JP2003322857A - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents

液晶表示装置及びその製造方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半透過型の液晶表示装置において、例えば後
面側の位相差層を削減可能とする。 【解決手段】 一対の基板２，６に液晶層１０が挟持さ
れ、反射部３及び透過部４が形成されてなり、少なくと
も一方の基板に位相差層７が形成され、当該位相差層７
は、上記反射部３と透過部４とで位相差が異なる。ま
た、一対の基板２，６に液晶層１０が挟持され、反射部
３及び透過部４が形成されてなり、少なくとも一方の基
板に位相差層７が形成され、当該位相差層７は、上記反
射部３と透過部４とで遅相軸が異なる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、反射部と透過部と
を兼ね備えた半透過型の液晶表示装置及びその製造方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、パーソナルコンピュータ向けのデ
ィスプレイとしては、バックライトを用いて表示を行う
透過型液晶ディスプレイが主流であったが、近年では、
Personal Digital Assistant（ＰＤＡ）や携帯電話等の
モバイル用電子機器向けの表示装置の需要が急激に高ま
っており、透過型液晶表示装置に比べて低消費電力化が
可能な反射型液晶表示装置が注目されている。この反射
型液晶表示装置は、外部からの入射光を反射板で反射さ
せて表示を行うものであり、バックライトが不要である
ためにそのぶんの消費電力が節約され、透過型液晶表示
装置を採用した場合に比べて電子機器の長時間駆動を可
能とするといった利点がある。
【０００３】反射型液晶表示装置は周囲の光を利用して
表示を行うので、暗い状況で使用する場合を想定して、
パネルの表示面側にフロントライトを設置してこのフロ
ントライトから光を入射するような構成が提案されてい
る。しかしながら、フロントライトを表示面側に設置す
ると、反射率及びコントラストが低下し画質が損なわれ
るといった不都合がある。
【０００４】この問題を解決するために、画素部の反射
板の一部に透過部を設け、反射型と透過型とを共存させ
た半透過型の液晶表示装置が開発されている。この方式
では、表示面の反対側にバックライトを設置することに
なるため、反射型としての画質を損なうことなく、暗い
場所と明るい場所との両方で良好な視認性が得られ、高
画質を実現することができる。半透過型の液晶表示装置
の基本的な構成は、例えば下記特許文献１，２に開示さ
れている。
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−２９０１０号公報
【特許文献２】特開２０００−３５５７０号公報等
【０００６】従来の半透過型の液晶表示装置１０１は、
図２７に示すように、基板１０２の一主面側に、層間膜
１０３を介して反射率の高い材料により形成された反射
電極１０４と、透過率の高い材料により形成された透明
電極１０５とを有し、基板１０２の他主面側にλ／４層
１０６と偏光板１０７とをこの順に積層して有してい
る。また、液晶表示装置１０１は、基板１０８の基板１
０２と対向する一主面上に対向電極１０７を有してい
る。また、基板１０８の他主面側にλ／４層１１０と、
偏光板１１１とをこの順に積層して有している。また、
反射電極１０４及び透明電極１０５と対向電極１０９と
の間に、液晶材料からなる液晶層１１２を備えている。
この図２７に示す液晶表示装置１０１では、前面に１
枚、後面に１枚、合計２枚の位相差層を用いている。
【０００７】実際には、波長分散の影響を確実に抑えて
さらに良好な黒表示を実現するために、図２８に示すよ
うに、基板１０２側にλ／４層１０６とλ／２層１１３
とを組み合わせて用い、さらに基板１０８側にλ／４層
１１０とλ／２層１１４とを組み合わせて用いて合計４
枚の位相差層を用いる場合もある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図２７に示
す液晶表示装置１０１では、表示面となる基板１０８側
の全面に位相差層としてλ／４層１１０を備えることに
より、波長分散の影響を抑えて反射表示を実現してい
る。一方、透過表示を実現する際には、本来λ／４層等
の位相差層は不要であるが、反射表示のために表示面と
なる基板１０８側の全面にλ／４層１１０が存在するの
で、このλ／４層１１０での位相差を補償するために後
面の基板１０２側にλ／４層１０６を用いる必要があ
る。すなわち、透過表示では本来不要である位相差層
を、反射表示用に表示面に１枚用いるために、この位相
差を補償するために後面にも１枚追加しなければならな
い。
【０００９】また、同様の理由により、図２８に示すよ
うな液晶表示装置では、位相差層４枚のうち後面の２枚
は反射表示用の位相差層の位相差を補償するためのもの
であり、透過表示には本来不要である。
【００１０】このように従来の半透過型液晶表示装置
は、反射型液晶表示装置や透過型液晶表示に比べて位相
差層の使用枚数が多く、その分のコストが上昇すること
や、セルの厚みが増大する等の不都合を抱えている。
【００１１】本発明はこのような従来の問題点を解決す
るものであり、半透過型の液晶表示装置において、例え
ば後面側の位相差層を削減可能な液晶表示装置及びその
製造方法を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明に係る液晶表示装置は、一対の基板に液晶
層が挟持され、反射部及び透過部が形成されてなる液晶
表示装置において、少なくとも一方の基板に位相差層が
形成され、当該位相差層は、上記反射部と透過部とで位
相差が異なることを特徴とする。
【００１３】また、本発明に係る液晶表示装置の製造方
法は、一対の基板に液晶層が挟持され、反射部及び透過
部が形成されてなる液晶表示装置の製造方法であって、
少なくとも一方の基板に位相差層を形成し、当該位相差
層をパターニングして少なくとも反射部に当該位相差層
を残すとともに、上記反射部と透過部とで位相差層の位
相差を異ならせることを特徴とする。
【００１４】以上のように構成された液晶表示装置で
は、一方の基板に形成された位相差層の位相差を反射部
と透過部とで異ならせることにより、反射部の画像表示
に必要となる位相差層が透過部では機能しないようにさ
れている。このため、反射部では位相差層が機能して充
分な反射率が得られるとともに、透過部ではこの位相差
層の位相差を補償するための新たな位相差層を追加しな
くても透過表示を実現できる。
【００１５】また、本発明に係る液晶表示装置は、一対
の基板に液晶層が挟持され、反射部及び透過部が形成さ
れてなる液晶表示装置において、少なくとも一方の基板
に位相差層が形成され、当該位相差層は、上記反射部と
透過部とで遅相軸が異なることを特徴とする。
【００１６】また、本発明に係る液晶表示装置の製造方
法は、一対の基板に液晶層が挟持され、反射部及び透過
部が形成されてなる液晶表示装置の製造方法であって、
少なくとも一方の基板に、反射部と透過部とで遅相軸が
異なる位相差層を形成することを特徴とする。
【００１７】以上のように構成された液晶表示装置で
は、一方の基板に形成された位相差層の遅相軸を反射部
と透過部とで異ならせることにより、反射部の画像表示
に必要となる位相差層が透過部では機能しないようにさ
れている。このため、反射部では位相差層が機能して充
分な反射率が得られるとともに、透過部ではこの位相差
層の位相差を補償するための新たな位相差層を追加しな
くても透過表示を実現できる。
【００１８】従来の半透過型液晶表示装置では、偏光板
と一括したラビング処理及び露光とにより作製されるλ
／４層とを組み合わせて円偏光板とすることによって、
光学構成上で設計が容易となるというメリットを得られ
るが、先に述べたように位相差層の使用枚数が増加し、
コスト増大の要因となる。これに対して本発明は、透過
部と反射部との位相差を変えることや、位相差層を形成
する際のラビング方向と偏光板の透過軸との組み合わせ
を最適なものとすることによって、従来必要となる位相
差層を削減することができる。
【００１９】また、本発明の液晶表示素子では、透過部
を従来から透過型液晶表示素子で用いられているツイス
トネマチックモードにすることも可能である。そのた
め、透過表示時に高いコントラストを得ることができ
る。さらに、反射部についても、透過部と同じか、また
は異なる角度でツイストさせた形で電解複屈折モード
（Electrically Controlled Birefringence：ＥＣＢモ
ード）での表示が可能になるので、ギャップマージンが
広がり、生産性を上げることができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した液晶表示
装置及びその製造方法について、図面を参照しながら詳
細に説明する。
【００２１】＜第１の実施の形態＞まず、本発明を適用
した半透過型の液晶表示装置の第１の実施の形態につい
て説明する。第１の実施の形態の液晶表示装置は、詳細
は後述するが、反射部と透過部とで位相差層の位相差が
異なることを基本的な特徴とする。このような第１の実
施の形態の液晶表示装置の、基本となる構成について図
１を参照しながら説明する。
【００２２】図１に示す液晶表示装置１では、一方の基
板２は、一主面側に反射率の高い材料により形成された
反射部となる反射電極３と、透過率の高い材料により形
成された透過部となる透明電極４とを有し、他主面側に
偏光板５が配されている。また、周囲光が入射すると共
に表示面側となる他方の基板６は、基板２と対向する一
主面側の反射部に位相差層として反射部λ／４層７と、
反射部及び透過部の両領域に対向電極８とを有し、他主
面側に偏光板９が配されている。また、基板２と基板６
との間に液晶材料からなる液晶層１０が挟持されてい
る。また、偏光板５の外側には透過表示のためのバック
ライト（図示は省略する。）が配設されている。偏光板
９の透過軸と偏光板５の透過軸とは、直交するように設
定されている。また、位相差層である反射部λ／４層７
の遅相軸は、偏光板９の透過軸または吸収軸に対して所
定の角度（ここでは例えば透過軸に対して４５°の角
度）をなすように設定されている。
【００２３】この第１の実施の形態の液晶表示装置１で
は、反射部に位相差層として反射部λ／４層７が形成さ
れるが、透過部には位相差層が形成されておらず、反射
部と透過部とで位相差が異なっている。つまり、反射部
では反射部λ／４層７が機能することにより反射表示に
必要な位相差が得られる一方で、透過部では位相差が生
じない。このような構成とすることにより、表示面側の
反射部λ／４層７の位相差を補償するために後面のλ／
４層を追加することなく透過表示を実現する。
【００２４】位相差層である反射部λ／４層７は、基板
６の外側に形成される構成であってもよいが、図１に示
すように液晶層１０側に形成されることが好ましく、こ
れにより基板６の厚みに起因する視差の問題を極力抑え
ることができる。
【００２５】位相差層である反射部λ／４層７は、例え
ばラビング等の配向処理を施された後の基板６上に液晶
ポリマを塗布し、当該液晶ポリマを反射部のみに残すよ
うにパターニングすることにより得られる。より具体的
には、配向処理が施された基板６上に感光性の液晶ポリ
マを塗布し、露光工程及び現像工程を経ることにより、
所望の形状の位相差層を得る。また、ネマチック相を示
す紫外線硬化性の液晶モノマを基板６や配向膜上に塗布
し、紫外線を照射することによって液晶ポリマを生成さ
せ、位相差層を得ても良い。この位相差層の位相差は、
膜厚を変えることにより任意に調整可能である。なお、
位相差層としては液晶ポリマに限定されず、延伸したフ
ィルムであってもよい。
【００２６】上述した図１に示す液晶表示装置１で実際
に画像表示を行う場合について、図２及び図３を参照し
ながら説明する。なお、説明を簡略化するために、図２
及び図３では基板２及び対向電極８の図示を省略する。
また、液晶層１０に電圧を印加しない状態で光が液晶層
１０を１度通過する場合に、反射部でλ／４、透過部で
λ／２の位相差を有するように液晶層１０の位相差が調
整されているものとし、電圧を印加しない場合の液晶配
向は基板２及び基板６に対して略平行であり、配向方位
は反射部λ／４層７の配向方向と平行であり、偏光板９
の透過軸に対し４５°の角度をなしているものとする。
【００２７】まず、液晶層１０に電圧を印可せず、明表
示とする場合について図２を用いて説明する。
【００２８】反射部では、基板６側（表示面）から入射
した周囲光が、偏光板９でその透過軸に一致した直線偏
光となる。この直線偏光は、反射部λ／４層７に入射し
て円偏光とされ、さらに液晶層１０により直線偏光に変
換されて反射電極３に到達する。反射電極３で進行方向
を反転された直線偏光は再び液晶層１０を通過して円偏
光とされ、この円偏光は再び反射部λ／４層７を通過し
て偏光板９の透過軸と平行な直線偏光となり、偏光板９
を通過する。
【００２９】透過部では、基板２側（後面）からバック
ライトにより照射された光が、偏光板５でその透過軸に
一致した直線偏光となる。この直線偏光がλ／２の位相
差を有する液晶層１０により、偏光板５の透過軸に直交
する直線偏光、すなわち偏光板９の透過軸に平行な直線
偏光となり、偏光板９を通過する。
【００３０】つぎに、液晶層１０に電圧を印可して、暗
表示とする場合について図３を用いて説明する。
【００３１】反射部では、表示面から入射した周囲光
が、偏光板９でその透過軸に一致した直線偏光となる。
この直線偏光は、反射部λ／４層７に入射して円偏光と
される。円偏光は、液晶層１０でその偏光状態を殆ど維
持したまま反射電極３に到達し、反射される。反射され
た円偏光は回転方向が逆転した円偏光であり、再び液晶
層１０を通過して反射部λ／４層７に入射し、偏光板９
の透過軸と直交する直線偏光に変換され、偏光板９によ
って吸収される。
【００３２】透過部では、後面からバックライトにより
照射された光が、偏光板５でその透過軸に一致した直線
偏光となる。この直線偏光が液晶層１０でその偏光状態
を殆ど維持したまま偏光板９に到達し、偏光板９によっ
て吸収される。
【００３３】上述のように、反射部の暗表示に必要とな
る反射部λ／４層７が透過部には形成されていない。こ
のため、反射部では反射部λ／４層７が機能して充分な
反射率が得られるとともに、透過部では表示面側の位相
差層の位相差を補償するための新たな位相差層を後面に
追加しなくても透過表示を実現できる。したがって、反
射表示及び透過表示の両方でコントラストの高い良好な
表示品質を実現しながら、後面の位相差層が不要とな
り、セルの薄型化や不要となった位相差層分の低コスト
化が達成される。
【００３４】なお、上述の説明では、液晶表示装置に電
圧を印加したときに液晶層の液晶分子が基板面に対して
ほぼ垂直に配向し、電圧を印加しないときに反射部でλ
／４の位相差及び透過部でλ／２の位相差を有する構成
を例に挙げたが、本発明の液晶表示装置は、この逆であ
ってもよい。すなわち、液晶表示装置に電圧を印加した
ときに反射部でλ／４の位相差及び透過部でλ／２の位
相差を有する構成であってもかまわない。
【００３５】ところで、本実施の形態では、位相差層が
反射部λ／４層の１層からなる場合に限定されず、反射
部λ／４層とこの反射部λ／４層における波長分散を補
償する位相差層との２層からなる構成であってもよい。
反射部λ／４層の波長分散を補償する位相差層がλ／２
層である場合について、図４を参照しながら説明する。
なお、図４においては、図１の液晶表示装置１と同様の
構成については同じ符号を付し、詳細な説明を省略す
る。
【００３６】この応用例の液晶表示装置２１は、反射部
における位相差層が反射部λ／２層２２と反射部λ／４
層７との２層構造であるとともに、透過部には位相差層
が形成されていない構造とされる。
【００３７】反射部の位相差層を上述した２層構造とす
ることにより、基本構造である上述した液晶表示装置１
の効果に加えて、液晶表示装置２１は、暗表示を行う場
合に広帯域で波長分散による光漏れを解消し、さらに良
好な画像表示を実現できる。
【００３８】また、上述した基本構造の液晶表示装置１
及び応用例の液晶表示装置２１では透過部の位相差層が
全て除去されているが、本発明は、反射部の位相差層と
異なる位相差を有する位相差層が、透過部に形成されて
いる場合も含むこととする。このようなさらに他の応用
例の液晶表示装置について、図５を参照しながら説明す
る。なお、図５においては図１の液晶表示装置１及び図
４の液晶表示装置２１と同様の構成については同じ符号
を付し、詳細な説明を省略する。
【００３９】図５に示す液晶表示装置３１は、図４の液
晶表示装置２１の構成とは異なり、基板６の液晶層１０
側に透過部位相差層３２が形成されている。この透過部
位相差層３２の位相差は、液晶層１０の種々の特性を考
慮して決定されるものであり、液晶層１０に対して充分
に電圧を印加したときの残留位相差を打ち消す程度であ
ることが好ましい。
【００４０】これにより、上述した液晶表示装置２１の
効果に加えて、液晶表示装置３１は、透過部での暗表示
をより暗いものとし、さらに良好な画像表示を実現でき
る。
【００４１】なお、この応用例では、反射部の位相差層
が反射部λ／４層７と反射部λ／２層２２との２層構造
である場合を例に挙げたが、反射部の位相差層が１層構
造であっても透過部位相差層３２を形成することによる
効果を得ることができる。
【００４２】また、本実施の形態の液晶表示装置は、図
６に示すようにフルカラーの液晶表示装置４１に適用す
ることも可能である。
【００４３】液晶表示装置４１は、基板６の液晶層１０
側に、Ｒｅｄ、Ｇｒｅｅｎ、Ｂｌｕｅの各ドットに対応
するカラーフィルタ４２Ｒ、４２Ｇ、４２Ｂを有し、こ
れらカラーフィルタ４２Ｒ、４２Ｇ、４２Ｂの反射部に
対応した領域上に、位相差層として反射部λ／４層７
Ｒ、反射部λ／４層７Ｇ、反射部λ／４層７Ｂが形成さ
れ、さらにこれら反射部位相差層上にオーバーコート層
４３を介して対向電極８が形成されている。
【００４４】この応用例の液晶表示装置４１は、各カラ
ーフィルタ４２Ｒ、４２Ｇ、４２Ｂの透過波長に合わせ
て、位相差層である反射部λ／４層７Ｒ、反射部λ／４
層７Ｇ、反射部λ／４層７Ｂの膜厚を変えることによ
り、各部の位相差層がλ／４の位相差を有するものとす
る。これにより、各色の波長分散の影響を抑えて、さら
に良好な画像表示を実現することができる。
【００４５】なお、上述の説明では、表示面側の基板に
位相差層が形成された構成の液晶表示装置を例に挙げた
が、本発明はこれに限定されるものではなく、位相差層
がバックライト側の基板に形成される構成等、少なくと
も一方の基板に反射部と透過部とで位相差が異なる位相
差層が形成されていればよい。
【００４６】＜第２の実施の形態＞本発明を適用した半
透過型の液晶表示装置の第２の実施の形態について説明
する。第２の実施の形態の液晶表示装置が、上述した第
１の実施の形態と異なる点は、反射部と透過部との液晶
層の配向方向（すなわち液晶分子の配向方向であり液晶
配向）にあり、他の構成は同様であることとする。この
ような第２の実施の形態の液晶表示装置の基本となる構
成について、図７を参照しながら説明する。尚、図１の
液晶表示装置１と同様の構成については同じ符号を付
し、詳細な説明を省略する。また、図７には、液晶表示
装置の要部概略断面図とともに、反射部および透過部の
光学構成を示すが、この図および以下で示す各図の光学
構成において、液晶配向（上）とは基板６側の液晶配向
であり、液晶配向（下）とは基板２側の液晶配向である
こととする。また、以下に説明する光学構成において偏
光板５，９の光学構成については、透過軸方向を示して
いる。
【００４７】すなわち、図７に示す液晶表示装置１’に
おいて、反射部の液晶配向は、例えば図１の液晶表示装
置と同様に、反射部液晶層１０’に電圧を印加しない状
態において、基板２および基板６に対して平行でかつ偏
光板９および偏光板５の透過軸に対して４５°の角度を
なすように設定されている。また、この状態において、
反射部の液晶層１０’は、光が液晶層１０’を１度通過
する場合にλ／４の位相差を有するように調整されるこ
とも、図１の液晶表示装置と同様である。
【００４８】これに対して、透過部では、液晶層１０’
に電圧を印加しない状態において、基板６側の液晶配向
が偏光板９の透過軸と平行をなし、基板２側の液晶配向
が偏光板５と平行をなすことで、９０°捩じれるツイス
トネマチックとなるように設定されている。
【００４９】また、液晶層１０’に電圧を印加した状態
では、反射部および透過部ともに、液晶分子が基板２，
６面に対してほぼ垂直に配向する構成となっている。
【００５０】このため、液晶表示装置１’においては、
基板２と基板６との間の液晶層１０’に臨む面の配向膜
（図示省略）は、次のように配向処理されていることと
する。すなわち、反射部では、基板２側および基板６側
の配向膜が、偏光板５および偏光板９の透過軸に対し４
５°の角度をなす方向に配向処理されていることとす
る。このため、これらの配向膜は、図示したように、反
射部λ／４層７に対して９０°の角度をなす方向に配向
処理されていても良いし、反射部λ／４層７と平行とな
るように配向処理されていても良い。これに対して、透
過部では、基板２側の配向膜が偏光板５の透過軸と平行
となる方向に配向処理され、基板６側の配向膜が偏光板
９の透過軸と平行となる方向に配向処理されている。
【００５１】上述した図７に示す液晶表示装置１’で実
際に画像表示を行う場合について、図８及び図９を参照
しながら説明する。なお、説明を簡略化するために、図
８及び図９では基板２、対向電極８および液晶層１０’
に臨む面の配向膜の図示を省略している。
【００５２】まず、液晶層１０’に電圧を印可せず、明
表示とする場合について図８を用いて説明する。
【００５３】反射部では、基板６側（表示面）から入射
した周囲光が、偏光板９でその透過軸に一致した直線偏
光となる。この直線偏光は、反射部λ／４層７に入射し
て円偏光とされ、さらに液晶層１０’により直線偏光に
変換されて反射電極３に到達する。反射電極３で進行方
向を反転された直線偏光は再び液晶層１０’を通過して
円偏光とされ、この円偏光は再び反射部λ／４層７を通
過して偏光板９の透過軸と平行な直線偏光となり、偏光
板９を通過する。
【００５４】透過部では、基板２側（後面）からバック
ライトにより照射された光が、偏光板５でその透過軸に
一致した直線偏光となる。この直線偏光が９０°捩じれ
たツイストネマチックとなっている液晶層１０’によ
り、偏光板５の透過軸に直交する直線偏光、すなわち偏
光板９の透過軸に平行な直線偏光となり、偏光板９を通
過する。
【００５５】つぎに、液晶層１０’に電圧を印可して、
暗表示とする場合について図９を用いて説明する。
【００５６】反射部では、表示面から入射した周囲光
が、偏光板９でその透過軸に一致した直線偏光となる。
この直線偏光は、反射部λ／４層７に入射して円偏光と
される。円偏光は、液晶層１０’でその偏光状態を殆ど
維持したまま反射電極３に到達し、反射される。反射さ
れた円偏光は回転方向が逆転した円偏光であり、再び液
晶層１０を通過して反射部λ／４層７に入射し、偏光板
９の透過軸と直交する直線偏光に変換され、偏光板９に
よって吸収される。
【００５７】透過部では、後面からバックライトにより
照射された光が、偏光板５でその透過軸に一致した直線
偏光となる。この直線偏光が液晶層１０でその偏光状態
を殆ど維持したまま偏光板９に到達し、偏光板９によっ
て吸収される。
【００５８】上述のように、このような構成の液晶表示
装置１’は、第１の実施の形態における図１の液晶表示
装置１と同様に、反射部の暗表示に必要となる反射部λ
／４層７が透過部には形成されておらず、第１の実施の
形態と同様の効果を得ることができる。そしてさらに、
透過部の液晶配向を、９０°捩じれたツイストネマチッ
クとしたことで、透過部においては旋光モードでの表示
が行われるようになり、よりコントラストが良好な表示
を行うことが可能になる。
【００５９】なお、上述の説明では、液晶表示装置に電
圧を印加したときに液晶層の液晶分子が基板面に対して
ほぼ垂直に配向し、電圧を印加しないときに反射部でλ
／４の位相差を有すると共に透過部で９０°捩じれるツ
イストネマチックとなる構成を例に挙げたが、本発明の
液晶表示装置は、この逆であってもよい。すなわち、液
晶表示装置に電圧を印加したときに反射部でλ／４の位
相差を有すると共に透過部で９０°捩じれるツイストネ
マチックとなる構成であっても良い。
【００６０】ところで、本第２の実施の形態では、位相
差層が反射部λ／４層７の１層からなる場合に限定され
ず、第１の実施の形態において図４を用いて説明したと
同様に、反射部λ／４層とこの反射部λ／４層における
波長分散を補償する位相差層との２層からなる構成であ
ってもよい。反射部λ／４層の波長分散を補償する位相
差層がλ／２層である場合について、図１０を参照しな
がら説明する。なお、図１０には、液晶表示装置の要部
概略断面図とともに、反射部および透過部の光学構成を
示す。また、図４の液晶表示装置２１および図７の液晶
表示装置１’と同様の構成については同じ符号を付し、
詳細な説明を省略する。
【００６１】この応用例の液晶表示装置２１’は、反射
部における位相差層が反射部λ／２層２２と反射部λ／
４層７との２層構造であるとともに、透過部には位相差
層が形成されていない構造とされる。この場合、反射部
λ／２層２２と反射部λ／４層７とを合わせて光帯域の
λ／４層が構成されるように、反射部λ／２層２２と反
射部λ／４層７とは、互いの遅相軸を６０°に保つと共
に、反射部λ／２層２２の遅相軸が偏光板９の透過軸
（または吸収軸）に対して１５°に保たれ、反射部λ／
４層７の遅相軸が偏光板９の透過軸（または吸収軸）に
対して７５°に保たれていることとする。
【００６２】また、この場合の反射部の液晶配向は、液
晶層１０’に電圧を印加しない状態において、光が液晶
層１０’を１度通過する場合にλ／４の位相差を有する
ように調整され、また電圧を引加したときの残留リタデ
ーションをλ／４で調整できるように、反射部λ／４層
７の遅相軸と同方向、または直角に近い方向に設定され
ることが望ましい。
【００６３】反射部の位相差層を上述した２層構造とし
た液晶表示装置２１’では、基本構造である上述した液
晶表示装置１’の効果に加えて、暗表示を行う場合に、
反射部における広帯域で波長分散による光漏れを解消し
たＥＣＢモードでの表示を行うことが可能となり、さら
に良好な画像表示を実現できる。
【００６４】また、本第２の実施の形態では、透過部の
液晶層１０’のみがツイストネマチックである場合に限
定されず、反射部の液晶層１０’もツイストネマチック
となる構成であっても良い。反射部の液晶層１０’もツ
イストネマチックである場合について、図１１を参照し
ながら説明する。なお、図１１においては、図１０の液
晶表示装置２１’と同様の構成については同じ符号を付
し、詳細な説明を省略する。
【００６５】この応用例の液晶表示装置２１ａが、図１
０を用いて説明した液晶表示装置２１’と異なるところ
は、反射部の液晶配向にあり、その他の構成は同様であ
ることとする。
【００６６】すなわち、図１１に示す液晶表示装置２１
ａにおいて、反射部の液晶配向は、液晶層１０’に電圧
を印加しない状態において、ツイストネマチックとなる
ように設定されている。このため、液晶表示装置２１ａ
においては、基板２と基板６との間の液晶層１０’に臨
む面の配向膜（図示省略）は、基板２側および基板６側
とで所定角度をなすように配向処理されていることとす
る。この角度は、セルギャップの大きさ、および液晶層
１０’の複屈折率との兼ね合いで、液晶層１０’に電圧
を印加しない状態において、光が液晶層１０’を１度通
過する場合にλ／４の位相差を有するように調整される
ことになる。
【００６７】また、液晶層１０’に電圧を印加した状態
では、液晶分子が基板２，６面に対してほぼ垂直に配向
する構成となることは、上述と同様である。
【００６８】このように、反射部の液晶配向をツイスト
ネマチックとすることで、反射部の液晶層の実効的な位
相差が小さくなる。このため、反射部をλ／４の位相差
とするためのセルギャップが広がることになり、セルギ
ャップに対するマージンが拡大される。この結果、液晶
表示装置の歩留まりの向上を図ることが可能になる。
【００６９】なお、上述した第２の実施の形態の液晶表
示装置は、第１の実施の形態と同様にして、フルカラー
の液晶表示装置に適用することも可能である。また、上
述の説明では、表示面側の基板に位相差層が形成された
構成の液晶表示装置を例に挙げたが、本発明はこれに限
定されるものではなく、位相差層がバックライト側の基
板に形成される構成等、少なくとも一方の基板に反射部
と透過部とで位相差が異なる位相差層が形成されていれ
ば良い。
【００７０】また、第２の実施の形態において説明した
各構成は、相互に組み合わせることにより、組み合わせ
た構成に特有の作用効果を得ることができる。
【００７１】＜第３の実施の形態＞つぎに、本発明を適
用した半透過型の液晶表示装置の第３の実施の形態につ
いて説明する。第３の実施の形態の液晶表示装置は、詳
細は後述するが、反射部と透過部とで位相差層の遅相軸
が異なることを基本的な特徴とする。このような第３の
実施の形態の液晶表示装置の、基本となる構成について
図１２を参照しながら説明する。なお、図１２において
は、図１の液晶表示装置１と同様の構成については同じ
符号を付し、詳細な説明を省略する。
【００７２】図１２に示す液晶表示装置５１では、一方
の基板２は、層間膜５２を介して一主面側に反射率の高
い材料により形成された反射部となる反射電極３と、透
過率の高い材料により形成された透過部となる透明電極
４と、反射電極３及び透明電極４上に形成された配向膜
５３を有し、他主面側に偏光板５が配されている。ま
た、周囲光が入射すると共に表示面側となる他方の基板
６は、配向膜５４を介して基板２と対向する一主面側の
反射部の領域に位相差層として反射部λ／４層７と、透
過部の領域に透過部λ／４層５５と、反射部及び透過部
の両領域に対向電極８と、対向電極８上に形成された配
向膜５６を有し、他主面側に偏光板９が配されている。
また、基板２と基板６との間に液晶材料からなる液晶層
１０が挟持されている。また、偏光板５の外側には透過
表示のためのバックライト（図示は省略する。）が配設
されている。偏光板９の透過軸と偏光板５との透過軸
は、直交するように設定されている。また、反射部の位
相差層である反射部λ／４層７の遅相軸は、偏光板９の
透過軸に対して４５°の角度をなすように設定されてい
る。
【００７３】そして、透過部の位相差層である透過部λ
／４層５５の遅相軸と、反射部の位相差層である反射部
λ／４層７の遅相軸とはその方向が異なり、具体的には
透過部λ／４層５５の遅相軸は、表示面となる基板６に
配された偏光板９の透過軸と平行とされている。これら
の反射部λ／４層７及び透過部λ／４層５５は、例えば
基板６上に反射部と透過部とで配向分割された配向膜５
４上に液晶ポリマ又はネマチック相を有する紫外線硬化
性の液晶モノマを塗布することによって得られる。勿論
光配向処理によって配向分割することも可能であり、こ
の場合、配向膜５４は設ける必要はない。
【００７４】この第３の実施の形態の液晶表示装置５１
では、一方の基板６の全面に形成された位相差層が配向
分割され、反射部λ／４層７と透過部λ／４層５５とで
遅相軸が異なることにより、反射部λ／４層７のみが位
相差層として機能する。言い換えると、透過部λ／４層
５５の遅相軸が前面の偏光板９の透過軸と一致すること
で、透過部λ／４層５５は実効的な位相差がない構成と
されている。このような構成とすることにより、反射部
λ／４層７の位相差を補償するために後面の位相差層を
追加することなく透過表示を実現する。
【００７５】位相差層である反射部λ／４層７及び透過
部λ／４層５５は、基板６の外側に形成される構成であ
ってもよいが、図１２に示すように液晶層１０側に形成
されることが好ましく、これにより基板６の厚みに起因
する視差の問題を極力抑えることができる。
【００７６】位相差層である反射部λ／４層７及び透過
部λ／４層５５は、例えばマスクラビング等の配向処理
を施された後の基板６上に液晶ポリマを塗布することに
より得られる。より具体的には、配向処理が施された基
板６上に感光性の液晶ポリマを塗布し、露光工程及び現
像工程を経ることにより、所望の形状の位相差層を得
る。また、ネマチック相を示す紫外線硬化性の液晶モノ
マを基板６や配向膜上に塗布し、紫外線を照射すること
によって液晶ポリマを生成させ、位相差層を得ても良
い。さらに、位相差層である反射部λ／４層７及び透過
部λ／４層５５は、液晶ポリマを塗布してなる膜を光配
向処理することによっても得られる。この位相差層の位
相差は、膜厚を変えることにより任意に調整可能であ
る。また、位相差層としては、延伸したフィルムにより
形成されてもよい。
【００７７】なお、本実施の形態では、透過部の位相差
層の遅相軸の方向は、透過部の位相差層の実効的な位相
差がない構成とされていれば、表示面側の偏光板の透過
軸或いは吸収軸、又は、後面の偏光板の透過軸或いは吸
収軸のいずれと一致していてもかまわない。
【００７８】上述した図１２に示す液晶表示装置５１で
実際に画像表示を行う場合について、図１３及び図１４
を参照しながら説明する。なお、説明を簡略化するため
に、図１３及び図１４では基板２、対向電極８、各配向
膜の図示を省略する。また、液晶層１０に電圧を印加し
ない状態で光が液晶層１０を１度通過する場合に、反射
部でλ／４、透過部でλ／２の位相差を有するように液
晶層の層厚が調整されているものとし、電圧を印加しな
い場合の液晶配向は基板２及び基板６に対して略平行で
あり、配向方位は偏光板９の透過軸に対し４５°の角度
をなしているものとする。
【００７９】まず、液晶層１０に電圧を印可せず、明表
示とする場合について図１３を用いて説明する。
【００８０】反射部では、表示面から入射した周囲光
が、偏光板９でその透過軸に一致した直線偏光となる。
この直線偏光は、反射部λ／４層７に入射して円偏光と
され、さらに液晶層１０により直線偏光に変換されて反
射電極３に到達する。反射電極３で進行方向を反転され
た直線偏光は再び液晶層１０を通過して円偏光とされ、
この円偏光は再び反射部λ／４層７を通過して偏光板９
の透過軸と平行な直線偏光となり、偏光板９を通過す
る。
【００８１】透過部では、後面からバックライトにより
照射された光が、偏光板５でその透過軸に一致した直線
偏光となる。この直線偏光がλ／２の位相差を有する液
晶層１０により、偏光板５の透過軸に直交する直線偏
光、すなわち偏光板９の透過軸に平行な直線偏光とな
り、透過部λ／４層５５でその偏光状態を殆ど維持した
まま偏光板９を通過する。
【００８２】つぎに、液晶層１０に電圧を印可して、暗
表示とする場合について図１４を用いて説明する。
【００８３】反射部では、表示面から入射した周囲光
が、偏光板９でその透過軸に一致した直線偏光となる。
この直線偏光は、反射部λ／４層７に入射して円偏光と
される。円偏光は、液晶層１０でその偏光状態を殆ど維
持したまま反射電極３に到達し、反射される。反射され
た円偏光は回転方向が逆転した円偏光であり、再び液晶
層１０を通過して反射部λ／４層７に入射し、偏光板９
の透過軸と直交する直線偏光に変換され、偏光板９によ
って吸収される。
【００８４】透過部では、後面からバックライトにより
照射された光が、偏光板５でその透過軸に一致した直線
偏光となる。この直線偏光が液晶層１０及び透過部λ／
４層５５でその偏光状態を殆ど維持したまま偏光板９に
到達し、偏光板９によって吸収される。
【００８５】上述のように、液晶表示装置５１では、透
過部λ／４層５５の遅相軸が偏光板９の透過軸と一致す
ることにより透過部λ／４層５５が位相差層として機能
しない。このため、反射部では反射部λ／４層７が機能
して充分な反射率が得られると共に、透過部では表示面
側の位相差層の位相差を補償するための新たな位相差層
を後面に追加しなくても透過表示を実現できる。したが
って、反射表示及び透過表示の両方でコントラストの高
い良好な表示品質を実現しながら、後面の位相差層が不
要となり、セルの薄型化や不要となった位相差層分の低
コスト化が達成される。
【００８６】なお、上述の説明では、液晶表示装置に電
圧を印加したときに液晶層の液晶分子が基板面に対して
ほぼ垂直に配向し、電圧を印加しないときに反射部でλ
／４の位相差及び透過部でλ／２の位相差を有する構成
を例に挙げたが、本発明の液晶表示装置は、この逆であ
ってもよい。すなわち、液晶表示装置に電圧を印加した
ときに反射部でλ／４の位相差及び透過部でλ／２の位
相差を有する液晶層であってもかまわない。
【００８７】ところで、本実施の形態では、位相差層が
反射部λ／４層７及び透過部λ／４層５５の１層からな
る場合に限定されず、図１５に示すような２層からなる
構成であってもよい。なお、図１５においては、図１２
の液晶表示装置５１と同様の構成については同じ符号を
付し、詳細な説明を省略する。
【００８８】この応用例の液晶表示装置６１は、基板６
の液晶層１０側に、位相差層として反射部λ／４層７及
び透過部λ／４層５５と反射部λ／４層７の波長分散を
補償する反射部λ／２層２２及び透過部λ／２層６２と
を有するとともに、反射部と透過部とで位相差層の遅相
軸が異なるようになされている。すなわち、反射部λ／
２層６２及び反射部λ／４層７はそれぞれλ／２層及び
λ／４層として機能するが、一方で、透過部λ／２層６
２及び透過部λ／４層５５はその遅相軸が例えば偏光板
９の透過軸と一致し、位相差層として機能しない。この
２層からなる位相差層は、例えば基板６上に反射部と透
過部とで配向分割された配向膜５４上に液晶ポリマ又は
ネマチック相を有する紫外線硬化性の液晶モノマを塗布
して反射部λ／２層２２及び透過部λ／２層６２を形成
し、これらλ／２層上にさらに反射部と透過部とで配向
分割された配向膜６３を形成し、液晶ポリマ又はネマチ
ック相を有する紫外線硬化性の液晶モノマを塗布して反
射部λ／４層７及び透過部λ／４層５５を形成すること
により得られる。勿論光配向処理によって配向分割する
ことも可能である。
【００８９】位相差層を上述した２層構造とするととも
に、反射部と透過部とでその遅相軸を異ならせることに
より、本実施の形態の基本構造である液晶表示装置５１
の効果に加えて、液晶表示装置６１は、暗表示を行う場
合に広帯域で波長分散による光漏れを解消し、さらに良
好な画像表示を実現できる。
【００９０】なお、本発明は、表示面側の基板６に位相
差層が形成された構成の液晶表示装置に限定されるもの
ではなく、位相差層がバックライト側の基板２に形成さ
れる構成の液晶表示装置にも勿論適用される。すなわ
ち、図１６に示す液晶表示装置７１は、後面の基板２側
に、反射電極３及び透明電極４が形成され、さらにその
上に配向膜５４を介して位相差層である反射部λ／４層
７と透過部λ／４層５５とを有する。これらの反射部λ
／４層７及び透過部λ／４層５５は、図１２を用いて説
明したと同様に形成される。
【００９１】尚、この場合、反射部λ／４層７および透
過部λ／４層５５と液晶駆動用の配向膜５３との間に、
液晶の駆動を確実にするための透明電極（図示省略）を
設けても良い。ただし、このような透明電極を設ける場
合、当該透明電極をＴＦＴに接続させるためのプラグ１
６を設けることとする。また、この場合、基板２と透過
部λ／４層５５との間に透明電極４を設ける必要はな
い。
【００９２】ここで、反射部λ／４層７は位相差層とし
て機能するが、透過部λ／４層５５は、その遅相軸が例
えば偏光板９の透過軸と一致し、位相差層として機能し
ない。この図１６に示す液晶表示装置７１のように位相
差層をバックライト側の基板に形成した場合には、反射
部では反射部λ／４層７が機能して充分な反射率が得ら
れるとともに、透過部では後面の位相差層の位相差を補
償するための位相差層を表示面側に追加しなくても透過
表示を実現できる。したがって、これまで述べた液晶表
示装置と同様に、反射表示及び透過表示の両方でコント
ラストの高い良好な表示品質を実現しながら、後面の位
相差層が不要となり、セルの薄型化や不要となった位相
差層分の低コスト化が達成される。
【００９３】また、本実施の形態の液晶表示装置は、図
１７に示すようにフルカラーの液晶表示装置８１に適用
することも可能である。
【００９４】この液晶表示装置８１は、基板６の液晶層
１０側に、Ｒｅｄ、Ｇｒｅｅｎ、Ｂｌｕｅの各ドットに
対応するカラーフィルタ４２Ｒ、４２Ｇ、４２Ｂを有
し、これらカラーフィルタ４２Ｒ、４２Ｇ、４２Ｂ上
に、位相差層として反射部λ／４層７Ｒ及び透過部λ／
４層５５Ｒ、反射部λ／４層７Ｇ及び透過部λ／４層５
５Ｇ、並びに、反射部λ／４層７Ｂ及び透過部λ／４層
５５Ｂがそれぞれ形成され、さらにこれら位相差層上に
オーバーコート層４３を介して対向電極８が形成されて
いる。
【００９５】そして、位相差層である反射部λ／４層７
Ｒ及び透過部λ／４層５５Ｒ、反射部λ／４層７Ｇ及び
透過部λ／４層５５Ｇ、並びに、反射部λ／４層７Ｂ及
び透過部λ／４層５５Ｂは、反射部と透過部とで遅相軸
が異なり、透過部の位相差層が機能しないようになされ
ている。これにより、上述した例の液晶表示装置と同様
に、反射表示に用いる位相差層の位相差を補償するため
の後面の位相差層が不要となり、位相差層の使用枚数を
削減できる。
【００９６】また、この応用例の液晶表示装置８１で
は、各カラーフィルタ４２Ｒ、４２Ｇ、４２Ｂの透過波
長に合わせて、位相差層である反射部λ／４層７Ｒ及び
透過部λ／４層５５Ｒ、反射部λ／４層７Ｇ及び透過部
λ／４層５５Ｇ、並びに、反射部λ／４層７Ｂ及び透過
部λ／４層５５Ｂの膜厚を変えることにより、各部の位
相差層がλ／４の位相差を有するものとする。これによ
り、各色の波長分散の影響を抑えて、さらに良好な画像
表示を実現することができる。
【００９７】なお、本発明は、前面又は後面に配された
偏光板の透過軸と、透過部の位相差層の遅相軸とが完全
に直交又は平行となり、透過部の位相差層が全く機能し
ない場合に限定されず、透過部の遅相軸が若干ずれてい
てもかまわない。例えば透過部の位相差層の遅相軸は、
液晶層の種々の特性を考慮して決定される位相差を有し
ていてもよく、この場合、透過部の位相差層の遅相軸の
ずれが、液晶層に充分に電圧を印加したときの液晶層の
残留位相差層を打ち消す程度の位相差を透過部に与える
ものであることが好ましい。これにより、透過部の位相
差層が全く機能しない場合に比べて透過部での暗表示を
より暗いものとし、さらに良好な画像表示を実現でき
る。
【００９８】また、第３の実施の形態では、透過部の位
相差層の遅相軸が前面の偏光板の透過軸に一致する構成
を例に挙げたが、透過部の位相差層の遅相軸は、後面の
偏光板の透過軸と一致する構成であっても本発明の効果
を得られる。
【００９９】＜第４の実施の形態＞つぎに、本発明を適
用した半透過型の液晶表示装置の第４の実施の形態につ
いて説明する。第４の実施の形態の液晶表示装置は、上
述した第２の実施の形態と第３の実施の形態とを組み合
わせたものであり、その基本となる構成について図１８
を参照しながら説明する。なお、図１８には、液晶表示
装置の要部概略断面図とともに、反射部および透過部の
光学構成を示すが、第３の実施の形態で説明した図１２
の液晶表示装置５１と同様の構成、さらに第２の実施の
形態で説明した図７の液晶表示装置と同様の構成につい
ては同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。
【０１００】すなわち、図１８に示す液晶表示装置５
１’が、上述した第３の実施の形態で図１２を用いて説
明した液晶表示装置と異なる点は、反射部と透過部との
液晶層の配向方向（液晶配向）が、第２の実施の形態で
説明したと同様に調整されているところにあり、他の構
成は第３の実施の形態と同様であることとする。
【０１０１】すなわち、図１８に示す液晶表示装置５
１’において、反射部の液晶配向は、反射部液晶層１
０’に電圧を印加しない状態において、基板２および基
板６に対して平行でかつ偏光板９および偏光板５の透過
軸に対して４５°の角度をなすように設定されている。
また、この状態において、反射部の液晶層１０’は、光
が液晶層１０’を１度通過する場合にλ／４の位相差を
有するように調整される。
【０１０２】これに対して、透過部では、液晶層１０’
に電圧を印加しない状態において、基板６側の液晶配向
が偏光板９の透過軸と平行をなし、基板２側の液晶配向
が偏光板５と平行をなすことで、９０°捩じれるツイス
トネマチックとなるように設定されている。
【０１０３】また、液晶層１０’に電圧を印加した状態
では、反射部および透過部ともに、液晶分子が基板２，
６面に対してほぼ垂直に配向する構成となっている。
【０１０４】そしてさらにこの液晶表示装置５１’にお
いては、第３の実施の形態において図１２を用いて説明
したと同様に、反射部に層間膜５２が設けられると共
に、透過部の基板６側にも透過部λ／４層５５が設けら
れているのである。
【０１０５】ここで、反射部に設けられた層間膜５２
は、液晶層１０’に電圧を印加しない状態で、反射部の
液晶層１０’がλ／４の位相差を有し、かつ透過部の液
晶分子が十分に９０°捩じれたツイストネマチックとな
る間隔でモーガン条件を満たし、旋光性を保てるよう
に、透過部と反射部とのセルギャップ（液晶層１０’の
厚さ）を調整する膜厚で設けられる。したがって、層間
膜５２がない状態で上述の条件を満足できれば、液晶表
示装置５１’においては層間膜５２を設ける必要はな
い。
【０１０６】また、透過部の基板６側に設けられた透過
部λ／４層５５は、第３の実施の形態で説明したと同様
に、その遅相軸が前面の偏光板９の透過軸と一致するこ
とで、実効的な位相差がない構成とされている。このよ
うな構成とすることにより、反射部λ／４層７の位相差
を補償するために後面の位相差層を追加することなく透
過表示を実現する。また、この透過部λ／４層５５の遅
相軸の方向は、透過部の位相差層の実効的な位相差がな
い構成とされていれば、表示面側の偏光板の透過軸或い
は吸収軸、又は、後面の偏光板の透過軸或いは吸収軸の
いずれと一致していてもかまわない。
【０１０７】上述した図１８に示す液晶表示装置５１’
で実際に画像表示を行う場合について、図１９及び図２
０を参照しながら説明する。なお、説明を簡略化するた
めに、図１９及び図２０では基板２、対向電極８、およ
び各配向膜の図示を省略する。
【０１０８】まず、液晶層１０’に電圧を印可せず、明
表示とする場合について図１９を用いて説明する。
【０１０９】反射部では、表示面から入射した周囲光
が、偏光板９でその透過軸に一致した直線偏光となる。
この直線偏光は、反射部λ／４層７に入射して円偏光と
され、さらに液晶層１０’により直線偏光に変換されて
反射電極３に到達する。反射電極３で進行方向を反転さ
れた直線偏光は再び液晶層１０’を通過して円偏光とさ
れ、この円偏光は再び反射部λ／４層７を通過して偏光
板９の透過軸と平行な直線偏光となり、偏光板９を通過
する。
【０１１０】透過部では、基板２側（後面）からバック
ライトにより照射された光が、偏光板５でその透過軸に
一致した直線偏光となる。この直線偏光が９０°捩じれ
たツイストネマチックとなっている液晶層１０’によ
り、偏光板５の透過軸に直交する直線偏光、すなわち偏
光板９の透過軸に平行な直線偏光となり、透過部λ／４
層５５でその偏光状態を殆ど維持したまま偏光板９を通
過する。
【０１１１】つぎに、液晶層１０’に電圧を印可して、
暗表示とする場合について図２０を用いて説明する。
【０１１２】反射部では、表示面から入射した周囲光
が、偏光板９でその透過軸に一致した直線偏光となる。
この直線偏光は、反射部λ／４層７に入射して円偏光と
される。円偏光は、液晶層１０’でその偏光状態を殆ど
維持したまま反射電極３に到達し、反射される。反射さ
れた円偏光は回転方向が逆転した円偏光であり、再び液
晶層１０を通過して反射部λ／４層７に入射し、偏光板
９の透過軸と直交する直線偏光に変換され、偏光板９に
よって吸収される。
【０１１３】透過部では、後面からバックライトにより
照射された光が、偏光板５でその透過軸に一致した直線
偏光となる。この直線偏光が液晶層１０’及び透過部λ
／４層５５でその偏光状態を殆ど維持したまま偏光板９
に到達し、偏光板９によって吸収される。
【０１１４】上述のように、このような構成の液晶表示
装置５１’は、図１２の液晶表示装置５１と同様に、反
射部の暗表示に必要となる反射部λ／４を反射部のみに
設け、透過部には遅相軸を偏光板９の透過軸と一致させ
た透過部λ／４層５５を設けたことで、第３の実施の形
態と同様の効果を得ることができる。そしてさらに、透
過部の液晶配向を、９０°捩じれたツイストネマチック
としたことで、透過部においては旋光モードでの表示が
行われるようになり、よりコントラストが良好な表示を
行うことが可能になる。
【０１１５】なお、上述の説明では、液晶表示装置に電
圧を印加したときに液晶層の液晶分子が基板面に対して
ほぼ垂直に配向し、電圧を印加しないときに反射部でλ
／４の位相差及び透過部で９０°捩じれるツイストネマ
チックとなる構成を例に挙げたが、本発明の液晶表示装
置は、この逆であってもよい。すなわち、液晶表示装置
に電圧を印加したときに反射部でλ／４の位相差及び透
過部で９０°捩じれたツイストネマチックとなる液晶層
であってもかまわない。
【０１１６】ところで、本実施の形態では、位相差層が
反射部λ／４層７及び透過部λ／４層５５の１層からな
る場合に限定されず、図２１に示すような２層からなる
構成であってもよい。なお、図２１においては、図１８
の液晶表示装置５１’と同様の構成については同じ符号
を付し、詳細な説明を省略する。
【０１１７】この応用例の液晶表示装置６１’は、基板
６の液晶層１０’側に、位相差層として反射部λ／４層
７及び透過部λ／４層５５と反射部λ／４層７の波長分
散を補償する反射部λ／２層２２及び透過部λ／２層６
２とを有するとともに、反射部と透過部とで位相差層の
遅相軸が異なるようになされている。すなわち、反射部
λ／２層２２及び反射部λ／４層７は、これらを合わせ
て光帯域のλ／４層が構成されるように、互いの遅相軸
を６０°に保つと共に、遅相軸が偏光板５，９の透過軸
に対して１５°の角度に保たれていることとする。一
方、透過部λ／２層６２及び透過部λ／４層５５はその
遅相軸が例えば偏光板９の透過軸と一致し、位相差層と
して機能しない。
【０１１８】この２層からなる位相差層は、第３の実施
の形態で述べたと同様にして得ることができる。
【０１１９】また、この場合の反射部の液晶配向は、液
晶層１０’に電圧を印加しない状態において、基板２お
よび基板６に対して平行でかつ反射部λ／４層７に対し
て０°または９０°の角度をなすように設定されている
こととする。ただしこれは、残留リタデーションの調整
のためであり、残留リタデーションが無視できるレベル
であれば、配向方向はどの方向でも良い。また、この状
態において、反射部の液晶層１０’は、光が液晶層１
０’を１度通過する場合にλ／４の位相差を有するよう
に調整される。なお、透過部の液晶配向は、図１８の液
晶表示装置５１’と同様である。
【０１２０】以上のように、位相差層を上述した２層構
造とするとともに、反射部と透過部とでその遅相軸を異
ならせた構成の液晶表示装置６１’では、本実施の形態
の基本構造である液晶表示装置５１’の効果に加えて、
特に反射部において暗表示を行う場合に広帯域で波長分
散による光漏れを解消し、さらに良好な画像表示を実現
できる。
【０１２１】なお、本実施の形態は、表示面側の基板６
に位相差層が形成された構成の液晶表示装置に限定され
るものではなく、第３の実施の形態において図１６を用
いて説明した液晶表示装置７１と同様に、位相差層がバ
ックライト側の基板２に形成される構成の液晶表示装置
にも勿論適用される。すなわち、図２２に示す液晶表示
装置７１’は、後面の基板２側に、反射電極３及び透明
電極４が形成され、さらにその上に配向膜５４を介して
位相差層である反射部λ／４層７と透過部λ／４層５５
とを有する。これらの反射部λ／４層７及び透過部λ／
４層５５は、図１２を用いて説明したと同様に形成され
る。
【０１２２】尚、この場合、反射部λ／４層７および透
過部λ／４層５５と液晶駆動用の配向膜５３との間に、
液晶の駆動を確実にするための透明電極（図示省略）を
設けても良いことは、図１６を用いて説明したと同様で
ある。
【０１２３】ここで、反射部λ／４層７は位相差層とし
て機能するが、透過部λ／４層５５は、その遅相軸が例
えば偏光板９の透過軸と一致し、位相差層として機能し
ない。この図２２に示す液晶表示装置７１’のように位
相差層をバックライト側の基板に形成した場合には、反
射部では反射部λ／４層７が機能して充分な反射率が得
られるとともに、透過部では後面の位相差層の位相差を
補償するための位相差層を表示面側に追加しなくても透
過表示を実現できる。したがって、これまで述べた液晶
表示装置と同様に、反射表示及び透過表示の両方でコン
トラストの高い良好な表示品質を実現しながら、後面の
位相差層が不要となり、セルの薄型化や不要となった位
相差層分の低コスト化が達成される。
【０１２４】また、本実施の形態の液晶表示装置は、第
３の実施の形態で図１７を用いて説明した液晶表示装置
と同様に、フルカラーの液晶表示装置に適用することも
可能である。
【０１２５】すなわち、図２３に示す液晶表示装置８
１’は、基板６の液晶層１０’側に、Ｒｅｄ、Ｇｒｅｅ
ｎ、Ｂｌｕｅの各ドットに対応するカラーフィルタ４２
Ｒ、４２Ｇ、４２Ｂを有し、これらカラーフィルタ４２
Ｒ、４２Ｇ、４２Ｂ上に、位相差層として反射部λ／４
層７Ｒ及び透過部λ／４層５５Ｒ、反射部λ／４層７Ｇ
及び透過部λ／４層５５Ｇ、並びに、反射部λ／４層７
Ｂ及び透過部λ／４層５５Ｂがそれぞれ形成され、さら
にこれら位相差層上にオーバーコート層４３を介して対
向電極８が形成されている。
【０１２６】そして、位相差層である反射部λ／４層７
Ｒ及び透過部λ／４層５５Ｒ、反射部λ／４層７Ｇ及び
透過部λ／４層５５Ｇ、並びに、反射部λ／４層７Ｂ及
び透過部λ／４層５５Ｂは、反射部と透過部とで遅相軸
が異なり、透過部の位相差層が機能しないようになされ
ている。これにより、上述した例の液晶表示装置と同様
に、反射表示に用いる位相差層の位相差を補償するため
の後面の位相差層が不要となり、位相差層の使用枚数を
削減できる。
【０１２７】また、この応用例の液晶表示装置８１’で
は、各カラーフィルタ４２Ｒ、４２Ｇ、４２Ｂの透過波
長に合わせて、位相差層である反射部λ／４層７Ｒ及び
透過部λ／４層５５Ｒ、反射部λ／４層７Ｇ及び透過部
λ／４層５５Ｇ、並びに、反射部λ／４層７Ｂ及び透過
部λ／４層５５Ｂの膜厚を変えることにより、各部の位
相差層がλ／４の位相差を有するものとする。これによ
り、各色の波長分散の影響を抑えて、さらに良好な画像
表示を実現することができる。
【０１２８】また、本第４の実施の形態では、透過部の
液晶層１０’のみがツイストネマチックである場合に限
定されず、反射部の液晶層１０’もツイストネマチック
となる構成であっても良い。反射部の液晶層１０’もツ
イストネマチックである場合について、図２４を参照し
ながら説明する。なお、図２４においては、図２１の液
晶表示装置６１’と同様の構成については同じ符号を付
し、詳細な説明を省略する。
【０１２９】この応用例の液晶表示装置６１ａが、図２
１を用いて説明した液晶表示装置６１’と異なるところ
は、反射部の液晶配向にあり、その他の構成は同様であ
ることとする。
【０１３０】すなわち、図２４に示す液晶表示装置６１
ａにおいて、反射部の液晶配向は、液晶層１０’に電圧
を印加しない状態において、ツイスト配向となるように
設定されている。このため、液晶表示装置６１ａにおい
ては、基板２と基板６との間の液晶層１０’に臨む面の
配向膜（図示省略）は、基板２側および基板６側とで所
定角度をなすように配向処理されていることとする。こ
の角度は、セルギャップの大きさ、および液晶層１０’
の複屈折率との兼ね合いで、液晶層１０’に電圧を印加
しない状態において、光が液晶層１０’を１度通過する
場合にλ／４の位相差を有するように調整されることに
なる。
【０１３１】したがって、例えば図２５に示したよう
に、基板２側の液晶配向と基板６側の液晶配向とが９０
°の角度をなしていても良い。この場合、反射部と透過
部とで、液晶層１０’に臨む配向膜を同一方向に揃える
ことができ、分割配向の手間を省くことができる。
【０１３２】また、図２４および図２５の液晶表示装置
６１ａにおいて、液晶層１０’に電圧を印加した状態で
は、液晶分子が基板２，６面に対してほぼ垂直に配向す
る構成となることは、上述と同様である。
【０１３３】このように、反射部の液晶配向をツイスト
ネマチックとすることで、反射部の液晶層の実効的な位
相差が小さくなる。このため、反射部をλ／４の位相差
とするためのセルギャップが広がることになり、セルギ
ャップに対するマージンが拡大される。この結果、液晶
表示装置の歩留まりの向上を図ることが可能になる。
【０１３４】なお、以上説明した本第４の実施の形態の
発明は、前面又は後面に配された偏光板の透過軸と、透
過部の位相差層の遅相軸とが完全に直交又は平行とな
り、透過部の位相差層が全く機能しない場合に限定され
ず、透過部の遅相軸が若干ずれていてもかまわない。例
えば透過部の位相差層の遅相軸は、液晶層の種々の特性
を考慮して決定される位相差を有していてもよく、この
場合、透過部の位相差層の遅相軸のずれが、液晶層に充
分に電圧を印加したときの液晶層の残留位相差層を打ち
消す程度の位相差を透過部に与えるものであることが好
ましい。これにより、透過部の位相差層が全く機能しな
い場合に比べて透過部での暗表示をより暗いものとし、
さらに良好な画像表示を実現できる。
【０１３５】また、第４の実施の形態では、透過部の位
相差層の遅相軸が前面の偏光板の透過軸に一致する構成
を例に挙げたが、透過部の位相差層の遅相軸は、後面の
偏光板の透過軸と一致する構成であっても本発明の効果
を得られる。
【０１３６】また、第２の実施の形態において説明した
各構成は、相互に組み合わせることにより、組み合わせ
た構成に特有の作用効果を得ることができる。
【０１３７】
【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて、実験結果に基づいて説明する。なお、実施例１〜
実施例５は第１の実施の形態に対応し、実施例６〜実施
例８は第２の実施の形態に対応し、実施例９〜実施例１
３は第３の実施の形態に対応し、実施例１４〜実施例１
９は第４の実施の形態に対応している。
【０１３８】＜実施例１＞実施例１では、図１に示す液
晶表示装置１と光学的な構成が同じとされたフルカラー
のパネルを作製した。
【０１３９】最初に、液晶層をアクティブ駆動するため
の薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）
が形成されてなる後面側の基板を作製した。このＴＦＴ
の作製方法について図２６を参照しながら説明する。
【０１４０】基板２としては、ホウケイ酸ガラス（コー
ニング社製７０５９）を用いた。まず、基板２上に、Ｍ
ｏやＭｏＷ等からなるゲート電極９１、ゲート絶縁膜９
２、及びアモルファスシリコンを順次堆積・パターニン
グし、アモルファスシリコンをエキシマレーザでアニー
ルすることによって結晶化してなる半導体薄膜９３を形
成した。また、半導体薄膜９３のゲート電極の両脇の領
域にＰ，Ｂを不純物導入し、ｎチャンネル、ｐチャンネ
ルのＴＦＴとした。また、ＴＦＴを被覆するように、基
板２の上方にＳｉＯ2からなる第一層間絶縁膜９４を形
成した。
【０１４１】次に、半導体薄膜９３のソース及びドレイ
ンに対応する箇所の第一層間絶縁膜９４を例えばエッチ
ングにより開口して、信号線９５を所定の形状にパター
ニングして形成した。信号線９５にはＡｌを用いた。
【０１４２】次に、ＴＦＴ及び信号線９５を被覆するよ
うに、基板２の上方に、散乱反射を起こさせる散乱層と
しての機能と層間絶縁膜としての機能とを兼ね備えた第
二層間絶縁膜９６を形成した。この第二層間絶縁膜９６
の、透過部に対応する領域にはＩＴＯ（Indium Tin Oxi
de）により透明電極４を形成し、反射部に対応する領域
にはＡｇにより反射電極３を形成した。これにより、図
２６に示すバックライト側の基板が得られる。
【０１４３】また、対向する基板には、Ｃｒを用いてブ
ラックマトリクスを形成した後、基板上にカラーフィル
タとしてＲ、Ｇ、Ｂのパターンを形成した。次に、カラ
ーフィルタ上にポリイミドを印刷し、ラビングすること
により配向膜を形成した。
【０１４４】この配向膜上に、紫外線硬化性の液晶モノ
マをスピンコートにより塗布し、露光工程・現像工程を
経ることにより、反射部のみに位相差層として反射部λ
／４層が形成されるようにし、透過部から位相差層を除
去した。紫外線硬化性の液晶モノマとしては、メルク社
製ＲＭＭ３４を用いた。この紫外線硬化性の液晶モノマ
材料は酸素の存在により重合が不十分なものとなるた
め、Ｎ2雰囲気で上記処理を行った。また、ＲＭＭ３４
は、屈折率異方性Δｎが０．１４５であるため、位相差
層の膜厚が９５０ｎｍとなるようにスピンコートするこ
とにより、面内で１３５ｎｍ〜１４０ｎｍ程度に収まる
リタデーションを得ることができた。位相差層形成後、
ＩＴＯをスパッタすることにより対向電極を形成した。
【０１４５】この後は、通常のセル工程である。すなわ
ち、さらに対向電極上にポリイミドを印刷し、ラビング
することにより配向膜を形成した。
【０１４６】ここで、位相差層が形成された側のラビン
グ方向は、位相差層の液晶ポリマの配向方向と同方向と
した。また、ＴＦＴ等が形成された側のラビング方向
は、セル構成がアンチパラレルになる方向とした。
【０１４７】以上のようにＴＦＴ等が形成された基板
と、位相差層等が形成された基板とを用いて通常の工程
に従ってセルを組み立て、図１に示す液晶表示装置と同
じ光学的な構成を有し、且つカラーフィルタが形成され
た構成のパネルを得た。このパネルを点灯したところ、
コントラストの高い画像表示を実現することが確認され
た。
【０１４８】＜実施例２＞実施例２では、図４に示す液
晶表示装置２１と光学的な構成が同じとされたフルカラ
ーのパネルを作製した。
【０１４９】最初に、実施例１と同様の工程により、図
２６に示すようなＴＦＴ等が形成された基板を用意し
た。
【０１５０】また、対向する基板に、実施例１と同様の
工程によりカラーフィルタを形成し、カラーフィルタ上
にポリイミドを印刷し、ラビングすることにより配向膜
を形成した。
【０１５１】この配向膜上に、λ／２条件となるように
紫外線硬化性の液晶モノマを塗布し、反射部のみに位相
差層が残存するようにパターニングした。これにより、
位相差層として反射部λ／２層が形成された。
【０１５２】次に、ポリイミドを印刷し、先だってのラ
ビング方向に対して６０°傾いた方向となるようにラビ
ング処理を行った。この後、λ／４条件となるように紫
外線硬化性の液晶モノマを塗布し、反射部のみに位相差
層が残存するようにパターニングした。これにより、位
相差層として反射部λ／４層が形成された。反射部λ／
２層及び反射部λ／４層からなる位相差層形成後、ＩＴ
Ｏをスパッタすることにより対向電極を形成した。
【０１５３】この後は、通常のセル工程である。すなわ
ち、さらに対向電極上にポリイミドを印刷し、ラビング
することにより配向膜を形成した。ここで、液晶層の配
向方向がλ／２とλ／４との中間となるようにラビング
処理を行った。
【０１５４】以上のようにＴＦＴ等が形成された基板
と、位相差層等が形成された基板とを用いて通常の工程
に従ってセルを組み立て、図４に示す液晶表示装置と同
じ光学的な構成を有し、且つカラーフィルタが形成され
た構成のパネルを得た。このパネルを点灯したところ、
コントラストの高い画像表示を実現することが確認され
た。
【０１５５】＜実施例３＞実施例３では、図５に示す液
晶表示装置３１と光学的な構成が同じとされたフルカラ
ーのパネルを作製した。
【０１５６】最初に、実施例１と同様の工程により、図
２６に示すようなＴＦＴ等が形成された基板を用意し
た。
【０１５７】また、対向する基板に、実施例１と同様の
工程によりカラーフィルタを形成し、カラーフィルタ上
にポリイミドを印刷し、ラビングすることにより配向膜
を形成した。
【０１５８】次に、上述した実施例２と同様の工程によ
り、反射部λ／２層及び反射部λ／４層からなる位相差
層を反射部のみに形成した。
【０１５９】次に、ポリイミドを印刷し、２つの位相差
層の中間の方向から９０°傾いた方向となるようにラビ
ング処理を行った。さらに、液晶に電圧を印加したとき
の残留位相差を打ち消すための透過部位相差層を、透過
部のみに形成した。この透過部位相差層は、液晶層に電
圧を印加したときの残留位相差と等しい３０ｎｍの位相
差を有する。
【０１６０】反射部の位相差層及び透過部位相差層形成
後、ＩＴＯをスパッタすることにより対向電極を形成し
た。
【０１６１】この後は、通常のセル工程である。すなわ
ち、さらに対向電極上にポリイミドを印刷し、ラビング
することにより配向膜を形成した。
【０１６２】以上のようにＴＦＴ等が形成された基板２
と、位相差層等が形成された基板６とを用いて通常の工
程に従ってセルを組み立て、図１に示す液晶表示装置と
同じ光学的な構成を有し、且つカラーフィルタが形成さ
れた構成のパネルを得た。このパネルを点灯したとこ
ろ、透過表示させたときに実施例１のパネルの表示品質
を上回る黒表示が得られ、さらにコントラストの高い画
像表示を実現することが確認された。
【０１６３】＜実施例４＞実施例４では、図６に示す液
晶表示装置４１と光学的な構成が同じとされたパネルを
作製した。
【０１６４】最初に、実施例１と同様の工程により、図
２６に示すようなＴＦＴ等が形成された基板を用意し
た。
【０１６５】また、対向する基板に、実施例１と同様の
工程によりカラーフィルタを形成し、カラーフィルタ上
にポリイミドを印刷し、ラビングすることにより配向膜
を形成した。
【０１６６】この配向膜上に、紫外線硬化性の液晶モノ
マをスピンコートにより塗布し、露光工程・現像工程を
経ることにより、反射部のみに位相差層として反射部λ
／４層が形成されるようにし、透過部から位相差層を除
去した。
【０１６７】このとき、各位相差層の膜厚を、各画素の
位相差に応じて設定した。すなわち、Ｇについては実施
例１と同様に膜厚９５０ｎｍとした。また、Ｂについて
はその色のリタデーションに合わせてΔｎが０．１５５
程度になるので、膜厚７３０ｎｍとなるように位相差層
を形成した。また、Ｒについては、その色のリタデーシ
ョンに合わせてΔｎが０．１３５程度になるので、膜厚
１２００ｎｍ程度となるように位相差層を形成した。
【０１６８】位相差層形成後、ＩＴＯをスパッタするこ
とにより対向電極を形成した。
【０１６９】この後は、通常のセル工程である。すなわ
ち、さらに対向電極上にポリイミドを印刷し、ラビング
することにより配向膜を形成した。
【０１７０】以上のようにＴＦＴ等が形成された基板
と、位相差層等が形成された基板とを用いて通常の工程
に従ってセルを組み立て、図１に示す液晶表示装置と同
じ光学的な構成を有し、且つカラーフィルタが形成され
た構成のパネルを得た。このパネルを点灯したところ、
実施例１のパネルの表示品質を上回る黒表示が得られ、
さらにコントラストの高い画像表示を実現することが確
認された。
【０１７１】＜実施例５＞実施例５では、ＴＦＴ等が形
成されるバックライト側の基板の反射部のみに位相差層
が形成された構成のパネルを作製した。
【０１７２】最初に、実施例１と同様の工程により、図
２６に示すようなＴＦＴ等が形成された基板を用意し
た。さらに、この反射電極上に位相差層として反射部λ
／４層を形成した。さらに、この上にスパッタすること
によりＩＴＯ電極を形成した。
【０１７３】また、対向する基板には、ＩＴＯをスパッ
タすることにより対向電極を形成し、位相差層を形成し
なかった。さらに対向電極上にポリイミドを印刷し、ラ
ビングすることにより配向膜を形成した。
【０１７４】以上のようにＴＦＴ及び位相差層等が形成
された基板と、対向電極が形成された基板とを用いて通
常の工程に従ってセルを組み立て、パネルを得た。この
パネルを点灯したところ、透過表示を行った際に実施例
１のパネルと同等のコントラストの高い画像表示を実現
することが確認された。
【０１７５】＜実施例６＞実施例６では、図７に示す液
晶表示装置１’と光学的な構成が同じとされたフルカラ
ーのパネルを作製した。
【０１７６】最初に、実施例１と同様の工程により、図
２６に示すようなＴＦＴ等が形成された基板（ＴＦＴ基
板）を用意した。そして、このＴＦＴ基板の反射電極３
および透過電極４上にポリイミドを印刷し、マスクラビ
ングを行うことにより、反射部においてはこのＴＦＴ基
板の他面側に設けられる偏光板５の透過軸方向に対して
４５°の角度をなす一方、透過部においてはこの偏光板
５と平行をなすラビング方向の配向膜を形成した。
【０１７７】また、対向する基板（対向基板）に、実施
例１と同様の工程により、反射部λ／４層７を形成し、
さらに対向電極８を形成した。この際、反射部λ／４層
７の形成は、その遅相軸が、対向基板の他面側に設けら
れる偏光板９の透過軸に対して４５°の角度をなすよう
に、下地の配向膜のラビング方向を設定して行った。
【０１７８】その後、対向電極８上にポリイミドを印刷
し、マスクラビングを行うことにより、反射部において
は反射部λ／４層７の遅相軸に対して９０°の角度をな
す一方、透過部においては偏光板９と平行をなすラビン
グ方向の配向膜を形成した。
【０１７９】以上のように表面側に配向膜が形成された
ＴＦＴ基板と対向基板とを用いて、通常の工程にしたが
ってセルを組み立てた。この際、ＴＦＴ基板側の配向膜
と対向板側の配向膜とが、反射部でアンチパラレルとな
り、透過部で９０°のツイスト配向となるようにＴＦＴ
基板と対向基板とを貼り合わせ、これらの間に複屈折率
Δｎ＝０．０９の液晶材料を注入し、封止することで、
反射部においてλ／４の位相差を有する液晶層１０’を
形成した。その後、ＴＦＴ基板側に、当該ＴＦＴ基板に
設けた配向膜の透過部におけるラビング方向に対して透
過軸方向を一致させて偏光板５を張り付けた。また、対
向基板側に、当該対向基板に設けた配向膜の透過部にお
けるラビング方向に対して透過軸方向を一致させて偏光
板９を張り付けた。
【０１８０】以上により、図７に示す液晶表示装置１’
と同じ光学構成を有し、かつカラーフィルタが形成され
た構成のパネルを得た。このパネルを点灯したところ、
実施例１よりもさらに透過部においての黒表示が十分
で、コントラストの高い表示を得ることができた。
【０１８１】＜実施例７＞実施例７では、図１０に示す
液晶表示装置２１’と光学的な構成が同じとされたフル
カラーのパネルを作製した。
【０１８２】最初に、実施例６と同様の工程により、図
２６に示すＴＦＴ基板を用意し、この反射電極３および
透過電極４上に配向膜を形成した。ただし、反射部の配
向膜には、このＴＦＴ基板の他面側に設けられる偏光板
５の透過軸方向に対して７５°の角度をなすようにラビ
ング処理を行い、透過部の反射膜に対しては偏光板の透
過軸に平行にラビング処理を行った。
【０１８３】また、対向する基板（対向基板）に、実施
例２と同様の工程により、反射部λ／２層２２および反
射部λ／４層７形成し、さらに対向電極８を介して配向
膜を形成した。この際、反射部λ／２層２２の形成は、
その遅相軸が、対向基板の他面側に設けられる偏光板９
の透過軸に対して１５°の角度をなすように、下地の配
向膜のラビング方向を設定して行った。また、反射部λ
／４層７の形成は、その遅相軸が、反射部λ／２層２２
の遅相軸に対して６０°の角度をなし、偏光板９の透過
軸に対して７５°の角度をなすように、下地の配向膜の
ラビング方向を設定して行った。さらに配向膜の形成
は、反射部においては反射部λ／４層７の遅相軸に対し
て９０°の角度をなし、偏光板９の透過軸に対して１５
°の角度をなす一方、透過部においては偏光板９と平行
をなす方向にラビング処理を行った。
【０１８４】以上のように表面側に配向膜が形成された
ＴＦＴ基板と対向基板とを用い、実施例６と同様にセル
を組み立て、図１０に示す液晶表示装置２１’と同じ光
学構成を有し、かつカラーフィルタが形成された構成の
パネルを得た。このパネルを点灯したところ、実施例６
よりもさらに黒表示が十分で、コントラストの高い表示
を得ることができた。
【０１８５】＜実施例８＞実施例８では、図１１に示す
液晶表示装置２１ａと光学的な構成が同じとされたフル
カラーのパネルを作製した。
【０１８６】最初に、実施例６と同様の工程により、図
２６に示すＴＦＴ基板を用意し、この反射電極３および
透過電極４上に配向膜を形成した。ただし、反射部の配
向膜に対しては、このＴＦＴ基板の他面側に設けられる
偏光板５の透過軸方向に対して５２．５°の角度をなす
ようにラビング処理を行った。
【０１８７】また、対向する基板（対向基板）に、実施
例７と同様にして、反射部λ／２層２２および反射部λ
／４層７形成し、さらに対向電極８を介して配向膜を形
成した。ただし、反射部の配向膜に対しては、反射部λ
／４層７の遅相軸に対して９６．５°の角度をなし、偏
光板９の透過軸に対して７．５°の角度をなす方向にラ
ビング処理を行った。
【０１８８】以上のように表面側に配向膜が形成された
ＴＦＴ基板と対向基板とを用いて、通常の工程にしたが
ってセルを組み立てた。この際、ＴＦＴ基板側の配向膜
と対向板側の配向膜とが、反射部で４５°の角度をな
し、透過部で９０°の角度をなすと共に、セルギャップ
が反射部で２．７μｍ、透過部で４．８μｍとなるよう
にＴＦＴ基板と対向基板とを貼り合わせ、これらの間に
複屈折率Δｎ＝０．１の液晶材料を注入し、封止するこ
とで、反射部においてλ／４の位相差を有する液晶層１
０’を形成した。その後、実施例６と同様に偏光板５お
よび偏光板９を張り付けた。尚、電圧を印加したときの
残留位相差は、λ／４層で調整した。
【０１８９】以上により、図１１に示す液晶表示装置２
１ａと同じ光学構成を有し、かつカラーフィルタが形成
された構成のパネルを得た。このパネルを点灯したとこ
ろ、実施例６よりもさらに黒表示が十分で、コントラス
トの高い表示を得ることができた。また、反射部におけ
る液晶配向をツイスト配向としてセルギャップを広げた
ことで、ギャップに対するマージンが実施例７と比較し
て広がったため、高い歩留まりで生産することが可能で
あった。
【０１９０】＜実施例９＞実施例９では、図１２に示す
液晶表示装置５１と光学的な構成が同じとされたフルカ
ラーのパネルを作製した。
【０１９１】最初に、実施例１と同様の工程により、図
２６に示すようなＴＦＴ等が形成された基板を用意し
た。
【０１９２】また、対向する基板には、Ｃｒを用いてブ
ラックマトリクスを形成した後、基板上にカラーフィル
タとしてＲ、Ｇ、Ｂのパターンを形成した。次に、カラ
ーフィルタ上にポリイミドを印刷し、ラビングすること
により配向膜を形成した。
【０１９３】このときのラビング処理では、マスクラビ
ングを行った。マスクラビングは、フォトリソグラフィ
法により反射部又は透過部のいずれか一方をレジストで
マスクし、所定方向にラビングを行った後、他方の領域
をレジストでマスクし、所定方向にラビングを行うもの
である。なお、反射部では前面の偏光板の透過軸に対し
て４５°傾くようなラビング方向とし、透過部では前面
の偏光板の透過軸に対して平行になるようなラビング方
向とした。
【０１９４】この配向膜上に、紫外線硬化性の液晶モノ
マをスピンコートにより塗布し、露光工程を経ることに
より、位相差層としてλ／４層が形成されるようにし
た。液晶ポリマは下地の配向膜のラビング方向に沿って
配向するので、反射部ではλ／４層として機能するが、
透過部では遅相軸が前面の偏光板の透過軸と平行とされ
るので実効的な位相差が生じない。紫外線硬化性の液晶
モノマとしては、メルク社製ＲＭＭ３４を用いた。この
紫外線硬化性の液晶モノマ材料は酸素の存在により重合
が不十分なものとなるため、Ｎ2雰囲気で上記処理を行
った。また、ＲＭＭ３４は、Δｎが０．１４５であるた
め、位相差層の膜厚が９５０ｎｍとなるようにスピンコ
ートすることにより、面内で１３５ｎｍ〜１４０ｎｍ程
度に収まるリタデーションを得ることができた。位相差
層形成後、ＩＴＯをスパッタすることにより対向電極を
形成した。
【０１９５】この後は、通常のセル工程である。すなわ
ち、さらに対向電極上にポリイミドを印刷し、ラビング
することにより配向膜を形成した。
【０１９６】ここで、位相差層が形成された側のラビン
グ方向は、位相差層の液晶ポリマの配向方向と同方向と
した。また、ＴＦＴ等が形成された側のラビング方向
は、セル構成がアンチパラレルになる方向とした。
【０１９７】ＴＦＴ等が形成された基板と、位相差層等
が形成された基板との間に液晶を注入し、封止した後、
透過部の位相差層の遅相軸と透過軸が平行となるよう
に、前面に偏光板を貼り付けることにより、図１２に示
す液晶表示装置と同じ光学的な構成を有し、且つカラー
フィルタが形成された構成のパネルを得た。このパネル
を点灯したところ、反射表示及び透過表示のいずれにお
いてもコントラストの高い画像表示を実現することが確
認された。
【０１９８】＜実施例１０＞実施例１０では、図１５に
示す液晶表示装置６１と光学的な構成が同じとされたフ
ルカラーのパネルを作製した。
【０１９９】最初に、実施例１と同様の工程により、図
２６に示すようなＴＦＴ等が形成された基板を用意し
た。
【０２００】また、対向する基板には、Ｃｒを用いてブ
ラックマトリクスを形成した後、基板上にカラーフィル
タとしてＲ、Ｇ、Ｂのパターンを形成した。次に、カラ
ーフィルタ上にポリイミドを印刷し、実施例１０と同様
にマスクラビングすることにより配向膜を形成した。
【０２０１】この配向膜上に、紫外線硬化性の液晶モノ
マをスピンコートにより塗布し、露光工程を経ることに
より位相差層としてλ／２層が形成されるようにした。
紫外線硬化性の液晶モノマは下地の配向膜のラビング方
向に沿って配向するので、反射部ではλ／２層として機
能するが、透過部では遅相軸が前面の偏光板の透過軸と
平行とされるので実効的な位相差が生じない。
【０２０２】次に、λ／２層上にポリイミドを印刷し、
反射部では先だってのラビング方向に対して６０°傾い
た方向となるようにラビング処理を行い、透過部では前
面の偏光板の透過軸に対して平行になるようなラビング
方向となるようにラビング処理を行うことにより配向膜
を形成した。
【０２０３】この配向膜上に、紫外線硬化性の液晶モノ
マを塗布し、露光工程を経ることにより位相差層として
λ／４層が形成されるようにした。紫外線硬化性の液晶
モノマは下地の配向膜のラビング方向に沿って配向する
ので、反射部ではλ／４層として機能するが、透過部で
は遅相軸が前面の偏光板の透過軸と平行とされるので実
効的な位相差が生じない。
【０２０４】次に、λ／４層上にＩＴＯをスパッタする
ことにより対向電極を形成した。
【０２０５】この後は、通常のセル工程である。すなわ
ち、さらに対向電極上にポリイミドを印刷し、ラビング
することにより配向膜を形成した。ここで、液晶層の配
向方向がλ／２とλ／４との中間となるようにラビング
処理を行った。
【０２０６】以上のようにＴＦＴ等が形成された基板
と、位相差層等が形成された基板とを用いて通常の工程
に従ってセルを組み立て、偏光板を基板の両面に貼り付
けた。ここで、反射部λ／２層の遅相軸に対して前面の
偏光板の透過軸が１５°の傾きとなるように前面の偏光
板を配した。また、後面側の偏光板は、その透過軸が前
面の偏光板の透過軸と９０°の角度をなすように配し
た。したがって、透過部λ／２層の遅相軸に対して、前
面の偏光板の透過軸が平行となる。
【０２０７】以上のようにして、図１５に示す液晶表示
装置と同じ光学的な構成を有し、且つカラーフィルタが
形成された構成のパネルを得た。このパネルを点灯した
ところ、反射表示及び透過表示のいずれにおいてもコン
トラストの高い画像表示を実現することが確認された。
【０２０８】＜実施例１１＞実施例１１では、図１６に
示す液晶表示装置７１と光学的な構成が同じとされたパ
ネルを作製した。
【０２０９】最初に、実施例１と同様の工程により、図
２６に示すようなＴＦＴ等が形成された基板を用意し
た。さらにこの反射電極及び透明電極上に紫外線硬化性
の液晶モノマを塗布することにより、位相差層としてλ
／４層を形成した。なお、このとき、反射部の位相差層
のみがλ／４層として機能するように、予めマスクラビ
ングにより反射部と透過部とでラビング方向が異なるよ
うな配向処理を下地に施しておく。さらにこの位相差層
上にポリイミドを印刷し、配向膜を形成した。
【０２１０】また、対向する基板には、ＩＴＯをスパッ
タすることにより対向電極を形成し、位相差層を形成し
なかった。さらに対向電極上にポリイミドを印刷し、ラ
ビングすることにより配向膜を形成した。
【０２１１】以上のようにＴＦＴ及び位相差層等が形成
された基板と、対向電極が形成された基板とを用いて通
常の工程に従ってセルを組み立て、パネルを得た。この
パネルを点灯したところ、透過表示を行った際に実施例
９と同等のコントラストの高い画像表示を実現すること
が確認された。
【０２１２】＜実施例１２＞実施例１２では、図１７に
示す液晶表示装置８１と光学的な構成が同じとされた液
晶表示装置を作製した。
【０２１３】最初に、実施例１と同様の工程により、図
２６に示すようなＴＦＴ等が形成された基板を用意し
た。
【０２１４】また、前面の基板に、Ｃｒを用いてブラッ
クマトリクスを形成した後、基板上にカラーフィルタと
してＲ、Ｇ、Ｂのパターンを形成した。次に、カラーフ
ィルタ上にポリイミドを印刷し、実施例９と同様にマス
クラビングすることにより配向膜を形成した。
【０２１５】この配向膜上に、紫外線硬化性の液晶モノ
マを塗布し、露光工程を経ることにより、位相差層とし
てλ／４層が形成されるようにした。このとき、各位相
差層の膜厚を、各画素の位相差に応じて設定した。すな
わち、Ｇについては実施例９と同様に、膜厚９５０ｎｍ
とした。また、Ｂについては、その色のリタデーション
に合わせてΔｎが０．１５５程度になるので、膜厚７３
０ｎｍとなるように位相差層を形成した。また、Ｒにつ
いては、その色のリタデーションに合わせてΔｎが０．
１３５程度になるので、膜厚１２００ｎｍ程度となるよ
うに位相差層を形成した。
【０２１６】紫外線硬化性の液晶モノマは下地の配向膜
のラビング方向に沿って配向するので、反射部ではλ／
４層として機能するが、透過部では遅相軸が前面の偏光
板の透過軸と平行とされるので実効的な位相差が生じな
い。
【０２１７】位相差層形成後、ＩＴＯをスパッタするこ
とにより対向電極を形成した。
【０２１８】以上のようにＴＦＴ等が形成された基板
と、位相差層等が形成された基板とを用いて通常の工程
に従ってセルを組み立て、図１７に示す液晶表示装置と
同じ光学的な構成を有するパネルを得た。このパネルを
点灯したところ、実施例９のパネルの表示品質を上回る
黒表示が得られ、さらにコントラストの高い画像表示を
実現することが確認された。
【０２１９】＜実施例１３＞実施例１３では、位相差層
を配向分割するために光配向処理を採用したこと以外は
実施例１０と同様にして、フルカラーのパネルを作製し
た。なお、配向膜としては、バンティコ社製のものを用
いた。
【０２２０】このパネルを点灯したところ、実施例１０
と同様に、反射表示及び透過表示のいずれにおいてもコ
ントラストの高い画像表示を実現することが確認され
た。
【０２２１】＜実施例１４＞実施例１４では、図１８に
示す液晶表示装置５１’と光学的な構成が同じとされた
フルカラーのパネルを作製した。
【０２２２】最初に、実施例１と同様の工程により、図
２６に示すようなＴＦＴ等が形成された基板（ＴＦＴ基
板）を用意した。ただし、このＴＦＴ基板の形成におい
ては、反射部と透過部のセルギャップの差分に当たる膜
厚の層間膜５２を反射電極３の下層に設けた。
【０２２３】その後、ＴＦＴ基板の反射電極３および透
過電極４上にポリイミドを印刷し、マスクラビングを行
うことにより、反射部においてはこのＴＦＴ基板の他面
側に設けられる偏光板５の透過軸方向に対して４５°の
角度をなす一方、透過部においてはこの偏光板５と平行
をなすラビング方向の配向膜５３を形成した。
【０２２４】また、対向する基板（対向基板）に、実施
例９と同様の工程により、反射部λ／４層７と透過部λ
／４層５５を形成し、さらに対向電極８を形成した。こ
の際、反射部λ／４層７の遅相軸が、この対向基板に設
けられる偏光板９の透過軸と４５°をなす一方、透過部
λ／４層５５の遅相軸が偏光板９の透過軸と平行をなす
ようにする。
【０２２５】その後、この対向電極８上にポリイミドを
印刷し、マスクラビングを行うことにより、反射部にお
いては反射部λ／４層７の遅相軸に対して９０°の角度
をなす一方、透過部においては透過部λ／４層５５の遅
相軸と平行をなすラビング方向の配向膜５６を形成し
た。
【０２２６】以上のように表面側に配向膜が形成された
ＴＦＴ基板と対向基板とを用いて、通常の工程にしたが
ってセルを組み立てた。この際、ＴＦＴ基板側の配向膜
５３と対向板側の配向膜５６とが、反射部でアンチパラ
レルとなり、透過部で９０°の角度をなすと共に、セル
ギャップが反射部で１．４μｍ、透過部で４．０μｍと
なるようにＴＦＴ基板と対向基板とを貼り合わせ、これ
らの間に複屈折率Δｎ＝０．１２の液晶材料を注入し、
封止することで、反射部においてλ／４の位相差を有す
る液晶層１０’を形成した。その後、ＴＦＴ基板側に、
配向膜５３の透過部におけるラビング方向に対して透過
軸方向を一致させて偏光板５を張り付けた。また、対向
基板側に、配向膜５６の透過部におけるラビング方向に
対して透過軸方向を一致させて偏光板９を張り付けた。
尚、電圧を印加したときの残留位相差は、λ／４層で調
整した。
【０２２７】以上により、図１８に示す液晶表示装置５
１’と同じ光学構成を有し、かつカラーフィルタが形成
された構成のパネルを得た。このパネルを点灯したとこ
ろ、反射部での反射表示、透過部での透過表示とも、コ
ントラストの高い表示を実現することができた。特に透
過表示については、実施例９（図１２参照）よりもさら
にコントラストが高く、視野角の広い表示を行うことが
できた。
【０２２８】なお、本実施例１４においては、セルを組
み立てる際のセルギャップが、反射部で１．８μｍ、透
過部で４．８μｍとなるようにＴＦＴ基板と対向基板と
を貼り合わせ、これらの間に複屈折率Δｎ＝０．０１の
液晶材料を注入し、封止することで、反射部においてλ
／４の位相差を有する液晶層１０’を形成したパネルも
作製したが、同様の効果を得ることができた。尚、この
パネルにおいても、電圧を印加したときの残留位相差
は、λ／４層で調整した。
【０２２９】＜実施例１５＞実施例１５では、図２１に
示す液晶表示装置６１’と光学的な構成が同じとされた
フルカラーのパネルを作製した。
【０２３０】最初に、実施例１４と同様の工程により、
図２６に示すようなＴＦＴ等および層間膜５２が形成さ
れた基板（ＴＦＴ基板）を用意し、このＴＦＴ基板の反
射電極３および透過電極４上に配向膜５３を形成した。
ただし、配向膜５３は、反射部においては、このＴＦＴ
基板の他面側に設けられる偏光板５の透過軸方向に対し
て１５°をなす一方、透過部においては偏光板５と平行
をなすラビング方向で形成した。
【０２３１】また、対向する基板（対向基板）に、実施
例１０と同様の工程により、反射部λ／２層２２および
反射部λ／４層７、透過部λ／２層６２および透過部λ
層５５を形成し、さらに対向電極８を介して配向膜５６
を形成した。この際、反射部λ／２層２２の形成は、そ
の遅相軸が、対向基板の他面側に設けられる偏光板９の
透過軸に対して７５°の角度をなすように、下地の配向
膜のラビング方向を設定して行った。また、反射部λ／
４層７の形成は、その遅相軸が、反射部λ／２層２２の
遅相軸に対して６０°の角度をなし、偏光板９の透過軸
に対して１５°の角度をなすように、下地の配向膜のラ
ビング方向を設定して行った。一方、透過部λ／２層６
２および透過部λ層５５の形成は、それぞれの遅相軸
が、偏光板９の透過軸と平行をなすように、下地の配向
膜のラビング方向を設定して行った。さらに配向膜５６
の形成は、反射部においては反射部λ／４層７の遅相軸
に対して９０°の角度をなし、かつ偏光板９の透過軸に
対して７５°をなす一方、透過部においては偏光板９と
平行をなす方向にラビング処理を行った。
【０２３２】以上のように表面側に配向膜５３，５６が
形成されたＴＦＴ基板と対向基板とを用い、実施例１４
と同様にセルを組み立て、図２１に示す液晶表示装置６
１’と同じ光学構成を有し、かつカラーフィルタが形成
された構成のパネルを得た。このパネルを点灯したとこ
ろ、反射部での反射表示、透過部での透過表示とも、コ
ントラストの高い表示を実現することができた。特に反
射表示については、実施例１４よりも、コントラストの
高い表示を行うことができ、また透過表示については実
施例１４と同様に高コントラストで広視野角となった。
【０２３３】＜実施例１６＞実施例１６では、図２２に
示す液晶表示装置７１’と光学的な構成が同じとされた
フルカラーのパネルを作製した。このパネルは、図１８
を用いて説明した実施例１４のパネルと光学構成は同じ
であり、位相差層がＴＦＴ基板側に設けられている点が
実施例１４床なっている。
【０２３４】最初に、実施例１１と同様の工程により、
図２６に示すようなＴＦＴ等および層間膜５２が形成さ
れた基板（ＴＦＴ基板）を用意し、このＴＦＴ基板の反
射電極３上に反射部λ／４層７を形成すると共に、透過
電極４上に透過部λ／４層５５を形成し、さらに配向膜
５３を形成した。ただし、配向膜５３は、反射部におい
ては、このＴＦＴ基板の他面側に設けられる偏光板５の
透過軸方向に対して４５°の角度をなす一方、透過部に
おいては偏光板５と平行をなすラビング方向で形成し
た。
【０２３５】また、対向する基板（対向基板）に、実施
例１１と同様の工程により、反射部と透過部のセルギャ
ップの差分に当たる膜厚の層間膜５２を反射部に形成し
た後、対向電極８を形成し、さらに配向膜５６を形成し
た。ただし、配向膜５６は、反射部においては、この対
応基板の他面側に設けられる偏光板９の透過軸方向に対
して４５°の角度をなすと共にＴＦＴ基板側の配向膜５
３とアンチパラレルをなす一方、透過部においてはこの
対向基板の他面側に設けられる偏光板９の透過軸方向と
平行をなすラビング方向の配向膜を形成した。
【０２３６】以上のように表面側に配向膜５３，５６が
形成されたＴＦＴ基板と対向基板とを用い実施例１４と
同様にセルを組み立て、図２２に示す液晶表示装置７
１’と同じ光学構成を有し、かつカラーフィルタが形成
された構成のパネルを得た。このパネルを点灯したとこ
ろ、反射部での反射表示、透過部での透過表示とも、実
施例１４と同様にコントラストの高い表示を実現するこ
とができた。
【０２３７】＜実施例１７＞実施例１７では、図２３に
示す液晶表示装置８１’と光学的な構成が同じとされた
フルカラーのパネルを作製した。
【０２３８】最初に、実施例１と同様の工程により、図
２６に示すようなＴＦＴ等が形成された基板（ＴＦＴ基
板）を用意した。ただし、図２６に示すＴＦＴ基板の形
成においては、反射部と透過部のセルギャップの差分に
当たる膜厚の層間膜５２を反射電極３の下層に設けた。
【０２３９】その後、ＴＦＴ基板の反射電極３および透
過電極４上にポリイミドを印刷し、マスクラビングを行
うことにより、反射部においてはこのＴＦＴ基板の他面
側に設けられる偏光板５の透過軸方向に対して４５°の
角度をなす一方、透過部においてはこの偏光板５と平行
をなすラビング方向の配向膜５３を形成した。
【０２４０】また、対向する基板（対向基板）に、実施
例１２（図１７参照）と同様の工程により、Ｒ，Ｇ，Ｂ
のカラーフィルタ４２Ｒ，４２Ｇ，４２Ｂを形成し、さ
らに各色のリタデーションに合わせた各膜厚の反射部λ
／４層７Ｒ，７Ｇ，７Ｂおよび透過部λ／４層５５Ｒ，
５５Ｇ，５５Ｂを形成し、オーバーコート層４３および
対向電極８を介して配向膜５６を形成した。この際、反
射部λ／４層７Ｒ，７Ｇ，７Ｂの遅相軸が、この対向基
板の他面側に設けられる偏光板９の透過軸方向に対して
４５°の角度をなす一方、透過部λ／４層５５Ｒ，５５
Ｇ，５５Ｂの遅相軸が、偏光板９の透過軸と平行をなす
ようにした。また、配向膜５６は、反射部においては反
射部λ／４層７Ｒ，７Ｇ，７Ｂの遅相軸に対して９０°
の角度をなす一方、透過部においては透過部λ／４層５
５Ｒ，５５Ｇ，５５Ｂの遅相軸と平行をなすラビング方
向で形成した。尚、光軸、ラビング方向については、図
１８を用いて説明した実施例１４のパネルと光学構成は
同じであり、位相差層の厚さがそれぞれに設定されてい
る変更されている。
【０２４１】以上のように表面側に配向膜５３，５６が
形成されたＴＦＴ基板と対向基板とを用い実施例１４と
同様にセルを組み立て、図２３に示す液晶表示装置８
１’と同じ光学構成を有し、かつカラーフィルタが形成
された構成のパネルを得た。このパネルを点灯したとこ
ろ、反射部での反射表示、透過部での透過表示とも、実
施例１４よりもさらに黒表示が十分でコントラストの高
い表示を実現することができた。
【０２４２】＜実施例１８＞実施例１８では、反射部と
透過部の各位相差層を配向分割するために、光配向処理
を採用したこと以外は実施例１５と同様にしてフルカラ
ーのパネルを作製した。光配向処理においては、マスク
露光によって透過部、反射部で別々の偏光をあて、実施
例１８と同じ方向に反射部λ／４層および透過部λ・４
層を配向させた。
【０２４３】このパネルを点灯したところ、実施例１５
と同様に、反射表示および透過表示のいずれにおいても
コントラストの高い画像表示を実現することが確認され
た。
【０２４４】＜実施例１９＞実施例１９では、図２４に
示す液晶表示装置６１ａと光学的な構成が同じとされた
フルカラーのパネルを作製した。
【０２４５】最初に、実施例１４と同様の工程により、
図２６に示すようなＴＦＴ等および層間膜５２が形成さ
れた基板（ＴＦＴ基板）を用意し、このＴＦＴ基板の反
射電極３および透過電極４上に配向膜５３を形成した。
ただし、配向膜５３は、反射部においては、このＴＦＴ
基板の他面側に設けられる偏光板５の透過軸方向に対し
て３７．５°の角度をなす一方、透過部においては偏光
板５と平行をなすラビング方向で形成した。
【０２４６】また、対向する基板（対向基板）に、実施
例１５（図２１参照）と同様の工程により、反射部λ／
２層２２および反射部λ／４層７、透過部λ／２層６２
および透過部λ／４層５５を形成し、さらに対向電極８
を介して配向膜５６を形成した。ただし、配向膜５６の
形成は、反射部においては反射部λ／４層７の遅相軸に
対して２２．５°の角度をなす一方、透過部においては
偏光板９と平行をなす方向にラビング処理を行った。
【０２４７】以上のように表面側に配向膜５３，５６が
形成されたＴＦＴ基板と対向基板とを用い、実施例１４
と同様にセルを組み立てた。この際、配向膜５３，５６
のラビング方向が、反射部で４５°をなし、透過部で９
０°の角度をなすと共に、セルギャップが反射部で２．
７μｍ、透過部で４．８μｍとなるようにＴＦＴ基板と
対向基板とを貼り合わせ、これらの間に複屈折率Δｎ＝
０．１０の液晶材料を注入し、封止した。その後、ＴＦ
Ｔ基板側に、配向膜５３の透過部におけるラビング方向
に対して透過軸方向を一致させて偏光板５を張り付け
た。また、対向基板側に、配向膜５６の透過部における
ラビング方向に対して透過軸方向を一致させて偏光板９
を張り付けた。
【０２４８】以上により、図２４に示す液晶表示装置６
１ａと同じ光学構成を有し、かつカラーフィルタが形成
された構成のパネルを得た。このパネルを点灯したとこ
ろ、反射部での反射表示、透過部での透過表示とも、実
施例１５と同様にコントラストの高い表示を実現するこ
とができた。また、反射部における液晶配向がツイスト
ネマチックとしてセルギャップを広げたことで、ギャッ
プに対するマージンが実施例１５と比較して広がったた
め、高い歩留まりで生産することが可能であった。
【０２４９】なお、本実施例１９においては、セルを組
み立てる際に、ＴＦＴ基板側の配向膜５３と対向板側の
配向膜５６とが、反射部、透過部ともに９０°の角度を
なすと共に、セルギャップが反射部で３．３μｍ、透過
部で４．８μｍとなるようにＴＦＴ基板と対向基板とを
貼り合わせ、これらの間に複屈折率Δｎ＝０．１０の液
晶材料を注入し、封止することで、図２５に示す液晶表
示装置６１ａと光学的な構成が同じとされたフルカラー
のパネルも作製したが、同様の効果を得ることができ
た。
【０２５０】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明に係る液晶表示装置及びその製造方法では、一方の基
板に形成された位相差層の位相差を反射部と透過部とで
異ならせることにより、反射部の画像表示に必要となる
位相差層が透過部では機能しないようにされている。こ
のため、反射部では位相差層が機能して充分な反射率が
得られるとともに、透過部ではこの位相差層の位相差を
補償するための新たな位相差層を追加しなくても透過表
示を実現できる。したがって、本発明によれば、位相差
層の使用枚数削減によりセルの薄膜化及びコスト低減を
実現可能な半透過型の液晶表示装置を実現できる。
【０２５１】また、本発明に係る液晶表示装置及びその
製造方法では、一方の基板に形成された位相差層の遅相
軸を反射部と透過部とで異ならせることにより、反射部
の画像表示に必要となる位相差層が透過部では機能しな
いようにされている。このため、反射部では位相差層が
機能して充分な反射率が得られるとともに、透過部では
この位相差層の位相差を補償するための新たな位相差層
を追加しなくても透過表示を実現できる。したがって、
本発明によれば、位相差層の使用枚数削減によりセルの
薄膜化及びコスト低減を実現可能な半透過型の液晶表示
装置を実現できる。
【０２５２】さらにまた、セル内部の配向方向を調整す
ることにより、透過部で従来の旋光モード、反射部でＥ
ＣＢモードとすることができる。その結果、透過モード
で通常のツイストネマティック並の高コントラストを実
現することができる
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の実施の形態の基本となる構成の液晶表示
装置を示す要部概略断面図である。
【図２】図１に示す液晶表示装置に電圧を印加しない場
合の光学構成を示す分解斜視図である。
【図３】図１に示す液晶表示装置に電圧を印加する場合
の光学構成を示す分解斜視図である。
【図４】第１の実施の形態の応用例の液晶表示装置を示
す要部概略断面図である。
【図５】第１の実施の形態の他の応用例の液晶表示装置
を示す要部概略断面図である。
【図６】第１の実施の形態のさらに他の応用例の液晶表
示装置を示す要部概略断面図である。
【図７】第２の実施の形態の基本となる構成の液晶表示
装置を示す要部概略断面図である。
【図８】図７に示す液晶表示装置に電圧を印加しない場
合の光学構成を示す分解斜視図である。
【図９】図７に示す液晶表示装置に電圧を印加する場合
の光学構成を示す分解斜視図である。
【図１０】第２の実施の形態の応用例の液晶表示装置を
示す要部概略断面図である。
【図１１】第２の実施の形態の他の応用例の液晶表示装
置を示す要部概略断面図である。
【図１２】第３の実施の形態の基本となる構成の液晶表
示装置を示す要部概略断面図である。
【図１３】図１２に示す液晶表示装置に電圧を印加しな
い場合の光学構成を示す分解斜視図である。
【図１４】図１２に示す液晶表示装置に電圧を印加する
場合の光学構成を示す分解斜視図である。
【図１５】第３の実施の形態の応用例の液晶表示装置を
示す要部概略断面図である。
【図１６】第３の実施の形態の他の応用例の液晶表示装
置を示す要部概略断面図である。
【図１７】第３の実施の形態のさらに他の応用例の液晶
表示装置を示す要部概略断面図である。
【図１８】第４の実施の形態の基本となる構成の液晶表
示装置を示す要部概略断面図である。
【図１９】図１８に示す液晶表示装置に電圧を印加しな
い場合の光学構成を示す分解斜視図である。
【図２０】図１８に示す液晶表示装置に電圧を印加する
場合の光学構成を示す分解斜視図である。
【図２１】第４の実施の形態の応用例の液晶表示装置を
示す要部概略断面図である。
【図２２】第４の実施の形態の他の応用例の液晶表示装
置を示す要部概略断面図である。
【図２３】第４の実施の形態のさらに他の応用例の液晶
表示装置を示す要部概略断面図である。
【図２４】第４の実施の形態のさらに他の応用例の液晶
表示装置を示す要部概略断面図である。
【図２５】第４の実施の形態のさらに他の応用例の液晶
表示装置を示す要部概略断面図である。
【図２６】ＴＦＴが形成された後面の基板を示す断面図
である。
【図２７】位相差層が２層設けられた従来の半透過型液
晶表示装置を示す要部概略断面図である。
【図２８】位相差層が４層設けられた従来の半透過型液
晶表示装置を示す要部概略断面図である。
【符号の説明】 ２…基板、３…反射電極、４…透明電極、５…偏光板、
６…基板、７…反射部λ／４層、８…対向電極、９…偏
光板、１０…液晶層、１０’…液晶層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 遠藤 和之 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 Ｆターム(参考） 2H090 LA08 LA09 LA20 MA15 MB01 MB12 2H091 FA02Y FA08X FA11Y FA15Y FB04 FC01 FD04 FD10 GA06 HA07 HA09 LA16 LA30

Claims (45)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一対の基板に液晶層が挟持され、反射部
    及び透過部が形成されてなる液晶表示装置において、 少なくとも一方の基板に位相差層が形成され、当該位相
    差層は、上記反射部と透過部とで位相差が異なることを
    特徴とする液晶表示装置。
  2. 【請求項２】 上記基板の上記液晶層側に上記位相差層
    が形成されていることを特徴とする請求項１記載の液晶
    表示装置。
  3. 【請求項３】 上記位相差層は、上記反射部のみに形成
    されていることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装
    置。
  4. 【請求項４】 上記位相差層は、λ／４層であることを
    特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
  5. 【請求項５】 上記位相差層は、λ／４層と当該λ／４
    層における波長分散を補償する位相差層との２層からな
    ることを特徴とする請求項４記載の液晶表示装置。
  6. 【請求項６】 上記波長分散を補償する位相差層は、λ
    ／２層であることを特徴とする請求項５記載の液晶表示
    装置。
  7. 【請求項７】 上記液晶層は、電圧印加及び無印加のい
    ずれか一方の状態において、反射部でλ／４の位相差を
    有し、透過部でλ／２の位相差を有することを特徴とす
    る請求項１記載の液晶表示装置。
  8. 【請求項８】 上記液晶層は、電圧印加及び無印加のい
    ずれか一方の状態において、反射部でλ／４の位相差を
    有し、透過部で９０°捩じれるツイストネマチックとな
    ることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
  9. 【請求項９】 上記液晶層は、電圧印加及び無印加のい
    ずれか一方の状態において、反射部でツイストネマチッ
    クとなることを特徴とする請求項８記載の液晶表示装
    置。
  10. 【請求項１０】 上記反射部の液晶層は電界効果複屈折
    モードにより表示を行い、上記透過部の液晶層は旋光モ
    ードにより表示を行うことを特徴とする請求項８記載の
    液晶表示装置。
  11. 【請求項１１】 上記位相差層は液晶ポリマからなるこ
    とを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
  12. 【請求項１２】 上記液晶ポリマは、ネマチック相を示
    す紫外線硬化性の液晶モノマが硬化してなることを特徴
    とする請求項１１記載の液晶表示装置。
  13. 【請求項１３】 上記基板の少なくとも一方はカラーフ
    ィルタを備え、各カラーフィルタの波長にあわせて上記
    位相差層の位相差が決定されていることを特徴とする請
    求項１記載の液晶表示装置。
  14. 【請求項１４】 上記位相差層は、各カラーフィルタの
    波長にあわせてλ／４の位相差を有することを特徴とす
    る請求項１３記載の液晶表示装置。
  15. 【請求項１５】 上記透過部の位相差層が、上記液晶層
    に電圧を充分に印加したときの残留位相差を打ち消す位
    相差を有することを特徴とする請求項１記載の液晶表示
    装置。
  16. 【請求項１６】 一対の基板に液晶層が挟持され、反射
    部及び透過部が形成されてなる液晶表示装置の製造方法
    であって、 少なくとも一方の基板に位相差層を形成し、当該位相差
    層をパターニングして少なくとも反射部に当該位相差層
    を残すとともに、上記反射部と透過部とで位相差層の位
    相差を異ならせることを特徴とする液晶表示装置の製造
    方法。
  17. 【請求項１７】 反射部のみに上記位相差層を残すこと
    を特徴とする請求項１６記載の液晶表示装置の製造方
    法。
  18. 【請求項１８】 上記基板に配向膜を形成し、当該配向
    膜上に上記位相差層を形成することを特徴とする請求項
    １６記載の液晶表示装置の製造方法。
  19. 【請求項１９】 上記位相差層は液晶ポリマからなるこ
    とを特徴とする請求項１８記載の液晶表示装置の製造方
    法。
  20. 【請求項２０】 上記液晶ポリマは、ネマチック相を示
    す紫外線硬化性の液晶モノマを硬化させてなることを特
    徴とする請求項１９記載の液晶表示装置の製造方法。
  21. 【請求項２１】 露光工程及び現像工程を経て上記位相
    差層をパターニングすることを特徴とする請求項１６記
    載の液晶表示装置の製造方法。
  22. 【請求項２２】 上記一対の基板の少なくとも一方にお
    ける液晶層に臨む面に、マスクラビングにより反射部と
    透過部とで配向方向を異ならせた配向膜を形成すること
    を特徴とする請求項１６記載の液晶表示装置の製造方
    法。
  23. 【請求項２３】 上記一対の基板の少なくとも一方にお
    ける液晶層に臨む面に、光配向処理により反射部と透過
    部とで配向方向を異ならせた配向膜を形成することを特
    徴とする請求項１６記載の液晶表示装置の製造方法。
  24. 【請求項２４】 一対の基板に液晶層が挟持され、反射
    部及び透過部が形成されてなる液晶表示装置において、 少なくとも一方の基板に位相差層が形成され、当該位相
    差層は、上記反射部と透過部とで遅相軸が異なることを
    特徴とする液晶表示装置。
  25. 【請求項２５】 上記基板の上記液晶層側に上記位相差
    層が形成されていることを特徴とする請求項２４記載の
    液晶表示装置。
  26. 【請求項２６】 少なくとも一方の基板に偏光板が配設
    され、透過部の上記位相差層の遅相軸は、当該偏光板の
    透過軸又は吸収軸と同方向とされていることを特徴とす
    る請求項２４記載の液晶表示装置。
  27. 【請求項２７】 少なくとも一方の基板に偏光板が配設
    され、透過部の上記位相差層は、電圧印加及び無印加の
    いずれか一方の状態において、上記液晶層からの光を当
    該偏光板の吸収軸に一致するように偏光させることを特
    徴とする請求項２４記載の液晶表示装置。
  28. 【請求項２８】 上記位相差層は、λ／４層であること
    を特徴とする請求項２４記載の液晶表示装置。
  29. 【請求項２９】 上記位相差層は、λ／４層と当該λ／
    ４層における波長分散を補償する位相差層との２層から
    なることを特徴とする請求項２８記載の液晶表示装置。
  30. 【請求項３０】 上記波長分散を補償する位相差層は、
    λ／２層であることを特徴とする請求項２９記載の液晶
    表示装置。
  31. 【請求項３１】 上記基板の少なくとも一方はカラーフ
    ィルタを備え、各カラーフィルタの波長にあわせて上記
    位相差層の位相差が決定されていることを特徴とする請
    求項２４記載の液晶表示装置。
  32. 【請求項３２】 上記位相差層は、各カラーフィルタの
    波長にあわせてλ／４の位相差を有することを特徴とす
    る請求項３１記載の液晶表示装置。
  33. 【請求項３３】 上記液晶層は、電圧印加及び無印加の
    いずれか一方の状態において、反射部でλ／４の位相差
    を有し、透過部でλ／２の位相差を有することを特徴と
    する請求項２４記載の液晶表示装置。
  34. 【請求項３４】 上記液晶層は、電圧印加及び無印加の
    いずれか一方の状態において、反射部でλ／４の位相差
    を有し、透過部で９０°捩じれるツイストネマチックと
    なることを特徴とする請求項２４記載の液晶表示装置。
  35. 【請求項３５】 上記液晶層は、電圧印加及び無印加の
    いずれか一方の状態において、反射部でツイストネマチ
    ックとなることを特徴とする請求項３４記載の液晶表示
    装置。
  36. 【請求項３６】 上記反射部の液晶層は電界効果複屈折
    モードにより表示を行い、上記透過部の液晶層は旋光モ
    ードにより表示を行うことを特徴とする請求項３４記載
    の液晶表示装置。
  37. 【請求項３７】 上記位相差層は液晶ポリマからなるこ
    とを特徴とする請求項２４記載の液晶表示装置。
  38. 【請求項３８】 上記液晶ポリマは、ネマチック相を示
    す紫外線硬化性の液晶モノマを硬化させてなることを特
    徴とする請求項３７記載の液晶表示装置。
  39. 【請求項３９】 一対の基板に液晶層が挟持され、反射
    部及び透過部が形成されてなる液晶表示装置の製造方法
    であって、 少なくとも一方の基板に、反射部と透過部とで遅相軸が
    異なる位相差層を形成することを特徴とする液晶表示装
    置の製造方法。
  40. 【請求項４０】 上記位相差層は液晶ポリマからなるこ
    とを特徴とする請求項３９記載の液晶表示装置の製造方
    法。
  41. 【請求項４１】 上記液晶ポリマは、ネマチック相を示
    す紫外線硬化性の液晶モノマを硬化させてなることを特
    徴とする請求項４０記載の液晶表示装置の製造方法。
  42. 【請求項４２】 マスクラビングにより反射部と透過部
    とで配向方向を異ならせた配向膜上に、液晶ポリマ又は
    ネマチック相を示す紫外線硬化性の液晶モノマを塗布し
    て上記位相差層を形成することを特徴とする請求項３９
    記載の液晶表示装置の製造方法。
  43. 【請求項４３】 光配向処理により反射部と透過部とで
    配向方向を異ならせた配向膜上に、液晶ポリマ又はネマ
    チック相を示す紫外線硬化性の液晶モノマを塗布して上
    記位相差層を形成することを特徴とする請求項３９記載
    の液晶表示装置の製造方法。
  44. 【請求項４４】 上記一対の基板の少なくとも一方にお
    ける液晶層に臨む面に、マスクラビングにより反射部と
    透過部とで配向方向を異ならせた配向膜を形成すること
    を特徴とする請求項３９記載の液晶表示装置の製造方
    法。
  45. 【請求項４５】 上記一対の基板の少なくとも一方にお
    ける液晶層に臨む面に、光配向処理により反射部と透過
    部とで配向方向を異ならせた配向膜を形成することを特
    徴とする請求項３９記載の液晶表示装置の製造方法。
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US10/714,133 US7800722B2 (en) 2002-02-26 2003-11-14 Method of manufacturing a liquid crystal display having a patterned retardation film
KR1020030081543A KR101014092B1 (ko) 2002-11-18 2003-11-18 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
US11/277,469 US8189144B2 (en) 2002-02-26 2006-03-24 Liquid crystal display having a patterned retardation film and method for manufacturing the same
US11/277,461 US7751000B2 (en) 2002-02-26 2006-03-24 Liquid crystal display having a plurality of retardation films in reflective areas and method for manufacturing the same
KR1020100081828A KR101066771B1 (ko) 2002-11-18 2010-08-24 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
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Cited By (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005501293A (ja) * 2001-08-29 2005-01-13 コーニンクレッカ　フィリップス　エレクトロニクス　エヌ　ヴィ 半透過型液晶ディスプレイにおける配列
JP2006065285A (ja) * 2004-08-25 2006-03-09 Samsung Electronics Co Ltd 半透過型表示装置及びその形成方法。
JP2006071977A (ja) * 2004-09-02 2006-03-16 Sony Corp 液晶表示装置およびその製造方法
JP2006085130A (ja) * 2004-09-15 2006-03-30 Samsung Electronics Co Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
JP2006171376A (ja) * 2004-12-16 2006-06-29 Sony Corp 液晶表示装置
JP2006171754A (ja) * 2004-12-13 2006-06-29 Samsung Electronics Co Ltd 表示装置と薄膜トランジスタ表示板及びその製造方法
WO2006093358A1 (en) * 2005-03-03 2006-09-08 Fujifilm Corporation Liquid crystal cell and liquid crystal display apparatus
JP2006276849A (ja) * 2005-03-03 2006-10-12 Fuji Photo Film Co Ltd 液晶セル及び液晶表示装置
WO2007063629A1 (ja) * 2005-12-02 2007-06-07 Sharp Kabushiki Kaisha 液晶表示装置
JP2007279544A (ja) * 2006-04-11 2007-10-25 Epson Imaging Devices Corp 液晶装置及びその製造方法、並びに電子機器
JP2008508543A (ja) * 2004-07-28 2008-03-21 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング パターン化リタデーションフィルムを含むトランスフレクティブｌｃｄ
JP2008083610A (ja) * 2006-09-29 2008-04-10 Hitachi Displays Ltd 液晶表示装置
JP2008519995A (ja) * 2004-11-12 2008-06-12 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング セル内にパターン化された１／４波長位相差子を有する半透過型垂直配向液晶ディスプレイ
JP2008203382A (ja) * 2007-02-19 2008-09-04 Hitachi Displays Ltd 液晶表示装置
JP2008209553A (ja) * 2007-02-26 2008-09-11 Epson Imaging Devices Corp 液晶装置及び電子機器
JP2008262246A (ja) * 2008-08-08 2008-10-30 Epson Imaging Devices Corp 液晶表示装置
JP2008268482A (ja) * 2007-04-19 2008-11-06 Seiko Epson Corp 液晶装置、液晶装置の製造方法並びに電子機器
JP2009048041A (ja) * 2007-08-22 2009-03-05 Kyodo Printing Co Ltd 半透過型液晶表示装置及びその製造方法
WO2009090778A1 (ja) 2008-01-16 2009-07-23 Sharp Kabushiki Kaisha 液晶表示装置
JP2009258194A (ja) * 2008-04-14 2009-11-05 Mitsubishi Electric Corp 液晶表示装置
JPWO2008062682A1 (ja) * 2006-11-21 2010-03-04 ソニー株式会社 液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法
WO2010038507A1 (ja) * 2008-10-02 2010-04-08 シャープ株式会社 液晶表示装置
KR100977226B1 (ko) * 2003-12-30 2010-08-23 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
KR101014376B1 (ko) * 2003-12-30 2011-02-15 엘지디스플레이 주식회사 위상차 필름을 포함하는 반투과형 액정 표시장치
KR101127816B1 (ko) * 2005-06-30 2012-03-20 엘지디스플레이 주식회사 반투과형 액정표시소자 및 그 제조방법
US8169555B2 (en) 2006-09-19 2012-05-01 Sony Corporation Liquid crystal display device
US8174650B2 (en) 2008-04-07 2012-05-08 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device having first and second birefringent layers and first and second quarter-wave plates
US8259259B2 (en) 2007-04-11 2012-09-04 Fujifilm Corporation Liquid crystal display device comprising an optically anisotropic film having at least one species of liquid crystal compound which exhibits a nematic phase or a smectic phase
KR101282398B1 (ko) 2006-01-26 2013-07-04 삼성디스플레이 주식회사 컬러 필터 표시판, 박막 트랜지스터 표시판 및 이를 이용한액정 표시 장치
US8614777B2 (en) 2008-08-20 2013-12-24 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device
US8654286B2 (en) 2007-12-25 2014-02-18 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device and display device substrate
CN103676291A (zh) * 2012-09-19 2014-03-26 苹果公司 应力不敏感液晶显示器
WO2016158300A1 (ja) * 2015-03-31 2016-10-06 富士フイルム株式会社 円偏光板、および、屈曲可能な表示装置

Families Citing this family (55)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7646454B2 (en) * 2003-06-12 2010-01-12 Koninklijke Philips Electronics N.V. Transflective liquid crystal display device
JP2005234204A (ja) * 2004-02-19 2005-09-02 Citizen Watch Co Ltd 液晶表示装置
JP4223992B2 (ja) * 2004-05-25 2009-02-12 株式会社 日立ディスプレイズ 液晶表示装置
KR101146521B1 (ko) * 2004-07-19 2012-05-25 삼성전자주식회사 위상지연소자와, 이의 제조방법과, 이를 갖는 기판 및이의 제조방법과, 이를 이용한 광 공급 방법 및액정표시장치
KR20060111268A (ko) * 2005-04-22 2006-10-26 삼성전자주식회사 표시패널과, 이의 제조 방법 및 이를 갖는 표시장치
KR20060118993A (ko) * 2005-05-18 2006-11-24 삼성전자주식회사 액정 표시 장치
KR20060122489A (ko) * 2005-05-27 2006-11-30 삼성전자주식회사 액정 표시 장치
JP4434166B2 (ja) * 2005-06-09 2010-03-17 エプソンイメージングデバイス株式会社 液晶装置及び電子機器
JP4039444B2 (ja) * 2005-07-15 2008-01-30 エプソンイメージングデバイス株式会社 液晶表示装置及び電子機器
TWI350397B (en) * 2005-07-28 2011-10-11 Sony Corp Semi-transmissive liquid crystal display device
JP4707521B2 (ja) * 2005-09-30 2011-06-22 大日本印刷株式会社 カラーフィルタおよびこれを有する半透過半反射型液晶表示装置
DE102006057333B4 (de) 2005-12-30 2010-01-28 Lg Display Co., Ltd. IPS-Flüssigkristallanzeigevorrichtung
FI20060028L (fi) * 2006-01-13 2007-07-14 Teknillinen Korkeakoulu Tulostettuun kuvaan liittyvä metatieto
US8023073B2 (en) * 2006-01-26 2011-09-20 Samsung Electronics Co., Ltd. Color filter display panel, thin film transistor array panel, liquid crystal display thereof, and method thereof
JP2007212498A (ja) * 2006-02-07 2007-08-23 Epson Imaging Devices Corp 液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法及び電子機器
JP2007241071A (ja) * 2006-03-10 2007-09-20 Fujifilm Corp 反射透過型液晶表示装置
US20080043183A1 (en) * 2006-08-15 2008-02-21 Tpo Displays Corp. Transflective pixel structure in LCD panel and method for fabricating the same
US7570329B2 (en) * 2006-09-14 2009-08-04 Wintek Corporation LCD panel and electronic device using the same
JP2008076501A (ja) * 2006-09-19 2008-04-03 Epson Imaging Devices Corp 液晶表示装置
CN101149505B (zh) * 2006-09-22 2010-04-07 株式会社日立显示器 液晶显示装置及其制造方法
TWI380070B (en) * 2007-01-17 2012-12-21 Taiwan Tft Lcd Ass Optical film and manufacturing method thereof and substrate structure and display panel using the optical film
TWI354168B (en) 2007-05-04 2011-12-11 Au Optronics Corp Optical compensation film, manufacturing method of
JP5275591B2 (ja) * 2007-08-06 2013-08-28 株式会社ジャパンディスプレイウェスト 液晶表示装置
TWI344702B (en) 2007-09-03 2011-07-01 Au Optronics Corp Multiple cell gaps transreflective lcd and fabricating method thereof
US20090147192A1 (en) * 2007-12-05 2009-06-11 Sony Corporation Liquid crystal display device and a method of manufacturing the same
CN101925853A (zh) * 2008-01-25 2010-12-22 夏普株式会社 液晶显示装置
US20110019136A1 (en) * 2008-03-11 2011-01-27 Katsuya Ogawa Liquid crystal display device
JP2009258332A (ja) * 2008-04-16 2009-11-05 Seiko Epson Corp 液晶表示装置、電子機器
US11366254B2 (en) 2010-01-29 2022-06-21 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. High-efficiency wide-angle beam steering system
US9557456B2 (en) 2010-01-29 2017-01-31 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Broadband optics for manipulating light beams and images
US10197715B1 (en) 2013-03-15 2019-02-05 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Methods of diffractive lens and mirror fabrication
US9983479B2 (en) 2010-04-21 2018-05-29 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Fabrication of high efficiency, high quality, large area diffractive waveplates and arrays
US10114239B2 (en) 2010-04-21 2018-10-30 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Waveplate lenses and methods for their fabrication
US20110262844A1 (en) 2010-04-21 2011-10-27 Beam Engineering For Advanced Measurement Co. Fabrication of high efficiency, high quality, large area diffractive waveplates and arrays
CN102778778B (zh) * 2012-07-05 2014-08-06 京东方科技集团股份有限公司 一种透反式液晶显示面板及透反式液晶显示器
US10107945B2 (en) 2013-03-01 2018-10-23 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Vector vortex waveplates
US10185182B2 (en) * 2013-03-03 2019-01-22 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Mechanical rubbing method for fabricating cycloidal diffractive waveplates
WO2014164599A1 (en) * 2013-03-11 2014-10-09 U.S. Government As Represented By The Secretary Of The Army Method of fabricating liquid crystal polymer film
CN103197466B (zh) * 2013-04-01 2015-06-17 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板、液晶盒及显示装置
JP2017529128A (ja) 2014-04-16 2017-10-05 ビーム エンジニアリング フォー アドバンスド メジャーメンツ カンパニー 回折波長板レンズを用いてヒトの視力を矯正する方法及び装置
CN105336759B (zh) * 2014-08-06 2018-06-29 上海和辉光电有限公司 显示面板
US10234721B2 (en) * 2015-03-05 2019-03-19 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd Transflective liquid crystal display device and method of forming the same
US9976911B1 (en) 2015-06-30 2018-05-22 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Full characterization wavefront sensor
US10191296B1 (en) 2015-06-30 2019-01-29 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Laser pointer with reduced risk of eye injury
CN105068299B (zh) * 2015-07-27 2018-06-15 武汉华星光电技术有限公司 一种显示面板及液晶显示器
US10436957B2 (en) 2015-10-27 2019-10-08 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Broadband imaging with diffractive waveplate coated mirrors and diffractive waveplate objective lens
CN105301832B (zh) * 2015-11-27 2018-01-30 武汉华星光电技术有限公司 一种彩膜基板以及宽视角透反式液晶显示装置
US20180088378A1 (en) * 2016-09-28 2018-03-29 Electronics And Telecommunications Research Institute Polarimetric-analysis-type dual liquid crystal wavelength filter module
US10423045B2 (en) 2016-11-14 2019-09-24 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Electro-optical diffractive waveplate beam shaping system
GB2559737B (en) * 2017-02-10 2019-07-17 Centrica Hive Ltd Environmental control configuration
US10274805B2 (en) 2017-06-13 2019-04-30 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Polarization-independent switchable lens system
US11175441B1 (en) 2018-03-05 2021-11-16 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Polarization-independent diffractive optical structures
CN108682681B (zh) * 2018-05-25 2021-03-30 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制作方法以及显示器件
US11294240B2 (en) 2019-08-10 2022-04-05 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Diffractive waveplate devices that operate over a wide temperature range
US11222401B2 (en) 2019-11-14 2022-01-11 Hand Held Products, Inc. Apparatuses and computer-implemented methods for middle frame image processing

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2651026B2 (ja) 1989-09-20 1997-09-10 株式会社日立製作所 液晶表示装置
JPH03191327A (ja) 1989-12-20 1991-08-21 Nitto Denko Corp 位相差板及び液晶セル
US5056895A (en) * 1990-05-21 1991-10-15 Greyhawk Systems, Inc. Active matrix liquid crystal liquid crystal light valve including a dielectric mirror upon a leveling layer and having fringing fields
US5499126A (en) * 1993-12-02 1996-03-12 Ois Optical Imaging Systems, Inc. Liquid crystal display with patterned retardation films
GB2292814A (en) 1994-09-01 1996-03-06 Sharp Kk Liquid crystal display
JPH0990431A (ja) 1995-09-19 1997-04-04 Sony Corp 反射型ゲストホスト液晶表示装置
JPH09258210A (ja) 1996-03-25 1997-10-03 Sharp Corp 液晶表示装置及びその製造方法
JPH1068816A (ja) * 1996-08-29 1998-03-10 Sharp Corp 位相差板及び円偏光板
JPH10104609A (ja) 1996-10-02 1998-04-24 Sony Corp カラー反射型ゲストホスト液晶表示装置
US5929955A (en) * 1996-10-31 1999-07-27 Industrial Technology Research Institute Color LCD with microcompensators and macrocompensator
JPH1152362A (ja) 1997-08-01 1999-02-26 Sony Corp 反射型液晶表示装置
JP3380482B2 (ja) * 1997-12-26 2003-02-24 シャープ株式会社 液晶表示装置
JPH11258638A (ja) 1998-03-10 1999-09-24 Hitachi Ltd ゲストホスト型液晶表示装置
JPH11305232A (ja) * 1998-04-20 1999-11-05 Sony Corp 反射型液晶表示装置
JP3406242B2 (ja) 1998-10-15 2003-05-12 シャープ株式会社 液晶表示装置
JP2000321426A (ja) * 1999-05-12 2000-11-24 Nitto Denko Corp 広視野角偏光板及び液晶表示装置
JP3777971B2 (ja) 1999-12-03 2006-05-24 セイコーエプソン株式会社 液晶装置および電子機器
JP3744342B2 (ja) 1999-12-03 2006-02-08 セイコーエプソン株式会社 液晶装置および電子機器
KR100586242B1 (ko) * 2000-01-06 2006-06-02 엘지.필립스 엘시디 주식회사 반사투과형 액정표시장치와 그 제조방법
KR100394987B1 (ko) * 2000-04-07 2003-08-19 엘지.필립스 엘시디 주식회사 반투과 액정 표시장치
KR100351700B1 (ko) * 2000-04-17 2002-09-11 엘지.필립스 엘시디 주식회사 반투과 액정 표시장치
KR100367280B1 (ko) * 2000-05-08 2003-01-09 엘지.필립스 엘시디 주식회사 반사투과형 액정표시장치 제작방법
CN1392964A (zh) * 2000-09-27 2003-01-22 松下电器产业株式会社 半透射型液晶显示器件
JP4831721B2 (ja) * 2001-08-22 2011-12-07 Ｎｌｔテクノロジー株式会社 液晶表示装置
JP2005501293A (ja) * 2001-08-29 2005-01-13 コーニンクレッカ　フィリップス　エレクトロニクス　エヌ　ヴィ 半透過型液晶ディスプレイにおける配列
JP3675404B2 (ja) * 2001-09-25 2005-07-27 セイコーエプソン株式会社 半透過・反射型液晶装置、およびそれを用いた電子機器
US7324180B2 (en) * 2002-09-06 2008-01-29 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Laminated retardation optical element, process of producing the same, and liquid crystal display

Cited By (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005501293A (ja) * 2001-08-29 2005-01-13 コーニンクレッカ　フィリップス　エレクトロニクス　エヌ　ヴィ 半透過型液晶ディスプレイにおける配列
KR100977226B1 (ko) * 2003-12-30 2010-08-23 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
KR101014376B1 (ko) * 2003-12-30 2011-02-15 엘지디스플레이 주식회사 위상차 필름을 포함하는 반투과형 액정 표시장치
JP2008508543A (ja) * 2004-07-28 2008-03-21 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング パターン化リタデーションフィルムを含むトランスフレクティブｌｃｄ
JP2006065285A (ja) * 2004-08-25 2006-03-09 Samsung Electronics Co Ltd 半透過型表示装置及びその形成方法。
JP2006071977A (ja) * 2004-09-02 2006-03-16 Sony Corp 液晶表示装置およびその製造方法
JP4687870B2 (ja) * 2004-09-02 2011-05-25 ソニー株式会社 液晶表示装置およびその製造方法
KR101100394B1 (ko) * 2004-09-15 2011-12-30 삼성전자주식회사 액정 표시 장치 및 그의 제조 방법
JP2006085130A (ja) * 2004-09-15 2006-03-30 Samsung Electronics Co Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
JP2008519995A (ja) * 2004-11-12 2008-06-12 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング セル内にパターン化された１／４波長位相差子を有する半透過型垂直配向液晶ディスプレイ
JP2006171754A (ja) * 2004-12-13 2006-06-29 Samsung Electronics Co Ltd 表示装置と薄膜トランジスタ表示板及びその製造方法
JP2006171376A (ja) * 2004-12-16 2006-06-29 Sony Corp 液晶表示装置
WO2006093358A1 (en) * 2005-03-03 2006-09-08 Fujifilm Corporation Liquid crystal cell and liquid crystal display apparatus
JP2006276849A (ja) * 2005-03-03 2006-10-12 Fuji Photo Film Co Ltd 液晶セル及び液晶表示装置
US8064009B2 (en) 2005-03-03 2011-11-22 Fujifilm Corporation Liquid crystal cell and liquid crystal display apparatus
KR101127816B1 (ko) * 2005-06-30 2012-03-20 엘지디스플레이 주식회사 반투과형 액정표시소자 및 그 제조방법
WO2007063629A1 (ja) * 2005-12-02 2007-06-07 Sharp Kabushiki Kaisha 液晶表示装置
JPWO2007063629A1 (ja) * 2005-12-02 2009-05-07 シャープ株式会社 液晶表示装置
US7907241B2 (en) 2005-12-02 2011-03-15 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device
KR101282398B1 (ko) 2006-01-26 2013-07-04 삼성디스플레이 주식회사 컬러 필터 표시판, 박막 트랜지스터 표시판 및 이를 이용한액정 표시 장치
JP2007279544A (ja) * 2006-04-11 2007-10-25 Epson Imaging Devices Corp 液晶装置及びその製造方法、並びに電子機器
US8169555B2 (en) 2006-09-19 2012-05-01 Sony Corporation Liquid crystal display device
JP4494380B2 (ja) * 2006-09-29 2010-06-30 株式会社 日立ディスプレイズ 液晶表示装置
US7656483B2 (en) 2006-09-29 2010-02-02 Hitachi Displays, Ltd. Liquid crystal display
JP2008083610A (ja) * 2006-09-29 2008-04-10 Hitachi Displays Ltd 液晶表示装置
JPWO2008062682A1 (ja) * 2006-11-21 2010-03-04 ソニー株式会社 液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法
JP2008203382A (ja) * 2007-02-19 2008-09-04 Hitachi Displays Ltd 液晶表示装置
JP2008209553A (ja) * 2007-02-26 2008-09-11 Epson Imaging Devices Corp 液晶装置及び電子機器
JP4529984B2 (ja) * 2007-02-26 2010-08-25 エプソンイメージングデバイス株式会社 液晶装置及び電子機器
US8259259B2 (en) 2007-04-11 2012-09-04 Fujifilm Corporation Liquid crystal display device comprising an optically anisotropic film having at least one species of liquid crystal compound which exhibits a nematic phase or a smectic phase
KR101466396B1 (ko) 2007-04-19 2014-11-27 재팬 디스프레이 웨스트 인코포레이트 액정 장치, 액정 장치의 제조 방법 그리고 전자 기기
US8199298B2 (en) 2007-04-19 2012-06-12 Sony Corporation Liquid crystal device, method of manufacturing the same, and electronic apparatus
JP2008268482A (ja) * 2007-04-19 2008-11-06 Seiko Epson Corp 液晶装置、液晶装置の製造方法並びに電子機器
JP2009048041A (ja) * 2007-08-22 2009-03-05 Kyodo Printing Co Ltd 半透過型液晶表示装置及びその製造方法
US8654286B2 (en) 2007-12-25 2014-02-18 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device and display device substrate
WO2009090778A1 (ja) 2008-01-16 2009-07-23 Sharp Kabushiki Kaisha 液晶表示装置
US8174650B2 (en) 2008-04-07 2012-05-08 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device having first and second birefringent layers and first and second quarter-wave plates
JP2009258194A (ja) * 2008-04-14 2009-11-05 Mitsubishi Electric Corp 液晶表示装置
JP2008262246A (ja) * 2008-08-08 2008-10-30 Epson Imaging Devices Corp 液晶表示装置
US8614777B2 (en) 2008-08-20 2013-12-24 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device
WO2010038507A1 (ja) * 2008-10-02 2010-04-08 シャープ株式会社 液晶表示装置
CN103676291A (zh) * 2012-09-19 2014-03-26 苹果公司 应力不敏感液晶显示器
WO2016158300A1 (ja) * 2015-03-31 2016-10-06 富士フイルム株式会社 円偏光板、および、屈曲可能な表示装置
KR20170118805A (ko) * 2015-03-31 2017-10-25 후지필름 가부시키가이샤 원편광판, 및 굴곡 가능한 표시 장치
CN107430238A (zh) * 2015-03-31 2017-12-01 富士胶片株式会社 圆偏振片以及可弯曲的显示装置
JPWO2016158300A1 (ja) * 2015-03-31 2017-12-28 富士フイルム株式会社 円偏光板、および、屈曲可能な表示装置
US10403857B2 (en) 2015-03-31 2019-09-03 Fujifilm Corporation Circularly polarizing plate and bendable display device
KR102082200B1 (ko) 2015-03-31 2020-02-27 후지필름 가부시키가이샤 원편광판, 및 굴곡 가능한 표시 장치

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