JP4351601B2 - 重合性組成物及びそれを用いた画像記録材料 - Google Patents

Description

本発明は、重合性組成物、及び該重合性組成物を記録層として用いた画像記録材料に関し、特に、赤外線レーザにより高感度で書き込み可能であり、平版印刷版原版等として好適に用いられる画像記録材料に関する。

近年におけるレーザーの発展は目ざましく、特に、近赤外線から赤外線領域に発光領域を持つ個体レーザーや半導体レーザーでは、高出力・小型化が進んでいる。したがって、コンピュータ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光源として、これらのレーザーは非常に有用である。
このようなレーザーを露光光源として使用する画像記録媒体としては、光熱変換物質と、ラジカルを発生する熱重合開始剤と、熱重合性樹脂とを含む熱重合性記録層が知られている（例えば、特許文献１参照。）。

通常、このような熱重合性記録層を構成するネガ型の画像形成材料は、光又は熱により発生したラジカルを開始剤として重合反応を生起させ、露光部を硬化させて画像部を形成する記録方式を利用している。
このようなネガ型の画像形成材料においては、色素やその他の構成成分としてイオン性の素材や極性の高い化合物を添加して、反応性や検版性などの特性を改良することも可能である。しかし、高極性の化合物は、高温雰囲気下で保存した場合、併用されるバインダーや重合性化合物との間で所望されない相互作用を形成し、未露光部の現像液に対する溶解速度が低下して、通常の現像条件において残膜が発生しやすくなるといった問題を有していた。

熱重合性以外の画像記録材料の分野、例えば、赤外線レーザ対応のポジ型画像記録材料や、酸発生剤と酸架橋剤とを含む架橋性のネガ型画像記録材料において、アルカリ現像時の残膜発生や色素汚れの発生を軽減する目的で、アルカリ水可溶性の色素を用いる技術が提案されている（例えば、特許文献２参照。）が、ここでは、重合性組成物への適用については検討されていなかった。
特開平８−１０８６２１号公報 特開２０００−２６７２６５公報

本発明の目的は、高感度で、露光により高効率で速やかに重合、硬化するとともに、未露光部のアルカリ現像性に優れた重合性組成物、及び、その組成物を用いたネガ型記録層を有する画像記録材料を提供することにある。

本発明者らは鋭意検討の結果、下記一般式（Ｉ）で表されるカルボン酸ユニットを少な
くとも一つ含む置換基を有するシアニン系赤外線吸収剤を用いることで、高感度と現像性を両立した重合性組成物が得られることを見出し、本発明を完成した。

即ち、本発明の重合性組成物は、（Ａ）芳香環を隣接して有する複素環構造をメチン鎖で結合した構造を有するシアニン色素の該複素環構造及び／又はメチン鎖上に、下記一般式（Ｉ）で表されるカルボン酸ユニットを少なくとも一つ有する赤外線吸収剤と、
（Ｂ）ラジカル重合開始剤と、
（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、
（Ｄ）バインダーポリマーと、を含有することを特徴とする重合性組成物である。

一般式（I）中、Ｘは、ＯＲ³、ＳＲ⁴、又はＮＲ⁵Ｒ⁶を示す。Ｒ¹〜Ｒ⁶は、各々独立に、水素原子又は一価の非金属原子団を表し、それぞれ互いに結合して脂肪族性又は芳香族性の環を形成してもよく、これらの中の少なくとも一つは、シアニン色素における複素環構造又はメチン鎖と結合する。

また、本発明の画像記録材料は、支持体上に、（Ａ）芳香環を隣接して有する複素環構造をメチン鎖で結合した構造を有するシアニン色素の該複素環構造及び／又はメチン鎖上に、下記一一般式（Ｉ）で表されるカルボン酸ユニットを少なくとも一つ有する赤外線吸
収剤と、
（Ｂ）ラジカル重合開始剤と、
（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、
（Ｄ）バインダーポリマーと、を含有する記録層を有することを特徴とする画像形成材料である。

一般式（I）中、Ｘは、ＯＲ³、ＳＲ⁴、又はＮＲ⁵Ｒ⁶を示す。Ｒ¹〜Ｒ⁶は、各々独立に、水素原子又は一価の非金属原子団を表し、それぞれ互いに結合して脂肪族性又は芳香族性の環を形成してもよく、これらの中の少なくとも一つは、シアニン色素における複素環構造又はメチン鎖と結合する。

上記一般式（I）で表されるカルボン酸ユニットとしては、例えば、イミノジ酢酸ユニット、フェノキシ酢酸ユニットなどが挙げられる。

また、本発明における赤外線吸収剤としては、下記一般式（II）で表される構造を有するシアニン色素に、一般式（Ｉ）で表されるカルボン酸ユニットを導入したものであることが好ましい。

一般式（II）中、Ｒ¹¹及びＲ¹²は、各々独立に、１価の有機基を表す。Ａｒ¹¹及びＡｒ¹²は、各々独立に、置換基を有していてもよい芳香族基又はヘテロ環基を表す。Ｙ¹¹及びＹ¹²は、各々独立に、硫黄原子、酸素原子、セレン原子、炭素原子数１２個以下のジアルキルメチレン基、又は−ＣＨ＝ＣＨ−基を表す。Ｑは、ペンタメチン基又はヘプタメチン基を表す。Ｘ^-はアニオンを表す。
なお、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ａｒ¹¹、Ａｒ¹²及びＱの少なくとも１つに、一般式（Ｉ）で表されるカルボン酸ユニットを有する置換基（以下、適宜「特定置換基」と称する。）を有することが必要である。

さらに、本発明における赤外線吸収剤としては、下記一般式（III）で表される構造を有するシアニン色素に、一般式（Ｉ）で表されるカルボン酸ユニットを導入したものであることが好ましい。

一般式（III）中、Ｒ¹²、Ｒ¹²、Ａｒ¹¹、Ａｒ¹²、Ｙ¹¹、及びＹ¹²、は、前記一般式（II）におけるＲ¹²、Ｒ¹²、Ａｒ¹¹、Ａｒ¹²、Ｙ¹¹、及びＹ¹²と同義である。Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁷、及びＲ¹⁸は、各々独立に、水素原子又は１価の有機基を表す。Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶は、各々独立に、水素原子又は１価の有機基を表し、互いに結合して環構造を形成してもよい。Ｒ¹⁹及びＲ²⁰は、各々独立に、１価の有機基を表し、互いに結合して環構造を形成してもよい。Ｘ^-はアニオンを表す。
なお、一般式（III）中のＲ¹¹〜Ｒ²⁰、Ａｒ¹¹及びＡｒ¹²の少なくとも１つに、特定置換基を有することが必要である。

さらに、本発明における赤外線吸収剤でとしては、下記一般式（IV）で表される構造を有するシアニン色素に、一般式（Ｉ）で表されるカルボン酸ユニットを導入したものであることが好ましい。

一般式（IV）中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ａｒ¹¹、Ａｒ¹²、Ｙ¹¹、及びＹ¹²、は前記一般式（II）
におけるＲ¹²、Ｒ¹²、Ａｒ¹¹、Ａｒ¹²、Ｙ¹¹、及びＹ¹²と同義である。ｎは、１又は２を表す。Ａｒ¹³及びＡｒ¹⁴は、各々独立に、置換基を有してもよい芳香族基又はヘテロ環基を表す。Ｘ^-はアニオンを表す。
なお、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ａｒ¹¹、Ａｒ¹²、Ａｒ¹³、及びＡｒ¹⁴の少なくとも１つに、特定置換基を有していることが必要である。

本発明の作用は明確ではないが、以下のことが推測される。
（高感度）： 本発明においては、一般式（Ｉ）で表されるカルボン酸ユニットが、露光
時に励起されたシアニン色素への電子移動により脱炭酸し、活性ラジカルを発生するという機構が推測される。このため、本発明における赤外線吸収剤においては、シアニン色素と一般式（Ｉ）で表されるカルボン酸ユニットとが連結されていることにより、これら二
つの距離が縮まり、前述の電子移動効率が向上して、活性ラジカルが効率良く発生することから、高感度が達成されたものと考えられる。
（現像性）： 本発明における赤外線吸収剤であるシアニン色素は、一般式（Ｉ）で表さ
れるカルボン酸ユニットを有することにより、色素自体が高い極性を有するため、未露光時には、有機溶媒及びアルカリ水溶液可溶性を発揮することができる。その一方、露光後には、カルボン酸ユニットが失われるため、記録層のアルカリ不溶性が向上する。このため、露光部と未露光部に対し、大きな現像ディスクリを持たせることができると考えられる。

本発明によれば、高感度で、露光により高効率で速やかに重合、硬化するとともに、未露光部のアルカリ現像性に優れた重合性組成物、及び、その組成物を用いたネガ型記録層を有する画像記録材料を提供することができる。

以下、本発明の重合性組成物及びそれを用いた画像記録材料について詳細に説明する。

〔重合性組成物〕
本発明の重合性組成物は、（Ａ）芳香環を隣接して有する複素環構造をメチン鎖で結合した構造を有するシアニン色素の該複素環構造及び／又はメチン鎖上に、下記一般式（Ｉ
）で表されるカルボン酸ユニットを少なくとも一つ含む置換基を有する赤外線吸収剤（以下、適宜「特定赤外線吸収剤」と称する。）と、
（Ｂ）ラジカル重合開始剤と、
（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、
（Ｄ）バインダーポリマーと、を含有することを特徴とする重合性組成物である。

一般式（I）中、Ｘは、ＯＲ³、ＳＲ⁴、又はＮＲ⁵Ｒ⁶を示す。Ｒ¹〜Ｒ⁶は、各々独立に、水素原子又は一価の非金属原子団を表し、それぞれ互いに結合して脂肪族性又は芳香族性の環を形成してもよく、これらの中の少なくとも一つは、シアニン色素における複素環構造又はメチン鎖と結合する。
以下、本発明の重合性組成物における各構成要素について詳細に説明する。

［（Ａ）特定赤外線吸収剤］

本発明において、（Ａ）成分として用いられる特定赤外線吸収剤は、芳香環を隣接して有する複素環構造をメチン鎖で結合した構造を有するシアニン色素であって、該複素環構造及び／又はメチン鎖上に、前記一般式（Ｉ）で表されるカルボン酸ユニットを少なくと
も一つ有する赤外線吸収剤である。
この特定赤外線吸収剤は、７００〜１２００ｎｍの範囲に吸収（好ましくは吸収極大波長）を有し、ラジカル発生可能なカルボン酸ユニットを有するとともに、アルカリ水溶液に可溶性を発揮するシアニン色素である。また、特定赤外線吸収剤は、製造適性上の理由から有機溶剤に可溶であることが必要である。

本発明における特定赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を蛍光として発光する機能を有している。このため、本発明の重合性組成物においては、発生した蛍光が、開始剤に吸収される（即ち、電子移動する）ことにより、後述の（Ｂ）ラジカル重合開始剤が分解してラジカルを発生し、そのラジカルにより、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物の重合反応が生起、進行し、赤外線レーザーの照射領域のみが硬化し、アルカリ水に不溶となる。

特定赤外線吸収剤としては、波長７００〜１２００ｎｍの赤外線を有効に吸収しうる染料であることが好ましいが、中でも、波長７６０〜１２００ｎｍの領域に吸収極大を有する染料であることがより好ましい。

特定赤外線吸収剤は、有機溶剤に可溶な赤外線吸収剤であることから、塗布液状の重合性組成物を作製した場合に、均一かつ安定な塗布液とすることができる。
また、特定赤外線吸収剤は、アルカリ水中において解離又は分解を起こすため、アルカリ性の水溶液（以下、「アルカリ現像液」という場合がある。）を用いることにより、本発明の重層合成組成物を記録層に適用した画像記録材料（後述する本発明の画像記録材料）においては、迅速、良好な現像処理を行うことができる。
即ち、本発明の重層合成組成物を記録層に適用した画像記録材料を、現像時にアルカリ現像液に浸漬した場合には、不要な特定赤外線吸収剤がアルカリ現像液内に排出され、非画像部の色素汚れの発生を防止することができる。また、該特定赤外線吸収剤が、現像液中に浮遊することによる現像阻害や色素付着による、非画像部の汚れの発生を防止することもできる。更に、画像部に存在する特定赤外線吸収剤はカルボン酸ユニットを失いアルカリ現像液に不溶化しているため、より強固な硬化膜を形成することができる。

さらに、現像性の向上により、現像時の現像処理条件の影響を受け難く、広い現像ラチチュードを得ることができるため、高温保存等による現像性の低下を防止することができ、結果的に重合性組成物としての保存安定性の向上を図ることができる。

本発明の重合性組成物に使用できる特定赤外線吸収剤について更に説明する。
本発明のおける特定赤外性吸収剤としては、芳香環を隣接して有する複素環構造をメチン鎖で結合した構造を有するシアニン色素の該複素環構造及び／又はメチン鎖上に、下記一般式（Ｉ）で表されるカルボン酸ユニットを少なくとも一つ有するものが用いられる。

＜一般式（Ｉ）で表されるカルボン酸ユニット＞
一般式（Ｉ）で表されるカルボン酸ユニット（以下、適宜「特定カルボン酸ユニット」と総称することがある。）について説明する。
本発明における特定カルボン酸ユニットは、下記一般式（Ｉ）で表され、前記したように、ラジカル発生能とアルカリ現像液可溶性を有するユニットである。

一般式（I）中、Ｘは、ＯＲ³、ＳＲ⁴、又はＮＲ⁵Ｒ⁶を示す。Ｒ¹〜Ｒ⁶は、各々独立に、水素原子又は一価の非金属原子団を表し、それぞれ互いに結合して脂肪族性又は芳香族性の環を形成してもよく、これらの中の少なくとも一つは、シアニン色素における複素環構造又はメチン鎖と結合する。

一般式（Ｉ）について詳細に説明する。
一般式（Ｉ）中、Ｘは、ＯＲ³、ＳＲ⁴、ＮＲ⁵Ｒ⁶を示し、ＯＲ³又はＮＲ⁵Ｒ⁶であることが好ましく、ＮＲ⁵Ｒ⁶であることがより好ましい。

一般式（Ｉ）中、Ｒ¹〜Ｒ⁶で表される一価の非金属原子団としては、それぞれ独立に、置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のアルケニル基、置換若しくは非置換のアリール基、置換若しくは非置換のヘテロアリール基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子が挙げられる。

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、及びＲ⁶で表される一価の非金属原子団の好ましい例について述べる。
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、及びＲ⁶で表されるアルキル基の好ましい例としては、炭素原子数が１から２０までの直鎖状、分岐状、および環状のアルキル基を挙げることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキル基がより好ましい。

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、及びＲ⁶で表される置換アルキル基のアルキル部分としては、上述した炭素数１から２０までのアルキル基上の水素原子のいずれか１つを除し、２価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状ならびに炭素原子数５から１０までの環状のものを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、及びＲ⁶が置換アルキル基である場合の好ましい具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、イソプロポキシメチル基、ブトキシメチル基、ｓ−ブトキシブチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、ピリジルメチル基、テトラメチルピペリジニルメチル基、Ｎ−アセチルテトラメチルピペリジニルメチル基、トリメチルシリルメチル基、メトキシエチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルスルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基等を挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、及びＲ⁶で表されるアルキル基に導入可能な置換基としては、上述した置換アルキル基説明中に記載された置換基の他、以下に例示する非金属原子から構成される一価の置換基も挙げられる。好ましい例としては、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、

アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ’−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキルウレイド基、Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、

アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、

アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）およびその共役塩基基（以下、スルホナト基と称する。）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィイナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、

ホスフォノ基（−ＰＯ₃Ｈ₂）およびその共役塩基基（以下、ホスフォナト基と称する。）、ジアルキルホスフォノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）₂）「ａｌｋｙｌ＝アルキル基、以下同」、ジアリールホスフォノ基（−ＰＯ₃（ａｒｙｌ）₂）「ａｒｙｌ＝アリール基、以下同」、アルキルアリールホスフォノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスフォノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙｌ））およびその共役塩基基（以下、アルキルホスフォナト基と称する。）、モノアリールホスフォノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））およびその共役塩基基（以下、アリールホスフォナト基と称すする。）、ホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ₂）およびその共役塩基基（以下、ホスフォナトオキシ基と称する。）、ジアルキルホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙｌ）₂）、ジアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｒｙｌ）₂）、アルキルアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））およびその共役塩基基（以下、アルキルホスフォナトオキシ基と称する。）、モノアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））およびその共役塩基基（以下、アリールホスフォナトオキシ基と称する。）、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、及びＲ⁶で表されるアルキル基に導入可能な置換基におけるアルキル部分の具体例としては、上述したＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、及びＲ⁶が置換アルキル基である場合と同様であり、好ましい範囲も同様である。
また、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、及びＲ⁶で表されるアルキル基に導入可能な置換基におけるアリール部分の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、及びＲ⁶で表されるがアルキル基に導入可能な置換基としてのヘテロアリール基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環若しくは多環芳香族環から誘導される基が挙げられる。特に好ましいヘテロアリール基中のヘテロアリール環の例としては、例えば、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、ペリミジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジン、フラザン等が挙げられ、これらは、更にベンゾ縮環してもよく、また置換基を有していてもよい。

また、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、及びＲ⁶で表されるアルキル基に導入可能な置換基としてのアルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−１−エテニル基等が挙げられる。置換アルキル基が有する置換基におけるアルキニル基の例としては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、及びＲ⁶で表されるアルキル基に導入可能な置換基におけるアシル基（Ｇ¹ＣＯ−）のＧ¹としては、水素原子、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙げることができる。
これらの置換基の内、さらにより好ましいものとしてはハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリールホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、及びＲ⁶で表されるアリール基としては、１個から３個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、及びＲ⁶で表される置換アリール基としては、上述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素原子を除く一価の非金属原子団からなる基を有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては、前述のアルキル基、置換アルキル基、及び、先に置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、及びＲ⁶が置換アリール基である場合の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、
メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルフェニル基、

スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エチルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルフェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルファモイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリルフェニル基、１−プロペニルメチルフェニル基、２−ブテニルフェニル基、２−メチルアリルフェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−プロピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチニルフェニル基等を挙げることができる。

また、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、及びＲ⁶で表されるヘテロアリール基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環若しくは多環芳香族環から誘導される基が挙げられる。特に好ましいヘテロアリール基中のヘテロアリール環の例としては、例えば、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、ペリミジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジン、フラザン等が挙げられ、これらは、更にベンゾ縮環してもよく、また置換基を有していてもよい。

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、及びＲ⁶で表される一価の非金属原子団は、それぞれ互いに結合して脂肪属性又は芳香属性の環を形成してもよい。脂肪属性の環としては、例えば、炭素数５から１０のシクロアルキル環又はシクロアルケニル環が挙げられ、より好ましくはシクロペンタン環又はシクロヘキサン環が挙げられる。また、芳香属性の環としては、例えば１個から３個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合間を形成したものが挙げらる。具体例としては、フェニル基、ナフチル、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、が挙げられ、ることができ、これらの中でもフェニル基、ナフチル基がより好ましい。

特定赤外線吸収剤においては、Ｒ¹〜Ｒ⁶の中の少なくとも一つが、シアニン色素における複素環構造又はメチン鎖に結合することで、特定カルボン酸ユニットとシアニン色素とが連結されていることが必要である。
特定カルボン酸ユニットとシアニン色素との結合の態様としては、ｉ）Ｒ¹〜Ｒ⁶のいずれかで表されるで水素原子を除し、特定カルボン酸ユニットとシアニン色素とを結合させる態様、又は、ｉｉ）Ｒ¹〜Ｒ⁶のいずれかで表される一価の非金属原子団上に存在する水素原子のいずれか一つを除し、Ｒ¹〜Ｒ⁶を２価の連結基として、特定カルボン酸ユニットとシアニン色素とを結合させる態様がある。

Ｒ¹〜Ｒ⁶のいずれかが２価の連結基となる場合、当該連結基の具体的な態様としては、下記の構造を１つ以上有する連結基を挙げることができる。

上記連結基は置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換オキシ基、置換カルボニル基、置換スルフィニル基、シリル基、ヘテロ環基が挙げられる。

前記連結基上に存在する置換基がアルキル基である場合、該アルキル基としては、炭素原子数が１から２０までの直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を挙げることができる。これらの中でも、炭素原子数１から１２までの直鎖状のアルキル基、炭素原子数３から１２までの分岐状のアルキル基、及び炭素原子数５から１０までの環状のアルキル基がより好ましい。その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、及び２−ノルボルニル基を挙げられる。

前記連結基上に存在するアルキル基が置換基を有する場合（即ち、置換アルキル基である場合）、該置換アルキル基のアルキル部分としては、上述した炭素数１から２０までのアルキル基上の水素原子のいずれか１つを除し、２価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましい炭素原子数の範囲についても上記アルキル基と同様である。
上記置換アルキル基の好ましい具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシカルボニルメチル基、イソプロポキシメチル基、ブトキシメチル基、ｓ−ブトキシブチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、アセチルオキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、ピリジルメチル基、テトラメチルピペリジニルメチル基、Ｎ−アセチルテトラメチルピペリジニルメチル基、トリメチルシリルメチル基、メトキシエチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、

カルバモイルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルスルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、等を挙げることができる。

前記連結基上に存在する置換アルキル基が有する置換基としては、上記置換アルキル基の説明中に記載された置換基の他、以下に例示する非金属原子から構成される１価の置換基も挙げられる。上述した置換基を含む好ましい例としては、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ'−アルキルウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアルキルウレイド基、Ｎ'−アリールウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアリールウレイド基、Ｎ'−アルキル−Ｎ'−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ'−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ'−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ'−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ'−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ'−アルキル−Ｎ'−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ'−アルキル−Ｎ'−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、

アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）及びその共役塩基基（スルホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィイナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、

ホスフォノ基（−ＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役塩基基（ホスフォナト基と称する。）、ジアルキルホスフォノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）₂）「ａｌｋｙｌ＝アルキル基、以下同」、ジアリールホスフォノ基（−ＰＯ₃（ａｒｙｌ）₂）「ａｒｙｌ＝アリール基、以下同」、アルキルアリールホスフォノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスフォノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基（アルキルホスフォナト基と称する。）、モノアリールホスフォノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基（アリールホスフォナト基と称する。）、ホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役塩基基（ホスフォナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙｌ）₂）、ジアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｒｙｌ）₂）、アルキルアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基（アルキルホスフォナトオキシ基と称する。）、モノアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基（アリールホスフォナトオキシ基と称する。）、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヘテロ環基、シリル基、等が挙げられる。

上記置換アルキル基が有する置換基におけるアルキル部分の具体例としては、上記置換アルキル基の場合と同様であり、好ましい範囲も同様である。また、上記置換アルキル基が有する置換基におけるアリール部分の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、等を挙げることができる。

前記連結基上に存在する置換基がアルケニル基である場合、該アルケニル基としては、炭素原子数２から２０のアルケニル基を挙げることができる。これらの中でも、炭素原子数２から１０までのアルケニル基が好ましく、炭素原子数２から８までのアルケニル基がより好ましい。アルケニル基は、更に置換基を有していてもよい。導入可能な置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、及び置換アリール基を挙げることができ、ハロゲン原子、炭素原子数１から１０までの直鎖状、分岐状、環状のアルキル基が好ましい。アルケニル基の具体例としては、例えば、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、１−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、１−オクテニル基、１−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−１−ブテニル基、２−フェニル−１−エテニル基、２−クロロ−１−エテニル基、等が挙げられる。

前記連結基上に存在する置換基がアルキニル基である場合、該アルキニル基としては、炭素原子数２から２０のアルキニル基を挙げることができる。これらの中でも、炭素原子数２から１０までのアルキニル基が好ましく、炭素原子数２から８までのアルキニル基がより好ましい。その具体例としては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、フェニルエチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。

前記連結基上に存在する置換基がアリール基である場合、該アリール基としては、ベンゼン環、２個から３個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成したものを挙げることができる。その具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基を挙げることができ、これらの中でも、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。

前記連結基上に存在するアリール基が置換基を有する場合（即ち、置換アリール基である場合）、該置換アルキル基としては、環形成炭素原子上に置換基として、非金属原子から構成される１価の置換基を有するものが挙げられる。導入される置換基の好ましい例としては、前述したアルキル基、置換アルキル基、及び、置換アルキル基における置換基の説明において、記載したものを挙げることができる。
上記置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エチルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルフェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルファモイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリルフェニル基、１−プロペニルメチルフェニル基、２−ブテニルフェニル基、２−メチルアリルフェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−プロピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチニルフェニル基等を挙げることができる。これらの中でも、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クロロフェニル基等が好ましい。

前記連結基上に存在する置換基がヘテロ環基である場合、該ヘテロ環基としては、３員環から８員環のヘテロ環基が好ましく、窒素原子、酸素原子、硫黄原子を含む３乃至６員環のヘテロ環基がより好ましく、窒素原子、酸素原子、硫黄原子を含む５乃至６員環のヘテロ環基がさらに好ましい。その具体例としては、ピリジル基、ピペリジニル基等が挙げられる。

前記連結基上に存在する置換基がシリル環基である場合、該シリル環基としては、置換基を有していてもよく、炭素数０から３０のシリル基が好ましく、炭素数３から２０のシリル基がより好ましく、炭素数３から１０のシリル基が更に好ましい。その具体例としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリリル基、トリプロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、シクロヘキシルジメチルシリル基、ジメチルビニルシリル基等が挙げられる。。

前記連結基上に存在する置換基がハロゲン原子である場合、該ハロゲン原子としては、フッ素原子、臭素原子、塩素原子、ヨウ素原子が挙げられ、これらの中でも、塩素原子および臭素原子が好ましい。

前記連結基上に存在する置換基が置換オキシ基（Ｒ⁰⁶Ｏ−）である場合、該置換オキシ基（Ｒ⁰⁶Ｏ−）としては、Ｒ⁰⁶が水素原子を除く一価の非金属原子団からなる基であるものを用いることができる。好ましい置換オキシ基としては、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基を挙げることができる。これらにおけるアルキル基、ならびにアリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基ならびに、アリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができる。また、アシルオキシ基におけるアシル基（Ｒ⁰⁷ＣＯ−）としては、Ｒ⁰⁷が、先の例として挙げたアルキル基、置換アルキル基、アリール基ならびに置換アリール基のものを挙げることができる。これらの置換基の中では、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、アリールスルホキシ基がより好ましい。好ましい置換オキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネチルオキシ基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカルボニルエチルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ基、メトキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、モルホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキシ基、アリロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、メシチルオキシ基、クメニルオキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エトキシフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブロモフェニルオキシ基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ナフチルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基等が挙げられる。

前記連結基上に存在する置換基がアミノ基である場合、該アミノ基はアミド基も含む置換アミノ基であってもよい。アミド基も含む置換アミノ基（Ｒ⁰⁸ＮＨ−、（Ｒ⁰⁹）（Ｒ⁰¹⁰）Ｎ−）としては、Ｒ⁰⁸、Ｒ⁰⁹、Ｒ⁰¹⁰が水素原子を除く一価の非金属原子団からなる基のものを使用できる。なおＲ⁰⁹とＲ⁰¹⁰とは結合して環を形成してもよい。置換アミノ基の好ましい例としては、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ'−アルキルウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアルキルウレイド基、Ｎ'−アリールウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアリールウレイド基、Ｎ'−アルキル−Ｎ'−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ'−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ'−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ'−アルキル−Ｎ'−アリールウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアルキル−Ｎ'−アリールウレイド基、Ｎ'−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ'−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ'−アルキル−Ｎ'−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ'−アルキル−Ｎ'−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基が挙げられる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができ、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基おけるアシル基（Ｒ⁰⁷ＣＯ−）のＲ⁰⁷は前述のとおりである。これらの内、より好ましいものとしては、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、アシルアミノ基が挙げられる。好ましい置換アミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ基、フェニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、アセチルアミノ基等が挙げられる。

前記連結基上に存在する置換基が置換カルボニル基（Ｒ⁰¹³−ＣＯ−）である場合、該置換カルボニル基（Ｒ⁰¹³−ＣＯ−）としては、Ｒ⁰¹³が一価の非金属原子団からなる基のものを使用できる。置換カルボニル基の好ましい例としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ'−アリールカルバモイル基が挙げられる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができる。これらの内、より好ましい置換カルボニル基としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基が挙げられ、さらにより好ましいものとしては、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル基ならびにアリーロキシカルボニル基が挙げられる。好ましい置換カルボニル基の具体例としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、カルボキシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノフェニルエテニルカルボニル基、メトキシカルボニルメトキシカルボニル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、モルホリノカルボニル基等が挙げられる。

前記連結基上に存在する置換基が置換スルフィニル基（Ｒ⁰¹⁴−ＳＯ−）である場合、該置換スルフィニル基（Ｒ⁰¹⁴−ＳＯ−）としては、Ｒ⁰¹⁴が一価の非金属原子団からなる基のものを使用できる。好ましい例としては、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基が挙げられる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができる。これらの内、より好ましい例としてはアルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基が挙げられる。このような置換スルフィニル基の具体例としては、ヘキシルスルフィニル基、ベンジルスルフィニル基、トリルスルフィニル基等が挙げられる。

上記一般式（I）で表されるカルボン酸ユニットとしては、例えば、イミノジ酢酸ユニット、フェノキシ酢酸ユニットなどが、具体的に挙げられる。

特定赤外線吸収剤としては、下記一般式（II）で表される構造を有するシアニン色素に、一般式（Ｉ）で表されるカルボン酸ユニットを導入したものであることが好ましい。

一般式（II）中、Ｒ¹¹及びＲ¹²は、各々独立に、１価の有機基を表す。Ａｒ¹¹及びＡｒ¹²は、各々独立に、置換基を有していてもよい芳香族基又はヘテロ環基を表す。Ｙ¹¹及びＹ¹²は、各々独立に、硫黄原子、酸素原子、セレン原子、炭素原子数１２個以下のジアルキルメチレン基、又は−ＣＨ＝ＣＨ−基を表す。Ｑは、ペンタメチン基又はヘプタメチン基を表す。Ｘ^-はアニオンを表す。
なお、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ａｒ¹¹、Ａｒ¹²及びＱの少なくとも１つに、特定置換基」を有することが必要である。

一般式（II）中、Ｒ¹¹及びＲ¹²は、各々独立に、１価の有機基を表し、中でも、置換基を有していてもよい炭素原子数２０個以下の炭化水素基であることが好ましい。
Ａｒ¹¹及びＡｒ¹²は、各々独立に、置換基を有していてもよい芳香族基又はヘテロ環基を表し、好ましい芳香族基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられ、好ましいヘテロ環基としてはピリジン環、ピラジン環等が挙げられる。中でも、ベンゼン環又はナフタレン環が特に好ましい。
Ｙ¹¹及びＹ¹²は、各々独立に、硫黄原子、酸素原子、セレン原子、炭素原子数１２個以下のジアルキルメチレン基、又は−ＣＨ＝ＣＨ−基を表し、中でも、ジメチルメチレン基等のジアルキルメチレン基が好ましい。
Ｑは、ペンタメチン基、又はヘプタメチン基を表し、赤外線に対する波長適性と安定性の点からヘプタメチン基が好ましい。また、Ｑは、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、シクロアルキル基、アリール基、オキシ基、及びイミニウム塩基より選択される基で置換されていてもよく、好ましい置換基としてはジフェニルアミノ基等のジアリールアミノ基、フェニルチオ基等のアリールチオ基が挙げられる。
Ｘ^-は、アニオンを表す。好ましいＸ^-は、画像記録材料の記録層塗布液に適用した場合の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオンである。

さらに、特定赤外線吸収剤としては、下記一般式（III）で表される構造を有するシアニン色素に、一般式（Ｉ）で表されるカルボン酸ユニットを導入したものであることが好ましい。

一般式（III）中、Ｒ¹²、Ｒ¹²、Ａｒ¹¹、Ａｒ¹²、Ｙ¹¹、及びＹ¹²、は、前記一般式（II）におけるＲ¹²、Ｒ¹²、Ａｒ¹¹、Ａｒ¹²、Ｙ¹¹、及びＹ¹²と同義である。Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁷、及びＲ¹⁸は、各々独立に、水素原子又は１価の有機基を表す。Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶は、各々独立に、水素原子又は１価の有機基を表し、互いに結合して環構造を形成してもよい。Ｒ¹⁹及びＲ²⁰は、各々独立に、１価の有機基を表し、互いに結合して環構造を形成してもよい。Ｘ^-はアニオンを表す。
なお、一般式（III）中のＲ¹¹〜Ｒ²⁰、Ａｒ¹¹及びＡｒ¹²の少なくとも１つに、特定置換基を有することが必要である。

一般式（III）中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ａｒ¹¹、Ａｒ¹²、Ｙ¹¹、Ｙ¹²、及びＸ^-は、前記一般式（II）におけるＲ¹¹、Ｒ¹²、Ａｒ¹¹、Ａｒ¹²、Ｙ¹¹、Ｙ¹²、及びＸ^-と同義であり、好ましい範囲も同様である。
Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁷、及びＲ¹⁸は、各々独立に、水素原子、又は１価の有機基を表し、１価の有機基としては、炭素原子数１２個以下の炭化水素基等が挙げられる。中でも、原料の入手性から、水素原子であることが好ましい。
Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶は、各々独立に、水素原子又は１価の有機基を表し、１価の有機基としては、炭素原子数１〜１２の炭化水素基等が挙げられる。また、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶は、互いに結合して環構造を形成してもよく、形成する環としては、５員環又は６員環が好ましい。
Ｒ¹⁹及びＲ²⁰は、各々独立に、１価の有機基を表し、１価の有機基としては、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜１０の芳香族炭化水素基、炭素原子数１〜８のアルキル基等が挙げられる。また、Ｒ¹⁹及びＲ²⁰は、互いに結合して環構造を形成してもよく、形成する環としては、フェニル基等の芳香族基が好ましい。

さらに、本発明における赤外線吸収剤でとしては、下記一般式（IV）で表される構造を有するシアニン色素に、一般式（Ｉ）で表されるカルボン酸ユニットを導入したものであることが好ましい。

一般式（IV）中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ａｒ¹¹、Ａｒ¹²、Ｙ¹¹、及びＹ¹²、は前記一般式（II）
におけるＲ¹²、Ｒ¹²、Ａｒ¹¹、Ａｒ¹²、Ｙ¹¹、及びＹ¹²と同義である。ｎは、１又は２を表す。Ａｒ¹³及びＡｒ¹⁴は、各々独立に、置換基を有してもよい芳香族基又はヘテロ環基を表す。Ｘ^-はアニオンを表す。
なお、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ａｒ¹¹、Ａｒ¹²、Ａｒ¹³、及びＡｒ¹⁴の少なくとも１つに、特定置換基を有していることが必要である。

一般式（IV）中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ａｒ¹¹、Ａｒ¹²、Ｙ¹¹、Ｙ¹²、及びＸ^-は、前記一般式
（II）におけるＲ¹¹、Ｒ¹²、Ａｒ¹¹、Ａｒ¹²、Ｙ¹¹、Ｙ¹²、及びＸ^-と同義であり、好ましい範囲も同様である。
Ａｒ¹³及びＡｒ¹⁴は、各々独立に、置換基を有してもよい芳香族基又はヘテロ環基を表す。好ましい芳香族基としては、１個から３個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成したものを挙げることができる。具体的には、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙げることができる、これらの中では、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。また、好ましいヘテロ環基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子の少なくとも１つを有する単環若しくは多環芳香族環が挙げられ、例えば、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、ペリミジン、フェナンスロリン、フェナルザジン、フラザン等が挙げられる。これらは更にベンゾ縮環していてもよく、また置換基を有していてもよい。

本発明において、最も好ましい特定赤外線吸収剤としては、下記一般式（Ｖ）で表され
る構造を有するシアニン色素、又は、一般式（VI）で表される構造を有するシアニン式を
に、一般式（Ｉ）で表されるカルボン酸ユニットを導入したものが挙げられる。

一般式（Ｖ）中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ａｒ¹¹、Ａｒ¹²、Ｙ¹¹、Ｙ¹²、及びＸ^-は、前記一般式
（II）におけるＲ¹¹、Ｒ¹²、Ａｒ¹¹、Ａｒ¹²、Ｙ¹¹、Ｙ¹²、及びＸ^-と同義であり、好ましい範囲も同様である。
Ａｒ¹⁵及びＡｒ¹⁶は、各々独立に、置換基を有してもよい芳香族基を表す。
Ｌ¹¹及びＬ¹²は、各々独立に、炭素数１〜１０のアルキレン基を表す。
Ｒ²¹及びＲ²²、各々独立に、特定置換基を表す。

一般式（VI）中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ａｒ¹¹、Ａｒ¹²、Ｙ¹¹、Ｙ¹²、及びＸ^-は、前記一般式
（II）におけるＲ¹¹、Ｒ¹²、Ａｒ¹¹、Ａｒ¹²、Ｙ¹¹、Ｙ¹²、及びＸ^-と同義であり、好ましい範囲も同様である。
Ａｒ¹⁵、Ａｒ¹⁶、Ｌ¹¹、及びＬ¹²は、上記一般式（Ｖ）におけるＡｒ¹⁵、Ａｒ¹⁶、Ｌ¹¹、及びＬ¹²と同義である。
Ｒ²³及びＲ²⁴は、各々独立に、特定置換基を表す。

本発明に係る特定赤外線吸収剤の好ましい態様としては、以下のような態様が挙げられる。
一般式（II）乃至（IV）で表される構造において、Ａｒ¹¹及びＡｒ¹²上に、ハロゲン原子又はアルコキシカルボニル基を少なくとも１つ有し、且つ、Ｒ¹¹及びＲ¹²の少なくとも一つに特定置換基を有する態様。
一般式（Ｖ）で表される構造において、Ａｒ¹¹及びＡｒ¹²上に、ハロゲン原子又はアルコキシカルボニル基を少なくとも１つ有し、且つ、Ｒ²¹及びＲ²²の少なくとも一つに特定置換基を有する態様。
一般式（ＶI）で表される構造において、Ａｒ¹¹及びＡｒ¹²上に、ハロゲン原子又はアルコキシカルボニル基を少なくとも１つ有し、且つ、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ²¹、及びＲ²²の少なくとも一つに特定置換基を有する態様。
特定赤外線吸収剤として、更に好ましくは、一般式（VI）で表される構造において、Ａｒ¹²及びＡｒ¹²上に、ハロゲン原子又はアルコキシカルボニル基を一つづつ有し、Ｒ²¹及びＲ²²に特定置換基を有する態様である。

次に、特定赤外線吸収剤のアルカリ現像液可溶性について説明する。特定赤外線吸収剤のアルカリ可溶性はカルボン酸に由来するが、その酸性度（ｐＫａ）は、一般式（I）におけるＸとその置換基により変化する。本発明では、ｐＫａ１７以下に解離性を有するカルボン酸基、カルボン酸基の前駆体又はその共役塩基基が好ましく、中でも、ｐＫａ３〜１３に解離性を有するカルボン酸基、カルボン酸基の前駆体又はその共役塩基基がより好ましい。
前記ｐＫａが、１未満であると、保水性が高く、経時変化が大きく画像形成材料の保存安定性の低下が生じることがあり、ｐＫａが１７を超えると、逆に親水性が低下するため、現像不良や非画像部の汚れを生ずることがある。

本発明に好適に用いられる特定赤外線吸収剤としては、具体的には、例えば、以下に示す化合物〔例示化合物：（Ｄ−１）〜（Ｄ−２４）〕が挙げられるが、本発明における特定赤外線収集剤は、これらに限定されるものではない。

なお、例示化合物（Ｄ−１）〜（Ｄ−２４）においては、全てがＢＦ₄塩として記載されているが、特定赤外線吸収剤における対アニオンとしては、特にこれに限定されることはなく、一価の対アニオンであれば制限はない。
具体的に、用いることが可能なその他の対アニオンとしては、ハロゲンアニオン（Ｆ^-、Ｃｌ^-、Ｂｒ^-、Ｉ^-）、ルイス酸アニオン（ＢＦ₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＳｂＣｌ₆ ^-、ＣｌＯ₄ ^-）、アルキルスルホン酸アニオン、アリールスルホン酸アニオンが好ましいものとして挙げられ、中でもルイス酸アニオンが好ましい。

前記アルキルスルホン酸アニオンの構造中のアルキル基としては、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基等を挙げることができる。中でも、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数３〜１２の分岐状アルキル基又は炭素数５〜１０の環状アルキル基が好ましい。

前記アリールスルホン酸アニオンとしては、１個のベンゼン環を有してなるもの、２個又は３個のベンゼン環が縮環してなるもの、ベンゼン環と不飽和５員環とが縮環してなるものが挙げられ、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基等を挙げることができる。なかでも、フェニル基、ナフチル基が好ましい。

前記アルキル基、アリール基は、置換基を有していてもよく、好ましい置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、水酸基、アルコキシ基、シアノ基、スルホンアミド基、アミノ基、アミド基、アルケニル基、カルボキシル基、エステル基などが挙げられる。
なお、前記した１価の対アニオンのなかでも、合成の容易性、安定性の観点から、特にスルホン酸アニオン、又は、ルイス酸アニオンが好ましく、なかでも、ＢＦ₄ ^-、ＰＦ₆ ^-が好ましい。

本発明の重合性組成物における、（Ａ）特定赤外線吸収剤の添加量としては、感度と膜性の観点から、全固形分重量に対し、０．０１〜４０質量％が好ましく、０．１〜２０質量％がより好ましく、１〜１５質量％が最も好ましい。
なお、アルカリ水可溶性基を有する特定赤外線吸収剤を使用した本発明の重合性組成物では、その全固形分質量に対し、４０質量％を超える範囲で特定赤外線吸収剤を添加しても、通常の色素を多量に添加した時に生ずる、現像時における不要な色素の残存や、不溶色素の非画像への再付着などの懸念がない。このため、高感度化など、目的に応じた色素添加量の自由度が高いという利点を有するものである。
前記特定赤外線吸収剤は重合性組成物に必須であるが、例えば画像記録材料の記録層などのように、これを製膜して用いる場合には、必ずしも同一層に含まれなくてもよく、複数の層構成として、他の成分とは別の層を設け、そこに添加しても同様の効果が得られる。

本発明における特定赤外線吸収剤は、製造適性上の理由から有機溶剤に可溶であることが必要であるのは前述のとおりであるが、これは、当該色素を含む重合性組成物に用いる塗布溶媒に対して可溶性を有すればよいことを意味し、必ずしも特定の有機溶媒のすべてに可溶性を必要とすることを意味するものではない。ここで塗布溶媒に用いられる有機溶媒には特に制限はなく、公知のものを特に限定されることなく使用でき、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、１−メトシキ−２−プロパノール、ジエチレングリコール、１−ヘキサノール、３−メチル−１−ペンタノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、シクロペンタノール、２−エトキシエタノール、テトラヒドロフルフリルアルコール等のアルコール系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、フルオロベンゼン等のハロゲン系溶媒、トルエン、ベンゼン、メシチレン、キシレン、ｔ−ブチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、２−メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、アニソール、シクロペンテンキシド、１，３−ジオキサン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトン、２−ブタノン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、３−メチル−２−ブタノン、アセトフェノン、３−ペンタノン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノアセテート、γ−ブチロラクトン、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル等のエステル系溶媒、トリエチルアミン、ピリジン等のアミン系溶媒、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、その他の溶媒としてジメチルスルホキシド、アセトニトリル等が挙げられるが、炭素原子を有する液体であれば、使用することができる。又上記の溶媒を混合して使用することも可能である。本発明の重合性組成物に用いうる好ましい有機溶媒としては、アルコール系溶媒又はケトン系、エステル系、ジメチルアセトアミド等の有極性有機溶媒が挙げられる。

なお、本発明の重合性組成物においては、本発明の効果を損なわない程度の範囲において、必要に応じ、上記（Ａ）特定赤外線吸収剤以外に、従来公知の他の赤外線吸収剤を含有させることが可能である。
従来公知の他の赤外線吸収剤としては、市販の染料及び文献（例えば、「染料便覧」，有機合成化学協会編集，昭和４５年刊；ＴＨＥ ＣＹＡＮＩＮＥ ＤＹＥＳ ＡＮＤ ＲＥＬＡＴＥＤ ＣＯＭＰＯＵＮＤＳ，Ｆｒａｎｃｅｓ．Ｍ．Ｈａｒｍｅｒ著；Ｉｎｆｒａｒｅｄ Ａｂｓｏｒｂｉｎｇ Ｄｙｅｓ． Ｅｄｉｔｅｄ ｂｙ Ｍａｓａｒｕ Ｍａｔｓｕｏｋａ，１９９０年）に記載されている公知の赤外線吸収色素（染料）を適用することができる。

具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、他のシアニン染料等の染料にアルカリ水可溶性基を導入したものが挙げられ、中でも、赤外光若しくは近赤外光（波長７００〜１２００ｎｍ）を高効率に吸収しうるものが好ましい。

前記染料のうち、赤外光若しくは近赤外光を吸収しうる染料としては、例えば、特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２８２９号、特開昭６０−７８７８７号等に記載のシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載のメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号等に記載のナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号等に記載のスクワリリウム色素、英国特許４３４，８７５号に記載のシアニン染料、米国特許５，３８０，６３５号に記載のジヒドロペリミジンスクアリリウム染料等が挙げられる。

さらに、染料として、米国特許第５，１５６，９３８号に記載の近赤外吸収増感剤にアルカリ水可溶性基を導入したものも好適に用いることができる。
また、米国特許第３，８８１，９２４号に記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９号）に記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載のピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号に記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩、特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２号に記載のピリリウム化合物などに酸基などを導入したものが好適に挙げられ、市販品としては、エポリン社製の、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ III−１７８、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ III−１３０、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ III−１２５、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ IV−６２Ａ等が挙げられる。

また、米国特許第４，７５６，９９３号明細書に記載の式（Ｉ）及び（II）で表される近赤外吸収染料も好適に挙げることができる。
なお上記した他の赤外線吸収剤は、本発明における特定赤外線吸収剤が有する特定カルボン酸ユニットを有する態様であってもよい。

［（Ｂ）ラジカル重合開始剤］
（Ｂ）ラジカル重合開始剤は、光、熱、或いはその両方のエネルギーによりラジカルを発生し、後述する（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物の重合を開始、促進させる化合物を指す。本発明に係るラジカル発生剤としては、公知の熱重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを選択して使用することができる。
そのようなラジカル発生剤としては、有機ハロゲン化化合物、カルボニル化合物、有機過酸化化合物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸化合物、ジスルホン酸化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物等が挙げられる。

上記有機ハロゲン化化合物としては、具体的には、若林等、「Ｂｕｌｌ Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ Ｊａｐａｎ」４２、２９２４（１９６９）、米国特許第３，９０５，８１５号明細書、特公昭４６−４６０５号、特開昭４８−３６２８１号、特開昭５５−３２０７０号、特開昭６０−２３９７３６号、特開昭６１−１６９８３５号、特開昭６１−１６９８３７号、特開昭６２−５８２４１号、特開昭６２−２１２４０１号、特開昭６３−７０２４３号、特開昭６３−２９８３３９号、Ｍ．Ｐ．Ｈｕｔｔ“Ｊｕｒｎａｌ ｏｆ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”１（Ｎｏ３），（１９７０）」筆に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物：Ｓ−トリアジン化合物が挙げられる。

より好適には、すくなくとも一つのモノ、ジ、又はトリハロゲン置換メチル基がｓ−トリアジン環に結合したｓ−トリアジン誘導体、具体的には、例えば、２，４，６−トリス（モノクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２―ｎ−プロピル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−トリクロロエチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３，４−エポキシフェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔１−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ブタジエニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ｉ−プロピルオキシスチリル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ナトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ベンジルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メトキシ−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン等が挙げられる。

上記カルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ−２−メチルフェニルプロパノン、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル−（ｐ−イソプロピルフェニル）ケトン、１−ヒドロキシ−１−（ｐ−ドデシルフェニル）ケトン、２−メチルー（４’−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノ−１−プロパノン、１，１，１−トリクロロメチル−（ｐ−ブチルフェニル）ケトン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることができる。

上記アゾ化合物としては例えば、特開平８−１０８６２１に記載のアゾ化合物等を使用することができる。

上記有機過酸化化合物としては、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−オキサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシオクタノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシラウレート、ターシルカーボネート、３，３’，４，４’−テトラ−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ−（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ−（ｐ−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、カルボニルジ（ｔ−ブチルパーオキシ二水素二フタレート）、カルボニルジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート）等が挙げられる。

上記メタロセン化合物としては、特開昭５９−１５２３９６号公報、特開昭６１−１５１１９７号公報、特開昭６３−４１４８４号公報、特開平２−２４９号公報、特開平２−４７０５号公報、特開平５−８３５８８号公報記載の種々のチタノセン化合物、例えば、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、特開平１−３０４４５３号公報、特開平１−１５２１０９号公報記載の鉄−アレーン錯体等が挙げられる。

上記ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平６−２９２８５号、米国特許第３，４７９，１８５号、同第４，３１１，７８３号、同第４，６２２，２８６号等の各公報記載の種々の化合物、具体的には、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロモフェニル））４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイジダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｏ’−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−トリフルオロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。

上記有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特開昭６２−１４３０４４号、特開昭６２−１５０２４２号、特開平９−１８８６８５号、特開平９−１８８６８６号、特開平９−１８８７１０号、特開２０００−１３１８３７、特開２００２−１０７９１６、特許第２７６４７６９号、特願２０００−３１０８０８号、等の各公報、及び、Ｋｕｎｚ，Ｍａｒｔｉｎ“Ｒａｄ Ｔｅｃｈ”９８．Ｐｒｏ
ｃｅｅｄｉｎｇ Ａｐｒｉｌ １９−２２，１９９８，Ｃｈｉｃａｇｏ”等に記載される有機ホウ酸塩、特開平６−１５７６２３号公報、特開平６−１７５５６４号公報、特開平６−１７５５６１号公報に記載の有機ホウ素スルホニウム錯体或いは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平６−１７５５５４号公報、特開平６−１７５５５３号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム錯体、特開平９−１８８７１０号公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平６−３４８０１１号公報、特開平７−１２８７８５号公報、特開平７−１４０５８９号公報、特開平７−３０６５２７号公報、特開平７−２９２０１４号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられる。

上記ジスルホン化合物としては、特開昭６１−１６６５４４号、特願２００１−１３２３１８公報等記載される化合物が挙げられる。

上記オキシムエステル化合物としては、例えば、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年）ｐ１６５３−１６６０、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年）ｐ１５６−１６２、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ．Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ．Ｔｅｃｈｏｎｏｌｏｇｙ（１９９５）ｐ２０２−２３２、特開２０００−６６３８５号公報、同２０００−８００６８号公報に記載の化合物が挙げられ、具体的には、以下の化合物などがある。

上記オニウム塩化合物としては、例えば、Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号明細書、特開平４−３６５０４９号等に記載のアンモニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第１０４、１４３号、米国特許第５、０４１，３５８号、同第４，４９１，６２８号の各明細書、特開平２−１５０８４８号、特開平２−２９６５１４号に記載のヨードニウム塩、欧州特許第３７０，６９３号、同３９０，２１４号、同２３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４４２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同４，９３３，３７３号、同４，４９１，６２８号、同５，０４１，３５８号、同４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４号、同２，８３３，８２７号、独国特許第２，９０４，６２６号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５８１号の各明細書に記載のスルホニウム塩、

Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記載のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔ ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳＩＡ，ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。特に反応性、安定性の面からジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩が挙げられる。本発明において、これらのオニウム塩はイオン性のラジカル重合開始剤として機能する。
本発明において好適に用いられる（Ｂ）ラジカル重合開始剤はオニウム塩であり、感度、安定性の面から、下記一般式（ＲＩ−Ｉ）〜（ＲＩ−III）で表されるオニウム塩がより好ましい。

式（ＲＩ−Ｉ）中、Ａｒ¹¹は置換基を１〜６有していてもよい炭素数２０以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルケニル基、炭素数１〜１２のアルキニル基、炭素数１〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のジアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のアルキルアミド基又はアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数１〜１２のチオアルキル基、炭素数１〜１２のチオアリール基が挙げられる。
Ｚ^11-は１価の陰イオンを表し、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンであり、安定性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオンが好ましい。

式（ＲＩ−II）中、Ａｒ²¹、Ａｒ²²は各々独立に置換基を１〜６有していてもよい炭素数２０以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルケニル基、炭素数１〜１２のアルキニル基、炭素数１〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のジアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のアルキルアミド基又はアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数１〜１２のチオアルキル基、炭素数１〜１２のチオアリール基が挙げられる。
Ｚ^21-は１価の陰イオンを表し、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンであり、安定性、反応性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。

式（ＲＩ−III）中、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³は各々独立に置換基を１〜６有していてもよい炭素数２０以下のアリール基又はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基を表し、好ましくは反応性、安定性の面から、アリール基であることが望ましい。好ましい置換基としては炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルケニル基、炭素数１〜１２のアルキニル基、炭素数１〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のジアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のアルキルアミド基又はアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数１〜１２のチオアルキル基、炭素数１〜１２のチオアリール基が挙げられる。
Ｚ^31-は１価の陰イオンを表し、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンであり、安定性、反応性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましく、特に、特願２０００−１６０３２３のカルボン酸イオン、ハロゲンイオン、更に好ましくは特願２００１−１７７１５０、特願２０００−２６６７９７のカルボン酸イオン又はハロゲンイオンが好ましい。

本発明において特に好適に用いることができるオニウム塩構造は、特に、反応性の面から上記一般式（ＲＩ−III）において、Ｒ³¹、Ｒ³²及びＲ³³がいずれもアリール基であることが好ましく、更に、これらのうち、２つ以上のアリール基が電子吸引性基により置換されていることがより好ましく、最も好ましくは、Ｒ³¹、Ｒ³²及びＲ³³がいずれもハロゲン原子により置換されたアリール基であることである。

以下に、本発明の重合性組成物に好適に用いられる（Ｃ）ラジカル重合開始剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

本発明において用いられる（Ｂ）ラジカル重合開始剤は、極大吸収波長が４００ｎｍ以下であることが好ましく、更に３６０ｎｍ以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、重合性組成物の取り扱いを白灯下で実施することができる。

これらの（Ｂ）ラジカル重合開始剤の添加量としては、感度、及び、未露光部における残膜の発生防止効果の観点から、重合性組成物全固形分に対し、０．１〜５０質量％の範囲であることが好ましく、０．５〜３０質量％であることがさらに好ましく、特に好ましくは１〜２０質量％の割合である。
これらの（Ｂ）ラジカル重合開始剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

［（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物］
本発明に使用される（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物（以下、適宜、重合性化合物と称する。）は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であることが好ましく、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくはま２個以上有する化合物から選ばれることが好ましい。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつものを包含する。

モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能若しくは多官能イソシアナート類、エポキシ類との付加反応物、単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。

また、イソシアナート基や、エポキシ基、等の親電子性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、ハロゲン基や、トシルオキシ基、等の脱離性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー卜、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビト一ルペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレ
ングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。

クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。

マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。

その他のエステルの例として、例えば、特公昭４６−２７９２６号公報、特公昭５１−４７３３４号公報、特開昭５７−１９６２３１号公報に記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭５９−５２４０号公報、特開昭５９−５２４１号公報、特開平２−２２６１４９号公報に記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３号公報に記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。
更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭５４−２１７２６記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式（ｇ）で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。

一般式（ｇ）中、Ｒ及びＲ’は、各々独立に、水素原子又はＣＨ₃を表す。
また、特開昭５１−３７１９３号、特公平２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号の各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２−３９４１７号、特公昭６２−３９４１８号の各公報に記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。

更に、特開昭６３−２７７６５３号、特開昭６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号の各公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に硬化反応速度に優れた重合性組成物を得ることができる。

その他の例としては、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号の各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭４６−４３９４６号、特公平１−４０３３７号、特公平１−４０３３６号の各公報に記載の特定の不飽和化合物や、特開平２−２５４９３号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭６１−２２０４８号記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。

これらの、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物としての重合性化合物について、どのような構造を用いるか、単独で使用するか併用するか、添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終的な感材の性能設計にあわせて、任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。感光スピードの点では１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、２官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、３官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基（例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物）のものを併用することで、感光性と強度との両方を調節する方法も有効である。大きな分子量の化合物や、疎水性の高い化合物は感光スピードや、膜強度に優れる反面、現像スピードや現像液中での析出といった点で好ましく無い場合がある。

（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物の配合比に関しては、多い方が感度的に有利であるが、多すぎる場合には、好ましくない相分離が生じたり、組成物の粘着性による製造工程上の問題（例えば、感材成分の転写、粘着に由来する製造不良）や、画像記録材料の一例である平版印刷版原版とした場合、現像液からの析出が生じる等の問題を生じ得る。これらの観点から、本発明の重合性組成物における（Ｃ）成分は、これを画像記録材料の記録層に用いる場合も同様に、重合性組成物全固形分に対して、２０〜７０質量％が好ましく、２５〜５０質量％がより好ましい。
また、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物は、１種単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。

また、画像記録材料に用いる場合、記録層中の他の成分（例えば、バインダーポリマー、開始剤、着色剤等）との相溶性、分散性に対しても、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、２種以上の併用により相溶性を向上させ得ることがある。

［（Ｄ）バインダーポリマー］
本発明の重合性組成物には、皮膜特性向上等の観点から、（Ｄ）バインダーポリマーを含有することを要する。バインダーポリマーとしては線状有機ポリマーを用いることが好ましい。このような「線状有機ポリマー」としては、公知のものを任意に使用できる。好ましくは水現像あるいは弱アルカリ水現像を可能とするために、水あるいは弱アルカリ水に可溶性又は膨潤性である線状有機ポリマーが選択される。線状有機ポリマーは、画像記録層の皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水あるいは有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有機ポリマーを用いると水現像が可能になる。このような線状有機ポリマーとしては、側鎖にカルボン酸基を有するラジカル重合体、例えば、特開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５４−９２７２３号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号の各公報に記載されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体が挙げられる。この他に水酸基を有する重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。

特にこれらの中でも、ベンジル基又はアリル基と、カルボキシル基を側鎖に有する（メタ）アクリル樹脂及び特開２０００−１８７３２２号公報、特開２００２−６２６４８号、特願２００１−２５３２１７号、特願２００２−２８７９２０号、特開２００２−６２６４８号の各公報などに記載されている側鎖に二重結合を有するアルカリ可溶性樹脂が、膜強度、感度、現像性のバランスに優れており、好適である。

また、特公平７−１２００４号、特公平７−１２００４１号、特公平７−１２００４２号、特公平８−１２４２４号、特開昭６３−２８７９４４号、特開昭６３−２８７９４７号、特開平１−２７１７４１号、特願平１０−１１６２３２号等に記載される酸基を含有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。

さらにこの他に水溶性線状有機ポリマーとして、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ナイロンや２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。

本発明で使用されるバインダーポリマーの重量平均分子量については、好ましくは５０００以上であり、さらに好ましくは１万〜３０万の範囲であり、数平均分子量については好ましくは１０００以上であり、さらに好ましくは２０００〜２５万の範囲である。多分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は１以上が好ましく、さらに好ましくは１．１〜１０の範囲である。
これらのポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよいが、ランダムポリマーであることが好ましい。

本発明で使用されるバインダーポリマーは、従来公知の方法により合成できる。合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。これらの溶媒は単独で又は２種以上混合して用いられる。
本発明で使用されるポリマーを合成する際に用いられるラジカル発生剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等公知の化合物が使用できる。

本発明で使用されるバインダーポリマーは、単独で用いても混合して用いてもよい。
本発明の重合性組成物における（Ｄ）バインダーポリマーの添加量として、重合性組成物に含まれる全固形分に対して、２０〜８０質量％であることが好ましく、３０〜７０質量％がより好ましい。特に、本発明の重合性組成物を平版印刷版原版等の画像記録材料の記録層として用いる場合には、これらバインダーポリマーの添加量は、画像形成性及び画像部の強度の観点から、記録層全固形分に対し２０〜９５質量％、好ましくは３０〜９０質量％の割合で添加される。また、前記（Ｃ）エチレン性不飽和二重結合を少なくとも１つ有する化合物と（Ｄ）バインダーポリマー（線状有機ポリマー）は、質量比で１／９〜７／３の範囲とするのが好ましい。

（Ｅ）その他の成分
本発明の重合性組成物中には、更にその用途、製造方法等に適したその他の成分を適宜添加することができる。
以下では、特に、本発明の重合性組成物を画像記録材料の記録層として用いる場合に好適な添加剤について、画像記録材料の一例である平版印刷版原版を例に挙げて以下に説明する。

（Ｅ−１）共増感剤
重合性組成物にある種の添加剤を用いることで、感度を更に向上させることができる。このような化合物を以後、共増感剤という。これらの作用機構は、明確ではないが、多くは次のような化学プロセスに基づくものと考えられる。即ち、重合開始剤により開始される光反応、と、それに引き続く付加重合反応の過程で生じる様々な中間活性種（ラジカル、カチオン）と、共増感剤が反応し、新たな活性ラジカルを生成するものと推定される。これらは、大きくは、（ｉ）還元されて活性ラジカルを生成し得るもの、（ii）酸化されて活性ラジカルを生成し得るもの、（iii）活性の低いラジカルと反応し、より活性の高いラジカルに変換するか、若しくは連鎖移動剤として作用するもの、に分類できるが、個々の化合物がこれらのどれに属するかに関しては、通説がない場合も多い。

（ｉ）還元されて活性ラジカルを生成する化合物
炭素−ハロゲン結合結合を有する化合物：還元的に炭素−ハロゲン結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、トリハロメチル−ｓ−トリアジン類や、トリハロメチルオキサジアゾール類等が好適に使用できる。
窒素−窒素結合を有する化合物：還元的に窒素−窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的にはヘキサアリールビイミダゾール類等が好適に使用される。
酸素−酸素結合を有する化合物：還元的に酸素−酸素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、有機過酸化物類等が好適に使用される。
オニウム化合物：還元的に炭素−ヘテロ結合や、酸素−窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩類、Ｎ−アルコキシピリジニウム（アジニウム）塩類等が好適に使用される。
フエロセン、鉄アレーン錯体類：還元的に活性ラジカルを生成し得る。

（ii）酸化されて活性ラジカルを生成する化合物
アルキルアート錯体：酸化的に炭素−ヘテロ結合が解裂し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には、例えば、トリアリールアルキルボレート類が好適に使用される。
アルキルアミン化合物：酸化により窒素に隣接した炭素上のＣ−Ｘ結合が解裂し、活性ラジカルを生成するものと考えられる。Ｘとしては、水素原子、カルボキシル基、トリメチルシリル基、ベンジル基等が好適である。具体的には、例えば、エタノールアミン類、Ｎ−フェニルグリシン類、Ｎ−トリメチルシリルメチルアニリン類等が挙げられる。
含硫黄、含錫化合物：上述のアミン類の窒素原子を硫黄原子、錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。また、Ｓ−Ｓ結合を有する化合物もＳ−Ｓ解裂による増感が知られる。

α−置換メチルカルボニル化合物：酸化により、カルボニル−α炭素間の結合解裂により、活性ラジカルを生成し得る。また、カルボニルをオキシムエーテルに変換したものも同様の作用を示す。具体的には、２−アルキル−１−［４−（アルキルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロノン−１類、並びに、これらと、ヒドロキシアミン類とを反応したのち、Ｎ−ＯＨをエーテル化したオキシムエーテル類を挙げることができる。
スルフィン酸塩類：還元的に活性ラジカルを生成し得る。具体的は、アリールスルフィン駿ナトリウム等を挙げることができる。

（iii）ラジカルと反応し高活性ラジカルに変換、若しくは連鎖移動剤として作用する化合物：例えば、分子内にＳＨ、ＰＨ、ＳｉＨ、ＧｅＨを有する化合物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、若しくは、酸化された後、脱プロトンすることによりラジカルを生成し得る。具体的には、例えば、２−メルカプトベンズイミダゾール類等が挙げられる。

これらの（Ｅ−１）共増感剤のより具体的な例は、例えば、特開昭９−２３６９１３号公報中に、感度向上を目的とした添加剤として、多く記載されており、それらを本発明においても適用することができる。
これらの（Ｅ−１）共増感剤は、単独で又は２種以上併用して用いることができる。使用量は前記（Ｃ）重合性化合物１００質量部に対し、０．０５〜１００質量部、好ましくは１〜８０質量部、更に好ましくは３〜５０質量部の範囲が適当である。

（Ｅ−２）重合禁止剤
また、本発明においては、記録層を構成する重合性組成物の製造中又は保存中において（Ｃ）重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために、（Ｅ−２）重合禁止剤として、少量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ―ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４'−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２'−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ―ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。
熱重合防止剤の添加量は、全組成物の質量に対して約０．０１質量％〜約５質量％が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、平版印刷版原版とする場合、支持体等への塗布後の乾燥の過程でその記録層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量
は、全組成物の約０．５質量％〜約１０質量％が好ましい。

（Ｅ−３）着色剤等
更に、本発明の平版印刷版原版においては、その記録層の着色を目的として染料若しくは顔料を添加してもよい。これにより、印刷版としての、製版後の視認性や、画像濃度測定機適性といったいわゆる検版性を向上させることができる。着色剤としては、多くの染料は光重合系記録層の感度の低下を生じるので、着色剤としては、特に顔料の使用が好ましい。具体例としては、例えば、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料などの染料がある。染料及び顔料の添加量は全組成物の約０．５質量％〜約５質量％が好ましい。

更に、本発明の重合性組成物には、硬化皮膜の物性を改良するための無機充填剤や、その他、可塑剤、平版印刷版原版として用いる場合の記録層表面のインク着肉性を向上させ
得る感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。

上記可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等があり、結合剤を使用した場合、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物と結合剤との合計質量に対し１０質量％以下添加することができる。

また、後述する膜強度（耐刷性）向上を目的とした、現像後の加熱・露光の効果を強化するための、ＵＶ開始剤や、熱架橋剤等の添加もできる。
その他、後述する記録層と支持体との密着性向上や、未露光記録層の現像除去性を高めるための添加剤を含有させることが可能である。例えば、ジアゾニウム構造を有する化合物や、ホスホン化合物等、支持体と比較的強い相互作用を有する化合物の添加や、それらを下塗りすることにより、密着性が向上し、耐刷性を高めることが可能である。また、ポリアクリル酸や、ポリスルホン酸のような親水性ポリマーの添加や、それらを下塗りすることにより、非画像部の現像性が向上し、汚れ性の向上が可能となる。

本発明の重合性組成物は、後述する平版印刷版原版に代表される画像記録材料の他、高感度な光造形用材料、重合にともなう屈折率の変化を利用し、ホログラム材料、フォトレジスト等の電子材料製造などに適用することもできる。

〔画像記録材料〕
次に、前記の重合性組成物を用いた本発明の画像記録材料について説明する。
本発明の重合性組成物は、平版印刷版原版に代表される画像記録材料のネガ型記録層として好適に用いられる。
本発明の画像記録材料は、支持体上に、本発明の重合性組成物を含有する記録層、及び必要によりその他の層を設けて構成される。本発明の画像形成材料では、固体レーザーや半導体レーザー等から放射される赤外線照射光を吸収する赤外線吸収剤として、本発明における特定赤外線吸収剤を使用するものである。

（記録層）
まず、本発明の画像記録材料において画像形成機能を有する記録層について説明する。本発明の画像記録材料の記録層には、（Ａ）特定赤外線吸収剤と、（Ｂ）ラジカル重合開始剤と、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーと、を含有することを特徴とする。
この記録層は、赤外線レーザの照射により、（Ａ）特定赤外線吸収剤が発熱し、その熱により（Ｂ）ラジカル重合開始剤が分解してラジカルを発生し、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物の硬化反応を促進し、露光部が硬化して画像部となるネガ型の画像を形成する。

本発明の画像記録材料の記録層を形成するにあたって、（Ｂ）ラジカル重合開始剤は、記録層を構成する全固形分中、０．５〜２０質量％含有されることが好ましい。この（Ｂ）ラジカル重合開始剤は、（Ａ）特定色素と組み合わさることで、赤外線レーザを照射した際に、（Ａ）特定赤外線吸収剤から発生する熱や赤外線レーザの光のエネルギーによりラジカルを発生し、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物の重合を開始、促進させる機能を有する。

〔画像記録材料（平版印刷版原版）の製造〕
以下、本発明の画像記録材料について、その代表的な応用例である平版印刷版原版を挙げて説明する。
本発明に係る平版印刷版原版を製造するには、重合性組成物を主成分とする記録層塗布液を調製し、その他の任意の層、例えば、保護層等についても、その成分を溶媒に溶かして塗布液を調製し、適当な支持体上に塗布すればよい。
ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、３−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ―ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ―ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独或いは混合して使用することができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度は、２〜５０質量％が適当である。

記録層の支持体への塗布量は、記録層の感度、現像性、露光膜の強度・耐刷性等の影響を考慮し、用途に応じ適宜選択することが望ましい。塗布量が少なすぎる場合には、耐刷性が十分でなくなる。一方多すぎる場合には、感度が下がり、露光に時間がかかる上、現像処理にもより長い時間を要するため好ましくない。本発明の平版印刷版原版における塗布量は、一般的には、乾燥後の質量で約０．ｌ〜約１０ｇ／ｍ²の範囲が適当である。より好ましくは０．５〜５ｇ／ｍ²である。

（保護層）
平版印刷版原版は、通常、露光を大気中で行うため、前記記録層上に、更に、保護層を設けることが好ましい。保護層は、記録層中で露光により生じる画像形成反応を阻害する大気中に存在する酸素や塩基性物質等の低分子化合物の記録層への混入を防止し、大気中での露光を可能とする。従って、このような保護層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透過性が低いことであり、更に、露光に用いる光の透過性が良好で、記録層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できることが望ましい。

このような、保護層に関する工夫が従来よりなされており、米国特許第３、４５８、３１１号明細書、特公昭５５−４９７２９号公報に詳しく記載されている。保護層に使用できる材料としては、例えば、比較的、結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることがよく、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸などのような水溶性ポリマーが知られていが、これらのうち、ポリビニルアルコールを主成分として用いることが、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良好な結果を与える。保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテル、及びアセタールで置換されていてもよい。また、同様に一部が他の共重合成分を有していてもよい。特に、ポリビニルアルコールに対しポリビニルピロリドンを１５〜５０質量％の範囲で置き換えた混合物が保存安定性の観点から好ましい。

ポリビニルアルコールの具体例としては、７１〜１００％加水分解され、分子量が３００から２４００の範囲のものを挙げることができる。具体的には、株式会社クラレ製のＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１１７Ｈ、ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−１２４Ｈ、ＰＶＡ−ＣＳ、ＰＶＡ−ＣＳＴ、ＰＶＡ−ＨＣ、ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０４、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２１７Ｅ、ＰＶＡ−２２０Ｅ、ＰＶＡ−２２４Ｅ、ＰＶＡ−４０５、ＰＶＡ−４２０、ＰＶＡ−６１３、Ｌ−８等が挙げられる。

保護層の成分（ＰＶＡの選択、添加剤の使用）、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。
一般には使用するＰＶＡの加水分解率が高い程（保護層中の未置換ビニルアルコール単位含率が高い程）、膜厚が厚い程酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。しかしながら、極端に酸素遮断性を高めると、製造時・生保存時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じる。また、画像部との密着性や、耐傷性も版の取り扱い上極めて重要である。即ち、水溶性ポリマーからなる親水性の層を新油性の重合層に積層すると、接着力不足による膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。

これに対し、これら２層間の接着性を改すべく種々の提案がなされている。例えば、特開昭４９−７０７０２号公報、英国特許出願公開第１，３０３，５７８Ａ号明細書には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジヨン又は水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体などを２０〜６０質量％混合し、重合層の上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明における保護層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用することができる。このような保護層の塗布方法については、例えば、米国特許第３，４５８，３１１号明細書、特公昭５５−４９７２９号公報に詳しく記載されている。

更に、保護層に他の機能を付与することもできる。例えば、露光に使う波長の光の透過性に優れ、かつ画像形成寄与しない波長の光を効率よく吸収し得る、着色剤（水溶性染料等）の添加により、感度低下を起こすことなく、セーフライト適性を更に高めることができる。

また、本発明の平版印刷版原版における保護層としては、特開２０００−３４７３９８公報に記載の酸素透過率が１×１０^-15｛ｃｍ³（ＳＴＰ）・ｃｍ／ｃｍ²・ｓｅｃ・ｃｍＨｇ｝以上の保護層も、好適に用いることができる。

（樹脂中間層）
本発明の平版印刷版原版においては、必要に応じて、記録層と支持体との間にアルカリ可溶性高分子からなる樹脂中間層を設けることができる。
露光によりアルカリ現像液への溶解性が低下する赤外線感応層である記録層が、露光面又はその近傍に設けられることで赤外線レーザーに対する感度が良好となるとともに、支持体と該赤外線感応性の記録層との間にこの樹脂中間層が存在し、断熱層として機能することで、赤外線レーザーの露光により発生した熱が支持体に拡散せず、効率よく使用されることからの高感度化が図れる。
また、露光部においては、アルカリ現像液に対して非浸透性となった記録層がこの樹脂中間層の保護層として機能するために、現像安定性が良好になるとともにディスクリミネーションに優れた画像が形成され、かつ、経時的な安定性も確保されるものと考えられ、未露光部においては、未硬化のバインダー成分が速やかに現像液に溶解、分散し、更には、支持体に隣接して存在するこの樹脂中間層がアルカリ可溶性高分子からなるものであるため、現像液に対する溶解性が良好で、例えば、活性の低下した現像液などを用いた場合でも、残膜などが発生することなく速やかに溶解するため、現像性に優れるものと考えられる。

（支持体）
平版印刷版原版に使用される支持体としては、寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）等が挙げられる。これらは、樹脂フィルムや金属板などの単一成分のシートであっても、２以上の材料の積層体であってもよく、例えば、上記のごとき金属がラミネート、若しくは蒸着された紙やプラスチックフィルム、異種のプラスチックフィルム同志の積層シート等が含まれる。

上記支持体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は高々１０質量％以下である。本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。
上記アルミニウム板の厚みは、およそ０．１〜０．６ｍｍ程度、好ましくは０．１５〜０．４ｍｍ、特に好ましくは０．２〜０．３ｍｍである。

アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための、例えば、界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ水溶液等による脱脂処理が行われる。
アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭５４−６３９０２号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。
このように粗面化されたアルミニウム板は、所望により、アルカリエッチング処理、中和処理を経て、表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施すことができる。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸或いはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。

陽極酸化の処理条件は、用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が１〜８０質量％溶液、液温は５〜７０℃、電流密度５〜６０Ａ／ｄｍ²、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜５分の範囲であれば適当である。
陽極酸化皮膜の量は１．０ｇ／ｍ²以上が好適であるが、より好ましくは２．０〜６．０ｇ／ｍ²の範囲である。陽極酸化被膜が１．０ｇ／ｍ²未満であると耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
尚、このような陽極酸化処理は平版印刷版の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電気力線の裏回りにより、裏面にも０．０１〜３ｇ／ｍ²の陽極酸化被膜が形成されるのが一般的である。

支持体表面の親水化処理は、上記陽極酸化処理の後に施されるものであり、公知の処理法が用いられる。このような親水化処理としては、米国特許第２，７１４，０６６号、同第３，１８１，４６１号、第３，２８０，７３４号及び第３，９０２，７３４号の各明細書に開示されているようなアルカリ金属珪酸塩（例えば、珪酸ナトリウム水溶液）法がある。この方法においては、支持体が珪酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか、又は電解処理される。他に特公昭３６−２２０６３号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第３，２７６，８６８号、同第４，１５３，４６１号、同第４，６８９，２７２号の各明細書に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が用いられる。
これらの中で、本発明において特に好ましい親水化処理は珪酸塩処理である。珪酸塩処理について、以下に説明する。

上述の如き処理を施したアルミニウム板の陽極酸化皮膜を、アルカリ金属珪酸塩が０．１〜３０質量％、好ましくは０．５〜１０質量％であり、２５℃でのｐＨが１０〜１３である水溶液に、例えば、１５〜８０℃で０．５〜１２０秒浸漬する。アルカリ金属珪酸塩水溶液のｐＨが１０より低いと液はゲル化し１３．０より高いと酸化皮膜が溶解されてしまう。本発明に用いられるアルカリ金属珪酸塩としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウムなどが使用される。アルカリ金属珪酸塩水溶液のｐＨを高くするために使用される水酸化物としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカリ土類金属塩若しくは第ＩＶＢ族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、燐酸塩、酢酸塩、蓚酸塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第ＩＶＢ族金属塩として、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、蓚酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。アルカリ土類金属塩若しくは、第ＩＶＢ族金属塩は単独又は２以上組み合わせて使用することができる。これらの金属塩の好ましい範囲は０．０１〜１０質量％であり、更に好ましい範囲は０．０５〜５．０質量％である。
珪酸塩処理により、アルミニウム板表面上の親水性が一層改善されるため、印刷の際、インクが非画像部に付着しにくくなり、汚れ性能が向上する。

（バックコート層）
支持体の裏面には、必要に応じてバックコートが設けられる。かかるバックコートとしては、特開平５−４５８８５号公報記載の有機高分子化合物及び特開平６−３５１７４号公報記載の有機又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。
これらの被覆層のうち、Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₄、Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₄、Ｓｉ（ＯＣ₃Ｈ₇）₄、Ｓｉ（ＯＣ₄Ｈ₉）₄などの珪素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから与られる金属酸化物の被覆層が耐現像性に優れており特に好ましい。
以上のようにして、本発明の平版印刷版原版を作成することができる。

〔製版〕
平版印刷版原版は、露光により画像形成（記録）が行なわれ、その後、後述する現像処理が施されることで製版される。なお、本発明の重合性組成物における重合反応も露光により実施される。

（露光）
平版印刷版原版は、波長７６０ｎｍから１２００ｎｍの赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーにより画像露光される。
また、露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等の何れでもよい。
本発明においては、レーザー照射後直ちに現像処理を行ってもよいが、レーザー照射工程と現像工程の間に加熱処理を行ってもよい。加熱処理の条件は、８０℃〜１５０℃の範囲内で１０秒〜５分間行うことが好ましい。この加熱処理により、レーザー照射時、記録に必要なレーザーエネルギーを減少させることができる。

（現像）
平版印刷版原版は、通常、赤外線レーザーにより画像露光したのち、好ましくは、水又はアルカリ性水溶液にて現像される。
用いられる現像液としては、アルカリ性水溶液が好ましく、好ましいｐＨ領域としては、ｐＨ１０．５〜１２．５の範囲が挙げられ、ｐＨｌｌ．０〜１２．５の範囲のアルカリ性水溶液により現像処理することが更に好ましい。アルカリ性水溶液としてｐＨ１０．５未満のものを用いると非画像部に汚れが生じやすくなる傾向があり、ｐＨ１２．５を超える水溶液により現像処理すると画像部の強度が低下するおそれがある。

現像液として、アルカリ性水溶液を用いる場合、平版印刷版原版の現像液及び補充液としては、従来公知のアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第３リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第２リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウム等の無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も用いられる。
これらのアルカリ剤は単独又は２種以上を組み合わせて用いられる。

更に、自動現像機を用いて現像する場合には、現像液と同じもの、又は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液（補充液）を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換することなく、多量の平版印刷版原版を処理できることが知られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。

現像液及び補充液には現像性の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤等を添加できる。
現像液中には界面活性剤を１〜２０質量％加えることが好ましく、より好ましくは、３〜１０質量％の範囲である。界面活性剤の添加量が１質量％未満であると現像性向上効果が充分に得られず、２０質量％を超えて添加すると画像の耐摩耗性など強度が低下するなどの弊害が出やすくなる。
好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げられる。具体的には、例えば、ラウリルアルコールサルフェートのナトリウム塩、ラウリルアルコールサルフェートのアンモニウム塩、オクチルアルコールサルフェートのナトリウム塩、例えば、イソプロピルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、イソブチルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、ポリオキシエチレングリコールモノナフチルエチル硫酸エステルのナトリウム塩、ドデンルベンゼンスルホン酸のナトリウム塩、メタニトロベンゼンスルホン酸のナトリウム塩などのようなアルキルアリールスルホン酸塩、第２ナトリウムアルキルサルフェートなどの炭素数８〜２２の高級アルコール硫酸エステル類、セチルアルコールリン酸エステルのナトリウム塩などのような脂肪族アルコールリン酸エステル塩類、例えば、Ｃ₁₇Ｈ₃₃ＣＯＮ（ＣＨ₃）ＣＨ₂ＣＨ₂ＳＯ₃Ｎａなどのようなアルキルアミドのスルホン酸塩類、例えば、ナトリウムスルホコハク酸ジオクチルエステル、ナトリウムスルホコハク酸ジヘキシルエステルなどの二塩基性脂肪族エステルのスルホン酸塩類、例えば、ラウリルトリメチルアンモニウムクロリド、ラウリルトリメチルアンモニウムメトサルフェートなどのアンモニウム塩類、例えば、ステアラミドエチルジエチルアミン酢酸塩などのアミン塩、例えば、グリセロールの脂肪酸モノエステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸モノエステルなどの多価アルコール類、例えば、ポリエチレングリコールモノナフチルエチル、ポリエチレングリコールモノ（ノエルフェノール）エチルなどのポリエチレングリコールエチル類などが含まれる。

好ましい有機溶剤としては、水に対する溶解度が約１０質量％以下のものが挙げられ、更に好ましくは水に対する溶解度が５質量％以下のものから選ばれる。例えば、１−フェニルエタノール、２−フェニルエタノール、３−フェニルプロパノール、１，４−フェニルブタノール、２，２−フェニルブタノール、１，２−フェノキシエタノール、２−ベンジルオキシエタノール、ｏ−メトキシベンジルアルコール、ｍ―メトキシベンジルアルコール、ｐ―メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロヘキサノール及び３−メチルシクロヘキサノール等を挙げることができる。有機溶媒の含有量は、使用時の現像液の総質量に対して１〜５質量％が好適である。その使用量は界面活性剤の使用量と密接な関係があり、有機溶媒の量が増すにつれ、界面活性剤の量は増加させることが好ましい。これは界面活性剤の量が少ない状態で、有機溶媒の量を多く用いると有機溶媒が溶解せず、従って良好な現像性の確保が期待できなくなるからである。

更に、現像液及び補充液には必要に応じて、消泡剤、硬水軟化剤のような添加剤を含有させることもできる。硬水軟化剤としては、例えば、Ｎａ₂Ｐ₂Ｏ₇、Ｎａ₅Ｐ₃Ｏ₃、Ｎａ₃Ｐ₃Ｏ₃、Ｎａ₂Ｏ₄Ｐ（ＮａＯ₃Ｐ）ΡＯ₃Ｎａ₂、カルゴン（ポリメタリン酸ナトリウム）などのポリリン酸塩、アミノポリカルボン酸類（例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；ニトリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；１，２−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；１，３−ジアミノ−２−プロパノールテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩）、他のポリカルボン酸類（例えば、２−ホスホノブタントリカルボン酸−１，２，４、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；２一ホスホノブタノントリカルボン酸−２，３，４、そのカリウム塩、そのナトリウム塩など）、有機ホスホン酸類（例えば、１−ホスホノエタントリカルボン酸−１，２、２、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；アミノトリ（メチレンホスホン酸）、そのカリウム塩、そのナトリウム塩など）を挙げることができる。このような硬水軟化剤の最適量は、使用される硬水の硬度及びその使用量に応じて変化するが、一般的には、使用時の現像液中に０．０１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜０．５質量％の範囲で含有させ得る。

更に、自動現像機を用いて、平版印刷版を現像する場合には、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液又は新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。この場合、米国特許第４，８８２，２４６号明細書に記載されている方法で補充することが好ましい。

このような界面活性剤、有機溶剤及び還元剤等を含有する現像液としては、例えば、特開昭５１−７７４０１号公報に記載されている、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、アルカリ剤及び水からなる現像液組成物、特開昭５３−４４２０２号公報に記載されている、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、及び水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からなる現像液組成物、特開昭５５−１５５３５５号公報に記載されている、水に対する溶解度が常温において１０質量％以下である有機溶剤、アルカリ剤、及び水を含有する現像液組成物等が挙げられ、本発明においても好適に使用される。

以上記述した現像液及び補充液を用いて現像処理された平版印刷版は、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明の平版印刷版の後処理としては、これらの処理を種々組み合わせて用いることができる。

近年、製版・印刷業界では製版作業の合理化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロール等によって印刷版原版を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。また、電気伝導度をセンサーにて感知し、自動的に補充することもできる。
また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。

以上のようにして得られた平版印刷版は、所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供することができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版としたい場合にはバーニング処理が施される。
平版印刷版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭６１−２５１８号、同５５−２８０６２号、特開昭６２−３１８５９号、同６１−１５９６５５号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。
その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、塗布した後でスクィージ、或いは、スクィージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。

バーニング処理された平版印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれている処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。
このような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いることができる。

本発明の画像記録材料は、詳述した走査露光用平版印刷版原版の記録層に特に好適であるが、その他の用途、例えば、高感度な光造形用材料としても好適であり、重合にともなう屈折率の変化を利用してホログラム材料に、また、フォトレジスト等の電子材料製造などに適用することもできる。

〔実施例１〜１２、比較例１〜５〕
（支持体の作製）
９９．５％以上のアルミニウムと、Ｆｅ ０．３０％、Ｓｉ ０．１０％、Ｔｉ ０．０２％、Ｃｕ ０．０１３％を含むＪＩＳ Ａ１０５０合金の溶湯を清浄化処理を施し、鋳造した。清浄化処理には、溶湯中の水素などの不要なガスを除去するために脱ガス処理し、セラミックチューブフィルタ処理をおこなった。鋳造法はＤＣ鋳造法で行った。凝固した板厚５００ｍｍの鋳塊を表面から１０ｍｍ面削し、金属間化合物が粗大化してしまわないように５５０℃で１０時間均質化処理を行った。
次いで、４００℃で熱間圧延し、連続焼鈍炉中で５００℃６０秒中間焼鈍した後、冷間圧延を行って、板圧０．３０ｍｍのアルミニウム圧延板とした。圧延ロールの粗さを制御することにより、冷間圧延後の中心線平均表面粗さＲａを０．２μｍに制御した。その後、平面性を向上させるためにテンションレベラーにかけた。

次に平版印刷版支持体とするための表面処理を行った。
まず、アルミニウム板表面の圧延油を除去するため１０％アルミン酸ソーダ水溶液で５０℃３０秒間脱脂処理を行い、３０％硫酸水溶液で５０℃３０秒間中和、スマット除去処理を行った。
次いで支持体と記録層との密着性を良好にし、かつ非画像部に保水性を与えるため、支持体の表面を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理を行った。１％の硝酸と０．５％の硝酸アルミを含有する水溶液を４５℃に保ち、アルミウェブを水溶液中に流しながら、間接給電セルにより電流密度２０Ａ／ｄｍ²、デューティー比１：１の交番波形でアノード側電気量２４０Ｃ／ｄｍ²を与えることで電解砂目立てを行った。その後１０％アルミン酸ソーダ水溶液で５０℃３０秒間エッチング処理を行い、３０％硫酸水溶液で５０℃３０秒間中和、スマット除去処理を行った。

更に、耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形成させた。電解質として硫酸２０％水溶液を３５℃で用い、アルミウェブを電解質中に通搬しながら、間接給電セルにより１４Ａ／ｄｍ²の直流で電解処理を行うことで２．５ｇ／ｍ²の陽極酸化皮膜を作成した。

（記録層の形成）
下記組成の記録層塗布液１を調製し、上記のようにして得られたアルミニウム支持体にワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて１１５℃で４５秒間乾燥して記録層を形成した。乾燥後の被覆量は１．２〜１．３ｇ／ｍ²の範囲内であった。さらに、下記組成のオーバーコート層塗布液をスライドホッパーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて１２０℃で７５秒間乾燥して、本発明に係る平版印刷版原版を得た。オーバーコート層の塗布量は２．３ｇ／ｍ²であった。

＜記録層塗布液１＞
・（Ａ）成分：赤外線吸収剤（表１に記載の化合物） ０．２５ｇ
・（Ｂ）成分：ラジカル重合開始剤（表１に記載の化合物） ０．４０ｇ
・（Ｃ）成分：ラジカル重合性化合物（表１に記載の化合物） ２．００ｇ
・（Ｄ）成分：バインダーポリマー（表１に記載の化合物） ２．０ｇ
・（Ｅ）成分：共増感剤（表１に記載の化合物） ０．２０ｇ
・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩 ０．０４ｇ
・フッ素系界面活性剤 ０．０１ｇ
（メガファックＦ−１７６、大日本インキ化学工業（株）製）
・メチルエチルケトン ９．０ｇ
・メタノール １０．０ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール ８．０ｇ

＜オーバーコート層塗布液＞
・ポリビニルアルコール ２．３ｇ
（ケン化度９８．５モル％、重合度５００）
・ポリビニルピロリドン ０．７ｇ
（Ｋ３０、東京化成工業（株）製 分子量４万）
・非イオン性界面活性剤 ０．０５ｇ
（ＥＭＡＲＥＸ ＮＰ−１０ 日本エマルジョン社（株）製）
・イオン交換水 ９６．９５ｇ

（露光）
得られたネガ型平版印刷版原版を、水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザを搭載したＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ ３２４４ＶＦＳにて、出力９Ｗ、外面ドラム回転数２１０ｒｐｍ、版面エネルギー１００ｍＪ／ｃｍ²、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光した。

（現像処理）
露光後、富士写真フイルム（株）製自動現像機スタブロン９００Ｎを用い現像処理した。現像液は、仕込み液、補充液ともに富士写真フイルム（株）製ＤＶ−２の１：４水希釈液を用いた。現像浴の温度は３０℃とした。また、フィニッシャーは、富士写真フイルム（株）製ＦＮ−６の１：１水希釈液（ｐＨ＝１０．８）を用いた。

〔感度の評価〕
上記露光（波長８３０〜８５０ｎｍ程度の赤外線レーザによる）および現像により得られた画像の線幅とレーザー出力、光学系でのロス及び走査速度を基に、記録に必要なエネルギー量を算出した。数値が小さいほど高感度であることを表す。結果を表１に併記する。

（露光後の記録層に対する現像性評価）
前記と同様の条件で露光、現像を実施した版において、未露光部のアルミ基板の残色を、それぞれ、Ｘ−Ｒｉｔｅ社製、Ｓｐｅｃｔｒｏｄｅｎｓｉｔｏｍｅｔｅｒのシアン濃度により測定し、残色率を求めた。この値が小さいことは、カルボン酸基による現像性向上を示すと考えられる。結果を表１に併記する。

上記表１の結果によれば、本発明の特徴的成分である（Ａ）特定赤外線吸収剤を用いた実施例１〜１２の平版印刷版原版は、（Ａ）特定赤外線吸収剤を用いなかった比較例１〜５と比べ、感度、及び現像性の双方に優れていることが確認された。
また、実施例４と比較例１との対比、及び、実施例３と比較例２との対比からは、共増感剤として、ラジカル発生可能なカルボン酸ユニットを色素と分離して添加した場合である比較例の平版印刷版原版は、二つを連結した構造を有する例示化合物（Ｄ−７）又は（Ｄ−２）を添加した実施例の平版印刷版原版に比べ感度が低いことが分かる。
更に、現像性に関しても、カルボン酸とシアニン色素とを繋ぐことで、残色を解決できることも分かった。すなわち、シアニン色素とカルボン酸ユニットを連結することが本発明における重要ポイントであることが確認できた。

なお、実施例で用いた赤外線吸収剤は、本文中に記載の特定赤外線吸収剤であり、比較例で用いた赤外線吸収剤（ＩＲ−１）〜（ＩＲ−５）の構造は以下に示すものである。

また、実施例及び比較例で用いた、ラジカル重合開始剤（Ｉ−１）〜（Ｉ−５）、ラジカル重合性化合物（Ｍ−１）及び（Ｍ−２）、バインダーポリマー（Ｐ−１）〜（Ｐ−３）、共増感剤（Ｊ−１）〜（Ｊ−４）の構造を以下に示す。

Claims (2)

1. （Ａ）芳香環を隣接して有する複素環構造をメチン鎖で結合した構造を有するシアニン色素であって、該複素環構造及び／又はメチン鎖上に、下記一般式（Ｉ）で表されるカルボ
   ン酸ユニットを少なくとも一つ有する赤外線吸収剤と、
   （Ｂ）ラジカル重合開始剤と、
   （Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、
   （Ｄ）バインダーポリマーと、を含有することを特徴とする重合性組成物。
   

   

   （一般式（I）中、Ｘは、ＯＲ³、ＳＲ⁴、又はＮＲ⁵Ｒ⁶を示す。Ｒ¹〜Ｒ⁶は、各々独立に、水素原子又は一価の非金属原子団を表し、それぞれ互いに結合して脂肪族性又は芳香族性の環を形成してもよく、これらの中の少なくとも一つは、シアニン色素における複素環構造又はメチン鎖と結合する。）
2. 支持体上に、（Ａ）芳香環を隣接して有する複素環構造をメチン鎖で結合した構造を有するシアニン色素であって、該複素環構造及び／又はメチン鎖上に、下記一般式（Ｉ）で
   表されるカルボン酸ユニットを少なくとも一つ有する赤外線吸収剤と、
   （Ｂ）ラジカル重合開始剤と、
   （Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、
   （Ｄ）バインダーポリマーと、を含有する記録層を有することを特徴とする画像形成材料。
   

   

   （一般式（I）中、Ｘは、ＯＲ³、ＳＲ⁴、又はＮＲ⁵Ｒ⁶を示す。Ｒ¹〜Ｒ⁶は、各々独立に、水素原子又は一価の非金属原子団を表し、それぞれ互いに結合して脂肪族性又は芳香族性の環を形成してもよく、これらの中の少なくとも一つは、シアニン色素における複素環構造又はメチン鎖と結合する。）