JP2002536825A - 受動電気物品、その回路物品、および受動電気物品を含む回路物品 - Google Patents
受動電気物品、その回路物品、および受動電気物品を含む回路物品Info
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Abstract
Description
ed Signal MCMs Projectの名称でNaval Comm
and,Control and Ocean Surveillance C
enter,RDT & E Divisionによって発布されたContr
act Number N66001−96−C−8613の一環である政府援
助による研究に基づいている。米国政府は、本発明に関する一部の権利を所有す
ることができる。
に関する。本発明の受動電気物品は、少なくとも2つの自立基材を含み、これら
の基材間に電気絶縁性層または導電性層を有する。
回路素子をより高密度化しようとする動きである。従来のプリント配線板では、
表面積の大部分は表面に搭載されるコンデンサーと他の受動素子で占められる。
回路素子密度をさらに増加させる1つの方法は表面に搭載される受動素子を除去
し、回路基板自体に受動素子構造を埋め込むかあるいは組み込むことであること
がこの産業では理解されている。これによって、はるかに能動素子に接近してコ
ンデンサーが配置されることによって、導線の長さが短くなり導線インダクタン
スも低下し、それによって回路速度が向上し信号ノイズが減少するという利点が
得られる。埋め込みまたは組み込みコンデンサー物品の例は、米国特許第5,0
10,641号、第5,027,253号、第5,079,069号、第5,1
55,655号、第5,161,086号、第5,162,977号、第5,2
61,153号、第5,469,324号、第5,701,032号、第5,7
45,334号、および第5,796,587号に開示されている。
の導電性電極からなる。現在の埋め込みコンデンサー技術では、誘電材料は通常
、陽極処理またはスパッタ蒸着した酸化タンタルなどの金属酸化物、あるいはエ
ポキシなどの熱的および機械的に安定性のポリマーのマトリックス中に分散させ
たチタン酸バリウムなどの高誘電率セラミックである。
属電極は粗面を有する必要があることが知られている。このような粗面は、2つ
の対面する電極面上の不規則な隆起が誘電層を横切る間隙を埋めて接触する可能
性があるので、コンデンサー構造を横断する短絡(「ショート」)と高い漏れ電
流をなくすために必要な最小厚さが制限される。
の面積を表し、dは板の間の距離を表している。従って、単位面積当りの静電容
量(通常は単位nF/cm2で測定される)は、コンデンサーの誘電層厚さ(電
極間隔)を減少させるか、あるいは導電性電極間の誘電材料の誘電率を増加させ
るかによってのみ増加させることができる。従って、現代の高周波数で高速の回
路に関してますます要求されている単位面積当りのより高い静電容量は、ポリマ
ー系コンデンサーでは非常に高い誘電率を有する誘電体を使用することによって
のみ実現可能であると考えられている。
層を配置することによってコンデンサーを作製可能であることが知られており、
例えば銅箔の間にエポキシに分散させたチタン酸バリウム層が使用される。この
ようなコンデンサーシートまたは積層体は、表面に不連続に搭載されたコンデン
サーの代わりにプリント配線板やマルチチップモジュールの層として使用するこ
とができる。このようなコンデンサーシートは現在も販売されているが、これら
は低静電容量(通常1nF/cm2未満)であり、実用性が制限される。このよ
うな積層体の静電容量を増大させるための2つの公知の方法は、コーティング厚
さを減少させることと、誘電率を増加させることである。有用性の観点からは、
コーティング厚さは通常1〜10マイクロメートル(μm)の範囲で使用セラミ
ック体積が約50%であることが必要である。市販のコンデンサー積層体は誘電
層の厚さが50〜100μmである。
性;広い周波数範囲および温度範囲にわたって安定である高誘電率の誘電層;時
として要求される高静電容量を実現するための薄い誘電層;相当広い誘電層面積
(例えば数cm2)にわたってDC電流接触または「短絡」が起らず使用時また
は品質認定試験における環境条件に影響されない低直流(DC)漏れ電流、低損
失および高破壊電圧特性を備えたコンデンサー物品が現在も要求されている。
抗機能を有する同様の物品の開発においても活発になっている。
路として機能しうるコンデンサーまたは抵抗器などの受動電気物品に関する。
材と、(b)2つの対向する主面を有する第2の自立基材と、(c)ポリマーを
含み第1および第2の基材の間で厚さが約0.5〜約10μmの範囲である電気
絶縁性層または導電性層と、を含む受動電気物品に関する。層と接触する第1の
基材の主面と、および層と接触する第2の基材の主面とは、平均の表面粗さが約
10〜約300nmの範囲である。90°の剥離角で受動電気物品の第1と第2
の基材を分離するために必要な力は約3ポンド/インチ(約0.5kN/m)を
超える。
できるし、あるいは電気回路を作製するために電気接点をさらに含むこともでき
る。さらに、本発明は、受動電気物品を含むプリント配線板またはフレキシブル
回路、ならびに受動電気物品を含むプリント配線板またはフレキシブル回路を含
む電気装置に関する。
い2つの対向する主面を有する第1の金属基材と、破片あるいは化学吸着または
吸着した材料を実質的に含まない2つの対向する主面を有する第2の金属基材と
を提供する工程と、(2)樹脂を含む混合物を提供する工程と、(3)硬化また
は乾燥後に混合物が厚さの範囲が約0.5〜約10μmである層を形成するよう
に混合物を第1の基材の第1の主面上にコーティングする工程と、(4)第2の
基材の第1の主面または混合物をコーティングした第2の基材の第1の主面を第
1の基材の第1の主面上に積層する工程と、(5)混合物を硬化または乾燥させ
る工程とを含む、受動電気物品の製造方法にも関する。第1および第2の基材は
、工程(2)の前または工程(5)の結果として焼きなましが行われてもよい。
第1の基材の第1の主面と第2の基材第1の主面とは、平均表面粗さが約10〜
約300nmの範囲である。受動電気物品の第1および第2の基材を剥離角90
°で分離するために必要な力は約3ポンド/インチ(約0.5kN/m)を超え
る。
滑な基材との組み合わせを含み、さらに本明細書で記載されるような接着性が実
現されることから、本発明は他に例のないものである。
の種類の1つである)などの回路の素子として埋め込みまたは組み込みが可能な
コンデンサーまたは抵抗器として機能しうる受動電気物品に関する。さらに、あ
る改良を行うと本発明の受動電気物品自体は電気回路として機能しうる。
つの対向する主面を有する第2の自立基材と、第1および第2の基材の間にあり
2つの基材を接着させる働きをする電気絶縁性層または導電性層(全体を通して
「層」とも呼ばれる)とを含む。コンデンサーの作製を目的とする場合には層は
電気絶縁性であり、抵抗器の作製を目的とする場合には層は導電性である。
であり、所望の静電容量または抵抗の範囲はその用途次第である。図1Aおよび
1Bは、コンデンサーまたは抵抗器として機能しうる本発明の受動電気物品10
aおよび10bを説明するものである。受動電気物品10aは、第1の基材11
aと、第2の基材13aと、電気絶縁性層または導電性層12aとを含む。受動
電気物品10bは、第1の基材11bと、第2の基材13bと、電気絶縁性層ま
たは導電性層12bとを含む。層12bは、拡大された図1Cに示されるように
ポリマー15中の複数の粒子16を含む。粒子は互いに接触してもしなくてもよ
く、所望の最終用途応じて均一または不規則などの所定の形態で配列してもよい
。
a’、あるいは第1の基材11bの主面11b’は導電性である必要がある。第
2の基材13aの主面13a’、または第2の基材13bの主面13b’は、コ
ンデンサーを作製するためには導電性でなければならないが、抵抗器を作製する
場合は、意図する電流の流れの方向が、コンデンサーの場合のように電気絶縁性
層または導電性層12aまたは12bのそれぞれを横断するか、電気絶縁性層導
電性層12aまたは12bのそれぞれの面内にあるかに依存して、絶縁性でも導
電性でもよい。
り、抵抗器を横断する電流の流れが望ましい場合は、導電性層12aまたは12
bのそれぞれと接触する主面13a’または13b’の少なくとも一部は導電性
であろう。抵抗器の電流が導電性層12aまたは12bの面内を流れることを意
図する場合は、電流入力端子と出力端子(図示していない)はそれぞれ第1の基
材11aまたは11bに位置するか、あるいは任意に、それぞれ導電性層12a
または12bの側面14aおよび14bに位置し、好ましくは第2の基材13a
または13bは絶縁性の不導体である。
発明の受動電気物品の実施例の1つを示しており、この場合はコンデンサーと直
列につながれる抵抗器として有用である。受動電気物品20は、例えば導電性で
ある第1の基材21と、複数の粒子(図示していない)を有する導電性層22と
、例えば導電性である第2の基材23と、複数の粒子(図示していない)を有す
る電気絶縁性層24と、例えば導電性である第3の基材25とを含む。
力は、Institute for Interconnecting and
Packaging Electronic Circuitsより発行され
るIPC Test Method Manual、IPC−TM−650、試
験番号2.4.9(1988年10月)に従って測定した場合、約3ポンド/イ
ンチ(約0.5キロニュートン/メートル(kN/m))を超え、好ましくは4
ポンド/インチ(0.7kN/m)を超え、より好ましくは6ポンド/インチ(
1kN/m)を超える。本発明の受動電気物品に3つ以上の基材が存在する場合
は、この力は1層の電気絶縁性層または導電性層によって区切られる任意の組の
基材の分離に必要な力である。
の層を含んでもよい。基材は、黒鉛、銀粒子を含有するポリマーマトリクスなど
の複合材料、銅やアルミニウムなどの金属、それらの組み合わせ、またはそれら
の積層体を含むことができる。多層基材の例としては、銅表面に有するポリイミ
ドが挙げられる。第1および第2の基材は同種の場合も異種の場合もある。
担体を使用せずに基材のコーティングおよび取り扱いが可能であるように構造保
全性を有する基材を意味する。基材は可撓性であることが好ましいが、剛性基材
も使用することができる。
面と電気絶縁性層と接触する第2の基材の主面とは導電性である。接着性を向上
させるために、例えば、酸化、または末端に官能基を有するシランなどのカップ
リング剤との反応によって、これらの主面に材料を加えることによる表面を使用
することができる。基材の主面上に残る材料自体は導電性である必要はなく、基
材自体が導電性であればコンデンサーが作製される。
であり、導電性層と接触する第2の基材の主面は導電性または非導電性のいずれ
かであり、電流の流れが抵抗性中間層を横断するかまたは面内を通過するかのい
ずれが望ましいかに依存する。これらの主面は、コンデンサーの作製に関して記
載したように表面処理することも可能であり、第1の基材が導電性であり第2の
基材が導電性または非導電性のいずれかであれば抵抗器が作製される。
層または導電性層と接触する第2の基材の主面は、平均表面粗さが約10〜約3
00nmの範囲であり、好ましくは10〜100nm、より好ましくは10〜5
0nmの範囲である。電気絶縁性層または導電性層の厚さが1μm以下の場合、
平均表面粗さは10〜50nmの範囲が好ましい。平均表面粗さ(RMS)は、
平均値[(z1)2+(z2)2+(z3)2+...(zn)2]/nの平方
根を求めることによって測定され、式中のzは平均の基材面から上方または下方
への距離であり、nは測定点の数であり、この数は少なくとも1000である。
測定される面積は少なくとも0.2mm2である。すべてのznが電気絶縁性層
または導電性層の厚さの半分を超えないことが望ましい。
、より好ましくは0.5〜1.5ミル(約10〜38μm)の範囲である。
性層の硬化温度以下であることが望ましく、そうでない場合は金属の焼きなまし
の後で電気絶縁性層または導電性層がコーティングされる。
AG(Nurnberg、ドイツ)より入手可能な銅箔が挙げられる。
導電性層はポリマーを含むことができる。好ましくは、電気絶縁性層または導電
性層はポリマーと複数の粒子を含む、樹脂と粒子を混合することによって作製さ
れる。
られる受動電気物品の第1および第2の基材を分離するために前述の力が必要と
なるように選択される。本発明の受動電気物品に3つ以上の基材が存在する場合
は、2つ以上の電気絶縁性層または導電性層が存在することができ、それぞれの
電気絶縁性層または導電性層についてこの接着性が得られるように選択される。
導電性層に好適な樹脂としては、エポキシ、ポリイミド、ポリフッ化ビニリデン
、シアノエチルプルラン、ベンゾシクロブテン、ポリノルボルネン、ポリテトラ
フルオロエチレン、アクリレート、およびそれらの混合物が挙げられる。市販さ
れるエポキシとしては、Shell Chemical Company(Ho
uston,TX)より商品名「Epon 1001F」および「Epon 1
050」として入手可能なエポキシが挙げられる。通常のはんだリフロー操作で
到達する温度、例えば、約180〜約290℃の範囲の温度に樹脂が耐えられる
ことが好ましい。これらの樹脂を乾燥または硬化させることによって電気絶縁性
層または導電性層を形成することができる。
ールAのジグリシジルエーテルとノボラックエポキシの混合物、例えば、樹脂の
全重量を基準にして90〜70重量%の「Epon 1001F」と10〜30
重量%の「Epon 1050」の混合物が挙げられる。
子、またはそれらの混合物の場合がある。粒子の分布は、不規則な場合もあるし
規則的な場合もある。通常、コンデンサーとして機能するように設計された受動
電気物品は誘電性または絶縁性粒子を含む。抵抗器として機能するように設計さ
れた受動電気物品は、導電性樹脂または電気絶縁性樹脂中の導電性粒子を含むこ
とができるし、あるいは導電性樹脂中の誘電性粒子を含むことができる。前述し
たように、樹脂層の全体的な効果がコンデンサーの場合に絶縁性であり、抵抗器
の場合に導電性であるなら、粒子の混合物が好適である。
ウムストロンチウム、酸化チタン、チタン酸鉛ジルコニウム、およびそれらの混
合物が挙げられる。市販のチタン酸バリウムは、Cabot Performa
nce Materials(Boyertown,PA)より商品名「BT−
8」として入手可能である。
粒子または合金粒子;ニッケルをコーティングしたポリマー粒子;金をコーティ
ングしたポリマー粒子(JCI USA Inc.(New York,NY)
より製品番号「20 GNR4.6−EH」で市販される);黒鉛、TaNまた
はTa2Nなどの窒化タンタル;酸窒化タンタル(TaNxOy);ドープシリ
コン;炭化ケイ素;MSiNx(式中MはTa、Ti、Cr、Mo、またはNb
などの遷移金属である)などの金属ケイ素窒化物;またはそれらの混合物などの
導電性または半導体材料を挙げることができる。
表的な形状としては、球形、小板、立方体、針状、偏球、回転楕円体、角錐、角
柱、フレーク、棒状、板状、繊維状、チップ、ウィスカー、およびそれらの混合
物が挙げられる。
しくは0.05〜0.3μmの範囲、より好ましくは0.05〜2μmの範囲で
ある。好ましくは、コンデンサーの場合、または面内電導が使用される抵抗器の
場合、電気絶縁性層または導電性層の厚さの範囲内で垂直に少なくとも2〜3個
の粒子を積み重ねることができる寸法を粒子が有する。比較的大きな導電性粒子
、すなわち導電性層の最終コーティング厚さよりもわずかに大きな粒径を有する
粒子を使用すると、抵抗器が横断する電導形態で使用される場合、すなわち電流
が導電性層を横断する場合に2つの導電性基材の間の間隙を個々の導電性粒子に
よってつなぐことができる。積層中に、これらの比較的大きな粒子は圧縮力を受
けて表面が変形し、粒子−基材界面で「ワイピング」効果が起り、これによって
表面の酸化物層が剥離する場合がある。さらに、粒子と樹脂マトリックスの間に
熱膨脹係数の差にもかかわらず、硬化樹脂層が温度サイクルにさらされる間でも
安定に維持される良好な電気接点を得ることができる。この効果は、米国特許第
5,686,703号および第5,714,252号、ならびに同時係属中の米
国特許出願第08/685125号(WO 98/04107号としても公開さ
れている)に記載されている。
して通常20〜60体積%、好ましくは30〜55体積%、より好ましくは40
〜50体積%である。
〜約10μmの範囲、好ましくは1〜5μmの範囲、より好ましくは1〜4μm
の範囲である。
たは化学吸着または吸着した材料が実質的に存在しない第1の基材を提供し、樹
脂を含む混合物を提供し、第1の基材の第1の主面上にこの混合物をコーティン
グし、2つの対向する主面を有する第2の基材を第1の基材の第1の主面上の混
合物と積層し、混合物を硬化または乾燥させることを含む。別の方法では、第2
の基材は、その第1の主面上に樹脂を含む混合物を含むことができ、第1および
第2の基材を第1および第2の基材のそれぞれの第1の主面が互いに連結するよ
うに積層することができ、すなわち各基材の混合物をコーティングした面を互い
に積層することができる。好ましくは、前述したように、第1および第2の導電
性基材の少なくとも1つは金属などの導電性材料である。
たは吸着した材料を実質的に含まないことが好ましい。このようなことは、例え
ば、基材表面上の残留有機物の量を減少させたり、基材表面から破片を除去する
ことによって実現される。代表的な方法としては後述するような表面処理が挙げ
られる。
作製される電気絶縁性層とを含むコンデンサーの作製に関して本発明の工程のさ
らなる詳細を説明する。
などの材料が表面に存在する可能性のある銅箔は、例えば電気絶縁性層と銅箔基
材の間の接着性を良好にするために表面処理が行われる。除去は例えば、アルゴ
ン−酸素プラズマまたは空気コロナで箔を処理することによって行うことができ
るし、あるいは当技術分野で公知のように湿式化学処理を使用することもできる
。箔の両面に付着する粒子は、例えばWeb Systems Inc.(Bo
ulder,CO)より商品名「Ultracleaner」で市販される超音
波/減圧ウェブクリーナーを使用して除去することができる。起りうるコーティ
ングの問題およびコーティングの欠陥を避け、コーティングが不均一であったり
短絡が起ったりする物品、例えば短絡するコンデンサーが作製されないようにす
るために、この表面処理の工程中は銅箔を延伸したり、くぼませたり、あるいは
曲げたりしないことが好ましい。
性または絶縁性粒子と、任意に触媒とを提供することによって調製することがで
きる。製造工程で残る粒子上の吸着水または炭酸塩などの残留物質は、使用前に
粒子表面から除去することができる。除去は、空気中で特定の温度で特定の時間
(例えば350℃で15時間)粒子を加熱することによって行うことができる。
加熱後、混合物に使用する前に粒子をデシケーター中で保存することができる。
のケトン溶液と、分散剤とを互いに混合することによって調製することができる
。通常、高剪断ローター−ステーター混合機を6000rpmで運転して使用し
、混合物は氷水浴で冷却される。従来のボールミル混練ももう1つの代表的な方
法である。続く工程でフィルターが詰らないようにするため、混合物を静置して
容器底部に凝集物を沈降させる。通常、沈降には約12時間以上かかる。別の方
法として、粗いフィルター、例えば最終ろ過工程で使用されるメッシュサイズの
約10倍のメッシュサイズのフィルターを使用して混合物をろ過することもでき
る。最終ろ過工程では、例えばメッシュサイズが約2〜約5μmのステンレス鋼
メッシュフィルターまたは同等物で混合物がろ過される。ろ過された混合物は、
固形分の比率とチタン酸バリウム/エポキシ比を求めるために分析される。ろ過
したさらなる溶剤および/またはエポキシを加えることによって所望の組成を得
ることができる。混合物は溶剤系でコーティングすることができるし、あるいは
有機バインダーがコーティングを行うために十分低粘度である液体の場合は溶剤
を使用しなくてもよい。
しい)などの添加剤、および溶剤を含むことができる。分散剤の例としては、例
えばポリエステルとポリアミンのコポリマーであり、ICI Americas
(Wilmington,DE)より市販される商品名「Hypermeer
PS3」が挙げられる。溶剤の例としては、例えば、メチルエチルケトンとメチ
ルイソブチルケトンが挙げられ、どちらもAldrich Chemical(
Milwaukee,WI)より市販されている。好ましい系では他の添加剤は
必要ではないが、粘度を変化させる物質や均一なコーティング層が得られる物質
などのさらなる成分を使用することもできる。
れる場合、触媒または硬化剤はコーティング工程の前に添加することができる。
好ましくは、触媒または硬化剤はコーティング工程の直前に添加される。
ちpHが7を超える表面が粒子に存在しない場合は、代表的な触媒としてスルホ
ニウム塩などの酸性種すなわちpHが7未満の化学種を生成する触媒を挙げるこ
とができる。市販の触媒としては、Aldrich Chemical(Mil
waukee,WI)より市販される2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチ
ル)フェノールが挙げられる。通常、触媒は樹脂の重量を基準にして約0.5〜
約8重量%の範囲の量、好ましくは0.5〜1.5重量%の範囲の量で使用され
る。2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノールが使用される場合
、樹脂の重量を基準として0.5〜1重量%の量が好ましい。
らの誘導体が挙げられる。市販の硬化剤としては、E.I.DuPont de Nemours Company(Wilmington,DE)より市販さ
れる1,3−フェニレンジアミンが挙げられる。通常、硬化剤は樹脂の重量を基
準にして約10〜約100重量%の範囲の量で使用され、好ましくは10〜50
重量%の範囲の量で使用される。
にコーティングされる。好ましくは、汚染を最小限にするためにコーティングは
クリーンルームで行われる。乾燥厚さは、混合物中の固形分の比率、グラビアロ
ールとコーティングされる基材の相対速度、使用されるグラビアのセル体積に依
存する。通常、約0.5〜約2μmの範囲の乾燥厚さを得る場合、固形分の比率
は20〜60重量%の範囲である。コーティング層はコーターのオーブンでタッ
クのない状態まで乾燥させられ、通常は約100℃未満の温度で行われ、好まし
くはコーティング層は約30℃の温度で開始し約100℃の温度で終了するよう
に段階的に乾燥させられ、続いてロールに巻取られる。より高い最終乾燥温度、
例えば約200℃までの温度を使用することができるが、必要なものではない。
一般に、硬化工程では架橋はほとんど起らず、可能な限り多くの溶剤を除去する
ことがこの工程の主な目的である。溶剤が残留すると、コーティング層をロール
上に保管する場合にブロッキング(すなわち不要な層間接着)が生じたり、積層
時の接着が弱くなったりする場合がある。
インでのろ過および脱気(気泡を除去するため)が挙げられる。さらに、樹脂の
硬化が必要な場合は、電気絶縁性層をコーティングした2つの基材を積層する前
に、電気絶縁性層または導電性層の少なくとも1つを部分的に硬化(好ましくは
空気中で)ことが好ましい。特に、基材の接着性は、積層前にコーティング層を
熱処理することによって向上させることができる。特により高温の場合は、熱処
理の時間は短いことが好ましく、例えば約10分間未満で行われる。
しい。コーティングされた基材の1つは積層装置に送られる前に、例えば約15
0〜約180℃の範囲の温度のオーブンに約2〜約10分間通すことができる。
この予備加熱工程は、コーティングされた基材の一方または両方で行うことがで
きる。5分間より長く加熱が行われる場合は、コーティングされた基材の一方の
みに加熱が行われる。好ましくは、積層中には電気絶縁性層に何も触れないよう
にするべきであり、積層はクリーンルームで行われるべきである。本発明の受動
電気物品を作製する場合、約150〜約200℃の範囲の温度、好ましくは約1
50℃に加熱した2つのニップローラーを有する積層装置を使用して、電気絶縁
性層または導電性層が電気絶縁性層または導電性層と重なるようにコーティング
された基材が積層される。積層装置のロールに好適な空気圧がかけられ、好まし
くはその圧力は5〜40psi(34〜280kPa)の範囲であり、好ましく
は15psi(100kPa)である。ローラー速度は任意の好適な値に設定す
ることができ、好ましくは12〜36インチ/分(0.5〜1.5cm/秒)の
範囲であり、より好ましくは15インチ/分(0.64cm/秒)である。この
工程はバッチ方式でも同様に行うことができる。
りすることができる。積層が完了すると、好適なクリーンルーム設備はもはや必
要としない。
な硬化温度としては約140〜約200℃の範囲の温度、好ましくは140〜1
70℃の範囲の温度が挙げられ、代表的な硬化時間としては約60〜約150分
間、好ましくは60〜100分間が挙げられる。
質となる場合、すなわちコーティング前に箔の焼きなましが行われるか、あるい
は後の工程中に焼きなましが進行する場合に、電気絶縁性層または導電性層の金
属基材への接着性が向上しうる。焼きなましはコーティング工程の前に基材を加
熱することによって行うことができるし、焼きなまし温度が樹脂の硬化温度以下
である場合には硬化または乾燥工程の結果として焼きなましが進行する場合もあ
る。硬化または乾燥および積層が行われる温度よりも低温の焼きなまし温度を有
する金属基材が使用されることが好ましい。焼きなまし条件は使用される金属基
材に依存して変動する。銅の場合には、工程のこれらの段階のいずれかにおいて
、金属基材の10gの荷重を使用した場合のビッカース硬度(Vickers
hardness)が約75kg/mm2未満となることが好ましい。銅がこの
硬度を実現するために好ましい温度範囲は、約100〜約180℃であり、より
好ましくは120〜160℃である。
球状粒子;金をコーティングしたポリマー球状粒子(例えばJCI USA I
ncの20 GNR4.6−EH);スズはんだ球;黒鉛や、TaNまたはTa2 Nなどの窒化タンタルなどのより抵抗率の高い材料;酸窒化タンタル(TaNx Oy);金属ケイ素窒化物(MSiNx)(ここでMはTa、Ti、Cr、M
o、またはNbなどの遷移金属である);あるいはより高い抵抗率が望まれる場
合には半導体;およびそれらの混合物などの半導体粒子または導電性粒子を使用
して作製することができる。
かそれ以上であることが好ましい。粒子は積層後に各粒子が両方の基材と接触す
るために十分な大きさであってもよく、その場合2つの導電性基材の間を横断す
るように電流が流れる。あるいは、より小さい導電性粒子を高い体積分率で使用
することもでき、この場合接触する粒子がつながって、基材の導電性部分の所望
の電流入力接点と出力接点の間に電気接点が形成される。この方法は、横断方向
または面内方向のいずれの方向の電流方向の構成にも使用することができる。抵
抗器が横断方向で導電性となる構成で使用される場合(電流は層を通過して2つ
の基材間に流れる)、導電性粒子を含有する層と接触する両方の基材の主面が導
電性である必要がある。抵抗器が面内で導電性となる構成で使用される場合は、
一方の基材のみが導電性面を有する必要がある。導電性面は積層後にパターン形
成を行って、電気的に分離した電流入力および出力部分を形成することができ、
これらの部分は導電性粒子を含有する層によって電気的に接続される。
は後述するようにパターン形成されることが好ましく、これによって例えば側方
の導電性を制限するために分散した島を形成したり領域を除去したりすることが
できる。パターン形成された受動電気物品はそれ自体を回路物品として使用する
ことができるし、あるいは後述するように回路物品の素子として使用することも
できる。
ースすることによって接触させて、第1または第2の基材が電極として作用する
ように電気接点を形成することができる。さらに、電気絶縁性層または導電性層
と接触する第1または第2の基材の主面に電気接点を形成するか、あるいはスル
ーホール接点を作製すると望ましい場合もある。スルーホール接点は受動電気装
置との相互作用を望まない場合に有用である。第1または第2の基材の主面を電
気絶縁性層または導電性層と接触させるため、あるいはスルーホール接点を形成
するために、受動電気物品にパターン形成することができる。
例えば、受動電気物品のパターン形成は、当技術分野で公知であるフォトリソグ
ラフィおよび/またはレーザーアブレーションによって行うことができる。
て現像し、受動電気物品の基材に覆われた領域と露出した領域のパターンを形成
することによって行うことができる。次に受動電気物品を、基材を化学的に腐食
または溶蝕することが知られている溶液に露出すると、基材の選択された領域を
除去することができる。続いて、水酸化カリウムなどのストリッピング剤を使用
してフォトレジストの残留領域が除去される。この工程によって、回路構造に不
要な基材の領域を除去することができる。
層から材料を選択的に熱的に除去するレーザーを使用して行うことができる。フ
ォトリソグラフィとレーザーアブレーションは組み合わせて使用されてもよい。
支持できない場合があるので、本発明の受動電気物品のパターン形成可能な方法
が制限されうる。少なくとも1つの基材が受動電気物品を常に支持するように電
極にパターンを形成することができる。受動電気物品の第1の基材にパターン形
成して、第2の基材は連続的のまま維持して(すなわちパターン形成しないで)
それによって受動電気物品を「構造保全性」にする、すなわち物品を支持用担体
なしに取り扱い可能で自立状態のまま維持することができる。通常、受動電気物
品は二重にパターン形成される、すなわち両面にパターンが形成され、支持体を
使用せずに受動電気物品に構造保全性が付与される。
る。ある場合では、受動電気物品にパターン形成することができる。この場合、
本発明の受動電気物品を作製し、前述のように受動電気物品にパターン形成して
電気的接続のための接点を形成することによって回路物品を作製することができ
る。受動電気物品の一面または両面のいずれかにパターンが形成されて、第1お
よび第2の基材の各主面にアクセスできるようになり、スルーホール接点が形成
される。
つの電気接点を形成する工程と、動電気物品の少なくとも1つの基材と接点を接
続する工程とを含む方法によって回路物品を作製することができる。
的で、1つ以上のさらなる層をさらに含むことができる。さらなる層は剛性の場
合もあるし可撓性である場合もある。剛性層の例としては、Polyclad(
Franklin,NH)より商品名「PCL−FR−226」で市販されるガ
ラス繊維/エポキシ複合材料、セラミック、金属、またはそれらの組み合わせが
挙げられる。代表的な可撓性層は、ポリイミドまたはポリエステル、金属箔、ま
たはそれらの組み合わせなどのポリマーフィルムを含む。ポリイミドはduPo
ntより商品名「Kapton」として市販され、ポリエステルはMinnes
ota Mining and Manufacturing Company
(3M)(St.Paul,MN)より商品名「Scotchpar」として市
販される。これらのさらなる層は、層の上面に位置するかまたは層の内部に埋め
込まれる導電性トレースも含むことができる。「導電性トレース」という用語は
、電流を流すために設計された導電性材料のストリップまたはパターンを意味す
る。導電性トレースとして好適な材料としては、銅、アルミニウム、スズはんだ
、銀ペースト、金、およびそれらの組み合わせが挙げられる。
も一方の側にパターンが形成された本発明の受動電気物品を提供する工程と、さ
らなる層を提供する工程と、受動電気物品にこの層を取付ける工程と、受動電気
物品の少なくとも1つの基材に少なくとも1つの電気接点を形成する工程とを含
む。第2のさらなる層が提供されて受動電気物品に取付けられることが好ましい
。
素子としてPWB、例えばフレキシブル回路に使用することができる。受動電気
物品はPWBまたはフレキシブル回路への埋め込みまたは組み込みが可能である
。
ることができるエポキシとガラス繊維の積層体を含み、接着剤またはプリプレグ
の層がはさまれる。通常、フレキシブル回路は、銅でコーティングされたポリイ
ミド層などの可撓性層と、ポリイミド上の接着剤層とを含む。任意の好適なPW
Bまたはフレキシブル回路における本発明の受動電気物品の位置、および任意の
好適なPWBまたはフレキシブル回路への本発明の受動電気物品の埋め込みまた
は組み込み方法は当技術分野では公知である。特に、PWBまたはフレキシブル
回路のいずれの場合でも、PWBまたはフレキシブル回路の層または素子の位置
合わせに注意する必要がある。
パターン形成できる方法が決まる場合がある。受動電気物品がPWBまたはフレ
キシブル回路に組み込まれる場合、PWBまたはフレキシブル回路層は受動電気
物品をさらに支持することができ、そのためさらなる独特のパターン形成技術が
実施可能となる。
ーン形成および積層工程は、前述の1つの基材のフォトリソグラフィパターン形
成の後に行うことができる工程を含む。この工程では、パターンが形成された基
材のパターン形成された面と、回路基板層(例えばFR4)などの支持材料が対
面するように積層される。電気絶縁性層または導電性層とパターン形成された基
材は支持材料によって十分に支持されるため、実質的に同様の技術によってもう
一方の基材にパターンを形成することができる。次に、第2の基材の露出面上に
第2の積層を行うことでこの工程が完了する。
施例30aまたは30bを示している。PWB30aまたは30bは、それぞれ
の接着剤またはプリプレグ層31aまたは31bと、それぞれの第1の基材33
aまたは33b、電気絶縁性層または導電性層(「層」)34aまたは34b、
および第2の基材35aまたは35bで示されコンデンサーまたは抵抗器として
機能する本発明の受動電気物品とをはさむ、エポキシ/ガラス繊維などの材料の
2つの層32aまたは32bをそれぞれ含む。
している。PWB30cは、接着剤またはプリプレグ層31cと、抵抗器として
機能し第1の基材33c、導電性層(「層」)34c、および絶縁性の第2の基
材35cを含む本発明の受動電気物品とをはさむ、エポキシ/ガラス繊維などの
材料の2つの層32cを含む。
含むPWB30aを示しており、受動電気物品との接触を防止するPWB30a
の上面38aから下面39aまでの導電性経路を形成するためにスルーホール接
点が形成されている。図3Aでは、信号または電流は、銅が電気めっきされて表
面銅構造37aが形成された穴36aからPWB30aを通過する。表面銅構造
37aは、PWB30aの上面38aのトレース(図示していない)からPWB
30aの下面39aに信号を伝達する。表面銅構造37aは、第1の基材33a
の穴36a、層34a、および第2の基材35aを貫通して形成されている。従
って図3Aでは、第1の基材33a、層34a、または第2の基材35aとの相
互作用が起らずに、PWB30aの上面38aからPWB30aの下面39aま
で信号が伝達される。
を含むPWB30bを示しており、第1の基材および独立に第2の基材と接触す
ることによって、コンデンサーまたは抵抗器と電気的に接続されている。図3B
の場合、銅が電気めっきされてそれぞれ表面銅構造37bおよび37b’が形成
された穴36bまたは穴36b’によって、信号または電流はPWB30bを通
過する。表面銅構造37bおよび37b’によって、PWB30bの上面38b
のトレース(図示していない)からPWB30bの下面39bまで信号が伝達さ
れる。表面銅構造37bは第1の基材33bと接触しているが、あらかじめパタ
ーン形成された第2の基材35bのより大きな穴36b”は通過するので、表面
銅構造37bと第1の基材33bの間を直接接続することができる。表面銅構造
37b’は第2の基材35bと接触するが、あらかじめパターン形成された第1
の基材33bのより大きな穴36b’’’は通過するので、表面銅構造37b’
と第2の基材35bを直接接続することができる。層34bが絶縁体である場合
は、第1の基材33bと第2の基材35bが重なり合うために、容量性関係が3
7bと37b’の間に形成される。層34bが導体である場合は、第1の基材3
3bと第2の基材35bが重なり合うことによって、抵抗性の関係が37bと3
7b’の間に形成される。
受動電気物品を含むPWB30cを示している。図3Cでは、銅を電気めっきす
ることによってそれぞれ表面銅構造37cおよび37c’が形成された穴36c
および穴36c’によって信号または電流がPWB30cを通過する。表面銅構
造37cおよび37c’によって、PWB30cの上面38cのトレース(図示
していない)からPWB30cの下面39cまで信号が伝達される。第1の基材
33cにはパターン形成が行われ、層34cの一部を覆うパッド33c’および
33c”が形成されている。パッド33c’と33c”は層34cの部分34c
’によって連結している。表面銅構造37cおよび37c’はそれぞれパッド3
3c’および33c”を接続するために使用され、それによって2つのパッド3
3c’および33c”の間の層34cの部分34c’の形状(長さと幅)に基づ
いて制御された抵抗がパッド33c’と33c”の間で測定される。
の両方として機能し、パターン形成された層:第1の基材41、第1の層42、
第2の基材43、第2の層44、および第3の基材45を有し、第1の基材と第
3の基材が接触する受動電気物品とをはさむ、エポキシ/ガラス繊維などの材料
61を含むPWB40を示している。図4において、銅が電気めっきされ表面銅
構造47および47’がそれぞれ形成された穴46または46’によって信号ま
たは電流がPWB40を通過する。表面銅構造47および47’によって、PW
B40の上面48のトレース(図示していない)からPWB40の下面49まで
信号が伝達される。表面銅構造47は第1の基材41と接触し、第2の基材43
、第2の層44、および第3の基材45のそれぞれにあらかじめパターン形成さ
れたより大きな穴43’、44’、および45’を通過する。表面銅構造47’
は第3の基材45と接触し、第1の層42および第2の基材43のそれぞれにあ
らかじめパターン形成されたより大きい穴42”および43”を通過する。従っ
て、47と47’の間に抵抗性および容量性の関係が形成される。
の種々の組み合わせが可能であり、基材に種々の接続を形成して種々の機能を得
ることができることが理解できるであろう。
動電気物品50の平面図と断面図をそれぞれ示しており、いかにして本発明の物
品がパターン形成されフレキシブル回路(図示していない)と接続することがで
きるかの例を示している。受動電気物品50は、それぞれ第1の基材51、第2
の基材53、および層52を含む。
ことによって形成される。穴CおよびDは、例えば層52と第2の基材53にパ
ターン形成を行うことによって形成される。受動電気物品50に穴を形成する、
すなわちパターン形成することによって、単に説明的なものであるが接点54、
55、および56が形成される。さらに、接点57および58は第1の基材51
の主面51’上にあり、接点59は第2の基材53の主面53’上にある。図5
Bに簡略的に示される接点の位置は単に代表的なものであって、単に簡略化のた
め図5Aでは省略している。
くとも1つをフレキシブル回路(図示していない)のトレース(図示していない
)と接触させることによってフレキシブル回路内で作動させることができる。好
適なトレース接続は、例えばWO94/29897号に記載されるようなはんだ
玉によって行うことができる。接点56と58の接続は、図3Aの穴の場合と同
様にして行うことができる。受動電気物品の容量的および抵抗的機能を利用する
ために、接点55または57のいずれかを接点54または59のいずれかと組み
合わせて接続することができる。当業者であれば、所望の用途に応じて接点54
、55、56、57、58、または59の任意の1つの接続が可能であることが
理解できるであろう。
電気回路として機能する、本発明の受動電気物品を含む電気装置も包含している
。電気装置としては、容量性または抵抗性素子を有するPWBまたはフレキシブ
ル回路を通常使用する任意の電気装置を挙げることができる。代表的な電気装置
としては、携帯電話、電話、ファックス装置、コンピューター、印刷装置、ポケ
ットベル(登録商標)、ならびに当業者に公知の他の装置が挙げられる。本発明 の受動電気物品は、空間が重要となる電気装置において特に有用である。
質およびそれらの量、ならびにその他の条件や詳細については、本発明が不当に
制限されることを意図するものではない。
(RMS)8nmであるCarl Schlenk,AG(Nurnberg、
ドイツ)より入手可能な銅箔を入手した。Plasma Science(Fo
ster City,CA)の装置を使用して酸素/アルゴンプラズマ中で化学
吸着物質を除去し、プラズマ中の箔の滞留時間は約6分間であった。Web S
ystems Inc.(Boulder,CO)より商品名「Ultracl
eaner」で市販される減圧/超音波ウェブクリーナーで粒子状破片を除去し
た。
り商品名「Epon 1001F」で市販されるエポキシ6.4gと、Shel
l Chemical Companyより商品名「Epon 1050」で市
販されるエポキシ1.6gとを、18gのメチルエチルケトン(MEK)および
27gのメチルイソブチルケトン(MIBK)(両者ともAldrich Ch
emical(Milwaukee,WI)より市販される)に溶解した。ポリ
エステルとポリアミンのコポリマーでありICI Americas(Wilm
ington,DE)より商品名「Hypermeer PS3」で市販される
分散剤0.8gをこの混合物に加えた。
wn,PA)より商品名「BT−8」で市販される平均粒径が0.2μmのチタ
ン酸バリウム粒子47gを空気中350℃で15時間加熱したものを、Char
les Ross & Sons(Hauppauge,NY)より市販される
Ross実験室用混合機/乳化機をローター/ステーターヘッド速度2000回
転/分(rpm)で使用してゆっくりと加えた。すべてのチタン酸バリウムを加
えてから、速度を6000rpmに上昇させ、混合物の温度上昇を防止するため
に氷浴で冷却される容器内で20分間チタン酸バリウムを分散させた。得られた
混合物は固形分55重量%であり、チタン酸バリウムとエポキシの体積比が55
:45であった。
に、混合物を2μmのステンレス鋼メッシュフィルターでろ過して、第1混合物
を得た。第1混合物の固形分重量%を測定すると53重量%であり、第1混合物
に充填されたチタン酸バリウムの体積%を測定すると53体積%となり、どちら
の測定も重量測定によって行った。
1050」の80重量%MEK溶液1.8gと、2,4,6−トリス(ジメチル
アミノメチル)フェノールの5重量%溶液5.4gとを、0.45μmフィルタ
ーでろ過した後、これを238gの第1混合物に加えて、第2混合物を調製した
。この混合物を撹拌するかボールミルの容器ロール(ボールは使用せず)を使用
するかによって均一にすると、この第2混合物の最終固形分は43重量%であっ
た。第2混合物のチタン酸バリウムとエポキシの体積比は45:55であった。
超音波浴を5分間使用して第2混合物を脱気した。
)およびグラビアロール速度40フィート/分(20cm/秒)で使用して(ク
リーンルーム中)、2つの銅箔に別々に第2混合物をコーティングした。グラビ
アロールは乾燥コーティング層厚さが1〜1.5μmとなるように選択した。コ
ーティング層を95℃で乾燥させたのち、コア上に巻き付けてロールを作製した
。
4cm/秒)、ローラーに適用される空気圧20psi(140kPa)でWe
stern Magnum(El Segundo,CA)より市販される積層
装置を使用して、混合物がコーティングされた2枚の銅箔を、コーティング面ど
うしが重なるように互いに積層した。この積層体を空気中で180℃で80分間
硬化させた。
necting and Packaging Electronic Cir
cuitsより発行されるIPC Test Method Manual、I
PC−TM−650、試験番号2.4.9(1988年10月)に記載される9
0°剥離試験を使用して試験を行った。この銅箔を分離するためには3.4ポン
ド/インチ(600N/m)の力が必要であった。硬化積層体の静電容量を以下
の試験方法によって測定した:標準的なフォトリソグラフィ手順および銅エッチ
ング手順を使用して積層体の片側に2cm×2cmの電極をエッチングし、He
wlett Packard(Palo Alto,CA)より入手可能なモデ
ル番号4261AのLCRメーターを使用して1キロヘルツ(kH)における静
電容量を測定した。測定された静電容量は6nF/cm2であり、散逸率は0.
004であった。60個のコンデンサーを作製し、この方法で試験を行うと、良
好な(短絡が起らない)コンデンサーが作製される比率は全60個のコンデンサ
ーの86.7%であった。
24nmでありCarl Schlenk,AG(Nurnberg、ドイツ)
より入手可能な銅箔基材を入手した。実施例1に記載されるようにしてこの箔を
清浄にした。
ポキシおよびEpon 1050エポキシ(比率8:2)と触媒を含むケトン溶
液を、2つの銅箔上に別々にコーティングした。触媒の2,4,6−トリス(ジ
メチルアミノメチル)フェノールは、エポキシ樹脂100gに対して触媒1gの
濃度であった。チタン酸バリウムやその他の粒子は添加しなかった。
いて、Institute for Interconnecting and
Packaging Electronic Circuitsより発行され
るIPC Test Method Manual、IPC−TM−650、試
験番号2.4.9(1988年10月)に記載される90°剥離試験を使用して
試験を行った。このホイルの分離には3.1ポンド/インチ(540N/m)の
力が必要であった。静電容量測定は行わなかった。エポキシ混合物の誘電率が3
であると仮定してこの積層体の静電容量を計算すると、積層体のエポキシ層の厚
さが約2μmの場合には静電容量は1.3nF/cm2となる。
。以下の実施例でこのことが説明され、アルミニウム箔および銅をコーティング
したポリエステルフィルムの両方に後述の混合物をコーティングし試験を実施し
た。
1.4ミル(36μm)のアルミニウム箔(グレード1145,H19熱処理)
を入手した。この箔のRMS粗さは19nmであり、さらなる清浄化は行わずに
入手したままのものを使用した。
例1に記載されるグラビアコーターを使用してこの混合物をアルミニウム箔にコ
ーティングした。
熱した。アルミニウムシートのコーティングされた側が互いに接触するようにこ
れらのシートを重ね合わせた。次にこの重ね合わせたシートを、200℃および
300psi(2MPa)に設定した実験室用プレス機(Carver,Men
omonie,WI)で積層した。この試料を1時間プレス機にかけた後で、取
り出して加圧せずに175℃でさらに1時間硬化させた。られた積層体の接着力
を、実施例1に記載される90°剥離試験を使用して測定すると、得6.0ポン
ド/インチ(1100N/m)であった。
い、空気中175℃で1時間硬化させた。直径5mmの穴からなるマスクを通し
て、混合物をコーティングした面にパラジウム/金電極をスパッタリングするこ
とによって、コンデンサーを作製した。これらのコンデンサーは静電容量が21
.2nF/cm2、散逸率が0.019、であり19%のコンデンサーで短絡が
起らなかった。
ポリエステルフィルムを基材として使用する。チタン酸バリウム/エポキシ混合
物とコーティング技術は、実施例1に記載のものと同様にした。コーティング層
を窒素雰囲気下175℃で1.5時間硬化させ、前述と同様に直径5mmのパラ
ジウム/金電極をスパッタリングした。静電容量は15.2nF/cm2であり
、散逸率は0.044であり、良好なコンデンサーが作製される比率は88%で
あった。接着力試験は実施しなかった。
の構造が同様の番号で参照され、層の厚さは必ずしもその寸法である必要はない
。
物品の断面図である。
物品の断面図である。
物品の断面図である。
の断面図である。
の断面図である。
の断面図である。
デンサーまたは抵抗器として機能しうる受動電気物品の平面図である。
Claims (26)
- 【請求項1】 (a)2つの対向する主面を有する第1の自立基材と、 (b)2つの対向する主面を有する第2の自立基材と、 (c)ポリマーを含み、前記第1および第2の基材の間で約0.5〜約10μ
mの範囲の厚さを有する電気絶縁性層または導電性層と、 を含む受動電気物品であって、 前記層と接触する前記第1の基材の主面、および前記層と接触する第2の基材
の主面の平均表面粗さが約10〜約300nmの範囲であり、 前記受動電気物品の前記第1および第2の基材を剥離角90°で分離するため
に必要な力が約3ポンド/インチ(約0.5kN/m)を超えることを特徴とす
る受動電気物品。 - 【請求項2】 前記必要な力が4ポンド/インチ(0.7kN/m)を超え
ることを特徴とする、請求項1記載の受動電気物品。 - 【請求項3】 前記必要な力が6ポンド/インチ(1kN/m)を超えるこ
とを特徴とする、請求項1記載の受動電気物品。 - 【請求項4】 前記第1の基材または前記第2の基材のいずれかが、黒鉛、
複合材料、金属、あるいはそれらの組み合わせまたは積層体を含むことを特徴と
する、請求項1記載の受動電気物品。 - 【請求項5】 前記第1の基材および前記第2の基材が銅であることを特徴
とする、請求項1記載の受動電気物品。 - 【請求項6】 前記層が、エポキシ、ポリイミド、ポリフッ化ビニリデン、
シアノエチルプルラン、ベンゾシクロブテン、ポリノルボルネン、ポリテトラフ
ルオロエチレン、アクリレート、またはそれらの混合物を含む乾燥または硬化樹
脂を含むことを特徴とする、請求項1記載の受動電気物品。 - 【請求項7】 前記層が、エポキシの混合物を含む硬化樹脂を含むことを特
徴とする、請求項6記載の受動電気物品。 - 【請求項8】 前記層が複数の粒子を含むことを特徴とする、請求項1記載
の受動電気物品。 - 【請求項9】 前記複数の粒子が、チタン酸バリウム、チタン酸バリウムス
トロンチウム、酸化チタン、チタン酸鉛ジルコニウム、銀、ニッケル、ニッケル
をコーティングした球状ポリマー、金をコーティングした球状ポリマー、スズは
んだ、黒鉛、窒化タンタル、金属ケイ素窒化物、半導体、またはそれらの混合物
の粒子であることを特徴とする、請求項8記載の受動電気物品。 - 【請求項10】 前記複数の粒子がチタン酸バリウムの粒子であることを特
徴とする、請求項9記載の受動電気物品。 - 【請求項11】 粒子充填量が、前記層の全体積を基準にして20〜60体
積%であることを特徴とする、請求項8記載の受動電気物品。 - 【請求項12】 前記粒子充填量が、前記層の全体積を基準にして30〜5
5体積%であることを特徴とする、請求項8記載の受動電気物品。 - 【請求項13】 前記粒子充填量が、前記層の全体積を基準にして40〜5
0体積%であることを特徴とする、請求項8記載の受動電気物品。 - 【請求項14】 前記層の厚さが1〜4μmの範囲であることを特徴とする
、請求項1記載の受動電気物品。 - 【請求項15】 前記層と接触する前記第1の基材の前記主面、および前記
層と接触する前記第2の基材の前記主面の平均表面粗さが約10〜約100nm
の範囲であることを特徴とする、請求項1記載の受動電気物品。 - 【請求項16】 前記層と接触する前記第1の基材の前記主面、および前記
層と接触する前記第2の基材の前記主面の平均表面粗さが約10〜約50nmの
範囲であることを特徴とする、請求項1記載の受動電気物品。 - 【請求項17】 前記層の厚さが1μm以下であり、前記層と接触する前記
第1の基材の前記主面、および前記層と接触する前記第2の基材の前記主面の平
均表面粗さが約10〜約50nmの範囲であることを特徴とする、請求項1記載
の受動電気物品。 - 【請求項18】 前記物品が、電気回路を形成するためにパターン形成され
ることを特徴とする、請求項1記載の受動電気物品。 - 【請求項19】 電気回路を形成するための電気接点をさらに含むことを特
徴とする、請求項1記載の受動電気物品。 - 【請求項20】 (1)2つの対向する主面を有し、破片または化学吸着ま
たは吸着した材料が実質的に存在しない第1の金属基材と、2つの対向する主面
を有し、破片または化学吸着または吸着した材料が実質的に存在しない第2の金
属基材と、を提供する工程と、 (2)樹脂を含む混合物を提供する工程と、 (3)硬化または乾燥後に前記混合物が約0.5〜約10μmの範囲の厚さの
層を形成するように、前記第1の基材の第1の主面上に前記混合物をコーティン
グする工程と、 (4)前記第2の基材の前記第1の主面、あるいは前記混合物がコーティング
された前記第2の基材の第1の主面を、前記第1の基材の前記コーティングされ
た第1の主面と積層する工程と、 (5)前記混合物を硬化または乾燥させる工程と、 を含む受動電気物品の製造方法であって、 前記第1および第2の基材は、工程(2)前に焼きなましが行われるか、ある
いは工程(5)の結果として焼きなまされ、 前記第1の基材の前記第1の主面、および前記第2の基材の前記第1の主面の
平均表面粗さが約10〜約300nmの範囲であり、 前記受動電気物品の前記第1および第2の基材を剥離角90°で分離するため
に必要な力が約3ポンド/インチ(約0.5kN/m)を超えることを特徴とす
る受動電気物品の製造方法。 - 【請求項21】 前記混合物が溶剤系でコーティングされることを特徴とす
る、請求項20記載の方法。 - 【請求項22】 工程(1)が表面処理によって実施されることを特徴とす
る、請求項20記載の方法。 - 【請求項23】 請求項1記載の受動電気物品を含むことを特徴とするプリ
ント配線板またはフレキシブル回路。 - 【請求項24】 前記受動電気物品がパターン形成されることを特徴とする
、請求項23記載のプリント配線板またはフレキシブル回路。 - 【請求項25】 請求項23記載のプリント配線板またはフレキシブル回路
を含むことを特徴とする電気装置。 - 【請求項26】 請求項24記載のプリント配線板またはフレキシブル回路
を含むことを特徴とする電気装置。
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