JP2002352997A - 防爆型無発塵イオナイザー - Google Patents
防爆型無発塵イオナイザーInfo
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Abstract
こすことなく、防爆施設や装置での使用を可能とした防
爆型無発塵イオナイザーを提供する。 【解決手段】 チャンバ内に供給されたイオン搬送ガス
の一部をイオン化するイオン化部と、帯電体に向かって
イオン搬送ガスを供給する吹出部を有するチャンバを備
え、イオン化部をチャンバに内蔵されたイオン化源と、
このイオン化源と高電圧ケーブルを介して接続された制
御装置とから構成し、イオン化源として、軟X線発生装
置の発生部、低エネルギー電子線発生装置の発生部又は
紫外線発生装置の発生部のいずれかを用い、制御装置、
制御装置と高電圧ケーブルとの接続部及びイオン化源と
高電圧ケーブルとの接続部を防爆構造とする。
Description
ためのイオナイザーに係り、特に、防爆施設や装置での
使用を可能とした防爆型無発塵イオナイザーに関するも
のである。
は、可燃粉体の空気搬送時の詰まりや篩の目詰まり、内
面をテフロン(登録商標)コーティングした有機溶剤等
の撹拌タンク内の帯電及び放電等が問題になっていた。
従来、このような撹拌タンク内の帯電及び放電は、N2
ガスで空気をパージして、着火につながる酸素を除去す
ることにより、有機溶剤の着火を防止していた。しか
し、このような除電方法は、給排気設備等の付帯設備の
イニシャルコスト及びランニングコストが高価なものと
なるため、望ましいものではなかった。
イ(以下、LCD)等を製造するクリーンルーム等の生
産環境における静電気を除去する装置として、イオンに
より帯電体の電荷を中和する空気イオン化装置が用いら
れている。このような空気イオン化装置としてはコロナ
放電式イオナイザーが汎用されており、このコロナ放電
式イオナイザーは、正または負の電極に正または負の高
電圧をそれぞれ印加することによりコロナ放電を発生さ
せ、上記電極先端の周囲の空気を正と負とにイオン化
し、このイオンを気流によって搬送して帯電体上の電荷
を逆極性のイオンで中和するものである。
は、上述したような空気イオン化装置を防爆施設や装置
に適用することができるか否かについて検討したとこ
ろ、以下のような問題点があることが分かった。すなわ
ち、従来から汎用されているコロナ放電式イオナイザー
は、コロナ放電自体が着火源になる危険性が高いため、
危険物取扱い施設等の防爆施設で使用することはできな
かった。
ンの発生を容易にし、発生したイオンの消耗を防止する
ために、除電対象物の近くで、電極を露出した状態で空
気をイオン化していたため、次のような問題も発生して
いた。 (1)オゾンの発生 除電対象物近傍の空気をコロナ放電によりイオン化して
いるため、空気中の窒素や水蒸気がイオン化する以外
に、酸素がオゾンとなる反応も起こる。このオゾンの酸
化作用により、シリコンウエハの表面が酸化されたり、
空気中の微量の不純物と反応して2次粒子が発生する原
因となる。 (2)電磁ノイズの発生 放電時に放電極から発生する不規則な電磁波が、半導体
素子を内蔵した精密機器やコンピュータなどの誤動作を
引き起こす原因となる。
した電極材が飛散する。また、空気中の微量ガス成分が
コロナ放電により粒子化してイオン発生電極上に析出
し、これがある程度の大きさになると再飛散する。この
ような発塵により、歩留りが低下する。また、近年、軟
X線をイオン化源とするイオナイザーが開発されている
が、イオナイザーと電気ケーブルとの接続部やイオン化
源の制御装置が防爆仕様ではなかったため、危険物取扱
い施設等の防爆施設で使用することはできなかった。
点を解決するために提案されたものであり、その目的
は、オゾンや電磁ノイズ、及び発塵等の発生を起こすこ
となく、防爆施設や装置での使用を可能とした防爆型無
発塵イオナイザーを提供することにある。
め、請求項1に記載の発明は、チャンバ内に供給された
イオン搬送ガスの一部をイオン化するイオン化部と、帯
電体に向かってイオン搬送ガスを供給する吹出部を有す
るチャンバを備え、前記イオン化部が、前記チャンバに
内蔵されたイオン化源と、前記チャンバの外部に設けら
れ、高電圧ケーブルを介して前記イオン化源によるイオ
ン発生量を制御する制御装置とから構成された防爆型無
発塵イオナイザーにおいて、前記イオン化源が、軟X線
発生装置の発生部、低エネルギー電子線発生装置の発生
部又は紫外線発生装置の発生部のいずれかであり、前記
制御装置、前記制御装置と高電圧ケーブルとの接続部及
び前記イオン化源と高電圧ケーブルとの接続部が防爆構
造とされていることを特徴とするものである。
の防爆型無発塵イオナイザーにおいて、前記制御装置
が、気密構造を有し、装置内を一定温度に保持すること
ができる冷却手段を備えていることを特徴とするもので
ある。請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の防爆
型無発塵イオナイザーにおいて、前記冷却手段が、熱電
冷凍素子により構成されていることを特徴とするもので
ある。
求項3のいずれか一に記載の防爆型無発塵イオナイザー
において、前記高電圧ケーブルと制御装置との接続部
が、着脱可能なプラグ及びコンセントから構成され、前
記プラグには所定の長さを有する電極支持部が設けら
れ、この電極支持部の先端部に電極が配設され、前記コ
ンセントには、前記電極支持部が挿入される挿入穴が形
成され、この挿入穴の最奥部に電極が配設され、前記高
電圧ケーブルと制御装置の電気的接続は、前記プラグの
先端に配設された電極とコンセントの挿入穴の最奥部に
配設された電極によりなされ、前記電極の着脱は、前記
プラグの電極支持部をコンセントの挿入穴内で気密性を
保持した状態で行われるように構成されていることを特
徴とするものである。
求項4のいずれか一に記載の防爆型無発塵イオナイザー
において、前記イオン化源と高電圧ケーブルとの接続部
が、絶縁性を有する筒状の樹脂と、その内部に充填され
た絶縁性の樹脂により構成されていることを特徴とする
ものである。
求項5に記載の防爆型無発塵イオナイザーによれば、イ
オン化源として、着火要因となるコロナ放電を用いてい
ないため、有機溶剤等の可燃物への着火を防止すること
ができる。また、制御装置を請求項2あるいは請求項3
に記載の構成とすることにより防爆構造とすることがで
きるため、制御装置内に設置された電源及び制御基板に
よる有機溶剤等の可燃物への着火を防止することができ
る。
部を請求項4に記載の構成とすることにより、電極の着
脱をプラグの電極支持部とコンセントの挿入穴で構成さ
れる気密性を有する空間で行うことができるので、プラ
グ着脱時の放電による有機溶剤等の可燃物への着火を防
止することができる。さらに、イオン化源と高電圧ケー
ブルの接続部を、請求項5に記載の構成とすることによ
り、この接続部での有機溶剤等の可燃物への着火を防止
することができる。
求項5のいずれか一に記載の防爆型無発塵イオナイザー
において、前記チャンバ内のイオン化部の下流側に、前
記イオン化源から発生する軟X線又は低エネルギー電子
線を遮蔽するための遮蔽部が形成されていることを特徴
とするものである。上記のような構成を有する請求項6
に記載の防爆型無発塵イオナイザーによれば、イオン化
源から軟X線又は低エネルギー電子線が発生する場合
に、チャンバ内に遮蔽部を形成することにより、それら
が外部に漏れるのを防止することができる。
求項6のいずれか一に記載の防爆型無発塵イオナイザー
において、前記吹出部が、前記チャンバの開口端に取り
付けられた所定の形状を有するノズルから構成されてい
ることを特徴とするものである。上記の構成を有する請
求項7に記載の発明によれば、防爆型無発塵イオナイザ
ーの開口端に、用途に合わせて選定した所望の形状を有
するノズルを取り付けることにより、円錐状の気流やカ
ーテン状の気流等、所望の気流を帯電体に向けて吹き付
けることができるので、より効率的な除電を行うことが
できる。
求項6のいずれか一に記載の防爆型無発塵イオナイザー
において、前記吹出部が、前記チャンバの開口端に取り
付けられた屈曲自在のホースと、その先端に取り付けら
れた所定の形状を有するノズルとから構成されているこ
とを特徴とするものである。上記の構成を有する請求項
8に記載の発明によれば、防爆型無発塵イオナイザーの
開口端に、屈曲自在のホースと、その先端に取り付けら
れた所望の形状を有するノズルを取り付けることによ
り、円錐状の気流やカーテン状の気流等、所望の気流を
帯電体の形状や配置に合わせて吹き付けることができる
ので、より効率的な除電を行うことができる。
求項6のいずれか一に記載の防爆型無発塵イオナイザー
において、前記チャンバの下流側側面の一部に複数個の
開口が形成され、この開口を介して帯電体にイオン搬送
ガスが供給されるように構成されていることを特徴とす
るものである。上記の構成を有する請求項9に記載の発
明によれば、チャンバの下流側側面の一部に形成された
複数個の開口が、遮蔽部と吹出部を兼ねているので、簡
易な構成で、遮蔽と同時に除電対象に向けてイオン化気
流を吹き付けることができる。
態(以下、実施形態という)を図面を参照して説明す
る。 (1)第1実施形態 (1−1)構成 (1−1−1)全体構成 図1は、本実施形態による防爆型無発塵イオナイザーの
全体構成を示す模式図である。同図において、1は円柱
状のイオン化チャンバ(以下、チャンバという)であ
り、アルミ、ステンレス等の金属、塩化ビニル等の樹脂
から構成されている。また、このチャンバ1は、大別し
てイオン化部、遮蔽部及び吹出部から構成され、チャン
バ1の内部にはイオン化源4が配設され、このイオン化
源4が高電圧ケーブル6を介してイオン化源4によるイ
オン発生量を制御する制御装置5に接続されている。
ザーは、制御装置5の構成、制御装置5と高電圧ケーブ
ル6との接続部(図1のA部)の構成、上記イオン化源
4と高電圧ケーブル6との接続部(図1のB部)の構成
に特徴を有するものである。以下、各部の構成について
詳述する。
気密チャンバ51から構成されている。また、制御装置
5の内部には、上記イオン化源4から軟X線、低エネル
ギー電子線もしくは紫外線を発生させるための制御部で
ある制御基板53と、冷却された空気等を循環させる循
環ファン54と、装置内部を一定温度に制御する冷却装
置55とが設けられている。さらに、前記制御基板53
には電源ケーブル56が接続され、外部に設けられた防
爆コンセント(図示せず)に接続できるように構成され
ている。なお、本実施形態においては、上記冷却装置5
5は、例えば、アルミ製の放熱板にペルチェ素子(熱電
冷凍素子)を取り付けて構成されている。
の接続部の構成 図2(A)は、上記制御装置5と高電圧ケーブル6との
接続部(図1のA部)の構成を示す拡大断面図である。
なお、この接続部は、以下に述べるように防爆仕様とな
っている。すなわち、高電圧ケーブル6の先端部にはプ
ラグ61が取り付けられ、制御装置5の側壁に配設され
たコンセント71と着脱可能に接続できるように構成さ
れている。また、前記プラグ61は3芯構造とされ、所
定の長さ“L”を有する電極支持部62の先端に電極6
3が取り付けられている。また、前記プラグ61の基部
61aの外側には、内壁にネジ部64が形成された袋ナ
ット65が回転可能に取り付けられている。
セント71には、前記プラグ61に形成された電極支持
部62と係合する挿入穴72が設けられ、その最奥部に
前記プラグ側の電極63と接続される電極73が設けら
れている。また、コンセント71のフランジ部71aに
は、その外周面にネジ部74が形成され、前記プラグ6
1に取り付けられた袋ナット65のネジ部64と係合す
るように構成されている。
極支持部62に対応して“L”とされ、この長さ“L”
は、両電極の着脱をプラグ61の電極支持部62とコン
セント71の挿入穴72で構成される気密性を有する空
間で行うことができるような長さに設定されている。ま
た、図2(B)に示したように、プラグ61とコンセン
ト71の接続部の気密性を保持するために、電極支持部
62の基端部にOリング等のパッキン66を設けても良
い。
ルの接続部の構成 イオン化源4と高電圧ケーブル6との接続部(図1のB
部)は、図2(C)に示すように、電気絶縁性を有する
塩化ビニル、ポリプロピレン、アクリル等の樹脂製のパ
イプ41をチャンバ1の側面に貫通配置し、そのパイプ
の内部に、エポキシ樹脂等の絶縁性樹脂42を埋め込む
ことにより構成されている。
側端部)には、チューブフィッティング2を介して細い
チューブ(図示せず)が接続され、このチューブを通し
て、チャンバ1内に除電対象室内の空気、又は高純度N
2ガス等の非反応性ガス(以下、イオン搬送ガスとい
う)が供給されるように構成されている。なお、ここで
「高純度N2ガス」とは、負イオンを形成する程度の酸
素や水蒸気を含み、且つ、その酸素濃度はオゾンを発生
しない程度(5%程度以下)であるN2ガスをいう。
ング2の配設位置近傍には、イオン化源4が設置されて
いる。なお、このイオン化源4と上記制御装置5により
イオン発生装置が構成されている。また、前記イオン化
源4は、軟X線発生装置の発生部、低エネルギー電子線
発生装置の発生部、又は紫外線発生装置の発生部等から
なり、チャンバ1内を流れるイオン搬送ガスをイオン化
するように構成されている。
1の遮蔽部が、直径が3φ程度の細孔11が多数設けら
れた2枚のパンチング板10a、10bにより構成さ
れ、これら2枚のパンチング板10a、10bは、互い
に3mm程度離して、且つ細孔11が重ならないように
ずらして設置されている。
の近傍に配置され、上記イオン発生装置において発生し
た正負イオンをこの帯電体に向けて供給するように構成
されている。
9.5keV程度のエネルギーを有する微弱X線であ
り、2mm厚さ程度の塩化ビニル板で容易に遮蔽するこ
とができるものである。また、低エネルギー電子線は、
例えばウシオ電機株式会社製の超小型電子ビーム照射管
チューブ等により数10kVの低い動作電圧で取り出さ
れた電子ビーム(ソフトエレクトロン)であり、空気中
では5cm程度の到達距離しかなく、その領域の空気あ
るいはガスをイオン化する。
気体中ではオゾンを発生すると同時に軟X線も発生する
ため、遮蔽が必要となる。そのため、イオン化源として
低エネルギー電子線を用いる場合には、イオン搬送ガス
として、高純度N2ガス等のようにオゾンが発生しない
程度の酸素を含む非反応性ガスを用いることが望まし
い。また、紫外線発生装置から発生する紫外線は400
nm以下の短波長であり、30w程度の出力である。
合は、チャンバ1に供給するイオン搬送ガスとして空気
及び非反応性ガスのいずれを用いてもよいが、イオン化
源4が低エネルギー電子線の発生部又は紫外線の発生部
である場合は、高純度N2ガス等のようにオゾンが発生
しない程度の酸素を含む非反応性ガスを用いることが望
ましい。
型無発塵イオナイザーの作用・効果について説明する。
本実施形態の防爆型無発塵イオナイザーは、着火要因と
なるコロナ放電をイオン化源として用いずに、軟X線発
生装置の発生部、低エネルギー電子線発生装置の発生
部、紫外線発生装置の発生部等をイオン化源として用い
ているため、有機溶剤等の可燃物への着火を防止するこ
とができる。
ザーにおいては、上記のイオン化源によるイオン発生量
を制御する制御装置5内に、ペルチェ素子(熱電冷却素
子)等からなる冷却装置55を配設したことにより、制
御装置内に設置された電源及び制御基板からの発熱を吸
収して、装置内を一定温度に制御することができるの
で、制御装置を気密構造とすることが可能となる。その
結果、装置内に設置された電源及び制御基板による有機
溶剤等の可燃物への着火を防止することができる。
接続部を図2に示したような防爆構造としたことによ
り、電極の着脱をプラグ61の電極支持部62とコンセ
ント71の挿入穴72で気密性を有する空間で行うこと
ができるので、プラグ着脱時の放電による有機溶剤等の
可燃物への着火を防止することができる。また、イオン
化源4と高電圧ケーブル6の接続部も図1に示したよう
な防爆構造としたことにより、この接続部での有機溶剤
等の可燃物への着火を防止することができる。
ザーにおいては、図示しないチューブ及びチューブフィ
ッティング2を介してチャンバ1に供給されたイオン搬
送ガスは、チャンバ1内に内蔵されたイオン化源4によ
って軟X線、低エネルギー電子線、紫外線等が照射され
ることにより、正負のイオンとなる。そして、これら正
負イオンはイオン化部の下流側に設けられた遮蔽部を通
過して、チャンバ1の先端部から除電対象となる帯電体
に供給され、帯電体上の正負の逆極性の電荷をそれぞれ
中和することができる。
オナイザーにおいては、イオン化源4が軟X線の発生部
である場合、イオン搬送ガスとして空気もしくは非反応
性ガスのいずれを用いてもオゾンが発生することがな
い。また、電極材の飛散や空気中の不純物の堆積及び再
飛散のような発塵がなく、かつ、電磁ノイズの発生も起
こらない。また、イオン化源4が低エネルギー電子線又
は紫外線の発生部である場合は、イオン搬送ガスとして
高純度N2ガス等のようにオゾンが発生しない程度の酸
素を含む非反応性ガスを使用することにより、イオン化
に当たってオゾンの発生がなく、発塵及び電磁ノイズの
発生も起こらない。
は、薄い塩化ビニル板等で十分遮蔽することができ、反
射はほとんどないため、図1に示すような簡単な構造で
遮蔽することができる。また、イオン化源4からチャン
バ出口までの距離が短いため、正負イオンの再結合によ
るイオンの減少がほとんどないという利点もある。ま
た、上記のような遮蔽部を設けたことにより、チャンバ
吹出口からの気流の乱れを小さくできるため、気流の乱
れに起因するイオン量の減少を少なくすることができる
という効果も得られる。
塵イオナイザーによれば、オゾンや電磁ノイズ及び発塵
等の発生を起こすことなく、防爆施設や装置での使用を
可能としたイオナイザーを得ることができる。
した変形例である。図3に示したように、本実施形態に
おいては、チャンバ1の遮蔽部が、半円状の2枚の隔壁
7,7から構成され、これらの隔壁7,7は、チャンバ
1の上部と下部とに一定の間隔をおいて交互に形成され
ている。すなわち、イオン化源4が軟X線の発生部又は
低エネルギー電子線の発生部である場合、直進する軟X
線又は電子線が隔壁7,7に当たるように構成され、そ
れらが外部に漏れないように遮蔽される構成となってい
る。なお、イオン化源4が紫外線の発生部である場合
は、この遮蔽部は不要である。その他の構成は上記第1
実施形態と同様であるので、説明は省略する。
爆型無発塵イオナイザーは、上記第1実施形態と同様の
作用・効果を有し、防爆施設や装置において使用するこ
とができると共に、簡易な構成で、チャンバ1のイオン
化部の下流側周辺を遮蔽構造とすることができる。
した変形例である。なお、本実施形態の吹出部を、上記
第2実施形態に適用できることは言うまでもない。図4
に示したように、本実施形態においては、チャンバ1の
遮蔽部の下流側に、イオン化気流を噴出させるためのノ
ズル20が設けられている。このノズル20としては、
例えば、SILVENT社製のノズル216、フラット
ノズル920、エアーカーテン302−306、エアー
ナイフ392−396等が用いられる。
爆型無発塵イオナイザーにおいては、上記第1実施形態
あるいは第2実施形態と同様の作用・効果が得られるだ
けでなく、吹出部に所望の形状・大きさを有するノズル
20を取り付けることにより、イオン化気流を高速で帯
電体に吹き付け、除電しながら帯電体に付着したごみ等
を高効率で除去することができる。また、種々のノズル
20を選択することにより、イオン化気流を円錐状に広
角で広げたり、エアカーテン状に広げることができるの
で、除電対象に合わせてイオン化気流をコントロールす
ることができる。さらに、開口度を調整することができ
るノズルを使用することにより、イオン化気流の噴出速
度を容易に変更することができる。
に変更した変形例である。図5に示したように、本実施
形態においては、チャンバ1の吹出部にフレキシブルホ
ース30が取り付けられ、その先端にノズル31が取り
付けられている。なお、このノズル31としては、上記
第3実施形態と同様に、例えば、SILVENT社製の
ノズル216、フラットノズル920、エアーカーテン
302−306、エアーナイフ392−396等が用い
られる。なお、このフレキシブルホース30は、ビニー
ルチューブ等と異なり、設定した形を保持できる構造に
なっている。
爆型無発塵イオナイザーにおいては、吹出部にフレキシ
ブルホース30を取り付け、さらにその先端にノズル3
1を取り付けることにより、上記第1実施形態乃至第3
実施形態と同様の作用・効果が得られるだけでなく、イ
オン化気流を高速で帯電体に吹き付け、除電しながら帯
電体に付着したごみ等を高効率で除去することができ
る。また、種々のノズル31を選択することにより、イ
オン化気流を円錐状に広角で広げたり、エアカーテン状
に広げることができるので、除電対象に合わせてイオン
化気流をコントロールすることができる。さらに、ノズ
ルの開口を調整することができるノズルを使用すること
により、イオン化気流の噴出速度を容易に変更すること
ができる。
ものである。図6に示したように、本実施形態において
は、イオン化源4の下流側のチャンバの一部(例えば、
側面)に、X線等を遮蔽できる程度の開口(直径1φ程
度の孔)40が、除電対象に合わせて1つあるいは複数
個形成されている。なお、本実施形態においては、これ
らの開口40が、遮蔽部及び吹出部として機能してい
る。
爆型無発塵イオナイザーにおいては、イオン化源4の下
流側のチャンバの一部に、X線等を遮蔽できる程度の開
口40を複数個形成することにより、遮蔽と同時に、除
電対象に向けてイオン化気流を噴出することができる。
なお、本実施形態は、以下に述べるように、カセット内
のガラス基板の隙間等の狭い場所に、イオン化気流を奥
まで吹き込み除電する場合に非常に有効である。
成に特徴を有するものである。すなわち、本実施形態に
おける吹出口81は、図7に示したように、円柱状ある
いは角柱状に形成され、その上流側にはチャンバ82及
びダクト83が接続されている。また、ダクト83は、
前記チャンバ82及び吹出口81を介して、防爆施設の
除電対象に空気、又は高純度N2ガス等の非反応性ガス
(以下、イオン搬送ガスという)を供給するための配管
であり、また、チャンバ82は、下流側の断面積が上流
側より大きくなるように、例えば円錐状や四角錐状に形
成され、その上流側の端部が前記ダクト83に連結さ
れ、下流側の端部が前記吹出口81に連結されている。
なお、チャンバ82と吹出口81とを一体に構成するこ
とができることは言うまでもない。
遮蔽部84が設けられている。この遮蔽部84は、例え
ば図7に示すように、直径が約5mmφ、開口ピッチ1
2mm程度の細孔85が多数設けられた厚み1mmの2
枚のパンチング板86a、86bにより構成され、これ
ら2枚のパンチング板86a、86bは、互いに3mm
程度離して、前記細孔85が重ならないようにずらして
設置されている。さらに、吹出口81の先端部は開放さ
れ、帯電体Sの近傍に配置されており、イオン発生装置
において発生した正負イオンを、この帯電体Sに向けて
供給するように構成されている。
発生装置が設けられている。このイオン発生装置は、吹
出口81の側部に配置されたイオン化源4と、このイオ
ン化源4によるイオン発生量を制御する制御装置5とか
ら構成されている。なお、この制御装置5は吹出口81
の外部に配置され、イオン化源4から軟X線、もしくは
紫外線を発生させるための電源部及び制御部からなり、
高電圧ケーブル6によってイオン化源4と接続されてい
る。なお、この制御装置5の構成、高電圧ケーブル6と
制御装置5の接続部の構成、イオン化源4と高電圧ケー
ブル6の接続部の構成は、上記第1実施形態と同様であ
るので、説明は省略する。
爆型無発塵イオナイザーにおいては、防爆施設や装置に
おいて使用することができると共に、吹出口81の出口
部近傍にイオン化源4を内蔵することにより、吹出口8
1の近傍でイオン搬送ガスをイオン化し、イオン化した
空気等を所望の除電対象に供給することができる。ま
た、吹出口81の側部にイオン化源4を内蔵し、吹出口
と水平に軟X線等の放射線を照射することにより、一つ
のイオン化源で広い範囲をカバーすることができる。さ
らに、吹出口81の出口部の近傍にイオン化源4が内蔵
されているため、イオン化源4から吹出口の出口までの
距離が短く、正負イオンの再結合によるイオンの減少が
少ないという効果も得られる。
施形態の変形例であって、図8及び図9に示したよう
に、吹出口81の上流側にHEPAフィルタあるいはU
LPAフィルタ等の層流形成用フィルタ91を設置する
と共に、吹出口81の遮蔽部84に配設される2枚のパ
ンチング板86a,86bの上流側に、竪穴を有するア
ルミハニカム92を配設したものである。なお、竪穴を
有するアルミハニカム92を設置する代わりに、図9
(C)に示したようなスリーブ付きパンチング板93を
配設しても良い。その他の構成は上記第6実施形態と同
様であるので、説明は省略する。
爆型無発塵イオナイザーにおいては、防爆施設や装置に
おいて使用することができると共に、吹出口81の上流
側に層流形成用フィルタ91を配設したことにより、チ
ャンバ82から送り込まれるイオン搬送ガスを層流とす
ることができる。その結果、乱流(噴流)が吹出口に供
給された場合に、そのミキシング効果により正負イオン
の再結合が促進されてイオン量が減少し、除電性能が低
下するといった不具合を防止することができるので、よ
り効率的なイオン化が実施でき、優れた除電性能を得る
ことができる。
パンチング板86a,86bを、所定の間隔を開けてそ
れぞれに形成した細孔が重ならないようにずらして設置
した場合には、斜め上方よりパンチング板86a,86
bの細孔に入射する軟X線等の放射線を完全に遮蔽する
ことは困難である。しかし、図8に示したような本実施
形態の吹出口においては、斜め上方より入射する軟X線
等は、図9(B)に示したように、アルミハニカム92
の竪穴部の側壁に当たることにより完全に遮蔽され、ま
た、図9(C)に示したように、スリーブ付きパンチン
グ板93のスリーブの側壁に当たることにより完全に遮
蔽される。
なく、以下に示すような各種態様も可能である。すなわ
ち、具体的な各部材の形状、あるいは取付位置及び方法
は適宜変更可能である。例えば、遮蔽部の形状は、上記
の各実施形態に示すようなパンチング板に限らず、直進
する軟X線又は低エネルギー電子線等が外部に漏れず、
かつ、発生する正負のイオンが搬送され得る形状であれ
ばどのようなものでもよい。
ギー電子線、紫外線に限らず、イオン化によりオゾンの
発生、発塵及び電磁ノイズの発生のないものであれば、
他の電磁波又はビーム等を使用することができる。さら
に、図10に示したように、給気用ファン94を内蔵す
る構成としても良い。
ンや電磁ノイズ、及び発塵等の発生を起こすことなく、
防爆施設や装置での使用が可能な防爆型無発塵イオナイ
ザーを提供することができる。
実施形態の構成を示す模式図
構成を示す断面図、(B)は電極支持部の基端部にパッ
キンを設けた状態を示す図、(C)はイオン化源と高電
圧ケーブルの接続部の構成を示す断面図
実施形態の構成を示す模式図
実施形態の構成を示す模式図
実施形態の構成を示す模式図
実施形態の構成を示す模式図
実施形態の構成を示す模式図
実施形態の構成を示す模式図
を示す図であって、(A)は遮蔽部が2枚のパンチング
板から構成されている場合、(B)は遮蔽部にアルミハ
ニカムを設置した場合、(C)は遮蔽部にスリーブ付き
パンチング板を設置した場合を示す図
の実施形態の構成を示す模式図
Claims (9)
- 【請求項1】 チャンバ内に供給されたイオン搬送ガス
の一部をイオン化するイオン化部と、帯電体に向かって
イオン搬送ガスを供給する吹出部を有するチャンバを備
え、前記イオン化部が、前記チャンバに内蔵されたイオ
ン化源と、前記チャンバの外部に設けられ、高電圧ケー
ブルを介して前記イオン化源によるイオン発生量を制御
する制御装置とから構成された防爆型無発塵イオナイザ
ーにおいて、 前記イオン化源が、軟X線発生装置の発生部、低エネル
ギー電子線発生装置の発生部又は紫外線発生装置の発生
部のいずれかであり、 前記制御装置、前記制御装置と高電圧ケーブルとの接続
部及び前記イオン化源と高電圧ケーブルとの接続部が防
爆構造とされていることを特徴とする防爆型無発塵イオ
ナイザー。 - 【請求項2】 前記制御装置が、気密構造を有し、装置
内を一定温度に保持することができる冷却手段を備えて
いることを特徴とする請求項1に記載の防爆型無発塵イ
オナイザー。 - 【請求項3】 前記冷却手段が、熱電冷凍素子により構
成されていることを特徴とする請求項2に記載の防爆型
無発塵イオナイザー。 - 【請求項4】 前記高電圧ケーブルと制御装置との接続
部が、着脱可能なプラグ及びコンセントから構成され、
前記プラグには所定の長さを有する電極支持部が設けら
れ、この電極支持部の先端部に電極が配設され、前記コ
ンセントには、前記電極支持部が挿入される挿入穴が形
成され、この挿入穴の最奥部に電極が配設され、 前記高電圧ケーブルと制御装置の電気的接続は、前記プ
ラグの先端に配設された電極とコンセントの挿入穴の最
奥部に配設された電極によりなされ、 前記電極の着脱は、前記プラグの電極支持部をコンセン
トの挿入穴内で気密性を保持した状態で行われるように
構成されていることを特徴とする請求項1乃至請求項3
のいずれか一に記載の防爆型無発塵イオナイザー。 - 【請求項5】 前記イオン化源と高電圧ケーブルとの接
続部が、絶縁性を有する筒状の樹脂と、その内部に充填
された絶縁性の樹脂により構成されていることを特徴と
する請求項1乃至請求項4のいずれか一に記載の防爆型
無発塵イオナイザー。 - 【請求項6】 前記チャンバ内のイオン化部の下流側
に、前記イオン化源から発生する軟X線又は低エネルギ
ー電子線を遮蔽するための遮蔽部が形成されていること
を特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか一に記載
の防爆型無発塵イオナイザー。 - 【請求項7】 前記吹出部が、前記チャンバの開口端に
取り付けられた所定の形状を有するノズルから構成され
ていることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれ
か一に記載の防爆型無発塵イオナイザー。 - 【請求項8】 前記吹出部が、前記チャンバの開口端に
取り付けられた屈曲自在のホースと、その先端に取り付
けられた所定の形状を有するノズルとから構成されてい
ることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか一
に記載の防爆型無発塵イオナイザー。 - 【請求項9】 前記チャンバの下流側側面の一部に複数
個の開口が形成され、この開口を介して帯電体にイオン
搬送ガスが供給されるように構成されていることを特徴
とする請求項1乃至請求項6のいずれか一に記載の防爆
型無発塵イオナイザー。
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TW (1) | TWI242394B (ja) |
WO (1) | WO2002098188A1 (ja) |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004112445A1 (ja) * | 2003-06-13 | 2004-12-23 | Pla-Net Corporation | 軟x線照射装置及び半導体の組立装置並びに検査装置 |
JP2005211797A (ja) * | 2004-01-29 | 2005-08-11 | Toyota Motor Corp | 除電除塵器 |
JP2008536284A (ja) * | 2005-04-19 | 2008-09-04 | スンチェ・ハイテック・カンパニー・リミテッド | 可撓型軟x線イオナイザ |
JP2009078961A (ja) * | 2007-09-04 | 2009-04-16 | Mitsubishi Materials Corp | クリーンベンチ |
JP2009541094A (ja) * | 2006-06-20 | 2009-11-26 | イーストマン コダック カンパニー | インクジェットプリンタヘッドにおける乱流の減少 |
WO2010023979A1 (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-04 | シャープ株式会社 | イオン検出装置及びイオン発生装置 |
KR101268175B1 (ko) | 2009-03-26 | 2013-05-27 | 샤프 가부시키가이샤 | 이온 발생 장치 |
US8691158B2 (en) | 2008-08-28 | 2014-04-08 | Sharp Kabushiki Kaisha | Ion generation apparatus |
WO2016160300A1 (en) * | 2015-04-02 | 2016-10-06 | Moxtek, Inc. | Flowing-fluid x-ray induced ionic electrostatic dissipation |
US9779847B2 (en) | 2014-07-23 | 2017-10-03 | Moxtek, Inc. | Spark gap X-ray source |
US9826610B2 (en) | 2014-07-23 | 2017-11-21 | Moxtek, Inc. | Electrostatic-dissipation device |
US9839106B2 (en) | 2014-07-23 | 2017-12-05 | Moxtek, Inc. | Flat-panel-display, bottom-side, electrostatic-dissipation |
US10524341B2 (en) | 2015-05-08 | 2019-12-31 | Moxtek, Inc. | Flowing-fluid X-ray induced ionic electrostatic dissipation |
KR102552934B1 (ko) * | 2023-02-06 | 2023-07-07 | 주식회사 저스템 | 배플 구조를 갖춘 진공 제전 장치 |
KR102677916B1 (ko) * | 2023-05-02 | 2024-06-25 | 주식회사 저스템 | 진공 제전 장치 |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060140571A1 (en) * | 2003-06-26 | 2006-06-29 | Bong-Hoon Lee | Method and apparatus for installing an optical-fiber unit capable of removing static electricity |
WO2005101923A1 (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-27 | Kansai Technology Licensing Organization Co., Ltd. | 異極像結晶体を用いたx線発生装置およびそれを用いたオゾン発生装置 |
JP4594111B2 (ja) * | 2005-01-17 | 2010-12-08 | 株式会社コガネイ | 除電装置および放電モジュール |
JP4369386B2 (ja) * | 2005-03-25 | 2009-11-18 | セイコーエプソン株式会社 | 軟x線除電装置 |
JP5032827B2 (ja) * | 2006-04-11 | 2012-09-26 | 高砂熱学工業株式会社 | 除電装置 |
GB0613882D0 (en) * | 2006-07-12 | 2006-08-23 | Kidde Ip Holdings Ltd | Smoke detector |
KR100676527B1 (ko) * | 2006-10-16 | 2007-01-30 | (주)선재하이테크 | 연엑스선을 이용한 이오나이저 및 대전물체의 전하 제거방법 |
EP2036856B1 (en) | 2007-09-04 | 2018-09-12 | Mitsubishi Materials Corporation | Clean bench and method of producing raw material for single crystal silicon |
US7796727B1 (en) | 2008-03-26 | 2010-09-14 | Tsi, Incorporated | Aerosol charge conditioner |
JP5322666B2 (ja) * | 2008-11-27 | 2013-10-23 | 株式会社Trinc | オゾンレス除電器 |
JP5354281B2 (ja) * | 2009-06-25 | 2013-11-27 | 日本メクトロン株式会社 | シール構造体 |
CN102136681B (zh) * | 2010-01-26 | 2013-01-02 | 罗莎国际有限公司 | 自冷式离子化空气产生装置 |
JP5485056B2 (ja) * | 2010-07-21 | 2014-05-07 | 東京エレクトロン株式会社 | イオン供給装置及びこれを備えた被処理体の処理システム |
WO2012064979A1 (en) * | 2010-11-10 | 2012-05-18 | Tessera, Inc. | Electronic system with ehd air mover ventilation path isolated from internal air plenum |
US9053892B2 (en) | 2010-12-30 | 2015-06-09 | Walter Kidde Portable Equipment, Inc. | Ionization device |
JP5937918B2 (ja) * | 2012-08-08 | 2016-06-22 | シャープ株式会社 | イオン発生装置およびこれを備えた除電装置 |
US20140284204A1 (en) * | 2013-03-22 | 2014-09-25 | Airmodus Oy | Method and device for ionizing particles of a sample gas glow |
CN103353142A (zh) * | 2013-05-30 | 2013-10-16 | 苏州华达仪器设备有限公司 | 一种空气静电中和装置 |
US9084334B1 (en) | 2014-11-10 | 2015-07-14 | Illinois Tool Works Inc. | Balanced barrier discharge neutralization in variable pressure environments |
CN107114002A (zh) * | 2014-11-13 | 2017-08-29 | 莫克斯泰克公司 | 静电耗散装置 |
JP6655418B2 (ja) * | 2016-02-17 | 2020-02-26 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
US10744515B2 (en) * | 2016-08-26 | 2020-08-18 | Plasma Shield Pty Ltd | Gas purifying apparatus |
KR102020911B1 (ko) * | 2018-02-26 | 2019-09-11 | (주)선재하이테크 | 가스 스트림에 적용되는 인-라인형 정전기 제거장치 |
US20240194454A1 (en) * | 2022-12-08 | 2024-06-13 | Hamamatsu Photonics K.K. | Inductively Coupled Plasma Light Source with Direct Gas Injection |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2677945B2 (ja) * | 1993-06-18 | 1997-11-17 | 浜松ホトニクス株式会社 | イオンガス発生装置 |
Family Cites Families (52)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB466579A (en) * | 1935-12-03 | 1937-05-31 | Cecil Richard Almas Chadfield | Improvements in or relating to means for discharging electricity from materials and machinery |
US3128378A (en) * | 1960-10-04 | 1964-04-07 | Dynamics Corp America | Negative ion generator using an ultraviolet source to irradiate electrically conductive material |
SE381815B (sv) | 1971-03-31 | 1975-12-22 | Cierva J J De | Sett och anleggning for att nedbringa elektristatiska laddningar i brenslebehallare |
US3745413A (en) * | 1971-12-16 | 1973-07-10 | Eastman Kodak Co | Ionizing apparatus |
US4166664A (en) * | 1975-01-24 | 1979-09-04 | Amp Incorporated | High voltage quick disconnect electrical connector assembly |
US4023071A (en) * | 1975-06-09 | 1977-05-10 | Fussell Gerald W | Transient and surge protection apparatus |
FR2360199A1 (fr) * | 1976-07-27 | 1978-02-24 | Pellin Henri | Ionisateur negatif |
US4180841A (en) * | 1977-11-21 | 1979-12-25 | Westinghouse Electric Corp. | Ground fault circuit interrupter with grounded neutral protection |
US4163650A (en) * | 1978-07-24 | 1979-08-07 | Tepco, Incorporated | Portable electronic precipitator |
JPS58122426A (ja) * | 1982-01-14 | 1983-07-21 | Tokyo Tatsuno Co Ltd | 電子部品収納ボツクス |
US4630163A (en) * | 1982-09-02 | 1986-12-16 | Efi Corporation | Method and apparatus for a transient-suppression network |
US4587588A (en) * | 1984-03-02 | 1986-05-06 | Perma Power Electronics, Inc. | Power line transient surge suppressor |
DE3543096A1 (de) * | 1984-12-05 | 1986-06-05 | Olympus Optical Co., Ltd., Tokio/Tokyo | Vorrichtung zur zertruemmerung von steinen, wie nieren- und gallensteinen oder dergleichen |
JPS62171167A (ja) | 1986-01-23 | 1987-07-28 | Mitsubishi Electric Corp | 太陽電池の製造方法 |
JPS62171167U (ja) * | 1986-04-21 | 1987-10-30 | ||
JPH0763649B2 (ja) * | 1987-05-26 | 1995-07-12 | ミドリ安全工業株式会社 | 静電気除去装置付き空気清浄機 |
US4825090A (en) * | 1988-02-09 | 1989-04-25 | Grabis Dietrich W | Shielding membrane |
US4827371A (en) * | 1988-04-04 | 1989-05-02 | Ion Systems, Inc. | Method and apparatus for ionizing gas with point of use ion flow delivery |
US4901183A (en) * | 1988-08-29 | 1990-02-13 | World Products, Inc. | Surge protection device |
JPH0734334B2 (ja) * | 1988-10-20 | 1995-04-12 | 株式会社戸上電機製作所 | 気密型電気機器 |
JPH0421832A (ja) | 1990-05-16 | 1992-01-24 | Canon Inc | 像ブレ抑制装置 |
JP2977098B2 (ja) * | 1990-08-31 | 1999-11-10 | 忠弘 大見 | 帯電物の中和装置 |
JP2542744B2 (ja) | 1991-02-05 | 1996-10-09 | 株式会社東芝 | 軸受給油装置用油ミスト処理装置 |
US5177657A (en) * | 1991-05-16 | 1993-01-05 | Felchar Manufacturing Corporation | Ground fault interruptor circuit with electronic latch |
US5256204A (en) | 1991-12-13 | 1993-10-26 | United Microelectronics Corporation | Single semiconductor water transfer method and manufacturing system |
US5448443A (en) * | 1992-07-29 | 1995-09-05 | Suvon Associates | Power conditioning device and method |
JP2981702B2 (ja) * | 1992-08-27 | 1999-11-22 | 愛三工業株式会社 | 内燃機関用点火コイル |
JP3115731B2 (ja) | 1993-03-09 | 2000-12-11 | 高砂熱学工業株式会社 | 空気中不純物の除去装置 |
JP2719091B2 (ja) * | 1993-06-18 | 1998-02-25 | 浜松ホトニクス株式会社 | 静電気除電装置および静電気除電方法 |
JP3198736B2 (ja) | 1993-07-14 | 2001-08-13 | 東レ株式会社 | ボビン把持装置およびボビンホルダ |
JPH0763649A (ja) | 1993-08-27 | 1995-03-10 | Asahi Glass Co Ltd | 発散系光学系の焦点距離の測定装置および測定方法 |
US5418678A (en) * | 1993-09-02 | 1995-05-23 | Hubbell Incorporated | Manually set ground fault circuit interrupter |
JPH07211483A (ja) * | 1994-01-17 | 1995-08-11 | Rion Denshi Kk | 除電器 |
JP3696904B2 (ja) | 1994-08-02 | 2005-09-21 | シシド静電気株式会社 | 軟x線を利用した除電装置 |
US5617284A (en) * | 1994-08-05 | 1997-04-01 | Paradise; Rick | Power surge protection apparatus and method |
JP2668512B2 (ja) * | 1994-10-24 | 1997-10-27 | 株式会社レヨーン工業 | 軟x線による物体表面の静電気除去装置 |
JPH08162284A (ja) * | 1994-12-09 | 1996-06-21 | Fuiisa Kk | 静電気除去装置 |
JPH08190993A (ja) * | 1995-01-09 | 1996-07-23 | Ceratec:Kk | 放射線式除電器と放射線式除電器による放射線式除 電方法 |
US5555150A (en) * | 1995-04-19 | 1996-09-10 | Lutron Electronics Co., Inc. | Surge suppression system |
JP3611063B2 (ja) | 1996-05-21 | 2005-01-19 | 住友電装株式会社 | ケースの内外接続構造 |
JPH10106789A (ja) * | 1996-09-26 | 1998-04-24 | Reyoon Kogyo:Kk | 物体表面の静電気除去方法及びその装置 |
JPH10118573A (ja) | 1996-10-21 | 1998-05-12 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 合成樹脂積層体の分離方法 |
US6522039B1 (en) * | 1996-12-13 | 2003-02-18 | Illinois Tool Works Inc. | Remote power source for electrostatic paint applicator |
JPH10302541A (ja) * | 1997-04-28 | 1998-11-13 | Bridgestone Corp | 光源装置 |
US6040967A (en) * | 1998-08-24 | 2000-03-21 | Leviton Manufacturing Co., Inc. | Reset lockout for circuit interrupting device |
US6365016B1 (en) * | 1999-03-17 | 2002-04-02 | General Electric Company | Method and apparatus for arc plasma deposition with evaporation of reagents |
JP4489883B2 (ja) | 1999-12-17 | 2010-06-23 | 株式会社テクノ菱和 | チャンバ型イオン搬送式イオン化装置 |
JP3902370B2 (ja) | 2000-01-18 | 2007-04-04 | エスペック株式会社 | 除電機能付き熱処理装置 |
JP4168160B2 (ja) * | 2000-03-10 | 2008-10-22 | 株式会社テクノ菱和 | 静電気対策用吹出口 |
US6671186B2 (en) * | 2001-04-20 | 2003-12-30 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Electromagnetic interference shield |
KR100472408B1 (ko) * | 2001-11-22 | 2005-03-08 | 주식회사 싸이클로젠 | 골다공증 치료용 생약조성물의 제조방법 |
JP7063649B2 (ja) * | 2018-02-08 | 2022-05-09 | 株式会社明治 | ピザクラスト及びその製造方法 |
-
2001
- 2001-05-29 JP JP2001161060A patent/JP4738636B2/ja not_active Expired - Fee Related
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2002
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2006
- 2006-08-22 US US11/507,917 patent/US7397647B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2677945B2 (ja) * | 1993-06-18 | 1997-11-17 | 浜松ホトニクス株式会社 | イオンガス発生装置 |
Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005005172A (ja) * | 2003-06-13 | 2005-01-06 | Genesis Technology Inc | 軟x線照射装置及び半導体の組立装置並びに検査装置 |
WO2004112445A1 (ja) * | 2003-06-13 | 2004-12-23 | Pla-Net Corporation | 軟x線照射装置及び半導体の組立装置並びに検査装置 |
JP2005211797A (ja) * | 2004-01-29 | 2005-08-11 | Toyota Motor Corp | 除電除塵器 |
JP2008536284A (ja) * | 2005-04-19 | 2008-09-04 | スンチェ・ハイテック・カンパニー・リミテッド | 可撓型軟x線イオナイザ |
JP2009541094A (ja) * | 2006-06-20 | 2009-11-26 | イーストマン コダック カンパニー | インクジェットプリンタヘッドにおける乱流の減少 |
KR101424288B1 (ko) | 2007-09-04 | 2014-07-31 | 미츠비시 마테리알 가부시키가이샤 | 클린 벤치 및 단결정 실리콘용 원료의 제조 방법 |
JP2009078961A (ja) * | 2007-09-04 | 2009-04-16 | Mitsubishi Materials Corp | クリーンベンチ |
WO2010023979A1 (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-04 | シャープ株式会社 | イオン検出装置及びイオン発生装置 |
US8691158B2 (en) | 2008-08-28 | 2014-04-08 | Sharp Kabushiki Kaisha | Ion generation apparatus |
US8771599B2 (en) | 2008-08-28 | 2014-07-08 | Sharp Kabushiki Kaisha | Ion detecting apparatus and ion generating apparatus |
KR101268175B1 (ko) | 2009-03-26 | 2013-05-27 | 샤프 가부시키가이샤 | 이온 발생 장치 |
US9779847B2 (en) | 2014-07-23 | 2017-10-03 | Moxtek, Inc. | Spark gap X-ray source |
US9826610B2 (en) | 2014-07-23 | 2017-11-21 | Moxtek, Inc. | Electrostatic-dissipation device |
US9824787B2 (en) | 2014-07-23 | 2017-11-21 | Moxtek, Inc. | Spark gap x-ray source |
US9839106B2 (en) | 2014-07-23 | 2017-12-05 | Moxtek, Inc. | Flat-panel-display, bottom-side, electrostatic-dissipation |
US9839107B2 (en) | 2014-07-23 | 2017-12-05 | Moxtek, Inc. | Flowing-fluid X-ray induced ionic electrostatic dissipation |
WO2016160300A1 (en) * | 2015-04-02 | 2016-10-06 | Moxtek, Inc. | Flowing-fluid x-ray induced ionic electrostatic dissipation |
US10524341B2 (en) | 2015-05-08 | 2019-12-31 | Moxtek, Inc. | Flowing-fluid X-ray induced ionic electrostatic dissipation |
KR102552934B1 (ko) * | 2023-02-06 | 2023-07-07 | 주식회사 저스템 | 배플 구조를 갖춘 진공 제전 장치 |
KR102618655B1 (ko) * | 2023-02-06 | 2023-12-28 | 주식회사 저스템 | 배플 구조를 갖춘 고 진공 제전 장치 |
KR102677916B1 (ko) * | 2023-05-02 | 2024-06-25 | 주식회사 저스템 | 진공 제전 장치 |
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