JPH09258210A - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents

液晶表示装置及びその製造方法

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JPH09258210A
JPH09258210A JP8068838A JP6883896A JPH09258210A JP H09258210 A JPH09258210 A JP H09258210A JP 8068838 A JP8068838 A JP 8068838A JP 6883896 A JP6883896 A JP 6883896A JP H09258210 A JPH09258210 A JP H09258210A
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JP
Japan
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liquid crystal
layer
light
crystal display
substrate
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Withdrawn
Application number
JP8068838A
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English (en)
Inventor
Tetsuaki Koyama
徹朗 小山
Tadanori Hishida
忠則 菱田
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 円偏光層を用いた液晶表示装置では、入射光
の利用効率が低い。また、液晶表示装置の製造工程にお
ける熱処理によって、円偏光層の光学特性が劣化をきた
す。 【解決手段】 第1の基板と第2の基板とに挟持された
液晶層を備え、該第1の基板は、第1の支持基板上にマ
トリクス状に形成された駆動素子と、該駆動素子のそれ
ぞれと電気的に接続された表示電極および対向配線とを
備え、該第2の基板は、第2の支持基板と、該液晶層に
相対する面側に少なくとも円偏光層と配向膜とが設けら
れている液晶表示装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は面状光源を備えた液
晶表示装置に関し、特にパーソナルコンピュータやワー
ドプロセッサ等で利用される、エッジライト方式の面状
発光部を備えた液晶表示装置、および液晶テレビやパー
ソナルコンピューターのデスクトップ型ディスプレーに
利用される、直視型方式の面状光源を備えた液晶表示装
置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の円偏光層を備えた液晶表示素子と
しては、特開平7−98456号公報に開示される表示
素子が挙げられる。これに開示される技術の詳細につい
て、図2を参照しながら説明する。
【0003】板ガラス等からなる基台111の上に、下
地層112、反射液晶層102、保護層113、位相層
103、電極膜104、および配向膜105がこの順序
で設けられており、これらから第1の基板101が形成
される。また、第2の基板106は、電極膜164と配
向膜165とを有する。第1の基板および第2の基板1
06の間に液晶層107が挟持されている。偏光板10
8は、基板106の外側、すなわち液晶層107が位置
する方向とは反対側に配置されている。
【0004】反射液晶層102は、硬化されたコレステ
リック液晶から形成され、選択された円偏光を反射す
る。さらに、下地層112と保護層113とは必要に応
じて設けられ、反射液晶層102を扶持する。位相層1
03は、高分子液晶層を硬化させて得られたネマティッ
ク液晶から形成され、1/4波長板の役目を果たす。電
極膜164は、第2の基板106の電極とマトリクスを
組むために、互いに平行な、複数のストライプ状の透明
電極層(ITO)を有している。液晶層107の液晶分
子は、第1の基板101および第2の基板106の間に
充填され、配向膜105および配向膜165によって配
向方向が制御される。液晶層107の光学特性の変化
は、液晶層107に電界を印加して液晶分子の配列を制
御することによって行われる。
【0005】液晶層107としては、例えば液晶分子の
90度捻れ配向を有するツイステッドネマティック(T
N)液晶層や、270度等の90度より大きな捻れ配向
を持つスーパーツイステッドネマティック(STN)液
晶層等の電界効果型液晶が利用できる。
【0006】上記構成において、原理的には、反射液晶
層102は特定の波長を有する右旋(または左旋)円偏
光発生手段、位相層103は1/4波長板、偏光板10
8は光の振動方向選択する手段と考えることができる。
液晶層107に電界が印加されていない場合、液晶層1
07は直線偏光の偏光面を回転する1/2波長板として
機能する。これは、液晶層107を直線偏光が透過する
際に、液晶分子の螺旋構造にしたがって偏光面が回転す
るからである。一方、電界を印加した場合は、このよう
な螺旋構造は消え、液晶分子が電界の方向と平行に配向
するので、液晶層7に入射した直線偏光の偏光面は回転
しない。偏光板8が透過する直線偏光の偏光面は、位相
層103が発生する直線偏光の偏光面と直交する。
【0007】液晶層107に電界が印加されていない場
合、反射液晶層102で反射された円偏光、例えば右に
π/2進む光は、位相層103でπ進む直線偏光の光に
変換され、液晶層107を透過することによって2π進
む直線偏光に変換される。この直線偏光の偏光面と偏光
板108の偏光面とが一致していれば反射液晶層102
で選択された特定の光の色が観察される。それに対し
て、液晶層107に電界が印加された場合では、位相層
103の出力であるπ進んだ光の偏光面は、液晶層10
7を透過中に回転しない。位相層103が発生する直線
偏光の偏光面と偏光板108を透過出来る直線偏光の偏
光面とは直交するため光が透過せず、黒色が観察され
る。したがって、反射液晶層2として、それぞれ異なる
波長の円偏光を選択的に反射する部分が周期的に配置さ
れ、それぞれの部分で反射される波長が各々赤色、緑
色、および青色に対応している反射液晶層を用いれば、
カラー表示を実現できる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成においては以下に示すような問題がある。コレステリ
ック液晶材を用いた従来の円偏光層(反射液晶層10
2)は、その構造上、光源から伝搬される光の右偏光成
分、または左偏光成分の内、何れか一方を反射する特性
を有する。このため、入射光の利用効率が悪く、表示画
像の輝度の低下をきたす。
【0009】また、TN型液晶を使った従来の液晶表示
素子を用いた場合、製造プロセスにおいて、対向基板上
に円偏光板、位相差層(位相層103)を積層した後、
スパッタ法等により導電性薄膜からなる対向電極を形成
する。対向電極の形成のためには、基板の高温加熱工程
を経なければならない。このため、位相差層、円偏光層
の各層内の分子配列に熱運動に起因した乱れが生じ、光
学的特性の劣化を引き起こす等の問題が生じていた。
【0010】本発明は、上記問題点を鑑み、光源からの
入射光を効率よく利用でき、かつ製造工程において円偏
光層の光学特性が劣化しない液晶表示装置、ならびに液
晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、第1および第2の基板と、該第1の基板と該第2の
基板とに挟持された液晶層とを備え、該第1の基板は、
第1の支持基板と、該第1の支持基板の該液晶層に相対
する面側に少なくとも円偏光層と配向膜とをこの順序で
備えており、そのことにより上記目的を達成する。
【0012】好ましくは、前記第1の基板は、さらに前
記円偏光層と前記配向膜との間に位相差層を備えてい
る。
【0013】さらに好ましくは、前記第1の基板は、さ
らに集光シート、光拡散シート、導光板、および反射板
を備えている。
【0014】ある実施の形態では、前記光拡散シート
は、前記集光シートと導光板との間に設けられている。
【0015】他の実施の形態では、前記第2の基板は、
前記液晶層に、該第2の基板の面に平行な電界を印加す
る手段を有する。
【0016】さらに他の実施の形態では、前記円偏光層
は、コレステリック樹脂層から形成されている。
【0017】本発明の液晶表示装置の製造方法は、二枚
の支持基板間の各々に配向膜を積層し、該基板間に高分
子液晶を注入し特定の波長の光を選択的に反射する円偏
光層を形成する工程を包含する。
【0018】好ましくは、前記二枚の支持基板のうち一
方を取り去り、露出した前記円偏光層上に少なくとも位
相層を積層して前記第2の基板を形成する工程を包含す
る。
【0019】上記の問題を解決すべく、本発明の液晶表
示装置では、液晶表示素子1aの内部の支持基板2上
に、配向層5c、円偏光層8、1/4波長層7、配向膜
5b、および液晶層6がこの順序で積層配置されてい
る。
【0020】以下において作用を説明する。
【0021】面状光源装置14が照射する非偏光は、透
光性支持基板2を透過し、円偏光層8に入射する。円偏
光層8は円偏光の内、右回転成分および左回転成分の何
れか一方の光成分を透過させることができる。その後、
円偏光層8を透過した円偏光は、1/4波長層7におい
て直線偏光に効率的に変換し、液晶層6に供給される。
【0022】円偏光層8において、液晶分子は、層の厚
さ方向に沿って、特定のピッチで螺旋構造を成してい
る。円偏光層8に光が入射した場合、液晶分子の螺旋方
向とは反対方向に偏向面が回転する円偏光は、円偏光層
8を透過することが出来る。ところが、この円偏光の内
の一部分は、円偏光層8によってに反射される。
【0023】円偏光層8によって反射された光は、面状
光源装置14に帰還する。この光は、反射板12で反射
されて液晶表示素子1aの円偏光層8に再び入射する。
このとき、円偏光層8に再入射した光の内の一部は円偏
光層8を透過することが可能である。このように、面状
光源装置14における反射板12と円偏光層8との間で
反射を繰り返すことで、光源14が生成する光の利用効
率を顕著に向上させることが可能となる。
【0024】また、製造プロセスにおいても、液晶層を
挟持する基板の基板面に平行な方向に液晶駆動用の電界
を印加し、液晶を駆動させる横電界駆動方式を用いた場
合、アクティブマトリクス基板側に、画素電極および対
向電極の双方を設けることが出来る。TN型液晶による
駆動を行う液晶表示素子のように、円偏光層、位相差層
が形成された対向基板側に、必ずしも対向電極を設ける
必要性がなくなり、円偏光層、位相差層を形成後の高温
加熱工程を回避することができる。
【0025】
【発明の実施の形態】図1を参照しながら、本発明の液
晶表示装置の構成を説明する。
【0026】ガラス等の透光性を有する材料から形成さ
れた支持基板1の表面上に偏光板3が設けられている。
支持基板1の裏面上には、TFT素子23がマトリクス
状に設けられ、さらにその上に透光性を有する有機系絶
縁層からなるカラーフィルタ層4aが設けられている。
カラーフィルタ層4a上には、絶縁性樹脂から形成され
る平坦化樹脂4bが設けられている。カラーフィルタ層
4aおよび平坦化樹脂4bは、層間絶縁層4を構成して
いる。層間絶縁層4上には、透光性を有する複数の対向
電極21および表示電極22が、交互にかつそれぞれ平
行に設けられている。層間絶縁層4、対向電極21、お
よび表示電極22のそれぞれ全面上には、配向膜5aが
形成されている。特に断らない限り、図1における偏光
板3から配向膜5aまでの構成をアクティブマトリクス
基板24と表記する。
【0027】透光性を有するガラス支持基板2の表面上
に、配向膜5c、円偏光層8、1/4波長層7、配向膜
5bが、この順序で形成されている。特に断らない限
り、ガラス支持基板2から配向膜5bまでの構成を対向
基板25と表記する。アクティブマトリクス基板24と
対向基板25との間には、液晶層6が挟持されている。
以上の構成をまとめて液晶表示素子1aと表記してい
る。
【0028】液晶表示素子1aにおける支持基板2の裏
面上には、面状光源装置14が設けられている。面状光
源装置14では、支持基板2の側から集光シート9、光
拡散シート10、導光板11、および反射板12がこの
順序で設けられている。そして、反射板11の一方の側
面には光源13がとりつけられている。
【0029】次に図1における各構成要素を説明する。
【0030】アクティブマトリクス基板24において、
カラーフィルタ4aにはコンタクトホール(図示せず)
が設けられており、対向電極21および表示電極22が
それぞれ、TFT素子23の接続電極およびドレイン電
極に電気的に接続されている(図示せず)。対向電極2
1および表示電極22は液晶駆動電極として機能し、液
晶層6に支持基板1の表面と平行な方向に電界を印加す
る。本願明細書において、基板表面と平行な方向を有す
る電界を印加することによって液晶層を駆動する方法を
横電界駆動と表記する。
【0031】上記構成とすることにより、以下のような
機能を持たせることができる。
【0032】まず、面状光源装置14の機能を説明す
る。面状光源装置14の側部に位置する光源13より出
射した光は、導光板11中を反射板12の反射面で反射
しながら伝搬していく。図1に示すように、導光板11
の一方の面は、他方の面に対して傾斜を有している。光
源13からの距離が大きいほど、反射板12に対する光
の反射角度は大きくなる。ガラス支持基板2に入射する
光の量は低下せず、光源から離れた位置においても表示
装置の輝度の低下を生じない。
【0033】反射板12で反射された光は、集光シート
9の裏面に形成された拡散板10に入射し、拡散され
る。その後、集光シート9のプリズム形成層9a内に入
り、特定の入射角で入射した光がプリズムレンズ9bで
平行光化される。このとき、(プリズムの頂角を形成す
る)プリズムレンズ9bを形成する、互いに長さの等し
いストライプ状面9cに入射する光は、入射角が臨界角
以上である場合は全反射され、再び拡散板10側へ回帰
し、導光板11の反射板12により反射される。
【0034】集光シート9のプリズムレンズ9bを透過
する光は平行光化され、液晶表示素子1a内に進入し、
ガラス支持基板2を透過して、円偏光層8内に伝搬す
る。
【0035】次に円偏光層8について説明する。円偏光
層8は、コレステリックフィルタから構成されている。
コレステリックフィルタは、コレステリック規則性を有
する液晶ポリマ材料からなる光学層である。コレステリ
ックフィルタでは、液晶ポリマ材料の分子が溶融状態で
自発的に配列し、ピッチPを有する螺旋構造を形成す
る。液晶ポリマ溶液が、距離が十分に小さい2枚の平行
な基板の間に光学的に能動な薄い層として設けられる
と、螺旋構造の軸は基板平面に対して垂直に配向する。
また、上記両基板の対向面上に適切な配向層を設けるこ
とにより、この螺旋構造を安定化することが出来る。
【0036】また、液晶ポリマ分子の螺旋のピッチは、
上記層中で変化し、該層の一方の面から他方の面にかけ
て連続的に増加している。上記円偏光層8の厚さは、約
3〜40μmの範囲であり、好ましくは、約5〜25μ
mの範囲である。
【0037】偏光されていないビームが上述のような円
偏光層8に入射すると、入射光の成分の内、液晶ポリマ
分子の螺旋の方向に相当する回転方向(左旋性、又は右
旋性)を有する円偏光であって、且つ上記螺旋のピッチ
Pに対応する波長を持つ円偏光は反射される。一方、入
射光の内、液晶ポリマ分子の螺旋方向とは反対の回転方
向を有する円偏光であって、かつピッチPに対応しない
波長を有する円偏光は透過される。
【0038】一方の円偏光成分は、このコレステリック
フィルタによって吸収されることはなく、むしろ反射さ
れる。コレステリックフィルタの反射波長λ0は、 λ0= 1/2(ne+no)P で規定される。ここで、ne、およびnoは、それぞれコ
レステリックフィルタの材料の異常光屈折率、および常
光屈折率であり、Pは液晶ポリマ材料の螺旋ピッチであ
る。
【0039】このように、円偏光層8は特定方向の回転
方向を持った円偏光のみを透過する特性を示す。しかし
ながら、円偏光層8を透過する円偏光であっても、その
一部は反射する。以下では、説明の便宜上、円偏光層8
が透過することが出来る円偏光を右回り円偏光(右円偏
光)とする。円偏光層8を透過出来ずに反射された右偏
光は、面状光源装置14に帰還する。この右偏光は、光
拡散シート10で拡散された後、反射板12で反射され
て液晶表示素子1aの円偏光層8に再び入射する。この
ように、面状光源装置14における反射板12と円偏光
層8との間で反射を繰り返すことで、円偏光層8がほと
んど全ての右円偏光を透過することが可能である。した
がって、光源13が生成する光の利用効率を顕著に向上
させることが可能となる。
【0040】本発明の実施の形態の液晶表示素子1a
は、横電界駆動によって制御される。図1において、配
向膜5aは、アクティブマトリクス基板24の表示電極
22と対向電極配線21の延長方向に対して垂直な方向
から45度の角度の方向に配向処理を施されている。ま
た、配向膜5bは配向膜5aとは逆方向に配向処理され
ている。このため、配向膜5aと5bとの間の液晶分子
は反平行の関係にある。配向膜5cは、配向膜5aに対
して逆方向、もしくは同一方向のどちらに配向処理され
ていてもよい。
【0041】また、配向膜5a、5bおよび5cのそれ
ぞれの配向方向は、対向側基板25に設けられた1/4
波長層7から出射する直線偏光の偏光方向と一致させて
いる。
【0042】更には、アクティブマトリクス基板24の
裏面(視認面側とする)に取付られる偏光板3は、1/
4波長層7から出射する直線偏光の偏光方向と直交する
ように配置されている。
【0043】以上の構成において、表示電極22、およ
び対向電極配線21間に電界を印加しない場合には、液
晶層6に入射する直線偏光に対する液晶層6の見かけの
複屈折率はゼロである。このため1/4波長層7を透過
した直線偏光の偏光方向は、液晶層6によって変化させ
られないので、視認面側の偏光板3によって遮断され
る。液晶分子に十分な強度の電界を印加した場合には、
直線偏光の偏光軸と、液晶分子の長軸方向との間に約4
5度の角度が形成され、液晶層6の見かけの複屈折率は
最大になる。このため、1/4波長層7を透過した直線
偏光は、液晶層6を透過中にほぼ円偏光に変換される。
円偏光の一部は、アクティブマトリクス基板24の視認
面側の偏光板3を透過し、観察者側に伝達され表示画像
を形成する。
【0044】このとき、円偏光層8の光選択性が優れる
場合、視認面側の偏光板3を省略することが可能とな
る。
【0045】横電界駆動で駆動される液晶表示素子は、
TN型等の他の液晶表示素子と比較して、表示画面が暗
いという問題点があった。しかしながら、本実施の形態
において説明する液晶表示素子1aおよび面状光源装置
14の構成を適用することにより、液晶層6への入射光
の利用効率を向上できるので、表示画面の明るさを向上
できる。
【0046】次に、本発明の液晶表示装置の製造方法に
ついて説明する。
【0047】まず、対向側基板25に備わるコレステリ
ック規則性を有する液晶ポリマ材料からなる円偏光層8
の製造方法を説明する。
【0048】ガラス、または透光性を有する樹脂等から
なる2枚の絶縁性基板の表面に、各々ポリイミド樹脂を
スピンコート法等によって塗布し、加熱硬化させ配向膜
5cを得る。この2枚の基板のうち、一方は後に支持基
板2となる。ここで、配向膜5cは、SiOx等をスパッタ
した膜でもよい。
【0049】次に、アクリル樹脂、またはポリアミド
(ナイロン)等を用いて配向膜5cを所定の方向にラビ
ング処理するか、あるいは光照射等による配向処理を行
う。この配向膜5cの付いた2枚の絶縁性基板間の周囲
にスペーサ等を介することにより所定の間隔に配置し
た。
【0050】次に、コレステリック樹脂層として以下に
示す混合物を準備した。まず、60重量%のカイラル成
分Aと40重量%のネマトジェニック成分Bを混合し
た。これらは反応性モノマーである。次いで、0.5重
量%のフォトイニシエータ、50ppmのp−メトキシ
フェノール(安定化剤)、および可視光領域外に極大吸
収波長を有する適量の染料を上記反応性モノマーの混合
物に加えた。この染料を添加することによって、不要な
光が円偏光層8を透過することを防止する。
【0051】反応性モノマーのうち、成分Aは1分子当
たり2つの反応性アクリル基を有し、成分Bは1分子当
たり1つの反応性アクリル基を有する。1分子当たりの
反応官能基の数が異なる故に、両モノマは異なる反応性
を有している。また、混合物に加えた染料は、334n
m付近で吸収極大を呈し、31524I/(mol・c
m)の吸収光係数を有する。
【0052】上記のように調整した混合物を、配向膜が
形成された上記基板間に注入した。
【0053】混合物中の液晶性を有するネマトジェニッ
ク成分の配列は自発的に螺旋構造を有する。配向層5c
はコレステリック混合物中に自然に形成される分子螺旋
を配向するために用いられる。
【0054】コレステリック樹脂層の不連続性の形成を
阻止するために、両基板を平面性が得られるまで短い距
離に渡ってせん断した。次いで、上記反応性混合物を室
温において、8分間紫外線光を照射し光重合させた。前
記2つの反応性モノマの内の一方は1分子当たり2つの
反応性基を有しているので、光重合反応の間に3次元的
重合網を形成する。このようにして形成された光学層
(円偏光層8)の強度により、円偏光層8は両支持基板
から取り外すことができ、自己支持型のコレステリック
型円偏光層8として使用できる。本実施の形態では一方
の支持基板を取り外さずに、円偏光層8が形成された支
持基板2として利用した。このため、図1に示すよう
に、円偏光層8と支持基板2の間には配向膜5cが残存
している。
【0055】更に、上記支持基板2の円偏光層8上に液
晶性高分子を所定の厚さで塗布した。直線偏光されたU
V光をこの膜に照射して、光の偏光軸に沿った光学軸を
有する、1/4波長分の位相差層を設ける。この上に配
向膜5bをスピンコート法で塗布した後、ラビング法ま
たは光照射法によって配向処理を行う。
【0056】上記のように、対向基板25が形成され
る。
【0057】次に、アクティブマトリクス基板24の製
造方法を説明する。絶縁性を有する第1の支持基板1上
に、スッパタ、CVD等により金属膜、半導体薄膜等を
順次積層し、各々の膜をフォトリソグラフィ工程、およ
びドライエッチングまたはウエットエッチング等により
処理して、パターン形成を行うことによって薄膜トラン
ジスタ(TFT素子23)を形成する。この薄膜トラン
ジスタの形成面に、カラーフィルタのR、G、Bのいず
れかに対応する色を持つ顔料が分散された感光性を有す
る樹脂シートを支持基板1に張り合わせる。次に、この
樹脂シートを加熱し第1の支持基板1に密着させた後、
フォトリソグラフィ工程、又は、ドライエッチング法に
よって、各画素に対応したドットパターンに形成した。
この行程を各色について繰り返し行うことにより、R,
G,Bパターンを順次形成しカラーフィルタ4aを得
た。さらに、光透過性のある平坦化樹脂4bを上層に形
成した。次に、ドライエッチングによって、ドレイン電
極と接続するためのコンタクトホール(図示せず)を各
画素毎に形成した。
【0058】上記カラーフィルターのR,G,Bドッ
ト、及び平坦化膜に用いられた樹脂として、何れも絶縁
性に優れた有機系絶縁膜を用いた。有機系絶縁膜は、絶
縁性有するものであれば特に限定されるものではない
が、アクリル系樹脂、フッ素系樹脂等が好ましい。
【0059】このように形成した有機系絶縁膜上に表示
電極22、および対向電極配線21をTFT素子23形
成時と同様のプロセスで形成する。さらに表示電極2
2、および対向電極配線21が形成された面上に配向膜
5aを塗布し、ラビング等による配向処理を行う。この
ときの配向方向は、対向側基板25における配向膜5b
の配向方向と反平行になるように配向処理を行う。以上
の手順で、アクティブマトリクス基板24は形成され
る。
【0060】上記のようにして形成された対向基板25
およびアクティブマトリクス基板を張り合わせ、基板間
に液晶材料を注入し狭持することによって、液晶表示素
子1aを形成した。
【0061】この液晶表示素子1aの裏面に、図1に示
すように集光シート9、光拡散シート10、導光板11
および反射板12を設け、さらに導光板11の側面に光
源13を備えることで面状光源装置14を形成した。こ
こで、該集光シート9の裏面に拡散層を作り込むことに
よって、光拡散シート10を省略できる。また、導光板
11の裏面に金属薄膜等の全反射面を形成することによ
って、反射板12を省略できる。以上の手順によって本
発明の実施の形態における液晶表示装置を形成した。
【0062】上記液晶表示素子1aは、横電界によって
液晶を駆動する構造に限らず、TN型液晶表示素子等で
あってもよい。
【0063】また、光の拡散性を利用したGH型液晶表
示素子、PDLC型液晶表示素子であってもよく、この
場合偏光板を全く使用する必要がなく、部材点数の更な
る削減が可能である。
【0064】本実施の形態で説明した面状光源装置14
では、光源13は面状光源装置14の側部に設けられた
エッジライトであるが、このようなエッジライトの代わ
りに、光拡散シート10と反射板12との間に設けられ
た発光素子を利用することもできる。例えば、このよう
な発光素子としてはU字型の形態の蛍光管発光素子が利
用できる。
【0065】
【発明の効果】本発明の液晶表示装置では、円偏光層8
と面状光源装置14における反射板11との間で反射を
繰り返すことにより、円偏光層8を透過する光を増加す
ることが出来る。このため、光利用効率を高めることが
でき、表示画面の輝度を著しく向上させることができ
る。
【0066】本発明の液晶表示装置では、1対の偏光板
および検光板の双方を省略した構成、または、視認面側
に偏光板のみを設ける構成で動作するので、光学部材の
部品点数を削減することが可能となり、製造コストの削
減を可能にする。
【0067】更に、液晶表示素子を液晶層を横電界駆動
する方式の構造とした場合、アクティブマトリクス基板
側に、表示電極および対向電極の双方を設けることが出
来るので、素子の製造プロセスにおいて、円偏光層およ
び位相差層が形成された対向基板は、導電性薄膜を形成
する際に必要となる高温加熱工程を経る必要がない。こ
のため、円偏光層、位相層の光学的特性の熱による劣化
を防ぐことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態の液晶表示装置の構成を示す
平面図である。
【図2】従来の液晶表示装置を示す断面図。
【符号の説明】
1、2 支持基板 3 偏光板 4 カラーフィルタ 5a、5b、5c 配向膜 6 液晶層 7 1/4波長板 8 円偏光反射層 9 集光シート 10 光拡散シート 11 導光板 12 反射板 13 光源 14 面状光源装置 24 アクティブマトリクス基板 25 対向基板

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1および第2の基板と、該第1の基板
    と該第2の基板とに挟持された液晶層とを備え、該第1
    の基板は、第1の支持基板と、該第1の支持基板の該液
    晶層に相対する面側に少なくとも円偏光層と配向膜とを
    この順序で備えている液晶表示装置。
  2. 【請求項2】 前記第1の基板は、さらに前記円偏光層
    と前記配向膜との間に位相差層を備えている請求項1に
    記載の液晶表示装置。
  3. 【請求項3】 前記第1の基板は、さらに集光シート、
    光拡散シート、導光板、および反射板を備えている請求
    項1または請求項2に記載の液晶表示装置。
  4. 【請求項4】 前記光拡散シートは、前記集光シートと
    導光板との間に設けられている請求項3に記載の液晶表
    示装置。
  5. 【請求項5】 前記第2の基板は、前記液晶層に、該第
    2の基板の面に平行な電界を印加する手段を有する請求
    項1から4のいずれかに記載の液晶表示装置。
  6. 【請求項6】 前記円偏光層は、コレステリック樹脂層
    から形成されている請求項1から5のいずれかに記載の
    液晶表示装置。
  7. 【請求項7】 請求項6に記載の液晶表示装置の製造方
    法であって、二枚の支持基板間の各々に配向膜を積層
    し、該基板間に高分子液晶を注入し特定の波長の光を選
    択的に反射する円偏光層を形成する工程を包含する液晶
    表示装置の製造方法。
  8. 【請求項8】 前記二枚の支持基板のうち一方を取り去
    り、露出した前記円偏光層上に少なくとも位相層を積層
    して前記第2の基板を形成する工程を包含する請求項7
    に記載の液晶表示装置の製造方法。
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