JP5032827B2 - 除電装置 - Google Patents
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Description
特許文献2(特開2005−11635)においては、フィラメントに通電し数百℃にした上で、当該フィラメントにターゲットに対し負電圧を印加することで、熱電子をターゲットに照射している。
同様に特許文献3(特開2001−266780)においても、X線ターゲットへの電子として熱電子を用いている。
同様に特許文献4(特開平7−211273)でも、X線ターゲットへの電子として棒状フィラメントから発生させる熱電子を用いている。
特開2001−266780においては、熱電子発生部がフィラメント構造体でないため断線がなく、寿命の点に関しては特開2005−116354に比べると長くできるものと期待できる。しかしながら所定量の熱電子を得るためには、フィラメント相当の昇温が必要であり、かつフィラメントより加熱容積が大きいことから、発熱量としてはより多くなることが予想され、発熱でのデメリットはさらに大きくなる。同時に、熱電子の高効率放出に重要な条件である雰囲気の真空レベルに関しては、特開2005−116354に比べて真空レベルの低下は早くなると推測でき、X線発生量によって寿命は短くなるものと考えられる。
特開平7−211273に開示された技術でも、フィラメントを採用している関係上発熱総量が多くなり、発熱によるデメリットは大きくなる。また、雰囲気の真空度低下に関しても特開2001−266780と同様である。
(1)発熱の制約条件からX線量の高出力化に限界がある。
(2)耐熱性の制約条件から、X線発生管に使用できる構成部材には制限がある。
(3)高出力化と寿命はトレードオフの関係にある。
(4)面光源化および発生面の大面積化が困難である。
また本発明の他の除電装置は、対象物あるいはその近傍に軟X線を照射して、当該対象物の静電気を除去する除電装置であって、電子放出部とターゲットを備えた軟X線発生装置を有し、前記電子放出部の表面は、粒径が2nm〜100nmのダイヤモンド粒子からなる薄膜で構成され、前記電子放出部の導電性基板と前記薄膜との間には、厚さが5μm以下のカーボンナノウォールが設けられ、出射される軟X線のエネルギー域が5〜15keVであることを特徴としている。
すなわちまず、シリコン単結晶ウエハ(100)を30mm×30mmの方形に切り出し、例えば1〜5μm径のタイヤモンド粒子でその表面に対してスクラッチ加工を行い、その後基板表面の脱脂、洗浄を十分に行う。これにより、導電性基板21表面のRaを3μm以下にする。
(1)表面は5nm〜50nmの微粒が数十から数百個程度集まってそれらが1つの笹葉のような構造を示している。
(2)薄膜22の平坦な表面から突出した部分の高さが3μm以上10μm以下であり、太さが10〜100nm程度の針状突起が、1万本〜10万本/mm2の密度で存在している。
(3)針状突起のない部分の表面粗さは、薄膜下部の構造が反映されなければRaが500nm以下である。
(4)波長が532nmのレーザによるラマン分光測定によれば、1333cm−1ダイヤモンドのピークの半値幅が500cm−1以上であり、図4に示したように、1360cm−1付近を頂点とするピークと、1581cm−1がピークの二つのピークを有している。
一方、本発明の除電装置では、発生する電子電流は、エミッタ面積とエミッタ表面近傍の電界強度のみに依存するため、これらには経時変化がなく、設計通りの電子電流が永続的に安定して得られる。つまり、グリッド電極のない簡単な構造でコンパクトかつ安価な軟X線発生装置とすることができる特徴を有する。もちろん、グリッド電極を設けても性能面でのデメリットはないので、従来と同様の3極構造(エミッタ、グリッド、ターゲット電極)にしても問題はない。
2、32、42、52 筐体
13、47、61 エミッタ
14 直流電源
15、44 ターゲット
22、64 薄膜
63 カーボンナノウォール
Claims (9)
- 対象物あるいはその近傍に軟X線を照射して、当該対象物の静電気を除去する除電装置であって、
電子放出部とターゲットを備えた軟X線発生装置を有し、
前記電子放出部の表面は、粒径が2nm〜100nmのダイヤモンド粒子からなる薄膜で構成され、
前記薄膜は、XRD測定においてダイヤモンドのXRDパターンを有し、かつラマン分光測定を行った際に、膜中のsp3結合成分とsp2結合成分の比が、2.5〜2.7:1であり、
出射される軟X線のエネルギー域が5〜15keVであることを特徴とする、除電装置。 - 前記電子放出部の導電性基板と前記薄膜との間には、厚さが5μm以下のカーボンナノウォールが設けられていることを特徴とする、請求項1に記載の除電装置。
- 対象物あるいはその近傍に軟X線を照射して、当該対象物の静電気を除去する除電装置であって、
電子放出部とターゲットを備えた軟X線発生装置を有し、
前記電子放出部の表面は、粒径が2nm〜100nmのダイヤモンド粒子からなる薄膜で構成され、
前記電子放出部の導電性基板と前記薄膜との間には、厚さが5μm以下のカーボンナノウォールが設けられ、
出射される軟X線のエネルギー域が5〜15keVであることを特徴とする、除電装置。 - 電子放出部の印加電圧と、ターゲットとの間の電位差が5〜15kVであり、電子放出部の温度上昇が周辺環境温度比50℃以下であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の除電装置。
- 軟X線が出射されるX線出射部の電位が−100〜+100Vの範囲であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の除電装置。
- 前記電子放出部とターゲットは平行平板構造をなしていることを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載の除電装置。
- 除電装置の筐体は、体積抵抗率が109Ω・m未満の導体で構成され、かつ静電遮蔽できる構造であることを特徴とする、請求項1〜6のいずれかに記載の除電装置。
- 軟X線を出射する出射用窓は、発生する軟X線の透過率が5%以上であることを特徴とする、請求項7に記載の除電装置。
- 前記出射用窓の窓材は、Be、ガラス又はAlの少なくとも1種で構成されていることを特徴とする請求項8に記載の除電装置。
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