JP2007098272A - アンモニア含有水の処理方法および処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】アンモニア含有水の処理を、少なくともアンモニアを含む排水に、イオン交換処理、逆浸透膜処理または電気式脱イオン処理を施すことにより、被処理液を得る被処理液調製工程Aと、前記被処理液を電解して前記アンモニアを分解・除去し、処理廃液を得る電解工程Bと、で行う。
【選択図】図1
Description
少なくともアンモニアを含む排水に、イオン交換処理、逆浸透膜処理または電気式脱イオン処理を施すことにより、被処理液を得る被処理液調製工程Aと、
前記被処理液調製工程Aから排出される前記被処理液を電解して前記アンモニアを分解・除去し、処理廃液を得る電解工程Bと、を具備すること、
を特徴とするアンモニア含有水の処理方法を提供する。
半導体の製造工程では、種々の薬剤を使用してウエハの微細加工が行われるため、使用済みの種々の薬剤を含む溶液が排水として排出される。例えば、ウエハのフォトリソグラフィ工程で行う現像作業などでは、(CH3)4NOH(TMAH)を含む処理液でウエハや液晶が処理されるため、主成分としてTMAHを含む有機系のアルカリ性排水が排出される。
したがって、上記「少なくともアンモニアを含む排水」は、アンモニア以外に、アンモニアを生じ得るTMAH、NH4OH、MEA(モノエタノールアミン)およびH2O2などのうちの少なくともいずれかを含んでいてもよい。もちろん、上記以外にも、液晶製造工場や半導体製造工場の回収プロセスにおいて混入し得る物質を含む場合もある。
前記被処理液調製工程Aの前に、前記排水を蒸発濃縮する蒸発濃縮工程Cを具備し、
前記被処理液調製工程Aにおいて、前記蒸発濃縮工程Cで得られた凝集水にイオン交換処理、逆浸透膜処理または電気式脱イオン処理を施すことにより前記被処理液を得ること、が好ましい。
このような構成によれば、蒸発濃縮によって凝集水にアンモニアを集めることができるため、より確実にアンモニアを分解・除去することができる。
前記電解工程Bの後に、前記電解工程Bにおいて得られた前記処理廃液を蒸発濃縮する蒸発濃縮工程Dを具備すること、が好ましい。
このような構成によれば、電解処理後の処理廃液に残された塩などを除去することができ、凝集水を純水などとして再利用することができる。
前記被処理液調製工程Aの前に、前記排水を蒸発濃縮する蒸発濃縮工程Cを具備し、
前記電解工程Bの後に、前記処理廃液を蒸発濃縮する蒸発濃縮工程Dを具備し、
前記被処理液調製工程Aにおいては、前記排水、前記蒸発濃縮工程Cで得られた凝集水および前記蒸発濃縮工程Dで得られた凝集水のうちの少なくともいずれかに、イオン交換処理、逆浸透膜処理または電気式脱イオン処理を施すことにより、前記被処理液を得、
前記蒸発濃縮工程Cを前記蒸発濃縮工程Dとともに行い前記排水を前記処理廃水とともに蒸発濃縮すること、が好ましい。
前記イオン交換工程によりアンモニウムイオンを吸着した前記イオン交換体を酸で洗浄し、アンモニアを含む再生廃液を含む被処理液を得るイオン交換体再生工程と、を具備することが好ましい。
また、前記逆浸透膜処理は前記排水を逆浸透膜処理して濃縮液を含む被処理液を得る逆浸透膜工程を具備し、前記電気式脱イオン処理は前記排水を電気透析処理して濃縮液含む被処理液を得る電気透析工程を具備すればよい。
また、被処理液調製工程Aにおいて得られた脱イオン水から純水を製造することも可能である。これによれば、アンモニアや塩類が確実に除去された水を得ることができる。
なお、上記イオン交換処理において得られた脱イオン水の純度が高い場合には、ここでいう「純水」には当該脱イオン水も含まれる。
少なくともアンモニアを含む排水を、イオン交換体を用いてイオン交換するイオン交換装置、または逆浸透膜処理して濃縮液を得る逆浸透膜装置もしくは電気式脱イオン装置(例えば電気再生式脱イオン装置)と、
前記イオン交換体を再生する際に生成する再生廃液または前記濃縮液を含む被処理液を電解して前記アンモニアを分解・除去し、処理廃液を得る電解装置と、を具備すること、を特徴とするアンモニア含有水の処理装置を提供する。
さらに、前記イオン交換装置において得られた脱イオン水または逆浸透膜装置もしくは電気式脱イオン装置において得られた脱イオン水から純水を製造する純水装置を具備すること、が好ましい。
なお、本発明における「脱イオン水」とは、イオン交換処理後に得られるイオン交換水(イオン処理水)、ならびに逆浸透膜処理および電気式脱イオン処理後に得られる透過水(処理水)を含む概念である。
図1は、本発明のアンモニア含有水の処理方法の実施の形態1を実施するために用いるアンモニア含有水の処理装置(すなわち本発明のアンモニア含有水の処理装置の実施の形態1)の構成を説明するためのブロック図である。
(1)少なくともアンモニアを含む排水を蒸発濃縮する蒸発濃縮工程Cと、
(2)前記蒸発濃縮工程Cで得られた凝集水にイオン交換処理を施すことにより被処理液得る被処理液調製工程Aと、
(3)前記被処理液を電解して前記アンモニアを分解・除去し、処理廃液を得る電解工程Bと、
(4)前記電解工程Bの後に前記処理廃液を蒸発濃縮する蒸発濃縮工程Dとを、上記(1)〜(4)の順に具備する。
ここで、上記(2)のイオン交換処理は、イオン交換体を用いて前記凝集水をイオン交換して脱イオン水を得るイオン交換工程と、前記イオン交換工程によりアンモニウムイオンを吸着した前記イオン交換体を酸で洗浄し、アンモニアを含む再生廃液からなる被処理液を得るイオン交換体再生工程とを具備する。
本実施の形態においては、まず、液晶製造工場や半導体製造工場におけるクリーンルーム12において、液晶製造や半導体製造過程で使用され(例えばウエハの洗浄、エッチング)、アンモニアを含む排水(リンス排水、スクラバー排水)が排出される。なお、この排水にはアンモニアだけではなく、例えばフッ素なども含まれる。
排水回収装置14では、排水の種類に応じて生物処理や逆浸透膜処理などの排水処理を行ってもよい。また、逆浸透膜処理などによって得られる透過水は純水装置に返送する構成としてもよい。
なお、蒸発濃縮装置16で得られた濃縮水(搬出液)は廃棄物となり、上記排水の蒸発濃縮により得られる凝集水は再利用されるが、アンモニアを含有しているためイオン交換装置18に供給されてその後の処理に供される。
また、上記イオン交換体は酸洗浄によって再生され、再生廃液が得られるが、酸洗浄の酸としては塩酸または硫酸を用いればよい。
一方、汎用されている塩酸溶液は約35%と濃度が低いことや、塩酸の蒸気が発生してしまい周辺の装置を腐食してしまう可能性があることや、蒸発濃縮装置が材質的に塩素イオンに弱いことなどから、塩酸の代わりに硫酸を用いてもよい(硫酸再生)。特に、汎用されている硫酸溶液は高い濃度を有しているため、運搬および貯留には好ましい。ただし、この場合は、別途塩化ナトリウムなどを添加する必要がある。
陽極:2H2O−2e- →4H++O2
2Cl- →Cl2+2e-
Cl2+H2O → HClO+HCl
陰極:2H2O+2e- →2OH-+H2
2NH3+3HClO → N2+3HCl+3H2O
2NH3+3NaClO → N2+3NaCl+3H2O(アルカリ性)
図2は、本発明のアンモニア含有水の処理方法の実施の形態2を実施するために用いるアンモニア含有水の処理装置(すなわち本発明のアンモニア含有水の処理装置の実施の形態2)の構成を説明するためのブロック図である。上記実施の形態と重複する構成要素については説明を省略する。
(1)少なくともアンモニアを含む排水を蒸発濃縮する蒸発濃縮工程Cと、
(2)前記蒸発濃縮工程Cで得られた凝集水に逆浸透膜処理または電気式脱イオン処理を施すことにより濃縮液からなる被処理液を得る被処理液調製工程Aと、
(3)前記被処理液を電解して前記アンモニアを分解・除去し、処理廃液を得る電解工程Bと、
(4)前記電解工程Bの後に前記処理廃液を蒸発濃縮する蒸発濃縮工程Dとを、上記(1)〜(4)の順に具備する。
本実施の形態においては、まず、液晶製造工場や半導体製造工場におけるクリーンルーム12において、液晶製造や半導体製造過程で使用され(例えばウエハの洗浄、エッチング)、アンモニアを含む排水(リンス排水、スクラバー排水)が排出される。なお、この排水にはアンモニアだけではなく、例えばフッ素なども含まれる。
蒸発濃縮装置16としては、上記実施の形態1において説明したものと同様のものを用いることができる。
ここで、上記(2)の逆浸透膜処理に用いる逆浸透膜装置24aとしては、例えば、超低圧のスパイラル型逆浸透膜である日東電工(株)製のES20や(株)東レ製のSUL−G20などを用いることができる。
また、電気式脱イオン処理に用いる電気式脱イオン装置24bとしては、例えば、(株)神鋼環境ソリューション製のE−Demiなどを用いることができる。
また、本実施の形態における濃縮液(被処理液)は塩素イオン量が少ないか、または塩素イオンを含んでいないため、電解工程Bの前に電解のために別途塩素または塩素イオンを含む薬品(例えば塩化ナトリウム、塩化カリウムまたは次亜塩素酸ナトリウムなど)を添加する必要がある。
図3は、本発明のアンモニア含有水の処理方法の実施の形態3を実施するために用いるアンモニア含有水の処理装置(すなわち本発明のアンモニア含有水の処理装置の実施の形態3)の構成を説明するためのブロック図である。上記実施の形態と重複する構成要素については説明を省略する。
本実施の形態は、排水の一部のみがアンモニアを含有し、もしくは高濃度でアンモニアを含有している場合に好適に用いることができる。
(1)少なくともアンモニアを含む排水にイオン交換処理を施すことにより被処理液を得る被処理液調製工程Aと、
(2)前記被処理液を電解して前記アンモニアを分解・除去し、処理廃液を得る電解工程Bと、
(3)前記電解工程Bの後に前記処理廃液を蒸発濃縮する蒸発濃縮工程Dとを、上記(1)〜(3)の順に具備する。
本実施の形態においては、まず、液晶製造工場や半導体製造工場におけるクリーンルーム12において、液晶製造や半導体製造過程で使用され(例えばウエハの洗浄、エッチング)、アンモニアを含む排水(リンス排水、スクラバー排水)が排出される。なお、この排水にはアンモニアだけではなく、例えばフッ素なども含まれる。
また、再生に塩酸を使用しない場合には、アンモニアを含む再生廃液に塩素が含まれていないため、電解工程Bの前に電解のために別途塩素または塩素イオンを含む薬品(例えば塩化ナトリウム、塩化カリウムまたは次亜塩素酸ナトリウムなど)を添加する必要がある。
図4は、本発明のアンモニア含有水の処理方法の実施の形態4を実施するために用いるアンモニア含有水の処理装置(すなわち本発明のアンモニア含有水の処理装置の実施の形態4)の構成を説明するためのブロック図である。上記実施の形態と重複する構成要素については説明を省略する。
本実施の形態も、前記実施の形態3と同様に、排水の一部のみがアンモニアを含有し、もしくは高濃度でアンモニアを含有している場合に好適に用いることができる。
(1)少なくともアンモニアを含む排水に逆浸透膜処理または電気式脱イオン処理を施すことにより濃縮液からなる被処理液を得る被処理液調製工程Aと、
(2)前記被処理液を電解して前記アンモニアを分解・除去し、処理廃液を得る電解工程Bと、
(3)前記電解工程Bの後に前記処理廃液を蒸発濃縮する蒸発濃縮工程Dとを、上記(1)〜(3)の順に具備する。
本実施の形態においては、まず、液晶製造工場や半導体製造工場におけるクリーンルーム12において、液晶製造や半導体製造過程で使用され(例えばウエハの洗浄、エッチング)、アンモニアを含む排水(リンス排水、スクラバー排水)が排出される。なお、この排水にはアンモニアだけではなく、例えばフッ素なども含まれる。
上記排水を逆浸透膜処理または電気式脱イオン処理することによって、濃縮液からなる被処理液を得る(被処理液調製工程A)。
また、上記アンモニアを含む濃縮液は、塩素や塩素イオンの量が少ないか、または含まれていないため、電解工程Bの前には電解のために別途塩素または塩素イオンを含む薬品(例えば塩化ナトリウム、塩化カリウムまたは次亜塩素酸ナトリウムなど)を添加する必要がある。
ここで用いられる電解装置20および蒸発濃縮装置として16も、上記実施の形態で説明したものと同様のものを用いることができる。
なお、電解処理によるアンモニアの分解により、硝酸性窒素や亜硝酸性窒素が生成しても、本発明においては電解後の処理水を蒸発濃縮処理するため、アンモニアの分解により生成した硝酸性窒素や亜硝酸性窒素は濃縮水として除去され、系外から排出される。
本実施例においては、図1に示す構成を有する本発明のアンモニア含有水の処理装置を用い、本発明のアンモニア含有水の処理方法を行った。
まず、液晶製造工場のクリーンルーム14からの排水を排水回収装置14にて回収し、「生物処理装置+精密濾過膜装置(MF膜装置)+逆浸透膜装置(RO膜装置)」にて処理し、この逆浸透膜装置にて得られた濃縮液を含む排水(アンモニアを含む排水)を蒸発濃縮装置16に供給し、蒸発濃縮処理を行った(蒸発濃縮工程)。
ここで、蒸発濃縮装置16への排水中のアンモニアイオン濃度は15mg/Lであり、供給量は1055m3/dayであった。蒸発濃縮装置16から得られた凝集水のアンモニアイオン濃度は15mg/Lであり、その発生量は1000m3/dayであった。得られた濃縮水(搬出水)55m3/dayは外部に排出した。
また、イオン交換装置18において用いたイオン交換樹脂を、当該イオン交換樹脂1Lに対して、1.5eqの酸を用いて3、7日に一回洗浄し、上記イオン交換樹脂に吸着したアンモニアを除去するとともに当該アンモニアを含む再生廃液を得た(イオン交換体再生工程C)。
このとき、得られた上記再生廃液のアンモニア濃度は1730mg/Lで発生量が8.7m3/dayであった。
このように塩酸および水酸化ナトリウムを含む再生廃液を、金属チタン板の表面を酸化イリジウム層で被覆した陽極および陰極を具備する電解槽を具備する電解装置20に導入し、再生廃液8.7m3を電解槽にて電力量60KWh/m3の条件で、電解処理を行った(電解工程)。
このとき、上記のような凝集水の処理に伴う、蒸発濃縮装置16における濃縮水(搬出液)の増加量は0.6m3/dayであった。また、電解装置16の消費電力は520kWh/dayであった。
実施例1において、イオン交換樹脂の洗浄に塩酸の代わりに硫酸を用いて酸洗浄を行ったところ塩酸洗浄時と同様に、アンモニア濃度1730mg/Lの再生廃液8.7m3/dayを得た。
上記再生廃液は酸洗浄により99.5kg/dayの量の硫酸を含有していたため、上記再生廃液を電解装置20に供給しながら、中和のために水酸化ナトリウムを81.2kg/day添加し、さらに電解のために塩化ナトリウムを77.4kg/day添加した。この再生廃液を実施例1と同様の電解装置20に導入し、再生廃液8.7m3を電解槽にて電力量100kWh/m3の条件で電解処理を行った。
このとき、上記のような凝集水の処理に伴う蒸発濃縮装置16における濃縮水(搬出液)の増加量は1.1m3/dayであった。また、電解装置16の消費電力は870kWh/dayであった。
本比較例においては、図5に示す構成を有する処理装置を用い、液晶製造工場のクリーンルーム14において回収したアンモニアを含む排水を処理した。
図5は、本比較例において用いたアンモニア含有水の処理装置100の構成を示す図である。イオン交換装置18および電解装置20以外の装置などの構成は、実施例1と同様とした。
ただし、本比較例においては凝集水を直接電解するため、電解装置16に供給する前の凝集水に、250mg/L(250kg/day)の塩化ナトリウムを添加した。
ただし、イオン交換装置18としてはカチオン交換樹脂塔18bおよびアニオン交換樹脂塔18cの2塔からなるものを使用した。カチオン交換樹脂塔18bにはカチオン交換樹脂を6.5m3充填し、アニオン交換樹脂塔18cには弱アニオン交換樹脂5.5m3を充填した。
電解装置20の処理水は、これらのカチオン交換樹脂塔18bおよびアニオン交換樹脂塔18cに、それぞれ空塔速度6.4h-1および7.6h-1で通水した。
イオン交換装置18から排出された上記再生廃液に含まれる塩化ナトリウムおよび硫酸ナトリウムは928kg/dayであった。
ここで、上記実施例および比較例において必要であった薬品、廃棄物および装置について、対比して表1に示す。
したがって、本発明のアンモニア含有水の処理方法および処理装置は、液晶製造工場や半導体製造工場の回収プロセスにおいて好適に用いることができる。
14・・・クリーンルーム
16・・・蒸発濃縮装置
18・・・イオン交換装置
18a・・・逆浸透膜装置
18b・・・カチオン交換樹脂塔18b
18c・・・アニオン交換樹脂塔18c
20・・・電解装置
22・・・純水装置
24a・・・逆浸透膜装置
24b・・・電気式脱イオン装置
Claims (16)
- 少なくともアンモニアを含む排水に、イオン交換処理、逆浸透膜処理または電気式脱イオン処理を施すことにより、被処理液を得る被処理液調製工程Aと、
前記被処理液調製工程Aから排出される前記被処理液を電解して前記アンモニアを分解・除去し、処理廃液を得る電解工程Bと、を具備すること、
を特徴とするアンモニア含有水の処理方法。 - 前記被処理液調製工程Aの前に、前記排水を蒸発濃縮する蒸発濃縮工程Cを具備し、
前記被処理液調製工程Aにおいて、前記蒸発濃縮工程Cで得られた凝集水にイオン交換処理、逆浸透膜処理または電気式脱イオン処理を施すことにより前記被処理液を得ること、
を特徴とする請求項1記載のアンモニア含有水の処理方法。 - 前記電解工程Bの後に、前記電解工程Bにおいて得られた前記処理廃液を蒸発濃縮する蒸発濃縮工程Dを具備すること、
を特徴とする請求項1または2記載のアンモニア含有水の処理方法。 - 前記被処理液調製工程Aの前に、前記排水を蒸発濃縮する蒸発濃縮工程Cを具備し、
前記電解工程Bの後に、前記電解工程Bにおいて得られた前記処理廃液を蒸発濃縮する蒸発濃縮工程Dを具備し、
前記被処理液調製工程Aにおいて、前記排水、前記蒸発濃縮工程Cで得られた凝集水および前記蒸発濃縮工程Dで得られた凝集水のうちの少なくともいずれかに、イオン交換処理、逆浸透膜処理または電気式脱イオン処理を施すことにより前記被処理液を得、
前記蒸発濃縮工程Cを前記蒸発濃縮工程Dとともに行い前記排水を前記処理廃液とともに蒸発濃縮すること、
を特徴とする請求項1記載のアンモニア含有水の処理方法。 - 前記イオン交換処理が、
イオン交換体を用いて前記排水をイオン交換して脱イオン水を得るイオン交換工程と、
前記イオン交換工程によりアンモニウムイオンを吸着した前記イオン交換体を酸で洗浄し、アンモニアを含む再生廃液を含む被処理液を得るイオン交換体再生工程と、を具備すること、
を特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のアンモニア含有水の処理方法。 - 前記逆浸透膜処理が、
前記排水を逆浸透膜処理して濃縮液を含む被処理液を得る逆浸透膜工程を具備すること、
を特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のアンモニア含有水の処理方法。 - 前記電気式脱イオン処理が、
前記排水を電気透析膜とイオン交換樹脂とを組み合わせて用いて電気再生式脱イオン処理して濃縮液を含む被処理液を得る電気式脱イオン工程を具備すること、
を特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のアンモニア含有水の処理方法。 - 前記イオン交換体再生工程において酸として硫酸を用いること、を特徴とする請求項5記載のアンモニア含有水の処理方法。
- 前記イオン交換体再生工程において酸として塩酸を用いること、を特徴とする請求項5記載のアンモニア含有水の処理方法。
- 前記電解工程Bの前に前記被処理液にアルカリ剤を添加すること、を特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載のアンモニア含有水の処理方法。
- 前記電解工程Bの前に前記被処理液に塩素化合物を添加すること、を特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載のアンモニア含有水の処理方法。
- 前記被処理液調製工程Aにおいて得られた脱イオン水から純水を製造すること、を特徴とする請求項5記載のアンモニア含有水の処理方法。
- 少なくともアンモニアを含む排水を、イオン交換体を用いてイオン交換するイオン交換装置、または逆浸透膜処理して濃縮液を得る逆浸透膜装置もしくは電気式脱イオン処理して濃縮液を得る電気式脱イオン装置と、
前記イオン交換体を再生する際に生成する再生廃液または前記濃縮液を含む被処理液を電解して前記アンモニアを分解・除去し、処理廃液を得る電解装置と、を具備すること、
を特徴とするアンモニア含有水の処理装置。 - 前記排水をあらかじめ蒸発濃縮して濃縮水と凝集水とを得る蒸発濃縮装置を具備すること、を特徴とする請求項13記載のアンモニア含有水の処理装置。
- 前記電解装置において得られた処理廃液を、前記排水とともに前記蒸発濃縮装置において蒸発濃縮すること、を特徴とする請求項14記載のアンモニア含有水の処理装置。
- 前記イオン交換装置、前記逆浸透膜装置または前記電気式脱イオン装置において得られた脱イオン水から純水を製造する純水装置を具備すること、を特徴とする請求項13または14記載のアンモニア含有水の処理装置。
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---|---|
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Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008229484A (ja) * | 2007-03-20 | 2008-10-02 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置からの濃縮廃水の処理方法および前記濃縮廃水の処理装置。 |
JP2010064074A (ja) * | 2009-12-07 | 2010-03-25 | Hitachi-Ge Nuclear Energy Ltd | 復水脱塩器からのアンモニア含有再生廃液の処理方法及び処理装置 |
WO2010061811A1 (ja) * | 2008-11-27 | 2010-06-03 | 栗田工業株式会社 | アミノ基を有する水溶性有機溶媒の分離回収装置及び方法 |
JP2010221142A (ja) * | 2009-03-24 | 2010-10-07 | Tsukishima Kankyo Engineering Ltd | 窒素成分を含む廃水の処理方法 |
CN102078803A (zh) * | 2009-11-27 | 2011-06-01 | 复旦大学 | 一种氨氮饱和后的沸石的再生装置及其应用 |
CN102190399A (zh) * | 2010-03-12 | 2011-09-21 | 复旦大学 | 一种电化学再生厌氧生化-吸附氨氮后的沸石的方法 |
JP2012217943A (ja) * | 2011-04-11 | 2012-11-12 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 脱塩処理方法及び脱塩処理システム |
JP2013237039A (ja) * | 2013-01-22 | 2013-11-28 | Kurita Water Ind Ltd | 閉鎖系空間用の水回収装置 |
JP2018065098A (ja) * | 2016-10-20 | 2018-04-26 | オルガノ株式会社 | アミン含有排水の処理方法及び処理装置 |
WO2018074039A1 (ja) * | 2016-10-20 | 2018-04-26 | オルガノ株式会社 | アミン含有排水の処理方法及び処理装置 |
JP2018094526A (ja) * | 2016-12-15 | 2018-06-21 | オルガノ株式会社 | アミン含有排水の処理方法及び処理装置 |
JP2019098206A (ja) * | 2017-11-29 | 2019-06-24 | オルガノ株式会社 | アンモニア濃縮方法及び装置 |
JP2020062631A (ja) * | 2018-10-19 | 2020-04-23 | Dowaテクノロジー株式会社 | 被処理物の処理方法 |
WO2020080008A1 (ja) * | 2018-10-19 | 2020-04-23 | オルガノ株式会社 | 水酸化テトラアルキルアンモニウム含有液の処理システム及び処理方法 |
CN117323790A (zh) * | 2023-11-22 | 2024-01-02 | 江苏裕创环境科技有限公司 | 一种适用于畜禽养殖场的废气处理工艺 |
Citations (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51109148A (ja) * | 1975-03-06 | 1976-09-27 | Daiki Engineering Co | |
JPS5482367A (en) * | 1977-12-14 | 1979-06-30 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Ammoniac nitrogen removing method |
JPS56141797U (ja) * | 1980-03-28 | 1981-10-26 | ||
JPS60190298A (ja) * | 1984-03-09 | 1985-09-27 | Ebara Infilco Co Ltd | 超純水の製造方法 |
JPS6193897A (ja) * | 1984-10-12 | 1986-05-12 | Hitachi Zosen Corp | 超純水製造装置 |
JPH0445887A (ja) * | 1990-06-13 | 1992-02-14 | Konica Corp | 写真処理廃液の蒸発濃縮処理方法及び処理装置 |
JPH05185094A (ja) * | 1991-12-28 | 1993-07-27 | Konica Corp | 水溶液の濃縮処理方法及び濃縮処理装置 |
JPH0679257A (ja) * | 1992-09-02 | 1994-03-22 | Hitachi Zosen Corp | クローズドシステムの超純水製造および排水処理方法 |
JPH06269776A (ja) * | 1993-03-16 | 1994-09-27 | Penta Ocean Constr Co Ltd | 水中のアンモニア性窒素除去装置 |
JPH07227592A (ja) * | 1994-02-21 | 1995-08-29 | Hitachi Zosen Corp | クローズドシステムの超純水製造および排水処理方法 |
JPH09168797A (ja) * | 1995-12-19 | 1997-06-30 | Seta Giken:Kk | 超高純度水の製造システム及びその製造方法 |
JPH1099853A (ja) * | 1996-09-27 | 1998-04-21 | Kurita Water Ind Ltd | 水酸化テトラアルキルアンモニウム含有水の処理装置 |
JPH1177089A (ja) * | 1997-07-14 | 1999-03-23 | Japan Organo Co Ltd | 廃水の処理法 |
JPH11169864A (ja) * | 1997-12-09 | 1999-06-29 | Kurita Water Ind Ltd | ホウ素含有水の処理方法 |
JPH11333443A (ja) * | 1998-05-26 | 1999-12-07 | Hitachi Zosen Corp | リンス排水のリサイクル法 |
JP2002096068A (ja) * | 2000-09-27 | 2002-04-02 | Japan Organo Co Ltd | 脱塩排水の処理方法及び装置 |
JP2003326263A (ja) * | 2002-05-07 | 2003-11-18 | Ebara Jitsugyo Co Ltd | 濃縮電気分解水処理法 |
JP2005021743A (ja) * | 2003-06-30 | 2005-01-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 写真廃液の処理方法 |
JP2005095741A (ja) * | 2003-09-24 | 2005-04-14 | Toshiba Corp | 水処理方法および水処理装置 |
JP2005218904A (ja) * | 2004-02-03 | 2005-08-18 | Sanyo Electric Co Ltd | 水処理装置 |
JP2005296848A (ja) * | 2004-04-13 | 2005-10-27 | Tokuyama Corp | 超純水の製造方法 |
-
2005
- 2005-10-04 JP JP2005291219A patent/JP4936505B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51109148A (ja) * | 1975-03-06 | 1976-09-27 | Daiki Engineering Co | |
JPS5482367A (en) * | 1977-12-14 | 1979-06-30 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Ammoniac nitrogen removing method |
JPS56141797U (ja) * | 1980-03-28 | 1981-10-26 | ||
JPS60190298A (ja) * | 1984-03-09 | 1985-09-27 | Ebara Infilco Co Ltd | 超純水の製造方法 |
JPS6193897A (ja) * | 1984-10-12 | 1986-05-12 | Hitachi Zosen Corp | 超純水製造装置 |
JPH0445887A (ja) * | 1990-06-13 | 1992-02-14 | Konica Corp | 写真処理廃液の蒸発濃縮処理方法及び処理装置 |
JPH05185094A (ja) * | 1991-12-28 | 1993-07-27 | Konica Corp | 水溶液の濃縮処理方法及び濃縮処理装置 |
JPH0679257A (ja) * | 1992-09-02 | 1994-03-22 | Hitachi Zosen Corp | クローズドシステムの超純水製造および排水処理方法 |
JPH06269776A (ja) * | 1993-03-16 | 1994-09-27 | Penta Ocean Constr Co Ltd | 水中のアンモニア性窒素除去装置 |
JPH07227592A (ja) * | 1994-02-21 | 1995-08-29 | Hitachi Zosen Corp | クローズドシステムの超純水製造および排水処理方法 |
JPH09168797A (ja) * | 1995-12-19 | 1997-06-30 | Seta Giken:Kk | 超高純度水の製造システム及びその製造方法 |
JPH1099853A (ja) * | 1996-09-27 | 1998-04-21 | Kurita Water Ind Ltd | 水酸化テトラアルキルアンモニウム含有水の処理装置 |
JPH1177089A (ja) * | 1997-07-14 | 1999-03-23 | Japan Organo Co Ltd | 廃水の処理法 |
JPH11169864A (ja) * | 1997-12-09 | 1999-06-29 | Kurita Water Ind Ltd | ホウ素含有水の処理方法 |
JPH11333443A (ja) * | 1998-05-26 | 1999-12-07 | Hitachi Zosen Corp | リンス排水のリサイクル法 |
JP2002096068A (ja) * | 2000-09-27 | 2002-04-02 | Japan Organo Co Ltd | 脱塩排水の処理方法及び装置 |
JP2003326263A (ja) * | 2002-05-07 | 2003-11-18 | Ebara Jitsugyo Co Ltd | 濃縮電気分解水処理法 |
JP2005021743A (ja) * | 2003-06-30 | 2005-01-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 写真廃液の処理方法 |
JP2005095741A (ja) * | 2003-09-24 | 2005-04-14 | Toshiba Corp | 水処理方法および水処理装置 |
JP2005218904A (ja) * | 2004-02-03 | 2005-08-18 | Sanyo Electric Co Ltd | 水処理装置 |
JP2005296848A (ja) * | 2004-04-13 | 2005-10-27 | Tokuyama Corp | 超純水の製造方法 |
Cited By (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008229484A (ja) * | 2007-03-20 | 2008-10-02 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置からの濃縮廃水の処理方法および前記濃縮廃水の処理装置。 |
WO2010061811A1 (ja) * | 2008-11-27 | 2010-06-03 | 栗田工業株式会社 | アミノ基を有する水溶性有機溶媒の分離回収装置及び方法 |
JP2010221142A (ja) * | 2009-03-24 | 2010-10-07 | Tsukishima Kankyo Engineering Ltd | 窒素成分を含む廃水の処理方法 |
CN102078803A (zh) * | 2009-11-27 | 2011-06-01 | 复旦大学 | 一种氨氮饱和后的沸石的再生装置及其应用 |
JP2010064074A (ja) * | 2009-12-07 | 2010-03-25 | Hitachi-Ge Nuclear Energy Ltd | 復水脱塩器からのアンモニア含有再生廃液の処理方法及び処理装置 |
CN102190399A (zh) * | 2010-03-12 | 2011-09-21 | 复旦大学 | 一种电化学再生厌氧生化-吸附氨氮后的沸石的方法 |
JP2012217943A (ja) * | 2011-04-11 | 2012-11-12 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 脱塩処理方法及び脱塩処理システム |
US10179745B2 (en) | 2013-01-22 | 2019-01-15 | Kurita Water Industries Ltd. | Water recovery system for use in confined spaces |
WO2014115383A1 (ja) * | 2013-01-22 | 2014-07-31 | 栗田工業株式会社 | 閉鎖系空間用の水回収装置 |
JP2013237039A (ja) * | 2013-01-22 | 2013-11-28 | Kurita Water Ind Ltd | 閉鎖系空間用の水回収装置 |
JP2018065098A (ja) * | 2016-10-20 | 2018-04-26 | オルガノ株式会社 | アミン含有排水の処理方法及び処理装置 |
WO2018074039A1 (ja) * | 2016-10-20 | 2018-04-26 | オルガノ株式会社 | アミン含有排水の処理方法及び処理装置 |
JP2018094526A (ja) * | 2016-12-15 | 2018-06-21 | オルガノ株式会社 | アミン含有排水の処理方法及び処理装置 |
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WO2020080244A1 (ja) * | 2018-10-19 | 2020-04-23 | Dowaエコシステム株式会社 | 被処理物の処理方法 |
WO2020080008A1 (ja) * | 2018-10-19 | 2020-04-23 | オルガノ株式会社 | 水酸化テトラアルキルアンモニウム含有液の処理システム及び処理方法 |
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