JP2003183537A - 粒子、組成物および保護膜 - Google Patents
粒子、組成物および保護膜Info
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 密着性、表面硬度、透明性、耐熱
性、耐光性、耐溶剤性などを満たすと共に、熱のかかっ
た状態で荷重によって凹まないこと、および下地基板上
に形成されたカラーフィルターの段差を平坦化する性能
に優れた光デバイス用保護膜を形成するために好適に用
いられる組成物とそれに含有される新規な粒子、および
上記組成物より形成された保護膜を提供すること。 【解決手段】 粒子は（ａ１）ケイ素、アルミニ
ウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウ
ム、インジウム、スズ、アンチモンおよびセリウムから
なる群から選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物粒子
と、（ａ２）特定の化合物とを反応させて得られる。組
成部は上記粒子を含有し、保護膜はその組成物より得ら
れる。
性、耐光性、耐溶剤性などを満たすと共に、熱のかかっ
た状態で荷重によって凹まないこと、および下地基板上
に形成されたカラーフィルターの段差を平坦化する性能
に優れた光デバイス用保護膜を形成するために好適に用
いられる組成物とそれに含有される新規な粒子、および
上記組成物より形成された保護膜を提供すること。 【解決手段】 粒子は（ａ１）ケイ素、アルミニ
ウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウ
ム、インジウム、スズ、アンチモンおよびセリウムから
なる群から選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物粒子
と、（ａ２）特定の化合物とを反応させて得られる。組
成部は上記粒子を含有し、保護膜はその組成物より得ら
れる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、粒子、その粒子を
含有する組成物、その組成物から保護膜を形成する方
法、および保護膜に関する。さらに詳しくは、新規な粒
子、その粒子を含有する光デバイスに用いられる保護膜
を形成するための材料として好適な組成物、その組成物
を使用した保護膜の形成方法、ならびにその組成物から
形成された保護膜に関する。
含有する組成物、その組成物から保護膜を形成する方
法、および保護膜に関する。さらに詳しくは、新規な粒
子、その粒子を含有する光デバイスに用いられる保護膜
を形成するための材料として好適な組成物、その組成物
を使用した保護膜の形成方法、ならびにその組成物から
形成された保護膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】カラー液晶表示装置や電荷結合素子等の
光デバイスは、その製造工程中に、溶剤、酸またはアル
カリ溶液等による表示素子の浸漬処理が行われ、また、
スパッタリングにより配線電極層を形成する際には、素
子表面が局部的に高温に曝される。このような処理によ
って素子が劣化、損傷することを防止するために、これ
らの処理に対して耐性を有する薄膜からなる保護膜を素
子の表面に設けることが行われている。
光デバイスは、その製造工程中に、溶剤、酸またはアル
カリ溶液等による表示素子の浸漬処理が行われ、また、
スパッタリングにより配線電極層を形成する際には、素
子表面が局部的に高温に曝される。このような処理によ
って素子が劣化、損傷することを防止するために、これ
らの処理に対して耐性を有する薄膜からなる保護膜を素
子の表面に設けることが行われている。
【０００３】この保護膜には、上記のような処理に耐え
うる諸特性が要求される。すなわち、基体または下層と
の密着性に優れていること、平滑で表面硬度が高いこ
と、透明性に優れていること、耐溶剤性、耐酸性、耐ア
ルカリ性などの耐薬品性や耐水性に優れていることなど
が要求される。また、長期にわたって着色、黄変、白化
等の変質がないように耐熱性および耐光性に優れている
ことも必要とされる。
うる諸特性が要求される。すなわち、基体または下層と
の密着性に優れていること、平滑で表面硬度が高いこ
と、透明性に優れていること、耐溶剤性、耐酸性、耐ア
ルカリ性などの耐薬品性や耐水性に優れていることなど
が要求される。また、長期にわたって着色、黄変、白化
等の変質がないように耐熱性および耐光性に優れている
ことも必要とされる。
【０００４】また、このような保護膜をカラー液晶表示
装置や電荷結合素子のカラーフィルターの保護膜として
使用する場合には、一般的に下地基板上に形成されたカ
ラーフィルターによる段差を平坦化できることが要求さ
れる。さらに、カラー液晶表示装置では、液晶層のセル
ギャップを均一に保持するためにビーズ状のスペーサー
を保護膜上に散布したうえでパネルを貼り合わせること
が行われている。その後にシール材を熱圧着することに
より液晶セルを密封することとなるが、その際にかかる
熱と圧力で、ビーズが存在する部分の保護膜が凹む現象
が見られ、セルギャップが狂うことが問題となってい
る。特にＳＴＮ（ＳＵＰＥＲ ＴＷＩＳＴＥＤ ＮＥＭ
ＡＴＩＣ）方式のカラー液晶表示素子を製造する際に
は、カラーフィルターと対向基板との張り合わせの精度
を極めて厳密に行わなければならず、保護膜には極めて
高度な段差の平坦化性能および耐熱耐圧性能が要求され
ている。
装置や電荷結合素子のカラーフィルターの保護膜として
使用する場合には、一般的に下地基板上に形成されたカ
ラーフィルターによる段差を平坦化できることが要求さ
れる。さらに、カラー液晶表示装置では、液晶層のセル
ギャップを均一に保持するためにビーズ状のスペーサー
を保護膜上に散布したうえでパネルを貼り合わせること
が行われている。その後にシール材を熱圧着することに
より液晶セルを密封することとなるが、その際にかかる
熱と圧力で、ビーズが存在する部分の保護膜が凹む現象
が見られ、セルギャップが狂うことが問題となってい
る。特にＳＴＮ（ＳＵＰＥＲ ＴＷＩＳＴＥＤ ＮＥＭ
ＡＴＩＣ）方式のカラー液晶表示素子を製造する際に
は、カラーフィルターと対向基板との張り合わせの精度
を極めて厳密に行わなければならず、保護膜には極めて
高度な段差の平坦化性能および耐熱耐圧性能が要求され
ている。
【０００５】このような保護膜の形成には、簡易な方法
で硬度に優れる保護膜を形成できる利点のある熱硬化性
組成物を使用することが便宜であるが、上記したような
諸性能を満たす保護膜を形成でき、かつ組成物としての
保存安定性に優れた材料は未だ知られていない。
で硬度に優れる保護膜を形成できる利点のある熱硬化性
組成物を使用することが便宜であるが、上記したような
諸性能を満たす保護膜を形成でき、かつ組成物としての
保存安定性に優れた材料は未だ知られていない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情を鑑
みなされたもので、その目的は、保護膜として要求され
る諸特性、具体的には、密着性、表面硬度、透明性、耐
熱性、耐光性、耐溶剤性などを満たすと共に、熱のかか
った状態で荷重によって凹まないこと、および下地基板
上に形成されたカラーフィルターの段差を平坦化する性
能に優れた光デバイス用保護膜を形成するために好適に
用いられる組成物とそれに含有される新規な粒子、上記
組成物を用いた保護膜の形成方法、および上記組成物よ
り形成された保護膜を提供することにある。
みなされたもので、その目的は、保護膜として要求され
る諸特性、具体的には、密着性、表面硬度、透明性、耐
熱性、耐光性、耐溶剤性などを満たすと共に、熱のかか
った状態で荷重によって凹まないこと、および下地基板
上に形成されたカラーフィルターの段差を平坦化する性
能に優れた光デバイス用保護膜を形成するために好適に
用いられる組成物とそれに含有される新規な粒子、上記
組成物を用いた保護膜の形成方法、および上記組成物よ
り形成された保護膜を提供することにある。
【０００７】本発明によれば、本発明の上記課題は第一
に、（ａ１）ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チ
タニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ、ア
ンチモンおよびセリウムからなる群から選ばれる少なく
とも１種の元素の酸化物粒子と、（ａ２）下記式（１）
〜（４）のうちの少なくとも一種とを反応させて得られ
る粒子によって達成される。
に、（ａ１）ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チ
タニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ、ア
ンチモンおよびセリウムからなる群から選ばれる少なく
とも１種の元素の酸化物粒子と、（ａ２）下記式（１）
〜（４）のうちの少なくとも一種とを反応させて得られ
る粒子によって達成される。
【０００８】
【化２】
【０００９】（式中、Ｒ１は水素原子、アルキル基、フ
ッ素原子、フルオロアルキル基、アリル基、アリール
基、フリル基またはエチニル基であり、Ｒ２は加水分解
性基であり、Ｒ３はアルキル基であり、Ｒ４は２価の有
機基であり、ｍ、ｎおよびｐはそれぞれ独立に１〜１０
の整数であり、ｑおよびｒはそれぞれ１〜３の整数であ
り、ただしｑ＋ｒ≦４である。）
ッ素原子、フルオロアルキル基、アリル基、アリール
基、フリル基またはエチニル基であり、Ｒ２は加水分解
性基であり、Ｒ３はアルキル基であり、Ｒ４は２価の有
機基であり、ｍ、ｎおよびｐはそれぞれ独立に１〜１０
の整数であり、ｑおよびｒはそれぞれ１〜３の整数であ
り、ただしｑ＋ｒ≦４である。）
【００１０】上記課題は第二に、（Ａ）上記の粒子、
（Ｂ）（ｂ１）エポキシ基含有不飽和化合物、および
（ｂ２）オレフィン系不飽和化合物の共重合体（以下、
「共重合体（Ｂ）」ということがある。）、ならびに、
（Ｃ）（Ｂ）成分以外のカチオン重合性化合物を含有す
ることを特徴とする、組成物によって達成される。
（Ｂ）（ｂ１）エポキシ基含有不飽和化合物、および
（ｂ２）オレフィン系不飽和化合物の共重合体（以下、
「共重合体（Ｂ）」ということがある。）、ならびに、
（Ｃ）（Ｂ）成分以外のカチオン重合性化合物を含有す
ることを特徴とする、組成物によって達成される。
【００１１】上記課題は第三に、上記（Ａ）、（Ｂ）お
よび（Ｃ）を含有する組成物、ならびに（Ｄ）硬化剤を
混合し、その混合物を基板上に塗布し、次いで熱および
／または放射線で処理することを特徴とする、保護膜の
形成方法により達成される。
よび（Ｃ）を含有する組成物、ならびに（Ｄ）硬化剤を
混合し、その混合物を基板上に塗布し、次いで熱および
／または放射線で処理することを特徴とする、保護膜の
形成方法により達成される。
【００１２】また、上記課題は第四に、（Ａ）上記の粒
子、（Ｅ）（ｅ１）不飽和カルボン酸および／または不
飽和カルボン酸無水物、（ｅ２）エポキシ基含有不飽和
化合物、ならびに（ｅ３）（ｅ１）および（ｅ２）以外
のオレフィン系不飽和化合物の共重合体（以下、「共重
合体（Ｅ）」ということがある。）、ならびに（Ｆ）
（Ｅ）成分以外のカチオン重合性化合物を含有すること
を特徴とする、組成物によって達成される。さらに、上
記課題は第五に、上記した組成物より形成された保護膜
により達成される。以下、本発明の粒子、および本発明
の組成物に使用されるその他の構成成分について詳説す
る。
子、（Ｅ）（ｅ１）不飽和カルボン酸および／または不
飽和カルボン酸無水物、（ｅ２）エポキシ基含有不飽和
化合物、ならびに（ｅ３）（ｅ１）および（ｅ２）以外
のオレフィン系不飽和化合物の共重合体（以下、「共重
合体（Ｅ）」ということがある。）、ならびに（Ｆ）
（Ｅ）成分以外のカチオン重合性化合物を含有すること
を特徴とする、組成物によって達成される。さらに、上
記課題は第五に、上記した組成物より形成された保護膜
により達成される。以下、本発明の粒子、および本発明
の組成物に使用されるその他の構成成分について詳説す
る。
【００１３】（Ａ）粒子
本発明の粒子は、（ａ１）ケイ素、アルミニウム、ジル
コニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウ
ム、スズ、アンチモンおよびセリウムからなる群から選
ばれる少なくとも１種の元素の酸化物粒子と、（ａ２）
下記式（１）〜（４）のうちの少なくとも一種とを反応
させて得られる粒子である。
コニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウ
ム、スズ、アンチモンおよびセリウムからなる群から選
ばれる少なくとも１種の元素の酸化物粒子と、（ａ２）
下記式（１）〜（４）のうちの少なくとも一種とを反応
させて得られる粒子である。
【００１４】
【化３】
【００１５】（式中、Ｒ１は水素原子、アルキル基、フ
ッ素原子、フルオロアルキル基、アリル基、アリール
基、フリル基またはエチニル基であり、Ｒ２は加水分解
性基であり、Ｒ３はアルキル基であり、Ｒ４は２価の有
機基であり、ｍ、ｎおよびｐはそれぞれ独立に１〜１０
の整数であり、ｑおよびｒはそれぞれ１〜３の整数であ
り、ただしｑ＋ｒ≦４である。）
ッ素原子、フルオロアルキル基、アリル基、アリール
基、フリル基またはエチニル基であり、Ｒ２は加水分解
性基であり、Ｒ３はアルキル基であり、Ｒ４は２価の有
機基であり、ｍ、ｎおよびｐはそれぞれ独立に１〜１０
の整数であり、ｑおよびｒはそれぞれ１〜３の整数であ
り、ただしｑ＋ｒ≦４である。）
【００１６】上記（ａ１）酸化物粒子としては、例え
ば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、酸化
亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、
インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、酸化アンチモン及び
酸化セリウム等を挙げることができる。中でも、高硬度
の観点から、シリカ、アルミナ、ジルコニア及び酸化ア
ンチモンが好ましい。これらは１種単独で又は２種以上
を組合わせて用いることができ、また、アンチモン酸亜
鉛粒のような２種以上の金属種を含有する複合酸化物と
して使用しても良い。また、粒子の分散性を改良するた
めに各種の界面活性剤やアミン類を添加して用いてもよ
い。（ａ１）酸化物粒子の数平均粒子径は、０．００１
μｍ〜２μｍが好ましく、０．００１μｍ〜０．２μｍ
がさらに好ましく、０．００１μｍ〜０．１μｍが特に
好ましい。数平均粒子径が２μｍを越えると、そのよう
な粒子を含有する組成物から形成される保護膜の透明性
が低下したり、表面状態が悪化する場合がある。
ば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、酸化
亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、
インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、酸化アンチモン及び
酸化セリウム等を挙げることができる。中でも、高硬度
の観点から、シリカ、アルミナ、ジルコニア及び酸化ア
ンチモンが好ましい。これらは１種単独で又は２種以上
を組合わせて用いることができ、また、アンチモン酸亜
鉛粒のような２種以上の金属種を含有する複合酸化物と
して使用しても良い。また、粒子の分散性を改良するた
めに各種の界面活性剤やアミン類を添加して用いてもよ
い。（ａ１）酸化物粒子の数平均粒子径は、０．００１
μｍ〜２μｍが好ましく、０．００１μｍ〜０．２μｍ
がさらに好ましく、０．００１μｍ〜０．１μｍが特に
好ましい。数平均粒子径が２μｍを越えると、そのよう
な粒子を含有する組成物から形成される保護膜の透明性
が低下したり、表面状態が悪化する場合がある。
【００１７】（ａ１）酸化物粒子の形状は球状、中空
状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、又は不定形状であ
ることができるが、好ましくは、球状である。なお、こ
こでいう「球状」には真球状の他、略球状も含む。（ａ
１）酸化物粒子の比表面積（窒素を用いたＢＥＴ比表面
積測定法による）は、好ましくは、１０〜１０００ｍ2
／ｇであり、さらに好ましくは、１００〜５００ｍ2／
ｇである。 （ａ１）酸化物粒子の使用形態は、溶媒を
含有しない状態、または水もしくは有機溶剤で分散した
状態で用いることができる。水または有機溶媒に分散し
た状態で使用するときの分散媒としては、他の成分との
相溶性や分散性の観点から、有機溶媒が好ましい。例え
ば、上記の酸化物の溶剤分散ゾルとして当業界に知られ
ている微粒子状の酸化物粒子の分散液を直接用いること
ができる。特に、硬化物に優れた透明性を要求する用途
においては酸化物の溶剤分散ゾルの利用が好ましい。
状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、又は不定形状であ
ることができるが、好ましくは、球状である。なお、こ
こでいう「球状」には真球状の他、略球状も含む。（ａ
１）酸化物粒子の比表面積（窒素を用いたＢＥＴ比表面
積測定法による）は、好ましくは、１０〜１０００ｍ2
／ｇであり、さらに好ましくは、１００〜５００ｍ2／
ｇである。 （ａ１）酸化物粒子の使用形態は、溶媒を
含有しない状態、または水もしくは有機溶剤で分散した
状態で用いることができる。水または有機溶媒に分散し
た状態で使用するときの分散媒としては、他の成分との
相溶性や分散性の観点から、有機溶媒が好ましい。例え
ば、上記の酸化物の溶剤分散ゾルとして当業界に知られ
ている微粒子状の酸化物粒子の分散液を直接用いること
ができる。特に、硬化物に優れた透明性を要求する用途
においては酸化物の溶剤分散ゾルの利用が好ましい。
【００１８】このような有機溶剤としては、例えば、メ
タノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノー
ル、オクタノール等のアルコール類；アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチ
ル、γ−ブチロラクトン、エチレングリコールモノエチ
ルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチル
エーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチル
エーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチル
エーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチル
エーテルアセテート等のエステル類；エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類；ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメ
チルフォルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチ
ルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。中で
も、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、トルエン、キシレンが好ましい。
タノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノー
ル、オクタノール等のアルコール類；アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチ
ル、γ−ブチロラクトン、エチレングリコールモノエチ
ルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチル
エーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチル
エーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチル
エーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチル
エーテルアセテート等のエステル類；エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類；ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメ
チルフォルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチ
ルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。中で
も、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、トルエン、キシレンが好ましい。
【００１９】このような（ａ１）酸化物粒子の市販品と
しては、例えば、溶媒を含有しない状態のシリカとし
て、日本アエロジル（株）製 商品名：アエロジル１３
０、アエロジル３００、アエロジル３８０、アエロジル
ＴＴ６００、アエロジルＯＸ５０、旭硝子（株）製 商
品名：シルデックスＨ３１、Ｈ３２、Ｈ５１、Ｈ５２、
Ｈ１２１、Ｈ１２２、日本シリカ工業（株）製 商品
名：Ｅ２２０Ａ、Ｅ２２０、富士シリシア（株）製 商
品名：ＳＹＬＹＳＩＡ４７０、日本板硝子（株）製 商
品名：ＳＧフレ−ク等；メタノールに分散した状態のコ
ロイダルシリカとして、日産化学工業（株）製 商品名：メタノ−ルシリカゾル ＩＰＡ−ＳＴ、ＭＥＫ
−ＳＴ、ＮＢＡ−ＳＴ、ＸＢＡ−ＳＴ、ＤＭＡＣ−Ｓ
Ｔ、ＳＴ−ＵＰ、ＳＴ−ＯＵＰ、ＳＴ−２０、ＳＴ−４
０、ＳＴ−Ｃ、ＳＴ−Ｎ、ＳＴ−Ｏ、ＳＴ−５０、ＳＴ
−ＯＬ等；
しては、例えば、溶媒を含有しない状態のシリカとし
て、日本アエロジル（株）製 商品名：アエロジル１３
０、アエロジル３００、アエロジル３８０、アエロジル
ＴＴ６００、アエロジルＯＸ５０、旭硝子（株）製 商
品名：シルデックスＨ３１、Ｈ３２、Ｈ５１、Ｈ５２、
Ｈ１２１、Ｈ１２２、日本シリカ工業（株）製 商品
名：Ｅ２２０Ａ、Ｅ２２０、富士シリシア（株）製 商
品名：ＳＹＬＹＳＩＡ４７０、日本板硝子（株）製 商
品名：ＳＧフレ−ク等；メタノールに分散した状態のコ
ロイダルシリカとして、日産化学工業（株）製 商品名：メタノ−ルシリカゾル ＩＰＡ−ＳＴ、ＭＥＫ
−ＳＴ、ＮＢＡ−ＳＴ、ＸＢＡ−ＳＴ、ＤＭＡＣ−Ｓ
Ｔ、ＳＴ−ＵＰ、ＳＴ−ＯＵＰ、ＳＴ−２０、ＳＴ−４
０、ＳＴ−Ｃ、ＳＴ−Ｎ、ＳＴ−Ｏ、ＳＴ−５０、ＳＴ
−ＯＬ等；
【００２０】アルミナの水分散品として、日産化学工業
（株）製 商品名：アルミナゾル−１００、−２００、
−５２０等；アルミナのイソプロパノール分散品とし
て、住友大阪セメント（株）製 商品名：ＡＳ−１５０
Ｉ等；アルミナのトルエン分散品として、住友大阪セメ
ント（株）製 商品名：ＡＳ−１５０Ｔ等；
（株）製 商品名：アルミナゾル−１００、−２００、
−５２０等；アルミナのイソプロパノール分散品とし
て、住友大阪セメント（株）製 商品名：ＡＳ−１５０
Ｉ等；アルミナのトルエン分散品として、住友大阪セメ
ント（株）製 商品名：ＡＳ−１５０Ｔ等；
【００２１】ジルコニアのトルエン分散品として、住友
大阪セメント（株）製 商品名：ＨＸＵ−１１０ＪＣ
等；アンチモン酸亜鉛粒子の水分散品として、日産化学
工業（株）製 商品名：セルナックス等；アルミナ、酸
化チタン、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛等の溶
媒を含有しない状態の粒子および溶剤に分散した粒子と
して、シーアイ化成（株）製 商品名：ナノテック等；
アンチモンドープ酸化スズの水分散ゾルとして、石原産
業（株） 製 商品名：ＳＮ−１００Ｄ等；ＩＴＯ粒子
としては、三菱マテリアル（株）製の製品；酸化セリウ
ム水分散液としては、多木化学（株）製 商品名：ニー
ドラール等を挙げることができる。
大阪セメント（株）製 商品名：ＨＸＵ−１１０ＪＣ
等；アンチモン酸亜鉛粒子の水分散品として、日産化学
工業（株）製 商品名：セルナックス等；アルミナ、酸
化チタン、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛等の溶
媒を含有しない状態の粒子および溶剤に分散した粒子と
して、シーアイ化成（株）製 商品名：ナノテック等；
アンチモンドープ酸化スズの水分散ゾルとして、石原産
業（株） 製 商品名：ＳＮ−１００Ｄ等；ＩＴＯ粒子
としては、三菱マテリアル（株）製の製品；酸化セリウ
ム水分散液としては、多木化学（株）製 商品名：ニー
ドラール等を挙げることができる。
【００２２】上記（ａ２）成分は、上記式（１）〜
（４）のうちの少なくとも一種である。上記式（１）〜
（４）において、Ｒ１は水素原子、アルキル基、フッ素
原子、フルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フ
リル基またはエチニル基であり、Ｒ２は加水分解性基で
あり、Ｒ３はアルキル基であり、Ｒ４は２価の有機基で
あり、ｍ、ｎおよびｐはそれぞれ独立に１〜１０の整数
であり、ｑおよびｒはそれぞれ１〜３の整数であり、た
だしｑ＋ｒ≦４である。
（４）のうちの少なくとも一種である。上記式（１）〜
（４）において、Ｒ１は水素原子、アルキル基、フッ素
原子、フルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フ
リル基またはエチニル基であり、Ｒ２は加水分解性基で
あり、Ｒ３はアルキル基であり、Ｒ４は２価の有機基で
あり、ｍ、ｎおよびｐはそれぞれ独立に１〜１０の整数
であり、ｑおよびｒはそれぞれ１〜３の整数であり、た
だしｑ＋ｒ≦４である。
【００２３】上記アルキル基としては、炭素数１〜６の
アルキル基等が挙げられる。上記フルオロアルキル基と
しては、炭素数１〜６のアルキル基に含有される水素原
子のうちの一部または全部をフッ素原子で置換した基等
が挙げられる。上記アリール基としては、炭素数６〜２
０のアリール基等が挙げられる。上記加水分解性基とし
ては、炭素数１〜６のアルコキシル基、炭素数６〜２０
のアリールオキシ基、アセトキシ基、アミノ基、ハロゲ
ン原子等が挙げられ、好ましくは炭素数１〜６のアルコ
キシル基、および炭素数６〜２０のアリールオキシ基で
ある。また、上記２価の有機基としては、メチレン基、
炭素数２〜１０のアルキレン基等が挙げられる。
アルキル基等が挙げられる。上記フルオロアルキル基と
しては、炭素数１〜６のアルキル基に含有される水素原
子のうちの一部または全部をフッ素原子で置換した基等
が挙げられる。上記アリール基としては、炭素数６〜２
０のアリール基等が挙げられる。上記加水分解性基とし
ては、炭素数１〜６のアルコキシル基、炭素数６〜２０
のアリールオキシ基、アセトキシ基、アミノ基、ハロゲ
ン原子等が挙げられ、好ましくは炭素数１〜６のアルコ
キシル基、および炭素数６〜２０のアリールオキシ基で
ある。また、上記２価の有機基としては、メチレン基、
炭素数２〜１０のアルキレン基等が挙げられる。
【００２４】上記式（１）で表される化合物としては、
例えば、［（３−メチルオキタセン−３−イル）−メチ
ロキシプロピル］−トリエトキシシラン、［（３−メチ
ルオキタセン−３−イル）−メチロキシプロピル］−ト
リメトキシシラン、［（３−メチルオキタセン−３−イ
ル）−メチロキシプロピル］−トリエトキシシラン、
［（３−メチルオキタセン−３−イル）−メチロキシプ
ロピル］−メチルジエトキシシラン、［（３−メチルオ
キタセン−３−イル）−メチロキシプロピル］−メチル
ジメトキシシラン、［（３−メチルオキタセン−３−イ
ル）−メチロキシプロピル］−エチルジエトキシシラ
ン、［（３−メチルオキタセン−３−イル）−メチロキ
シプロピル］−エチルジメトキシシラン、［（３−エチ
ルオキタセン−３−イル）−メチロキシプロピル］−ト
リエトキシシラン、［（３−エチルオキタセン−３−イ
ル）−メチロキシプロピル］−トリメトキシシラン、
［（３−エチルオキタセン−３−イル）−メチロキシプ
ロピル］−メチルジエトキシシラン、［（３−エチルオ
キタセン−３−イル）−メチロキシプロピル］−メチル
ジメトキシシラン、［（３−エチルオキタセン−３−イ
ル）−メチロキシプロピル］−エチルジエトキシシラ
ン、［（３−エチルオキタセン−３−イル）−メチロキ
シプロピル］−エチルジメトキシシラン、［（３−メチ
ルオキタセン−３−イル）−メチロキシブチル］−トリ
エトキシシラン、［（３−メチルオキタセン−３−イ
ル）−メチロキシブチル］−トリメトキシシラン、
［（３−メチルオキタセン−３−イル）−メチロキシブ
チル］−メチルジエトキシシラン、［（３−メチルオキ
タセン−３−イル）−メチロキシブチル］−メチルジメ
トキシシラン、［（３−メチルオキタセン−３−イル）
−メチロキシブチル］−エチルジエトキシシラン、
［（３−メチルオキタセン−３−イル）−メチロキシブ
チル］−エチルジメトキシシラン、［（３−エチルオキ
タセン−３−イル）−プロピロキシプロピル］−トリエ
トキシシラン、［（３−メチルオキタセン−３−イル）
−プロピロキシプロピル］−トリメトキシシラン、
［（３−メチルオキタセン−３−イル）−プロピロキシ
プロピル］−メチルジエトキシシラン、［（３−メチル
オキタセン−３−イル）−プロピロキシプロピル］−メ
チルジメトキシシラン、［（３−メチルオキタセン−３
−イル）−プロピロキシプロピル］−エチルジエトキシ
シラン、［（３−メチルオキタセン−３−イル）−プロ
ピロキシプロピル］−エチルジメトキシシラン等を挙げ
ることができる。
例えば、［（３−メチルオキタセン−３−イル）−メチ
ロキシプロピル］−トリエトキシシラン、［（３−メチ
ルオキタセン−３−イル）−メチロキシプロピル］−ト
リメトキシシラン、［（３−メチルオキタセン−３−イ
ル）−メチロキシプロピル］−トリエトキシシラン、
［（３−メチルオキタセン−３−イル）−メチロキシプ
ロピル］−メチルジエトキシシラン、［（３−メチルオ
キタセン−３−イル）−メチロキシプロピル］−メチル
ジメトキシシラン、［（３−メチルオキタセン−３−イ
ル）−メチロキシプロピル］−エチルジエトキシシラ
ン、［（３−メチルオキタセン−３−イル）−メチロキ
シプロピル］−エチルジメトキシシラン、［（３−エチ
ルオキタセン−３−イル）−メチロキシプロピル］−ト
リエトキシシラン、［（３−エチルオキタセン−３−イ
ル）−メチロキシプロピル］−トリメトキシシラン、
［（３−エチルオキタセン−３−イル）−メチロキシプ
ロピル］−メチルジエトキシシラン、［（３−エチルオ
キタセン−３−イル）−メチロキシプロピル］−メチル
ジメトキシシラン、［（３−エチルオキタセン−３−イ
ル）−メチロキシプロピル］−エチルジエトキシシラ
ン、［（３−エチルオキタセン−３−イル）−メチロキ
シプロピル］−エチルジメトキシシラン、［（３−メチ
ルオキタセン−３−イル）−メチロキシブチル］−トリ
エトキシシラン、［（３−メチルオキタセン−３−イ
ル）−メチロキシブチル］−トリメトキシシラン、
［（３−メチルオキタセン−３−イル）−メチロキシブ
チル］−メチルジエトキシシラン、［（３−メチルオキ
タセン−３−イル）−メチロキシブチル］−メチルジメ
トキシシラン、［（３−メチルオキタセン−３−イル）
−メチロキシブチル］−エチルジエトキシシラン、
［（３−メチルオキタセン−３−イル）−メチロキシブ
チル］−エチルジメトキシシラン、［（３−エチルオキ
タセン−３−イル）−プロピロキシプロピル］−トリエ
トキシシラン、［（３−メチルオキタセン−３−イル）
−プロピロキシプロピル］−トリメトキシシラン、
［（３−メチルオキタセン−３−イル）−プロピロキシ
プロピル］−メチルジエトキシシラン、［（３−メチル
オキタセン−３−イル）−プロピロキシプロピル］−メ
チルジメトキシシラン、［（３−メチルオキタセン−３
−イル）−プロピロキシプロピル］−エチルジエトキシ
シラン、［（３−メチルオキタセン−３−イル）−プロ
ピロキシプロピル］−エチルジメトキシシラン等を挙げ
ることができる。
【００２５】上記式（２）で表される化合物としては、
例えば、２−［（３−メチルオキタセン−３−イル）−
メチロキシプロピル］−エトキシエチルトリメトキシシ
シラン、２−［（３−メチルオキタセン−３−イル）−
メチロキシプロピル］−エトキシエチルトリエトキシシ
シラン、２−［（３−メチルオキタセン−３−イル）−
メチロキシプロピル］−エトキシエチルメチルジメトキ
シシシラン、２−［（３−メチルオキタセン−３−イ
ル）−メチロキシプロピル］−エトキシエチルメチルジ
エトキシシシラン等を挙げることができる。
例えば、２−［（３−メチルオキタセン−３−イル）−
メチロキシプロピル］−エトキシエチルトリメトキシシ
シラン、２−［（３−メチルオキタセン−３−イル）−
メチロキシプロピル］−エトキシエチルトリエトキシシ
シラン、２−［（３−メチルオキタセン−３−イル）−
メチロキシプロピル］−エトキシエチルメチルジメトキ
シシシラン、２−［（３−メチルオキタセン−３−イ
ル）−メチロキシプロピル］−エトキシエチルメチルジ
エトキシシシラン等を挙げることができる。
【００２６】上記式（３）で表される化合物としては、
例えば、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチ
ルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロ
ヘキシル）エチルメチルジメトキシシラン等を挙げるこ
とができる。上記式（４）で表される化合物としては、
例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルジメチルエトキシシラ
ン、３，４−エポキシブチルトリメトキシシラン等を挙
げることができる。
例えば、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチ
ルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロ
ヘキシル）エチルメチルジメトキシシラン等を挙げるこ
とができる。上記式（４）で表される化合物としては、
例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルジメチルエトキシシラ
ン、３，４−エポキシブチルトリメトキシシラン等を挙
げることができる。
【００２７】これらの有機化合物のうち、組成物中にお
ける粒子の分散性の観点から、［３−エチルオキセタン
−３−イル］メチロキシプロピル]トリエトキシシラ
ン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキ
シシラン等が好ましい。これらは単独で、又は２種以上
を混合して使用することができる。
ける粒子の分散性の観点から、［３−エチルオキセタン
−３−イル］メチロキシプロピル]トリエトキシシラ
ン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキ
シシラン等が好ましい。これらは単独で、又は２種以上
を混合して使用することができる。
【００２８】このような上記式（１）〜（４）で表され
る（ａ２）成分の市販品としては、式（１）に該当する
ものとして、東亞合成（株）社製 商品名：ＯＸＴ−６
１０を挙げることができる。式（３）に該当するものと
して、チッソ（株）社製 商品名：サイラエース Ｓ５
３０、信越化学工業（株）社製 商品名：ＫＢＭ３０３
等を挙げることができる。式（４）に該当するものとし
て、チッソ（株）社製 商品名：サイラエース Ｓ５１
０、Ｓ５２０、東レ・ダウコーニング・シリコーン
（株）社製 商品名：ＳＨ６０４０、ＡＹ４３−０２
６、信越化学工業（株）社製 商品名：ＫＢＭ４０３、
ＫＢＥ４０２等を挙げることができる。
る（ａ２）成分の市販品としては、式（１）に該当する
ものとして、東亞合成（株）社製 商品名：ＯＸＴ−６
１０を挙げることができる。式（３）に該当するものと
して、チッソ（株）社製 商品名：サイラエース Ｓ５
３０、信越化学工業（株）社製 商品名：ＫＢＭ３０３
等を挙げることができる。式（４）に該当するものとし
て、チッソ（株）社製 商品名：サイラエース Ｓ５１
０、Ｓ５２０、東レ・ダウコーニング・シリコーン
（株）社製 商品名：ＳＨ６０４０、ＡＹ４３−０２
６、信越化学工業（株）社製 商品名：ＫＢＭ４０３、
ＫＢＥ４０２等を挙げることができる。
【００２９】（ａ２）成分の使用量は、（ａ１）酸化物
粒子および（ａ２）成分の合計量を１００重量部に対
し、０．１〜６０重量部が好ましく、さらに好ましく
は、０．１〜４０重量部、特に好ましくは、１〜３０重
量部である。０．１重量部未満であると、得られる保護
膜の透明性、耐擦傷性、耐薬品性が十分でなくなる場合
がある。また、６０重量部を超えると、得られる保護膜
の硬度が十分でなくなる場合がある。
粒子および（ａ２）成分の合計量を１００重量部に対
し、０．１〜６０重量部が好ましく、さらに好ましく
は、０．１〜４０重量部、特に好ましくは、１〜３０重
量部である。０．１重量部未満であると、得られる保護
膜の透明性、耐擦傷性、耐薬品性が十分でなくなる場合
がある。また、６０重量部を超えると、得られる保護膜
の硬度が十分でなくなる場合がある。
【００３０】本発明の（Ａ）粒子は、上記（ａ１）酸化
物粒子および（ａ２）成分を反応させることにより、得
ることができる。このような反応は、通常、適当な溶媒
の存在下に（ａ１）酸化物粒子と（ａ２）成分を混合、
攪拌することによって行うことができる。このとき使用
できる溶媒としては、粒子の分散性や安定性の観点か
ら、アルコール類、ケトン類、エステル類等の極性溶媒
が好ましく、具体的にはメタノール、エタノール、プロ
パノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、酢酸メチル、酢酸エチル等が挙げられ
る。（ａ１）酸化物粒子と（ａ２）成分の反応に溶媒を
使用する場合、その使用量は、（ａ１）酸化物粒子およ
び（ａ２）成分の合計量１００重量部に対して、好まし
くは５０重量部以上、より好ましくは５０〜１５００重
量部である。
物粒子および（ａ２）成分を反応させることにより、得
ることができる。このような反応は、通常、適当な溶媒
の存在下に（ａ１）酸化物粒子と（ａ２）成分を混合、
攪拌することによって行うことができる。このとき使用
できる溶媒としては、粒子の分散性や安定性の観点か
ら、アルコール類、ケトン類、エステル類等の極性溶媒
が好ましく、具体的にはメタノール、エタノール、プロ
パノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、酢酸メチル、酢酸エチル等が挙げられ
る。（ａ１）酸化物粒子と（ａ２）成分の反応に溶媒を
使用する場合、その使用量は、（ａ１）酸化物粒子およ
び（ａ２）成分の合計量１００重量部に対して、好まし
くは５０重量部以上、より好ましくは５０〜１５００重
量部である。
【００３１】またこのとき、反応を促進するため、脱水
剤を添加することができる。脱水剤としては、オルト蟻
酸メチル、オルト蟻酸エチル、テトラエトキシメタン、
テトラブトキシメタン等の有機化合物を用いることがで
きる。これらのうち、オルト蟻酸メチル、オルト蟻酸エ
チル等のオルトエステル類が好ましい。このような脱水
剤の使用量としては、（ａ２）成分１００重量部あた
り、通常５００重量部以下、好ましくは１０〜４００重
量部である。
剤を添加することができる。脱水剤としては、オルト蟻
酸メチル、オルト蟻酸エチル、テトラエトキシメタン、
テトラブトキシメタン等の有機化合物を用いることがで
きる。これらのうち、オルト蟻酸メチル、オルト蟻酸エ
チル等のオルトエステル類が好ましい。このような脱水
剤の使用量としては、（ａ２）成分１００重量部あた
り、通常５００重量部以下、好ましくは１０〜４００重
量部である。
【００３２】反応条件としては、（ａ１）酸化物粒子と
（ａ２）成分の反応が進行しうる条件である限り特に制
限はないが、通常４０〜１５０℃、好ましくは５０〜１
２０℃にて、通常１〜２４時間、好ましくは１〜２０時
間の条件を採用することができる。なお、（Ａ）粒子中
の（ａ２）成分の量は、通常、溶媒除去後の粉体を空気
中で完全に燃焼させた場合の重量減少割合の恒量値とし
て、空気中で１１０℃から８００℃までの熱重量分析に
より求めることができる。
（ａ２）成分の反応が進行しうる条件である限り特に制
限はないが、通常４０〜１５０℃、好ましくは５０〜１
２０℃にて、通常１〜２４時間、好ましくは１〜２０時
間の条件を採用することができる。なお、（Ａ）粒子中
の（ａ２）成分の量は、通常、溶媒除去後の粉体を空気
中で完全に燃焼させた場合の重量減少割合の恒量値とし
て、空気中で１１０℃から８００℃までの熱重量分析に
より求めることができる。
【００３３】共重合体（Ｂ）
本発明で使用される共重合体（Ｂ）は、（ｂ１）エポキ
シ基含有不飽和化合物、および（ｂ２）オレフィン系不
飽和化合物の共重合体である。上記（ｂ１）エポキシ基
含有不飽和化合物は、エポキシ基と重合性炭素−炭素二
重結合を一分子中に持つ化合物であり、具体的には例え
ば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、
α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルア
クリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシ
ジル、アクリル酸−３,４−エポキシブチル、メタクリ
ル酸−３,４−エポキシブチル、アクリル酸−６,７−エ
ポキシヘプチル、メタクリル酸−６,７−エポキシヘプ
チル、α−エチルアクリル酸−６,７−エポキシヘプチ
ル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニ
ルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグ
リシジルエーテルなどが挙げられる。これらのうち、メ
タクリル酸グリシジル、メタクリル酸−６，７−エポキ
シヘプチル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、
ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベ
ンジルグリシジルエーテルなどが共重合反応性および得
られる保護膜の耐熱性、硬度を高める点から好ましく用
いられる。これらの（ｂ１）エポキシ基含有不飽和化合
物は、単独であるいは組み合わせて用いられる。
シ基含有不飽和化合物、および（ｂ２）オレフィン系不
飽和化合物の共重合体である。上記（ｂ１）エポキシ基
含有不飽和化合物は、エポキシ基と重合性炭素−炭素二
重結合を一分子中に持つ化合物であり、具体的には例え
ば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、
α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルア
クリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシ
ジル、アクリル酸−３,４−エポキシブチル、メタクリ
ル酸−３,４−エポキシブチル、アクリル酸−６,７−エ
ポキシヘプチル、メタクリル酸−６,７−エポキシヘプ
チル、α−エチルアクリル酸−６,７−エポキシヘプチ
ル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニ
ルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグ
リシジルエーテルなどが挙げられる。これらのうち、メ
タクリル酸グリシジル、メタクリル酸−６，７−エポキ
シヘプチル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、
ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベ
ンジルグリシジルエーテルなどが共重合反応性および得
られる保護膜の耐熱性、硬度を高める点から好ましく用
いられる。これらの（ｂ１）エポキシ基含有不飽和化合
物は、単独であるいは組み合わせて用いられる。
【００３４】上記（ｂ２）オレフィン系不飽和化合物と
しては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト、ｎ−ブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタク
リレート、ｔ−ブチルメタクリレートなどのメタクリル
酸アルキルエステル；メチルアクリレート、イソプロピ
ルアクリレートなどのアクリル酸アルキルエステル；シ
クロヘキシルメタクリレート、２−メチルシクロヘキシ
ルメタクリレート、メタクリル酸シクロヘキシル、メタ
クリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−
８−イル（当該技術分野で慣用名としてメタクリル酸ジ
シクロペンタニルといわれている）、ジシクロペンタニ
ルオキシエチルメタクリレート、イソボロニルメタクリ
レートなどのメタクリル酸環状アルキルエステル；シク
ロヘキシルアクリレート、２−メチルシクロヘキシルア
クリレート、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ト
リシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル
（当該技術分野で慣用名としてアクリル酸ジシクロペン
タニルといわれている）、ジシクロペンタニルオキシエ
チルアクリレート、イソボロニルアクリレートなどのア
クリル酸環状アルキルエステル；
しては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト、ｎ−ブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタク
リレート、ｔ−ブチルメタクリレートなどのメタクリル
酸アルキルエステル；メチルアクリレート、イソプロピ
ルアクリレートなどのアクリル酸アルキルエステル；シ
クロヘキシルメタクリレート、２−メチルシクロヘキシ
ルメタクリレート、メタクリル酸シクロヘキシル、メタ
クリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−
８−イル（当該技術分野で慣用名としてメタクリル酸ジ
シクロペンタニルといわれている）、ジシクロペンタニ
ルオキシエチルメタクリレート、イソボロニルメタクリ
レートなどのメタクリル酸環状アルキルエステル；シク
ロヘキシルアクリレート、２−メチルシクロヘキシルア
クリレート、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ト
リシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル
（当該技術分野で慣用名としてアクリル酸ジシクロペン
タニルといわれている）、ジシクロペンタニルオキシエ
チルアクリレート、イソボロニルアクリレートなどのア
クリル酸環状アルキルエステル；
【００３５】フェニルメタクリレート、ベンジルメタク
リレートなどのメタクリル酸アリールエステル；フェニ
ルアクリレート、ベンジルアクリレートなどのアクリル
酸アリールエステル；マレイン酸ジエチル、フマル酸ジ
エチル、イタコン酸ジエチルなどのジカルボン酸ジエス
テル；インデン、１−メチルインデン等のインデン誘導
体；フェニルマレイミド、ベンジルマレイミド、シクロ
ヘキシルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレ
イミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレ
イミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイ
ミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイ
ミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジル）マレイミ
ド等のジカルボニルイミド誘導体；２−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレ
ートなどのヒドロキシアルキルエステル；およびスチレ
ン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メ
チルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メトキシスチレ
ン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニ
ル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、酢酸ビニル、１,３−ブタジエン、イソプレン、２,
３−ジメチル−１,３−ブタジエンなどが挙げられる。
これらのうち、スチレン、ｔ−ブチルメタクリレート、
メタクリル酸ジシクロペンタニル、ｐ−メトキシスチレ
ン、２−メチルシクロヘキシルアクリレート、１,３−
ブタジエン、フェニルマレイミド、シクロヘキシルなど
が共重合反応性および耐熱性の点から好ましい。これら
の化合物（ｂ２）は、単独であるいは組み合わせて用い
られる。
リレートなどのメタクリル酸アリールエステル；フェニ
ルアクリレート、ベンジルアクリレートなどのアクリル
酸アリールエステル；マレイン酸ジエチル、フマル酸ジ
エチル、イタコン酸ジエチルなどのジカルボン酸ジエス
テル；インデン、１−メチルインデン等のインデン誘導
体；フェニルマレイミド、ベンジルマレイミド、シクロ
ヘキシルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレ
イミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレ
イミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイ
ミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイ
ミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジル）マレイミ
ド等のジカルボニルイミド誘導体；２−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレ
ートなどのヒドロキシアルキルエステル；およびスチレ
ン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メ
チルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メトキシスチレ
ン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニ
ル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、酢酸ビニル、１,３−ブタジエン、イソプレン、２,
３−ジメチル−１,３−ブタジエンなどが挙げられる。
これらのうち、スチレン、ｔ−ブチルメタクリレート、
メタクリル酸ジシクロペンタニル、ｐ−メトキシスチレ
ン、２−メチルシクロヘキシルアクリレート、１,３−
ブタジエン、フェニルマレイミド、シクロヘキシルなど
が共重合反応性および耐熱性の点から好ましい。これら
の化合物（ｂ２）は、単独であるいは組み合わせて用い
られる。
【００３６】本発明で用いられる共重合体（Ｂ）は、化
合物（ｂ１）から誘導される構成単位を、１〜９０重量
部、好ましくは４０〜９０重量部含有している。本発明
に用いられる共重合体（Ｂ）は、ポリスチレン換算重量
平均分子量（以下、「Ｍｗ」ということがある。）が、
好ましくは３，０００〜１００，０００、さらに好まし
くは３，０００〜５０，０００、特に好ましくは３，０
００〜２０，０００である。
合物（ｂ１）から誘導される構成単位を、１〜９０重量
部、好ましくは４０〜９０重量部含有している。本発明
に用いられる共重合体（Ｂ）は、ポリスチレン換算重量
平均分子量（以下、「Ｍｗ」ということがある。）が、
好ましくは３，０００〜１００，０００、さらに好まし
くは３，０００〜５０，０００、特に好ましくは３，０
００〜２０，０００である。
【００３７】本発明で使用される共重合体（Ｂ）は、上
記（ｂ１）エポキシ基含有不飽和化合物および（ｂ２）
オレフィン系不飽和化合物を、適当な溶媒および重合開
始剤の存在下、例えばラジカル重合によって合成するこ
とができる。共重合体（Ｂ）の合成に使用される溶媒と
しては、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコ
ール類；テトラヒドロフランなどのエーテル類；エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテルなどのグリコールエーテル類；メチ
ルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート
などのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート
類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチル
エーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル
などのジエチレングリコール類；
記（ｂ１）エポキシ基含有不飽和化合物および（ｂ２）
オレフィン系不飽和化合物を、適当な溶媒および重合開
始剤の存在下、例えばラジカル重合によって合成するこ
とができる。共重合体（Ｂ）の合成に使用される溶媒と
しては、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコ
ール類；テトラヒドロフランなどのエーテル類；エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテルなどのグリコールエーテル類；メチ
ルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート
などのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート
類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチル
エーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル
などのジエチレングリコール類；
【００３８】プロピレングリコールメチルエーテル、プ
ロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコ
ールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエ
ーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテ
ル類；プロピレングリコールメチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、
プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プ
ロピレングリコールブチルエーテルアセテートなどのプ
ロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；プ
ロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プ
ロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プ
ロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート、
プロピレングリコールブチルエーテルプロピオネートな
どのプロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネ
ート類；
ロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコ
ールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエ
ーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテ
ル類；プロピレングリコールメチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、
プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プ
ロピレングリコールブチルエーテルアセテートなどのプ
ロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；プ
ロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プ
ロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プ
ロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート、
プロピレングリコールブチルエーテルプロピオネートな
どのプロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネ
ート類；
【００３９】トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素
類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒド
ロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、メチルイソアミ
ルケトンなどのケトン類；および酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピ
オン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン
酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エ
チル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、
ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸
プロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メ
チル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロ
キシプロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン
酸ブチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチ
ル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキ
シ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メ
チル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エ
トキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ
酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸
ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブ
トキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキ
シプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチ
ル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシ
プロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチ
ル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプ
ロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチ
ル、２−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプ
ロピオン酸エチル、２−ブトキシプロピオン酸プロピ
ル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシプ
ロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、
３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロ
ピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３
−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオ
ン酸プロピル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−
プロポキシプロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピ
オン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、
３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロ
ピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３
−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピ
オン酸ブチルなどのエステル類が挙げられる。
類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒド
ロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、メチルイソアミ
ルケトンなどのケトン類；および酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピ
オン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン
酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エ
チル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、
ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸
プロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メ
チル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロ
キシプロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン
酸ブチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチ
ル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキ
シ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メ
チル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エ
トキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ
酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸
ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブ
トキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキ
シプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチ
ル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシ
プロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチ
ル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプ
ロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチ
ル、２−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプ
ロピオン酸エチル、２−ブトキシプロピオン酸プロピ
ル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシプ
ロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、
３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロ
ピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３
−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオ
ン酸プロピル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−
プロポキシプロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピ
オン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、
３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロ
ピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３
−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピ
オン酸ブチルなどのエステル類が挙げられる。
【００４０】これらのうち、ジエチレングリコール類、
プロピレングリコールアルキルアセテート類が好まし
く、特に、エチレングリコールエチルメチルエーテル、
プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロ
ピレングリコールエチルエーテルアセテートが好まし
い。
プロピレングリコールアルキルアセテート類が好まし
く、特に、エチレングリコールエチルメチルエーテル、
プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロ
ピレングリコールエチルエーテルアセテートが好まし
い。
【００４１】共重合体（Ｂ）の製造に使用される開始剤
としては、一般的にラジカル重合開始剤として知られて
いるものが使用でき、例えば２,２’−アゾビスイソブ
チロニトリル、２,２’−アゾビス−（２,４−ジメチル
バレロニトリル）、２,２’−アゾビス−（４−メトキ
シ−２,４−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化合
物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシ
ド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１,１’−ビス
−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサンなどの有機
過酸化物；および過酸化水素が挙げられる。ラジカル重
合開始剤として過酸化物を用いる場合には、過酸化物を
還元剤とともに用いてレドックス型開始剤としてもよ
い。
としては、一般的にラジカル重合開始剤として知られて
いるものが使用でき、例えば２,２’−アゾビスイソブ
チロニトリル、２,２’−アゾビス−（２,４−ジメチル
バレロニトリル）、２,２’−アゾビス−（４−メトキ
シ−２,４−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化合
物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシ
ド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１,１’−ビス
−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサンなどの有機
過酸化物；および過酸化水素が挙げられる。ラジカル重
合開始剤として過酸化物を用いる場合には、過酸化物を
還元剤とともに用いてレドックス型開始剤としてもよ
い。
【００４２】（Ｃ）（Ｂ）成分以外のカチオン重合性化
合物 本発明で使用される（Ｃ）（Ｂ）成分以外のカチオン重
合性化合物としては、例えば、オキセタン基、３，４−
エポキシシクロへキシル基、又はエポキシ基を分子内に
２以上有する化合物を挙げることができる。このような
（Ｃ）（Ｂ）成分以外のカチオン重合性化合物の具体例
としては、以下のものを挙げることができる。上記オキ
セタン基を分子内に２以上有する化合物としては、３，
７−ビス（３−オキセタニル）−５−オキサ−ノナン、
３，３’−（１，３−（２−メチレニル）プロパンジイ
ルビス（オキシメチレン））ビス−（３−エチルオキセ
タン）、１，４−ビス〔（３−エチル−３−オキセタニ
ルメトキシ）メチル〕ベンゼン、１，２−ビス［（３−
エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］エタン、
１，３−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキ
シ）メチル］プロパン、エチレングリコールビス（３−
エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロ
ペンテニルビス（３−エチル−３−オキセタニルメチ
ル）エーテル、トリエチレングリコールビス（３−エチ
ル−３−オキセタニルメチル）エーテル、テトラエチレ
ングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチ
ル）エーテル、トリシクロデカンジイルジメチレンビス
（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ト
リメチロールプロパントリス（３−エチル−３−オキセ
タニルメチル）エーテル、１，４−ビス（３−エチル−
３−オキセタニルメトキシ）ブタン、１，６−ビス（３
−エチル−３−オキセタニルメトキシ）ヘキサン、ペン
タエリスリトールトリス（３−エチル−３−オキセタニ
ルメチル）エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス
（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ポ
リエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタ
ニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサ
キス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテ
ル、ジペンタエリスリトールペンタキス（３−エチル−
３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリ
トールテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチ
ル）エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３
−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテルとカプロ
ラクトンとの反応物、ジペンタエリスリトールペンタキ
ス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテルと
カプロラクトンとの反応物、ジトリメチロールプロパン
テトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エ
ーテル、ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキ
セタニルメチル）エーテルとエチレンオキサイドとの反
応物、ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセ
タニルメチル）エーテルとプロピレンオキサイドとの反
応物、水添ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オ
キセタニルメチル）エーテルとエチレンオキサイドとの
反応物、水添ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−
オキセタニルメチル）エーテルとプロピレンオキサイド
との反応物、ビスフェノールＦビス（３−エチル−３−
オキセタニルメチル）エーテルとエチレンオキサイドと
の反応物等を挙げることができる。
合物 本発明で使用される（Ｃ）（Ｂ）成分以外のカチオン重
合性化合物としては、例えば、オキセタン基、３，４−
エポキシシクロへキシル基、又はエポキシ基を分子内に
２以上有する化合物を挙げることができる。このような
（Ｃ）（Ｂ）成分以外のカチオン重合性化合物の具体例
としては、以下のものを挙げることができる。上記オキ
セタン基を分子内に２以上有する化合物としては、３，
７−ビス（３−オキセタニル）−５−オキサ−ノナン、
３，３’−（１，３−（２−メチレニル）プロパンジイ
ルビス（オキシメチレン））ビス−（３−エチルオキセ
タン）、１，４−ビス〔（３−エチル−３−オキセタニ
ルメトキシ）メチル〕ベンゼン、１，２−ビス［（３−
エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］エタン、
１，３−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキ
シ）メチル］プロパン、エチレングリコールビス（３−
エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロ
ペンテニルビス（３−エチル−３−オキセタニルメチ
ル）エーテル、トリエチレングリコールビス（３−エチ
ル−３−オキセタニルメチル）エーテル、テトラエチレ
ングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチ
ル）エーテル、トリシクロデカンジイルジメチレンビス
（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ト
リメチロールプロパントリス（３−エチル−３−オキセ
タニルメチル）エーテル、１，４−ビス（３−エチル−
３−オキセタニルメトキシ）ブタン、１，６−ビス（３
−エチル−３−オキセタニルメトキシ）ヘキサン、ペン
タエリスリトールトリス（３−エチル−３−オキセタニ
ルメチル）エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス
（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ポ
リエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタ
ニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサ
キス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテ
ル、ジペンタエリスリトールペンタキス（３−エチル−
３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリ
トールテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチ
ル）エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３
−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテルとカプロ
ラクトンとの反応物、ジペンタエリスリトールペンタキ
ス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテルと
カプロラクトンとの反応物、ジトリメチロールプロパン
テトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エ
ーテル、ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキ
セタニルメチル）エーテルとエチレンオキサイドとの反
応物、ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセ
タニルメチル）エーテルとプロピレンオキサイドとの反
応物、水添ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オ
キセタニルメチル）エーテルとエチレンオキサイドとの
反応物、水添ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−
オキセタニルメチル）エーテルとプロピレンオキサイド
との反応物、ビスフェノールＦビス（３−エチル−３−
オキセタニルメチル）エーテルとエチレンオキサイドと
の反応物等を挙げることができる。
【００４３】上記３，４−エポキシシクロヘキシル基を
分子内に２以上有する化合物としては、例えば、３，４
−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキ
シシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エ
ポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポ
キシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，
４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、、ビ
ス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチ
ル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロ
ヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロ
ヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エ
ポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポ
キサイド、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシ
シクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，
４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、ラク
トン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−
３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート
等を挙げることができる。
分子内に２以上有する化合物としては、例えば、３，４
−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキ
シシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エ
ポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポ
キシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，
４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、、ビ
ス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチ
ル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロ
ヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロ
ヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エ
ポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポ
キサイド、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシ
シクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，
４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、ラク
トン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−
３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート
等を挙げることができる。
【００４４】上記エポキシ基を２以上有する化合物とし
ては、例えば、ビスフェノールＡジグリシジルエーテ
ル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェ
ノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡ
ジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシ
ジルエーテル、水添ビスフェノールＡＤジグリシジルエ
ーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテ
ル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭
素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル等の各種ビ
スフェノール化合物のジグリシジルエーテル類；１，４
−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキ
サンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグ
リシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシ
ジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエ
ーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテ
ル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル類；エ
チレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン
などの脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のア
ルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリ
エーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；フェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂；クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂；ポリフェノール型エポキシ樹脂；脂
肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；高級脂肪
酸のグリシジルエステル類；エポキシ化大豆油、エポキ
シ化アマニ油等を挙げることができる。
ては、例えば、ビスフェノールＡジグリシジルエーテ
ル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェ
ノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡ
ジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシ
ジルエーテル、水添ビスフェノールＡＤジグリシジルエ
ーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテ
ル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭
素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル等の各種ビ
スフェノール化合物のジグリシジルエーテル類；１，４
−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキ
サンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグ
リシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシ
ジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエ
ーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテ
ル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル類；エ
チレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン
などの脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のア
ルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリ
エーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；フェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂；クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂；ポリフェノール型エポキシ樹脂；脂
肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；高級脂肪
酸のグリシジルエステル類；エポキシ化大豆油、エポキ
シ化アマニ油等を挙げることができる。
【００４５】上記エポキシ基を２以上有する化合部の市
販品としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹
脂として、エピコート１００１、同１００２、同１００
３、同１００４、同１００７、同１００９、同１０１
０、同８２８（以上、油化シェルエポキシ（株）製）
等；ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂として、エピコー
ト８０７（油化シェルエポキシ（株）製）等；フェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂として、エピコート１５
２、同１５４、同１５７Ｓ６５（以上、油化シェルエポ
キシ（株）製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（以上、日
本化薬（株）製）等；クレゾールノボラック型エポキシ
樹脂として、ＥＯＣＮ１０２、同１０３Ｓ、同１０４
Ｓ、１０２０、１０２５、１０２７（以上、日本化薬
（株）製）、エピコート１８０Ｓ７５（油化シェルエポ
キシ（株）製）等；ポリフェノール型エポキシ樹脂とし
て、エピコート１０３２Ｈ６０、同ＸＹ−４０００（以
上、油化シェルエポキシ（株）製）等；環状脂肪族エポ
キシ樹脂として、ＣＹ−１７５、同１７７、同１７９、
アラルダイトＣＹ−１８２、同１９２、１８４（以上、
チバ・スペシャルティー・ケミカルズ（株）製）、ＥＲ
Ｌ−４２３４、４２９９、４２２１、４２０６（以上、
Ｕ.Ｃ.Ｃ社製）、ショーダイン５０９（昭和電工（株）
製）、エピクロン２００、同４００（以上、大日本イン
キ（株）製）、エピコート８７１、同８７２（以上、油
化シェルエポキシ（株）製）、ＥＤ−５６６１、同５６
６２（以上、セラニーズコーティング（株）製）等；脂
肪族ポリグリシジルエーテルとしてエポライト１００Ｍ
Ｆ（共栄社化学（株）製）、エピオールＴＭＰ（日本油
脂（株）製）等が挙げられる。上記のカチオン重合性化
合物は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて用いる
ことができる。
販品としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹
脂として、エピコート１００１、同１００２、同１００
３、同１００４、同１００７、同１００９、同１０１
０、同８２８（以上、油化シェルエポキシ（株）製）
等；ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂として、エピコー
ト８０７（油化シェルエポキシ（株）製）等；フェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂として、エピコート１５
２、同１５４、同１５７Ｓ６５（以上、油化シェルエポ
キシ（株）製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（以上、日
本化薬（株）製）等；クレゾールノボラック型エポキシ
樹脂として、ＥＯＣＮ１０２、同１０３Ｓ、同１０４
Ｓ、１０２０、１０２５、１０２７（以上、日本化薬
（株）製）、エピコート１８０Ｓ７５（油化シェルエポ
キシ（株）製）等；ポリフェノール型エポキシ樹脂とし
て、エピコート１０３２Ｈ６０、同ＸＹ−４０００（以
上、油化シェルエポキシ（株）製）等；環状脂肪族エポ
キシ樹脂として、ＣＹ−１７５、同１７７、同１７９、
アラルダイトＣＹ−１８２、同１９２、１８４（以上、
チバ・スペシャルティー・ケミカルズ（株）製）、ＥＲ
Ｌ−４２３４、４２９９、４２２１、４２０６（以上、
Ｕ.Ｃ.Ｃ社製）、ショーダイン５０９（昭和電工（株）
製）、エピクロン２００、同４００（以上、大日本イン
キ（株）製）、エピコート８７１、同８７２（以上、油
化シェルエポキシ（株）製）、ＥＤ−５６６１、同５６
６２（以上、セラニーズコーティング（株）製）等；脂
肪族ポリグリシジルエーテルとしてエポライト１００Ｍ
Ｆ（共栄社化学（株）製）、エピオールＴＭＰ（日本油
脂（株）製）等が挙げられる。上記のカチオン重合性化
合物は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて用いる
ことができる。
【００４６】これらの（Ｃ）（Ｂ）成分以外のカチオン
重合性化合物のうち、好ましいものとして、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂、ポリフェノール型エポキシ
樹脂が挙げられる。
重合性化合物のうち、好ましいものとして、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂、ポリフェノール型エポキシ
樹脂が挙げられる。
【００４７】（Ｄ）硬化剤
本発明の組成物で使用される（Ｄ）硬化剤としては、多
価カルボン酸、多価カルボン酸無水物、および不飽和多
価カルボン酸無水物とオレフィン系不飽和化合物との共
重合体が挙げられる。上記多価カルボン酸としては、例
えば、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ブタンテト
ラカルボン酸、マレイン酸、イタコン酸等の脂肪族多価
カルボン酸；ヘキサヒドロフタル酸、１,２−シクロヘ
キサンジカルボン酸、１,２,４−シクロヘキサントリカ
ルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸等の脂環族
多価カルボン酸；フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、１,２,５,８−
ナフタレンテトラカルボン酸等の芳香族多価カルボン酸
を挙げることができる。これらの中では、硬化性組成物
の反応性、形成される硬化膜の耐熱性等の観点から、芳
香族多価カルボン酸が好適である。
価カルボン酸、多価カルボン酸無水物、および不飽和多
価カルボン酸無水物とオレフィン系不飽和化合物との共
重合体が挙げられる。上記多価カルボン酸としては、例
えば、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ブタンテト
ラカルボン酸、マレイン酸、イタコン酸等の脂肪族多価
カルボン酸；ヘキサヒドロフタル酸、１,２−シクロヘ
キサンジカルボン酸、１,２,４−シクロヘキサントリカ
ルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸等の脂環族
多価カルボン酸；フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、１,２,５,８−
ナフタレンテトラカルボン酸等の芳香族多価カルボン酸
を挙げることができる。これらの中では、硬化性組成物
の反応性、形成される硬化膜の耐熱性等の観点から、芳
香族多価カルボン酸が好適である。
【００４８】上記多価カルボン酸無水物としては、例え
ば、無水イタコン酸、無水コハク酸、無水シトラコン
酸、無水ドデセニルコハク酸、無水トリカルバニル酸、
無水マレイン酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチ
ルテトラヒドロフタル酸、無水ハイミック酸等の脂肪族
ジカルボン酸無水物；１,２,３,４−ブタンテトラカル
ボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無
水物等の脂環族多価カルボン酸二無水物；無水フタル
酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、無水ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸等の芳香族多価カルボン
酸無水物；エチレングリコールビス無水トリメリテー
ト、グリセリントリス無水トリメリテート等のエステル
基含有酸無水物を挙げることができる。これらのうち、
芳香族多価カルボン酸無水物、特に無水トリメリット酸
は耐熱性の高い硬化膜が得られる点で好ましい。
ば、無水イタコン酸、無水コハク酸、無水シトラコン
酸、無水ドデセニルコハク酸、無水トリカルバニル酸、
無水マレイン酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチ
ルテトラヒドロフタル酸、無水ハイミック酸等の脂肪族
ジカルボン酸無水物；１,２,３,４−ブタンテトラカル
ボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無
水物等の脂環族多価カルボン酸二無水物；無水フタル
酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、無水ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸等の芳香族多価カルボン
酸無水物；エチレングリコールビス無水トリメリテー
ト、グリセリントリス無水トリメリテート等のエステル
基含有酸無水物を挙げることができる。これらのうち、
芳香族多価カルボン酸無水物、特に無水トリメリット酸
は耐熱性の高い硬化膜が得られる点で好ましい。
【００４９】上記不飽和多価カルボン酸無水物とオレフ
ィン系不飽和化合物との共重合体を合成するために用い
られる不飽和多価カルボン酸無水物としては、例えば、
無水イタコン酸、無水シトラコン酸、無水マレイン酸、
シス１，２，３，４−テトラヒドロフタル酸無水物等の
群からなる不飽和多価カルボン酸無水物の少なくとも１
種類以上が挙げられる。また、不飽和多価カルボン酸無
水物とオレフィン系不飽和化合物との共重合体を合成す
るために用いられるオレフィン系不飽和化合物として
は、例えば、スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−メト
キシスチレン、メチルメタクリレート、ｔ−ブチルメタ
クリレート、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０
２，６］デカン−８−イル、２−メチルシクロヘキシル
アクリレート、フェニルマレイミド、シクロヘキシル等
の群からなるオレフィン系不飽和化合物の少なくとも１
種類以上が挙げられる。
ィン系不飽和化合物との共重合体を合成するために用い
られる不飽和多価カルボン酸無水物としては、例えば、
無水イタコン酸、無水シトラコン酸、無水マレイン酸、
シス１，２，３，４−テトラヒドロフタル酸無水物等の
群からなる不飽和多価カルボン酸無水物の少なくとも１
種類以上が挙げられる。また、不飽和多価カルボン酸無
水物とオレフィン系不飽和化合物との共重合体を合成す
るために用いられるオレフィン系不飽和化合物として
は、例えば、スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−メト
キシスチレン、メチルメタクリレート、ｔ−ブチルメタ
クリレート、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０
２，６］デカン−８−イル、２−メチルシクロヘキシル
アクリレート、フェニルマレイミド、シクロヘキシル等
の群からなるオレフィン系不飽和化合物の少なくとも１
種類以上が挙げられる。
【００５０】不飽和多価カルボン酸無水物とオレフィン
系不飽和化合物との共重合体中の不飽和多価カルボン酸
無水物の共重合割合は、通常１〜８０重量部、好ましく
は１０〜６０重量部である。このような共重合体を使用
することにより、平坦化性に優れた保護膜を得ることが
できる。不飽和多価カルボン酸無水物とオレフィン系不
飽和化合物との共重合体の好ましい例としては、無水マ
レイン酸共重合体／スチレン、無水シトラコン酸／メタ
クリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−
８−イル共重合体等が挙げられる。また、上記不飽和多
価カルボン酸無水物とオレフィン系不飽和化合物との共
重合体のポリスチレン換算重量平均分子量は、通常５０
０〜５０，０００、好ましくは５００〜１０、０００で
ある。このような分子量範囲の共重合体を使用すること
により、平坦化性に優れた保護膜を得ることができる。
系不飽和化合物との共重合体中の不飽和多価カルボン酸
無水物の共重合割合は、通常１〜８０重量部、好ましく
は１０〜６０重量部である。このような共重合体を使用
することにより、平坦化性に優れた保護膜を得ることが
できる。不飽和多価カルボン酸無水物とオレフィン系不
飽和化合物との共重合体の好ましい例としては、無水マ
レイン酸共重合体／スチレン、無水シトラコン酸／メタ
クリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−
８−イル共重合体等が挙げられる。また、上記不飽和多
価カルボン酸無水物とオレフィン系不飽和化合物との共
重合体のポリスチレン換算重量平均分子量は、通常５０
０〜５０，０００、好ましくは５００〜１０、０００で
ある。このような分子量範囲の共重合体を使用すること
により、平坦化性に優れた保護膜を得ることができる。
【００５１】共重合体（Ｅ）
本発明で使用される共重合体（Ｅ）は、（ｅ１）不飽和
カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、
（ｅ２）エポキシ基含有不飽和化合物、ならびに（ｅ
３）（ｅ１）および（ｅ２）以外のオレフィン系不飽和
化合物の共重合体である。本発明で用いられる共重合体
（Ｅ）は、化合物（ｅ１）から誘導される構成単位を、
好ましくは５〜４０重量部、特に好ましくは１０〜３０
重量部含有している。この構成単位が５重量部未満であ
る共重合体は、耐熱性、耐薬品性、表面硬度が低下する
傾向にあり、一方４０重量部を超える共重合体は保存安
定性が低下する場合がある。上記（ｅ１）不飽和カルボ
ン酸および／または不飽和カルボン酸無水物としては、
例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などの
モノカルボン酸；マレイン酸、フマル酸、シトラコン
酸、メサコン酸、イタコン酸などのジカルボン酸；およ
びこれらジカルボン酸の無水物が挙げられる。これらの
うち、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸など
が共重合反応性、耐熱性および入手が容易である点から
好ましく用いられる。これらの化合物（ｅ１）は、単独
であるいは組み合わせて用いられる。
カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、
（ｅ２）エポキシ基含有不飽和化合物、ならびに（ｅ
３）（ｅ１）および（ｅ２）以外のオレフィン系不飽和
化合物の共重合体である。本発明で用いられる共重合体
（Ｅ）は、化合物（ｅ１）から誘導される構成単位を、
好ましくは５〜４０重量部、特に好ましくは１０〜３０
重量部含有している。この構成単位が５重量部未満であ
る共重合体は、耐熱性、耐薬品性、表面硬度が低下する
傾向にあり、一方４０重量部を超える共重合体は保存安
定性が低下する場合がある。上記（ｅ１）不飽和カルボ
ン酸および／または不飽和カルボン酸無水物としては、
例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などの
モノカルボン酸；マレイン酸、フマル酸、シトラコン
酸、メサコン酸、イタコン酸などのジカルボン酸；およ
びこれらジカルボン酸の無水物が挙げられる。これらの
うち、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸など
が共重合反応性、耐熱性および入手が容易である点から
好ましく用いられる。これらの化合物（ｅ１）は、単独
であるいは組み合わせて用いられる。
【００５２】本発明で用いられる共重合体（Ｅ）は、化
合物（ｅ２）から誘導される構成単位を、好ましくは１
０〜７０重量部、特に好ましくは２０〜６０重量部含有
している。この構成単位が１０重量部未満の場合は得ら
れる保護膜の耐熱性、表面硬度が低下する傾向にあり、
一方７０重量部を超える場合は、そのような共重合体を
含有する組成物の保存安定性が低下する傾向にある。
（ｅ２）エポキシ基含有不飽和化合物は、前述共重合体
（Ｂ）に用いられる化合物（ｂ１）として例示したもの
と同様のものを使用することができる。
合物（ｅ２）から誘導される構成単位を、好ましくは１
０〜７０重量部、特に好ましくは２０〜６０重量部含有
している。この構成単位が１０重量部未満の場合は得ら
れる保護膜の耐熱性、表面硬度が低下する傾向にあり、
一方７０重量部を超える場合は、そのような共重合体を
含有する組成物の保存安定性が低下する傾向にある。
（ｅ２）エポキシ基含有不飽和化合物は、前述共重合体
（Ｂ）に用いられる化合物（ｂ１）として例示したもの
と同様のものを使用することができる。
【００５３】本発明で用いられる共重合体（Ｅ）は、化
合物（ｅ３）から誘導される構成単位を、好ましくは１
０〜７０重量部、特に好ましくは２０〜５０重量部含有
している。この構成単位が１０重量部未満の場合は、そ
のような共重合体を含有する組成物の保存安定性が低下
する傾向にあり、一方７０重量部を超える場合は得られ
る保護膜の耐熱性、表面硬度が低下する場合がある。
（ｅ３）（ｅ１）および（ｅ２）以外のオレフィン系不
飽和化合物は、前述の共重合体（Ｂ）に用いられる化合
物（ｂ２）として例示したものと同様のものを使用する
ことができる。
合物（ｅ３）から誘導される構成単位を、好ましくは１
０〜７０重量部、特に好ましくは２０〜５０重量部含有
している。この構成単位が１０重量部未満の場合は、そ
のような共重合体を含有する組成物の保存安定性が低下
する傾向にあり、一方７０重量部を超える場合は得られ
る保護膜の耐熱性、表面硬度が低下する場合がある。
（ｅ３）（ｅ１）および（ｅ２）以外のオレフィン系不
飽和化合物は、前述の共重合体（Ｂ）に用いられる化合
物（ｂ２）として例示したものと同様のものを使用する
ことができる。
【００５４】本発明に用いられる共重合体（Ｅ）は、ポ
リスチレン換算重量平均分子量が、好ましくは３，００
０〜１００，０００、さらに好ましくは３，０００〜５
０，０００、特に好ましくは３，０００〜２０，０００
である。この範囲の分子量を持つ共重合体を使用するこ
とにより、平坦化性に優れた保護膜を得ることができ
る。本発明で使用される共重合体（Ｅ）は、上記（ｅ
１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸
無水物、（ｅ２）エポキシ基含有不飽和化合物、ならび
に（ｅ３）（ｅ１）および（ｅ２）以外のオレフィン系
不飽和化合物を、適当な溶媒および重合開始剤の存在
下、例えばラジカル重合によって合成することができ
る。共重合体（Ｅ）の合成に使用できる溶媒および重合
開始剤としては、前述の共重合体（Ｂ）の製造に使用さ
れる溶媒および重合開始剤として例示したものと同様の
ものを使用することができる。
リスチレン換算重量平均分子量が、好ましくは３，００
０〜１００，０００、さらに好ましくは３，０００〜５
０，０００、特に好ましくは３，０００〜２０，０００
である。この範囲の分子量を持つ共重合体を使用するこ
とにより、平坦化性に優れた保護膜を得ることができ
る。本発明で使用される共重合体（Ｅ）は、上記（ｅ
１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸
無水物、（ｅ２）エポキシ基含有不飽和化合物、ならび
に（ｅ３）（ｅ１）および（ｅ２）以外のオレフィン系
不飽和化合物を、適当な溶媒および重合開始剤の存在
下、例えばラジカル重合によって合成することができ
る。共重合体（Ｅ）の合成に使用できる溶媒および重合
開始剤としては、前述の共重合体（Ｂ）の製造に使用さ
れる溶媒および重合開始剤として例示したものと同様の
ものを使用することができる。
【００５５】（Ｆ）（Ｅ）成分以外のカチオン重合性化
合物 本発明に使用される（Ｆ）（Ｅ）成分以外のカチオン重
合性化合物としては、前述の（Ｃ）成分として例示した
ものと同様のものを使用することができる。
合物 本発明に使用される（Ｆ）（Ｅ）成分以外のカチオン重
合性化合物としては、前述の（Ｃ）成分として例示した
ものと同様のものを使用することができる。
【００５６】（Ｇ）熱および／または放射線により酸を
発生する化合物 本発明に使用される（Ｇ）成分は、感放射線酸発生剤ま
たは感熱酸発生剤である。感放射線酸発生剤としては、
ジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウ
ム塩類、ジアリールホスホニウム塩類等が挙げられ、こ
れらを好ましく使用できる。また、感熱酸発生剤として
は、スルホニウム塩類（前述のトリアリールスルホニウ
ム塩類を除く）、ベンゾチアゾニウム塩類、アンモニウ
ム塩類、ホスホニウム塩類等が挙げられ、これらのうち
でもスルホニウム塩類（前述のトリアリールスルホニウ
ム塩類を除く）、ベンゾチアゾニウム塩類が好ましく用
いられる。
発生する化合物 本発明に使用される（Ｇ）成分は、感放射線酸発生剤ま
たは感熱酸発生剤である。感放射線酸発生剤としては、
ジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウ
ム塩類、ジアリールホスホニウム塩類等が挙げられ、こ
れらを好ましく使用できる。また、感熱酸発生剤として
は、スルホニウム塩類（前述のトリアリールスルホニウ
ム塩類を除く）、ベンゾチアゾニウム塩類、アンモニウ
ム塩類、ホスホニウム塩類等が挙げられ、これらのうち
でもスルホニウム塩類（前述のトリアリールスルホニウ
ム塩類を除く）、ベンゾチアゾニウム塩類が好ましく用
いられる。
【００５７】上記ジアリールヨードニウム塩類として
は、例えばジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレ
ート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネ
ート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスル
ホナート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテ
ート、ジフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナ
ート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムテト
ラフルオロボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨ
ードニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシ
フェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリ
フルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルフ
ェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、４−メト
キシフェニルフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスル
ホナート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨー
ドニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ
−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセ
ネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨード
ニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス（４−ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロア
セテート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨー
ドニウム−ｐ−トルエンスルホナート等が挙げられる。
これらのうちでも、ジフェニルヨードニウムヘキサフル
オロホスホネートが好適に用いられる。
は、例えばジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレ
ート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネ
ート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスル
ホナート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテ
ート、ジフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナ
ート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムテト
ラフルオロボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨ
ードニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシ
フェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリ
フルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルフ
ェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、４−メト
キシフェニルフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスル
ホナート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨー
ドニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ
−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセ
ネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨード
ニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス（４−ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロア
セテート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨー
ドニウム−ｐ−トルエンスルホナート等が挙げられる。
これらのうちでも、ジフェニルヨードニウムヘキサフル
オロホスホネートが好適に用いられる。
【００５８】上記トリアリールスルホニウム塩類として
は、例えばトリフェニルスルホニウムテトラフルオロボ
レート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホス
ホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロア
ルセネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメ
タンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフル
オロアセテート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トル
エンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルス
ルホニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェ
ニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネー
ト、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキ
サフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルジフェ
ニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４
−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオ
ロアセテート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホ
ニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−フェニルチオ
フェニルジフェニルテトラフルオロボレート、４−フェ
ニルチオフェニルジフェニルヘキサフルオロホスホネー
ト、４−フェニルチオフェニルジフェニルヘキサフルオ
ロアルセネート、４−フェニルチオフェニルジフェニル
トリフルオロメタンスルホナート、４−フェニルチオフ
ェニルジフェニルトリフルオロアセテート、４−フェニ
ルチオフェニルジフェニル−ｐ−トルエンスルホナート
等が挙げられる。これらのうちでも、トリフェニルスル
ホニウムトリフルオロメタンスルホナートが好適に用い
られる。上記ジアリールホスホニウム塩類としては、
（１−６−η−クメン）（η−シクロペンタジエニル）
鉄ヘキサフルオロホスホネート等を挙げることができ
る。
は、例えばトリフェニルスルホニウムテトラフルオロボ
レート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホス
ホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロア
ルセネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメ
タンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフル
オロアセテート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トル
エンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルス
ルホニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェ
ニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネー
ト、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキ
サフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルジフェ
ニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４
−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオ
ロアセテート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホ
ニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−フェニルチオ
フェニルジフェニルテトラフルオロボレート、４−フェ
ニルチオフェニルジフェニルヘキサフルオロホスホネー
ト、４−フェニルチオフェニルジフェニルヘキサフルオ
ロアルセネート、４−フェニルチオフェニルジフェニル
トリフルオロメタンスルホナート、４−フェニルチオフ
ェニルジフェニルトリフルオロアセテート、４−フェニ
ルチオフェニルジフェニル−ｐ−トルエンスルホナート
等が挙げられる。これらのうちでも、トリフェニルスル
ホニウムトリフルオロメタンスルホナートが好適に用い
られる。上記ジアリールホスホニウム塩類としては、
（１−６−η−クメン）（η−シクロペンタジエニル）
鉄ヘキサフルオロホスホネート等を挙げることができ
る。
【００５９】感放射線性酸発生剤として好適に用いられ
る酸発生剤の市販品としては、ジアリールヨードニウム
塩類として、ユニオンカーバイド社製 商品名：ＵＶＩ
−６９５０、ＵＶＩ−６９７０、ＵＶＩ−６９７４、Ｕ
ＶＩ−６９９０、みどり化学（株）製 商品名：ＭＰＩ
−１０３、ＢＢＩ−１０３等を挙げることができる。ま
た、トリアリールスルホニウム塩類として、旭電化工業
（株）製 商品名：アデカオプトマーＳＰ−１５０、Ｓ
Ｐ−１５１、ＳＰ−１７０、ＳＰ−１７１、日本曹達
（株）製 商品名：ＣＩ−２４８１、ＣＩ−２６２４、
ＣＩ−２６３９、ＣＩ−２０６４、みどり化学（株）製
商品名：ＤＴＳ−１０２、ＤＴＳ−１０３、ＮＡＴ−
１０３、ＮＤＳ−１０３、ＴＰＳ−１０３、ＭＤＳ−１
０３、サートマー社製 商品名：ＣＤ−１０１０、ＣＤ
−１０１１、ＣＤ−１０１２等を挙げることができる。
また、ジアリールホスホニウム塩類としてチバスペシャ
ルティケミカルズ（株）製 商品名：イルガキュアー２
６１、日本化薬（株）製 商品名：ＰＣＩ−０６１Ｔ、
ＰＣＩ−０６２Ｔ、ＰＣＩ−０２０Ｔ、ＰＣＩ−０２２
Ｔ等を挙げることができる。これらのうち、ユニオンカ
ーバイド社製 商品名：ＵＶＩ−６９７０、ＵＶＩ−６
９７４、ＵＶＩ−６９９０、旭電化工業（株）製 商品
名：アデカオプトマーＳＰ−１７０、ＳＰ−１７１、サ
ートマー社製 商品名：ＣＤ−１０１２、みどり化学
（株）製 商品名：ＭＰＩ−１０３が、得られる保護膜
が高い表面硬度を有することから好ましい。
る酸発生剤の市販品としては、ジアリールヨードニウム
塩類として、ユニオンカーバイド社製 商品名：ＵＶＩ
−６９５０、ＵＶＩ−６９７０、ＵＶＩ−６９７４、Ｕ
ＶＩ−６９９０、みどり化学（株）製 商品名：ＭＰＩ
−１０３、ＢＢＩ−１０３等を挙げることができる。ま
た、トリアリールスルホニウム塩類として、旭電化工業
（株）製 商品名：アデカオプトマーＳＰ−１５０、Ｓ
Ｐ−１５１、ＳＰ−１７０、ＳＰ−１７１、日本曹達
（株）製 商品名：ＣＩ−２４８１、ＣＩ−２６２４、
ＣＩ−２６３９、ＣＩ−２０６４、みどり化学（株）製
商品名：ＤＴＳ−１０２、ＤＴＳ−１０３、ＮＡＴ−
１０３、ＮＤＳ−１０３、ＴＰＳ−１０３、ＭＤＳ−１
０３、サートマー社製 商品名：ＣＤ−１０１０、ＣＤ
−１０１１、ＣＤ−１０１２等を挙げることができる。
また、ジアリールホスホニウム塩類としてチバスペシャ
ルティケミカルズ（株）製 商品名：イルガキュアー２
６１、日本化薬（株）製 商品名：ＰＣＩ−０６１Ｔ、
ＰＣＩ−０６２Ｔ、ＰＣＩ−０２０Ｔ、ＰＣＩ−０２２
Ｔ等を挙げることができる。これらのうち、ユニオンカ
ーバイド社製 商品名：ＵＶＩ−６９７０、ＵＶＩ−６
９７４、ＵＶＩ−６９９０、旭電化工業（株）製 商品
名：アデカオプトマーＳＰ−１７０、ＳＰ−１７１、サ
ートマー社製 商品名：ＣＤ−１０１２、みどり化学
（株）製 商品名：ＭＰＩ−１０３が、得られる保護膜
が高い表面硬度を有することから好ましい。
【００６０】上記感熱酸発生剤のうち、スルホニウム塩
類（前記のトリアリールスルホニウム塩類を除く）の具
体例としては、４−アセトフェニルジメチルスルホニウ
ムヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェ
ニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、ジメチル−４−（ベンジルオキシカルボニルオキ
シ）フェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネ
ート、ジメチル−４−（ベンゾイルオキシ）フェニルス
ルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル
−４−（ベンゾイルオキシ）フェニルスルホニウム ヘ
キサフルオロアルセネート、ジメチル−３−クロロ−４
−アセトキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオロア
ンチモネートなどのアルキルスルホニウム塩；ベンジル
−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサ
フルオロアンチモネート、ベンジル−４−ヒドロキシフ
ェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェー
ト、４−アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウ
ム ヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−メ
トキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロア
ンチモネート、ベンジル−２−メチル−４−ヒドロキシ
フェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモ
ネート、ベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニ
ルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネート、
４−メトキシベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチル
スルホニウム ヘキサフルオロホスフェートなどのベン
ジルスルホニウム塩；
類（前記のトリアリールスルホニウム塩類を除く）の具
体例としては、４−アセトフェニルジメチルスルホニウ
ムヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェ
ニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、ジメチル−４−（ベンジルオキシカルボニルオキ
シ）フェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネ
ート、ジメチル−４−（ベンゾイルオキシ）フェニルス
ルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル
−４−（ベンゾイルオキシ）フェニルスルホニウム ヘ
キサフルオロアルセネート、ジメチル−３−クロロ−４
−アセトキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオロア
ンチモネートなどのアルキルスルホニウム塩；ベンジル
−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサ
フルオロアンチモネート、ベンジル−４−ヒドロキシフ
ェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェー
ト、４−アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウ
ム ヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−メ
トキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロア
ンチモネート、ベンジル−２−メチル−４−ヒドロキシ
フェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモ
ネート、ベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニ
ルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネート、
４−メトキシベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチル
スルホニウム ヘキサフルオロホスフェートなどのベン
ジルスルホニウム塩；
【００６１】ジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスル
ホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル
−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオ
ロホスフェート、４−アセトキシフェニルジベンジルス
ルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジ
ル−４−メトキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、ジベンジル−３−クロロ−４−ヒド
ロキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネ
ート、ジベンジル−３−メチル−４−ヒドロキシ−５−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、ベンジル−４−メトキシベンジル−
４−ヒドロキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオロ
ホスフェートなどのジベンジルスルホニウム塩；ｐ−ク
ロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニ
ウム ヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−ニトロベン
ジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘ
キサフルオロアンチモネート、ｐ−クロロベンジル−４
−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフル
オロホスフェート、ｐ−ニトロベンジル−３−メチル−
４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフ
ルオロアンチモネート、３,５−ジクロロベンジル−４
−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオ
ロアンチモネート、ｏ−クロロベンジル−３−クロロ−
４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフ
ルオロアンチモネートなどの置換ベンジルスルホニウム
塩等が挙げられる。これらのうちでも４−アセトキシフ
ェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネ
ート、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホ
ニウム ヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキ
シフェニルベンジルメチルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、ジベンジル−４−ヒドロキシフェニ
ルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、４−
アセトキシフェニルベンジルスルホニウム ヘキサフル
オロアンチモネート等が好ましく用いられる。
ホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル
−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオ
ロホスフェート、４−アセトキシフェニルジベンジルス
ルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジ
ル−４−メトキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、ジベンジル−３−クロロ−４−ヒド
ロキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネ
ート、ジベンジル−３−メチル−４−ヒドロキシ−５−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、ベンジル−４−メトキシベンジル−
４−ヒドロキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオロ
ホスフェートなどのジベンジルスルホニウム塩；ｐ−ク
ロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニ
ウム ヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−ニトロベン
ジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘ
キサフルオロアンチモネート、ｐ−クロロベンジル−４
−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフル
オロホスフェート、ｐ−ニトロベンジル−３−メチル−
４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフ
ルオロアンチモネート、３,５−ジクロロベンジル−４
−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオ
ロアンチモネート、ｏ−クロロベンジル−３−クロロ−
４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフ
ルオロアンチモネートなどの置換ベンジルスルホニウム
塩等が挙げられる。これらのうちでも４−アセトキシフ
ェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネ
ート、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホ
ニウム ヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキ
シフェニルベンジルメチルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、ジベンジル−４−ヒドロキシフェニ
ルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、４−
アセトキシフェニルベンジルスルホニウム ヘキサフル
オロアンチモネート等が好ましく用いられる。
【００６２】上記ベンゾチアゾニウム塩類としては３−
ベンジルベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモ
ネート、３−ベンジルベンゾチアゾニウム ヘキサフル
オロホスフェート、３−ベンジルベンゾチアゾニウム
テトラフルオロボレート、３−（ｐ−メトキシベンジ
ル）ベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネー
ト、３−ベンジル−２−メチルチオベンゾチアゾニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジル−５−
クロロベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネ
ートなどのベンジルベンゾチアゾニウム塩が挙げられ
る。これらのうち、３−ベンジルベンゾチアゾニウム
ヘキサフルオロアンチモネート等が好ましく用いられ
る。
ベンジルベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモ
ネート、３−ベンジルベンゾチアゾニウム ヘキサフル
オロホスフェート、３−ベンジルベンゾチアゾニウム
テトラフルオロボレート、３−（ｐ−メトキシベンジ
ル）ベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネー
ト、３−ベンジル−２−メチルチオベンゾチアゾニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジル−５−
クロロベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネ
ートなどのベンジルベンゾチアゾニウム塩が挙げられ
る。これらのうち、３−ベンジルベンゾチアゾニウム
ヘキサフルオロアンチモネート等が好ましく用いられ
る。
【００６３】感熱酸発生剤として好適に用いられる酸発
生剤の市販品としては、アルキルスルホニウム塩とし
て、旭電化工業（株）製 商品名：アデカオプトンＣＰ
−６６、ＣＰ−７７を挙げることができる。また、ベン
ジルスルホニウム塩として、三新化学工業（株）製 商
品名：ＳＩ−６０、ＳＩ−８０、ＳＩ−１００、ＳＩ−
１１０、ＳＩ−１４５、ＳＩ−１５０、ＳＩ−８０Ｌ、
ＳＩ−１００Ｌ、ＳＩ−１１０Ｌを挙げることができ
る。これらのうち、ＳＩ−８０、ＳＩ−１００、ＳＩ−
１１０が、得られる保護膜が高い表面硬度を有すること
から好ましい。
生剤の市販品としては、アルキルスルホニウム塩とし
て、旭電化工業（株）製 商品名：アデカオプトンＣＰ
−６６、ＣＰ−７７を挙げることができる。また、ベン
ジルスルホニウム塩として、三新化学工業（株）製 商
品名：ＳＩ−６０、ＳＩ−８０、ＳＩ−１００、ＳＩ−
１１０、ＳＩ−１４５、ＳＩ−１５０、ＳＩ−８０Ｌ、
ＳＩ−１００Ｌ、ＳＩ−１１０Ｌを挙げることができ
る。これらのうち、ＳＩ−８０、ＳＩ−１００、ＳＩ−
１１０が、得られる保護膜が高い表面硬度を有すること
から好ましい。
【００６４】これら（Ｇ）成分の使用量は、共重合体
（Ｅ）１００重量部当たり好ましくは０．０５〜２０重
量部、さらに好ましくは０．１〜１０重量部である。こ
の範囲の使用において良好な硬化特性が得られ、硬化後
の膜の諸物性を損なうことがない。
（Ｅ）１００重量部当たり好ましくは０．０５〜２０重
量部、さらに好ましくは０．１〜１０重量部である。こ
の範囲の使用において良好な硬化特性が得られ、硬化後
の膜の諸物性を損なうことがない。
【００６５】組成物
次に、本発明の組成物について説明する。本発明の組成
物は、各成分を、好ましくは後述する適当な溶媒中に均
一に溶解または分散することにより調製される。本発明
の組成物の実施態様としては、以下の各場合を挙げるこ
とができる。 前述の（Ａ）粒子、共重合体（Ｂ）、および（Ｃ）
（Ｂ）成分以外のカチオン重合性化合物を必須成分と
し、場合により後述する任意添加成分を含有する組成物
（以下、「第１の組成物」ということがある。）。 上記第１の組成物にさらに（Ｄ）硬化剤を添加した組
成物。 前述の（Ａ）粒子、共重合体（Ｅ）、および（Ｆ）
（Ｅ）成分以外のカチオン重合性化合物を必須成分と
し、場合により後述する任意添加成分を含有する組成物
（以下、「第２の組成物」ということがある。）。 上記第２の組成物にさらに（Ｇ）熱および／または放
射線により酸を発生する化合物を含有させた組成物（以
下、「第３の組成物」ということがある。）。
物は、各成分を、好ましくは後述する適当な溶媒中に均
一に溶解または分散することにより調製される。本発明
の組成物の実施態様としては、以下の各場合を挙げるこ
とができる。 前述の（Ａ）粒子、共重合体（Ｂ）、および（Ｃ）
（Ｂ）成分以外のカチオン重合性化合物を必須成分と
し、場合により後述する任意添加成分を含有する組成物
（以下、「第１の組成物」ということがある。）。 上記第１の組成物にさらに（Ｄ）硬化剤を添加した組
成物。 前述の（Ａ）粒子、共重合体（Ｅ）、および（Ｆ）
（Ｅ）成分以外のカチオン重合性化合物を必須成分と
し、場合により後述する任意添加成分を含有する組成物
（以下、「第２の組成物」ということがある。）。 上記第２の組成物にさらに（Ｇ）熱および／または放
射線により酸を発生する化合物を含有させた組成物（以
下、「第３の組成物」ということがある。）。
【００６６】第１の組成物中の各成分の配合割合は、以
下の通りである。 （Ａ）粒子の配合量は、共重合体（Ｂ）１００重量部に
対して通常１〜５０重量部、好ましくは５〜４０重量部
の量で用いられる。この値が１重量部未満であると、得
られる保護膜の硬度が不十分となる場合があり、一方こ
の値が５０重量部を越えると、塗膜の形成工程において
困難を生ずる場合がある。第１の組成物中に含有される
（Ｃ）（Ｂ）成分以外のカチオン重合性化合物の配合割
合は、共重合体（Ｂ）１００重量部に対して通常３〜１
００重量部、好ましくは５〜５０重量部の量で用いられ
る。この範囲の使用量において、十分な硬度を有する保
護膜が得られる。
下の通りである。 （Ａ）粒子の配合量は、共重合体（Ｂ）１００重量部に
対して通常１〜５０重量部、好ましくは５〜４０重量部
の量で用いられる。この値が１重量部未満であると、得
られる保護膜の硬度が不十分となる場合があり、一方こ
の値が５０重量部を越えると、塗膜の形成工程において
困難を生ずる場合がある。第１の組成物中に含有される
（Ｃ）（Ｂ）成分以外のカチオン重合性化合物の配合割
合は、共重合体（Ｂ）１００重量部に対して通常３〜１
００重量部、好ましくは５〜５０重量部の量で用いられ
る。この範囲の使用量において、十分な硬度を有する保
護膜が得られる。
【００６７】上記第１の組成物は、長期安定性に優れ
る。上記第１の組成物は、使用に際して（Ｄ）硬化剤を
さらに添加した後、後述する方法により保護膜を形成す
ることができる。このようにして形成された保護膜は、
密着性、表面硬度、透明性、耐熱性、耐光性、耐溶剤性
などを満たすと共に、熱のかかった状態で荷重によって
凹まず、および下地基板上に形成されたカラーフィルタ
ーの段差を平坦化する性能に優れる。第１の組成物にさ
らに添加される（Ｄ）硬化剤は通常、適当な溶媒に溶解
した状態で使用される。溶液中の（Ｄ）硬化剤の濃度
は、通常５〜５０重量％、好ましくは１０〜４０重量％
である。ここで使用できる溶媒は、前述の共重合体
（Ｂ）の製造で使用される溶媒として例示したものと同
様なものを使用できる。硬化剤の添加量は、共重合体
（Ｂ）１００重量部当たり通常２０〜６０重量部、好ま
しくは２０〜５０重量部である。この範囲の使用量にお
いて、組成物は良好な硬化特性を示すこととなり、得ら
れる保護膜の諸物性を損なうことがない。なお、第１の
組成物にさらに（Ｄ）硬化剤を添加した組成物は、通常
２４時間以内に使用に供される。
る。上記第１の組成物は、使用に際して（Ｄ）硬化剤を
さらに添加した後、後述する方法により保護膜を形成す
ることができる。このようにして形成された保護膜は、
密着性、表面硬度、透明性、耐熱性、耐光性、耐溶剤性
などを満たすと共に、熱のかかった状態で荷重によって
凹まず、および下地基板上に形成されたカラーフィルタ
ーの段差を平坦化する性能に優れる。第１の組成物にさ
らに添加される（Ｄ）硬化剤は通常、適当な溶媒に溶解
した状態で使用される。溶液中の（Ｄ）硬化剤の濃度
は、通常５〜５０重量％、好ましくは１０〜４０重量％
である。ここで使用できる溶媒は、前述の共重合体
（Ｂ）の製造で使用される溶媒として例示したものと同
様なものを使用できる。硬化剤の添加量は、共重合体
（Ｂ）１００重量部当たり通常２０〜６０重量部、好ま
しくは２０〜５０重量部である。この範囲の使用量にお
いて、組成物は良好な硬化特性を示すこととなり、得ら
れる保護膜の諸物性を損なうことがない。なお、第１の
組成物にさらに（Ｄ）硬化剤を添加した組成物は、通常
２４時間以内に使用に供される。
【００６８】上記第２の組成物中の各成分の配合割合
は、以下の通りである。 （Ａ）粒子の配合量は、共重合体（Ｅ）１００重量部に
対して通常１〜５０重量部、好ましくは５〜４０重量部
の量で用いられる。。の値が１重量部未満であると、得
られる保護膜の硬度が不十分となる場合があり、一方こ
の値が５０重量部を越えると、塗膜の形成工程において
困難を生ずる場合がある。第２の組成物中に含有される
（Ｆ）（Ｅ）成分以外のカチオン重合性化合物の配合割
合は、共重合体（Ｅ）１００重量部に対して通常３〜１
００重量部、好ましくは５〜５０重量部の量で用いられ
る。この範囲の使用量において、十分な硬度の保護膜を
得ることができる。
は、以下の通りである。 （Ａ）粒子の配合量は、共重合体（Ｅ）１００重量部に
対して通常１〜５０重量部、好ましくは５〜４０重量部
の量で用いられる。。の値が１重量部未満であると、得
られる保護膜の硬度が不十分となる場合があり、一方こ
の値が５０重量部を越えると、塗膜の形成工程において
困難を生ずる場合がある。第２の組成物中に含有される
（Ｆ）（Ｅ）成分以外のカチオン重合性化合物の配合割
合は、共重合体（Ｅ）１００重量部に対して通常３〜１
００重量部、好ましくは５〜５０重量部の量で用いられ
る。この範囲の使用量において、十分な硬度の保護膜を
得ることができる。
【００６９】上記第２の組成物は、（Ｇ）熱および／ま
たは放射線により酸を発生する化合物をさらに含有さ
せ、第３の組成物とすることができる。第３の組成物に
含有される（Ｇ）熱および／または放射線により酸を発
生する化合物の量は、共重合体（Ｅ）１００重量部当た
り、通常２０重量部以下、好ましくは０．０５〜２０重
量部、さらに好ましくは０．１〜１０重量部である。こ
の範囲の使用量において組成物は良好な硬化特性を示
し、得られる保護膜の諸物性を損なうことはない。上記
第２または第３の組成物は、後述する方法により保護膜
を形成することができる。このようにして形成された保
護膜は、密着性、表面硬度、透明性、耐熱性、耐光性、
耐溶剤性などを満たすと共に、熱のかかった状態で荷重
によって凹まず、および下地基板上に形成されたカラー
フィルターの段差を平坦化する性能に優れる。
たは放射線により酸を発生する化合物をさらに含有さ
せ、第３の組成物とすることができる。第３の組成物に
含有される（Ｇ）熱および／または放射線により酸を発
生する化合物の量は、共重合体（Ｅ）１００重量部当た
り、通常２０重量部以下、好ましくは０．０５〜２０重
量部、さらに好ましくは０．１〜１０重量部である。こ
の範囲の使用量において組成物は良好な硬化特性を示
し、得られる保護膜の諸物性を損なうことはない。上記
第２または第３の組成物は、後述する方法により保護膜
を形成することができる。このようにして形成された保
護膜は、密着性、表面硬度、透明性、耐熱性、耐光性、
耐溶剤性などを満たすと共に、熱のかかった状態で荷重
によって凹まず、および下地基板上に形成されたカラー
フィルターの段差を平坦化する性能に優れる。
【００７０】任意添加成分
本発明の組成物は、上記した諸態様をとりうるが、本発
明の目的を損なわない範囲で必要に応じて上記以外の他
の成分を含有していてもよい。このような他の成分とし
ては、例えば、界面活性剤、接着助剤等を挙げることが
できる。上記界面活性剤は、組成物の塗布性を向上する
ために添加される。 このような界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面
活性剤； シリコーン系界面活性剤；ポリオキシエチレンアルキル
エーテル類、ポリオキシエチレンアリールエーテル類、
ポリオキシエチレンジアルキルエステル類などのノニオ
ン系界面活性剤等が挙げられる。ポリオキシエチレンア
ルキルエーテル類としてはポリオキシエチレンラウリル
エーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポ
リオキシエチレンオレイルエーテル等が挙げられ、ポリ
オキシエチレンアリールエーテル類としては、ポリオキ
シエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチ
レンノニルフェニルエーテルが挙げられ、ポリオキシエ
チレンジアルキルエステル類としては、ポリオキシエチ
レンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレート
等が挙げられる。
明の目的を損なわない範囲で必要に応じて上記以外の他
の成分を含有していてもよい。このような他の成分とし
ては、例えば、界面活性剤、接着助剤等を挙げることが
できる。上記界面活性剤は、組成物の塗布性を向上する
ために添加される。 このような界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面
活性剤； シリコーン系界面活性剤；ポリオキシエチレンアルキル
エーテル類、ポリオキシエチレンアリールエーテル類、
ポリオキシエチレンジアルキルエステル類などのノニオ
ン系界面活性剤等が挙げられる。ポリオキシエチレンア
ルキルエーテル類としてはポリオキシエチレンラウリル
エーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポ
リオキシエチレンオレイルエーテル等が挙げられ、ポリ
オキシエチレンアリールエーテル類としては、ポリオキ
シエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチ
レンノニルフェニルエーテルが挙げられ、ポリオキシエ
チレンジアルキルエステル類としては、ポリオキシエチ
レンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレート
等が挙げられる。
【００７１】このような界面活性剤の市販品としては、
フッ素系界面活性剤として、ＢＭＣＨＩＭＩＥ社製 商
品名：ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、大日本インキ
化学工業（株）社製 商品名：メガファックＦ１４２
Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３、住友スリー
エム（株）社製 商品名：フロラードＦＣ−１３５、同
ＦＣ−１７０Ｃ、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１、旭
硝子（株）社製 商品名：サーフロンＳ−１１２、同Ｓ
−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１，同Ｓ−１４
５、同Ｓ−３８２，同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、
同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同
ＳＣ−１０６等；シリコーン系界面活性剤として、東レ
シリコーン（株）社製 商品名：ＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ
−１９０、ＳＨ−１９３、ＳＺ−６０３２、ＳＦ−８４
２８、ＤＣ−５７、ＤＣ−１９０、信越化学工業（株）
社製 商品名：ＫＰ３４１、新秋田化成（株）社製 商
品名：エフトップＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３
５２等；その他の界面活性剤として、共栄社化学（株）
社製 商品名：（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフロ
ーＮｏ.５７、同Ｎｏ．９０等を挙げることができる。
フッ素系界面活性剤として、ＢＭＣＨＩＭＩＥ社製 商
品名：ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、大日本インキ
化学工業（株）社製 商品名：メガファックＦ１４２
Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３、住友スリー
エム（株）社製 商品名：フロラードＦＣ−１３５、同
ＦＣ−１７０Ｃ、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１、旭
硝子（株）社製 商品名：サーフロンＳ−１１２、同Ｓ
−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１，同Ｓ−１４
５、同Ｓ−３８２，同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、
同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同
ＳＣ−１０６等；シリコーン系界面活性剤として、東レ
シリコーン（株）社製 商品名：ＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ
−１９０、ＳＨ−１９３、ＳＺ−６０３２、ＳＦ−８４
２８、ＤＣ−５７、ＤＣ−１９０、信越化学工業（株）
社製 商品名：ＫＰ３４１、新秋田化成（株）社製 商
品名：エフトップＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３
５２等；その他の界面活性剤として、共栄社化学（株）
社製 商品名：（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフロ
ーＮｏ.５７、同Ｎｏ．９０等を挙げることができる。
【００７２】これらの界面活性剤の添加量は、上記第１
の組成物に添加する場合にあっては共重合体（Ｂ）１０
０重量部当たり、上記第２の組成物に添加する場合にあ
っては共重合体（Ｅ）１００重量部当たり、好ましくは
５重量部以下、より好ましくは２重量部以下で使用され
る。界面活性剤の量が５重量部を越える場合は、、塗布
工程において塗膜の膜荒れが生じやすくなる場合があ
る。
の組成物に添加する場合にあっては共重合体（Ｂ）１０
０重量部当たり、上記第２の組成物に添加する場合にあ
っては共重合体（Ｅ）１００重量部当たり、好ましくは
５重量部以下、より好ましくは２重量部以下で使用され
る。界面活性剤の量が５重量部を越える場合は、、塗布
工程において塗膜の膜荒れが生じやすくなる場合があ
る。
【００７３】上記接着助剤は、形成される保護膜と基板
との密着性を向上させるために添加される。このような
接着助剤としては、例えばカルボキシル基、メタクリロ
イル基、イソシアネート基、エポキシ基などの反応性置
換基を有する官能性シランカップリング剤が好ましく用
いられる。具体的にはトリメトキシシリル安息香酸、γ
−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニル
トリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ
−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３,４
−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン
などが挙げられる。このような接着助剤は、上記第１の
組成物に添加する場合にあっては共重合体（Ｂ）１００
重量部当たり、上記第２の組成物に添加する場合にあっ
ては共重合体（Ｅ）１００重量部当たり、好ましくは３
０重量部以下、より好ましくは２５重量部以下の量で用
いられる。接着助剤の量が３０重量部を超える場合は、
得られる保護膜の耐熱性が不十分となる場合がある。
との密着性を向上させるために添加される。このような
接着助剤としては、例えばカルボキシル基、メタクリロ
イル基、イソシアネート基、エポキシ基などの反応性置
換基を有する官能性シランカップリング剤が好ましく用
いられる。具体的にはトリメトキシシリル安息香酸、γ
−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニル
トリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ
−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３,４
−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン
などが挙げられる。このような接着助剤は、上記第１の
組成物に添加する場合にあっては共重合体（Ｂ）１００
重量部当たり、上記第２の組成物に添加する場合にあっ
ては共重合体（Ｅ）１００重量部当たり、好ましくは３
０重量部以下、より好ましくは２５重量部以下の量で用
いられる。接着助剤の量が３０重量部を超える場合は、
得られる保護膜の耐熱性が不十分となる場合がある。
【００７４】溶媒
本発明の組成物は、各成分を、好ましくは適当な溶媒中
に均一に溶解または分散することにより調製される。使
用される溶媒としては、組成物の各成分を溶解または分
散し、各成分と反応しないものが用いられる。このよう
な溶媒としては、前述の共重合体（Ｂ）を製造する際に
使用される溶媒として例示したものと同様のものを使用
することができる。溶媒の使用量としては、本発明の組
成物中の全固形分の含有量が通常１〜５０重量部、好ま
しくは５〜４０重量部となるような範囲である。また、
前記の溶媒とともに高沸点溶媒を併用することができ
る。併用できる高沸点溶媒としては、例えばＮ−メチル
ホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メ
チルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ,Ｎ
−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメ
チルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシ
ルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロ
ン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノー
ル、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチ
ル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチ
ロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニル
セロソルブアセテートなどが挙げられる。高沸点溶媒を
併用する際の使用量としては、全溶媒量に対して好まし
くは９０重量部以下、さらに好ましくは８０重量部以下
である。上記のようにして調製された組成物は、孔径
０．２〜３．０μｍ、好ましくは孔径０．２〜０．５μ
ｍ程度のミリポアフィルタなどを用いて濾別した後、使
用に供することもできる。
に均一に溶解または分散することにより調製される。使
用される溶媒としては、組成物の各成分を溶解または分
散し、各成分と反応しないものが用いられる。このよう
な溶媒としては、前述の共重合体（Ｂ）を製造する際に
使用される溶媒として例示したものと同様のものを使用
することができる。溶媒の使用量としては、本発明の組
成物中の全固形分の含有量が通常１〜５０重量部、好ま
しくは５〜４０重量部となるような範囲である。また、
前記の溶媒とともに高沸点溶媒を併用することができ
る。併用できる高沸点溶媒としては、例えばＮ−メチル
ホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メ
チルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ,Ｎ
−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメ
チルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシ
ルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロ
ン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノー
ル、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチ
ル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチ
ロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニル
セロソルブアセテートなどが挙げられる。高沸点溶媒を
併用する際の使用量としては、全溶媒量に対して好まし
くは９０重量部以下、さらに好ましくは８０重量部以下
である。上記のようにして調製された組成物は、孔径
０．２〜３．０μｍ、好ましくは孔径０．２〜０．５μ
ｍ程度のミリポアフィルタなどを用いて濾別した後、使
用に供することもできる。
【００７５】保護膜の形成
次に、本発明の組成物を用いて本発明の保護膜を形成す
る方法について説明する。本発明の組成物が上記第１の
組成物である場合、第２の組成物である場合および
（Ｇ）成分として感熱酸発生剤を添加した第３の組成物
である場合には、当該組成物を基板表面に塗布し、プレ
ベークにより溶媒を除去して塗膜とした後、加熱処理を
することにより目的とする保護膜を形成することができ
る。
る方法について説明する。本発明の組成物が上記第１の
組成物である場合、第２の組成物である場合および
（Ｇ）成分として感熱酸発生剤を添加した第３の組成物
である場合には、当該組成物を基板表面に塗布し、プレ
ベークにより溶媒を除去して塗膜とした後、加熱処理を
することにより目的とする保護膜を形成することができ
る。
【００７６】上記基板として使用できるものとしては、
例えばガラス、石英、シリコン、樹脂等の基板が使用す
ることができる。樹脂としては、例えばポリエチレンテ
レフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエー
テルスルホン、ポリカーボネート、ポリイミド、ならび
に環状オレフィンの開環重合体およびその水素添加物の
如き樹脂を挙げることができる。
例えばガラス、石英、シリコン、樹脂等の基板が使用す
ることができる。樹脂としては、例えばポリエチレンテ
レフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエー
テルスルホン、ポリカーボネート、ポリイミド、ならび
に環状オレフィンの開環重合体およびその水素添加物の
如き樹脂を挙げることができる。
【００７７】塗布方法としては、例えばスプレー法、ロ
ールコート法、回転塗布法、バー塗布法、インクジェッ
ト法などの適宜の方法を採用することができる。上記プ
レベークの条件としては、各成分の種類や配合割合など
によっても異なるが、通常７０〜９０℃で１〜１５分間
程度の条件を採用できる。塗膜形成後の加熱処理は、ホ
ットプレートやオーブンなどの適宜の加熱装置により実
施することができる。処理温度としては、１５０〜２５
０℃程度が好ましく、加熱装置としてホットプレート使
用の場合は５〜３０分間、オーブン使用の場合は、３０
〜９０分間の処理時間を採用することが好ましい。
ールコート法、回転塗布法、バー塗布法、インクジェッ
ト法などの適宜の方法を採用することができる。上記プ
レベークの条件としては、各成分の種類や配合割合など
によっても異なるが、通常７０〜９０℃で１〜１５分間
程度の条件を採用できる。塗膜形成後の加熱処理は、ホ
ットプレートやオーブンなどの適宜の加熱装置により実
施することができる。処理温度としては、１５０〜２５
０℃程度が好ましく、加熱装置としてホットプレート使
用の場合は５〜３０分間、オーブン使用の場合は、３０
〜９０分間の処理時間を採用することが好ましい。
【００７８】一方、本発明の組成物が、（Ｇ）成分とし
て感放射線酸発生剤を添加した上記第３の組成物である
場合には、当該組成物を基板表面に塗布し、プレベーク
により溶媒を除去して塗膜とした後、放射線照射処理
（露光処理）を施すことにより目的とする保護膜を形成
することができる。必要に応じて、露光処理後にさらに
加熱処理を行っても良い。この場合、上記と同様にして
基板上に塗膜を形成することができる。
て感放射線酸発生剤を添加した上記第３の組成物である
場合には、当該組成物を基板表面に塗布し、プレベーク
により溶媒を除去して塗膜とした後、放射線照射処理
（露光処理）を施すことにより目的とする保護膜を形成
することができる。必要に応じて、露光処理後にさらに
加熱処理を行っても良い。この場合、上記と同様にして
基板上に塗膜を形成することができる。
【００７９】上記放射線の照射処理において使用できる
放射線としては、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子
線、Ｘ線等を挙げることができるが、１９０〜４５０ｎ
ｍの波長の光を含む紫外線が好ましい。露光量として
は、通常１００〜２０，０００Ｊ／ｍ２、好ましくは
１，０００〜１０，０００Ｊ／ｍ２である。
放射線としては、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子
線、Ｘ線等を挙げることができるが、１９０〜４５０ｎ
ｍの波長の光を含む紫外線が好ましい。露光量として
は、通常１００〜２０，０００Ｊ／ｍ２、好ましくは
１，０００〜１０，０００Ｊ／ｍ２である。
【００８０】このように形成された保護膜は、その膜厚
が通常、０．１〜８μｍ、好ましくは０．１〜６μｍ、
さらに好ましくは０．１〜４μｍである。なお、本発明
の保護膜がカラーフィルターの段差を有する基板上に形
成される場合には、上記の膜厚は、カラーフィルターの
最上部からの厚さとして理解されるべきである。本発明
の保護膜は、下記する実施例から明らかなように、密着
性、表面硬度、透明性、耐熱性、耐光性、耐溶剤性など
を満たすと共に、熱のかかった状態での荷重によっても
凹まず、また下地基板上に形成されたカラーフィルター
の段差を平坦化する性能に優れた光デバイス用保護膜と
して好適である。
が通常、０．１〜８μｍ、好ましくは０．１〜６μｍ、
さらに好ましくは０．１〜４μｍである。なお、本発明
の保護膜がカラーフィルターの段差を有する基板上に形
成される場合には、上記の膜厚は、カラーフィルターの
最上部からの厚さとして理解されるべきである。本発明
の保護膜は、下記する実施例から明らかなように、密着
性、表面硬度、透明性、耐熱性、耐光性、耐溶剤性など
を満たすと共に、熱のかかった状態での荷重によっても
凹まず、また下地基板上に形成されたカラーフィルター
の段差を平坦化する性能に優れた光デバイス用保護膜と
して好適である。
【００８１】
【実施例】以下に合成例、実施例を示して、本発明をさ
らに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定
されるものではない。共重合体（Ｂ）の製造 以下、本発明に使用される共重合体（Ｂ）の製造例を合
成例１および２に示す。
らに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定
されるものではない。共重合体（Ｂ）の製造 以下、本発明に使用される共重合体（Ｂ）の製造例を合
成例１および２に示す。
【００８２】合成例１
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２−アゾビス
イソブチロニトリル６重量部、２，４−ジフェニル−４
−メチル−１−ペンテン６重量部およびプロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート２００重量部を仕
込んだ。引き続きグリシジルメタクリレート８０重量部
およびスチレン２０重量部を仕込み窒素置換した後、ゆ
るやかに撹拌を始めた。溶液の温度を９５℃に上昇さ
せ、この温度を４時間保持し共重合体（Ｂ−１）を含む
重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度
は、３３.０％であった。また、共重合体（Ｂ−１）の
重量平均分子量（Ｍｗ）は、８，０００であった。
イソブチロニトリル６重量部、２，４−ジフェニル−４
−メチル−１−ペンテン６重量部およびプロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート２００重量部を仕
込んだ。引き続きグリシジルメタクリレート８０重量部
およびスチレン２０重量部を仕込み窒素置換した後、ゆ
るやかに撹拌を始めた。溶液の温度を９５℃に上昇さ
せ、この温度を４時間保持し共重合体（Ｂ−１）を含む
重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度
は、３３.０％であった。また、共重合体（Ｂ−１）の
重量平均分子量（Ｍｗ）は、８，０００であった。
【００８３】合成例２
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２−アゾビス
イソブチロニトリル６重量部、２，４−ジフェニル−４
−メチル−１−ペンテン１０.０重量部およびプロピレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート２００重量
部を仕込んだ。引き続きグリシジルメタクリレート５０
重量部およびメタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０
２，６］デカン−８−イル５０重量部を仕込み窒素置換
した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を９５℃に上
昇させ、この温度を４時間保持し共重合体（Ｂ−２）を
含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃
度は、３３.０％であった。また、共重合体（Ｂ−２）
の重量平均分子量（Ｍｗ）は、６，０００であった。
イソブチロニトリル６重量部、２，４−ジフェニル−４
−メチル−１−ペンテン１０.０重量部およびプロピレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート２００重量
部を仕込んだ。引き続きグリシジルメタクリレート５０
重量部およびメタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０
２，６］デカン−８−イル５０重量部を仕込み窒素置換
した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を９５℃に上
昇させ、この温度を４時間保持し共重合体（Ｂ−２）を
含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃
度は、３３.０％であった。また、共重合体（Ｂ−２）
の重量平均分子量（Ｍｗ）は、６，０００であった。
【００８４】共重合体（Ｅ）の製造
以下、本発明に使用される共重合体（Ｅ）の製造例を合
成例３および４に示す。 合成例３ 冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２,２’−アゾビ
ス（２,４−ジメチルバレロニトリル）５重量部、ジエ
チレングリコールメチルエチルエーテル２００重量部を
仕込んだ。引き続きスチレン２５重量部、メタクリル酸
２０重量部、メタクリル酸グリシジル４５重量部および
メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０ ２，６］デカ
ン−８−イル１０重量部を仕込み窒素置換した後、ゆる
やかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、
この温度を５時間保持し共重合体（Ｅ−１）を含む重合
体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３
３.０％であった。また、共重合体（Ｅ−１）の重量平
均分子量（Ｍｗ）は、６，０００であった。
成例３および４に示す。 合成例３ 冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２,２’−アゾビ
ス（２,４−ジメチルバレロニトリル）５重量部、ジエ
チレングリコールメチルエチルエーテル２００重量部を
仕込んだ。引き続きスチレン２５重量部、メタクリル酸
２０重量部、メタクリル酸グリシジル４５重量部および
メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０ ２，６］デカ
ン−８−イル１０重量部を仕込み窒素置換した後、ゆる
やかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、
この温度を５時間保持し共重合体（Ｅ−１）を含む重合
体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３
３.０％であった。また、共重合体（Ｅ−１）の重量平
均分子量（Ｍｗ）は、６，０００であった。
【００８５】合成例４
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２,２’−アゾビ
ス（２,４−ジメチルバレロニトリル）５重量部、ジエ
チレングリコールメチルエチルエーテル２００重量部を
仕込んだ。引き続きスチレン１８重量部、メタクリル酸
２０重量部、メタクリル酸グリシジル４０重量部および
シクロヘキシルマレイミド２２重量部を仕込み窒素置換
した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を７０℃に上
昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ｅ−２）を
含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃
度は、３３.０％であった。また、共重合体（Ｅ−２）
の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１２，０００であった。
ス（２,４−ジメチルバレロニトリル）５重量部、ジエ
チレングリコールメチルエチルエーテル２００重量部を
仕込んだ。引き続きスチレン１８重量部、メタクリル酸
２０重量部、メタクリル酸グリシジル４０重量部および
シクロヘキシルマレイミド２２重量部を仕込み窒素置換
した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を７０℃に上
昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ｅ−２）を
含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃
度は、３３.０％であった。また、共重合体（Ｅ−２）
の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１２，０００であった。
【００８６】（Ａ）粒子の製造
実施例１
（ａ１）としてメチルエチルケトンシリカゾル（ａ１）
（日産化学工業（株）製、商品名：ＭＥＫ−ＳＴ、数平
均粒子径０.０２２μｍ、シリカ濃度３０％）９５．０
重量部、（ａ２）としてγ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン（チッソ（株）製、商品名：サイラエー
スＳ５１０）５．０重量部、イオン交換水０．５重量部
の混合液を、６０℃にて３時間攪拌後、オルト蟻酸メチ
ルエステル３．０重量部を添加し、さらに１時間その温
度で加熱攪拌することで本発明の粒子（Ａ−１）を含む
分散液を得た。この分散液をアルミ皿に２ｇ秤量後、１
２０℃のホットプレート上で１時間乾燥、秤量して固形
分含量を求めたところ３２重量％であった。また粒子Ａ
−１中の（ａ２）成分の量を、空気中で１２０〜８００
℃までの熱重量分析により求めたところ、粒子１００重
量部に対して４重量部であった。
（日産化学工業（株）製、商品名：ＭＥＫ−ＳＴ、数平
均粒子径０.０２２μｍ、シリカ濃度３０％）９５．０
重量部、（ａ２）としてγ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン（チッソ（株）製、商品名：サイラエー
スＳ５１０）５．０重量部、イオン交換水０．５重量部
の混合液を、６０℃にて３時間攪拌後、オルト蟻酸メチ
ルエステル３．０重量部を添加し、さらに１時間その温
度で加熱攪拌することで本発明の粒子（Ａ−１）を含む
分散液を得た。この分散液をアルミ皿に２ｇ秤量後、１
２０℃のホットプレート上で１時間乾燥、秤量して固形
分含量を求めたところ３２重量％であった。また粒子Ａ
−１中の（ａ２）成分の量を、空気中で１２０〜８００
℃までの熱重量分析により求めたところ、粒子１００重
量部に対して４重量部であった。
【００８７】実施例２
（ａ１）としてメチルエチルケトンシリカゾル（ａ１）
（日産化学工業（株）製、商品名：ＭＥＫ−ＳＴ、数平
均粒子径０.０２２μｍ、シリカ濃度３０％）７０．０
重量部、（ａ２）として［（３−エチルオキセタン−３
−イル）メチロキシプロピル］トリエトキシシラン（東
亞合成（株）製、商品名：ＴＥＳＯＸ）３０．０重量
部、及びイオン交換水３．０重量部の混合液を、６０℃
で３時間攪拌後、オルト蟻酸メチルエステル１８．０重
量部を添加し、さらに１時間６０℃で加熱攪拌すること
で本発明の粒子（Ａ−２）を含む無色透明の分散液を得
た。この分散液の固形分含量を実施例１と同様に求めた
ところ４２重量％であった。また、粒子Ａ−２中の（ａ
２）成分の量を実施例１と同様にして求めたところ、粒
子１００重量部に対して２９重量部であった。
（日産化学工業（株）製、商品名：ＭＥＫ−ＳＴ、数平
均粒子径０.０２２μｍ、シリカ濃度３０％）７０．０
重量部、（ａ２）として［（３−エチルオキセタン−３
−イル）メチロキシプロピル］トリエトキシシラン（東
亞合成（株）製、商品名：ＴＥＳＯＸ）３０．０重量
部、及びイオン交換水３．０重量部の混合液を、６０℃
で３時間攪拌後、オルト蟻酸メチルエステル１８．０重
量部を添加し、さらに１時間６０℃で加熱攪拌すること
で本発明の粒子（Ａ−２）を含む無色透明の分散液を得
た。この分散液の固形分含量を実施例１と同様に求めた
ところ４２重量％であった。また、粒子Ａ−２中の（ａ
２）成分の量を実施例１と同様にして求めたところ、粒
子１００重量部に対して２９重量部であった。
【００８８】実施例３
（ａ１）としてメチルエチルケトンシリカゾル（日産化
学工業（株）製、商品名：ＭＥＫ−ＳＴ、数平均粒子径
０.０２２μｍ、シリカ濃度３０％）８５．０重量部、
（ａ２）としてβ−（３，４−エポキシシクロヘキシ
ル）エチルトリメトキシシラン（チッソ（株）製、商品
名：サイラエースＳ５３０）１５．０重量部、及びイオ
ン交換水１．５重量部の混合液を、６０℃にて３時間攪
拌後、オルト蟻酸メチルエステル９．０重量部を添加
し、さらに１時間、６０℃で加熱攪拌することで本発明
の粒子Ａ−３を含む半透明の分散液を得た。この分散液
の固形分含量および粒子Ａ−３中の（ａ２）成分の量を
実施例１と同様にして求めたところ、それぞれ３７重量
％、粒子１００重量部に対して１５重量部であった。
学工業（株）製、商品名：ＭＥＫ−ＳＴ、数平均粒子径
０.０２２μｍ、シリカ濃度３０％）８５．０重量部、
（ａ２）としてβ−（３，４−エポキシシクロヘキシ
ル）エチルトリメトキシシラン（チッソ（株）製、商品
名：サイラエースＳ５３０）１５．０重量部、及びイオ
ン交換水１．５重量部の混合液を、６０℃にて３時間攪
拌後、オルト蟻酸メチルエステル９．０重量部を添加
し、さらに１時間、６０℃で加熱攪拌することで本発明
の粒子Ａ−３を含む半透明の分散液を得た。この分散液
の固形分含量および粒子Ａ−３中の（ａ２）成分の量を
実施例１と同様にして求めたところ、それぞれ３７重量
％、粒子１００重量部に対して１５重量部であった。
【００８９】実施例４
（ａ１）としてイソプロパノールアルミナゾル（住友大
阪セメント（株）製、商品名：ＡＳ−１５０Ｉ、数平均
粒子径０.０１３μｍ、アルミナ濃度１５％）９０．０
重量部、（ａ２）としてγ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン（チッソ（株）製、商品名：サイラエー
スＳ５１０）１０．０重量部、及びイオン交換水１．０
重量部の混合液を６０℃で３時間攪拌後、オルト蟻酸メ
チルエステル６．０重量部を添加し、さらに６０℃にて
１時間加熱攪拌することで本発明の粒子Ａ−４を含む分
散液を得た。この分散液の固形分含量および粒子Ａ−４
中の（ａ２）成分の量を実施例１と同様にして求めたと
ころ、それぞれ２２重量％、粒子１００重量部に対して
８重量部であった。
阪セメント（株）製、商品名：ＡＳ−１５０Ｉ、数平均
粒子径０.０１３μｍ、アルミナ濃度１５％）９０．０
重量部、（ａ２）としてγ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン（チッソ（株）製、商品名：サイラエー
スＳ５１０）１０．０重量部、及びイオン交換水１．０
重量部の混合液を６０℃で３時間攪拌後、オルト蟻酸メ
チルエステル６．０重量部を添加し、さらに６０℃にて
１時間加熱攪拌することで本発明の粒子Ａ−４を含む分
散液を得た。この分散液の固形分含量および粒子Ａ−４
中の（ａ２）成分の量を実施例１と同様にして求めたと
ころ、それぞれ２２重量％、粒子１００重量部に対して
８重量部であった。
【００９０】実施例５
（ａ１）としてトルエンジルコニアゾル（数平均粒子径
０.０１μｍ、ジルコニア濃度３０％）８０.０重量部、
（ａ２）としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン（チッソ（株）製、商品名：サイラエースＳ５１
０）２０．０重量部、メチルエチルケトン３０．０重量
部、イオン交換水２．０重量部の混合液を、６０℃にて
３時間攪拌後、オルト蟻酸メチルエステル１２．０重量
部を添加し、さらに６０℃で１時間攪拌することにより
本発明の粒子Ａ−５を含有する分散液を得た。この分散
液の固形分含量および粒子Ａ−５中の（ａ２）成分の量
を実施例１と同様にして求めたところ、それぞれ３１重
量％、粒子１００重量部に対して２０重量部であった。
０.０１μｍ、ジルコニア濃度３０％）８０.０重量部、
（ａ２）としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン（チッソ（株）製、商品名：サイラエースＳ５１
０）２０．０重量部、メチルエチルケトン３０．０重量
部、イオン交換水２．０重量部の混合液を、６０℃にて
３時間攪拌後、オルト蟻酸メチルエステル１２．０重量
部を添加し、さらに６０℃で１時間攪拌することにより
本発明の粒子Ａ−５を含有する分散液を得た。この分散
液の固形分含量および粒子Ａ−５中の（ａ２）成分の量
を実施例１と同様にして求めたところ、それぞれ３１重
量％、粒子１００重量部に対して２０重量部であった。
【００９１】実施例６
（ａ１）としてトルエンジルコニアゾル９０．０重量
部、（ａ２）として［（３−エチルオキセタン−３−イ
ル）メチロキシプロピル］トリエトキシシラン（東亞合
成（株）製、商品名：ＴＥＳＯＸ）１０．０重量部、メ
チルエチルケトン３０．０重量部、イオン交換水１．０
重量部の混合液を、６０℃で３時間攪拌後、オルト蟻酸
メチルエステル６．０重量部を添加し、さらに６０℃に
て１時間攪拌することにより、本発明の粒子Ａ−６を含
有する分散液を得た。この分散液の固形分含量および粒
子Ａ−６中の（ａ２）成分の量を実施例１と同様にして
求めたところ、それぞれ２７重量％、粒子１００重量部
に対して９重量部であった。
部、（ａ２）として［（３−エチルオキセタン−３−イ
ル）メチロキシプロピル］トリエトキシシラン（東亞合
成（株）製、商品名：ＴＥＳＯＸ）１０．０重量部、メ
チルエチルケトン３０．０重量部、イオン交換水１．０
重量部の混合液を、６０℃で３時間攪拌後、オルト蟻酸
メチルエステル６．０重量部を添加し、さらに６０℃に
て１時間攪拌することにより、本発明の粒子Ａ−６を含
有する分散液を得た。この分散液の固形分含量および粒
子Ａ−６中の（ａ２）成分の量を実施例１と同様にして
求めたところ、それぞれ２７重量％、粒子１００重量部
に対して９重量部であった。
【００９２】比較例１
（ａ１）としてメチルエチルケトンシリカゾル１００．
０部、及びイオン交換水０．５部の混合液を、６０℃に
て３時間攪拌後、オルト蟻酸メチルエステル３．０部を
添加し、さらに１時間６０℃で攪拌することで（ａ２）
成分と反応していない粒子Ｒ−１を含有する無色透明の
分散液を得た。この分散液をアルミ皿に２ｇ秤量し、１
２０℃のホットプレート上で１時間乾燥、秤量して固形
分含量を求めたところ、２９重量％であった。
０部、及びイオン交換水０．５部の混合液を、６０℃に
て３時間攪拌後、オルト蟻酸メチルエステル３．０部を
添加し、さらに１時間６０℃で攪拌することで（ａ２）
成分と反応していない粒子Ｒ−１を含有する無色透明の
分散液を得た。この分散液をアルミ皿に２ｇ秤量し、１
２０℃のホットプレート上で１時間乾燥、秤量して固形
分含量を求めたところ、２９重量％であった。
【００９３】上記実施例１〜６および比較例１で合成し
た粒子およびその粒子を含有する分散液について、合成
時に使用した各成分の種類と添加量および分析結果を表
１にまとめた。ただし、表１中の添加量は重量部であ
り、表中の「−」は、該当する成分を添加していないこ
とを表す。また、（ａ１）成分および（ａ２）成分を示
す略称はそれぞれ以下のものを表す。なお、（ａ１）成
分の添加量は、使用した酸化物粒子ゾルの溶剤成分溶媒
を含んだ量である。 ａ１−１：メチルエチルケトンシリカゾル（シリカ濃度
３０％） ａ１−２：イソプロパノールアルミナゾル（アルミナ濃
度１５％） ａ１−３：トルエンジルコニアゾル（ジルコニア濃度３
０％） ａ２−１：γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン ａ２−２：[（３−エチルオキセタン−３−イル）メチ
ロキシプロピル]トリエトキシシラン ａ２−３：β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルトリメトキシシラン
た粒子およびその粒子を含有する分散液について、合成
時に使用した各成分の種類と添加量および分析結果を表
１にまとめた。ただし、表１中の添加量は重量部であ
り、表中の「−」は、該当する成分を添加していないこ
とを表す。また、（ａ１）成分および（ａ２）成分を示
す略称はそれぞれ以下のものを表す。なお、（ａ１）成
分の添加量は、使用した酸化物粒子ゾルの溶剤成分溶媒
を含んだ量である。 ａ１−１：メチルエチルケトンシリカゾル（シリカ濃度
３０％） ａ１−２：イソプロパノールアルミナゾル（アルミナ濃
度１５％） ａ１−３：トルエンジルコニアゾル（ジルコニア濃度３
０％） ａ２−１：γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン ａ２−２：[（３−エチルオキセタン−３−イル）メチ
ロキシプロピル]トリエトキシシラン ａ２−３：β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルトリメトキシシラン
【００９４】
【表１】
【００９５】第１の組成物の調製および評価
実施例７
実施例１で製造した粒子Ａ−１を含む分散液１２５重量
部にジエチレングリコールメチルエチルエーテルを８５
重量部加え、ロータリーエバポレーターにて液量が１２
５重量部になるまで減圧濃縮したものを（Ａ）成分と
し、（Ｂ）成分として合成例１で得られた共重合体（Ｂ
−１）を含む溶液（共重合体（Ｂ−１）１００重量部
（固形分）に相当する量）と、成分（Ｃ）としてビスフ
ェノールＡノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポ
キシ（株）製 商品名：エピコート１５７Ｓ６５）１
０．０重量部、接着助剤としてγ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン１５重量部、および界面活性剤と
してＳＨ−２８ＰＡ（東レシリコーン(株)製）０.１重
量部を加え、さらに固形分濃度が２０％になるようにプ
ロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを添
加した後、孔径０.５μｍのミリポアフィルタで濾過し
て第１の組成物を調製した。
部にジエチレングリコールメチルエチルエーテルを８５
重量部加え、ロータリーエバポレーターにて液量が１２
５重量部になるまで減圧濃縮したものを（Ａ）成分と
し、（Ｂ）成分として合成例１で得られた共重合体（Ｂ
−１）を含む溶液（共重合体（Ｂ−１）１００重量部
（固形分）に相当する量）と、成分（Ｃ）としてビスフ
ェノールＡノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポ
キシ（株）製 商品名：エピコート１５７Ｓ６５）１
０．０重量部、接着助剤としてγ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン１５重量部、および界面活性剤と
してＳＨ−２８ＰＡ（東レシリコーン(株)製）０.１重
量部を加え、さらに固形分濃度が２０％になるようにプ
ロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを添
加した後、孔径０.５μｍのミリポアフィルタで濾過し
て第１の組成物を調製した。
【００９６】保護膜の形成
上記のようにして調製した組成物に、（Ｄ）成分として
無水トリメリット酸３５重量部をジエチレングリコール
メチルエチルエーテル６５重量部に溶解させたものを加
え、保護膜形成用組成物を調製した。ここで調製した組
成物は、無色透明であった。スピンナーを用いて上記組
成物を、ＳｉＯ２ディップガラス基板上に塗布した後、
ホットプレート上で９０℃、５分間プレベークして塗膜
を形成し、さらにオーブン中で２３０℃にて６０分間加
熱処理して膜厚２．０μｍの保護膜を形成した。
無水トリメリット酸３５重量部をジエチレングリコール
メチルエチルエーテル６５重量部に溶解させたものを加
え、保護膜形成用組成物を調製した。ここで調製した組
成物は、無色透明であった。スピンナーを用いて上記組
成物を、ＳｉＯ２ディップガラス基板上に塗布した後、
ホットプレート上で９０℃、５分間プレベークして塗膜
を形成し、さらにオーブン中で２３０℃にて６０分間加
熱処理して膜厚２．０μｍの保護膜を形成した。
【００９７】保護膜の評価
透明性の評価
上記のようにして形成した保護膜を有する基板につい
て、分光光度計（１５０−２０型ダブルビーム（日立製
作所(株)製））を用いて４００〜８００ｎｍの透過率を
測定した。４００〜８００ｎｍの透過率の最小値を表２
に示した。この値が９５％以上のとき、保護膜の透明性
は良好といえる。
て、分光光度計（１５０−２０型ダブルビーム（日立製
作所(株)製））を用いて４００〜８００ｎｍの透過率を
測定した。４００〜８００ｎｍの透過率の最小値を表２
に示した。この値が９５％以上のとき、保護膜の透明性
は良好といえる。
【００９８】耐熱寸法安定性の評価
上記のようにして形成した保護膜を有する基板につい
て、オーブン中２５０℃で１時間加熱し、加熱前後の膜
厚を測定した。下記式にしたがって算出した耐熱寸法安
定性を表１に示した。この値が９５％以上のとき、耐熱
寸法安定性は良好といえる。 耐熱寸法安定性＝（加熱後の膜厚）／（加熱前の膜厚）
×１００（％）
て、オーブン中２５０℃で１時間加熱し、加熱前後の膜
厚を測定した。下記式にしたがって算出した耐熱寸法安
定性を表１に示した。この値が９５％以上のとき、耐熱
寸法安定性は良好といえる。 耐熱寸法安定性＝（加熱後の膜厚）／（加熱前の膜厚）
×１００（％）
【００９９】耐熱変色性の評価
上記のようにして形成した保護膜を有する基板につい
て、オーブン中２５０℃で１時間加熱し、加熱前後の透
明性を、上記と同様にして測定した。下記式にしたが
って算出した耐熱変色性を表１に示した。この値が５％
以下のとき、耐熱変色性は良好といえる。 耐熱変色性＝加熱前の透過率−加熱後の透過率（％） 表面硬度の測定 上記のようにして形成した保護膜を有する基板につい
て、ＪＩＳ Ｋ−５４００−１９９０の８．４．１鉛筆
引っかき試験により保護膜の表面硬度を測定した。この
値を表２に示す。この値が４Ｈまたはそれより硬いと
き、表面硬度は良好といえる。
て、オーブン中２５０℃で１時間加熱し、加熱前後の透
明性を、上記と同様にして測定した。下記式にしたが
って算出した耐熱変色性を表１に示した。この値が５％
以下のとき、耐熱変色性は良好といえる。 耐熱変色性＝加熱前の透過率−加熱後の透過率（％） 表面硬度の測定 上記のようにして形成した保護膜を有する基板につい
て、ＪＩＳ Ｋ−５４００−１９９０の８．４．１鉛筆
引っかき試験により保護膜の表面硬度を測定した。この
値を表２に示す。この値が４Ｈまたはそれより硬いと
き、表面硬度は良好といえる。
【０１００】ダイナミック微小硬度の測定
上記のようにして形成した保護膜を有する基板につい
て、島津ダイナミック微小硬度計ＤＵＨ−２０１
（（株）島津製作所製）を用い、稜角１１５°三角圧子
（ヘルコビッチ型）の押し込み試験により、保護膜のダ
イナミック微小硬度を、荷重：０．１ｇｆ、速度：０．
０１４５ｇｆ／ｓｅｃ.、保持時間：５ｓｅｃ．、温度
は２３℃および１４０℃の測定条件で測定した。結果を
表２に示す。 密着性の評価 上記のようにして形成した保護膜を有する基板につい
て、プレッシャークッカー試験（１２０℃、湿度１００
％、４時間）を行った後、ＪＩＳ Ｋ−５４００−１９
９０の８．５．３付着性碁盤目テープ法により保護膜の
密着性を評価した。碁盤目１００個中、残った碁盤目の
数を表２に示した。
て、島津ダイナミック微小硬度計ＤＵＨ−２０１
（（株）島津製作所製）を用い、稜角１１５°三角圧子
（ヘルコビッチ型）の押し込み試験により、保護膜のダ
イナミック微小硬度を、荷重：０．１ｇｆ、速度：０．
０１４５ｇｆ／ｓｅｃ.、保持時間：５ｓｅｃ．、温度
は２３℃および１４０℃の測定条件で測定した。結果を
表２に示す。 密着性の評価 上記のようにして形成した保護膜を有する基板につい
て、プレッシャークッカー試験（１２０℃、湿度１００
％、４時間）を行った後、ＪＩＳ Ｋ−５４００−１９
９０の８．５．３付着性碁盤目テープ法により保護膜の
密着性を評価した。碁盤目１００個中、残った碁盤目の
数を表２に示した。
【０１０１】平坦化性の評価
ＳｉＯ２ディップガラス基板上に、顔料系カラーレジス
ト（商品名「ＪＣＲＲＥＤ ６８９」、「ＪＣＲ ＧＲ
ＥＥＮ ７０６」、「ＣＲ ８２００Ｂ」、以上、ジェ
イエスアール（株）製）をスピンナーにより塗布し、ホ
ットプレート上で９０℃、１５０秒間プレベークして塗
膜を形成した。その後、所定のパターンマスクを介し
て、露光機Ｃａｎｏｎ ＰＬＡ５０１Ｆ（キャノン
（株）製）を用いてｇｈｉ線（波長４３６ｎｍ、４０５
ｎｍ、３６５ｎｍの強度比＝２.７：２.５：４.８）を
ｉ線換算で２，０００Ｊ／ｍ2の露光量で照射し、０．
０５％水酸化カリウム水溶液を用いて現像し、超純水に
て６０秒間リンスした後、さらにオーブン中で２３０℃
にて３０分間加熱処理して、赤、緑、および青の３色の
ストライプ状カラーフィルター（ストライプ幅１００μ
ｍ）を形成した。このカラーフィルターが形成された基
板表面の凹凸を、表面粗さ計「α−ステップ」（商品
名：テンコール社製）で測定したところ、１．０μｍで
あった。この上に、上記保護膜形成用組成物をスピンナ
ーにて塗布した後、ホットプレート上で９０℃、５分間
プレベークして塗膜を形成し、さらにオーブン中で２３
０℃にて６０分間加熱処理し、カラーフィルターの上面
からの膜厚が２．０μｍの保護膜を形成した。上記のよ
うにして形成した、カラーフィルター上に保護膜を有す
る基板について、接触式膜厚測定装置α-ステップ（テ
ンコールジャパン（株）製）にて保護膜の表面の凹凸を
測定した。このときの最高部と最底部の高低差（ｎｍ）
を表２に示した。この値が３００ｎｍ以下のとき、平坦
化性は良好といえる。
ト（商品名「ＪＣＲＲＥＤ ６８９」、「ＪＣＲ ＧＲ
ＥＥＮ ７０６」、「ＣＲ ８２００Ｂ」、以上、ジェ
イエスアール（株）製）をスピンナーにより塗布し、ホ
ットプレート上で９０℃、１５０秒間プレベークして塗
膜を形成した。その後、所定のパターンマスクを介し
て、露光機Ｃａｎｏｎ ＰＬＡ５０１Ｆ（キャノン
（株）製）を用いてｇｈｉ線（波長４３６ｎｍ、４０５
ｎｍ、３６５ｎｍの強度比＝２.７：２.５：４.８）を
ｉ線換算で２，０００Ｊ／ｍ2の露光量で照射し、０．
０５％水酸化カリウム水溶液を用いて現像し、超純水に
て６０秒間リンスした後、さらにオーブン中で２３０℃
にて３０分間加熱処理して、赤、緑、および青の３色の
ストライプ状カラーフィルター（ストライプ幅１００μ
ｍ）を形成した。このカラーフィルターが形成された基
板表面の凹凸を、表面粗さ計「α−ステップ」（商品
名：テンコール社製）で測定したところ、１．０μｍで
あった。この上に、上記保護膜形成用組成物をスピンナ
ーにて塗布した後、ホットプレート上で９０℃、５分間
プレベークして塗膜を形成し、さらにオーブン中で２３
０℃にて６０分間加熱処理し、カラーフィルターの上面
からの膜厚が２．０μｍの保護膜を形成した。上記のよ
うにして形成した、カラーフィルター上に保護膜を有す
る基板について、接触式膜厚測定装置α-ステップ（テ
ンコールジャパン（株）製）にて保護膜の表面の凹凸を
測定した。このときの最高部と最底部の高低差（ｎｍ）
を表２に示した。この値が３００ｎｍ以下のとき、平坦
化性は良好といえる。
【０１０２】実施例８〜１４、比較例２、３
組成物の各成分の種類および量を表２に記載の通りと
し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
トの代わりに表２に記載の溶媒を使用して表２記載の固
形分濃度に合わせた他は、実施例７と同様にして組成物
を調製した。その組成物に、（Ｄ）成分として無水トリ
メリット酸３５重量部をジエチレングリコールメチルエ
チルエーテル６５重量部に溶解させたものを加え、保護
膜形成用組成物を調製した。ここで調製した組成物の外
観を、表２に示した。上記のように調製した保護膜形成
用組成物を使用し、実施例７と同様に保護膜を形成し、
評価した。結果を表２に示した。なお、表２において、
各成分の添加量は重量部であり、表中の「−」は、該当
する成分を添加していないことを表す。なお、（Ａ）粒
子の添加量は実施例１〜６で合成した粒子分散液中の固
形分量に、共重合体（Ｂ）の添加量は合成例１、２で合
成した共重合体溶液中の固形分量に、それぞれ換算した
値を表す。また、（Ｃ）成分、溶媒の略称はそれぞれ以
下のものを表す。 Ｃ−１：ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂
（油化シェルエポキシ（株）製 商品名：エピコート１
５７Ｓ６５） Ｃ−２：：ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（油化シェ
ルエポキシ（株）製商品名：エピコート８２８） Ｓ−１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート Ｓ−２：プロピレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート
し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
トの代わりに表２に記載の溶媒を使用して表２記載の固
形分濃度に合わせた他は、実施例７と同様にして組成物
を調製した。その組成物に、（Ｄ）成分として無水トリ
メリット酸３５重量部をジエチレングリコールメチルエ
チルエーテル６５重量部に溶解させたものを加え、保護
膜形成用組成物を調製した。ここで調製した組成物の外
観を、表２に示した。上記のように調製した保護膜形成
用組成物を使用し、実施例７と同様に保護膜を形成し、
評価した。結果を表２に示した。なお、表２において、
各成分の添加量は重量部であり、表中の「−」は、該当
する成分を添加していないことを表す。なお、（Ａ）粒
子の添加量は実施例１〜６で合成した粒子分散液中の固
形分量に、共重合体（Ｂ）の添加量は合成例１、２で合
成した共重合体溶液中の固形分量に、それぞれ換算した
値を表す。また、（Ｃ）成分、溶媒の略称はそれぞれ以
下のものを表す。 Ｃ−１：ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂
（油化シェルエポキシ（株）製 商品名：エピコート１
５７Ｓ６５） Ｃ−２：：ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（油化シェ
ルエポキシ（株）製商品名：エピコート８２８） Ｓ−１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート Ｓ−２：プロピレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート
【０１０３】
【表２】
【０１０４】第２の組成物の調製および評価
実施例１５
実施例１で製造した粒子Ａ−１を含む分散液１２５重量
部にジエチレングリコールメチルエチルエーテルを８５
重量部加え、ロータリーエバポレーターにて液量が１２
５重量部になるまで減圧濃縮したものを（Ａ）成分と
し、（Ｅ）成分として合成例３で得られた共重合体（Ｅ
−１）を含む溶液（共重合体（Ｅ−１）１００重量部
（固形分）に相当する量）と、（Ｆ）成分としてビスフ
ェノールＡノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポ
キシ（株）製 商品名：エピコート１５７Ｓ６５）１
０．０重量部、および界面活性剤としてＳＨ−２８ＰＡ
（東レシリコーン(株)製）０.１重量部を混合し、固形
分濃度が２０.０％になるようにプロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテートを添加した後、孔径０.
５μｍのミリポアフィルタで濾過して第２の組成物を調
製した。ここで調製した組成物の外観は、無色透明であ
った。
部にジエチレングリコールメチルエチルエーテルを８５
重量部加え、ロータリーエバポレーターにて液量が１２
５重量部になるまで減圧濃縮したものを（Ａ）成分と
し、（Ｅ）成分として合成例３で得られた共重合体（Ｅ
−１）を含む溶液（共重合体（Ｅ−１）１００重量部
（固形分）に相当する量）と、（Ｆ）成分としてビスフ
ェノールＡノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポ
キシ（株）製 商品名：エピコート１５７Ｓ６５）１
０．０重量部、および界面活性剤としてＳＨ−２８ＰＡ
（東レシリコーン(株)製）０.１重量部を混合し、固形
分濃度が２０.０％になるようにプロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテートを添加した後、孔径０.
５μｍのミリポアフィルタで濾過して第２の組成物を調
製した。ここで調製した組成物の外観は、無色透明であ
った。
【０１０５】保護膜の形成と評価
上記のようにして調製した組成物を、スピンナーによっ
てＳｉＯ２ディップガラス基板上に塗布した後、ホット
プレート上で９０℃、５分間プレベークして塗膜を形成
し、さらにオーブン中で２３０℃にて６０分間加熱処理
して保護膜を形成した。また、実施例７に記載の方法と
同様にしてカラーフィルターを形成した基板上に、上記
と同様にして保護膜を形成した。これらの保護膜を有す
る基板を用いて、実施例７と同様にして評価を行った。
結果を表３に示す。
てＳｉＯ２ディップガラス基板上に塗布した後、ホット
プレート上で９０℃、５分間プレベークして塗膜を形成
し、さらにオーブン中で２３０℃にて６０分間加熱処理
して保護膜を形成した。また、実施例７に記載の方法と
同様にしてカラーフィルターを形成した基板上に、上記
と同様にして保護膜を形成した。これらの保護膜を有す
る基板を用いて、実施例７と同様にして評価を行った。
結果を表３に示す。
【０１０６】実施例１６〜２０、比較例４、５
組成物の各成分の種類および量を表３に記載の通りと
し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
トの代わりに表３に記載の溶媒を使用した他は、実施例
１５と同様にして組成物を調製した。ここで調製した組
成物の外観を、表３に示した。上記のように調製した組
成物を使用し、実施例１５と同様にして保護膜を形成
し、評価した。結果を表３に示した。
し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
トの代わりに表３に記載の溶媒を使用した他は、実施例
１５と同様にして組成物を調製した。ここで調製した組
成物の外観を、表３に示した。上記のように調製した組
成物を使用し、実施例１５と同様にして保護膜を形成
し、評価した。結果を表３に示した。
【０１０７】第３の組成物の調製および評価
実施例２１
実施例１で製造した粒子Ａ−１を含む分散液６２．５重
量部にジエチレングリコールメチルエチルエーテルを８
５重量部加え、ロータリーエバポレーターにて液量が１
２５重量部になるまで減圧濃縮したものを（Ａ）成分と
し、（Ｅ）成分として合成例４で得られた共重合体（Ｅ
−２）を含む溶液（共重合体（Ｅ−１）１００重量部
（固形分）に相当する量）と、（Ｆ）成分としてトリメ
チロールプロパントリス（３−エチル−３−オキセタニ
ルメチル）エーテル１５．０重量部、（Ｇ）成分として
ベンジル−２−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチル
スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート２重量部、
および界面活性剤としてＳＨ−２８ＰＡ（東レシリコー
ン(株)製）０.１重量部を混合し、固形分濃度が２０.０
％になるようにジエチレングリコールジメチルエーテル
を添加した後、孔径０.５μｍのミリポアフィルタで濾
過して第３の組成物を調製した。ここで得られた組成物
の外観を表３に示した。上記のように調製した組成物を
使用して実施例１５と同様に保護膜を形成し、評価し
た。結果を表３に示した。
量部にジエチレングリコールメチルエチルエーテルを８
５重量部加え、ロータリーエバポレーターにて液量が１
２５重量部になるまで減圧濃縮したものを（Ａ）成分と
し、（Ｅ）成分として合成例４で得られた共重合体（Ｅ
−２）を含む溶液（共重合体（Ｅ−１）１００重量部
（固形分）に相当する量）と、（Ｆ）成分としてトリメ
チロールプロパントリス（３−エチル−３−オキセタニ
ルメチル）エーテル１５．０重量部、（Ｇ）成分として
ベンジル−２−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチル
スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート２重量部、
および界面活性剤としてＳＨ−２８ＰＡ（東レシリコー
ン(株)製）０.１重量部を混合し、固形分濃度が２０.０
％になるようにジエチレングリコールジメチルエーテル
を添加した後、孔径０.５μｍのミリポアフィルタで濾
過して第３の組成物を調製した。ここで得られた組成物
の外観を表３に示した。上記のように調製した組成物を
使用して実施例１５と同様に保護膜を形成し、評価し
た。結果を表３に示した。
【０１０８】実施例２２
組成物の各成分の種類および量を表３に記載の通りとし
た他は、実施例２１と同様にして組成物を調製した。こ
こで調製した組成物の外観を表３に示す。上記組成物溶
液をＳｉＯ2ディップガラス基板上に、スピンナーを用
いて塗布した後、９０℃で５分間ホットプレート上でプ
レベークを行って塗膜を形成した。次いで、形成された
塗膜に露光機Ｃａｎｏｎ ＰＬＡ５０１Ｆ（キャノン
（株）製）を用いてｇｈｉ線（波長４３６ｎｍ、４０５
ｎｍ、３６５ｎｍの強度比＝２.７：２.５：４.８）を
ｉ線換算で２，０００Ｊ／ｍ2の露光量で照射した。さ
らにオーブン中２３０℃で６０分間加熱し、保護膜を形
成した。また、実施例７に記載の方法と同様にしてカラ
ーフィルターを形成した基板上に、上記と同様に塗布、
プレベーク、露光および加熱の各工程を実施して保護膜
を形成した。これらの保護膜を有する基板を用いて、実
施例７と同様にして評価した。評価結果を表３に示す。
た他は、実施例２１と同様にして組成物を調製した。こ
こで調製した組成物の外観を表３に示す。上記組成物溶
液をＳｉＯ2ディップガラス基板上に、スピンナーを用
いて塗布した後、９０℃で５分間ホットプレート上でプ
レベークを行って塗膜を形成した。次いで、形成された
塗膜に露光機Ｃａｎｏｎ ＰＬＡ５０１Ｆ（キャノン
（株）製）を用いてｇｈｉ線（波長４３６ｎｍ、４０５
ｎｍ、３６５ｎｍの強度比＝２.７：２.５：４.８）を
ｉ線換算で２，０００Ｊ／ｍ2の露光量で照射した。さ
らにオーブン中２３０℃で６０分間加熱し、保護膜を形
成した。また、実施例７に記載の方法と同様にしてカラ
ーフィルターを形成した基板上に、上記と同様に塗布、
プレベーク、露光および加熱の各工程を実施して保護膜
を形成した。これらの保護膜を有する基板を用いて、実
施例７と同様にして評価した。評価結果を表３に示す。
【０１０９】なお、表３において、各成分の添加量は重
量部であり、表中の「−」は、該当する成分を添加して
いないことを表す。なお、（Ａ）粒子の添加量は実施例
１〜６で合成した粒子分散液中の固形分量に、共重合体
（Ｅ）の添加量は合成例３、４で合成した共重合体溶液
中の固形分量に、それぞれ換算した値を表す。また、
（Ｆ）成分、（Ｇ）成分、および溶媒の略称は、それぞ
れ以下のものを表す。 Ｆ−１：ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂
（油化シェルエポキシ（株）製 商品名：エピコート１
５７Ｓ６５） Ｆ−２：トリメチロールプロパントリス（３−エチル−
３−オキセタニルメチル）エーテル Ｇ−１：ベンジル−２−メチル−４−ヒドロキシフェニ
ルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート Ｇ−２：トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタン
スルホナート Ｓ−３：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート Ｓ−４：ジエチレングリコールジメチルエーテル
量部であり、表中の「−」は、該当する成分を添加して
いないことを表す。なお、（Ａ）粒子の添加量は実施例
１〜６で合成した粒子分散液中の固形分量に、共重合体
（Ｅ）の添加量は合成例３、４で合成した共重合体溶液
中の固形分量に、それぞれ換算した値を表す。また、
（Ｆ）成分、（Ｇ）成分、および溶媒の略称は、それぞ
れ以下のものを表す。 Ｆ−１：ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂
（油化シェルエポキシ（株）製 商品名：エピコート１
５７Ｓ６５） Ｆ−２：トリメチロールプロパントリス（３−エチル−
３−オキセタニルメチル）エーテル Ｇ−１：ベンジル−２−メチル−４−ヒドロキシフェニ
ルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート Ｇ−２：トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタン
スルホナート Ｓ−３：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート Ｓ−４：ジエチレングリコールジメチルエーテル
【０１１０】
【表３】
【０１１１】
【発明の効果】本発明によれば、保護膜として従来から
要求される諸特性、具体的には、密着性、表面硬度、透
明性、耐熱寸法安定性、耐熱変色性を満たすと共に、熱
のかかった状態で荷重によって凹まないこと、および下
地基板であるカラーフィルターの段差を平坦化する性能
に優れた光デバイス用保護膜形成材料として好適な組成
物、およびそれから形成された保護膜を得ることができ
る。
要求される諸特性、具体的には、密着性、表面硬度、透
明性、耐熱寸法安定性、耐熱変色性を満たすと共に、熱
のかかった状態で荷重によって凹まないこと、および下
地基板であるカラーフィルターの段差を平坦化する性能
に優れた光デバイス用保護膜形成材料として好適な組成
物、およびそれから形成された保護膜を得ることができ
る。
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｃ０９Ｄ 7/12 Ｃ０９Ｄ 7/12
133/00 133/00
201/06 201/06
Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５０５ Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５０５
(72)発明者 丹羽 一明
東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ
エスアール株式会社内
Ｆターム(参考） 2H090 HB02X HB07X HC05 HD02
HD03 HD05 HD08 LA15
4J002 BG07W CD06X DD009 DE096
DE106 DE126 DE136 DE146
DJ016 EF068 EF078 EF108
EF118 EF128 EH148 EL057
EL138 EL148 EN139 EV299
EV329 EW179 FB126 FB136
FD158 FD209
4J037 AA08 AA11 AA18 AA22 AA25
CB23 DD05 DD07 EE02 EE28
EE43 FF25
4J038 CC021 CG141 CG151 CG152
CH071 CH121 CH171 CH221
DB061 DB071 DB221 DF051
HA066 JC30 JC38 KA03
KA08 KA20 NA04 NA11 NA12
NA14 PB09
Claims (8)
- 【請求項１】 （ａ１）ケイ素、アルミニウム、ジルコ
ニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウ
ム、スズ、アンチモンおよびセリウムからなる群から選
ばれる少なくとも１種の元素の酸化物粒子と、（ａ２）
下記式（１）〜（４）のうちの少なくとも一種とを反応
させて得られる粒子。 【化１】 （式中、Ｒ１は水素原子、アルキル基、フッ素原子、フ
ルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基ま
たはエチニル基であり、Ｒ２は加水分解性基であり、Ｒ
３はアルキル基であり、Ｒ４は２価の有機基であり、
ｍ、ｎおよびｐはそれぞれ独立に１〜１０の整数であ
り、ｑおよびｒはそれぞれ１〜３の整数であり、ただし
ｑ＋ｒ≦４である。） - 【請求項２】 上記（ａ２）成分の使用量が、上記（ａ
１）成分と（ａ２）成分の合計量１００重量部に対して
０．１〜６０重量部である、請求項１に記載の粒子。 - 【請求項３】 （Ａ）請求項１または２に記載の粒子、
（Ｂ）（ｂ１）エポキシ基含有不飽和化合物、および
（ｂ２）オレフィン系不飽和化合物の共重合体、ならび
に（Ｃ）（Ｂ）成分以外のカチオン重合性化合物を含有
することを特徴とする、組成物。 - 【請求項４】 さらに（Ｄ）硬化剤を含有する、請求項
３に記載の組成物。 - 【請求項５】 請求項３に記載の組成物、および（Ｄ）
硬化剤を混合し、その混合物を基板上に塗布し、次いで
熱および／または放射線で処理することを特徴とする、
保護膜の形成方法。 - 【請求項６】 （Ａ）請求項１または２に記載の粒子、
（Ｅ）（ｅ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和
カルボン酸無水物、（ｅ２）エポキシ基含有不飽和化合
物、ならびに（ｅ３）（ｅ１）および（ｅ２）以外のオ
レフィン系不飽和化合物の共重合体、ならびに（Ｆ）
（Ｅ）成分以外のカチオン重合性化合物を含有すること
を特徴とする、組成物。 - 【請求項７】 さらに（Ｇ）熱および／または放射線に
より酸を発生する化合物を含有する請求項６に記載の組
成物。 - 【請求項８】 請求項４、６または７に記載の組成物よ
り形成された保護膜。
Priority Applications (4)
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|---|---|---|---|
| JP2001385003A JP3893966B2 (ja) | 2001-12-18 | 2001-12-18 | 保護膜の形成方法とそのための組成物 |
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| KR1020020080553A KR100919743B1 (ko) | 2001-12-18 | 2002-12-17 | 입자, 조성물 및 보호막 |
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|---|---|---|---|
| JP2001385003A JP3893966B2 (ja) | 2001-12-18 | 2001-12-18 | 保護膜の形成方法とそのための組成物 |
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|---|---|
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| JP2007308631A (ja) * | 2006-05-19 | 2007-11-29 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | ジルコニア含有エポキシ樹脂組成物とこれを含有する透明複合体および発光素子並びに光半導体装置 |
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| KR101004380B1 (ko) | 2003-07-11 | 2010-12-28 | 주식회사 코오롱 | 광디바이스(ｄｅｖｉｃｅ)용 보호막 형성 재료로 유용한열경화성 수지 조성물 |
| US7985476B2 (en) | 2005-10-28 | 2011-07-26 | Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. | Transparent zirconia dispersion and zirconia particle-containing resin composition, composition for sealing light emitting element and light emitting element, hard coat film and optical functional film and optical component, and method for producing zirconia particle-containing resin |
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| JP2020125427A (ja) * | 2019-02-06 | 2020-08-20 | 住友大阪セメント株式会社 | 分散液、組成物、封止部材、発光装置、照明器具および表示装置ならびに分散液の製造方法 |
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2002
- 2002-10-18 TW TW091124109A patent/TWI225881B/zh not_active IP Right Cessation
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