JP4363027B2 - 液晶表示装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置に関し、特には液晶層を狭持する基板間に位相差層を設けてなる液晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、パーソナルコンピュータ向けのディスプレイとしては、バックライトを用いて表示を行う透過型液晶ディスプレイが主流であったが、近年では、Personal Digital Assistant(PDA)や携帯電話等のモバイル用電子機器向けの表示装置の需要が急激に高まっており、透過型の液晶表示装置に比べて低消費電力化が可能な反射型液の晶表示装置が注目されている。この反射型の液晶表示装置は、外部からの入射光を反射板で反射させて表示を行うものであり、バックライトが不要であるためにそのぶんの消費電力が節約され、透過型液晶表示装置を採用した場合に比べて電子機器の長時間駆動を可能とするといった利点がある。
【0003】
ところで、反射型の液晶表示装置においては、十分なコントラストを得るために、偏光板と共に位相差板を組み合わせて表示を行う。この位相差板は、原理的にはλ/4の位相差があれば良いが、波長分散特性を解消するためにλ/2の位相差を有する位相差板と組み合わせて2層構造にして広帯域としている。しかしながら、位相差板として用いられるフィルムは高価であり、また、厚さも数十μmなので、携帯向けの製品においての薄型化を妨げる要因になっている。そこで、この位相差層を、液晶セル内部に作り込む検討がなされている。
【0004】
この場合、例えば、下記特許文献1に示されるように、液晶ポリマーからなる位相差層を液晶層に臨む基板面上に形成し、この位相差層の上部に液晶駆動用の透明電極を設けた構成となっている。
【0005】
【特許文献1】
特許第3204260号公報(第7−第8頁、図5、図6)
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、液晶セル内に設けられる位相差層は、液晶ポリマーを用いて構成されるため吸湿性が高く、位相差層に吸湿された水分は時間経過と共に液晶層側に供給される。また、この位相差層を、UV硬化型の液晶ポリマーで構成した場合、位相差層中には、当該位相差層を形成する際に添加された重合開始剤が残され、この重合開始剤も時間経過と共に液晶層側に供給される。そして、以上のような、水分や重合開始剤の液晶層への供給は、液晶層における電圧保持特性の劣化を招く要因になっている。
【0007】
そこで本発明は、液晶セル内に位相差層を設けた構成であっても、液晶層の劣化を防止して信頼性の向上を図ることが可能な液晶表示装置を提供する。
【0008】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するための本発明は、第1基板と第2基板との間に狭持された液晶層と、第1基板における液晶層側の面上に設けられた位相差層と、この位相差層の上部に設けられた液晶駆動用の透明電極とを有する液晶表示装置において、透明電極と位相差層との間に、位相差層を覆う保護膜を設けたことを特徴としている。
【0009】
このような構成では、保護膜がバリアとなり、位相差層に含まれている水分等の物質が液晶層に供給されることを防止でき、これらの物質による液晶層の劣化が防止される。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を適用した液晶表示装置の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【0011】
<第1実施形態>
図1には、第1実施形態の液晶表示装置として、反射型の液晶表示装置1の断面構成図を示す。
【0012】
この図に示す液晶表示装置1は、例えばTFT(Thin Film Transistor)等の駆動用素子(図示省略)が形成されたTFT基板10と、このTFT基板10の素子形成面側に対向配置された対向基板20とを備えており、これらのTFT基板10−対向基板20間に液晶層30が狭持され、また対向基板20の外側面には偏光板40が密着状態で設けられている。
【0013】
そして、TFT基板10は、その液晶層30に向かう面(内側面)上に、素子を覆う層間膜11を介して、反射電極12および配向膜13がこの順に設けられている。この、配向膜13は、偏光板40の透過軸に対して所定の角度(例えば45°)をなすように配向処理されていることとする。
【0014】
一方、対向基板20は、ガラス基板のような透明基板からなる。そして、この対向基板20の液晶層30に向かう面(内側面)には、カラーフィルタ21,21,…、位相差層用の配向膜22、位相差層23、さらには保護膜24を介して透明電極25および配向膜26がこの順に設けられている。
【0015】
このうち、カラーフィルタ21,21,…は、R(赤)、G(緑)、B(青)各色のカラーフィルタであり、画素毎にパターン形成されている。
【0016】
そして、位相差層用の配向膜22は、液晶ポリマーからなる位相差層23を配向させるために設けられた層であり、偏光板40の透過軸に対して所定の角度(例えば45°)をなすと共に、TFT基板10の配向膜13の配向方向に対して所定の角度(例えば平行)をなすように配向処理されている。
【0017】
また、位相差層23は、液晶ポリマーからなるもので、その遅相軸が、偏光板40の透過軸に対して所定の角度(例えば45°)をなすと共に、TFT基板10の配向膜13の配向方向に対して所定の角度(例えば平行)をなして設けられ、さらに所定の位相差(例えばλ/4)となるように膜厚が調整されている。
【0018】
このような位相差層23の形成は、配向処理された位相差層用の配向膜22上に、ネマチック相を示すUV硬化性の液晶モノマを塗布し、アニール処理によって配向させた後、UV光の照射によってこの液晶モノマを光重合させることによって行う。この場合、位相差相23は、対向基板20の全面に形成されることになる。なお、液晶モノマには、光重合開始剤等を含有させておくことが好ましい。
【0019】
そして、特に本発明で特徴的な構成要素である保護膜24は、位相差層23の露出面の全面を覆う状態で設けられていることとする。この保護膜24は、吸湿性が低く、かつ光透過性に優れた材料を用いて構成されることとし、無機物または有機物で構成される。このような保護膜24を構成する無機物としては、例えば酸化シリコン(SiO2)、を例示することができる。また保護膜24を構成する有機物としては、アクリル系透明樹脂等の熱重合性の有機物が特に好ましく用いられる
【0020】
さらに、この保護膜24は、位相差層23を構成する材料の膨張係数と、透明電極25を構成する材料の膨張係数との間の膨張係数を有する材料を用いて構成されることが好ましく、特に位相差層23と同程度の膨張係数であればより好ましい。
【0021】
また透明電極25は、ITO(Indium Tin Oxide)のような光透過性に優れた導電性材料を用いて構成されていることとする。このような透明電極25は、ITOなどの透明電極材料を蒸着またはスパッタ成膜後、低抵抗化と透過率の向上を目的としたアニール処理を行うことで形成する。
【0022】
さらに配向膜26は、偏光板40の透過軸に対して所定の角度(例えば45°をなすと共に、TFT基板10側の配向膜13と所定の角度(例えば平行でアンチパラレル)となるように配向処理されていることとする。
【0023】
そして、液晶層30は、電圧を印加しない状態において、当該液晶層30を光が1度通過する場合に所定の位相差(例えばλ/4)を有するように、その厚み(いわゆるギャップ)が設定されていることとする。
【0024】
なお、上述した第1実施形態においては、対向基板20の内側面に位相差層23および透明電極25が設けられていることから、この対向電極20が請求項に示す第1基板となり、TFT基板10が請求項に示す第2基板となる。
【0025】
このように構成された液晶表示装置1においては、偏光板40の透過軸に対して、位相差層23の遅相軸、配向膜26および配向膜13の配向方向が所定の角度をなすように光学設計することにより、反射電極12をON−OFFすることで、偏光板40側から入射してTFT基板10の反射電極12で反射した光(周囲光)の偏光板40からの取り出しが制御されるようになり、偏光板40側からの画像表示を行うことができる。
【0026】
例えば、上述したカッコ書きの一例のように光学設計された液晶表示装置では、液晶層30に電圧を印可しない状態では、偏光板40側から入射した周囲光は、偏光板40の透過軸に一致した直線偏光となって位相差層23に入射して円偏光とされ、さらに液晶層30により直線偏光に変換されて反射電極12に到達し、この反射電極12で進行方向を反転された直線偏光は再び液晶層30を通過して円偏光とされ、この円偏光は再び位相差層23を通過して偏光板40の透過軸と平行な直線偏光となって偏光板40を通過し、明表示となる。
【0027】
一方、液晶層30に電圧を印可した状態では、偏光板40側から入射した周囲光は、偏光板40および位相差層23を通過することで円偏光とされるが、その後、液晶層30でその偏光状態を殆ど維持したまま反射電極12に到達し、この反射電極12で回転方向が逆転した円偏光が、再び液晶層30、位相差層23を通過することで偏光板40の透過軸と直交する直線偏光に変換され、偏光板40によって吸収され、暗表示となる。
【0028】
そして、このような第1実施形態の液晶表示装置1においては、特に、位相差層23を保護膜24で覆った構成としている。これにより、液晶ポリマーのような吸湿性の高い材料からなる位相差層23を、液晶セル内(すなわちTFT基板10−対向基板20間)に設けた場合であっても、保護膜24がバリアとなり、位相差層24に含まれている水分等の物質が、液晶層30に供給されることを防止できる。特に、位相差層23の端部が、対向基板20の周縁に設けられた液晶相30の封止部(図示省略)から外側に露出している場合、この部分からの吸湿により位相差層23内に水分が取り込まれるが、このように位相差層23に取り込まれた水分が、液晶層30側に供給されることを防止できる。
【0029】
同様に、位相差層23がUV硬化性の液晶モノマを光重合させてなるもので、その内部に光重合開始剤等が含有されている場合、このような物質が液晶層30に供給されることも防止できる。
【0030】
したがって、水分や光重合開始剤等の供給による液晶層30の電圧保持率の低下を防止することが可能になる。また、無機物や熱硬化性の有機物のようなバリア性の高い材料で保護膜24を形成することにより、上述した効果をさらに確実にすることができる。
【0031】
また、位相差層23の上部には保護膜24を介して透明電極25が設けられるため、上述したように、保護膜24の膨張係数を位相差層23と保護膜24との間の値とすることで、保護膜24を緩衝層とすることができる。つまり、透明電極25を形成する際のアニール処理の際に、透明電極25と位相差層23との間に生じる応力が、保護膜24によって吸収されるようになるのである。したがって、上記応力による位相差層23の劣化、具体的にはリタデーションの低下を防止することが可能になる。
【0032】
<第2実施形態>
図2には、第2実施形態の液晶表示装置の断面構成図を示す。この図に示す液晶表示装置1aと、図1を用いて説明した第1実施形態の液晶表示装置1と異なるところは、位相差層が広帯域λ/4層として構成されている点にあり、その他の構成は同様であることとする。なお、図2においては、図1の液晶表示装置1と同様の構成については同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。
【0033】
すなわち、本第2実施形態の液晶表示装置1aにおいては、第1実施形態の液晶表示装置1におけるカラーフィルタ21,21,…上に、位相差層用の第1配向膜22a、第1位相差層23a、位相差層用の第2位配向膜22b、および第2位相差層23bがこの順に積層され、この上部が保護膜24で覆われている。
【0034】
このうち、第1位配向膜22aは、液晶ポリマーからなる第1位相差層23aを配向させるために設けられた層であり、また第2位配向膜22bは液晶ポリマーからなる第1位相差層23bを配向させるために設けられた層である。また、第1位相差層23aはλ/2の位相差を有し、第2位相差層23bはλ/4の位相差を有有することとする。
【0035】
そして、これらの第1配向膜22a、第1位相差層23a、第2位配向膜22b、および第2位相差層23bは、第1位相差層23aと第2位相差層2bとを組み合わせて光帯域λ/4層が構成されるように光学設計されていることとする。つまり、λ/4の位相差を有する第2位相差層23bの波長分散を、λ/2の位相差を有する第1位相差層23aで補償する構成とする。これにより、第1実施形態の液晶表示装置1との比較において、暗表示を行う場合に広帯域で波長分散による光漏れを解消し、さらに良好な画像表示が実現される。
【0036】
そして、以上のように構成された液晶表示装置1aであっても、第1実施形態の液晶表示装置1と同様に、第1位相差層23aおよび第2位相差層23bが保護膜24で覆われ、かつこの保護膜24を介して透明電極25が配置されているため、第1実施形態の液晶表示装置1と同様の効果を得ることができる。
【0037】
<第3実施形態>
図3には、第3実施形態の液晶表示装置として、半透過反射型の液晶表示装置1の断面構成図を示す。この図に示す液晶表示装置1bと、図1および図2を用いて説明した液晶表示装置1,1aと異なるところは、反射表示部Aと共に透過表示部Bが形成されている点にある。なお、図3においては、図1および図2の液晶表示装置1と同様の構成については同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。
【0038】
図3に示す液晶表示装置1bは、1つの画素にそれぞれ反射表示部Aと透過表示部Bとが設けられている。
【0039】
このような液晶表示装置1bにおいて、各画素の反射表示部Aの構成は、第1実施形態または第2実施形態と同様であることとする。ただし、本実施形態においては、位相差層を光帯域のλ/4層とした第2実施形態と同様の例を示した。また、TFT基板10は、ガラスのような透明基板上に素子を形成したものであることとする。
【0040】
一方、透過表示部Bについては、対向基板20の内側面上の膜構成、および外側面に設けられた偏光板40の構成は、第2実施形態(または第1実施形態)と同様であることとする。
【0041】
これに対して、透過表示部BのTFT基板10の内側面には、透明電極15を介して配向膜13が設けられている。ただし、透明電極15は、TFT基板10の素子を覆う層間膜(図示省略)を介して、TFT基板10上に設けられていることとする。そして、この層間絶縁膜の膜厚は、反射表示部Aの層間絶縁膜11の膜厚に対して調整されていることとする。これにより、反射表示部Aにおいては、液晶層30に電圧を印加しない状態において、当該液晶層30を光が1度通過する場合に所定の位相差(例えばλ/4)を有するように液晶層30の厚みが設定される一方、透過表示部Bにおいては、液晶層30に電圧を印加しない状態において、当該液晶層30を光が1度通過する場合に所定の位相差(例えばλ/2)を有するように液晶層30の厚みが設定される。
【0042】
そして、このTFT基板10の外側の面には、透過表示部Bのみに必要となる位相差板41,42および偏光板43が、TFT基板10側から順に密着配置されている。そしてさらに、偏光板43の外側には透過表示のためのバックライト(図示省略)が設けられている。なお、位相差板41,42は、光帯域λ/4板を構成していることとする。
【0043】
このように構成された液晶表示装置1bにおいては、反射表示部Aでの画像表示は、第1実施形態および第2実施形態と同様に行われる。一方、透過表示部Bにおいては、偏光板40の透過軸に対して、第1位相差層23aおよび第2位相差層23bの遅相軸、配向膜26および配向膜13の配向方向、位相差板41,42の遅相軸、さらには偏光板43の透過軸が所定の角度をなすように光学設計することにより、透明電極15をON−OFFすることで、偏光板43側から入射した光(バックライト光)の偏光板40からの取り出しが制御されるようになり、偏光板40側からの画像表示を行うことができる。
【0044】
そして、以上のように構成された液晶表示装置1bであっても、第1実施形態の液晶表示装置1および第2実施形態の液晶表示装置1aと同様に、液晶セル内(すなわちTFT基板10−対向基板20間)に設けられた第1位相差層23aおよび第2位相差層23bが保護膜24で覆われ、かつこの保護膜24を介して透明電極25が配置されているため、第1実施形態の液晶表示装置1と同様の効果を得ることができる。
【0045】
なお、本第3実施形態で説明した半透過反射型の液晶表示装置1bは、偏光板40の透過軸に対しての、第1位相差層23aおよび第2位相差層23bの遅相軸、配向膜26および配向膜13の配向方向、さらには偏光板43の透過軸の設定によっては、TFT基板10の外側に位相差板41,42を設けなくても、偏光板40側からの画像表示を同様に行うことができる。同様に、偏光板40の透過軸に対しての、配向膜26および配向膜13の配向方向、さらには偏光板43の透過軸の設定によっては、第1位相差層23aおよび第2位相差層23bを設けなくても、偏光板40側からの画像表示を同様に行うことができる。
【0046】
また、以上説明した各実施形態においては、カラーフィルタ21上に位相差層23,23a,23bを設けた構成を説明した。これにより、R,G,B各色のカラーフィルタ21をパターン形成する場合のリソグラフィーの影響が、光硬化性の液晶ポリマーからなる位相差層23,23a,23bに対して及ぶことを防止できる。しかし、このようなリソグラフィーの影響を考慮する必要のない場合には、位相差層23,23a,23bの上部にカラーフィルタ21を設けても良い。この場、保護膜24は、位相差層23,23a,23bの直上、およびカラーフィルタ21の上部の少なくとも一方に設けられることとする。
【0047】
さらに、以上の各実施形態においては、対向基板20を第1基板とし、この対向基板20側に位相差層23が設けられている構成の液晶表示装置を例示した。しかし、本発明は、図4に示すように、TFT基板10を第1基板とし、このTFT基板10側に位相差層23が設けられている構成の液晶表示装置1cに対しても、同様に適用可能であり、同様の効果を得ることができる。
【0048】
この場合、図面に示す反射表示部においては、反射電極12上に位相差層用の配向膜22、位相差層23および保護膜24をこの順に設け、配向膜13で覆う構成とする。
【0049】
またこの場合、保護膜24と配向膜13との間に、さらに液晶駆動用の透明電極15を設けると共に、TFTに接続された反射電極12を透明電極15に接続させるためのプラグ16を設ける。このプラグ16を形成するための接続孔の形成に際しては、例えば保護膜24をSiO2などの無機膜で構成し、この上部にリソグラフィー工程で形成したレジストパターンを形成し、これをマスクに用いて保護膜24〜位相差層用の配向膜22をエッチングすることによって形成される。さらに、保護膜24に対しては、ポジ型のレジストを用いた保護膜24とすることで、リソグラフィー工程を施すことによって接続孔を形成しても良い。また、位相差層23に対しては、位相差層23がネガ型レジストとしても用いられるものであれば、リソグラフィー工程を施すことによって接続孔を形成しても良い。
【0050】
なお、この液晶表示装置1cが、単純マトリックスである場合には、反射電極12を反射層として用い、保護膜と配向膜13との間に液晶駆動用の透明電極を設けても良い。
【0051】
また、図4においては、位相差層23が1層である場合を例示したが、図2を用いて説明した液晶表示装置1aと同様に2層構造の位相差層を設けた構成にも同様に適用可能である。また、図4においては、反射表示部のみを図示したが、図3を用いて説明した液晶表示装置1bと同様に、反射表示部と透過表示部とを備えた構成にも同様に適用可能である。
【0052】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の液晶表示装置によれば、液晶セル側に臨む基板面上に設けられた位相差層を保護膜で覆い、この保護膜上に透明電極を設けた構成とすることで、保護膜がバリアとなり、位相差層に吸湿された水分や位相差層に含有されている物質が液晶層に供給されることを防止でき、これらの物質による液晶層の劣化を防止することができる。これにより、液晶表示装置の信頼性の向上を図ることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施形態の液晶表示装置の断面構成図である。
【図2】第2実施形態の液晶表示装置の断面構成図である。
【図3】第3実施形態の液晶表示装置の断面構成図である。
【図4】本発明の液晶表示装置の他の構成を示す断面工程図である。
【符号の説明】
1,1a,1b,1c…液晶表示装置、10…TFT基板、12…反射電極、20…対向基板、21,21,21…カラーフィルタ、22…配向膜、22a…第1配向膜、22b…第2配向膜、23…位相差層(λ/4)、23a…第1位相差層(λ/2)、23b…第2位相差層(λ/4)、24…保護膜、25…透明電極、30…液晶層

Claims (7)

  1. 対向配置された第1基板および第2基板と、これらの第1基板と第2基板との間に狭持された液晶層と、前記第1基板における液晶層側の面上に設けられた位相差層と、当該位相差層の上部に設けられた配向膜と、前記第1基板または第2基板に設けられたカラーフィルタとを有する液晶表示装置において、
    前記配向膜と前記位相差層との間に、当該位相差層を覆う保護膜が設けられており、
    前記位相差層は、液晶ポリマーからなり、前記第1基板上に前記配向膜とは別の配向膜を介して設けられている
    ことを特徴とする液晶表示装置。
  2. 請求項1記載の液晶表示装置において、
    前記配向膜と前記保護膜との間に、液晶駆動用の透明電極が設けられている
    ことを特徴とする液晶表示装置。
  3. 請求項1記載の液晶表示装置において、
    前記保護膜は、無機物または有機物からなる
    ことを特徴とする液晶表示装置。
  4. 請求項3記載の液晶表示装置において、
    前記保護膜は、熱重合性の有機物からなる
    ことを特徴とする液晶表示装置。
  5. 請求項1記載の液晶表示装置において、
    前記位相差層は、前記第1基板上にカラーフィルタを介して設けられている
    ことを特徴とする液晶表示装置。
  6. 請求項1記載の液晶表示装置において、
    前記位相差層は、λ/4の位相差を備えた
    ことを特徴とする液晶表示装置。
  7. 請求項1記載の液晶表示装置において、
    前記第2基板における前記液晶層側の面上に、反射電極が設けられている
    ことを特徴とする液晶表示装置。
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