JP2005062795A - 重合性組成物及びそれを用いた画像記録材料 - Google Patents

重合性組成物及びそれを用いた画像記録材料 Download PDF

Info

Publication number
JP2005062795A
JP2005062795A JP2003375262A JP2003375262A JP2005062795A JP 2005062795 A JP2005062795 A JP 2005062795A JP 2003375262 A JP2003375262 A JP 2003375262A JP 2003375262 A JP2003375262 A JP 2003375262A JP 2005062795 A JP2005062795 A JP 2005062795A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
polymerizable composition
acid
compound
dye
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2003375262A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4299639B2 (ja
Inventor
Kazuto Shimada
和人 嶋田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2003375262A priority Critical patent/JP4299639B2/ja
Priority to EP04017841A priority patent/EP1507170A3/en
Priority to US10/900,168 priority patent/US7291443B2/en
Publication of JP2005062795A publication Critical patent/JP2005062795A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4299639B2 publication Critical patent/JP4299639B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1016Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/02Cover layers; Protective layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/14Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by macromolecular organic compounds, e.g. binder, adhesives
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/04Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/06Developable by an alkaline solution
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • Y10S430/107Polyamide or polyurethane
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • Y10S430/111Polymer of unsaturated acid or ester
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/122Sulfur compound containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/145Infrared

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

【課題】 未露光部のアルカリ現像性に優れ、且つ、高温高湿度などの厳しい雰囲気下で保存しても経時的な現像性の低下を生ずることがない、現像性と現像安定性に優れた重合性組成物、及び、その組成物を用いたネガ型記録層を有する平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】 (A)有機溶媒及びアルカリ水溶液に可溶性であり、且つ、700〜1200nmに吸収を有する色素と、(B)ラジカル重合開始剤と、(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物と、(D)バインダーポリマーとを含有することを特徴とする重合性組成物、及び該重合性組成物を含む記録層を備えてなる平版印刷版原版。
【選択図】 なし

Description

本発明は、重合性組成物、及び該重合性組成物を記録層として用いた画像記録材料に関し、特に、赤外線レーザによる高感度で書き込み可能な画像記録媒体及び平版印刷版原版に関する。
近年におけるレーザーの発展は目ざましく、特に、近赤外線から赤外線領域に発光領域を持つ個体レーザーや半導体レーザーでは、高出力・小型化が進んでいる。したがって、コンピュータ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光源として、これらのレーザーは非常に有用である。
このようなレーザーを露光光源として使用する画像記録媒体としては、光熱変換物質と、ラジカルを発生する熱重合開始剤と、熱重合性樹脂とを含む熱重合性記録層が知られている(例えば、特許文献1参照。)。
通常、このような熱重合性記録層を構成するネガ型の画像形成材料は、光又は熱により発生したラジカルを開始剤として重合反応を生起させ、露光部を硬化させて画像部を形成する記録方式を利用している。
このようなネガ型の画像形成材料において、色素やその他の構成成分としてイオン性の素材や極性の高い化合物を添加して、反応性や検版性などの特性を改良することも可能であるが、高極性の化合物は、高温雰囲気下で保存した場合、併用されるバインダーや重合性化合物との間で所望されない相互作用を形成し、未露光部の現像液に対する溶解速度が低下して、通常の現像条件において残膜が発生しやすくなるといった問題を有していた。
熱重合性以外の画像記録材料の分野、例えば、赤外線レーザ対応のポジ型画像記録材料や、酸発生剤と酸架橋剤とを含む架橋性のネガ型画像記録材料において、アルカリ現像時の残膜発生や色素汚れの発生を軽減する目的で、アルカリ水可溶性の色素を用いる技術が提案されている(例えば、特許文献2参照。)が、ここでは、重合性組成物への適用については検討されていなかった。
特開平8−108621号公報 特開2000−267265公報
本発明は上記問題点を考慮してなされたものであり、本発明の目的は、露光により速やかに重合、硬化するとともに、未露光部のアルカリ現像性に優れ、且つ、高温高湿度などの厳しい雰囲気下で保存しても経時的な現像性の低下を生ずることがない、現像性と現像安定性に優れた重合性組成物、及び、その組成物を用いたネガ型記録層を有する画像記録材料を提供することにある。
本発明者らは、鋭意検討の結果、ポジ型画像記録材料への応用などが知られている有機溶媒及びアルカリ水溶液に可溶性の色素を重合性組成物に用いることで、優れた膜性と現像性とを両立し、現像の経時安定性に優れた組成物が得られること、さらに、酸基を有するポリマーとの併用でその効果が著しく向上することを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明の重合性組成物は、(A)有機溶媒及びアルカリ水溶液に可溶性であり、且つ、700〜1200nmに吸収を有する色素と、(B)ラジカル重合開始剤と、(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物と、(D)バインダーポリマーと、を含有することを特徴とする。
(A)有機溶媒及びアルカリ水溶液に可溶性であり、且つ、700〜1200nmに吸収を有する色素は、アルカリ水解離性基、及び、アルカリ水により分解可能な官能基からなる群より選択される1以上の官能基を有することが好ましく、このような官能基としては、例えば、エステル基などが挙げられる。
また、ここで用いられる(D)バインダーポリマーは、下記一般式(I)で表されるアルカリ可溶性基を有する構造単位を含むポリマーであることが好ましい態様である。
Figure 2005062795
(一般式(I)中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子からなる群より選択される2以上の原子から構成され、その原子数が2〜82である連結基を表す。Aは酸素原子又は−NR3−を表し、R3は水素原子又は炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表す。nは1〜5の整数を表す。)
また、本発明の請求項5に係る画像記録材料は、支持体上に、前記本発明の重合性組成物のいずれかを含む記録層を備えてなることを特徴とする。
本発明の作用は明確ではないが、以下のことが推測される。本発明の重合性組成物は、(A)有機溶媒及びアルカリ水溶液に可溶性であり、且つ、700〜1200nmに吸収を有する色素を用いることにより、色素自体が高い極性を示し、安定な層を形成しうるとともに、有機溶媒及びアルカリ水溶液に可溶性とするために色素分子内に導入された酸性基又はその塩等の機能より、アルカリ水に容易に溶解しうるため、高い現像性を示すとともに、高温高湿などの厳しい条件下で保存した場合の現像性の低下を抑制することが可能になる。
さらに、本発明の好ましい態様においては、(D)バインダーとして、分子内に現像性の高い酸基を有する高分子化合物を用いることで強制経時における現像性の低下抑制効果がさらに高まるものと考えられる。
また、本発明の重合性組成物に含まれる、700〜1200nmに吸収を有する色素がアルカリ現像液に可溶性であるため、これを画像記録材料の記録層として用いた場合、非画像部が良好な可溶性を発現し、残膜の発生を抑制するのみならず、不溶性の色素や顔料を用いた場合に生じる非画像部領域の汚れの発生が抑制され、特に、印刷時の刷り出し枚数(払い枚数)を少なくすることができるという利点をも有する。
本発明によれば、露光により速やかに重合、硬化するとともに、未露光部のアルカリ現像性に優れ、且つ、高温高湿度などの厳しい雰囲気下で保存しても経時的な現像性の低下を生ずることがない、現像性と現像安定性に優れた重合性組成物、及び、その組成物を用いたネガ型記録層を有する画像記録材料を提供することができる。
以下、本発明の重合性組成物及びそれを用いた画像記録材料について詳細に説明する。
〔重合性組成物〕
本発明の重合性組成物は、(A)有機溶媒及びアルカリ水溶液に可溶性であり、且つ、700〜1200nmに吸収を有する色素(以下、適宜、特定色素と称する。)と、(B)ラジカル重合開始剤と、(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物と、(D)バインダーポリマーと、を含有することを特徴とする。
各構成要素について、以下に、詳細に記載する。
[(A)有機溶媒及びアルカリ水溶液に可溶性であり、且つ、700〜1200nmに吸収を有する色素(特定色素)]
本発明において、(A)成分としての特定色素は、700〜1200nmの範囲に吸収、好ましくは吸収極大波長を有しており、且つ、アルカリ水溶液に可溶性であれば、特に限定されないが、分子内に、pKa1〜17の解離性基又はその塩(以下、適宜、これらを官能基及びその塩を含めてアルカリ水解離性基と称する)を有する化合物が好ましい。
また、(A)特定色素の他の好ましい態様としては、アルカリ水溶液で分解可能な官能基を有している化合物が挙げられる。ここでいう、アルカリ水溶液で分解可能な官能基の具体的な好ましい態様としては、エステル基が挙げられる。
なお、前記可溶性色素は、製造適性上の理由から有機溶剤に可溶であることが必要である。
本発明の画像形成材料では、固体レーザーや半導体レーザー等から放射される赤外線照射光を吸収する赤外線吸収剤として、有機溶媒及びアルカリ水に可溶な赤外線吸収色素を使用する。
用いられる特定色素は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有しており、この際、本発明の重合性組成物において、発生した熱により後述の(B)ラジカル重合開始剤が分解してラジカルを発生し、そのラジカルにより(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物の重合反応が生起、進行し、赤外線レーザーの照射領域のみが硬化し、アルカリ水に不溶となる。
本発明で用いる、前記有機溶媒及びアルカリ水に可溶な色素は、波長700〜1200nmの赤外線を有効に吸収しうる染料であるが、中でも、波長760〜1200nmの領域に吸収極大を有する染料がより好ましい。
本発明に係る(A)特定色素は、有機溶剤に可溶な色素であることから、塗布液状の重合性組成物を作製した場合に、均一かつ安定な塗布液とすることができ、また、アルカリ水中において解離又は分解を起こすため、アルカリ性の水溶液(以下、「アルカリ現像液」という場合がある。)を用いることにより、迅速、良好な現像処理を行うことができる。
従って、現像時にアルカリ現像液に浸漬した場合、不要な特定色素がアルカリ現像液内に排出されるが、該色素成分はアルカリ現像液に解離して溶出されるために、多量の赤外線吸収色素を使用した場合でも、不要な赤外線吸収色素を重合性組成物中から容易に且つ完全に溶解除去することができる。即ち、多量の赤外線吸収色素の使用による高感度な重合反応の進行が可能となり、さらに、現像時に除去されずに残存する色素の問題がなくなるため、画像記録材料の記録層として用いた場合の、非画像部の色素汚れの発生をも防止することができる。また、該特定色素が、現像液中に浮遊することによる現像阻害や色素付着による、非画像部の汚れの発生を防止することもできる。
また、現像性の向上により、現像時の現像処理条件の影響を受け難い、広い現像ラチチュードを得ることができるため、高温保存等による現像性の低下を防止することができ、結果的に重合性組成物としての保存安定性の向上を図ることができる。
本発明の重合性組成物に使用できる特定色素について説明する。
前記有機溶媒及びアルカリ水に可溶で、且つ、700〜1200nmに吸収を有する、即ち、赤外線吸収性の、色素としては、市販の染料及び文献(例えば、「染料便覧」,有機合成化学協会編集,昭和45年刊;THE CYANINE DYES AND RELATED COMPOUNDS,Frances.M.Harmer著;Infrared Absorbing Dyes. Edited by Masaru Matsuoka,1990年)に記載されている公知の赤外線吸収色素(染料)に、アルカリ水解離性基あるいはアルカリ水により分解可能な官能基(以下、これらをアルカリ水可溶性基と総称することがある)を導入したものを用いることができる。
具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料等の染料にアルカリ水可溶性基を導入したものが挙げられ、中でも、赤外光若しくは近赤外光(波長700〜1200nm)を高効率に吸収しうるものが好ましい。
前記染料のうち、赤外光若しくは近赤外光を吸収しうる染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−202829号、特開昭60−78787号等に記載のシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載のメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載のナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載のスクワリリウム色素、英国特許434,875号に記載のシアニン染料、米国特許5,380,635号に記載のジヒドロペリミジンスクアリリウム染料等にアルカリ水可溶性基を導入したものを挙げることができる。
さらに、染料として、米国特許第5,156,938号に記載の近赤外吸収増感剤にアルカリ水可溶性基を導入したものも好適に用いることができる。
また、米国特許第3,881,924号に記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)に記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載のピリリウム系化合物、特開昭59−216146号に記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩、特公平5−13514号、同5−19702号に記載のピリリウム化合物などに酸基などを導入したものが好適に挙げられ、市販品としては、エポリン社製の、Epolight III−178、Epolight III−130、Epolight III−125、Epolight IV−62A等にアルカリ水可溶性基を導入したものも好適に用いることができる。
また、米国特許第4,756,993号明細書に記載の式(I)及び(II)で表される近赤外吸収染料にアルカリ水可溶性基を導入したものも好適に挙げることができる。
アルカリ水可溶性基としては前記したように、アルカリ水解離性基とアルカリ水に分解可能な官能基が挙げられる。
まず、アルカリ水解離性基について説明する。前記アルカリ水解離性基としては、pKa17以下に解離性を有する酸基、酸基の前駆体又はその共役塩基基が挙げられ、中でも、pKa1〜17に解離性を有する酸基、酸基の前駆体又はその共役塩基基が好ましく、pKa3〜13に解離性を有する酸基、酸基の前駆体又はその共役塩基基がより好ましい。
前記pKaが、1未満であると、保水性が高く、経時変化が大きく画像形成材料の保存安定性の低下が生じることがあり、pKaが17を超えると、逆に親水性が低下するため、現像不良や非画像部の汚れを生ずることがある。
前記酸基、酸基の前駆体又はその共役塩基基としては、例えば、ヒドロキシル基、置換オキシ基(R4O−)、メルカプト基、置換カルボニル基、カルボキシル基又はその共役塩基基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基又はその共役塩基基、カルバモイル基、ウレタン基、ウレア基、チオウレア基、N−アルキルスルファモイル基、又はその共役塩基基、N−アリールスルファモイル基又はその共役塩基基、N−アシルスルファモイル基又はその共役塩基基、N−アルキルスルホニルスルファモイル基又はその共役塩基基、N−アリールスルホニルスルファモイル基又はその共役塩基基、N−アルキルスルホニルカルバモイル基又はその共役塩基基、N−アリールスルホニルカルバモイル基又はその共役塩基基、ホスホノ基、フェノール基又はその共役塩基基、置換ホスホノ基、ホスホナト基、置換ホスホナト基、シアノ基、アルコキシシリル基、アリーロキシシリル基、ヒドロキシシリル基又はその共役塩基基等を好適に挙げることができる。
前記酸基、酸基の前駆体又はその共役塩基基は、2以上の特定色素の間で2価の炭化水素連結基を介して結合されていてもよい。
既に水素が解離したアルカリ水解離性基を持つ赤外線吸収色素や両性イオン型の赤外線吸収色素もアルカリ水溶液による現像性が高く、使用することが可能である。
上記のうち、アルカリ水解離性基としては、カルボキシル基或いはその共役塩基、スルホナト基或いはその共役塩基、フェノール基、スルホンアミド基、βカルボニルエステル基、βカルボニルケトン基、などが好ましい。また、その他のカルボン酸エステル基、特にカルボン酸メチルエステル基も使用することができる。
前記アルカリ水解離性基は、700〜1200nmに吸収を有する色素はイオン性の化合物の場合、カチオン部、アニオン部のいずれのユニットに結合していてもよいが、通常、700〜1200nmに吸収を有する骨格を有する構造は疎水性が高いために、現像性の効果をよりよく発現させるという観点からは、アルカリ水解離性基は、700〜1200nmに吸収を有する骨格を有する構造を含むユニットに結合していることが好ましい。
また、前記アルカリ水溶液で分解可能な官能基の、具体的な好ましい態様としては、エステル基が挙げられる。
アルカリ性水溶液への溶解性の観点から、エステル基のなかでも、特にメチルエステル基、アリールエステル基、ベンジルエステル基、アリルエステル基が好ましい。さらに、合成上、及び、アルカリ可溶性の観点からメチルエステル基が最も好ましい。
これらのエステル基は、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、スルホ基、カルボニル基、カルボキシル基、エステル基、アルコキシ基、チオアルコキシ基などで置換されたものであってもよい。
本発明に用いる特定色素としては、pKa1〜17のアルカリ水解離性基を有する、有機溶媒及びアルカリ水に可溶な赤外線吸収色素が好ましく、pKa3〜13のアルカリ水解離性基又はその共役塩基を有する、有機溶媒及びアルカリ水に可溶な700〜1200nmに吸収を有する色素がより好ましい。
本発明に好適に用いられる特定色素としては、具体的には、例えば、以下に示す化合物〔例示化合物:A−1)〜A−102)〕を挙げることができるが、本発明においては、これらに限定されるものではない。
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
前記A−1〜A−38、A−43〜A−53(A−22、A−30、A−44及びA−51を除く。)、A−64、A−65、A−73〜A−78、A−80、A−81、A−83〜A−85、A−87〜A−91、A−94、A−98〜A−100の構造式中、T-は、1価の対アニオンを表す。
このように、本発明の特定色素が1価の対アニオンを有する場合の、対アニオンとしては、ハロゲンアニオン(F-、Cl-、Br-、I-)、ルイス酸アニオン(BF4 -、PF6 -、SbCl6 -、ClO4 -)、アルキルスルホン酸アニオン、アリールスルホン酸アニオンが好ましい。
前記アルキルスルホン酸アニオンの構造中のアルキル基としては、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボルニル基等を挙げることができる。中でも、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数3〜12の分岐状アルキル基又は炭素数5〜10の環状アルキル基が好ましい。
前記アリールスルホン酸アニオンとしては、1個のベンゼン環を有してなるもの、2個又は3個のベンゼン環が縮環してなるもの、ベンゼン環と不飽和5員環とが縮環してなるものが挙げられ、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基等を挙げることができる。なかでも、フェニル基、ナフチル基が好ましい。
前記アルキル基、アリール基は、置換基を有していてもよく、好ましい置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、水酸基、アルコキシ基、シアノ基、スルホンアミド基、アミノ基、アミド基、アルケニル基、カルボキシル基、エステル基などが挙げられる。
なお、前記した1価の対アニオンのなかでも、合成の容易性、安定性の観点から、特にスルホン酸アニオン、又は、ルイス酸アニオンが好ましく、なかでも、BF4 -、PF6 -が好ましい。
本発明の重合性組成物における、(A)特定色素の添加量としては、感度と膜性の観点から、全固形分重量に対し、0.01〜40重量%が好ましく、0.1〜20重量%がより好ましく、1〜15重量%が最も好ましい。
なお、アルカリ水可溶性基を有する特定色素を使用した本発明の重合性組成物では、その全固形分重量に対し、40重量%を超える範囲で特定色素を添加しても、通常の色素を多量に添加した時に生ずる、現像時における不要な色素の残存や、不溶色素の非画像への再付着などの懸念がない。このため、高感度化など、目的に応じた色素添加量の自由度が高いという利点を有するものである。
前記特定色素は重合性組成物に必須であるが、例えば画像記録材料の記録層などのように、これを製膜して用いる場合には、必ずしも同一層に含まれなくてもよく、複数の層構成として、他の成分とは別の層を設け、そこに添加しても同様の効果が得られる。
本発明において、前記可溶性特定色素は、製造適性上の理由から有機溶剤に可溶であることが必要であるのは前述のとおりであるが、これは、当該色素を含む重合性組成物に用いる塗布溶媒に対して可溶性を有すればよいことを意味し、必ずしも特定の有機溶媒のすべてに可溶性を必要とすることを意味するものではない。ここで塗布溶媒に用いられる有機溶媒には特に制限はなく、公知のものを特に限定されることなく使用でき、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、1−メトシキ−2−プロパノール、ジエチレングリコール、1−ヘキサノール、3−メチル−1−ペンタノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、1,4−ブタンジオール、シクロペンタノール、2−エトキシエタノール、テトラヒドロフルフリルアルコール等のアルコール系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン、フルオロベンゼン等のハロゲン系溶媒、トルエン、ベンゼン、メシチレン、キシレン、t−ブチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、2−メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、アニソール、シクロペンテンキシド、1,3−ジオキサン、1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトン、2−ブタノン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、3−メチル−2−ブタノン、アセトフェノン、3−ペンタノン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノアセテート、γ−ブチロラクトン、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル等のエステル系溶媒、トリエチルアミン、ピリジン等のアミン系溶媒、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、その他の溶媒としてジメチルスルホキシド、アセトニトリル等が挙げられるが、炭素原子を有する液体であれば、使用することができる。又上記の溶媒を混合して使用することも可能である。本発明の重合性組成物に用いうる好ましい有機溶媒としては、アルコール系溶媒又はケトン系、エステル系、ジメチルアセトアミド等の有極性有機溶媒が挙げられる。
なお、本発明の重合性組成物においては、本発明の効果を損なわない程度の範囲において、必要に応じ、上記(A)特定色素以外に、従来公知の赤外線吸収剤を含有させることが可能である。
[(B)ラジカル重合開始剤]
(B)ラジカル重合開始剤は、光、熱、或いはその両方のエネルギーによりラジカルを発生し、後述する(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物の重合を開始、促進させる化合物を指す。本発明に係るラジカル発生剤としては、公知の熱重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを選択して使用することができる。
そのようなラジカル発生剤としては、有機ハロゲン化化合物、カルボニル化合物、有機過酸化化合物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸化合物、ジスルホン酸化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物等が挙げられる。
上記有機ハロゲン化化合物としては、具体的には、若林等、「Bull Chem.Soc Japan」42、2924(1969)、米国特許第3,905,815号明細書、特公昭46−4605号、特開昭48−36281号、特開昭55−32070号、特開昭60−239736号、特開昭61−169835号、特開昭61−169837号、特開昭62−58241号、特開昭62−212401号、特開昭63−70243号、特開昭63−298339号、M.P.Hutt“Jurnal of Heterocyclic Chemistry”1(No3),(1970)」筆に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物:S−トリアジン化合物が挙げられる。
より好適には、すくなくとも一つのモノ、ジ、又はトリハロゲン置換メチル基がs−トリアジン環に結合したs−トリアジン誘導体、具体的には、例えば、2,4,6−トリス(モノクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2―n−プロピル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(α,α,β−トリクロロエチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3,4−エポキシフェニル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−クロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔1−(p−メトキシフェニル)−2,4−ブタジエニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−i−プロピルオキシスチリル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−ナトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ベンジルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジブロモメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メトキシ−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン等が挙げられる。
上記カルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、2−メチルベンゾフェノン、3−メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4−ブロモベンゾフェノン、2−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ−2−メチルフェニルプロパノン、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル−(p−イソプロピルフェニル)ケトン、1−ヒドロキシ−1−(p−ドデシルフェニル)ケトン、2−メチルー(4’−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノ−1−プロパノン、1,1,1−トリクロロメチル−(p−ブチルフェニル)ケトン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることができる。
上記アゾ化合物としては例えば、特開平8−108621に記載のアゾ化合物等を使用することができる。
上記有機過酸化化合物としては、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(tert−ブチルパーオキシ)ブタン、tert−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、tert−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−オキサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、tert−ブチルパーオキシアセテート、tert−ブチルパーオキシピバレート、tert−ブチルパーオキシネオデカノエート、tert−ブチルパーオキシオクタノエート、tert−ブチルパーオキシラウレート、ターシルカーボネート、3,3’,4,4’−テトラ−(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ−(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ−(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルボニルジ(t−ブチルパーオキシ二水素二フタレート)、カルボニルジ(t−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート)等が挙げられる。
上記メタロセン化合物としては、特開昭59−152396号公報、特開昭61−151197号公報、特開昭63−41484号公報、特開平2−249号公報、特開平2−4705号公報、特開平5−83588号公報記載の種々のチタノセン化合物、例えば、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、特開平1−304453号公報、特開平1−152109号公報記載の鉄−アレーン錯体等が挙げられる。
上記ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平6−29285号、米国特許第3,479,185号、同第4,311,783号、同第4,622,286号等の各公報記載の種々の化合物、具体的には、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ブロモフェニル))4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイジダゾール、2,2’−ビス(o,o’−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−メチルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−トリフルオロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
上記有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特開昭62−143044号、特開昭62−150242号、特開平9−188685号、特開平9−188686号、特開平9−188710号、特開2000−131837、特開2002−107916、特許第2764769号、特願2000−310808号、等の各公報、及び、Kunz,Martin“Rad Tech”98.Pro
ceeding April 19−22,1998,Chicago”等に記載される有機ホウ酸塩、特開平6−157623号公報、特開平6−175564号公報、特開平6−175561号公報に記載の有機ホウ素スルホニウム錯体或いは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平6−175554号公報、特開平6−175553号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム錯体、特開平9−188710号公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平6−348011号公報、特開平7−128785号公報、特開平7−140589号公報、特開平7−306527号公報、特開平7−292014号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられる。
上記ジスルホン化合物としては、特開昭61−166544号、特願2001−132318公報等記載される化合物が挙げられる。
上記オキシムエステル化合物としては、例えば、J.C.S.Perkin II(1979年)p1653−1660、J.C.S.Perkin II(1979年)p156−162、Journal of Photopolymer.Science and.Techonology(1995)p202−232、特開2000−66385号公報、同2000−80068号公報に記載の化合物が挙げられ、具体的には、以下の化合物などがある。
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
上記オニウム塩化合物としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号明細書、特開平4−365049号等に記載のアンモニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第104、143号、米国特許第5、041,358号、同第4,491,628号の各明細書、特開平2−150848号、特開平2−296514号に記載のヨードニウム塩、欧州特許第370,693号、同390,214号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同4,933,373号、同4,491,628号、同5,041,358号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号の各明細書に記載のスルホニウム塩、
J.V.Crivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。特に反応性、安定性の面からジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩が挙げられる。本発明において、これらのオニウム塩はイオン性のラジカル重合開始剤として機能する。
本発明において好適に用いられる(B)ラジカル重合開始剤はオニウム塩であり、感度、安定性の面から、下記一般式(RI−I)〜(RI−III)で表されるオニウム塩がより好ましい。
Figure 2005062795
式(RI−I)中、Ar11は置換基を1〜6有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基又はアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。
11-は1価の陰イオンを表し、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンであり、安定性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオンが好ましい。
式(RI−II)中、Ar21、Ar22は各々独立に置換基を1〜6有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基又はアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。
21-は1価の陰イオンを表し、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンであり、安定性、反応性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。
式(RI−III)中、R31、R32、R33は各々独立に置換基を1〜6有していてもよい炭素数20以下のアリール基又はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基を表し、好ましくは反応性、安定性の面から、アリール基であることが望ましい。好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基又はアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。
31-は1価の陰イオンを表し、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンであり、安定性、反応性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましく、特に、特願2000−160323のカルボン酸イオン、ハロゲンイオン、更に好ましくは特願2001−177150、特願2000−266797のカルボン酸イオン又はハロゲンイオンが好ましい。
本発明において特に好適に用いることができるオニウム塩構造は、特に、反応性の面から上記一般式(RI−III)において、R31、R32及びR33がいずれもアリール基であることが好ましく、更に、これらのうち、2つ以上のアリール基が電子吸引性基により置換されていることがより好ましく、最も好ましくは、R31、R32及びR33がいずれもハロゲン原子により置換されたアリール基であることである。
以下に、本発明の重合性組成物に好適に用いられる(C)ラジカル重合開始剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
本発明において用いられる(B)ラジカル重合開始剤は、極大吸収波長が400nm以下であることが好ましく、更に360nm以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、重合性組成物の取り扱いを白灯下で実施することができる。
これらの(B)ラジカル重合開始剤の添加量としては、感度、及び、未露光部における残膜の発生防止効果の観点から、重合性組成物全固形分に対し、0.1〜50質量%の範囲であることが好ましく、0.5〜30質量%であることがさらに好ましく、特に好ましくは1〜20質量%の割合である。
これらの(B)ラジカル重合開始剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
[(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物]
本発明に使用される(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物(以下、適宜、重合性化合物と称する。)は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であることが好ましく、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくはま2個以上有する化合物から選ばれることが好ましい。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつものを包含する。
モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能若しくは多官能イソシアナート類、エポキシ類との付加反応物、単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。
また、イソシアナート基や、エポキシ基、等の親電子性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、ハロゲン基や、トシルオキシ基、等の脱離性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー卜、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビト一ルペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレ
ングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
その他のエステルの例として、例えば、特公昭46−27926号公報、特公昭51−47334号公報、特開昭57−196231号公報に記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号公報、特開昭59−5241号公報、特開平2−226149号公報に記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報に記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。
更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。
また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(g)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
Figure 2005062795
前記一般式(g)中、R及びR’は、各々独立に、H原子又はCH3を表す。
また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号の各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417、特公昭62−39418号の各公報に記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。
更に、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号の各公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に硬化反応速度に優れた重合性組成物を得ることができる。
その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号の各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号の各公報に記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。
これらの、(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物としての重合性化合物について、どのような構造を用いるか、単独で使用するか併用するか、添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終的な感材の性能設計にあわせて、任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。感光スピードの点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感光性と強度との両方を調節する方法も有効である。大きな分子量の化合物や、疎水性の高い化合物は感光スピードや、膜強度に優れる反面、現像スピードや現像液中での析出といった点で好ましく無い場合がある。
(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物の配合比に関しては、多い方が感度的に有利であるが、多すぎる場合には、好ましくない相分離が生じたり、組成物の粘着性による製造工程上の問題(例えば、感材成分の転写、粘着に由来する製造不良)や、画像記録材料の一例である平版印刷版原版とした場合、現像液からの析出が生じる等の問題を生じ得る。これらの観点から、本発明の重合性組成物における(C)成分は、これを画像記録材料の記録層に用いる場合も同様に、重合性組成物全固形分に対して、20〜70質量%が好ましく、25〜50質量%がより好ましい。
また、(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物は、1種単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。
また、画像記録材料に用いる場合、記録層中の他の成分(例えば、バインダーポリマー、開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させ得ることがある。
[(D)バインダーポリマー]
本発明の重合性組成物には(D)バインダーポリマーを含有することを要する。(D)バインダーポリマーとしては、線状有機高分子重合体を含有させることが好ましい。このような「線状有機高分子重合体」としては、どれを使用しても構わない。好ましくは水現像或いは弱アルカリ水現像を可能とする水或いは弱アルカリ水可溶性又は膨潤性である線状有機高分子重合体が選択される。線状有機高分子重合体は、組成物の皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水或いは有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水現像が可能になる。このような線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば、特開昭59−44615号、特公昭54−34327号、特公昭58−12577号、特公昭54−25957号、特開昭54−92723号、特開昭59−53836号、特開昭59−71048号の各公報に記載されているもの、及び、本願出願人が先に提案した特願2002−287920号明細書に記載されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、2−メタクリロイロキシエチルコハク酸共重合体、2−メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸共重合体等がある。また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。
中でも、現像液によるダメージ抑制の観点から、(D)バインダーポリマーとして、2−メタクリロイロキシエチルコハク酸共重合体、2−メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸共重合体等の特願2002−287920明細書、特願2003−339717明細書に記載されている、下記一般式(I)で表される繰り返し単位を有するポリマーを含有することが好ましい。
Figure 2005062795
(一般式(I)中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子からなる群より選択される2以上の原子から構成され、その原子数が2〜82である連結基を表す。Aは酸素原子又は−NR3−を表し、R3は水素原子又は炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表す。nは1〜5の整数を表す。)
上記一般式(I)において、R2で表される連結基が、アルキレン構造を有すること、又は、アルキレン構造がエステル結合を介して連結された構造を有することがより好ましい。
以下、この一般式(I)で表される繰り返し単位について詳細に説明する。
一般式(I)におけるR1は、水素原子又はメチル基を表すが、特にメチル基が好ましい。
一般式(I)におけるR2で表される連結基は、水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子からなる群より選択される2以上の原子から構成され、その原子数が2〜82であり、好ましくは2〜50であり、より好ましくは2〜30である。ここで示す原子数は、当該連結基が置換基を有する場合には、その置換基を含めた原子数を指す。
より詳細には、R2で表される連結基の主骨格を構成する原子数が、1〜30であることが好ましく、3〜25であることがより好ましく、4〜20であることが更に好ましく、5〜10であることが最も好ましい。なお、本化合物における「連結基の主骨格」とは、一般式(I)におけるAと末端COOHとを連結するためのみに使用される原子又は原子団を指し、特に、連結経路が複数ある場合には、使用される原子数が最も少ない経路を構成する原子又は原子団を指す。
具体的には、アルキレン、置換アルキレン、アリーレン、置換アリーレンなどが挙げられ、これらの2価の基がアミド結合やエステル結合で複数連結された構造を有していてもよい。
鎖状構造の連結基としては、エチレン、プロピレン等が挙げられる。また、これらのアルキレンがエステル結合を介して連結されている構造もまた好ましいものとして例示することができる。
この中でも、一般式(I)におけるR2で表される連結基は、炭素原子数3から30までの脂肪族環状構造を有する(n+1)価の炭化水素基であることが好ましい。より具体的には、任意の置換基によって一個以上置換されていてもよいシクロプロパン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロデカン、ジシクロヘキシル、ターシクロヘキシル、ノルボルナン等の脂肪族環状構造を有する化合物を構成する任意の炭素原子上の水素原子を(n+1)個除き、(n+1)価の炭化水素基としたものを挙げることができる。また、R2は、置換基を含めて炭素数3から30であることが好ましい。
脂肪族環状構造を構成する化合物の任意の炭素原子は、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子から選ばれるヘテロ原子で、一個以上置き換えられていてもよい。耐刷性の点で、R2は縮合多環脂肪族炭化水素、橋架け環脂肪族炭化水素、スピロ脂肪族炭化水素、脂肪族炭化水素環集合(複数の環が結合又は連結基でつながったもの)等、2個以上の環を含有してなる炭素原子数5から30までの置換基を有していてもよい脂肪族環状構造を有する(n+1)価の炭化水素基であることが好ましい。この場合も炭素数は置換基が有する炭素原子を含めてのものである。
2で表される連結基としては、更に、原子数が5〜10のものが好ましく、構造的には、鎖状構造であって、その構造中にエステル結合を有するものや、前記の如き環状構造を有するものが好ましい。
2で表される連結基に導入可能な置換基としては、水素を除く1価の非金属原子団を挙げることができ、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N’−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキルウレイド基、N’−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N’−アリール−N−アルキルウレイド基、N’−アリール−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)及びその共役塩基基、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、N−アシルスルファモイル基及びその共役塩基基、N−アルキルスルホニルスルファモイル基(−SO2NHSO2(alkyl))及びその共役塩基基、N−アリールスルホニルスルファモイル基(−SO2NHSO2(aryl))及びその共役塩基基、N−アルキルスルホニルカルバモイル基(−CONHSO2(alkyl))及びその共役塩基基、N−アリールスルホニルカルバモイル基(−CONHSO2(aryl))及びその共役塩基基、アルコキシシリル基(−Si(Oalkyl)3)、アリーロキシシリル基(−Si(Oaryl)3)、ヒドロキシシリル基(−Si(OH)3)及びその共役塩基基、ホスホノ基(−PO32)及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノ基(−PO3(alkyl)2)、ジアリールホスホノ基(−PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスホノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノ基(−PO3H(alkyl))及びその共役塩基基、モノアリールホスホノ基(−PO3H(aryl))及びその共役塩基基、ホスホノオキシ基(−OPO32)及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノオキシ基(−OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスホノオキシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスホノオキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノオキシ基(−OPO3H(alkyl))及びその共役塩基基、モノアリールホスホノオキシ基(−OPO3H(aryl))及びその共役塩基基、シアノ基、ニトロ基、ジアルキルボリル基(−B(alkyl)2)、ジアリールボリル基(−B(aryl)2)、アルキルアリールボリル基(−B(alkyl)(aryl))、ジヒドロキシボリル基(−B(OH)2)及びその共役塩基基、アルキルヒドロキシボリル基(−B(alkyl)(OH))及びその共役塩基基、アリールヒドロキシボリル基(−B(aryl)(OH))及びその共役塩基基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。
記録層の設計にもよるが、水素結合可能な水素原子を有する置換基や、特に、カルボン酸よりも酸解離定数(pKa)が小さい酸性を有する置換基は、耐刷性を下げる傾向にあるので好ましくない。一方、ハロゲン原子や、炭化水素基(アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基)、アルコキシ基、アリーロキシ基などの疎水性置換基は、耐刷を向上する傾向にあるのでより好ましく、特に、環状構造がシクロペンタンやシクロヘキサン等の6員環以下の単環脂肪族炭化水素である場合には、このような疎水性の置換基を有していることが好ましい。これら置換基は可能であるならば、置換基同士、又は置換している炭化水素基と結合して環を形成してもよく、置換基は更に置換されていてもよい。
一般式(I)におけるAがNR3−である場合のR3は、水素原子又は炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表す。このR3で表される炭素数1〜10までの一価の炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、1−アダマンチル基、2−ノルボルニル基等の炭素数1〜10までの直鎖状、分枝状、又は環状のアルキル基が挙げられる。
アリール基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、インデニル基等の炭素数1〜10までのアリール基、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を1個含有する炭素数1〜10までのヘテロアリール基、例えば、フリル基、チエニル基、ピロリル基、ピリジル基、キノリル基等が挙げられる。
アルケニル基の具体例としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、1−メチル−1−プロペニル基、1−シクロペンテニル基、1−シクロヘキセニル基等の炭素数1〜10までの直鎖状、分枝状、又は環状のアルケニル基が挙げられる。
アルキニル基の具体例としては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、1−オクチニル基等の炭素数1〜10までのアルキニル基が挙げられる。R3が有してもよい置換基としては、R2が導入し得る置換基として挙げたものと同様である。但し、R3の炭素数は、置換基の炭素数を含めて1〜10である。
一般式(I)におけるAは、合成が容易であることから、酸素原子又は−NH−であることが好ましい。
一般式(I)におけるnは、1〜5の整数を表し、耐刷の点で好ましくは1である。
以下に、本発明に特に好適なバインダーポリマーを構成する、一般式(I)で表される繰り返し単位の好ましい具体例を示すが、これらに限定されるものではない。
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
Figure 2005062795
一般式(I)で表される繰り返し単位は、バインダーポリマー中に1種類のみを有していてもよいし、異なる2種類以上を有していてもよい。即ち、本発明における好ましいバインダーポリマーとしては、一般式(I)で表される繰り返し単位のみからなるポリマーであってもよいが、他の共重合成分と組み合わされたコポリマーとして使用されることが一般的である。コポリマーにおける一般式(I)で表される繰り返し単位の総含有量は、その構造や、重合性組成物の設計等によって適宜決められるが、好ましくはポリマー成分の総モル量に対し、1〜99モル%、より好ましくは5〜40モル%、更に好ましくは5〜20モル%の範囲で含有される。
コポリマーとして用いる場合の共重合成分としては、ラジカル重合可能なモノマーであれば従来公知のものを制限なく使用できる。具体的には、「高分子データハンドブック−基礎編−(高分子学会編、培風館、1986)」記載のモノマー類が挙げられる。このような共重合成分は1種類であってもよいし、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
前記各バインダーポリマーの中でも、特に、〔アリル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体、特開2000−131837公報、同2002−62648公報、同2000−187322公報、或いは、前記特願2002−287920号明細書に記載されているようなアクリル基、メタクリル基、アリル基を含有するポリマー等が、膜強度、感度、現像性のバランスに優れており、好適である。
中でも特に、前記一般式(I)で表される繰り返し単位と、下記一般式(II)〜(IV)で表される構造のラジカル重合性基(炭素−炭素二重結合)と、を有するポリマーが最も好ましい。
Figure 2005062795
一般式(II)〜(IV)中、R4〜R14は、それぞれ独立に、水素原子、又は1価の置換基を表す。X、Yは、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、又はN−R15を表し、Zは、酸素原子、硫黄原子、−N−R15又はフェニレン基を表す。ここで、R15は、水素原子、又は1価の有機基を表す。
前記一般式(II)において、R4〜R6は、それぞれ独立に、水素原子、又は1価の置換基を表すが、R4としては、水素原子、又は置換基を有してもよいアルキル基など有機基が挙げられ、中でも具体的には、水素原子、メチル基、メチルアルコキシ基、メチルエステル基が好ましい。また、R5、R6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、中でも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。
ここで、これらの基に導入し得る置換基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピオキシカルボニル基、メチル基、エチル基、フェニル基等が挙げられる。
Xは、酸素原子、硫黄原子、又は、−N−R15を表し、ここで、R15としては、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられる。
前記一般式(III)において、R7〜R11は、それぞれ独立に、水素原子、又は1価の置換基を表すが、R7〜R11は、例えば、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、中でも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。
ここで、これらの基に導入し得る置換基としては、一般式(II)において導入し得る置換基として挙げたものが例示される。
Yは、酸素原子、硫黄原子、又は−N−R15を表す。R15としては、一般式(II)におけるのと同様のものが挙げられる。
前記一般式(IV)において、R12〜R14は、それぞれ独立に、水素原子、又は1価の置換基を表すが、具体的には例えば、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、中でも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。
ここで、これらの基に導入し得る置換基としては、これらの基に導入し得る置換基としては、一般式(II)において導入し得る置換基として挙げたものが例示される。
Zは、酸素原子、硫黄原子、−N−R15又はフェニレン基を表す。R15としては、一般式(II)におけるのと同様のものが挙げられる。
これらのラジカル重合性基の中でも、前記一般式(II)及び(III)で表される構造を有するラジカル重合性基であることが好ましい。
また、その他のバインダーポリマーとして、特公平7−12004号、特公平7−120041号、特公平7−120042号、特公平8−12424号、特開昭63−287944号、特開昭63−287947号、特開平1−271741号、特願平10−116232号等の各公報に記載される、酸基を含有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。
また、特開平11−171907号公報に記載のアミド基を有するバインダーポリマーは優れた現像性と膜強度をあわせもっており、このバインダーポリマーもまた、本発明に適用することができる。
更に、この他に水溶性線状有機高分子として、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また、硬化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。これらの線状有機高分子重合体は全組成物中に任意な量を混和させることができる。しかし、その混和量が90質量%を超える場合には形成される画像強度等の点で好ましい結果を与えない。好ましくは30〜85質量%である。また、上述した(C)重合性化合物と線状有機高分子重合体は、質量比で1/9〜7/3の範囲とするのが好ましい。
このような、各バインダーポリマーは、単独で使用してもよいし、2種以上を混合して使用することもできる。
本発明における(D)バインダーポリマーの分子量は、画像形成性や耐刷性の観点から適宜決定されるが、通常、好ましい分子量としては、2,000〜1,000,000、より好ましくは5,000〜500,000、更に好ましくは10,000〜200,000の範囲である。
本発明における(D)バインダーポリマーとしては、実質的に水に不溶でアルカリ水溶液に可溶なものが用いられる。このため、現像液として、環境上好ましくない有機溶剤を用いないか若しくは非常に少ない使用量に制限できる。このような(D)バインダーポリマーの酸価(ポリマーlgあたりの酸含率を化学等量数で表したもの)と分子量は画像強度と現像性の観点から適宜選択される。好ましい酸価は、0.4〜3.0meq/gであり、好ましい分子量は2000から50万の範囲で、より好ましくは、酸価が0.6〜2.0、分子量が1万から30万の範囲である。
(E)その他の成分
本発明の重合性組成物中には、更にその用途、製造方法等に適したその他の成分を適宜添加することができる。特に、本発明の重合性組成物を画像記録材料の記録層として用いる場合に好適な添加剤について、画像記録材料の一例である平版印刷版原版を例に挙げて以下に説明する。
(E−1)共増感剤
重合性組成物にある種の添加剤を用いることで、感度を更に向上させることができる。このような化合物を以後、共増感剤という。これらの作用機構は、明確ではないが、多くは次のような化学プロセスに基づくものと考えられる。即ち、重合開始剤により開始される光反応、と、それに引き続く付加重合反応の過程で生じる様々な中間活性種(ラジカル、カチオン)と、共増感剤が反応し、新たな活性ラジカルを生成するものと推定される。これらは、大きくは、(i)還元されて活性ラジカルを生成し得るもの、(ii)酸化されて活性ラジカルを生成し得るもの、(iii)活性の低いラジカルと反応し、より活性の高いラジカルに変換するか、若しくは連鎖移動剤として作用するもの、に分類できるが、個々の化合物がこれらのどれに属するかに関しては、通説がない場合も多い。
(i)還元されて活性ラジカルを生成する化合物
炭素−ハロゲン結合結合を有する化合物:還元的に炭素−ハロゲン結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、トリハロメチル−s−トリアジン類や、トリハロメチルオキサジアゾール類等が好適に使用できる。
窒素−窒素結合を有する化合物:還元的に窒素−窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的にはヘキサアリールビイミダゾール類等が好適に使用される。
酸素−酸素結合を有する化合物:還元的に酸素−酸素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、有機過酸化物類等が好適に使用される。
オニウム化合物:還元的に炭素−ヘテロ結合や、酸素−窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩類、N−アルコキシピリジニウム(アジニウム)塩類等が好適に使用される。
フエロセン、鉄アレーン錯体類:還元的に活性ラジカルを生成し得る。
(ii)酸化されて活性ラジカルを生成する化合物
アルキルアート錯体:酸化的に炭素−ヘテロ結合が解裂し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には、例えば、トリアリールアルキルボレート類が好適に使用される。
アルキルアミン化合物:酸化により窒素に隣接した炭素上のC−X結合が解裂し、活性ラジカルを生成するものと考えられる。Xとしては、水素原子、カルボキシル基、トリメチルシリル基、ベンジル基等が好適である。具体的には、例えば、エタノールアミン類、N−フェニルグリシン類、N−トリメチルシリルメチルアニリン類等が挙げられる。
含硫黄、含錫化合物:上述のアミン類の窒素原子を硫黄原子、錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。また、S−S結合を有する化合物もS−S解裂による増感が知られる。
α−置換メチルカルボニル化合物:酸化により、カルボニル−α炭素間の結合解裂により、活性ラジカルを生成し得る。また、カルボニルをオキシムエーテルに変換したものも同様の作用を示す。具体的には、2−アルキル−1−[4−(アルキルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロノン−1類、並びに、これらと、ヒドロキシアミン類とを反応したのち、N−OHをエーテル化したオキシムエーテル類を挙げることができる。
スルフィン酸塩類:還元的に活性ラジカルを生成し得る。具体的は、アリール
スルフィン駿ナトリウム等を挙げることができる。
(iii)ラジカルと反応し高活性ラジカルに変換、若しくは連鎖移動剤として作用する化合物:例えば、分子内にSH、PH、SiH、GeHを有する化合物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、若しくは、酸化された後、脱プロトンすることによりラジカルを生成し得る。具体的には、例えば、2−メルカプトベンズイミダゾール類等が挙げられる。
これらの(E−1)共増感剤のより具体的な例は、例えば、特開昭9−236913号公報中に、感度向上を目的とした添加剤として、多く記載されており、それらを本発明においても適用することができる。
これらの(E−1)共増感剤は、単独で又は2種以上併用して用いることができる。使用量は前記(C)重合性化合物100質量部に対し、0.05〜100質量部、好ましくは1〜80質量部、更に好ましくは3〜50質量部の範囲が適当である。
(E−2)重合禁止剤
また、本発明においては、記録層を構成する重合性組成物の製造中又は保存中において(C)重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために、(E−2)重合禁止剤として、少量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t―ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t―ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。
熱重合防止剤の添加量は、全組成物の質量に対して約0.01質量%〜約5質量%が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、平版印刷版原版とする場合、支持体等への塗布後の乾燥の過程でその記録層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.5質量%〜約10質量%が好ましい。
(E−3)着色剤等
更に、本発明の平版印刷版原版においては、その記録層の着色を目的として染料若しくは顔料を添加してもよい。これにより、印刷版としての、製版後の視認性や、画像濃度測定機適性といったいわゆる検版性を向上させることができる。着色剤としては、多くの染料は光重合系記録層の感度の低下を生じるので、着色剤としては、特に顔料の使用が好ましい。具体例としては、例えば、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料などの染料がある。染料及び顔料の添加量は全組成物の約0.5質量%〜約5質量%が好ましい。
(E−4)その他の添加剤
本発明の重合性組成物においては、感度、安定性、現像性を更に向上させる目的で、分子内に、少なくとも、カルボン酸基を1つ以上、アミノ基又はチオエーテル基を1つ以上、有する化合物を含有することが好ましい。より好ましくは、下記一般式(III)で表される化合物を含有することが好ましい。
Figure 2005062795
一般式(III)中、Xは2価の有機基であれば使用することができ、好ましくは、−CH2−、−CH2−CH2−、−CH(CH3)−、アリール基、−CH=CH−などが挙げられる。
また、Y、Zは、各々独立に、水素原子又は1価の有機基を表し、好ましくは、直鎖又は環状のアルキル基、直鎖又は環状のアルケニル基、直鎖又は環状のアルキニル基、アリール基、ヘテロ原子を含有する環状芳香族化合物、水素原子が挙げられる。また、YとZは互いに結合し環を形成してもよい。また、Y、Zで表される1価の有機基は、置換基を有してもよく、好ましい置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、エステル基、カルボニル基、カルボキシル基又はその誘導体、アミノ基、アルデヒド基、チオール基、エーテル基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ウレタン基、アミド基、ウレア基、チオエーテル基、スルホニル基、スルホキシド基等が挙げられる。
+は1価のカチオンを表し、好ましくは、H+、Na+、K+が挙げられる。
以下に、分子内に、少なくとも、カルボン酸基を1つ以上、アミノ基又はチオエーテル基を1つ以上、有する化合物の具体例(X−1)〜(X−16)、(Y−1)〜(Y−4)を示すが、これらに限定されるものではない。
Figure 2005062795
Figure 2005062795
これら、分子内に、少なくとも、カルボン酸基を1つ以上、アミノ基又はチオエーテル基を1つ以上、有する化合物の添加量は、全組成物の0.2質量%〜10質量%が好ましく、1質量%〜5質量%がより好ましい。
更に、本発明の重合性組成物には、硬化皮膜の物性を改良するための無機充填剤や、その他、可塑剤、平版印刷版原版として用いる場合の記録層表面のインク着肉性を向上させ得る感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。
上記可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等があり、結合剤を使用した場合、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物と結合剤との合計質量に対し10質量%以下添加することができる。
また、後述する膜強度(耐刷性)向上を目的とした、現像後の加熱・露光の効果を強化するための、UV開始剤や、熱架橋剤等の添加もできる。
その他、後述する記録層と支持体との密着性向上や、未露光記録層の現像除去性を高めるための添加剤を含有させることが可能である。例えば、ジアゾニウム構造を有する化合物や、ホスホン化合物等、支持体と比較的強い相互作用を有する化合物の添加や、それらを下塗りすることにより、密着性が向上し、耐刷性を高めることが可能である。また、ポリアクリル酸や、ポリスルホン酸のような親水性ポリマーの添加や、それらを下塗りすることにより、非画像部の現像性が向上し、汚れ性の向上が可能となる。
本発明の重合性組成物は、後述する平版印刷版原版に代表される画像記録材料の他、高感度な光造形用材料、重合にともなう屈折率の変化を利用し、ホログラム材料、フォトレジスト等の電子材料製造などに適用することもできる。
〔画像記録材料〕
次に、前記の重合性組成物を用いた本発明の画像記録材料について説明する。前記本発明の重合性組成物は、平版印刷版原版に代表される画像記録材料のネガ型記録層として好適に用いられる。本発明の画像記録材料は、支持体上に、前記本発明の重合性組成物を含有する記録層、及び必要によりその他の層を設けて構成される。
(記録層)
まず、本発明の画像記録材料において画像形成機能を有する記録層について説明する。本発明の画像記録材料の記録層には、(A)有機溶媒及びアルカリ水溶液に可溶性であり、且つ、700〜1200nmに吸収を有する色素と、(B)ラジカル重合開始剤と、(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物と、(D)バインダーポリマーとを含有することを特徴とすし、さらに、この(D)バインダーポリマーとして、前記重合性組成物において詳細に説明した一般式(I)で表されるアルカリ可溶性基を有する構造単位を含むポリマーを用いることが好ましい。
この記録層は、赤外線レーザの照射により、(A)特定色素が発熱し、その熱により(B)ラジカル重合開始剤が分解してラジカルを発生し、(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物の硬化反応を促進し、露光部が硬化して画像部となるネガ型の画像を形成する。
本発明の画像記録材料の記録層を形成するにあたって、(B)ラジカル重合開始剤は、記録層を構成する全固形分中、0.5〜20質量%含有されることが好ましい。この(B)ラジカル重合開始剤は、(A)特定色素と組み合わさることで、赤外線レーザを照射した際に、(A)特定色素から発生する熱や赤外線レーザの光のエネルギーによりラジカルを発生し、(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物の重合を開始、促進させる機能を有する。
〔画像記録材料(平版印刷版原版)の製造〕
以下、本発明の画像記録材料について、その代表的な応用例である平版印刷版原版を挙げて説明する。
本発明に係る平版印刷版原版を製造するには、重合性組成物を主成分とする記録層塗布液を調製し、その他の任意の層、例えば、保護層等についても、その成分を溶媒に溶かして塗布液を調製し、適当な支持体上に塗布すればよい。
ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピルアセテート、N,N―ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ―ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独或いは混合して使用することができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度は、2〜50質量%が適当である。
記録層の支持体への塗布量は、記録層の感度、現像性、露光膜の強度・耐刷性等の影響を考慮し、用途に応じ適宜選択することが望ましい。塗布量が少なすぎる場合には、耐刷性が十分でなくなる。一方多すぎる場合には、感度が下がり、露光に時間がかかる上、現像処理にもより長い時間を要するため好ましくない。本発明の平版印刷版原版における塗布量は、一般的には、乾燥後の質量で約0.l〜約10g/m2の範囲が適当である。より好ましくは0.5〜5g/m2である。
(保護層)
本発明の平版印刷版原版は、通常、露光を大気中で行うため、前記記録層上に、更に、保護層を設けることが好ましい。保護層は、記録層中で露光により生じる画像形成反応を阻害する大気中に存在する酸素や塩基性物質等の低分子化合物の記録層への混入を防止し、大気中での露光を可能とする。従って、このような保護層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透過性が低いことであり、更に、露光に用いる光の透過性が良好で、記録層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できることが望ましい。
このような、保護層に関する工夫が従来よりなされており、米国特許第3、458、311号明細書、特公昭55−49729号公報に詳しく記載されている。保護層に使用できる材料としては、例えば、比較的、結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることがよく、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸などのような水溶性ポリマーが知られていが、これらのうち、ポリビニルアルコールを主成分として用いることが、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良好な結果を与える。保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテル、及びアセタールで置換されていてもよい。また、同様に一部が他の共重合成分を有していてもよい。特に、ポリビニルアルコールに対しポリビニルピロリドンを15〜50質量%の範囲で置き換えた混合物が保存安定性の観点から好ましい。
ポリビニルアルコールの具体例としては、71〜100%加水分解され、分子量が300から2400の範囲のものを挙げることができる。具体的には、株式会社クラレ製のPVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−613、L−8等が挙げられる。
保護層の成分(PVAの選択、添加剤の使用)、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。
一般には使用するPVAの加水分解率が高い程(保護層中の未置換ビニルアルコール単位含率が高い程)、膜厚が厚い程酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。しかしながら、極端に酸素遮断性を高めると、製造時・生保存時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じる。また、画像部との密着性や、耐傷性も版の取り扱い上極めて重要である。即ち、水溶性ポリマーからなる親水性の層を新油性の重合層に積層すると、接着力不足による膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。
これに対し、これら2層間の接着性を改すべく種々の提案がなされている。例えば、特開昭49−70702号公報、英国特許出願公開第1,303,578A号明細書には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジヨン又は水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体などを20〜60質量%混合し、重合層の上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明における保護層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用することができる。このような保護層の塗布方法については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書、特公昭55−49729号公報に詳しく記載されている。
更に、保護層に他の機能を付与することもできる。例えば、露光に使う波長の光の透過性に優れ、かつ画像形成寄与しない波長の光を効率よく吸収し得る、着色剤(水溶性染料等)の添加により、感度低下を起こすことなく、セーフライト適性を更に高めることができる。
また、本発明の平版印刷版原版における保護層としては、特開2000−347398公報に記載の酸素透過率が1×10-15{cm3(STP)・cm/cm2・sec・cmHg}以上の保護層も、好適に用いることができる。
(樹脂中間層)
本発明の平版印刷版原版においては、必要に応じて、記録層と支持体との間にアルカリ可溶性高分子からなる樹脂中間層を設けることができる。
露光によりアルカリ現像液への溶解性が低下する赤外線感応層である記録層が、露光面又はその近傍に設けられることで赤外線レーザーに対する感度が良好となるとともに、支持体と該赤外線感応性の記録層との間にこの樹脂中間層が存在し、断熱層として機能することで、赤外線レーザーの露光により発生した熱が支持体に拡散せず、効率よく使用されることからの高感度化が図れる。
また、露光部においては、アルカリ現像液に対して非浸透性となった記録層がこの樹脂中間層の保護層として機能するために、現像安定性が良好になるとともにディスクリミネーションに優れた画像が形成され、かつ、経時的な安定性も確保されるものと考えられ、未露光部においては、未硬化のバインダー成分が速やかに現像液に溶解、分散し、更には、支持体に隣接して存在するこの樹脂中間層がアルカリ可溶性高分子からなるものであるため、現像液に対する溶解性が良好で、例えば、活性の低下した現像液などを用いた場合でも、残膜などが発生することなく速やかに溶解するため、現像性に優れるものと考えられる。
(支持体)
本発明の平版印刷版原版に使用される支持体としては、寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)等が挙げられる。これらは、樹脂フィルムや金属板などの単一成分のシートであっても、2以上の材料の積層体であってもよく、例えば、上記のごとき金属がラミネート、若しくは蒸着された紙やプラスチックフィルム、異種のプラスチックフィルム同志の積層シート等が含まれる。
上記支持体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は高々10質量%以下である。本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。
上記アルミニウム板の厚みは、およそ0.1〜0.6mm程度、好ましくは0.15〜0.4mm、特に好ましくは0.2〜0.3mmである。
アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための、例えば、界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ水溶液等による脱脂処理が行われる。
アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。
このように粗面化されたアルミニウム板は、所望により、アルカリエッチング処理、中和処理を経て、表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施すことができる。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸或いはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化の処理条件は、用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が1〜80質量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。
陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2以上が好適であるが、より好ましくは2.0〜6.0g/m2の範囲である。陽極酸化被膜が1.0g/m2未満であると耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
尚、このような陽極酸化処理は平版印刷版の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電気力線の裏回りにより、裏面にも0.01〜3g/m2の陽極酸化被膜が形成されるのが一般的である。
支持体表面の親水化処理は、上記陽極酸化処理の後に施されるものであり、公知の処理法が用いられる。このような親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、第3,280,734号及び第3,902,734号の各明細書に開示されているようなアルカリ金属珪酸塩(例えば、珪酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体が珪酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか、又は電解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号、同第4,689,272号の各明細書に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が用いられる。
これらの中で、本発明において特に好ましい親水化処理は珪酸塩処理である。珪酸塩処理について、以下に説明する。
上述の如き処理を施したアルミニウム板の陽極酸化皮膜を、アルカリ金属珪酸塩が0.1〜30質量%、好ましくは0.5〜10質量%であり、25℃でのpHが10〜13である水溶液に、例えば、15〜80℃で0.5〜120秒浸漬する。アルカリ金属珪酸塩水溶液のpHが10より低いと液はゲル化し13.0より高いと酸化皮膜が溶解されてしまう。本発明に用いられるアルカリ金属珪酸塩としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウムなどが使用される。アルカリ金属珪酸塩水溶液のpHを高くするために使用される水酸化物としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカリ土類金属塩若しくは第IVB族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、燐酸塩、酢酸塩、蓚酸塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVB族金属塩として、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、蓚酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。アルカリ土類金属塩若しくは、第IVB族金属塩は単独又は2以上組み合わせて使用することができる。これらの金属塩の好ましい範囲は0.01〜10質量%であり、更に好ましい範囲は0.05〜5.0質量%である。
珪酸塩処理により、アルミニウム板表面上の親水性が一層改善されるため、印刷の際、インクが非画像部に付着しにくくなり、汚れ性能が向上する。
(バックコート層)
支持体の裏面には、必要に応じてバックコートが設けられる。かかるバックコートとしては、特開平5−45885号公報記載の有機高分子化合物及び特開平6−35174号公報記載の有機又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。
これらの被覆層のうち、Si(OCH34、Si(OC254、Si(OC374、Si(OC494などの珪素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから与られる金属酸化物の被覆層が耐現像性に優れており特に好ましい。
以上のようにして、本発明の平版印刷版原版を作成することができる。
〔製版〕
本発明の平版印刷版原版は、露光により画像形成(記録)が行なわれ、その後、後述する現像処理が施されることで製版される。なお、本発明の重合性組成物における重合反応も露光により実施される。
(露光)
本発明の平版印刷版原版及び重合性組成物は、波長760nmから1200nmの赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーにより画像露光される。
まt、露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等の何れでもよい。
本発明においては、レーザー照射後直ちに現像処理を行ってもよいが、レーザー照射工程と現像工程の間に加熱処理を行ってもよい。加熱処理の条件は、80℃〜150℃の範囲内で10秒〜5分間行うことが好ましい。この加熱処理により、レーザー照射時、記録に必要なレーザーエネルギーを減少させることができる。
(現像)
本発明の平版印刷版原版は、通常、赤外線レーザーにより画像露光したのち、好ましくは、水又はアルカリ性水溶液にて現像される。
用いられる現像液としては、アルカリ性水溶液が好ましく、好ましいpH領域としては、pH10.5〜12.5の範囲が挙げられ、pHll.0〜12.5の範囲のアルカリ性水溶液により現像処理することが更に好ましい。アルカリ性水溶液としてpH10.5未満のものを用いると非画像部に汚れが生じやすくなる傾向があり、pH12.5を超える水溶液により現像処理すると画像部の強度が低下するおそれがある。
現像液として、アルカリ性水溶液を用いる場合、本発明の平版印刷版原版の現像液及び補充液としては、従来公知のアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウム等の無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も用いられる。
これらのアルカリ剤は単独又は2種以上を組み合わせて用いられる。
更に、自動現像機を用いて現像する場合には、現像液と同じもの、又は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換することなく、多量の平版印刷版原版を処理できることが知られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。
現像液及び補充液には現像性の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤等を添加できる。
現像液中には界面活性剤を1〜20質量%加えることが好ましく、より好ましくは、3〜10質量%の範囲である。界面活性剤の添加量が1質量%未満であると現像性向上効果が充分に得られず、20質量%を超えて添加すると画像の耐摩耗性など強度が低下するなどの弊害が出やすくなる。
好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げられる。具体的には、例えば、ラウリルアルコールサルフェートのナトリウム塩、ラウリルアルコールサルフェートのアンモニウム塩、オクチルアルコールサルフェートのナトリウム塩、例えば、イソプロピルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、イソブチルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、ポリオキシエチレングリコールモノナフチルエチル硫酸エステルのナトリウム塩、ドデンルベンゼンスルホン酸のナトリウム塩、メタニトロベンゼンスルホン酸のナトリウム塩などのようなアルキルアリールスルホン酸塩、第2ナトリウムアルキルサルフェートなどの炭素数8〜22の高級アルコール硫酸エステル類、セチルアルコールリン酸エステルのナトリウム塩などのような脂肪族アルコールリン酸エステル塩類、例えば、C1733CON(CH3)CH2CH2SO3Naなどのようなアルキルアミドのスルホン酸塩類、例えば、ナトリウムスルホコハク酸ジオクチルエステル、ナトリウムスルホコハク酸ジヘキシルエステルなどの二塩基性脂肪族エステルのスルホン酸塩類、例えば、ラウリルトリメチルアンモニウムクロリド、ラウリルトリメチルアンモニウムメトサルフェートなどのアンモニウム塩類、例えば、ステアラミドエチルジエチルアミン酢酸塩などのアミン塩、例えば、グリセロールの脂肪酸モノエステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸モノエステルなどの多価アルコール類、例えば、ポリエチレングリコールモノナフチルエチル、ポリエチレングリコールモノ(ノエルフェノール)エチルなどのポリエチレングリコールエチル類などが含まれる。
好ましい有機溶剤としては、水に対する溶解度が約10質量%以下のものが挙げられ、更に好ましくは水に対する溶解度が5質量%以下のものから選ばれる。例えば、1−フェニルエタノール、2−フェニルエタノール、3−フェニルプロパノール、1,4−フェニルブタノール、2,2−フェニルブタノール、1,2−フェノキシエタノール、2−ベンジルオキシエタノール、o−メトキシベンジルアルコール、m―メトキシベンジルアルコール、p―メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、2−メチルシクロヘキサノール、4−メチルシクロヘキサノール及び3−メチルシクロヘキサノール等を挙げることができる。有機溶媒の含有量は、使用時の現像液の総質量に対して1〜5質量%が好適である。その使用量は界面活性剤の使用量と密接な関係があり、有機溶媒の量が増すにつれ、界面活性剤の量は増加させることが好ましい。これは界面活性剤の量が少ない状態で、有機溶媒の量を多く用いると有機溶媒が溶解せず、従って良好な現像性の確保が期待できなくなるからである。
更に、現像液及び補充液には必要に応じて、消泡剤、硬水軟化剤のような添加剤を含有させることもできる。硬水軟化剤としては、例えば、Na227、Na533、Na333、Na24P(NaO3P)ΡO3Na2、カルゴン(ポリメタリン酸ナトリウム)などのポリリン酸塩、アミノポリカルボン酸類(例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1,3−ジアミノ−2−プロパノールテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩)、他のポリカルボン酸類(例えば、2−ホスホノブタントリカルボン酸−1,2,4、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;2一ホスホノブタノントリカルボン酸−2,3,4、そのカリウム塩、そのナトリウム塩など)、有機ホスホン酸類(例えば、1−ホスホノエタントリカルボン酸−1,2、2、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩など)を挙げることができる。このような硬水軟化剤の最適量は、使用される硬水の硬度及びその使用量に応じて変化するが、一般的には、使用時の現像液中に0.01〜5質量%、より好ましくは0.01〜0.5質量%の範囲で含有させ得る。
更に、自動現像機を用いて、該平版印刷版を現像する場合には、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液又は新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。この場合、米国特許第4,882,246号明細書に記載されている方法で補充することが好ましい。
このような界面活性剤、有機溶剤及び還元剤等を含有する現像液としては、例えば、特開昭51−77401号公報に記載されている、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、アルカリ剤及び水からなる現像液組成物、特開昭53−44202号公報に記載されている、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、及び水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からなる現像液組成物、特開昭55−155355号公報に記載されている、水に対する溶解度が常温において10質量%以下である有機溶剤、アルカリ剤、及び水を含有する現像液組成物等が挙げられ、本発明においても好適に使用される。
以上記述した現像液及び補充液を用いて現像処理された平版印刷版は、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明の平版印刷版の後処理としては、これらの処理を種々組み合わせて用いることができる。
近年、製版・印刷業界では製版作業の合理化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロール等によって印刷版原版を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。また、電気伝導度をセンサーにて感知し、自動的に補充することもできる。
また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
以上のようにして得られた平版印刷版は、所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供することができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版としたい場合にはバーニング処理が施される。
平版印刷版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61−2518号、同55−28062号、特開昭62−31859号、同61−159655号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。
その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、塗布した後でスクィージ、或いは、スクィージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
バーニング処理された平版印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれている処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。
このような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いることができる。
本発明の画像記録材料は、詳述した走査露光用平版印刷版原版の記録層に特に好適であるが、その他の用途、例えば、高感度な光造形用材料としても好適であり、重合にともなう屈折率の変化を利用してホログラム材料に、また、フォトレジスト等の電子材料製造などに適用することもできる。
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
(実施例1〜10、比較例1、2)
[基板の作製]
厚み0.3mmのアルミニウム版(材質1050)をトリクロロエチレンで洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパミス−水懸濁液を用いこの表面を砂目立て表面のエッチングを行い、水洗後、更に20%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。
次にこの板を、7%硫酸を電解液として電流密度15A/dm2で3g/m2の直流電極酸化被膜を設けた後、水洗し、乾燥して基板(A)を作成した。
基板(A)を珪酸ナトリウム2重量%水溶液で25℃で15秒処理し、水洗して基板(B)を作成した。
[中間層の形成]
次に下記の手順によりSG法の液状組成物(ゾル液)を調整した。
<ゾル液組成>
・メタノール 130g
・水 20g
・85重量%リン酸 16g
・テトラエトキシシラン 50g
・3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 60g
上記の各化合物を混合し、撹拌した。約5分で発熱が認められた。60分間反応させた後、内容物を別の容器へ移し、メタノール3000gを加えることにより、ゾル液を得た。
このゾル液をメタノール/エチレングリコール=9/1(重量比)で希釈して、上述の様に作製された基板[A]上に、基板上のSiの量が3mg/m2となるように塗布し、100℃にて1分間乾燥させ、基板[C]を得た。
[平版印刷版原版の形成]
上述の様に作成された基板[A]乃至基板[C]のいずれかを支持体とし、その表面に下記組成の感光層塗布液を塗布し、115℃で1分乾燥し、1.4g/m2の感光層を形成し、実施例1〜10の平版印刷版原版を得た。使用する基板、(B)ラジカル発生剤(表1中に開始剤と記載)、(C)重合性の不飽和基を有する化合物(表1中に重合性化合物と記載)、及び(D)バインダーは下記表1に示す通りである。
(感光層塗布液)
・色素〔(A)特定色素など表1に記載の化合物〕 0.081g
・(B)ラジカル重合開始剤〔表1に記載の化合物〕 0.210g
・(D)バインダーポリマー〔表1に記載の化合物〕 1.05g
・(C)重合性化合物〔表1に記載の化合物〕 1.00g
・フッ素系ノニオン界面活性剤 0.025g
(F−177P 大日本インキ化学工業(株)製)
・エチルバイオレットクロロアニオン(アルドリッチ社製) 0.035g
・メチルエチルケトン 10g
・1−メトキシ−2−プロパノール 10g
・メタノール 5g
Figure 2005062795
〔色素〕
表1に記載の本発明に係る(A)特定色素は、先に挙げた例示化合物の符号である。また、比較例に用いた色素(H−1)、(H−2)の構造は以下のとおりである。
Figure 2005062795
〔(B)ラジカル重合性化合物〕
表1中に記載の(B)ラジカル重合開始剤〔(K−1)〜(K−3)〕の構造を以下に示す。
Figure 2005062795
〔(C)重合性化合物〕
(M−1)
新中村化学工業(株)製 NKエステル A−BPE−4
(M−2)
日本化薬(株)製 KAYARAD D−310(プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート)
〔表1中のバインダーポリマー〕
(B−1)
下記構造の高分子化合物
(B−2)
アリルメタクリレート/メタクリルアミド/2−メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸(共重合モル比:62/22/16、Mw=100,000)
Figure 2005062795
[保護層の形成]
上述のように形成された記録層上に、ポリビニルアルコール(ケン化度:98モル%、重合度:550)の3質量%水溶液を、乾燥後の塗布量が2g/m2となるように塗布し、100℃で1分間乾燥して保護層を設けた。
以上のようにして、実施例1〜10、比較例1、2の平版印刷版原版を得た。
(実施例11)
前記実施例4で用いた感光層塗布液に代えて、該感光層塗布液に感度などを向上させる目的で、分子内に、少なくとも、カルボン酸基を1つ以上、アミノ基又はチオエーテル基を1つ以上、有する化合物(前記例示化合物X−4)を0.1g添加したものを用いたほかは実施例4と同様にして実施例11の平版印刷版原版を得た。
(実施例12)
前記実施例3で用いた感光層塗布液に代えて、該感光層塗布液に分子内に、少なくとも、カルボン酸基を1つ以上、アミノ基又はチオエーテル基を1つ以上、有する化合物(前記例示化合物X−5)を0.1g添加したものを用いたほかは実施例4と同様にして実施例12の平版印刷版原版を得た。
(実施例13、14)
前記実施例12で用いた感光層塗布液において、該感光層塗布液に含まれる色素とラジカル重合開始剤とを表1に記載のものに代えたものを用いたほかは実施例12と同様にして実施例13,14の平版印刷版原版を得た。
(実施例15、16)
前記実施例2で用いた感光層塗布液において、該感光層塗布液に含まれる色素とラジカル重合開始剤とを表1に記載のものに代えたものを用いたほかは実施例2と同様にして実施例15、16の平版印刷版原版を得た。
(露光・現像処理)
得られた実施例1〜16、比較例1、2の平版印刷版用原版を、湿度75%、温度40℃で70時間放置した後、水冷式40W赤外線半導体レーザーを搭載したCreo社製Trendsetter3244VXにて、出力4Wで、外面ドラムの回転数を120回転として露光した。次いで、35℃の現像液(富士写真フイルム社製DV−2現像液/水=1/4)に、30秒浸漬して現像し、平版印刷版を得た。
(経時変化に対する評価)
前記強制経時(湿度75%温度40℃:70時間)を実施せずに、前記と同様の条件で露光、現像を実施した版と、強制経時を実施した版における未露光部のアルミ基板の残色を、それぞれ、X−Rite社製、Spectrodensitometerのシアン濃度により測定し、残色率を求めた。経時前後の数値の差を現像性低下の基準とした。数値が低いほど現像性が低下せず、強制経時における現像性の変動が小さく、安定性が高いことを表す。
〔刷り出し払い評価〕
得られた(製版後の)平版印刷版を、東京機械製作所(株)スペクトラム印刷機にセットし、インキとして東洋インキ製造(株)製のスーパーレオエコー墨Lを、湿し水成分として、富士写真フイルム(株)製IF−W03(2.5%溶液)用い、印刷用紙として、大昭和製紙(株)ヘンリーコートOを用いて印刷を行なった。印刷速度は200rpmで行なった。水着けローラーとインキローラーが同時に版に接触する様に印刷開始し、正常な印刷物が得られるまでの部数を計測し、刷り出し払いの評価とした。数が少ないほうが正常な印刷物が迅速に得られ、反故画像少なく、刷り払い出しに優れると評価する。
各評価の結果を前記表1に併記する。
表1の結果より、本発明の平版印刷版原版(実施例1〜16)は、比較例1、2に比べ、現像の経時安定性が良好で、かつ、非画像部への色素の付着もなく、印刷工程において正常な印刷物が迅速に得られることが分かる。一方、酸基を有さず、アルカリ水溶液への溶解性が不十分な色素を用いた比較例1、2の平版印刷版原版は、経時により現像性が低下し、且つ、刷り払い出し枚数が多いことが判明した。
また、実施例4と11、実施例3と12との対比において、添加剤として分子内に、少なくとも、カルボン酸基を1つ以上、アミノ基又はチオエーテル基を1つ以上有する化合物を添加したものは、現像性や刷り出し枚数がさらに改良されることがわかった。

Claims (5)

  1. (A)有機溶媒及びアルカリ水溶液に可溶性であり、且つ、700〜1200nmに吸収を有する色素と、(B)ラジカル重合開始剤と、(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物と、(D)バインダーポリマーとを含有することを特徴とする重合性組成物。
  2. 前記(A)有機溶媒及びアルカリ水溶液に可溶性であり、且つ、700〜1200nmに吸収を有する色素が、アルカリ水解離性基、及び、アルカリ水により分解可能な官能基からなる群より選択される1以上の官能基を有することを特徴とする請求項1に記載の重合性組成物。
  3. 前記(A)有機溶媒及びアルカリ水溶液に可溶性であり、且つ、700〜1200nmに吸収を有する色素がエステル基を有することを特徴とする請求項1に記載の重合性組成物。
  4. 前記(D)バインダーポリマーが、下記一般式(I)で表されるアルカリ可溶性基を有する構造単位を含むポリマーであることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の重合性組成物。
    Figure 2005062795
    (一般式(I)中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子からなる群より選択される2以上の原子から構成され、その原子数が2〜82である連結基を表す。Aは酸素原子又は−NR3−を表し、R3は水素原子又は炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表す。nは1〜5の整数を表す。)
  5. 支持体上に、前記請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の重合性組成物を含む記録層を備えてなることを特徴とする画像記録材料。
JP2003375262A 2003-07-29 2003-11-05 重合性組成物及びそれを用いた画像記録材料 Expired - Fee Related JP4299639B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003375262A JP4299639B2 (ja) 2003-07-29 2003-11-05 重合性組成物及びそれを用いた画像記録材料
EP04017841A EP1507170A3 (en) 2003-07-29 2004-07-28 Polymerizable composition and image-recording material using the same
US10/900,168 US7291443B2 (en) 2003-07-29 2004-07-28 Polymerizable composition and image-recording material using the same

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003202961 2003-07-29
JP2003375262A JP4299639B2 (ja) 2003-07-29 2003-11-05 重合性組成物及びそれを用いた画像記録材料

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005062795A true JP2005062795A (ja) 2005-03-10
JP4299639B2 JP4299639B2 (ja) 2009-07-22

Family

ID=33566796

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003375262A Expired - Fee Related JP4299639B2 (ja) 2003-07-29 2003-11-05 重合性組成物及びそれを用いた画像記録材料

Country Status (3)

Country Link
US (1) US7291443B2 (ja)
EP (1) EP1507170A3 (ja)
JP (1) JP4299639B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008544322A (ja) * 2005-06-21 2008-12-04 アグフア・グラフイクス・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ 感熱性像形成要素
JP2010072389A (ja) * 2008-09-19 2010-04-02 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及び平版印刷版の製造方法
US7883827B2 (en) 2002-09-30 2011-02-08 Fujifilm Corporation Polymerizable composition and planographic printing plate precursor
JP2016065178A (ja) * 2014-09-25 2016-04-28 Jsr株式会社 硬化性樹脂組成物、硬化膜、波長変換フィルム、発光素子および発光層の形成方法
WO2022163807A1 (ja) * 2021-01-29 2022-08-04 国立大学法人北海道大学 光音響イメージング剤

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4137577B2 (ja) * 2002-09-30 2008-08-20 富士フイルム株式会社 感光性組成物
CN100590525C (zh) * 2002-12-18 2010-02-17 富士胶片株式会社 可聚合组合物和平版印刷版前体
JP4150261B2 (ja) * 2003-01-14 2008-09-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版の製版方法
JP2004252201A (ja) * 2003-02-20 2004-09-09 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP2004252285A (ja) * 2003-02-21 2004-09-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JP4048134B2 (ja) * 2003-02-21 2008-02-13 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4048133B2 (ja) * 2003-02-21 2008-02-13 富士フイルム株式会社 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JP4299639B2 (ja) 2003-07-29 2009-07-22 富士フイルム株式会社 重合性組成物及びそれを用いた画像記録材料
JP2005099284A (ja) * 2003-09-24 2005-04-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及び平版印刷版原版
JP4340530B2 (ja) * 2003-12-26 2009-10-07 富士フイルム株式会社 画像記録材料
JP5170729B2 (ja) * 2005-03-02 2013-03-27 株式会社ブリヂストン 光硬化性樹脂組成物
DE602005012590D1 (de) * 2005-11-18 2009-03-19 Agfa Graphics Nv Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
US20090197206A1 (en) * 2008-01-25 2009-08-06 Ray Kevin B Method of making images using fresh processing solution
ES2768760T3 (es) * 2014-12-01 2020-06-23 Dow Global Technologies Llc Composiciones poliméricas, películas retráctiles y métodos de preparación de las mismas
EP3456547B1 (en) * 2017-02-28 2020-10-28 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, method of producing lithographic printing plate, and lithographic printing method
EP3928983B1 (en) 2020-06-24 2023-09-27 Eco3 Bv A lithographic printing plate precursor
EP4204398A2 (en) * 2020-08-28 2023-07-05 Ventana Medical Systems, Inc. Conjugates including a detectable moiety

Family Cites Families (97)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3839171A (en) * 1968-02-15 1974-10-01 Asahi Chemical Ind Unsaturated polyesters and laminates thereof
DE2027466A1 (de) * 1970-06-04 1971-12-09 Kalle Ag Polymere N-Carbonylsulfonamide und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE2064080C3 (de) 1970-12-28 1983-11-03 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
DE2361041C3 (de) * 1973-12-07 1980-08-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
DE2363806B2 (de) * 1973-12-21 1979-05-17 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
ZA757984B (en) 1974-10-04 1976-12-29 Dynachem Corp Polymers for aqueous processed photoresists
US4239849A (en) * 1978-06-19 1980-12-16 Dynachem Corporation Polymers for aqueous processed photoresists
DE3022473A1 (de) * 1980-06-14 1981-12-24 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zu seiner herstellung
DE3136818C2 (de) * 1980-09-19 1990-08-02 Hitachi Chemical Co., Ltd., Tokio/Tokyo Verwendung eines lichtempfindlichen Gemisches und eines lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials zur Bildung einer Lötmaske
JPS5953836A (ja) * 1982-09-21 1984-03-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPS5971048A (ja) * 1982-10-18 1984-04-21 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光重合系感光性組成物
US4476215A (en) * 1983-11-25 1984-10-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Negative-acting photoresist composition
US5246815A (en) * 1984-07-04 1993-09-21 Gen. Director Of The Agency Of Industrial Science & Technology Photosensitive material for screen processing
US5080999A (en) * 1985-06-10 1992-01-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive diazo resin composition containing a higher fatty acid or higher fatty acid amide
US4772538A (en) * 1985-08-02 1988-09-20 American Hoechst Corporation Water developable lithographic composition
US4952478A (en) * 1986-12-02 1990-08-28 Canon Kabushiki Kaisha Transfer recording medium comprising a layer changing its transferability when provided with light and heat
US4950581A (en) * 1987-07-06 1990-08-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition
JPH07103171B2 (ja) 1988-05-13 1995-11-08 日本ペイント株式会社 光重合性組成物
JP2571113B2 (ja) 1988-12-29 1997-01-16 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
JP2571115B2 (ja) * 1989-01-17 1997-01-16 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物の増感方法及び増感された感光性組成物
US5246816A (en) 1990-09-03 1993-09-21 Nippon Oil Co., Ltd. Cationic electrodeposition negative type resist composition
US5372915A (en) * 1993-05-19 1994-12-13 Eastman Kodak Company Method of making a lithographic printing plate containing a resole resin and a novolac resin in the radiation sensitive layer
JPH07114176A (ja) * 1993-10-15 1995-05-02 Toppan Printing Co Ltd 画像形成材料
DE4418645C1 (de) 1994-05-27 1995-12-14 Sun Chemical Corp Lichtempfindliches Gemisch und daraus herstellbares Aufzeichnungsmaterial
US5858604A (en) * 1994-07-11 1999-01-12 Konica Corporation Presensitized lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate
US5641608A (en) * 1995-10-23 1997-06-24 Macdermid, Incorporated Direct imaging process for forming resist pattern on a surface and use thereof in fabricating printing plates
US6030750A (en) * 1995-10-24 2000-02-29 Agfa-Gevaert. N.V. Method for making a lithographic printing plate involving on press development
EP0779161B1 (en) 1995-12-14 2000-07-05 Agfa-Gevaert N.V. A heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
US5879861A (en) * 1996-04-23 1999-03-09 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making a lithographic printing plate wherein an imaging element is used that comprises a thermosensitive mask
JP3645362B2 (ja) * 1996-07-22 2005-05-11 富士写真フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料
US5705322A (en) * 1996-09-30 1998-01-06 Eastman Kodak Company Method of providing an image using a negative-working infrared photosensitive element
US5919601A (en) * 1996-11-12 1999-07-06 Kodak Polychrome Graphics, Llc Radiation-sensitive compositions and printing plates
JP3810510B2 (ja) * 1997-03-26 2006-08-16 富士写真フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料及び平版印刷版原版
DE19739299A1 (de) * 1997-09-08 1999-03-11 Agfa Gevaert Ag Weißlicht-unempfindliches, thermisch bebilderbares Material und Verfahren zur Herstellung von Druckformen für den Offsetdruck
JPH11167203A (ja) 1997-12-01 1999-06-22 Nichigoo Mooton Kk 感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント
EP0950518B1 (en) 1998-04-15 2002-01-23 Agfa-Gevaert N.V. A heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
EP0950517B1 (en) 1998-04-15 2001-10-04 Agfa-Gevaert N.V. A heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
US5952154A (en) * 1998-05-29 1999-09-14 Morton International, Inc. Photoimageable composition having improved flexibility
US6348354B1 (en) * 1998-07-06 2002-02-19 Bayer Corporation Method and apparatus for controlling a stream of liquid test packages in a capsule chemistry analysis system
TWI250379B (en) 1998-08-07 2006-03-01 Az Electronic Materials Japan Chemical amplified radiation-sensitive composition which contains onium salt and generator
AU3722500A (en) * 1999-03-03 2000-09-21 Scarlette, Terry Lane Abrasion resistant coatings
JP2000309174A (ja) * 1999-04-26 2000-11-07 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
ATE319122T1 (de) * 1999-07-27 2006-03-15 Fuji Photo Film Co Ltd Bildaufzeichnungsmaterial
DE60008651T2 (de) * 1999-08-09 2005-02-10 Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara Lichtempfindliche lithographische Druckplattenvorstufe, die Metalloxyd enthält
US6566035B1 (en) 1999-10-29 2003-05-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Negative-type image recording material and precursor for negative-type lithographic printing plate
JP4050854B2 (ja) 1999-12-21 2008-02-20 富士フイルム株式会社 画像形成方法
US6309792B1 (en) * 2000-02-18 2001-10-30 Kodak Polychrome Graphics Llc IR-sensitive composition and use thereof for the preparation of printing plate precursors
US6692896B2 (en) * 2000-03-01 2004-02-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. Heat mode-compatible planographic printing plate
US6660446B2 (en) * 2000-05-30 2003-12-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Heat-sensitive composition and planographic printing plate
JP2002023350A (ja) * 2000-07-07 2002-01-23 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型平版印刷版原版
JP4105371B2 (ja) * 2000-07-28 2008-06-25 富士フイルム株式会社 ネガ型感光性平版印刷版
ATE362846T1 (de) 2000-08-21 2007-06-15 Fujifilm Corp Bildaufzeichnungsmaterial
JP2002072462A (ja) 2000-08-25 2002-03-12 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版及びその製版方法
JP2002072474A (ja) * 2000-08-29 2002-03-12 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
US6576401B2 (en) * 2001-09-14 2003-06-10 Gary Ganghui Teng On-press developable thermosensitive lithographic plates utilizing an onium or borate salt initiator
US6482571B1 (en) 2000-09-06 2002-11-19 Gary Ganghui Teng On-press development of thermosensitive lithographic plates
JP2002082429A (ja) * 2000-09-08 2002-03-22 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型画像記録材料
US6824946B2 (en) * 2000-10-03 2004-11-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor
US6777155B2 (en) * 2000-10-03 2004-08-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
US6864040B2 (en) 2001-04-11 2005-03-08 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal initiator system using leuco dyes and polyhalogene compounds
US6884568B2 (en) * 2000-10-17 2005-04-26 Kodak Polychrome Graphics, Llc Stabilized infrared-sensitive polymerizable systems
JP4248137B2 (ja) * 2000-11-22 2009-04-02 富士フイルム株式会社 ネガ型感光性平版印刷版
EP1219464B1 (en) 2000-12-20 2008-02-13 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
JP4512281B2 (ja) 2001-02-22 2010-07-28 富士フイルム株式会社 ネガ型平版印刷版原版
JP2002251008A (ja) * 2001-02-23 2002-09-06 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録材料
JP4098483B2 (ja) 2001-03-12 2008-06-11 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4266077B2 (ja) * 2001-03-26 2009-05-20 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
JP4132707B2 (ja) 2001-03-29 2008-08-13 富士フイルム株式会社 画像記録材料
JP4213876B2 (ja) 2001-04-13 2009-01-21 富士フイルム株式会社 感光性組成物及びネガ型平版印刷版
JP2002351094A (ja) * 2001-05-22 2002-12-04 Fuji Photo Film Co Ltd 現像液組成物及び画像形成方法
US6702437B2 (en) * 2001-08-23 2004-03-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image recording material
US6858674B2 (en) * 2002-10-31 2005-02-22 Basf Corporation Carbamate functional materials, a method of making said materials, and curable coating compositions containing said materials
JP2003084432A (ja) * 2001-09-10 2003-03-19 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP2003107720A (ja) * 2001-09-28 2003-04-09 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
EP1332870A3 (en) 2002-02-05 2005-01-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Infrared sensitive composition
JP2003302770A (ja) * 2002-02-08 2003-10-24 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成方法
US7521168B2 (en) 2002-02-13 2009-04-21 Fujifilm Corporation Resist composition for electron beam, EUV or X-ray
JP2003252939A (ja) 2002-03-01 2003-09-10 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
US6804631B2 (en) * 2002-05-15 2004-10-12 Microsoft Corporation Event data acquisition
US20040009426A1 (en) 2002-06-05 2004-01-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Infrared photosensitive composition and image recording material for infrared exposure
US7569328B2 (en) * 2002-08-16 2009-08-04 Fujifilm Corporation Resin composition and thermo/photosensitive composition
US7090957B2 (en) 2002-09-11 2006-08-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Polymerizable composition and planographic printing plate precursor using the same
JP2004115673A (ja) * 2002-09-26 2004-04-15 Fuji Photo Film Co Ltd 重合性組成物
JP4137577B2 (ja) * 2002-09-30 2008-08-20 富士フイルム株式会社 感光性組成物
US7338748B2 (en) * 2002-09-30 2008-03-04 Fujifilm Corporation Polymerizable composition and planographic printing plate precursor
JP2004126050A (ja) * 2002-09-30 2004-04-22 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
CN100590525C (zh) * 2002-12-18 2010-02-17 富士胶片株式会社 可聚合组合物和平版印刷版前体
JP4150261B2 (ja) * 2003-01-14 2008-09-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版の製版方法
JP2004240093A (ja) * 2003-02-05 2004-08-26 Konica Minolta Holdings Inc 感光性平版印刷版の画像形成方法
JP2004252201A (ja) * 2003-02-20 2004-09-09 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP4048134B2 (ja) * 2003-02-21 2008-02-13 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2004252285A (ja) * 2003-02-21 2004-09-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JP4048133B2 (ja) * 2003-02-21 2008-02-13 富士フイルム株式会社 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
US6848222B2 (en) * 2003-03-11 2005-02-01 Crest Products Inc. Protective and decorative valance in an awning for use with permanent building structures
JP4139724B2 (ja) * 2003-04-10 2008-08-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4299639B2 (ja) 2003-07-29 2009-07-22 富士フイルム株式会社 重合性組成物及びそれを用いた画像記録材料
JP2005059446A (ja) * 2003-08-15 2005-03-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版及び平版印刷方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7883827B2 (en) 2002-09-30 2011-02-08 Fujifilm Corporation Polymerizable composition and planographic printing plate precursor
JP2008544322A (ja) * 2005-06-21 2008-12-04 アグフア・グラフイクス・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ 感熱性像形成要素
JP4884466B2 (ja) * 2005-06-21 2012-02-29 アグフア・グラフイクス・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ 感熱性像形成要素
JP2010072389A (ja) * 2008-09-19 2010-04-02 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及び平版印刷版の製造方法
JP2016065178A (ja) * 2014-09-25 2016-04-28 Jsr株式会社 硬化性樹脂組成物、硬化膜、波長変換フィルム、発光素子および発光層の形成方法
WO2022163807A1 (ja) * 2021-01-29 2022-08-04 国立大学法人北海道大学 光音響イメージング剤
JPWO2022163807A1 (ja) * 2021-01-29 2022-08-04

Also Published As

Publication number Publication date
US20050026082A1 (en) 2005-02-03
EP1507170A3 (en) 2009-05-06
US7291443B2 (en) 2007-11-06
JP4299639B2 (ja) 2009-07-22
EP1507170A2 (en) 2005-02-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4299639B2 (ja) 重合性組成物及びそれを用いた画像記録材料
EP1431032B1 (en) Polymerizable composition and lithographic printing plate precursor
JP2004252285A (ja) 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JP2004252201A (ja) 平版印刷版原版
JP2005049542A (ja) 画像形成方法及び現像液
JP2004126050A (ja) 平版印刷版原版
JP4048133B2 (ja) 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JP4150261B2 (ja) 平版印刷版原版の製版方法
JP4233358B2 (ja) 重合性組成物、及び平版印刷版原版
JP4864682B2 (ja) 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JP4437948B2 (ja) 平版印刷版原版
JP4328193B2 (ja) 重合性組成物及び平版印刷版原版
JP5068682B2 (ja) ネガ型平版印刷版原版
JP4524235B2 (ja) 平版印刷版原版
JP4048110B2 (ja) 平版印刷版原版及びその製版方法
JP2004301915A (ja) 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JP4393331B2 (ja) 平版印刷版原版
JP4384464B2 (ja) 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JP4188727B2 (ja) 重合性組成物、及び平版印刷版原版
JP4351601B2 (ja) 重合性組成物及びそれを用いた画像記録材料
JP2005221615A (ja) 平版印刷版の処理法
JP2005049465A (ja) 画像形成方法及び現像液
JP2008089858A (ja) 平版印刷版原版及び平版印刷版原版積層体
JP2004309897A (ja) 重合性組成物、及び、ネガ型画像記録材料
JP2005165195A (ja) 平版印刷版原版

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060417

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20070111

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20081010

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20081021

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081218

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090127

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090317

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090414

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090417

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120424

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120424

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130424

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees