JP3816508B2 - キャパシタ層形成材及びそのキャパシタ層形成材を用いて得られる内蔵キャパシタ層を備えたプリント配線板 - Google Patents
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Description
図1にキャパシタ層形成材の模式断面を示している。この図1から分かるように、キャパシタ層形成材1は、上部電極形成に用いる第1導電層2と下部電極形成に用いる第2導電層4との間に誘電層3を備えている。そして、本件発明に係るキャパシタ層形成材は、前記第2導電層が厚さ10μm〜100μmのニッケル層又はニッケル合金層であり、且つ、第2導電層上に600℃付近での焼成を要するゾル−ゲル法で誘電層を形成したことを特徴としたものである。
本件発明に係るいずれかのキャパシタ層形成材を用いて、種々の方法を用いて内蔵キャパシタ回路を備えるプリント配線板を製造することができる。このようにして得られたプリント配線板に内蔵されたキャパシタ回路は、例え300℃〜400℃の範囲の熱間プレス加工を繰り返し受けても、下部電極を構成する第2導電層に高温耐熱特性に優れた上記複合箔を備えているため、下部電極形状に異常は発生せず、周囲の素材の熱による膨張伸縮の挙動に対する抵抗性を持っている。従って、フッ素樹脂基板、液晶ポリマー基板を使用した多層プリント配線板の内蔵キャパシタ回路形成に好適なものとなる。なお、本件発明に言うプリント配線板とは、コンピュータのマザーボードのような製品から、ICチップ等を直接搭載して用いる小型のパッケージ基板等を含む概念の製品を含むものとして記載している。
本件発明において、ニッケル層又はニッケル合金層を第2導電層として採用したのは、次に述べる4点の理由からである。(1)金属箔としての入手が可能で、その箔状態のままで、その表面にゾル−ゲル法による誘電層の形成が可能である。(2)ゾル−ゲル法で誘電層を形成するときに負荷される過酷な熱履歴に対しての耐酸化性、抗軟化特性が優れている。(3)ニッケル合金組成を変化させることで、一定レベルで誘電層との密着性が制御出来る。(4)単一成分の金属層とすることで、エッチング法により、下部電極形状を形成するときのファインなキャパシタ回路の形成が可能となる。
本件発明に係るキャパシタ層形成材を製造する方法としては、上記ニッケル箔又はニッケル合金箔の表面に誘電層を形成する。この誘電層の材質に関しては特に限定はない。また、誘電層の形成方法についても、いわゆるゾル−ゲル法、誘電体フィラーとバインダー樹脂とを含む誘電体フィラー含有樹脂溶液を用いて塗工により誘電層を形成する塗工法、誘電体フィラーを含有したフィルムをラミネートする方法等種々の公知の方法を採用することが可能である。しかしながら、本件発明のように第2導電層にニッケル箔又はニッケル合金箔を使用する意義は、加工プロセスにおいて、多くの加熱プロセスの存在するゾル−ゲル法での誘電層の形成時に無用な酸化が起こらない等の優れた耐熱特性、抗軟化特性等を期待しているのである。
以上に述べてきた本件発明に係るキャパシタ層形成材を用いることで、誘電層との密着性に優れた下部電極を形成することが可能となり、当該下部電極は耐熱性に優れた素材であるため、300℃〜400℃の範囲の熱間プレス加工を複数回経ても、酸化劣化も起こらず、物性変化も起こしにくいものである。この本件発明に係るキャパシタ層形成材を用いての内蔵キャパシタ回路を備えるプリント配線板の製造方法に関して、特段の限定はなく、あらゆる方法を採用する事が可能となる。但し、以下の実施例に示すように、キャパシタ回路を形成した部位以外の余分な誘電層を可能な限り除去可能なプリント配線板の製造方法を採用することが好ましいのである。
ここでは、下記電解液及び電解条件で、カソード電極上にニッケルを析出させ剥ぎ取ることで、厚さ20μmのニッケル箔を製造した。なお、本件明細書で言う厚さは、平坦面にメッキ法で所定厚さの異種金属層を形成しようとしたときの目付量を基準としたときの厚さであり、現実に製造したニッケル箔の厚さはゲージ厚さとして示したものである。以下の実施例及び比較例において同様である。
NiSO4・6H2O 240g/l
NiCl2・6H2O 45g/l
H3BO3 30g/l
(電解条件)
浴 温 50℃
pH 4.5
電流密度 5A/dm2
陽 極 ニッケル板
陰 極 チタン板
上述のニッケル箔を、キャパシタ層形成材の下部電極の形成に用いる第2導電層の形成に用いることとし、当該ニッケル箔の表面にゾル−ゲル法を用いて誘電層を形成した。ゾル−ゲル法で誘電層を形成する前のニッケル箔は、前処理として、250℃×15分の加熱を行い、紫外線の1分間照射を行った。以下の実施例及び比較例においても同様である。
ここでは、下記電解液及び電解条件で、カソード電極上にニッケル−リン合金を析出させ剥ぎ取ることで、厚さ20μmのリン含有量が0.3wt%のニッケル−リン合金箔を製造した。
NiSO4・6H2O 250g/l
NiCl2・6H2O 40.39g/l
H3BO3 19.78g/l
H3PO3 3.0g/l
(電解条件)
浴 温 50℃
電流密度 20A/dm2
攪 拌 あり
陽 極 不溶性陽極
陰 極 チタン板
以下に述べる比較例は、実施例1の第2導電層を通常の35μm厚さの電解銅箔で構成した点が異なるのみである。従って、重複した説明となる部分の説明は極力省略するものとする。従って、第2導電層の形成に35μm厚さの電解銅箔を用い、実施例1と同様に、その片面にゾル−ゲル法で誘電層を形成してキャパシタ層形成材を製造した。そして、この段階で層間耐電圧測定を行ったが、第1導電層と第2導電層との間でのショート現象が発生しており、キャパシタ層形成材としての製品化が困難であった。従って、以下の内蔵キャパシタ回路を備えるプリント配線板の製造も行わなかった。なお、ここで用いた電解銅箔について、常態と、真空中で400℃×10時間加熱後の引張り強さ及び伸び率を評価した。その結果を表1に示す。
ここで述べる比較例は、実施例1の第2導電層を、35μm厚さの電解銅箔の上に、約3μm厚さの純ニッケル層を形成した複合箔を用いた点が異なるのみである。従って、重複した説明となる部分の説明は極力省略するものとする。
ここで述べる比較例は、実施例1の第2導電層を、35μm厚さの電解銅箔の上に、約3μm厚さのニッケル−リン合金層(リン含有量8wt%)を形成した複合箔を用いた点が異なるのみである。従って、重複した説明となる部分の説明は極力省略するものとする。
NiSO4・6H2O 250g/l
NiCl2・6H2O 40.39g/l
H3BO3 19.78g/l
H3PO3 26.46g/l
(電解条件)
浴 温 50℃
電流密度 20A/dm2
陽 極 銅箔自体をアノード分極
陰 極 ニッケル板
この段階で層間耐電圧測定を行ったが、第1導電層と第2導電層との間でのショート現象は確認出来なかった。そして、第2導電層と誘電層との密着性を調べるため、第2導電層と誘電層との界面での引き剥がし強さの測定を行った。その結果、引き剥がし強さは2gf/cmであり、引き剥がし強度が、上記実施例と比べ極めて低い値となっている。
最初に、比較例に関する所見を述べることとする。第2導電層に通常の電解銅箔を用いた比較例1では、ゾル−ゲル法による誘電層の形成段階で、加熱損傷が大きく、引張り強さ等の物理的損傷が極めて顕著に表れている。そして、キャパシタ層形成材を製造することも困難であり、工業的に見れば、その使用は殆ど不可能と考えられる。
2 第1導電層
3 誘電層
4 第2導電層
5 上部電極
6 銅箔層
7 半硬化樹脂層
7’ 絶縁層
8 樹脂付銅箔
9 下部電極
10 プリント配線板
21 エッチングレジスト層
22 外層回路
23 ビアホール
24 銅メッキ層
Claims (4)
- 上部電極形成に用いる第1導電層と下部電極形成に用いる第2導電層との間に誘電層を備えるプリント配線板のキャパシタ層形成材において、
前記第2導電層は厚さが10μm〜100μmのニッケル層又はニッケル合金層であり、且つ、第2導電層上に600℃付近での焼成を要するゾル−ゲル法で誘電層を形成したことを特徴としたキャパシタ層形成材。 - 圧延法若しくは電解法で製造したニッケル箔又はニッケル合金箔を第2導電層に用いた請求項1に記載のキャパシタ層形成材。
- ニッケル合金は、ニッケル−リン合金又はニッケル−コバルト合金である請求項1又は請求項2に記載のキャパシタ層形成材。
- 請求項1〜請求項3のいずれかに記載のキャパシタ層形成材を用いて得られる内蔵キャパシタ層を備えたプリント配線板。
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