000 abstract description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 abstract description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 abstract 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 37
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 34
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 11
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 10
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 9
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 6
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 6
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 3
- HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N lead oxide Chemical compound [O-2].[Pb+2] HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 3
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 3
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 3
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 2
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Natural products C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N decyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 2
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003754 zirconium Chemical class 0.000 description 2
- FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOOC(C)(C)C FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C1=CC=CC=C1 QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl)-trimethoxysilane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(C=C)C=C1 LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYHQOLUKZRVURQ-NTGFUMLPSA-N (9Z,12Z)-9,10,12,13-tetratritiooctadeca-9,12-dienoic acid Chemical compound C(CCCCCCC\C(=C(/C\C(=C(/CCCCC)\[3H])\[3H])\[3H])\[3H])(=O)O OYHQOLUKZRVURQ-NTGFUMLPSA-N 0.000 description 1
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(CC2OC2)C(=O)N(CC2OC2)C(=O)N1CC1CO1 OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYMDJPGTQFHDSA-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethenoxyethoxy)-2-ethoxyethane Chemical compound CCOCCOCCOC=C AYMDJPGTQFHDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDXHBDVTZNMBEW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound CCOC(O)COCCO SDXHBDVTZNMBEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEYNWAWWSZUGDU-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropane-1,2-diol Chemical compound COC(O)C(C)O OEYNWAWWSZUGDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UASAIZBZYVFNFA-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethylbutoxy-ethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound C(C1CO1)OCCC[SiH](OCC(CC)(CC)CC)OCC UASAIZBZYVFNFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLIQLHSBZXDKLV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)-1-phenoxyethanol Chemical compound OCCOCC(O)OC1=CC=CC=C1 HLIQLHSBZXDKLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical compound NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUXLAULAZDJOEK-UHFFFAOYSA-N 3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl-triphenoxysilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)CCCOCC1CO1 GUXLAULAZDJOEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSARTRYLWLBEQF-UHFFFAOYSA-N 3-[chloro(diethyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC[Si](Cl)(CC)CCCOC(=O)C(C)=C CSARTRYLWLBEQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXTWEYZIAFMOKZ-UHFFFAOYSA-N 3-[chloro(diethyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CC[Si](Cl)(CC)CCCOC(=O)C=C BXTWEYZIAFMOKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXBRKGPWLNMYCA-UHFFFAOYSA-N 3-[dichloro(ethyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)CCCOC(=O)C(C)=C VXBRKGPWLNMYCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBHUANZUUYEVJJ-UHFFFAOYSA-N 3-[dichloro(ethyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)CCCOC(=O)C=C MBHUANZUUYEVJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROVPTGZDLJKYQV-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(ethyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C ROVPTGZDLJKYQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UULWRBNKTKMMHF-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(ethyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)CCCOC(=O)C=C UULWRBNKTKMMHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFDBEDDUOYPWBW-UHFFFAOYSA-N 3-[diethyl(methoxy)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CC[Si](CC)(OC)CCCOC(=O)C=C BFDBEDDUOYPWBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVYCIBJLWWRLPA-UHFFFAOYSA-N 3-[diethyl(phenoxy)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](CC)(CC)OC1=CC=CC=C1 JVYCIBJLWWRLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQOMHFLRZLYFSS-UHFFFAOYSA-N 3-[diethyl(phenoxy)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCC[Si](CC)(CC)OC1=CC=CC=C1 GQOMHFLRZLYFSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUTSHINWYBIRDG-UHFFFAOYSA-N 3-[ethoxy(diethyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)CCCOC(=O)C(C)=C WUTSHINWYBIRDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZXDQQWCXYGRHX-UHFFFAOYSA-N 3-[ethoxy(diethyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)CCCOC(=O)C=C ZZXDQQWCXYGRHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRWUMCUQZMKBHZ-UHFFFAOYSA-N 3-[ethyl(dimethoxy)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C PRWUMCUQZMKBHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDSKIYLJGKSHFX-UHFFFAOYSA-N 3-[ethyl(dimethoxy)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CC[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C YDSKIYLJGKSHFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQFYRIOBMHTIQZ-UHFFFAOYSA-N 3-[ethyl(diphenoxy)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](CCCOC(=O)C(C)=C)(CC)OC1=CC=CC=C1 PQFYRIOBMHTIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVZALYJIWVYTHI-UHFFFAOYSA-N 3-[ethyl(diphenoxy)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](CCCOC(=O)C=C)(CC)OC1=CC=CC=C1 QVZALYJIWVYTHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOGMJCPBZJUYGB-UHFFFAOYSA-N 3-trichlorosilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](Cl)(Cl)Cl DOGMJCPBZJUYGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEPRPXBFZRAOGU-UHFFFAOYSA-N 3-trichlorosilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CCCOC(=O)C=C LEPRPXBFZRAOGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAGMAOURHNTCCV-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate;3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C.CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C KAGMAOURHNTCCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=C XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEZWLMITWQYZPJ-UHFFFAOYSA-N 3-triphenoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(CCCOC(=O)C(=C)C)OC1=CC=CC=C1 QEZWLMITWQYZPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SALHVONPYZUNHU-UHFFFAOYSA-N 3-triphenoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(CCCOC(=O)C=C)OC1=CC=CC=C1 SALHVONPYZUNHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZSHZLKNFQAAKX-UHFFFAOYSA-N 5-cyclopenta-2,4-dien-1-ylcyclopenta-1,3-diene Chemical group C1=CC=CC1C1C=CC=C1 IZSHZLKNFQAAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CC(C)=CC2C(=O)OC(=O)C12 MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005047 Allyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRFNFRIUUKIOLW-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)O.C(C=C)(=O)OCC(COC(C=C)=O)(COC(C=C)=O)CO Chemical compound C(C=C)(=O)O.C(C=C)(=O)OCC(COC(C=C)=O)(COC(C=C)=O)CO XRFNFRIUUKIOLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVHXCXPPFBNSFY-UHFFFAOYSA-N CC[SiH](CC)Oc1ccc(C=Cc2ccccc2)cc1 Chemical compound CC[SiH](CC)Oc1ccc(C=Cc2ccccc2)cc1 FVHXCXPPFBNSFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRMBQHTWUBGQDN-UHFFFAOYSA-N [2-[2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)butoxymethyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)butyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(CC)COCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C XRMBQHTWUBGQDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N alpha-linolenic acid Chemical compound CC\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N 0.000 description 1
- 235000020661 alpha-linolenic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000007869 azo polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate;2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCO.C=CCOC(=O)OCC=C SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- YHAYSVXJJPHCRO-UHFFFAOYSA-N but-3-enyl(dichloro)silane Chemical compound Cl[SiH](Cl)CCC=C YHAYSVXJJPHCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVEWOPHCBXPFNU-UHFFFAOYSA-N but-3-enyl(dimethoxy)silane Chemical compound CO[SiH](CCC=C)OC WVEWOPHCBXPFNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEQFZMOKUWWEPX-UHFFFAOYSA-N but-3-enyl(diphenoxy)silane Chemical compound C(=C)CC[SiH](OC1=CC=CC=C1)OC1=CC=CC=C1 HEQFZMOKUWWEPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- VZJJZMXEQNFTLL-UHFFFAOYSA-N chloro hypochlorite;zirconium;octahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.[Zr].ClOCl VZJJZMXEQNFTLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFKHLNQILVVCOG-UHFFFAOYSA-N chloro-diethyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CC[Si](Cl)(CC)CCCOCC1CO1 FFKHLNQILVVCOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVBLEGLAZLZLDP-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-diethylsilane Chemical compound CC[Si](Cl)(CC)C=C OVBLEGLAZLZLDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000007405 data analysis Methods 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- JAONJTDQXUSBGG-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dizinc;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].[Zn+2].[Zn+2] JAONJTDQXUSBGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJKCCMUJSIDMOG-UHFFFAOYSA-N diethyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-phenoxysilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](CC)(CC)CCCOCC1CO1 JJKCCMUJSIDMOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVYHIGBKLSDOBE-UHFFFAOYSA-N diethyl-methoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CC[Si](CC)(OC)CCCOCC1CO1 XVYHIGBKLSDOBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- QYMFNZIUDRQRSA-UHFFFAOYSA-N dimethyl butanedioate;dimethyl hexanedioate;dimethyl pentanedioate Chemical compound COC(=O)CCC(=O)OC.COC(=O)CCCC(=O)OC.COC(=O)CCCCC(=O)OC QYMFNZIUDRQRSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRTACFOVZDBFEX-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethoxy-ethylsilane Chemical compound CCO[Si](CC)(C=C)OCC IRTACFOVZDBFEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEECNSHASCRYAG-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethyl-methoxysilane Chemical compound CC[Si](CC)(OC)C=C OEECNSHASCRYAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRGXTLMSFYWMCJ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethyl-phenoxysilane Chemical compound CC[Si](CC)(C=C)OC1=CC=CC=C1 RRGXTLMSFYWMCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAZZFQOWCCWCNN-UHFFFAOYSA-N ethenyl-ethoxy-diethylsilane Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)C=C FAZZFQOWCCWCNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- WZJMRIMGNYUTSE-UHFFFAOYSA-N ethoxy-diethyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)CCCOCC1CO1 WZJMRIMGNYUTSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- LHZAHEHJUSMWPJ-UHFFFAOYSA-N ethyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-diphenoxysilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(CC)CCCOCC1CO1 LHZAHEHJUSMWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYDBOMXUCPLLSK-UHFFFAOYSA-N ethyl-dimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 YYDBOMXUCPLLSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 229920002457 flexible plastic Polymers 0.000 description 1
- SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;phenol Chemical compound O=C.OC1=CC=CC=C1 SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960004488 linolenic acid Drugs 0.000 description 1
- KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N linolenic acid Natural products CC=CCCC=CCC=CCCCCCCCC(O)=O KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N molybdenum trioxide Chemical compound O=[Mo](=O)=O JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- YPEWWOUWRRQBAX-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-3-oxobutanamide Chemical compound CN(C)C(=O)CC(C)=O YPEWWOUWRRQBAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 235000021313 oleic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethanamine Chemical compound NCC1CO1 AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N oxogermanium Chemical compound [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- CCDXIADKBDSBJU-UHFFFAOYSA-N phenylmethanetriol Chemical compound OC(O)(O)C1=CC=CC=C1 CCDXIADKBDSBJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229950010765 pivalate Drugs 0.000 description 1
- IUGYQRQAERSCNH-UHFFFAOYSA-N pivalic acid Chemical compound CC(C)(C)C(O)=O IUGYQRQAERSCNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920002776 polycyclohexyl methacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 1
- SWAXTRYEYUTSAP-UHFFFAOYSA-N tert-butyl ethaneperoxoate Chemical compound CC(=O)OOC(C)(C)C SWAXTRYEYUTSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 150000004992 toluidines Chemical class 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKFSBKQQYCMCKO-UHFFFAOYSA-N trichloro(prop-2-enyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC=C HKFSBKQQYCMCKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBWRLPTYWJUPKS-UHFFFAOYSA-N trichloro-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CCCOCC1CO1 XBWRLPTYWJUPKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N triethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC=C)(OCC)OCC UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFRDHGNFBLIJIY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC=C LFRDHGNFBLIJIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000004670 unsaturated fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明の無機酸化物透明分散液は、1つ以上の反応性官能基を有する表面修飾剤により表面が修飾されかつ分散粒径が1nm以上かつ20nm以下の無機酸化物粒子と、分散媒とを含有し、この表面修飾剤は、シランカップリング剤、変性シリコーン、界面活性剤の群から選択された1種または2種以上であることを特徴とする。
【選択図】なし
Description
フラットパネルディスプレイ(FPD)用としてのプラスチック基板に対する要求特性としては、透明性、屈折率、機械的特性等が挙げられている。
また、無機酸化物フィラーを樹脂と複合化するために、無機酸化物フィラーを水系溶媒や有機溶媒中に分散させた分散液が開発され、樹脂の屈折率の向上について検討されている。
この複合化の例としては、粒径10〜100nmのジルコニア粒子と樹脂とを複合化したジルコニア粒子複合化プラスチックを用いた高屈折率かつ高透明性の厚み数ミクロンの膜が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
そこで、一般的な解決法として、無機酸化物粒子の表面を疎水化するために、有機高分子分散剤等の表面修飾剤を無機酸化物粒子の表面に付与することにより無機酸化物粒子と樹脂との相溶性を高める工夫がなされているが、この疎水化された無機酸化物粒子と樹脂との複合体は、複合体そのものの機械的特性及び屈折率を上昇させるという優れた点があるものの、無機酸化物粒子の粒径が20nm以上と大きいために透明性が低下し、場合によっては失透してしまう虞があるという問題点があった。
前記反応性官能基は、アルコキシル基、ヒドロキシル基、ビニル基、スチリル基、アクリル基、メタクリル基、アクリロイル基、エポキシ基の群から選択される1種または2種以上であることが好ましい。
前記表面の修飾部分の重量比は、前記無機酸化物粒子の5重量%以上かつ200重量%以下であることが好ましい。
前記無機酸化物粒子の含有率は、1重量%以上かつ70重量%以下であることが好ましい。
前記樹脂は、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂またはアクリル樹脂であることが好ましい。
前記無機酸化物粒子の含有率は、1重量%以上かつ80重量%以下であることが好ましい。
したがって、この無機酸化物透明分散液と樹脂とを混合すれば、屈折率が高く、透明性に優れ、しかも機械的特性が向上した透明複合体を容易に得ることができる。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
本発明の無機酸化物透明分散液は、1つ以上の反応性官能基を有する表面修飾剤により表面が修飾されかつ分散粒径が1nm以上かつ20nm以下の無機酸化物粒子と、分散媒とを含む分散液である。
また、この反応性官能基としては、アルコキシル基、ヒドロキシル基、ビニル基、スチリル基、アクリル基、メタクリル基、アクリロイル基、エポキシ基の群から選択される1種または2種以上であることが好ましい。
また、ビニル基および/またはケイ素原子に結合した官能基を有する変性シリコーンを用いると、ビニル基および/またはケイ素原子に結合した官能基が樹脂を硬化させる際の化学反応に寄与するので、特に好ましい。
非イオン系界面活性剤としては、例えば、アクリル酸、クロトン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸等の不飽和脂肪酸等が挙げられる。
湿式法とは、表面修飾剤と無機酸化物粒子を溶媒に投入し混合することにより、無機酸化物粒子の表面を修飾する方法である。
乾式法とは、表面修飾剤と乾燥した無機酸化物粒子をミキサー等の乾式混合機に投入し混合することにより、無機酸化物粒子の表面を修飾する方法である。
ここで、修飾部分の重量比を5重量%以上かつ200重量%以下と限定した理由は、修飾部分の重量比が5重量%未満であると、無機酸化物粒子の樹脂への相溶が困難となり、樹脂との複合化の際に透明性が失われるからであり、一方、修飾部分の重量比が200重量%を超えると、表面処理剤が樹脂特性へ及ぼす影響が大きくなり、屈折率等の複合体特性が低下するからである。
このように、無機酸化物粒子は、ナノサイズの粒子であるから、この無機酸化物粒子を樹脂中に分散させて透明複合体とした場合においても、光散乱が小さく、複合体の透明性を維持することが可能である。
ここで、無機酸化物粒子の含有率を1重量%以上かつ70重量%以下と限定した理由は、この範囲が無機酸化物粒子が良好な分散状態を取りうる範囲であり、含有率が1重量%未満であると、無機酸化物粒子としての効果が低下し、また、70重量%を超えると、ゲル化や凝集沈澱が生じ、分散液としての特徴を消失するからである。
上記の有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン等のエステル類、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル(メチルセロソルブ)、エチレングリコールモノエチルエーテル(エチルセロソルブ)、エチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルセロソルブ)、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素、ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類が好適に用いられ、これらの溶媒のうち1種または2種以上を用いることができる。
また、上記の液状の樹脂オリゴマーとしては、ウレタンアクリレート系オリゴマー、エポキシアクリレート系オリゴマー、アクリレート系オリゴマー等が好適に用いられる。
この無機酸化物透明分散液は、上記以外に、その特性を損なわない範囲において樹脂モノマー等を含有していてもよい。
例えば、無機酸化物粒子としてジルコニア粒子を用いた場合、光路長を10mmとしたときの可視光透過率は、ジルコニア粒子の含有率が1重量%では95%以上、ジルコニア粒子の含有率が40重量%では80%以上である。
本発明の透明複合体は、1つ以上の反応性官能基を有する表面修飾剤により表面が修飾されかつ分散粒径が1nm以上かつ20nm以下の無機酸化物粒子を樹脂中に分散しかつ当該樹脂と反応してなる複合体である。
樹脂としては、可視光線あるいは近赤外線等の所定の波長帯域の光に対して透明性を有する樹脂であればよく、熱可塑性、熱硬化性、可視光線や紫外線や赤外線等による光(電磁波)硬化性、電子線照射による電子線硬化性等の硬化性樹脂が好適に用いられる。
(a)1分子中のケイ素原子に結合した官能基のうち少なくとも2つがアルケニル基であるオルガノポリシロキサン
(b)1分子中のケイ素原子に結合した官能基のうち少なくとも2つが水素原子であるか、または分子鎖の両端が水素原子で封鎖された直鎖状のオルガノポリシロキサン
(c)ヒドロシリル化反応用触媒
また、このアルケニル基以外のケイ素原子に結合した官能基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等が挙げられ、特に、メチル基が好ましい。
また、(b)成分の含有量は、(a)成分に含まれている合計アルケニル基1モルに対して水素原子が0.1〜10モルの範囲内となる量であることが好ましく、より好ましくは0.1〜5モルの範囲内となる量であり、さらに好ましくは0.5〜2モルの範囲内となる量である。
この白金系触媒としては、白金微粉末、塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金カルボニル錯体等が挙げられ、特に、塩化白金酸が好ましい。
このシリコーン樹脂については、本発明の目的を損なわないかぎり、その他任意の成分として、耐熱剤、染料、顔料、難燃性付与剤等を含有してもよい。
単官能アクリレート及び多官能アクリレートそれぞれの具体例について次に挙げる。
(a)脂肪族単官能(メタ)アクリレートとしては、
ブチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート
メトキシプロピレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート等のアルコキシアルキレングリコール(メタ)アクリレート
(メタ)アクリルアミド、N−ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド等のN−置換アクリルアミド等が挙げられる。
1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1.4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリブタンジオールジ(メタ)アクリレート、等のアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート
ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート等のトリ(メタ)アクリレート
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ−トリメチロールプロパンテトラアクリレート等のテトラ(メタ)アクリレート
ジペンタエリスリトール(モノヒドロキシ)ペンタアクリレート等のペンタ(メタ)アクリレート
等が挙げられる。
(d)芳香族(メタ)アクリレートのうち、単官能型としては、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート等が、また、多官能型としては、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート等のジアクリレート類、ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
(f)エポキシ(メタ)アクリレートとしては、ビスフェノールA型エポキシアクリレート、ノボラック型エポキシアクリレート等が挙げられる。
この重合反応としては、例えば、シリコーン樹脂の場合、付加重合反応または縮合重合反応であり、エポキシ樹脂またはアクリル樹脂の場合、付加重合反応である。
表1に反応形態を示す。
ここで、無機酸化物粒子の含有率を1重量%以上かつ80重量%以下と限定した理由は、下限値の1重量%は屈折率及び機械的特性の向上が可能となる添加率の最小値であるからであり、一方、上限値の80重量%は樹脂自体の特性(柔軟性、比重)を維持することができる添加率の最大値であるからである。
例えば、無機酸化物粒子としてジルコニア粒子を用いた場合、光路長を1mmとしたときの可視光透過率は、ジルコニア粒子の含有率が1重量%では95%以上、ジルコニア粒子の含有率が40重量%では80%以上である。
また、このジルコニア粒子は、靭性、硬度が高いので、複合体の機械的特性向上に適している。
また、このジルコニア粒子は、粒径が1nm以上かつ20nm以下のナノサイズの粒子であるから、樹脂と複合化させた場合においても、光散乱が小さく、複合材料の透明性を維持することが可能である。
本発明の透明複合体は、次に挙げる方法により作製することができる。
まず、上述した本発明の無機酸化物透明分散液と、樹脂のモノマーやオリゴマーを、ミキサー等を用いて混合し、流動し易い状態の樹脂組成物とする。
次いで、この樹脂組成物を金型を用いて成形、または金型あるいは容器内に充填し、次いで、この成形体もしくは充填物に加熱、あるいは紫外線や赤外線等の照射、のいずれかを施し、この成形体もしくは充填物を硬化させる。
特に、アクリル樹脂等の紫外線(UV)硬化性樹脂を含む樹脂組成物を硬化させる方法としては、様々な方法があるが、代表的には、加熱または光照射により開始されるラジカル重合反応を用いたモールド成形法、トランスファー成形法等が挙げられる。このラジカル重合反応としては、熱による重合反応(熱重合)、紫外線等の光による重合反応(光重合)、ガンマ(γ)線による重合反応、あるいは、これらの複数を組み合わせた方法等が挙げられる。
本発明の発光素子封止用組成物は、本発明の無機酸化物透明分散液、すなわち、1つ以上の反応性官能基を有する表面修飾剤により表面が修飾されかつ分散粒径が1nm以上かつ20nm以下の無機酸化物粒子と分散媒とを含む分散液と、上述したシリコーン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂等とを混合したものであり、流動性のある流体である。
本発明の発光素子は、少なくとも光透過領域を本発明の透明複合体としたものであり、上記の発光素子封止用組成物を発光素子の少なくとも光透過領域に充填し、次いで、充填物に加熱、あるいは紫外線や赤外線等の照射、のいずれかを施し、この充填物を硬化させることにより、発光素子の光透過領域を本発明の透明複合体により封止したものである。
オキシ塩化ジルコニウム8水塩2615gを純水40L(リットル)に溶解させたジルコニウム塩溶液に、28%アンモニア水344gを純水20Lに溶解させた希アンモニア水を攪拌しながら加え、ジルコニア前駆体スラリーを調整した。
次いで、このスラリーに、硫酸ナトリウム300gを5Lの純水に溶解させた硫酸ナトリウム水溶液を攪拌しながら加えた。このときの硫酸ナトリウムの添加量は、ジルコニウム塩溶液中のジルコニウムイオンのジルコニア換算値に対して30重量%であった。
次いで、この固形物を自動乳鉢等により粉砕した後、電気炉を用いて、大気中、500℃にて1時間焼成した。
次いで、この焼成物を純水中に投入し、攪拌してスラリー状とした後、遠心分離器を用いて洗浄を行い、添加した硫酸ナトリウムを十分に除去した後、乾燥器にて乾燥させ、ジルコニア粒子を作製した。
その後分散処理を行い、実施例1のジルコニア透明分散液(Z1)を作製した。
分散粒径は、動的光散乱式粒径分布測定装置(Malvern社製)を用い、ジルコニア透明分散液中のジルコニア粒子の含有量を1重量%に調製したものを測定用試料とした。また、データ解析条件としては、粒子径基準を体積基準とし、分散粒子であるジルコニアの屈折率を2.15、分散媒であるトルエンの屈折率を1.49とした。
表2に、これらの測定結果を示す。
また、この分散液のジルコニア粒子の結晶系をX線回折装置を用いて調べた。
図1にジルコニア粒子の粉末X線回折図形(チャート)を示す。この粉末X線回折図形により、ジルコニア粒子の結晶系が正方晶系であることが確認された。
実施例1に準じて粒子合成を行い、ジルコニア粒子を作製した。
次いで、このジルコニア粒子10gに、分散媒としてトルエンを85g、表面修飾剤としてアクリル基を有するシランカップリング剤である3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを5g加えて混合し、その後分散処理を行い、実施例2のジルコニア透明分散液(Z2)を作製した。ここでは、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランとしてKBM−503(信越化学(株)社製)を用いた。
次いで、実施例1に準じてジルコニア粒子の分散粒径及び可視光透過率を測定した。表2に測定結果を示す。
実施例1に準じて粒子合成を行い、ジルコニア粒子を作製した。
次いで、このジルコニア粒子10gに、分散媒としてトルエンを85g、表面修飾剤としてエポキシ基を有するシランカップリング剤である3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを5g加えて混合し、その後分散処理を行い、実施例3のジルコニア透明分散液(Z3)を作製した。ここでは、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとしてKBM−403(信越化学(株)社製)を用いた。
次いで、実施例1に準じてジルコニア粒子の分散粒径及び可視光透過率を測定した。表2に測定結果を示す。
実施例1に準じて粒子合成を行い、ジルコニア粒子を作製した。
次いで、このジルコニア粒子10gに、分散媒としてトルエンを85g、表面修飾剤として反応性官能基を有しないシランカップリング剤であるデシルトリメトキシシランを5g加えて混合し、その後分散処理を行い、比較例1のジルコニア透明分散液(Z4)を作製した。ここでは、デシルトリメトキシシランとしてKBM−3103C(信越化学(株)社製)を用いた。
次いで、実施例1に準じてジルコニア粒子の分散粒径及び可視光透過率を測定した。表2に測定結果を示す。
実施例1に準じて粒子合成を行い、ジルコニア粒子を作製した。
次いで、このジルコニア粒子10gに、分散媒としてトルエンを89.6g、表面修飾剤としてエポキシ基を有するシランカップリング剤である3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを0.4g加えて混合し、その後分散処理を行い、比較例2のジルコニア分散液(Z5)を作製した。ここでは、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとしてKBM−403(信越化学(株)社製)を用いた。
次いで、実施例1に準じてジルコニア粒子の分散粒径及び可視光透過率を測定した。表2に測定結果を示す。
実施例1に準じて粒子合成を行い、ジルコニア粒子を作製した。
次いで、このジルコニア粒子10gに、分散媒としてトルエンを90g加えて混合し、その後分散処理を行い、比較例3のジルコニア分散液(Z6)を作製した。このジルコニア分散液(Z6)のジルコニア粒子は、分散液に表面修飾剤を加えていないために、表面が表面修飾剤により修飾されていないものである。
次いで、実施例1に準じてジルコニア粒子の分散粒径及び可視光透過率を測定した。表2に測定結果を示す。
「実施例4」
実施例1のジルコニア透明分散液(Z1)100gに、シリコーンオイル(メチルハイドロジェンポリシロキサンと両末端に各々ビニル基を有するオルガノポリシロキサンとの混合物)10gを加え、さらに、塩化白金酸をシリコーンオイル100重量部に対して20ppmとなるように加え、真空乾燥により脱溶剤化し、樹脂組成物を作製した。
次いで、この樹脂組成物を、ガラス板で組み上げた型の中に厚みが1mmになるように流し込み、150℃にて2時間加熱して硬化させ、実施例4の透明複合体を作製した。
この透明複合体のジルコニアの含有率は50重量%であった。
実施例2のジルコニア透明分散液(Z2)100gに、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート5g、ペンタエリスリトールトリアクリレート2.5g、ペンタエリスリトールテトラアクリレート2g、重合開始剤としてベンゾイルパーオキサイド0.5gを加え、真空乾燥により脱溶剤化し、樹脂組成物を作製した。
次いで、この樹脂組成物を、ガラス板で組み上げた型の中に厚みが1mmになるように流し込み、60℃にて5時間、続いて120℃にて2時間加熱して硬化させ、実施例5の透明複合体を作製した。
この透明複合体のジルコニアの含有率は50重量%であった。
実施例3のジルコニア透明分散液(Z3)100gに、エポキシレジン:エピコート828を7gおよび硬化剤としてエピキュア3080を3g(いずれもジャパンエポキシレジン(株)社製)加え、真空乾燥により脱溶剤化し、樹脂組成物を作製した。
次いで、この樹脂組成物を、ガラス板で組み上げた型の中に厚みが1mmになるように流し込み、80℃にて30分間加熱して硬化させ、実施例6の透明複合体を作製した。
この透明複合体のジルコニアの含有率は50重量%であった。
比較例1のジルコニア透明分散液(Z4)を用いた以外は、実施例4に準じて処理し、比較例4の透明複合体を作製した。
比較例1のジルコニア透明分散液(Z4)を用いた以外は、実施例5に準じて処理し、比較例5の透明複合体を作製した。
比較例1のジルコニア透明分散液(Z4)を用いた以外は、実施例6に準じて処理し、比較例6の透明複合体を作製した。
比較例2のジルコニア分散液(Z5)を用いた以外は、実施例4に準じて処理し、比較例7の透明複合体を作製した。
比較例2のジルコニア分散液(Z5)を用いた以外は、実施例5に準じて処理し、比較例8の透明複合体を作製した。
比較例2のジルコニア分散液(Z5)を用いた以外は、実施例6に準じて処理し、比較例9の透明複合体を作製した。
透明複合体のジルコニアの含有率を1重量%とした以外は、比較例7に準じて処理し、比較例10の透明複合体を作製した。
透明複合体のジルコニアの含有率を1重量%とした以外は、比較例8に準じて処理し、比較例11の透明複合体を作製した。
透明複合体のジルコニアの含有率を1重量%とした以外は、比較例9に準じて処理し、比較例12の透明複合体を作製した。
実施例4〜6及び比較例4〜12それぞれの透明複合体について、可視光透過率、屈折率及び硬度の3点について、下記の装置または方法により評価を行った。
(1)可視光透過率
分光光度計(日本分光社製)を用いて可視光線の透過率を測定した。
ここでは、測定用試料を100×100×1mmの大きさのバルク体とし、透過率が80%以上を「○」、80%未満を「×」とした。
日本工業規格:JIS K 7142「プラスチックの屈折率測定方法」に準拠し、アッベ屈折計により測定した。
ここでは、ジルコニアを添加していない樹脂を基準として、屈折率が0.05以上向上した場合を「○」、屈折率が0.05未満しか向上しなかった場合を「×」とした。
日本工業規格:JIS K 7215「プラスチックのデュロメータ硬さ試験方法」に準拠し、デュロメータを用いてJIS−A硬度を測定した。
ここでは、比較例1のジルコニア分散液(Z4)を用いた比較例4〜6の樹脂組成物を用いて作製され、ジルコニアの含有率が50重量%である各透明複合体の硬さを基準とし、この基準値より高い場合を「○」、この基準値より低い場合を「×」とした。
以上の評価結果を表3に示す。
一方、比較例4〜12では、可視光透過率、屈折率、硬度のいずれかの特性が実施例4〜6と比べて劣っていた。
Claims (13)
- 1つ以上の反応性官能基を有する表面修飾剤により表面が修飾されかつ分散粒径が1nm以上かつ20nm以下の無機酸化物粒子を含有してなることを特徴とする無機酸化物透明分散液。
- 前記反応性官能基は、炭素−炭素二重結合またはケイ素−水素結合を有することを特徴とする請求項1記載の無機酸化物透明分散液。
- 前記反応性官能基は、アルコキシル基、ヒドロキシル基、ビニル基、スチリル基、アクリル基、メタクリル基、アクリロイル基、エポキシ基の群から選択される1種または2種以上であることを特徴とする請求項1記載の無機酸化物透明分散液。
- 前記表面修飾剤は、アルコキシシラン化合物、シロキサン化合物、界面活性剤の群から選択された1種または2種以上であることを特徴とする請求項1記載の無機酸化物透明分散液。
- 前記表面の修飾部分の重量比は、前記無機酸化物粒子の5重量%以上かつ200重量%以下であることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項記載の無機酸化物透明分散液。
- 前記無機酸化物は、ジルコニアであることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項記載の無機酸化物透明分散液。
- 前記無機酸化物粒子の含有率は、1重量%以上かつ70重量%以下であることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項記載の無機酸化物透明分散液。
- 請求項1ないし6のいずれか1項記載の無機酸化物粒子を樹脂中に分散しかつ当該樹脂と反応してなることを特徴とする透明複合体。
- 前記樹脂は、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂またはアクリル樹脂であることを特徴とする請求項8記載の透明複合体。
- 前記無機酸化物粒子の含有率は、1重量%以上かつ80重量%以下であることを特徴とする請求項8または9記載の透明複合体。
- 請求項1ないし7のいずれか1項記載の無機酸化物透明分散液を含有してなることを特徴とする発光素子封止用組成物。
- 少なくとも光透過領域を請求項8、9または10記載の透明複合体としたことを特徴とする発光素子。
- 請求項1ないし7のいずれか1項記載の無機酸化物透明分散液と、樹脂とを混合し、得られた混合物を成形もしくは充填し、次いで、この成形体もしくは充填物を硬化することを特徴とする透明複合体の製造方法。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006041094A JP5540458B2 (ja) | 2006-02-17 | 2006-02-17 | 無機酸化物透明分散液と樹脂組成物、透明複合体、発光素子封止用組成物及び発光素子並びに透明複合体の製造方法 |
CN200680039934XA CN101296982B (zh) | 2005-10-28 | 2006-10-24 | 无机氧化物透明分散液和含无机氧化物粒子的树脂组合物、发光元件密封用组合物及发光元件、硬涂膜和光学功能膜及光学部件、以及含无机氧化物粒子的树脂组合物的制备方法 |
PCT/JP2006/321092 WO2007049573A1 (ja) | 2005-10-28 | 2006-10-24 | 無機酸化物透明分散液と無機酸化物粒子含有樹脂組成物、発光素子封止用組成物及び発光素子、ハードコート膜と光学機能膜及び光学部品、並びに無機酸化物粒子含有樹脂組成物の製造方法 |
US12/084,093 US7985476B2 (en) | 2005-10-28 | 2006-10-24 | Transparent zirconia dispersion and zirconia particle-containing resin composition, composition for sealing light emitting element and light emitting element, hard coat film and optical functional film and optical component, and method for producing zirconia particle-containing resin |
KR1020087009837A KR101302277B1 (ko) | 2005-10-28 | 2006-10-24 | 무기산화물 투명 분산액과 무기산화물 입자 함유 수지조성물, 발광소자 밀봉용 조성물 및 발광소자,하드코트막과 광학 기능막 및 광학 부품, 그리고무기산화물 입자 함유 수지 조성물의 제조 방법 |
EP06812152.4A EP1950239B1 (en) | 2005-10-28 | 2006-10-24 | Transparent inorganic-oxide dispersion, resin composition containing inorganic oxide particles, composition for encapsulating luminescent element, luminescent element, hard coat, optical functional film, optical part, and process for producing resin composition containing inorganic oxide particles |
TW095139482A TWI401287B (zh) | 2005-10-28 | 2006-10-26 | 無機氧化物透明分散液及含無機氧化物粒子的樹脂組成物、發光元件封裝用組成物及發光元件、硬塗膜與光學機能膜及光學組件,以及含無機氧化物粒子之樹脂組成物的製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006041094A JP5540458B2 (ja) | 2006-02-17 | 2006-02-17 | 無機酸化物透明分散液と樹脂組成物、透明複合体、発光素子封止用組成物及び発光素子並びに透明複合体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007217242A true JP2007217242A (ja) | 2007-08-30 |
JP5540458B2 JP5540458B2 (ja) | 2014-07-02 |
Family
ID=38494925
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006041094A Expired - Fee Related JP5540458B2 (ja) | 2005-10-28 | 2006-02-17 | 無機酸化物透明分散液と樹脂組成物、透明複合体、発光素子封止用組成物及び発光素子並びに透明複合体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5540458B2 (ja) |
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008081836A1 (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-10 | Showa Denko K.K. | 発光素子封止用樹脂組成物およびランプ |
JP2009132819A (ja) * | 2007-11-30 | 2009-06-18 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 改質ジルコニア微粒子の製造方法、改質ジルコニア微粒子を含む透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材 |
JP2009146924A (ja) * | 2007-12-11 | 2009-07-02 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 発光装置及び電子機器 |
JP2009221434A (ja) * | 2008-03-18 | 2009-10-01 | Fujifilm Corp | 有機無機複合組成物、成形体および光学部品 |
WO2010026992A1 (ja) * | 2008-09-05 | 2010-03-11 | 株式会社日本触媒 | シリコーン樹脂組成物、酸化金属粒子及びその製造方法 |
JP2010209186A (ja) * | 2009-03-09 | 2010-09-24 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 光学材料と無機微粒子分散液及び光学材料の製造方法並びに発光素子 |
JP2010538107A (ja) * | 2007-08-31 | 2010-12-09 | キャボット コーポレイション | 変性された金属酸化物のナノ粒子分散液の調製方法 |
US7901785B2 (en) | 2006-12-28 | 2011-03-08 | Showa Denko K.K. | Resin composition for sealing light-emitting device and lamp |
JP2011213506A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 無機酸化物分散液とその製造方法及び透明混合液並びに透明複合体、光学部材 |
WO2012169237A1 (ja) * | 2011-06-08 | 2012-12-13 | 住友大阪セメント株式会社 | 無機酸化物粒子とシリコーン樹脂との複合組成物及び透明複合体 |
WO2013031799A1 (ja) | 2011-08-31 | 2013-03-07 | 住友大阪セメント株式会社 | 無機酸化物透明分散液と透明複合体形成用樹脂組成物及び透明複合体並びに光学部材 |
US9202688B2 (en) | 2010-04-23 | 2015-12-01 | Pixelligent Technologies, Llc | Synthesis, capping and dispersion of nanocrystals |
US9323126B2 (en) | 2013-06-04 | 2016-04-26 | Seiko Epson Corporation | Electrophoretic particles, method for manufacturing electrophoretic particles, electrophoresis dispersion, display device, and electronic apparatus |
US9359689B2 (en) | 2011-10-26 | 2016-06-07 | Pixelligent Technologies, Llc | Synthesis, capping and dispersion of nanocrystals |
WO2017066410A1 (en) * | 2015-10-14 | 2017-04-20 | Dow Global Technologies Llc | Coating composition |
US9645466B2 (en) | 2013-06-24 | 2017-05-09 | Seiko Epson Corporation | Electrophoretic particles, electrophoretic dispersion liquid, display sheet, display device, and electronic equipment |
US9645467B2 (en) | 2013-06-24 | 2017-05-09 | Seiko Epson Corporation | Electrophoretic particles, electrophoretic dispersion liquid, display sheet, display device, and electronic equipment |
US10753012B2 (en) | 2010-10-27 | 2020-08-25 | Pixelligent Technologies, Llc | Synthesis, capping and dispersion of nanocrystals |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6363726A (ja) * | 1986-09-05 | 1988-03-22 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | 表面処理用組成物 |
JPS63176308A (ja) * | 1987-01-12 | 1988-07-20 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | 表面処理されたジルコニア系粒子およびその製造方法 |
JPH1045403A (ja) * | 1996-05-08 | 1998-02-17 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 有機基含有複合酸化物ゾルおよびその製造方法 |
JP2000143924A (ja) * | 1998-11-06 | 2000-05-26 | Jsr Corp | 液状硬化性樹脂組成物、その硬化物および反射防止膜 |
JP2000186216A (ja) * | 1998-12-22 | 2000-07-04 | Jsr Corp | 高屈折率材料およびそれを用いた反射防止用積層体 |
JP2000248198A (ja) * | 1999-03-03 | 2000-09-12 | Jsr Corp | 架橋性粒子、それを含有する樹脂組成物及びその硬化物 |
JP2001049077A (ja) * | 1999-08-12 | 2001-02-20 | Jsr Corp | 樹脂組成物及びその硬化物 |
JP2001187812A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Jsr Corp | 反応性粒子、これを含有する硬化性組成物及び硬化物 |
JP2003512287A (ja) * | 1999-10-28 | 2003-04-02 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ジルコニアゾル及びその製造方法 |
JP2003119207A (ja) * | 2001-10-11 | 2003-04-23 | Jsr Corp | 光硬化性組成物、その硬化物、及び積層体 |
JP2003183537A (ja) * | 2001-12-18 | 2003-07-03 | Jsr Corp | 粒子、組成物および保護膜 |
JP2004269644A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Jsr Corp | 硬化性組成物、その硬化物及び積層体 |
JP2005120230A (ja) * | 2003-10-16 | 2005-05-12 | Nitto Denko Corp | 光半導体素子封止用エポキシ樹脂組成物およびそれを用いた光半導体装置 |
JP2005161111A (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-23 | Jsr Corp | ジルコニア粒子分散液、その製造方法及び光硬化性組成物 |
-
2006
- 2006-02-17 JP JP2006041094A patent/JP5540458B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6363726A (ja) * | 1986-09-05 | 1988-03-22 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | 表面処理用組成物 |
JPS63176308A (ja) * | 1987-01-12 | 1988-07-20 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | 表面処理されたジルコニア系粒子およびその製造方法 |
JPH1045403A (ja) * | 1996-05-08 | 1998-02-17 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 有機基含有複合酸化物ゾルおよびその製造方法 |
JP2000143924A (ja) * | 1998-11-06 | 2000-05-26 | Jsr Corp | 液状硬化性樹脂組成物、その硬化物および反射防止膜 |
JP2000186216A (ja) * | 1998-12-22 | 2000-07-04 | Jsr Corp | 高屈折率材料およびそれを用いた反射防止用積層体 |
JP2000248198A (ja) * | 1999-03-03 | 2000-09-12 | Jsr Corp | 架橋性粒子、それを含有する樹脂組成物及びその硬化物 |
JP2001049077A (ja) * | 1999-08-12 | 2001-02-20 | Jsr Corp | 樹脂組成物及びその硬化物 |
JP2003512287A (ja) * | 1999-10-28 | 2003-04-02 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ジルコニアゾル及びその製造方法 |
JP2001187812A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Jsr Corp | 反応性粒子、これを含有する硬化性組成物及び硬化物 |
JP2003119207A (ja) * | 2001-10-11 | 2003-04-23 | Jsr Corp | 光硬化性組成物、その硬化物、及び積層体 |
JP2003183537A (ja) * | 2001-12-18 | 2003-07-03 | Jsr Corp | 粒子、組成物および保護膜 |
JP2004269644A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Jsr Corp | 硬化性組成物、その硬化物及び積層体 |
JP2005120230A (ja) * | 2003-10-16 | 2005-05-12 | Nitto Denko Corp | 光半導体素子封止用エポキシ樹脂組成物およびそれを用いた光半導体装置 |
JP2005161111A (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-23 | Jsr Corp | ジルコニア粒子分散液、その製造方法及び光硬化性組成物 |
Cited By (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008081836A1 (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-10 | Showa Denko K.K. | 発光素子封止用樹脂組成物およびランプ |
US7901785B2 (en) | 2006-12-28 | 2011-03-08 | Showa Denko K.K. | Resin composition for sealing light-emitting device and lamp |
JP2010538107A (ja) * | 2007-08-31 | 2010-12-09 | キャボット コーポレイション | 変性された金属酸化物のナノ粒子分散液の調製方法 |
JP2009132819A (ja) * | 2007-11-30 | 2009-06-18 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 改質ジルコニア微粒子の製造方法、改質ジルコニア微粒子を含む透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材 |
JP2009146924A (ja) * | 2007-12-11 | 2009-07-02 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 発光装置及び電子機器 |
JP2009221434A (ja) * | 2008-03-18 | 2009-10-01 | Fujifilm Corp | 有機無機複合組成物、成形体および光学部品 |
WO2010026992A1 (ja) * | 2008-09-05 | 2010-03-11 | 株式会社日本触媒 | シリコーン樹脂組成物、酸化金属粒子及びその製造方法 |
JP2010209186A (ja) * | 2009-03-09 | 2010-09-24 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 光学材料と無機微粒子分散液及び光学材料の製造方法並びに発光素子 |
JP2011213506A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 無機酸化物分散液とその製造方法及び透明混合液並びに透明複合体、光学部材 |
US9328432B2 (en) | 2010-04-23 | 2016-05-03 | Pixelligent Technologies, Llc | Synthesis, capping and dispersion of nanocrystals |
US9856581B2 (en) | 2010-04-23 | 2018-01-02 | Pixelligent Technologies, Llc | Synthesis, capping and dispersion of nanocrystals |
US9202688B2 (en) | 2010-04-23 | 2015-12-01 | Pixelligent Technologies, Llc | Synthesis, capping and dispersion of nanocrystals |
US9617657B2 (en) | 2010-04-23 | 2017-04-11 | Pixelligent Technologies, Llc | Synthesis, capping and dispersion of nanocrystals |
US10753012B2 (en) | 2010-10-27 | 2020-08-25 | Pixelligent Technologies, Llc | Synthesis, capping and dispersion of nanocrystals |
CN103597034A (zh) * | 2011-06-08 | 2014-02-19 | 住友大阪水泥股份有限公司 | 无机氧化物粒子与聚硅氧烷树脂的复合组合物以及透明复合体 |
WO2012169237A1 (ja) * | 2011-06-08 | 2012-12-13 | 住友大阪セメント株式会社 | 無機酸化物粒子とシリコーン樹脂との複合組成物及び透明複合体 |
JP2012255070A (ja) * | 2011-06-08 | 2012-12-27 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 無機酸化物粒子とシリコーン樹脂との複合組成物及び透明複合体 |
WO2013031799A1 (ja) | 2011-08-31 | 2013-03-07 | 住友大阪セメント株式会社 | 無機酸化物透明分散液と透明複合体形成用樹脂組成物及び透明複合体並びに光学部材 |
US9359689B2 (en) | 2011-10-26 | 2016-06-07 | Pixelligent Technologies, Llc | Synthesis, capping and dispersion of nanocrystals |
US9323126B2 (en) | 2013-06-04 | 2016-04-26 | Seiko Epson Corporation | Electrophoretic particles, method for manufacturing electrophoretic particles, electrophoresis dispersion, display device, and electronic apparatus |
US9645466B2 (en) | 2013-06-24 | 2017-05-09 | Seiko Epson Corporation | Electrophoretic particles, electrophoretic dispersion liquid, display sheet, display device, and electronic equipment |
US9645467B2 (en) | 2013-06-24 | 2017-05-09 | Seiko Epson Corporation | Electrophoretic particles, electrophoretic dispersion liquid, display sheet, display device, and electronic equipment |
WO2017066410A1 (en) * | 2015-10-14 | 2017-04-20 | Dow Global Technologies Llc | Coating composition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5540458B2 (ja) | 2014-07-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5540458B2 (ja) | 無機酸化物透明分散液と樹脂組成物、透明複合体、発光素子封止用組成物及び発光素子並びに透明複合体の製造方法 | |
JP5167582B2 (ja) | ジルコニア透明分散液及び透明複合体並びに透明複合体の製造方法 | |
EP1950239B1 (en) | Transparent inorganic-oxide dispersion, resin composition containing inorganic oxide particles, composition for encapsulating luminescent element, luminescent element, hard coat, optical functional film, optical part, and process for producing resin composition containing inorganic oxide particles | |
JP5273744B2 (ja) | 無機酸化物粒子とシリコーン樹脂との複合組成物の製造方法 | |
JP2008120848A (ja) | 無機酸化物透明分散液と透明複合体およびその製造方法、発光素子封止用組成物並びに発光素子 | |
JP6565923B2 (ja) | 表面修飾金属酸化物粒子分散液及びその製造方法、表面修飾金属酸化物粒子−シリコーン樹脂複合組成物、表面修飾金属酸化物粒子−シリコーン樹脂複合体、光学部材、及び発光装置 | |
JP5332101B2 (ja) | 無機酸化物透明分散液と透明複合体、発光素子封止用組成物および発光素子並びに透明複合体の製造方法 | |
CN102558462B (zh) | 梯度组成复合材料及其制造方法 | |
JP5011695B2 (ja) | ジルコニア透明分散液及び透明複合体並びに透明複合体の製造方法 | |
JP5018025B2 (ja) | 表面修飾酸化ジルコニウム粒子分散液及び透明複合体、光学部材並びに発光素子封止用組成物、発光素子 | |
JP5082814B2 (ja) | 無機酸化物含有透明複合体及びその製造方法 | |
JP2010195967A (ja) | 無機酸化物分散液、その製造方法及び該分散液を用いた複合体 | |
JP5176380B2 (ja) | 表面修飾ジルコニア粒子と表面修飾ジルコニア粒子分散液及び複合体並びに表面修飾ジルコニア粒子の製造方法 | |
JP2007171555A (ja) | ハードコート膜と光学機能膜及び光学レンズ並びに光学部品 | |
JP2016079050A (ja) | 有機酸含有ジルコニア微粒子分散液、表面修飾ジルコニア微粒子分散液及びその製造方法、樹脂複合組成物 | |
JP2008308584A (ja) | 無機酸化物透明分散液と透明複合体およびその製造方法 | |
JP5769154B2 (ja) | 無機酸化物粒子とシリコーン樹脂との複合組成物ならびに透明複合体およびその製造方法 | |
JP2011057530A (ja) | アルミナドープジルコニアナノ粒子透明分散液及び透明複合体 | |
JPWO2020105405A1 (ja) | 反応性シリコーン組成物およびその硬化物 | |
JP2012162740A (ja) | 透明複合体およびその製造方法 | |
JP5573059B2 (ja) | アルカリ土類金属酸化物ドープジルコニアナノ粒子透明分散液及び透明複合体 | |
JP4704175B2 (ja) | 光学レンズ用組成物及び光学レンズ並びに光学部品 | |
JP2008308362A (ja) | 無機酸化物透明分散液と透明複合体およびその製造方法 | |
JP2007103708A (ja) | 発光素子封止用組成物及び発光素子並びに光半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080729 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120104 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120305 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121204 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130204 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131126 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140127 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140408 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140421 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5540458 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |