JP2006111963A - 低酸素含有合金及びスパッタリングターゲット - Google Patents
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Abstract
【課題】磁気メモリ用途に有用な磁気特性を有するスパッタリングターゲット用低酸素含有合金およびその合金で構成したスパッタリングターゲットの提供。
【解決手段】Ga,In,Ni及びZnから選択された1つの成分とMnを組み合わせたMn合金、およびFe又はCoをPt又はPdと組み合わせたFe合金またはCo合金において、L10又はL12タイプの結晶構造を持つ規則化合物を形成する特定の組成範囲を限定し、不純物による磁気特性低下を防止のため、酸素および硫黄不純物含有量を低く限定した。
【選択図】図1
【解決手段】Ga,In,Ni及びZnから選択された1つの成分とMnを組み合わせたMn合金、およびFe又はCoをPt又はPdと組み合わせたFe合金またはCo合金において、L10又はL12タイプの結晶構造を持つ規則化合物を形成する特定の組成範囲を限定し、不純物による磁気特性低下を防止のため、酸素および硫黄不純物含有量を低く限定した。
【選択図】図1
Description
本発明は、低酸素含有合金及びスパッタリングターゲットに関し、より詳しくは、磁気メモリ用途に有用な磁気特性を有する低酸素含有合金及びこの合金で形成するスパッタリングターゲットに関する。
磁気抵抗(MR)ヘッドや磁気ランダムアクセスメモリ(MRAM)は、次世代の垂直磁気記録用途や携帯電話のメモリ用途に関して重要な技術であると期待されている。記録面密度を増大しメモリチップの大きさを縮小するような設計に改善するための新たな材料が研究されている。これら新たな材料は、このような技術に用いるための特有の磁気特性を保有しなければならないだけでなく、高純度でなければならない。
材料の純度は、磁気データ記録用途やMRAM用途に用いられる薄膜材料の性能に重要な役割を果たす。例えば、酸素、窒素、硫黄及びアルカリドのような不純物の存在は、薄膜材料の格子構造を変え、それによって格子内で原子を置換する。材料の構造的規則に対するこの影響は、材料の磁気的性質を低下させ、その結果、磁気メモリ用途の磁気性能を低下させる。加えて、酸素のような不純物の存在は、磁気層内へ薄膜材料を通して短い拡散経路を生成するかもしれない。従って、特有の磁気特性を持ち高純度の薄膜材料を特定し開発する必要がある。
本発明は、磁気メモリ用途に用いるために好ましい磁気特性を持つ一連の合金を含む。前記合金は、特許請求の範囲に記載の組成範囲内でL10或いはL12タイプの結晶構造を持つ規則化合物を形成する。更に、本発明の合金は、酸素や硫黄のような不純物の含有量が低く、そのことが、磁気メモリ用途におけるより良好な性能を提供する。前記合金で薄膜用途に用いられるスパッタリングターゲットを形成することが望ましい。
本発明の合金は、Mn(マンガン)とGa(ガリウム),In(インジウム),Ni(ニッケル)及びZn(亜鉛)から選択された1つの成分を組み合わせたMn合金からなる。また、本発明の合金は、Fe(鉄)又はCo(コバルト)とPt(白金)又はPd(パラジウム)を組み合わせたFe合金及びCo合金からなる。
本発明の前記合金の酸素含有量は、500ppm以下であり、好ましくは100ppmである。更に、前記合金の硫黄含有量は、100ppm以下であり、好ましくは50ppm以下である。
本発明の上述の記載は、本発明の本質を素早く理解可能にするために総括的に記載、提供したもので、本発明をより完全に理解するには、以下の詳細な説明を参照すればよいであろう。
本発明者等は、好ましい磁気特性を示し、不純物含有量が低い一連の合金を特定し、開発した。本発明の合金は、L10或いはL12タイプの結晶構造を持つ規則化合物を形成する。更に、本発明の合金は酸素と硫黄の含有量が著しく低減した。
表1は、本発明の合金について適切な組成及び構造のデータを要約したものである。具体的には、表1は、規則相記号、構造呼称、前記規則相が存在する組成範囲及び前記規則相が他の相タイプと共存する組成範囲を確認する。表1に使用された規則相記号は、Binary Phase Diagrams,第2版(Thaddeus B.Massalski編)に見られる状態図から得た。
表1に挙げた第1グループの合金は、L10或いはL12の結晶構造を示すMn合金からなる。これらMn合金は、磁気データ記録用途やMRAM用途に用いられる薄膜材料にとって好ましい反強磁性特性を持つ。具体的には、これらMn合金は、高密度記録に用いられる異方性磁気抵抗(AMR)や巨大磁気抵抗(GMR)スピンバルブセンサ用として重要である。これらMn合金は、また、Mnと共に使用する合金成分が、Pt,Pd,Ir(イリジウム)或いはRh(ロジウム)のような一般的に用いられる材料よりも安価な材料であることも重要である。下記の実施例1,2は、本発明に係るMn−Ni合金とMn−In合金についてそれぞれ説明する。
実施例1
一連の3つのNi−Mn合金の溶解試験を行った。各試験の溶解装入物を下記の表2に示す。溶解装入物を、純度99.95%のNiの球状体(shots)と純度99.9%のMn薄片を用いて作成した。
一連の3つのNi−Mn合金の溶解試験を行った。各試験の溶解装入物を下記の表2に示す。溶解装入物を、純度99.95%のNiの球状体(shots)と純度99.9%のMn薄片を用いて作成した。
第1溶解試験では、合金インゴットを直接MgO(酸化マグネシウム)の坩堝で凝固した。第2及び第3溶解試験では、その合金を溶融し黒鉛鋳型で鋳造した。その黒鉛鋳型にBN(窒化ホウ素)を噴霧し、VIM(真空誘導溶解)装置のチャンバ内に据え付けられる前に別の炉内で500Fまで予熱した。全ての3つの溶解試験に関して、VIM装置のチャンバを、溶解作業に備えて約0.05ミリバール(mbar)まで排気した。
全ての3つの試験の溶解作業を、VIM装置に、5kWの電力を20分間供給し、その後、5分毎に5kW電力を増大して20分間電力供給して行った。Mn薄片が溶解し始めた時点で、第1試験ではVIM装置のチャンバに約40mbarの圧力までアルゴンを注入した。第2及び第3試験では、VIM装置のチャンバに、25分で500mbarまでアルゴンを注入し、それから37分で700mbarまでアルゴンを注入した。
合金試料を、化学組成を分析するためにインゴットから分取した。インゴットを製造した後のMgO坩堝と黒鉛鋳型の検査では、侵食の顕著な痕跡は見られなかった。図1及び図2は、それぞれ鋳放しのNi40Mnat.%合金と鋳放しのNi30Mnat.%合金のミクロ組織の光学顕微鏡写真を示す。3つの溶解試験による合金試料の化学分析結果を、下記の表3に示した。
表3に示すように、3つの溶解された合金は、それぞれ十分に脱酸され、酸素レベルが100ppmを越えるものはなかった。第1及び第2溶解試験の酸素レベルを第3溶解試験の酸素レベルと比較すると、Ce(セリウム)もまた合金組成の脱酸に寄与することを示している。更には、Mn薄片の硫黄含有量が300ppm前後と測定されたことから、表3のデータは、CaSi2もまた溶解合金の脱硫に関与していることを示す。表3において、“/”は、その特定成分について測定していないことを示し、“0”は、その特定成分が検出されなかったことを示す。
実施例2
2427gの純度99.9%のMn薄片と5073gの純度99.9%のIn棒状体を用いて溶解試験を行なった。MnとIn成分に加えて、25gのCaSi2と10gのCeを脱酸剤として添加した。溶解装入物は、VIM装置のチャンバ内のMgO坩堝で0.07mbarの減圧下で500Fまで予熱した。その後、VIM装置のチャンバに500mbarまでアルゴンを注入し、そして、5kWの電力を同装置へ20分間供給し、その後、5分毎に5kW電力を増大して20分間電力供給して溶解装入物を溶解した。その後、溶解装入物を黒鉛鋳型内で鋳造した。
2427gの純度99.9%のMn薄片と5073gの純度99.9%のIn棒状体を用いて溶解試験を行なった。MnとIn成分に加えて、25gのCaSi2と10gのCeを脱酸剤として添加した。溶解装入物は、VIM装置のチャンバ内のMgO坩堝で0.07mbarの減圧下で500Fまで予熱した。その後、VIM装置のチャンバに500mbarまでアルゴンを注入し、そして、5kWの電力を同装置へ20分間供給し、その後、5分毎に5kW電力を増大して20分間電力供給して溶解装入物を溶解した。その後、溶解装入物を黒鉛鋳型内で鋳造した。
図3は、鋳放しのIn50Mnat.%合金のミクロ組織を示すSEM顕微鏡写真である。この顕微鏡写真に示されたそのミクロ組織は、3つの相、即ち、明るいインジウム母材、明るい灰色の相のように見える(In,Mn)固溶体及び暗灰色の粒子のように見えるInMn3化合物からなる。顕微鏡写真内の黒い点は、気孔である。鋳放し材料の化学組成を分析し、その結果を下記の表4に示した。
また、表1に示されている合金としてFe合金及びCo合金がある。これら合金において、Fe又はCoは、合金を形成するためにPt又はPdのいずれかと組み合わされる。これら合金は、200GB以上の記録容量を達成することが期待される垂直記録技術を用いた次世代の記録媒体用として重要である。また、これらの合金は、高い異方性定数(Kμ>107J.m-1)を達成できるものとして磁気ハード層の形成に特に重要である。下記の実施例3は、Fe−Pt合金の一例を示す。
実施例3
13.500kgの純度99.9%のPt球状体(shots)と4.724kgの純度99.97%の電解Fe薄片を用いて溶解試験を行なった。91g(〜0.50wt.%)のCaSi2を脱酸のために溶解装入物に加えた。PtとFeを交互に積層してその層間にCaSi2を均一に配した溶解装入物をマグネシア坩堝に配置した。VIM装置チャンバを密閉し、0.07mbarの初期レベルまで減圧した。その後、チャンバにアルゴンを注入し、溶解及び鋳造の間500mbarの圧力を維持した。溶解は、VIM装置に5kWの電力を20分間供給し、その後、5分毎に5kW電力を増大して20分間電力供給をして行った。そのモールドシステムは、幅8.00インチ、長さ15.00インチ、厚さ0.60インチの黒鉛シェルとした。
13.500kgの純度99.9%のPt球状体(shots)と4.724kgの純度99.97%の電解Fe薄片を用いて溶解試験を行なった。91g(〜0.50wt.%)のCaSi2を脱酸のために溶解装入物に加えた。PtとFeを交互に積層してその層間にCaSi2を均一に配した溶解装入物をマグネシア坩堝に配置した。VIM装置チャンバを密閉し、0.07mbarの初期レベルまで減圧した。その後、チャンバにアルゴンを注入し、溶解及び鋳造の間500mbarの圧力を維持した。溶解は、VIM装置に5kWの電力を20分間供給し、その後、5分毎に5kW電力を増大して20分間電力供給をして行った。そのモールドシステムは、幅8.00インチ、長さ15.00インチ、厚さ0.60インチの黒鉛シェルとした。
図4は、鋳放しのFe45Ptat.%合金のミクロ組成を示す光学顕微鏡写真である。そのミクロ組織は、上述の表1に示されたFePt単一相の密に双晶化した粒子からなる。その双晶化粒子は、1300℃での正方晶のFePtへの(γFe,Pt)fcc固溶体の変態中における格子ひずみに起因すると考えられる。その鋳放し材料の化学成分を分析し、その結果を下記の表5に示した。
前述の各実施例は、本発明に係る合金の例を示している。これら実施例は、その範囲や発明を制限することを意図するものではなく、本発明は、特許請求の範囲の記載から解釈されるべきである。
前述の実施例が最良の形態及び/又は他の実施例であると考えられていることを述べていると同時に、種々の変形が可能であり、ここに記載された主題は種々の形態及び実施例によって実施可能であり、また、ここに記載したのは数例だが多数の用途に適用することが可能であることが理解されるであろう。
Claims (44)
- 50−30at.%のマンガンと50−70at.%のガリウムからなり、酸素含有量が500ppm以下で、硫黄含有量が100ppm以下であることを特徴とする低酸素含有合金。
- 45−37at.%のマンガンと55−63at.%のガリウムからなる請求項1に記載の低酸素含有合金。
- 酸素含有量が100ppm以下で、硫黄含有量が50ppm以下である請求項1に記載の低酸素含有合金。
- 50−15at.%のマンガンと50−85at.%のインジウムからなり、酸素含有量が500ppm以下で、硫黄含有量が100ppm以下であることを特徴とする低酸素含有合金。
- 25at.%のマンガンと75at.%のインジウムからなる請求項4に記載の低酸素含有合金。
- 酸素含有量が100ppm以下で、硫黄含有量が50ppm以下である請求項4に記載の低酸素含有合金。
- 56−40at.%のマンガンと44−60at.%のニッケルからなり、酸素含有量が500ppm以下で、硫黄含有量が100ppm以下であることを特徴とする低酸素含有合金。
- 53−44.5at.%のマンガンと47−55.5at.%のニッケルからなる請求項7に記載の低酸素含有合金。
- 酸素含有量が100ppm以下で、硫黄含有量が50ppm以下である請求項7に記載の低酸素含有合金。
- 90−70at.%のニッケルと10−30at.%のマンガンからなり、酸素含有量が500ppm以下で、硫黄含有量が100ppm以下であることを特徴とする低酸素含有合金。
- 85−71at.%のニッケルと15−29at.%のマンガンからなる請求項10に記載の低酸素含有合金。
- 酸素含有量が100ppm以下で、硫黄含有量が50ppm以下である請求項10に記載の低酸素含有合金。
- 80−60at.%の亜鉛と20−40at.%のマンガンからなり、酸素含有量が500ppm以下で、硫黄含有量が100ppm以下であることを特徴とする低酸素含有合金。
- 75−69at.%の亜鉛と25−31at.%のマンガンからなる請求項13に記載の低酸素含有合金。
- 75−70at.%の亜鉛と25−30at.%のマンガンからなる請求項13に記載の低酸素含有合金。
- 酸素含有量が100ppm以下で、硫黄含有量が50ppm以下である請求項13に記載の低酸素含有合金。
- 84−65at.%の鉄と16−35at.%の白金からなり、酸素含有量が500ppm以下で、硫黄含有量が100ppm以下であることを特徴とする低酸素含有合金。
- 84−67at.%の鉄と16−33at.%の白金からなる請求項17に記載の低酸素含有合金。
- 酸素含有量が100ppm以下で、硫黄含有量が50ppm以下である請求項17に記載の低酸素含有合金。
- 65−41at.%の鉄と35−59at.%の白金からなり、酸素含有量が500ppm以下で、硫黄含有量が100ppm以下であることを特徴とする低酸素含有合金。
- 65−45at.%の鉄と35−55at.%の白金からなる請求項20に記載の低酸素含有合金。
- 酸素含有量が100ppm以下で、硫黄含有量が50ppm以下である請求項20に記載の低酸素含有合金。
- 43−17at.%の鉄と57−83at.%の白金からなり、酸素含有量が500ppm以下で、硫黄含有量が100ppm以下であることを特徴とする低酸素含有合金。
- 43−21at.%の鉄と57−79at.%の白金からなる請求項23に記載の低酸素含有合金。
- 酸素含有量が100ppm以下で、硫黄含有量が50ppm以下である請求項23に記載の低酸素含有合金。
- 70−37at.%の鉄と30−63at.%のパラジウムからなり、酸素含有量が500ppm以下で、硫黄含有量が100ppm以下であることを特徴とする低酸素含有合金。
- 51.4−40at.%の鉄と48.5−60at.%のパラジウムからなる請求項26に記載の低酸素含有合金。
- 酸素含有量が100ppm以下で、硫黄含有量が50ppm以下である請求項26に記載の低酸素含有合金。
- 40−12at.%の鉄と60−88at.%のパラジウムからなり、酸素含有量が500ppm以下で、硫黄含有量が100ppm以下であることを特徴とする低酸素含有合金。
- 37−14at.%の鉄と63−86at.%のパラジウムからなる請求項29に記載の低酸素含有合金。
- 酸素含有量が100ppm以下で、硫黄含有量が50ppm以下である請求項29に記載の低酸素含有合金。
- 60−24at.%のコバルトと40−76at.%の白金からなり、酸素含有量が500ppm以下で、硫黄含有量が100ppm以下であることを特徴とする低酸素含有合金。
- 58−26at.%のコバルトと42−74at.%の白金からなる請求項32に記載の低酸素含有合金。
- 酸素含有量が100ppm以下で、硫黄含有量が50ppm以下である請求項32に記載の低酸素含有合金。
- 25−10at.%のコバルトと75−90at.%の白金からなり、酸素含有量が500ppm以下で、硫黄含有量が100ppm以下であることを特徴とする低酸素含有合金。
- 25−12at.%のコバルトと75−88at.%の白金からなる請求項35に記載の低酸素含有合金。
- 酸素含有量が100ppm以下で、硫黄含有量が50ppm以下である請求項35に記載の低酸素含有合金。
- 70−42at.%のコバルトと30−58at.%のパラジウムからなり、酸素含有量が500ppm以下で、硫黄含有量が100ppm以下であることを特徴とする低酸素含有合金。
- 52−48at.%のコバルトと48−52at.%のパラジウムからなる請求項38に記載の低酸素含有合金。
- 酸素含有量が100ppm以下で、硫黄含有量が50ppm以下である請求項38に記載の低酸素含有合金。
- 42−6at.%のコバルトと58−94at.%のパラジウムからなり、酸素含有量が500ppm以下で、硫黄含有量が100ppm以下であることを特徴とする低酸素含有合金。
- 40−10at.%のコバルトと60−90at.%のパラジウムからなる請求項41に記載の低酸素含有合金。
- 酸素含有量が100ppm以下で、硫黄含有量が50ppm以下である請求項41に記載の低酸素含有合金。
- 請求項1〜43のいずれか1つに記載の低酸素含有合金で構成したことを特徴とするスパッタリングターゲット。
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