JP2003233995A - 不揮発性半導体メモリ装置及びそれの消去、プログラム及びコピーバックプログラム方法 - Google Patents
不揮発性半導体メモリ装置及びそれの消去、プログラム及びコピーバックプログラム方法Info
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Abstract
去、プログラム、及びコピーバックプログラム方法を提
供する。 【解決手段】本発明によるNANDフラッシュメモリ装
置は、第1ラッチと第2ラッチを有するページバッファ
にプログラムデータをローディングするデータローディ
ング回路を含む。プログラムデータをローディングする
間、データローディング回路は入力されるプログラムデ
ータが欠陥列に対応する場合は、予め格納された欠陥列
アドレス情報を利用して前記欠陥列に対応するページバ
ッファに入力プログラムデータに代えてパスデータをロ
ーディングする。このようなデータローディング方式に
よると、欠陥列のデータがプログラム検証結果に影響を
及ぼさないように、ヒューズを使わず、プログラム検証
のためのパス/フェイルチェック回路を実現することが
可能である。
Description
関するものである。さらに具体的には、本発明はプログ
ラム、消去、またはコピーバック(copy−back
program)モード時に、ページバッファにラッ
チされるデータビットがパスデータビットであるか否か
を判別するための検証スキーム及びそれの方法に関する
ものである。
のNANDフラッシュメモリ装置はページバッファ回路
を有し、ページバッファ回路が多様な機能を実行する。
例えば、選択されたページのメモリセルからデータを読
み出そうとする場合に、ページバッファ回路は、選択さ
れたページのデータ(以後、“ページデータ”という)
を感知して、その感知したページデータをラッチする。
これは“感知動作”(sense operatio
n)と呼ばれる。選択されたページのメモリセルにデー
タをプログラムしようとする場合に、ページバッファ回
路は、外部から提供されるプログラムデータを一時的に
格納する。これは“データローディング動作”(dat
a loading operation)と呼ばれ
る。ページバッファ回路は、プログラム禁止セルまたは
プログラムが完了したセルがプログラムされないように
する。プログラム/消去されたセルが目標しきい電圧
(target threshold voltag
e)を有するか(またはプログラム/消去されたセルが
十分にプログラム/消去されたか)否かを確認するため
の検証動作を実行する場合に、ページバッファ回路は感
知動作のように、選択されたページのメモリセルのデー
タビットを感知してラッチする。ラッチしたデータビッ
トがパスデータビットであるか否かを判別するために、
ページバッファ回路は、そのようにラッチされたデータ
ビットを外部への出力なしに、パス/フェイルチェック
回路(pass/fail check circui
t)に提供する。
例が米国特許第5,709,458号公報に“Sens
e Amplifier For Nonvolati
leSemiconductor Memory De
vice”というタイトルで、米国特許第5,761,
132号公報に“Integrted Circuit
Memory Devices With Latc
h−Free Page Buffers There
in For Preventing Read Fa
ilures”というタイトルで、そして米国特許第
5,712,818号公報に“Data Loadin
g Circuit For Partial Pro
gram Of Nonvolatile Semic
onductor Memory”というタイトルで各
々開示されている。
路を示す回路図である。図9を参照すると、ページバッ
ファ回路10は一対のビットラインBLe、BLoに連
結されている。ビットラインBLeと感知ノードSOと
の間にはNMOSトランジスタM1が連結されており、
NMOSトランジスタM1は制御信号BLSHFeによ
って制御される。ビットラインBLoと感知ノードSO
との間にはNMOSトランジスタM2が連結されてお
り、NMOSトランジスタM2は制御信号BLSHFo
によって制御される。ビットラインBLeと制御信号ラ
インVIRPWRとの間にはNMOSトランジスタM3
が連結され、ビットラインBLoと制御信号ラインVI
RPWRとの間にはNMOSトランジスタM4が連結さ
れている。NMOSトランジスタM3、M4は制御信号
VBLe、VBLoによって各々制御される。上述した
トランジスタM1〜M4はビットライン選択及びバイア
ス回路を構成し、このようなビットライン選択及びバイ
アス回路はプログラム/読み出し動作時に、ビットライ
ンBLe、BLoのうちのいずれか一つを選択し、選択
したビットラインを感知ノードSOに連結し、非選択の
ビットラインをフローティング状態にする。
はPMOSトランジスタM5が連結され、トランジスタ
M5は制御信号PLOADによって制御される。ページ
バッファ回路10は第1ラッチLAT1と第2ラッチL
AT2を含む。第1ラッチLAT1はラッチを形成する
インバーターINV1、INV2で構成され、第1及び
第2ラッチノードB、Bバーを有する(”バー”は、図
面では文字の上に線を付して示されている)。第2ラッ
チLAT2はラッチを形成するインバーターINV3、
INV4で構成され、第1及び第2ラッチノードA、A
バーを有する。電源電圧VCCと第1ラッチLAT1の
第2ラッチノードBバーとの間にはPMOSトランジス
タM6が連結され、トランジスタM6は制御信号PBR
STによって制御される。第2ラッチノードBバーと接
地電圧VSSとの間にはNMOSトランジスタM7、M
8が直列連結され、NMOSトランジスタM7、M8は
感知ノードSOの電圧レベルと制御信号PBLCHMに
よって各々制御される。PMOSトランジスタM9は電
源電圧VCCとnWDO端子との間に連結され、第1ラ
ッチノードBのロジック状態に従ってターンオン/オフ
される。nWDO端子はパス/フェイルチェック回路
(図10参照)に電気的に連結される。nWDO端子の
ロジックレベルは第1ラッチノードBと相補的である。
例えば、第1ラッチノードBがローレベルを有すれば、
nWDOノードはハイレベルを有するように電源電圧V
CCに電気的に連結される。第1ラッチノードBがハイ
レベルを有すれば、nWDOノードはフローティング状
態を有するように電源電圧VCCから電気的に分離され
る。
ンジスタM10は制御信号BLSLTによってターンオ
ン/オフされ、感知ノードSOと第1ラッチLAT1の
第1ラッチノードBとの間に連結されている。内部ノー
ドND1と第1ラッチノードBとの間にはNMOSトラ
ンジスタM11が連結され、トランジスタM11は制御
信号PBDOによってターンオン/オフされる。PMO
SトランジスタM12は電源電圧VCCと第2ラッチL
AT2の第1ラッチノードAとの間に連結され、制御信
号PBSETによってターンオン/オフされる。NMO
SトランジスタM13は第1ラッチノードAと感知ノー
ドSOとの間に連結され、制御信号PDUMPによって
制御される。第1ラッチノードAと接地電圧VSSとの
間にはNMOSトランジスタM14、M15が直列連結
される。NMOSトランジスタM14は感知ノードSO
のロジック状態に従って制御され、NMOSトランジス
タM15は制御信号PBLCHCによって制御される。
第2ラッチLAT2の第2ラッチノードAバーと内部ノ
ードND1との間にはNMOSトランジスタM16が連
結され、 第2ラッチLAT2の第1ラッチノードAと
内部ノードND1との間にはNMOSトランジスタM1
7が連結されている。NMOSトランジスタM16、M
17は相補的なレベルを有するデータ信号DIi、nD
Iiによって各々制御される。
ログラムデータビットが“1”である場合に、例えば、
データ信号DIiはロジックハイレベルを有し、データ
信号nDIiはロジックローレベルを有する。内部ノー
ドNDIは列パスゲート回路を構成するNMOSトラン
ジスタM18、M19を通じてデータラインDLiに連
結される。NMOSトランジスタM18、M19は列選
択信号YA、YBによって各々制御される。データライ
ンDLiと接地電圧VSSとの間にはNMOSトランジ
スタM20が連結され、トランジスタM20は制御信号
DL_DISによってターンオン/オフされる。
ANDフラッシュメモリ装置は、プログラム、消去、コ
ピーバックプログラム、及び読み出しモードを備えてい
る。以下、図9に示したページバッファを利用したプロ
グラム、読み出し、及びコピーバックプログラム動作を
説明する。ここで、コピーバックプログラム動作とは、
任意のページに格納されたデータを他のページに格納す
ることを意味する。コピーバックプログラム動作は米国
特許第5,996,041号公報に“INTEGRAT
ED CIRCUIT MEMORY DEVICES
HAVINGPAGE FLAG CELLS WH
ICH INDICATE THETRUEOR NO
N−TRUE STATE OF PAGE DATA
FLAG CELLS WHICH INDICAT
E THE TRUE ORNON−TRUE STA
TE OF PAGE DATA THEREINAN
D METHODS OF OPERATING TH
E SAME”というタイトルで開示されており、その
開示内容は本明細書の開示の一部とする。
DIiに従って第2ラッチLAT2にロードされる。例
えば、プログラムデータが“1”である場合に、データ
信号DIiはロジックハイレベルを有し、データ信号n
DIiはロジックローレベルを有する。これはNMOS
トランジスタM16をターンオンさせ、NMOSトラン
ジスタM17をターンオフさせる。これと同時に、NM
OSトランジスタM18、M19が列選択信号YA、Y
Bによってターンオンされ、その結果、第2ラッチノー
ドAバーはターンオンされたトランジスタM18、M1
9を通じてデータラインDLiに連結される。ここで、
プログラムデータをロードする場合に、データラインD
LiはNMOSトランジスタM20を通じて接地電圧を
有する。結果的に、“1”のプログラムデータが第1ラ
ッチノードAにロードされる。プログラムデータが
“0”である場合に、データ信号DIiはロジックロー
レベルを有し、データ信号nDIiはロジックハイレベ
ルを有する。これはNMOSトランジスタM17を通じ
て第1ラッチノードAを接地電圧のデータラインDLi
に連結させる。結果的に、“0”のプログラムデータが
第1ラッチノードAにロードされる。このような過程を
通じてすべてのプログラムデータがページバッファに順
次にロードされる。
データは第1ラッチLAT1に伝達される。これは次の
過程を通じて行われる。先ず、第1ラッチLAT1はP
MOSトランジスタM6をターンオンさせることによっ
て初期化され、感知ノードSOはPMOSトランジスタ
M5をターンオンさせることによって、ロジックハイレ
ベルに充電される。このような条件下で、NMOSトラ
ンジスタM13をターンオンさせることによって、第2
ラッチLAT2にロードされたプログラムデータが第1
ラッチLAT1に伝達される。例えば、“1”のプログ
ラムデータが第2ラッチLAT2にロードされる時に、
NMOSトランジスタM7はターンオンされる。NMO
SトランジスタM8が制御信号PBLCHMのローから
ハイへの遷移に従ってターンオンされる時に、第1ラッ
チLAT1(すなわち、第1ラッチノードAには“1”
のプログラムデータがラッチされる。一方、“0”のプ
ログラムデータが第2ラッチLAT2にロードされる時
に、NMOSトランジスタM7はターンオフされる。N
MOSトランジスタM8が制御信号PBLCHMのロー
からハイへの遷移に従ってターンオンされても、第1ラ
ッチLAT1の第1ラッチノードAは初期状態を維持す
る。
ラムデータに従って選択されたビットラインのメモリセ
ルは、プログラムされるか、プログラムが禁止される。
このようなプログラム動作は、この分野の通常の知識を
持つ者に自明であるので、それに対する説明は省略す
る。第1ラッチLAT1にロードされたプログラムデー
タがメモリセルに格納される間、第2ラッチLAT2に
は次のプログラムデータがロードされる。次のプログラ
ムデータと関連して、プログラムデータをローディング
する過程とロードされたデータを伝送する過程は先に説
明したことと実質的に同一であるので、それに対する説
明は省略する。プログラム動作が実行される間、第2ラ
ッチは次のプログラムデータを一時的に格納するキャッ
シュとして動作する。
選択されたページのメモリセルに格納されているデータ
は第1ラッチLAT1を通じて感知される。コピーバッ
クプログラム動作/消去検証動作時に、選択されたペー
ジのメモリセルに格納されているデータは第2ラッチL
AT2を通じて感知される。前者の場合には、先ず、ビ
ットラインBLe、BLoと感知ノードSOは放電され
る。その次に、選択されたビットライン(例えば、BL
e)は所定の電圧で充電された後に、フローティグ状態
にされる。この時に、選択されたメモリセルの状態に従
ってビットライン電圧は減少するか、またはそのまま維
持される。NMOSトランジスタM1をターンオンさせ
た状態で、所定の電流がPMOSトランジスタM5を通
じて感知ノードSOに供給される。選択されたメモリセ
ルがオンセルであれば、感知ノードSOに供給される電
流は選択されたメモリセルを通じて放電される。これは
感知ノードSOの電圧をNMOSトランジスタM7のし
きい電圧よりも低くする。NMOSトランジスタM8が
ターンオンされても、第1ラッチLAT1の状態はその
まま維持される。選択されたメモリセルがオフセルであ
れば、PMOSトランジスタM5を通じて供給される電
流は徐々に感知ノードSOを充電する。これは感知ノー
ドSOの電圧をNMOSトランジスタM7のしきい電圧
よりも高くする。NMOSトランジスタM8がターンオ
ンされる時に、第2ラッチノードBバーは接地され、そ
の結果、第1ラッチLAT1の状態は反転、または以前
の状態をそのまま維持する。
作時には、選択ページのメモリセルに格納されているデ
ータは第2ラッチLAT2を通じて感知される。第2ラ
ッチLAT2を通じて感知された結果は第1ラッチLA
T1に伝達される。さらに具体的に説明すれば、先ず、
ビットラインBLe、BLoと感知ノードSOは放電さ
れる。その次に、選択されたビットライン(例えば、B
Le)は所定の電圧に充電された後に、フローティング
状態にされる。NMOSトランジスタM1をターンオン
させた状態で、所定の電流がPMOSトランジスタM5
を通じて感知ノードSOに供給される。選択されたメモ
リセルがオンセルであれば、感知ノードSOに供給され
る電流は選択されたメモリセルを通じて放電される。こ
れは感知ノードSOの電圧をNMOSトランジスタM1
4のしきい電圧よりも低くする。NMOSトランジスタ
M15が制御信号PBLCHCのローからハイへの遷移
に従ってターンオンされても、第2ラッチLAT1の状
態はそのまま維持される。選択されたメモリセルがオフ
セルであれば、PMOSトランジスタM5を通じて供給
される電流は徐々に感知ノードSOに充電される。これ
は感知ノードSOの電圧をNMOSトランジスタM14
のしきい電圧よりも高くする。NMOSトランジスタM
15がターンオンされる時に、第2ラッチLAT2の状
態は反転される。すなわち、選択されたメモリセルの状
態が第2ラッチLAT2によって感知される。そのよう
に感知された結果は、先に説明したものと同一の過程を
通じて第1ラッチLAT1に伝達される。
に、プログラム/消去されたメモリセルが目標しきい電
圧を有するか否かを判別するためのプログラム/消去検
証動作が実行されるべきである。選択されたページのメ
モリセルが正常にプログラム/消去されたか否かは第1
ラッチLAT1に格納された値によって決められ、これ
はパス/フェイルチェック回路を通じて実行される。従
来の技術によるパス/フェイルチェック回路を示す回路
図が図10に示している。図10を参照すると、パス/
フェイルチェック回路20はワイヤードOR型(wir
ed−OR type)パス/フェイルチェック回路と
して複数のヒューズF1、F2、...F3、NMOSト
ランジスタM21、インバーターINV5及びラッチL
AT3で構成され、図示したように連結されている。各
ヒューズF1、F2...F3は複数のページバッファの
出力端子nWDOに共通に連結されている。ヒューズF
1、F2...F3各々は対応するページバッファに連結
されたビットラインのうち少なくとも一つが欠陥列であ
る時に切断される。
1ラッチLAT1の第1ラッチノードAのロジック状態
によって決められる。例えば、第1ラッチノードAが
“1”のハイレベルである時に、PMOSトランジスタ
M9はターンオフされる。第1ラッチノードAが“0”
のローレベルである時に、PMOSトランジスタM9は
ターンオンされる。ここで、第1ラッチノードAが
“1”のハイレベルであるということは、対応するメモ
リセルが正常にプログラム/消去されたことを示す。第
1ラッチノードAが“0”のローレベルであるというこ
とは、対応するメモリセルが十分にプログラム/消去さ
れていないことを示す。前者の場合、ND2ノードは接
地電圧のローレベルに維持され、その結果、パス/フェ
イル信号PFはプログラム/消去検証動作がパスされる
ことを知らせるローレベルになる。後者の場合、ND2
ノードはPMOSトランジスタM9を通じて電源電圧の
ハイレベルを有し、その結果、パス/フェイル信号PF
はプログラム/消去検証動作がフェイルされることを知
らせるハイレベルになる。
これは欠陥メモリセルに連結される)を通じて感知され
たデータがパス/フェイル検証結果に影響を及ばないよ
うに、欠陥ビットラインと関連したヒューズは切断され
るべきである。現在の設計技術を利用して一つのページ
バッファのピッチ内に一つのヒューズを配置することは
不可能である。したがって、ヒューズのレイアウト面積
を確保するためには、不可避的に、欠陥ビットラインに
連結されたページバッファを含む多数のページバッファ
が同時にリペアされる。したがって、そのようなヒュー
ズは広いレイアウト面積を要求し、これが高密度メモリ
装置を設計する際の制限要因として作用しうる。さら
に、多数のページバッファが同時にリペアされるので、
リダンダンシーセルアレイの面積が増加する。すなわ
ち、リペア効率が減少される。
にプログラムされたか否かを検証する他の技術として、
列スキャニング方法(column scanning
method)がある。列スキャニング方法は199
9年9月6日付で出願された大韓民国特許公開第200
1−029546号公報に“プログラム状態検出回路を
有するフラッシュメモリ装置及びそれのプログラム方
法”というタイトルで開示されており、その開示内容は
本明細書の開示の一部とする。列スキャニング方法によ
ると、先ず、選択されたページのメモリセルの状態が感
知され、そのように感知された結果は、ページバッファ
に一時的に格納される。その次に、列アドレスを順次に
増加させることによって、ページバッファに格納された
データがバイト/ワード単位で列パスゲート回路(図9
で、NMOSトランジスタM19、M20に対応する)
を通じてパス/フェイルチェック回路に順次に伝達され
る。この時、欠陥列に対応するページバッファのデータ
は出力されない。なぜなら、欠陥列が欠陥列アドレス情
報に従ってリダンダンシー列に代替されるので、列スキ
ャニング方式を適用する場合においても、図10に示し
たパス/フェイルチェック回路のヒューズによって引き
起こされる問題点は解決されない。
用してプログラム/消去されたメモリセルの状態を検証
する場合に、上述の列スキャニング方式はそのようなペ
ージバッファ回路10には適用されることができない。
なぜなら、選択されたページに対するプログラム動作が
第1ラッチLAT1を通じて実行される間、他のページ
にプログラムされるデータが第2ラッチLAT2にロー
ドされるためである。上述のように、プログラムデータ
をローディングするために、データラインDLと第2ラ
ッチLAT2が共に使われるので、ロードされるデータ
と検証されるデータとの間に衝突が生じるようになる。
したがって、図9に示したページバッファ回路10には
列スキャニング方式を適用することができない。
46号公報
ば、ヒューズ素子を使わず、選択されたページのメモリ
セルが正常にプログラム/消去されたか否かを判別する
ことができるワイヤードOR型パス/フェイルチェック
回路を具備した不揮発性半導体メモリ装置を提供するこ
とである。
応するページバッファにパスデータをローディングする
ことができるプログラム/消去/コピーバックプログラ
ム方法を提供することである。
めの本発明の特徴によると、不揮発性半導体メモリ装置
としてNANDフラッシュメモリ装置は、複数の行と複
数の列のマトリックス形態で配列される複数のメモリセ
ルを具備したメインセルアレイを含み、プログラム、読
み出し、コピーバックプログラム及び消去モードを有す
る。クロック発生回路は前記各モードでクロック信号を
発生し、アドレス発生回路は前記クロック信号に同期し
て列アドレスを順次に発生する。ページバッファ回路は
前記複数の列に各々対応する複数のページバッファを含
み、前記各ページバッファは第1ラッチと第2ラッチを
具備する。列選択回路は列デコーダ及び列パスゲートで
構成され、前記列アドレスに従って前記複数のページバ
ッファのうち一部を選択して前記選択されたページバッ
ファを対応するデータラインと各々連結する。データロ
ーディング回路は外部からのプログラムデータビットが
入力され、前記入力されたプログラムデータビットを前
記選択されたページバッファ内の第2ラッチにローディ
ングする。リダンダンシー回路は欠陥列のアドレス情報
を格納し、前記アドレス発生回路からの列アドレスが前
記欠陥列を指定するアドレスである場合に、リダンダン
シー選択信号のうち一つを活性化させる。
ードの間、前記アドレス発生回路からの列アドレスが欠
陥列を指定するアドレスである場合に、前記データロー
ディング回路は前記活性化されたリダンダンシー選択信
号に応答して、前記入力されたプログラムデータビット
のうち前記欠陥列に対応するプログラムデータビットに
代えて、パスデータビットを前記欠陥列に連結された選
択ページバッファの第2ラッチにローディングする。
消去され、前記消去されたメモリセルに対する検証動作
が実行される前に、前記クロック発生回路は前記アドレ
ス発生回路がすべての列を選択するための列アドレスを
順次に発生するように、前記クロック信号を発生し、前
記リダンダンシー回路が前記アドレス発生回路からの列
アドレスに応答して前記リダンダンシー選択信号のうち
一つを活性化させる場合に、前記データローディング回
路は前記活性化されたリダンダンシー選択信号に応答し
てパスデータビットを前記欠陥列に連結された選択ペー
ジバッファの第2ラッチにロードする。
ータが前記ページバッファの第2ラッチ内に感知及びラ
ッチされ、前記ラッチされたページデータが前記ページ
バッファの第1ラッチに伝達される前に、前記クロック
発生回路は前記アドレス発生回路がすべての列を選択す
るための列アドレスを順次に発生するように、前記クロ
ック信号を発生し、前記リダンダンシー回路が前記アド
レス発生回路からの列アドレスに応答して前記リダンダ
ンシー選択信号のうち一つを活性化させる場合に、前記
データローディング回路は前記活性化されたリダンダン
シー選択信号に応答してパスデータビットを前記欠陥列
に連結された選択ページバッファの第2ラッチにロード
する。
は、前記複数の行と複数のリダンダンシー列のマトリッ
クス形態で配列されたリダンダンシーメモリセルを含む
リダンダンシーセルアレイと、前記リダンダンシー列に
各々対応するリダンダンシーページバッファ(前記リダ
ンダンシーページバッファ各々は第1ラッチと第2ラッ
チを有する)と、前記リダンダンシー選択信号に応答し
て前記欠陥列に対応するプログラムデータビットを前記
リダンダンシーページバッファのうちいずれか一つの第
2ラッチにロードするリダンダンシーデータローディン
グ回路と、前記プログラム、消去及びコピーバックプロ
グラムモードの検証区間の間、前記メインセルアレイ用
ページバッファと前記リダンダンシーセルアレイ用リダ
ンダンシーページバッファの第1ラッチのデータビット
がパスデータビットであるか否かを判別するパス/フェ
イルチェック回路とをさらに含む。
ッファと前記リダンダンシーセルアレイ用リダンダンシ
ーページバッファ各々はPMOSトランジスタをさらに
含み、前記PMOSトランジスタは電源電圧と前記パス
/フェイルチェック回路との間に連結され、対応するペ
ージバッファの第1ラッチに格納されたデータビットに
従ってオン/オフされる。
ルチェック回路は前記ページバッファのPMOSトラン
ジスタと共通連結された内部ノードと、前記内部ノード
と接地電圧との間に連結され、放電制御信号に従ってオ
ン/オフされる放電トランジスタと、前記内部ノードの
ロジック状態をラッチし、パス/フェイル信号を出力す
るラッチとを含む。
半導体メモリ装置のプログラム方法が提供され、前記不
揮発性半導体メモリ装置は複数の行と複数の第1列のマ
トリックス形態で配列されたメモリセルを有するメイン
セルアレイと、前記複数の行と複数の第2列のマトリッ
クス形態で配列されたリダンダンシーメモリセルを有す
るリダンダンシーセルアレイと、前記第1及び第2列に
各々対応するページバッファとを含む。前記各ページバ
ッファは第1ラッチと第2ラッチを有する。本発明のプ
ログラム方法は、a)初期アドレスの入力の後に、プロ
グラムデータを受け入れる段階と、b)前記初期アドレ
スのうち列アドレスが前記第1列のうち欠陥列を選択す
るためのアドレスであるか否かを判別する段階と、c)
前記列アドレスが前記欠陥列に対応する場合に前記欠陥
列のページバッファ内の第2ラッチにパスデータビット
をローディングする段階と、d)前記列アドレスが最後
のアドレスであるか否かを判別する段階と、e)前記列
アドレスが前記最後のアドレスではない場合に前記列ア
ドレスを“1”だけ増加させる段階と、前記列アドレス
が前記最後のアドレスに到達するまで、前記段階a−e
を繰り返して実行する段階とを含む。
体メモリ装置のコピーバックプログラム方法はa)前記
第2ラッチを通じて第1行のページデータを感知及びラ
ッチした後、列アドレスを“0”と設定する段階と、
b)前記列アドレスが前記第1列のうち欠陥列を選択す
るためのアドレスであるか否かを判別する段階と、c)
前記列アドレスが前記欠陥列を選択するためのアドレス
である場合に前記欠陥列に連結されたページバッファの
第2ラッチにパスデータビットをローディングする段階
と、d)前記列アドレスが最後のアドレスであるか否か
を判別する段階と、e)前記列アドレスが前記最後のア
ドレスではない場合に前記列アドレスを1だけ増加させ
る段階と、f)前記列アドレスが前記最後のアドレスに
到達するまで前記段階b−eを繰り返して実行する段階
とを含む。
体メモリ装置の消去方法は、a)前記メイン及びリダン
ダンシーセルアレイを消去した後、前記第2ラッチを通
じてページデータを感知する段階と、b)列アドレスを
“0”と設定する段階と、c)前記列アドレスが前記第
1列のうち欠陥列を選択するためのものであるか否かを
判別する段階と、d)前記列アドレスが前記欠陥列を選
択するためのものでなければ、前記欠陥列に対応するペ
ージバッファの第2ラッチにパスデータビットをローデ
ィングする段階と、e)前記列アドレスが最後のアドレ
スであるか否かを判別する段階と、f)前記列アドレス
が前記最後のアドレスではない場合に前記列アドレスを
“1”だけ増加させる段階と、g)前記列アドレスが前
記最後のアドレスに到達するまで、前記b−e段階を繰
り返して実行する段階とを含む。
発明の望ましい実施形態を詳細に説明する。
Dフラッシュメモリ装置のブロック図を図1に示す。本
発明の望ましい実施形態のフラッシュメモリ装置100
は、メモリセルアレイを含み、メモリセルアレイはメイ
ンセルアレイ110とリダンダンシーセルアレイ120
で構成される。図示しないが、各アレイ110、120
には、第1ビットライン(またはメインビットライン)
及び第2ビットライン(またはリダンダンシービットラ
イン)に各々連結された複数のNANDストリングが提
供される。よく知られたように、NANDストリングは
対応するビットラインに連結された第1選択トランジス
タ、共通ソースラインに連結された第2選択トランジス
タ、及び、第1選択トランジスタと第2選択トランジス
タとの間に直列連結される複数のメモリセルで構成され
る。
ビットラインを通じてメモリセルアレイに連結されてい
て、複数のページバッファを含む。各ページバッファは
一対のビットラインによって共有されるように配列さ
れ、図9に示した構成と同一に構成される。本発明の望
ましい実施形態のNANDフラッシュメモリ装置100
は、クロック発生回路140、アドレスカウンタ回路1
50、リダンダンシー回路(redundancy c
ircuit)160、列デコーダ回路170、及び列
パスゲート回路(または列選択回路)180をさらに含
む。
ードで要求されるクロック信号を発生する。クロック発
生回路140はプログラムデータをローディングする時
に、nWEx信号のハイからローへの遷移に同期してク
ロック信号を発生し、ページバッファ回路にラッチされ
たデータを順次に外部に出力する時に、nREx信号の
ハイからローへの遷移に同期してクロック信号を発生す
る。クロック発生回路はコピーバックプログラム/消去
動作の間、パスデータを欠陥列のページバッファにロー
ディングする時(これは以後詳細に説明する)に、内部
発振信号に応答してクロック信号を発生する。アドレス
カウンタ回路150はクロック発生回路140から出力
されるクロック信号に同期した列アドレスを発生する。
アドレスカウンタ回路150の望ましい実施形態が図2
に示している。
150はインバーターINV20、NORゲートG1、
及び複数のDフリップフロップFFj(この実施形態
で、j=0〜9)で構成され、図面に示したように連結
されている。各Dフリップフロップはデータ入力端子D
I、クロック端子CLK、データ出力端子DQ、nD
Q、セット端子SET、及びリセット端子RSTを有す
る。各Dフリップフロップは対応するセット信号SET
jによってセットされ、対応するリセット信号RSTj
によってリセットされる。現在の列アドレスが最後の列
アドレスであることを示す制御信号FINAL_YAD
Dがローレベルである時に、アドレスカウンタ回路15
0はクロック信号CLKに応答して列アドレスAY0〜
AY9を順次に発生する。制御信号FINAL_YAD
Dがハイレベルに活性化される時は、アドレスカウンタ
回路150は列アドレスAY0〜AY9を発生しない。
すなわち、アドレスカウンタ回路150は動作しない。
回路160はメインセルアレイ110の列(またはビッ
トライン)のうち欠陥列を示す欠陥アドレスを格納し、
アドレスカウンタ回路150の列アドレスが、その格納
された欠陥アドレスと一致するか否かを判別する。アド
レスカウンタ回路150の列アドレスと格納された欠陥
アドレスとが一致すれば、リダンダンシー回路160は
欠陥列を指定するためのリダンダンシー選択信号のうち
のいずれか一つを活性化させる。列デコーダ回路170
と列パスゲート回路180はページバッファのうち一部
を選択し、その選択したページバッファを対応するデー
タラインDLiに各々連結する。
ッシュメモリ装置100は、データ入力バッファ回路1
90をさらに含み、データ入力バッファ回路190は、
プログラムモード時に、ページバッファ回路130にロ
ードされるプログラムデータをバイト/ワード単位で受
け取る。NANDフラッシュメモリ装置100は、第1
データローディング回路200、第2データローディン
グ回路210、及びパス/フェイルチェック回路220
をさらに含む。
タ入力バッファ回路190から出力されるプログラムデ
ータを選択されるページバッファの第2ラッチLAT2
に伝達する。第1データローディング回路200の望ま
しい実施形態が図3に示している。図3を参照すると、
第1データローディング回路200はORゲートG2、
NANDゲートG3、NORゲートG4、及びインバー
ターINV21、INV22で構成される。ORゲート
G2の入力端子にはプログラムデータDATAiとリダ
ンダンシー選択信号CRiが印加され、NANDゲート
G3の入力端子にはデータロードイネーブル信号DLO
AD_EnableとORゲートG2の出力が印加され
る。NANDゲートG3の出力はインバーターINV2
2を通じてデータ信号DIiとしてページバッファ回路
130(具体的に、ページバッファのNMOSトランジ
スタM16)に伝達される。NORゲートG4の入力端
子にはインバーターINV21を通じて伝達されるデー
タロードイネーブル信号DLOAD_Enable、プ
ログラムデータDATAi、及びリダンダンシー選択信
号CRiが印加される。NORゲートG4の出力nDI
iはデータ信号としてページバッファ回路130(具体
的に、ページバッファのNMOSトランジスタM17)
に伝達される。
は1ビットデータに対応する。バイト/ワード単位でデ
ータがロードされる場合には、残りのデータビットに対
応する第1データロード回路も図3に示した構成と同一
に構成される。データロードイネーブル信号DLOAD
_Enableはプログラムデータがページバッファ回
路に全部ローディングされる間活性化される。データロ
ードイネーブル信号DLOAD_Enableは以後詳
細に説明されるコピーバックプログラム/消去動作時、
パスデータローディング区間の間活性化される。
Enableがハイレベルである時に、データ信号DI
i、nDIiのロジック状態はプログラムデータDAT
Aiまたはリダンダンシー選択信号CRiによって決め
られる。例えば、プログラムデータDATAiが“1”
であり、リダンダンシー選択信号CRiがローレベルで
ある時に、データ信号DIiはハイレベルになり、デー
タ信号nDIiはローレベルになる。プログラムデータ
DATAiが“0”であり、リダンダンシー選択信号C
Riがローレベルである時に、データ信号DIiはロー
レベルになり、データ信号nDIiはハイレベルにな
る。リダンダンシー選択信号CRiがハイレベルである
場合、データ信号DIiは“0”または“1”のプログ
ラムデータDATAiに関係なしに、常にハイレベルに
なる。これは第2ラッチLAT2の第1ラッチノードA
に“1”のデータ(またはパスデータ)がロードされる
ようにする。そのようにロードされたパスデータは先に
説明した過程を通じて第1ラッチLAT1に伝達され
る。
ディング回路210は、プログラムモードにおいて、プ
ログラムデータをメインセルアレイ用ページバッファ
(以後、“メインページバッファ”という)にローディ
ングする時に、欠陥列に対応するプログラムデータビッ
トをリダンダンシーセルアレイ用ページバッファ(以
後、“リダンダンシーページバッファ”という)にロー
ディングする。さらに具体的に説明すれば、第2データ
ローディング回路210は、欠陥列(または欠陥ビット
ライン)を指定するための列アドレスが生成される時
に、現在入力されているプログラムデータのうち欠陥列
に対応するプログラムデータビットをリダンダンシーペ
ージバッファにロードする。本発明の望ましい実施形態
による第2データローディング回路210が図4に示さ
れている。第2データローディング回路210は8個の
ANDゲートG5〜G12、5個のNORゲートG13
〜G16、G19、3個のNANDゲートG17、G1
8、G20及び2個のインバーターINV23、INV
24で構成され、図面に示したように連結されている。
Ienはプログラムモードで図3のデータロードイネー
ブル信号DLOAD_Enableと共に活性化され
る。制御信号RDIen、nDIenは相補的な位相を
有する信号として、制御信号nDIenはアクティブロ
ード信号である。制御信号RED_enはリダンダンシ
ー回路160によって欠陥列アドレスが検出される時に
活性化される信号である。リダンダンシーデータ信号R
DI、nRDIはリダンダンシーページバッファ(具体
的に、NMOSトランジスタM16、M17)に共通に
印加される。制御信号RED_enが活性化される時
に、リダンダンシーページバッファのうちのいずれか一
つのみが列パスゲート回路180を通じて欠陥列に対応
するデータラインに連結される。図面に示さないが、リ
ダンダンシーページバッファは図9に示したメインペー
ジバッファと実質的に同一に実現される。
ードされる時、制御信号RDIen、nDIenはそれ
ぞれハイレベル、ローレベルになる。現在の列アドレス
が欠陥列アドレスであれば、リダンダンシー選択信号C
R0〜CR7のうちいずれか一つ(例えば、CR0)が
活性化される。この時、制御信号RED_enはローレ
ベルからハイレベルに遷移する。欠陥列に対応するプロ
グラムデータビットDATA1が“1”と仮定すれば、
NANDゲートG17の出力はハイレベルになる。これ
はリダンダンシーデータ信号RD1、nRDIが各々ハ
イレベルとローレベルになるようにする。プログラムデ
ータビットDATA1が“0”であれば、NANDゲー
トG17の出力はローレベルになる。これはリダンダン
シーデータ信号RDI、nRDIが各々ローレベル、ハ
イレベルになるようにする。プログラムデータビットD
ATA1が“0”であれば、NANDゲートG17の出
力はローレベルになる。これはリダンダンシーデータ信
号RDI、nRDIが各々ローレベル、ハイレベルにな
るようにする。このような過程を通じて欠陥列に対応す
るプログラムデータがリダンダンシーページバッファに
ロードされる。
ェック回路220はページバッファ回路130の第1ラ
ッチLAT1にラッチされたデータに従ってプログラム
/消去されたメモリセルが正常にプログラム/消去され
たか否かを判別する。本発明の望ましい実施形態による
パス/フェイルチェック回路220が図5に示されてい
る。図5を参照すると、パス/フェイルチェック回路2
20はヒューズが除去されたことを除いては、図10に
示した構成と実質的に同一である。欠陥列に対応するペ
ージバッファにラッチされたデータがパス/フェイル検
証結果に影響を及ぼさないヒューズが除去されたが、パ
ス/フェイル検証結果は欠陥列に対応するページバッフ
ァにラッチされたデータによる影響を受けない。これ
は、先の説明から分かるように、プログラムデータに代
えてパスデータが欠陥列に対応する第1ラッチLAT1
にロードされるからである。パス/フェイルチェック回
路220はヒューズ素子を使わず、正常にパス/フェイ
ル結果を判別することができる。結果的に、ヒューズ素
子による問題点は完全に解決される。
ッシュメモリ装置の場合、プログラムデータがページバ
ッファ回路にロードされる区間で列アドレス情報を利用
して欠陥列に対応するページバッファにパスデータがロ
ードされる。これはヒューズ素子を使用しない状態で、
プログラム検証動作時に、欠陥列のページバッファにラ
ッチされたデータがパス/フェイル検証結果に影響を及
ぼさないようにする。さらに、本発明の望ましい実施形
態のNANDフラッシュメモリ装置の場合、消去動作が
実行され、消去検証動作が実行される前に、及び、コピ
ーバックプログラムモードで感知動作が実行され、プロ
グラム動作が実行される前に、欠陥列に対応するページ
バッファにパスデータがロードされる。本発明によるプ
ログラム動作、消去動作、及びコピーバックプログラム
動作を以後に詳細に説明する。
ラム方法を説明するためのフローチャートである。本発
明の望ましい実施形態のプログラム方法によると、外部
から提供されるプログラムデータをページバッファ回路
にロードする時、欠陥列に対応するページバッファには
プログラムデータに代えて欠陥列アドレス情報を利用し
てパスデータがロードされる。欠陥列に対応するプログ
ラムデータはリダンダンシーページバッファにロードさ
れる。さらに具体的に説明すれば、次の通りである。
hが入力されることによって、先ず、行及び列情報を含
む初期アドレスが所定のアドレスラッチイネーブル周期
(address latch enable cyc
le)に従ってNANDフラッシュメモリ装置内に入力
される(S120)。ここで、プログラムデータがロー
ドされる前に、ページバッファ回路130の第2ラッチ
LAT2は制御信号PBSETをローレベルに活性化さ
せることによって初期化される。バイト/ワード単位の
プログラムデータがnWEx信号のハイからローへの遷
移に従って外部からデータ入力バッファ回路190に印
加される(S140)。そのように入力されたプログラ
ムデータは第1データローディング回路200を通じて
ページバッファ回路130に伝達される。この時、現在
の列アドレスが欠陥列を示すアドレスであるか否かがリ
ダンダンシー回路160によって判別される(S16
0)。現在の列アドレスが欠陥列を示すアドレスではな
ければ、データ入力バッファ回路190に提供されるプ
ログラムデータは第1データローディング回路200を
通じて対応するページバッファにロードされる(S18
0)。ページバッファにデータをロードする過程は先に
説明したものと同様に実行される。
であれば、リダンダンシー回路160はリダンダンシー
選択信号CRiのうちいずれか一つを活性化させる。第
1データローディング回路200は活性化されたリダン
ダンシー選択信号に応答して欠陥列に対応するプログラ
ムデータビットの伝達を遮断すると同時に“1”のパス
データをページバッファ回路130に伝達する(S20
0a)。上述のように、プログラムデータはデータライ
ンを接地させ、データ信号DIi、nDIiをプログラ
ムデータの極性に従って選択的に活性化させることによ
って、ページバッファの第2ラッチLAT2にロードさ
れる。現在の列アドレスが欠陥列を示すアドレスである
時、“1”のパスデータが第2ラッチLAT2にロード
される。これは活性化されたリダンダンシー選択信号に
従ってデータ信号DIが“1”になるように、そしてデ
ータ信号nDIが“0”になるようにする。したがっ
て、第2ラッチLAT2には“1”のパスデータがロー
ドされる。これと同時に、欠陥列に対応するプログラム
データビットは先に説明したものと同一の方式により、
第2データローディング回路210を通じて対応するリ
ダンダンシーページバッファにロードされる(S200
b)。
データ)が最後の列アドレス(または最後のプログラム
データ)であるか否かを判別する(S220)。現在の
列アドレスが最後の列アドレスではなければ、アドレス
カウンタ回路150は次の列アドレスを発生する(S2
40)。その次の手順はプログラムデータを入力する段
階S140に進行する。以後、現在の列アドレス(また
は現在のプログラムデータ)が最後の列アドレス(また
は最後のプログラムデータ)に到達するまで先に説明し
た過程S140〜S240が繰り返して実行される。S
220段階において、現在の列アドレスが最後の列アド
レスとして判別されれば、プログラムデータロード過程
は終了する。ページバッファ回路の第2ラッチLAT2
にロードされたプログラムデータは先に説明したものと
同一の方式により第1ラッチLAT1に伝達されるの
で、それに対する説明は省略する。以後、プログラム実
行を知らせるコマンド10hの入力(S260)に従っ
てロードされたデータが選択されたページにプログラム
される。このようなプログラム動作はこの分野の通常の
知識を持つ者によく知られているので、それに対する説
明は省略する。
たページにプログラムした後に、プログラムデータが正
常にページに書き込まれたか否かを判別するためのプロ
グラム検証動作が実行される。プログラム検証動作は感
知されたデータが外部に出力されないことを除いては、
読み出し動作と実質的に同一の方式により実行され、こ
れは第1ラッチLAT1を通じて実行される。感知動作
に従って感知されたデータはパス/フェイルチェック回
路220に伝達され、パス/フェイルチェック回路22
0はそのように伝達されたデータに従って選択されたペ
ージのメモリセルが正常にプログラムされたか否かを判
別する。さらに具体的に説明すれば、次の通りである。
は所定の電圧に充電された後にフローティング状態にさ
れる。この時、選択されたメモリセルの状態に従ってビ
ットライン電圧は減少し、またはそのまま維持される。
NMOSトランジスタM1をターンオンさせた状態で、
所定の電流がPMOSトランジスタM5を通じて感知ノ
ードSOに供給される。選択されたメモリセルがオンセ
ルであれば(または、選択されたメモリセルが十分にプ
ログラムされていなければ)、感知ノードSOに供給さ
れる電流は選択されたメモリセルを通じて放電される。
これは感知ノードSOの電圧がNMOSトランジスタM
7のしきい電圧よりも低くなるようにする。NMOSト
ランジスタM8がターンオンされても、第1ラッチLA
T1の状態はそのまま維持される。選択されたメモリセ
ルがオフセルであれば(または選択されたメモリセルが
十分にプログラムされていなければ)、PMOSトラン
ジスタM5を通じて供給される電流は徐々に感知ノード
SOを充電する。これは感知ノードSOの電圧がNMO
SトランジスタM7のしきい電圧よりも高くなるように
する。NMOSトランジスタM8がターンオンされる
時、第1ラッチLAT1には“1”のデータがラッチさ
れる。
PMOSトランジスタM9を通じてパス/フェイルチェ
ック回路220に伝達される。例えば、第1ラッチLA
T1の第1ラッチノードBにパスデータとして“1”が
ラッチされる場合、PMOSトランジスタM9はターン
オフされる。これはパス/フェイルチェック回路220
の内部ノードND2がローレベルに維持されるようにす
る。結果的に、現在ロードされたプログラムデータが十
分にプログラムされたことを知らせるローレベルのパス
/フェイル信号PFが出力される。第1ラッチLAT1
の第1ラッチノードBにフェイルデータとして“0”が
ラッチされる場合、PMOSトランジスタM9はターン
オンされる。これはパス/フェイルチェック回路220
の内部ノードND2がハイレベルの電源電圧に充電され
るようにする。結果的に、現在ロードされたプログラム
データが十分にプログラムされないことを知らせるハイ
レベルのパス/フェイル信号PFが出力される。
にプログラムされたことを知らせるローレベルのパス/
フェイル信号PFが出力される場合、第2ラッチLAT
2にロードされた次のプログラムデータが新しく選択さ
れるページに書き込まれる。先に説明したように、以前
にロードされたプログラムデータが選択されたページに
書き込まれる間、次のプログラムデータが第2ラッチL
AT2にロードされる。現在ロードされたプログラムデ
ータが十分にプログラムされないことを知らせるハイレ
ベルのパス/フェイル信号PFが出力される場合、パス
/フェイル信号PFがローレベルになるまで予め決めら
れたプログラム回数までプログラム動作が繰り返して実
行される。
たNANDフラッシュメモリ装置において、プログラム
検証のためのパス/フェイルチェック回路220には欠
陥列を排除するためのヒューズが使われない。それにも
かかわらず、欠陥列のページバッファ(すなわち、第1
ラッチ)にラッチされたデータがパス/フェイル検証結
果に影響を及ぼさない。これは先に説明したように、プ
ログラムデータをローディングする時、欠陥列情報を利
用して欠陥列のページバッファにパスデータをローディ
ングするからである。結論的に、従来の技術によるワイ
ヤードOR形態のパス/フェイルチェック回路に使われ
るヒューズによって引き起こされる問題点(ヒューズに
よる面積の増加とヒューズの使用によるリダンダンシー
効率の低下)が解決される。
形態のコピーバックプログラム方法を説明するためのフ
ローチャートである。本発明の望ましい実施形態のコピ
ーバックプログラム方法を以下に詳細に説明する。コピ
ーバックプログラムとは、先の説明のように、任意のペ
ージ(以下、第1ページという)に格納されたデータを
他のページ(以下、第2ページという)に格納すること
であって、感知区間、パスデータローディング区間、デ
ータダンピング区間、プログラム区間、及びプログラム
検証区間からなる。コピーバックプログラムモードの感
知区間の間、第1ページのメモリセルに格納されたデー
タは第2ラッチLAT2によって感知される。第2ラッ
チにより行われる感知動作は、先の説明と同様であるの
で、それに対する説明は省略する。感知動作が完了した
後、感知されたデータが第2ページにプログラムされ
る。本発明の望ましい実施形態では、感知されたデータ
を第2ページにプログラムする前に、欠陥列に対応する
ページバッファにパスデータがロードされる。これをさ
らに具体的に説明すれば、次の通りである。
知らせるコマンド85hが入力される。85hコマンド
が入力される場合、プログラムモードを知らせる80h
コマンドと異なり、第2ラッチLAT2は初期化されな
い。これはコピーバックプログラムモードの感知動作に
従ってラッチされた他のページにプログラムされるデー
タが変更されないようにするためである。第2ラッチL
AT2にラッチされたデータを部分的に書き直すため
に、初期アドレスとプログラムデータが先に説明したも
のと同一の方式によりデータ入力バッファ回路190及
び第1データローディング回路200を通じてページバ
ッファ回路130にロードされる(S320)。この
時、欠陥列に対応するプログラムデータは、先の説明の
ように、第2データローディング回路210を通じてリ
ダンダンシーページバッファにロードされる。
とによって(S340)、NANDフラッシュメモリ装
置は内部的に発振イネーブル信号を発生すると同時に、
アドレスカウンタ回路150の列アドレスを“0”に設
定する(S360)。次の段階S380では、アドレス
カウンタ回路150から出力される列アドレスが欠陥列
を示すアドレスであるか否かが判別される。アドレスカ
ウンタ回路150から出力される列アドレスが欠陥列を
示すアドレスであれば、リダンダンシー回路160はリ
ダンダンシー選択信号CRiのうちいずれか一つを活性
化させる。第1データローディング回路200は活性化
されたリダンダンシー選択信号に応答して“1”のパス
データとしてハイレベルのデータ信号DIiとローレベ
ルのデータ信号nDIiを出力する。この時、列パスゲ
ート回路180を通じて接地電圧のデータラインがペー
ジバッファの内部ノードND1に電気的に連結される。
このような条件に従って第2ラッチLAT2の第1ラッ
チノードAには“1”のパスデータがロードされる(S
400)。
る列アドレスが欠陥列を示すアドレスではなければ、手
順は次の段階S420に進行する。S420段階では、
アドレスカウンタ回路150から出力される列アドレス
が最後の列アドレスであるか否かが判別される。アドレ
スカウンタ回路150から出力される列アドレスが最後
の列アドレスであれば、アドレスカウンタ回路150は
列アドレスを“1”だけ増加させる(S440)。段階
S380〜S440はアドレスカウンタ回路150の出
力アドレスが最後の列アドレスになるまで繰り返して実
行される。繰り返し的な実行の結果として、欠陥列に対
応するページバッファには“1”のパスデータがロード
される。アドレスカウンタ回路150から出力される列
アドレスがS420段階で最後の列アドレスとして判別
されれば、パスデータローディング動作が終了する。
と実質的に同一である。すなわち、第2ラッチLAT2
に格納されたデータは第1ラッチLAT1に伝達され、
そのように伝達されたデータは第2ページに書き込まれ
る。その次に、第2ページに対するプログラム動作が成
功したか否かがパス/フェイルチェック回路220を通
じて判別される。このような動作は先のプログラム検証
動作と実質的に同一であるので、それに対する説明は省
略する。プログラムモードのように、本発明の望ましい
実施形態のコピーバックプログラム検証動作もヒューズ
がないパス/フェイルチェック回路220を通じて正常
に実行される。
るデータは85hコマンド入力の後に、そして10hコ
マンド入力の前にロードされる。この時、外部から最初
に入力されるアドレスは行及び列情報を全部含む一方、
次に入力されるアドレスは列情報のみを含む。これはコ
ピーバックプログラム動作が一つのページと関連して実
行されるからである。
法を説明するためのフローチャートである。本発明の望
ましい実施形態の消去方法を以下に詳細に説明する。消
去モードは消去区間、パスデータローディング区間、及
び消去検証区間に分ける。消去区間でメモリセルアレイ
が消去される動作は、この分野でよく知られているの
で、それに対する説明は省略する。消去区間でメモリセ
ルアレイのメモリセルが正常に消去されたか否かを判別
するための消去検動作が実行される前に、欠陥列に対応
するページバッファにはパスデータロードされる。さら
に具体的に説明すれば、次の通りである。
カウンタ回路150の列アドレスは“0”と設定される
(S500)。次の段階S520では、アドレスカウン
タ回路150から出力される列アドレスが欠陥列を示す
アドレスであるか否かが判別される。アドレスカウンタ
回路150から出力される列アドレスが欠陥列を示すア
ドレスであれば、リダンダンシー回路160はリダンダ
ンシー選択信号CRiのうちのいずれか一つを活性化さ
せる。第1データローディング回路200は活性化され
たリダンダンシー選択信号に応答して“1”のパスデー
タとしてハイレベルのデータ信号DIiとローレベルの
データ信号nDIiを出力する。この時、列パスゲート
回路180を通じて接地電圧のデータラインDLiがペ
ージバッファの内部ノードND1に電気的に連結され
る。このような条件に従って第2ラッチLAT2の第1
ラッチノードAには“1”のパスデータがロードされる
(S540)。
る列アドレスが欠陥列を示すアドレスではなければ、手
順は次の段階S560に進行する。S560段階では、
アドレスカウンタ回路150から出力される列アドレス
が最後の列アドレスであるか否かが判別される。アドレ
スカウンタ回路150から出力される列アドレスが最後
列アドレスであれば、アドレスカウンタ回路150は列
アドレスを“1”ほど増加させる(S580)。段階S
520〜S580はアドレスカウンタ回路150の出力
アドレスが最後の列アドレスになるまで繰り返し的に実
行される。繰り返し的な実行の結果として、欠陥列に対
応するページバッファには“1”のパスデータがロード
される。アドレスカウンタ回路150から出力される列
アドレスがS560段階で最後アドレスとして判別され
れば、パスデータローディング動作が終了する。
は先の説明のデータ伝達過程を通じて第1ラッチLAT
1に伝達され、パス/フェイルチェック回路220はそ
のように伝達されたデータに従って現在選択されたペー
ジに対するパス/フェイル検証結果PFを出力する。こ
のような動作は先のプログラム検証動作と実質的に同一
であるので、それに対する説明は省略する。プログラム
モードと同様に、本発明の望ましい実施形態の消去検証
動作もヒューズがないパス/フェイルチェック回路22
0を通じて正常に実行される。消去モードですべてのペ
ージが選択されるまで先の説明のパスデータローディン
グ及び検証動作が繰り返し的に実行される。
ッシュメモリ装置の場合、消去モードとコピーバックプ
ログラムモードにパスデータローディング区間がさらに
追加されるので、総消去時間と総コピーバックプログラ
ム時間が多少増加する。各モードにおいて、パスデータ
をローディングするのに必要な時間は加速列スキャニン
グスキーム(accelerated column
scanning scheme)を適用することによ
って最小化されうる。加速列スキャニングスキームと
は、検証動作が実行される時に、内部データバス幅のデ
ータ入/出力幅より広く可変されることを意味する。そ
のような加速列スキャニングスキームは2001年8月
28日付で出願された大韓民国特許出願番号第2001
−52057号に“加速列スキャニングスキームを有す
る不揮発性半導体メモリ装置”というタイトルで開示さ
れており、その開示内容は本明細書の開示の一部とす
る。
を上述の説明及び図面に基づいて図示したが、これは例
を挙げて説明したことに過ぎず、本発明の技術的思想及
び範囲を逸脱しない範囲内で多様な変化及び変更が可能
なことはもちろんである。
ージバッファを採用するNANDフラッシュメモリ装置
において、ヒューズがないワイヤードOR型パス/フェ
イルチェック回路を実現することができる。これは欠陥
列に対応するページバッファにパスデータがロードされ
るからである。すなわち、プログラムモードでは、プロ
グラムデータをロードする区間で、パスデータが欠陥列
に対応するページバッファにロードされる。消去/コピ
ーバックプログラムモードでは、第2ラッチから第1ラ
ッチに感知データを伝達する前に、欠陥アドレス情報を
利用してパスデータが欠陥列に対応するページバッファ
にロードされる。ヒューズがないワイヤードOR型パス
/フェイルチェック回路を実現することができるので、
ヒューズにより引き起こされる問題点(ヒューズによる
面積増加とヒューズの使用によるリダンダンシー効率の
低下)を防止することができる。
を使わずに、選択されたページのメモリセルが正常にプ
ログラム/消去されたか否かを判別することができる。
ュメモリ装置を示すブロック図である。
実施形態を示す図である。
ましい実施形態を示す図である。
ましい実施形態を示す図である。
ましい実施形態を示す図である。
説明するためのフローチャートである。
グラム方法を説明するためのフローチャートである。
るためのフローチャートである。
路図である。
路を示す回路図である。
Claims (19)
- 【請求項1】 複数の行と複数の列のマトリックス形態
で配列された複数のメモリセルを具備したメインセルア
レイを含み、プログラム、読み出し、コピーバックプロ
グラム及び消去モードを有する不揮発性半導体メモリ装
置において、 前記各モードでクロック信号を発生するクロック発生回
路と、 前記クロック信号に同期して列アドレスを順次に発生す
るアドレス発生回路と、 前記複数の列に各々対応する複数のページバッファを含
むページバッファ回路であって各ページバッファが第1
ラッチと第2ラッチを具備するように構成されたページ
バッファ回路と、 前記列アドレスに応答して前記ページバッファのうち一
部を選択し、前記選択されたページバッファを対応する
データラインと各々連結する列選択回路と、 外部からのプログラムデータビットを入力し、前記入力
されたプログラムデータビットを前記選択されたページ
バッファ内の第2ラッチにロードするデータローディン
グ回路と、 前記アドレス発生回路からの列アドレスに応答して前記
データローディング回路を制御する制御手段とを備え、 前記制御手段は、前記プログラムモードの間において前
記アドレス発生回路からの列アドレスが欠陥列を指定す
るアドレスである場合に、前記入力されたプログラムデ
ータビットのうち前記欠陥列に対応するプログラムデー
タビットに代えて、パスデータビットが前記欠陥列に連
結された選択ページバッファの第2ラッチにロードされ
るように、前記データローディング回路を制御すること
を特徴とする不揮発性半導体メモリ装置。 - 【請求項2】 前記制御手段は、前記アドレス発生回路
からの列アドレスが前記欠陥列を指定するアドレスであ
る場合に、前記欠陥列のアドレス情報を格納するリダン
ダンシー回路を含むことを特徴とする請求項1に記載の
不揮発性半導体メモリ装置。 - 【請求項3】 前記メモリセルが消去され、前記消去さ
れたメモリセルに対する検証動作が実行される前に、前
記クロック発生回路は前記アドレス発生回路がすべての
列を選択するための列アドレスを順次に発生するように
前記クロック信号を発生し、 前記リダンダンシー回路が前記アドレス発生回路からの
列アドレスに応答して前記リダンダンシー選択信号のう
ち一つを活性化させる時に、前記データローディング回
路は前記活性化されたリダンダンシー選択信号に応答し
てパスデータビットを前記欠陥列に連結された選択ペー
ジバッファの第2ラッチにロードすることを特徴とする
請求項2に記載の不揮発性半導体メモリ装置。 - 【請求項4】 第1行のページデータが前記ページバッ
ファの第2ラッチ内に感知及びラッチされ、前記ラッチ
されたページデータが前記ページバッファの第1ラッチ
に伝達される前に、前記クロック発生回路は前記アドレ
ス発生回路がすべての列を選択するための列アドレスを
順次に発生するように前記クロック信号を発生し、 前記リダンダンシー回路が前記アドレス発生回路からの
列アドレスに応答して前記リダンダンシー選択信号のう
ち一つを活性化させる時に、前記データローディング回
路は前記活性化されたリダンダンシー選択信号に応答し
てパスデータビットを前記欠陥列に連結された選択ペー
ジバッファの第2ラッチにロードすることを特徴とする
請求項2に記載の不揮発性半導体メモリ装置。 - 【請求項5】 前記クロック発生回路は内部的に発生し
た発振イネーブル信号に応答して前記クロック信号を発
生することを特徴とする請求項3または4に記載の不揮
発性半導体メモリ装置。 - 【請求項6】 前記複数の行と複数のリダンダンシー列
のマトリックス形態で配列されたリダンダンシーメモリ
セルを含むリダンダンシーセルアレイと、 前記複数のリダンダンシー列に各々対応する複数のリダ
ンダンシーページバッファと、 前記複数のリダンダンシーページバッファの各々は第1
ラッチと第2ラッチとを有し、 前記リダンダンシー選択信号に応答して前記欠陥列に対
応するプログラムデータビットを前記リダンダンシーペ
ージバッファのうちいずれか一つの第2ラッチにロード
するリダンダンシーデータローディング回路とを更に備
えることを特徴とする請求項2に記載の不揮発性半導体
メモリ装置。 - 【請求項7】 前記プログラム、消去またはコピーバッ
クプログラムモードの検証区間の間、前記メインセルア
レイ用ページバッファと前記リダンダンシーセルアレイ
用リダンダンシーページバッファの第1ラッチのデータ
ビットがパスデータビットであるか否かを判別するパス
/フェイルチェック回路を更に備えることを特徴とする
請求項6に記載の不揮発性半導体メモリ装置。 - 【請求項8】 前記メインセルアレイ用ページバッファ
と前記リダンダンシーセルアレイ用リダンダンシーペー
ジバッファの各々はPMOSトランジスタをさらに含
み、前記PMOSトランジスタは電源電圧と前記パス/
フェイルチェック回路との間に連結され、対応するペー
ジバッファの第1ラッチに格納されたデータビットに従
ってオン/オフされることを特徴とする請求項7に記載
の不揮発性半導体メモリ装置。 - 【請求項9】 前記パス/フェイルチェック回路は、 前記ページバッファのPMOSトランジスタと共通連結
された内部ノードと、前記内部ノードと接地電圧との間
に連結され、放電制御信号に従ってオン/オフされる放
電トランジスタと、 前記内部ノードのロジック状態をラッチし、パス/フェ
イル信号を出力するラッチとを含むことを特徴とする請
求項8に記載の不揮発性半導体メモリ装置。 - 【請求項10】 前記クロック発生回路は、前記プログ
ラムモードにおいて、読み出しイネーブル信号のハイか
らローへの遷移及びローからハイへの遷移に応答して前
記クロック信号を発生することを特徴とする請求項1に
記載の不揮発性半導体メモリ装置。 - 【請求項11】 複数の行と複数の第1列のマトリック
ス形態で配列されたメモリセルを有するメインセルアレ
イと、前記複数の行と複数の第2列のマトリックス形態
で配列されたリダンダンシーメモリセルを有するリダン
ダンシーセルアレイと、前記複数の第1及び前記複数の
第2列に各々対応する複数のページバッファとを含み、
前記各ページバッファが第1ラッチと第2ラッチを有す
る不揮発性半導体メモリ装置のプログラム方法におい
て、 a)初期アドレスの入力の後に、プログラムデータを受
け入れる段階と、 b)前記初期アドレスのうち列アドレスが前記第1列の
うち欠陥列を選択するためのアドレスであるか否かを判
別する段階と、 c)前記列アドレスが前記欠陥列に対応する場合に、前
記欠陥列のページバッファ内の第2ラッチにパスデータ
ビットをローディングする段階と、 d)前記列アドレスが最後のアドレスであるか否かを判
別する段階と、 e)前記列アドレスが前記最後のアドレスではない場合
に、前記列アドレスを“1”だけ増加させる段階と、 前記列アドレスが前記最後のアドレスに到達するまで、
前記段階a〜eを繰り返して実行する段階とを含むこと
を特徴とするプログラム方法。 - 【請求項12】 前記パスデータビットが前記欠陥列に
連結されたページバッファの第2ラッチにロードされる
間、前記欠陥列に対応する入力データビットは前記選択
された第2列に対応するページバッファ内の第2ラッチ
にロードされることを特徴とする請求項11に記載のプ
ログラム方法。 - 【請求項13】 前記列アドレスが前記欠陥列のアドレ
スではない場合に、前記入力されたプログラムデータは
選択された第1列に対応するページバッファにロードさ
れることを特徴とする請求項11に記載のプログラム方
法。 - 【請求項14】 すべてのプログラムデータが前記ペー
ジバッファの第2ラッチにロードされる場合に、前記第
2ラッチにロードされたプログラムデータは前記メイン
及びリダンダンシーセルアレイにプログラムされるよう
に前記第1ラッチに伝達されることを特徴とする請求項
11に記載のプログラム方法。 - 【請求項15】 複数の行と複数の第1列のマトリック
ス形態で配列されたメモリセルを有するメインセルアレ
イと、前記複数の行と複数の第2列のマトリックス形態
で配列されたリダンダンシーメモリセルを有するリダン
ダンシーセルアレイと、前記複数の第1及び前記複数の
第2列に各々対応する複数のページバッファとを含み、
前記各ページバッファが第1ラッチと第2ラッチを有す
る不揮発性半導体メモリ装置のコピーバックプログラム
方法において、 a)前記第2ラッチを通じて第1行のページデータを感
知及びラッチした後に、列アドレスを“0”と設定する
段階と、 b)前記列アドレスが前記第1列のうち欠陥列を選択す
るためのアドレスであるか否かを判別する段階と、 c)前記列アドレスが前記欠陥列を選択するためのアド
レスである場合に、前記欠陥列に連結されたページバッ
ファの第2ラッチにパスデータビットをローディングす
る段階と、 d)前記列アドレスが最後のアドレスであるか否かを判
別する段階と、 e)前記列アドレスが最後アドレスではない場合に、前
記列アドレスを1だけ増加させる段階と、 f)前記列アドレスが前記最後のアドレスに到達するま
で、前記段階b−eを繰り返して実行する段階とを含む
ことを特徴とするコピーバックプログラム方法。 - 【請求項16】 前記列アドレスが前記欠陥列を選択す
るためのアドレスではない場合に、前記列アドレスが前
記最後のアドレスであるか否かを判別するための処理を
前記d段階に進行させる段階gを更に含むことを特徴と
する請求項15に記載のコピーバックプログラム方法。 - 【請求項17】 前記列アドレスが前記最後のアドレス
である場合に、前記第2ラッチに維持されるデータは前
記メイン及びリダンダンシーセルアレイにプログラムさ
れるように前記第1ラッチに伝達されることを特徴とす
る請求項15に記載のコピーバックプログラム方法。 - 【請求項18】 複数の行と複数の第1列のマトリック
ス形態で配列されたメモリセルを有するメインセルアレ
イと、前記複数の行と複数の第2列のマトリックス形態
で配列されたリダンダンシーメモリセルを有するリダン
ダンシーセルアレイと、前記複数の第1及び前記複数の
第2列に各々対応する複数のページバッファとを含み、
前記各ページバッファが第1ラッチと第2ラッチを有す
る不揮発性半導体メモリ装置の消去方法において、 a)前記メイン及びリダンダンシーセルアレイを消去し
た後に、前記第2ラッチを通じてページデータを感知す
る段階と、 b)列アドレスを“0”に設定する段階と、 c)前記列アドレスが前記第1列のうち欠陥列を選択す
るためのものであるか否かを判別する段階と、 d)前記列アドレスと前記欠陥列を選択するためのもの
ではなければ、前記欠陥列に対応するページバッファの
第2ラッチにパスデータビットをローディングする段階
と、 e)前記列アドレスが最後アドレスであるか否かを判別
する段階と、 f)前記列アドレスが最後のアドレスではなければ、前
記列アドレスを“1”だけ増加させる段階と、 g)前記列アドレスが前記最後のアドレスに到達するま
で、前記b−e段階を繰り返して実行する段階とを含む
ことを特徴とする消去方法。 - 【請求項19】 前記列アドレスが前記欠陥列を選択す
るためのアドレスではなければ、前記列アドレスが前記
最後のアドレスであるか否かを判別するための前記d段
階に処理を進行させる段階hを更に含むことを特徴とす
る請求項18に記載の消去方法。
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Publications (2)
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003002229A Expired - Lifetime JP4070112B2 (ja) | 2002-01-12 | 2003-01-08 | 不揮発性半導体メモリ装置及びそれの消去、プログラム及びコピーバックプログラム方法 |
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005310343A (ja) * | 2004-04-20 | 2005-11-04 | Hynix Semiconductor Inc | デュアルレジスタを有するページバッファ、これを備えた半導体メモリ装置及びそのプログラム方法 |
JP2005327434A (ja) * | 2004-05-11 | 2005-11-24 | Hynix Semiconductor Inc | Nandフラッシュメモリ素子のリダンダンシ回路 |
JP2006202467A (ja) * | 2005-01-17 | 2006-08-03 | Samsung Electronics Co Ltd | 欠陥ページバッファーからのデータ伝送が遮断されるワイヤードオア構造の不揮発性半導体メモリ装置 |
JP2007287207A (ja) * | 2006-04-13 | 2007-11-01 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
US7310275B2 (en) * | 2005-02-17 | 2007-12-18 | Hynix Semiconductor Inc. | Non-volatile memory device and method for operation page buffer thereof |
JP2008181628A (ja) * | 2007-01-23 | 2008-08-07 | Hynix Semiconductor Inc | ナンドフラッシュメモリ装置とそのセル特性改善方法 |
JP2013020694A (ja) * | 2011-07-12 | 2013-01-31 | Samsung Electronics Co Ltd | 不揮発性メモリ装置、不揮発性メモリ装置の消去方法、不揮発性メモリ装置の動作方法、不揮発性メモリ装置を含むメモリシステム、メモリシステムの動作方法、不揮発性メモリ装置を含むメモリカード、及びソリッドステートドライブ |
Families Citing this family (79)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6985388B2 (en) * | 2001-09-17 | 2006-01-10 | Sandisk Corporation | Dynamic column block selection |
US7170802B2 (en) * | 2003-12-31 | 2007-01-30 | Sandisk Corporation | Flexible and area efficient column redundancy for non-volatile memories |
KR100514415B1 (ko) * | 2003-01-22 | 2005-09-09 | 주식회사 하이닉스반도체 | 낸드 플래시 메모리의 페이지 버퍼 |
JP4550439B2 (ja) * | 2003-02-28 | 2010-09-22 | 東芝メモリシステムズ株式会社 | Ecc制御装置 |
JP4563715B2 (ja) * | 2003-04-29 | 2010-10-13 | 三星電子株式会社 | パーシャルコピーバック動作モードを有するフラッシュメモリ装置 |
KR100512178B1 (ko) * | 2003-05-28 | 2005-09-02 | 삼성전자주식회사 | 플렉서블한 열 리던던시 스킴을 갖는 반도체 메모리 장치 |
US7171526B2 (en) * | 2003-11-07 | 2007-01-30 | Freescale Semiconductor, Inc. | Memory controller useable in a data processing system |
KR100632940B1 (ko) * | 2004-05-06 | 2006-10-12 | 삼성전자주식회사 | 프로그램 사이클 시간을 가변시킬 수 있는 불 휘발성반도체 메모리 장치 |
KR100530930B1 (ko) * | 2004-05-11 | 2005-11-23 | 주식회사 하이닉스반도체 | 낸드 플래시 메모리 장치의 멀티-i/o 리페어 방법 및그의 낸드 플래시 메모리 장치 |
KR100635202B1 (ko) * | 2004-05-14 | 2006-10-16 | 에스티마이크로일렉트로닉스 엔.브이. | 듀얼 레지스터를 갖는 페이지 버퍼의 제어방법 및 그제어회로 |
KR100587080B1 (ko) * | 2004-05-17 | 2006-06-08 | 주식회사 하이닉스반도체 | 메모리 장치의 감지 증폭기를 제어하여 컬럼성 페일을검출하는 방법 및 그 장치 |
KR100567912B1 (ko) * | 2004-05-28 | 2006-04-05 | 주식회사 하이닉스반도체 | 플래시 메모리 장치의 페이지 버퍼 및 이를 이용한 데이터프로그램 방법 |
JP4102338B2 (ja) * | 2004-07-20 | 2008-06-18 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
JP4703148B2 (ja) * | 2004-09-08 | 2011-06-15 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
US7466597B2 (en) * | 2004-09-09 | 2008-12-16 | Samsung Electronics Co., Ltd. | NAND flash memory device and copyback program method for same |
KR100648277B1 (ko) * | 2004-12-30 | 2006-11-23 | 삼성전자주식회사 | 프로그램 시간을 줄일 수 있는 플래시 메모리 장치 |
KR100666171B1 (ko) | 2005-01-10 | 2007-01-09 | 삼성전자주식회사 | 로드 프리 타입의 와이어드 오어 구조를 가지는 불휘발성반도체 메모리 장치와, 이에 대한 구동방법 |
CN101111900B (zh) * | 2005-01-27 | 2011-02-16 | 斯班逊有限公司 | 半导体装置、地址分配方法 |
KR100672149B1 (ko) * | 2005-02-17 | 2007-01-19 | 주식회사 하이닉스반도체 | 불휘발성 메모리 장치의 페이지 버퍼 동작 방법 |
KR100672150B1 (ko) * | 2005-02-23 | 2007-01-19 | 주식회사 하이닉스반도체 | 불휘발성 메모리 장치 및 그것의 페이지 버퍼 동작 방법 |
KR100666174B1 (ko) * | 2005-04-27 | 2007-01-09 | 삼성전자주식회사 | 3-레벨 불휘발성 반도체 메모리 장치 및 이에 대한구동방법 |
US7289363B2 (en) * | 2005-05-19 | 2007-10-30 | Micron Technology, Inc. | Memory cell repair using fuse programming method in a flash memory device |
US7958430B1 (en) | 2005-06-20 | 2011-06-07 | Cypress Semiconductor Corporation | Flash memory device and method |
KR100694967B1 (ko) * | 2005-06-29 | 2007-03-14 | 주식회사 하이닉스반도체 | 프로그램 동작시 에러 발생 비율을 감소시키는 플래시메모리 장치 및 그 프로그램 동작 제어 방법 |
KR100634458B1 (ko) * | 2005-07-04 | 2006-10-16 | 삼성전자주식회사 | 단일의 페이지 버퍼 구조로 멀티-비트 및 단일-비트프로그램 동작을 수행하는 플래시 메모리 장치 |
DE602005011628D1 (de) | 2005-10-10 | 2009-01-22 | Hynix Semiconductor Inc | Verfahren zur Programmierung und Verifizierung von Zellen eines nicht-flüchtigen Speicher und ein entsprechender NAND Flash Speicher |
US7379330B2 (en) * | 2005-11-08 | 2008-05-27 | Sandisk Corporation | Retargetable memory cell redundancy methods |
JP4734110B2 (ja) * | 2005-12-14 | 2011-07-27 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
KR100693250B1 (ko) * | 2005-12-28 | 2007-03-13 | 삼성전자주식회사 | 페이지 버퍼 및 그것의 읽기 방법 |
KR100684909B1 (ko) * | 2006-01-24 | 2007-02-22 | 삼성전자주식회사 | 읽기 에러를 방지할 수 있는 플래시 메모리 장치 |
KR100778082B1 (ko) * | 2006-05-18 | 2007-11-21 | 삼성전자주식회사 | 단일의 래치 구조를 갖는 멀티-비트 플래시 메모리 장치,그것의 프로그램 방법, 그리고 그것을 포함하는 메모리카드 |
US7876613B2 (en) | 2006-05-18 | 2011-01-25 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Multi-bit flash memory devices having a single latch structure and related programming methods, systems and memory cards |
KR100919156B1 (ko) * | 2006-08-24 | 2009-09-28 | 삼성전자주식회사 | 멀티-비트 플래시 메모리 장치 및 그것의 프로그램 방법 |
KR100837274B1 (ko) * | 2006-08-28 | 2008-06-11 | 삼성전자주식회사 | 오토 멀티-페이지 카피백 기능을 갖는 플래시 메모리 장치및 그것의 블록 대체 방법 |
KR100823175B1 (ko) * | 2007-02-27 | 2008-04-18 | 삼성전자주식회사 | 프로그램 성능을 향상시킬 수 있는 플래시 메모리 장치 및그것을 포함한 메모리 시스템 |
US7535764B2 (en) * | 2007-03-21 | 2009-05-19 | Sandisk Corporation | Adjusting resistance of non-volatile memory using dummy memory cells |
KR100898039B1 (ko) | 2007-05-21 | 2009-05-19 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 반도체 메모리 장치 및 그것의 프로그램 방법 |
KR101391881B1 (ko) * | 2007-10-23 | 2014-05-07 | 삼성전자주식회사 | 멀티-비트 플래시 메모리 장치 및 그것의 프로그램 및 읽기방법 |
KR20090084531A (ko) * | 2008-02-01 | 2009-08-05 | 삼성전자주식회사 | 퓨즈 회로 및 이를 포함하는 반도체 메모리 장치 |
KR100938045B1 (ko) * | 2008-03-14 | 2010-01-21 | 주식회사 하이닉스반도체 | 불휘발성 메모리 소자의 테스트 방법 |
US8027195B2 (en) | 2009-06-05 | 2011-09-27 | SanDisk Technologies, Inc. | Folding data stored in binary format into multi-state format within non-volatile memory devices |
US8102705B2 (en) | 2009-06-05 | 2012-01-24 | Sandisk Technologies Inc. | Structure and method for shuffling data within non-volatile memory devices |
US7974124B2 (en) | 2009-06-24 | 2011-07-05 | Sandisk Corporation | Pointer based column selection techniques in non-volatile memories |
KR101044533B1 (ko) * | 2009-06-29 | 2011-06-27 | 주식회사 하이닉스반도체 | 불휘발성 메모리 장치 및 이것의 카피백 프로그램 방법 |
KR20110001058A (ko) * | 2009-06-29 | 2011-01-06 | 주식회사 하이닉스반도체 | 불휘발성 메모리 소자의 동작 방법 |
US20110002169A1 (en) | 2009-07-06 | 2011-01-06 | Yan Li | Bad Column Management with Bit Information in Non-Volatile Memory Systems |
JP2011123965A (ja) | 2009-12-11 | 2011-06-23 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
US8468294B2 (en) | 2009-12-18 | 2013-06-18 | Sandisk Technologies Inc. | Non-volatile memory with multi-gear control using on-chip folding of data |
US8725935B2 (en) | 2009-12-18 | 2014-05-13 | Sandisk Technologies Inc. | Balanced performance for on-chip folding of non-volatile memories |
US8144512B2 (en) | 2009-12-18 | 2012-03-27 | Sandisk Technologies Inc. | Data transfer flows for on-chip folding |
US8238178B2 (en) * | 2010-02-12 | 2012-08-07 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Redundancy circuits and operating methods thereof |
KR101626080B1 (ko) * | 2010-02-17 | 2016-06-01 | 삼성전자주식회사 | 페이지 버퍼 관리 방법과 상기 방법을 수행할 수 있는 장치들 |
KR20110121897A (ko) * | 2010-05-03 | 2011-11-09 | 삼성전자주식회사 | 사용자 장치 및 그것의 프로그램 페일 처리 방법 |
US8634261B2 (en) | 2010-09-06 | 2014-01-21 | SK Hynix Inc. | Semiconductor memory device and method of operating the same |
US8526238B2 (en) | 2010-10-01 | 2013-09-03 | Micron Technology, Inc. | Memory arrays and methods of operating memory |
US9342446B2 (en) | 2011-03-29 | 2016-05-17 | SanDisk Technologies, Inc. | Non-volatile memory system allowing reverse eviction of data updates to non-volatile binary cache |
TWI452574B (zh) * | 2011-10-04 | 2014-09-11 | Eon Silicon Solution Inc | 可加速抹除驗證程序的nand快閃記憶體裝置及方法 |
US8842473B2 (en) | 2012-03-15 | 2014-09-23 | Sandisk Technologies Inc. | Techniques for accessing column selecting shift register with skipped entries in non-volatile memories |
US8681548B2 (en) | 2012-05-03 | 2014-03-25 | Sandisk Technologies Inc. | Column redundancy circuitry for non-volatile memory |
US8923083B2 (en) * | 2012-08-23 | 2014-12-30 | Eon Silicon Solution Inc. | Method of identifying damaged bitline address in non-volatile |
KR20140031554A (ko) * | 2012-09-04 | 2014-03-13 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 불휘발성 메모리 장치 및 그것의 동작 방법 |
US8897080B2 (en) | 2012-09-28 | 2014-11-25 | Sandisk Technologies Inc. | Variable rate serial to parallel shift register |
US9490035B2 (en) | 2012-09-28 | 2016-11-08 | SanDisk Technologies, Inc. | Centralized variable rate serializer and deserializer for bad column management |
US9076506B2 (en) | 2012-09-28 | 2015-07-07 | Sandisk Technologies Inc. | Variable rate parallel to serial shift register |
US9348694B1 (en) * | 2013-10-09 | 2016-05-24 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Detecting and managing bad columns |
US9934872B2 (en) | 2014-10-30 | 2018-04-03 | Sandisk Technologies Llc | Erase stress and delta erase loop count methods for various fail modes in non-volatile memory |
US9773571B2 (en) * | 2014-12-16 | 2017-09-26 | Macronix International Co., Ltd. | Memory repair redundancy with array cache redundancy |
US9224502B1 (en) | 2015-01-14 | 2015-12-29 | Sandisk Technologies Inc. | Techniques for detection and treating memory hole to local interconnect marginality defects |
US10032524B2 (en) | 2015-02-09 | 2018-07-24 | Sandisk Technologies Llc | Techniques for determining local interconnect defects |
US9269446B1 (en) | 2015-04-08 | 2016-02-23 | Sandisk Technologies Inc. | Methods to improve programming of slow cells |
US9564219B2 (en) | 2015-04-08 | 2017-02-07 | Sandisk Technologies Llc | Current based detection and recording of memory hole-interconnect spacing defects |
KR102417976B1 (ko) * | 2015-10-21 | 2022-07-07 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 메모리 시스템 및 이의 동작 방법 |
US10496289B2 (en) * | 2016-06-16 | 2019-12-03 | Nuvoton Technology Corporation | System and methods for increasing useful lifetime of a flash memory device |
KR102686445B1 (ko) | 2016-11-29 | 2024-07-19 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 데이터 저장 장치 및 그 동작 방법 |
US10353769B2 (en) | 2017-07-25 | 2019-07-16 | Apple Inc. | Recovering from addressing fault in a non-volatile memory |
CN109426616B (zh) * | 2017-08-31 | 2023-08-04 | 华邦电子股份有限公司 | 字节编程方法以及页面编程方法 |
US10832763B2 (en) * | 2018-12-18 | 2020-11-10 | International Business Machines Corporation | Global bit line latch performance and power optimization |
KR20210028886A (ko) * | 2019-09-05 | 2021-03-15 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 캐시 래치 회로를 구비하는 반도체 메모리 장치 |
KR20220043763A (ko) | 2020-09-29 | 2022-04-05 | 삼성전자주식회사 | 컬럼 리페어를 위한 메모리 장치 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR970005645B1 (ko) | 1994-10-01 | 1997-04-18 | 삼성전자 주식회사 | 불휘발성 반도체 메모리의 부분 프로그램을 위한 데이터 로딩회로 |
KR0142367B1 (ko) * | 1995-02-04 | 1998-07-15 | 김광호 | 열 리던던씨를 가지는 불휘발성 반도체 메모리의 소거 검증회로 |
KR0164803B1 (ko) | 1995-07-15 | 1999-02-01 | 김광호 | 불휘발성 반도체메모리의 센스앰프 |
KR0169420B1 (ko) | 1995-10-17 | 1999-02-01 | 김광호 | 불 휘발성 반도체 메모리의 데이타 리드 방법 및 그에 따른 회로 |
KR0172366B1 (ko) | 1995-11-10 | 1999-03-30 | 김광호 | 불휘발성 반도체 메모리 장치의 독출 및 프로그램 방법과 그 회로 |
US5991196A (en) * | 1997-12-16 | 1999-11-23 | Microchip Technology Incorporated | Reprogrammable memory device with variable page size |
KR100338553B1 (ko) * | 1999-09-06 | 2002-05-27 | 윤종용 | 프로그램 상태 검출 회로를 갖는 플래시 메모리 장치 및그것의 프로그램 방법 |
DE10043397B4 (de) * | 1999-09-06 | 2007-02-08 | Samsung Electronics Co., Ltd., Suwon | Flash-Speicherbauelement mit Programmierungszustandsfeststellungsschaltung und das Verfahren dafür |
EP1130517B1 (en) * | 2000-03-02 | 2004-05-26 | STMicroelectronics S.r.l. | Redundancy architecture for an interleaved memory |
JP4250325B2 (ja) * | 2000-11-01 | 2009-04-08 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
KR100463195B1 (ko) * | 2001-08-28 | 2004-12-23 | 삼성전자주식회사 | 가속 열 스캔닝 스킴을 갖는 불 휘발성 반도체 메모리 장치 |
-
2002
- 2002-01-12 KR KR10-2002-0001875A patent/KR100437461B1/ko active IP Right Grant
-
2003
- 2003-01-08 JP JP2003002229A patent/JP4070112B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2003-01-10 US US10/340,532 patent/US6813184B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-01-10 TW TW092100504A patent/TWI231937B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-01-10 DE DE10301458A patent/DE10301458B4/de not_active Expired - Lifetime
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005310343A (ja) * | 2004-04-20 | 2005-11-04 | Hynix Semiconductor Inc | デュアルレジスタを有するページバッファ、これを備えた半導体メモリ装置及びそのプログラム方法 |
JP4490189B2 (ja) * | 2004-04-20 | 2010-06-23 | 株式会社ハイニックスセミコンダクター | デュアルレジスタを有するページバッファ、これを備えた半導体メモリ装置及びそのプログラム方法 |
JP2005327434A (ja) * | 2004-05-11 | 2005-11-24 | Hynix Semiconductor Inc | Nandフラッシュメモリ素子のリダンダンシ回路 |
JP2006202467A (ja) * | 2005-01-17 | 2006-08-03 | Samsung Electronics Co Ltd | 欠陥ページバッファーからのデータ伝送が遮断されるワイヤードオア構造の不揮発性半導体メモリ装置 |
US7310275B2 (en) * | 2005-02-17 | 2007-12-18 | Hynix Semiconductor Inc. | Non-volatile memory device and method for operation page buffer thereof |
JP2007287207A (ja) * | 2006-04-13 | 2007-11-01 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
JP2008181628A (ja) * | 2007-01-23 | 2008-08-07 | Hynix Semiconductor Inc | ナンドフラッシュメモリ装置とそのセル特性改善方法 |
JP2013020694A (ja) * | 2011-07-12 | 2013-01-31 | Samsung Electronics Co Ltd | 不揮発性メモリ装置、不揮発性メモリ装置の消去方法、不揮発性メモリ装置の動作方法、不揮発性メモリ装置を含むメモリシステム、メモリシステムの動作方法、不揮発性メモリ装置を含むメモリカード、及びソリッドステートドライブ |
US9431115B2 (en) | 2011-07-12 | 2016-08-30 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Erase system and method of nonvolatile memory device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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US6813184B2 (en) | 2004-11-02 |
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