JP2002261226A - 樹脂封止型半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
樹脂封止型半導体装置およびその製造方法Info
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Abstract
する際には、リード部と封止樹脂との界面で剥離が発生
し、信頼性上の課題となっていた。 【解決手段】 多列リード部を有する樹脂封止型半導体
装置において、リード部は第1のボンディングパッド部
14aと、第1のランド部14bとを有した第1のリー
ド部14と、第2のボンディングパッド部15aと、第
2のランド部15bとを有した第2のリード部15と、
第3のボンディングパッド部16aと、第3のランド部
16bとを有した第3のリード部16とよりなり、第2
のリード部はくびれ部17を有し、各ボンディングパッ
ド部は上方に突出した段差部18を有しているものであ
る。そのためくびれ部17と段差部18により、各リー
ド部に応力が印加され、リード部と封止樹脂との界面で
剥離が発生したとしても、進行してきた剥離を停止させ
ることができるものである。
Description
いたランドグリッドアレイ(LGA:LandGrid
Array)型の樹脂封止型半導体装置およびその製
造方法に関するものであり、特に樹脂封止型半導体装置
のパッケージ底面に3列以上の複数列でランド部(外部
端子)が配列された信頼性の高い樹脂封止型半導体装置
およびその製造方法に関するものである。
置として実質的に片面モールドされたQFN(Quad
Flat Non−leaded Package)
と称される樹脂封止型半導体装置が開発されている。
イパッド部がパッケージ底面に露出したQFN型の樹脂
封止型半導体装置について説明する。
てQFN型の樹脂封止型半導体装置を示す断面図であ
る。
体装置は、リードフレームのダイパッド部1上に接着さ
れた半導体素子2と、ダイパッド部1にその先端が対向
して配列した複数のインナーリード部3と、半導体素子
2の電極とインナーリード部3の表面とを電気的に接続
した金属細線4と、ダイパッド部1,インナーリード部
3の底面を露出させ、半導体素子2の外囲領域を封止し
た封止樹脂5とよりなり、パッケージ底面および側面に
インナーリード部3の底面および外方側面が外部端子6
として配列されたものである。
リードフレームは、図11の平面図に示すように、フレ
ーム本体である枠部7の開口領域に対して、その略中央
部に配置されたダイパッド部1と、一端がダイパッド部
1の各角部に接続し、他端が枠部7に接続してダイパッ
ド部1を支持した吊りリード部8と、ダイパッド部1の
各辺にその先端が対向して配列した複数のインナーリー
ド部3とよりなるものである。なお図11ではリードフ
レームの1ユニットを示しているが、リードフレームと
しては図11に示したユニットを複数個、左右上下に連
続して形成されたものである。
置の製造方法について説明する。図12は樹脂封止型半
導体装置の製造方法を示す工程ごとの主要な断面図であ
り、図11のリードフレーム平面図におけるA−A1箇
所の断面を示している。
子を搭載するダイパッド部1と、ダイパッド部1の各辺
にその先端が対向して配列した複数のインナーリード部
3を有した図11に示したリードフレームを用意する。
レームのダイパッド部1上に接着剤により半導体素子2
を接着して搭載する。
子2とインナーリード部3の表面のボンディング箇所と
を金属細線4により電気的に接続する。
材を用いた金型封止により、ダイパッド部1,インナー
リード部3の底面を露出させ、半導体素子2の外囲領域
を封止樹脂5により樹脂封止し、リードフレームより樹
脂封止型半導体装置を取り出すことにより、インナーリ
ード部3の底面および外方側面が外部端子6としてパッ
ケージ底面に配列した樹脂封止型半導体装置が完成す
る。
装置は、小型、薄型の半導体装置としては画期的な構造
を有するものの、搭載する半導体素子のピン数の増加に
対応するために、さらなる小型化とともに、外部端子数
の増加が図られ、パッケージ底面に2列で外部端子が配
列されたLGA型の樹脂封止型半導体装置が提案されて
いる。
GA型の樹脂封止型半導体装置を示す図であり、図13
(a)は平面図、図13(b)は底面図、図13(c)
は主要箇所の断面図である。
型半導体装置は、リードフレームのダイパッド部1上に
接着された半導体素子2と、ダイパッド部1にその先端
が対向して配列した複数のインナーリード部3と、イン
ナーリード部3の先端領域にその先端が配置された第1
の内側インナーリード部9と、半導体素子2とインナー
リード部3,第1の内側インナーリード部9の表面とを
各々電気的に接続した金属細線4と、ダイパッド部1,
インナーリード部3の底面および第1の内側インナーリ
ード部9の先端部底面を露出させ、半導体素子2の外囲
領域を封止した封止樹脂5とより、パッケージ底面およ
び側面にインナーリード部3の底面および外方側面が外
部端子6として配列され、さらに外部端子6の内側に第
1の内側インナーリード部9の底面が外部端子10とし
て配列されたものである。なおインナーリード部3の先
端領域にその先端が配置された第1の内側インナーリー
ド部9はパッケージ面から露出する先端部を除く部分は
ハーフエッチ加工により薄厚に加工されているものであ
る。
リードフレームは、図14の平面図に示すように、フレ
ーム本体である枠部7の開口領域に対して、その略中央
部に配置されたダイパッド部1と、一端がダイパッド部
1の各角部に接続し、他端が枠部7に接続してダイパッ
ド部1を支持した吊りリード部8と、ダイパッド部1の
各辺にその先端が対向して配列した複数のインナーリー
ド部3と、インナーリード部3の先端領域にその先端が
配置された第1の内側インナーリード部9とよりなるも
のである。なお図14ではリードフレームの1ユニット
を示しているが、リードフレームとしては図14に示し
たユニットを複数個、左右上下に連続して形成されたも
のである。
造方法について説明する。図15は樹脂封止型半導体装
置の製造方法を示す工程ごとの主要な断面図であり、図
14のリードフレーム平面図におけるB−B1箇所の断
面を示している。
子を搭載するダイパッド部1と、ダイパッド部1の各辺
にその先端が対向して配列した複数のインナーリード部
3と、インナーリード部3の先端領域にその先端が配置
された第1の内側インナーリード部9とを有した図14
に示したリードフレームを用意する。
レームのダイパッド部1上に接着剤により半導体素子2
を接着して搭載する。
子2とインナーリード部3,第1の内側インナーリード
部9の表面のボンディング箇所とを各々金属細線4によ
り電気的に接続する。
材を用いた金型封止により、ダイパッド部1,インナー
リード部3の底面、第1の内側インナーリード部9の先
端部底面を露出させ、半導体素子2の外囲領域を封止樹
脂5により樹脂封止し、リードフレームより樹脂封止型
半導体装置を取り出すことにより、パッケージ底面およ
び側面にインナーリード部3の底面および外方側面が外
部端子6として配列され、さらに外部端子6の内側に第
1の内側インナーリード部9の底面が外部端子10とし
て配列された樹脂封止型半導体装置が完成する。
のQFN型の樹脂封止型半導体装置では、半導体装置と
して小型、薄型化は満足するものの、多ピン化の対応に
ついては十分ではなかった。またピン数を増加させたL
GA型の樹脂封止型半導体装置では、外部端子が2列配
列であり、さらなる多列化が要望されるとともに、3列
以上の複数列の配列を有したLGA型の樹脂封止型半導
体装置では多列化ゆえの別途、個別課題が発生してい
た。
封止型半導体装置を製造する際には、その製造工法の高
効率化のために複数ユニットを1枚で構成したリードフ
レームを用い、リードフレームに対して上面全面を一括
で樹脂封止した後、各樹脂封止型半導体装置単位ごとに
ダイサー等の回転プレードで切削して分離する工法が採
用されている。この一括封止のリードフレームに対して
回転ブレードで個片化する過程で、リード部と封止樹脂
との界面で剥離が発生し、製品の信頼性上大きな課題と
なっていた。また回転ブレードで個片化して得られた樹
脂封止型半導体装置においても、その樹脂封止型半導体
装置自体に応力が印加された際、リード部と封止樹脂と
の界面で剥離が発生し、製品の信頼性上、同様な課題と
なっていた。
の種々の規制を解消した樹脂封止型半導体装置およびそ
の製造方法を提供し、樹脂封止型半導体装置のパッケー
ジ底面に3列以上の複数列でランド部(外部端子)が配
列された多ピン対応の高信頼性の樹脂封止型半導体装置
およびその製造方法を提供することを目的とする。
るために本発明の樹脂封止型半導体装置は、ダイパッド
部と、前記ダイパッド部の上面に搭載された半導体素子
と、前記ダイパッド部の各辺にその先端部が対向して設
けられた複数のリード部群と、前記半導体素子の電極と
前記リード部群の上面とを各々電気的に接続した金属細
線と、前記半導体素子、金属細線、ダイパッド部の底面
を除く領域、および複数のリード部群の下面の一部を除
く領域を封止した封止樹脂とよりなる樹脂封止型半導体
装置であって、前記複数のリード部群は少なくとも、上
面に前記金属細線が接続された第1のボンディングパッ
ド部と、前記第1のボンディングパッド部に対応した下
面に前記封止樹脂から露出した第1のランド部とを有し
た第1のリード部と、上面に前記金属細線が接続された
第2のボンディングパッド部と、前記第2のボンディン
グパッド部に対応する下面に前記封止樹脂から露出した
第2のランド部とを有した第2のリード部と、上面に前
記金属細線が接続された第3のボンディングパッド部
と、前記第3のボンディングパッド部に対応する下面に
前記封止樹脂から露出した第3のランド部とを有した第
3のリード部とよりなり、前記第2のリード部の前記封
止樹脂端側はその平面幅において細幅のくびれ部を有し
ている樹脂封止型半導体装置である。
のボンディングパッド部、第2のリード部の第2のボン
ディングパッド部、第3のリード部の第3のボンディン
グパッド部の各々のボンディングパッド部は上方に突出
した段差部を有している樹脂封止型半導体装置である。
第2のリード部の第2のランド部、第3のリード部の第
3のランド部の各々のランド部は、封止樹脂の下面領域
において平面配列で3列を構成している樹脂封止型半導
体装置である。
第1のリード部との間に配置されている樹脂封止型半導
体装置である。
装置は、リード部はくびれ部を有しているため、リード
部に応力が印加され、リード部と封止樹脂との界面で剥
離が発生したとしても、リード部の幅がくびれ部で狭く
なり、封止樹脂エリアが広がるため、熱応力および機械
的応力を緩和することができ、進行してきた剥離を停止
させることができるものである。そしてさらに剥離が樹
脂封止型半導体装置の内部に進行しようとする際、リー
ド部はくびれ部から幅広部となるため、この部分で剥離
がさらに内部に進行するには、より以上の応力が必要と
なり、剥離はくびれ部で停止されることになる。また第
2のリード部は第1のリード部間に配置され、くびれ部
を有しているので、封止樹脂の側面から進行してきた剥
離を停止させることができるよう構成しているものであ
る。
ド部は上方に突出した段差部を有しているので、リード
部と封止樹脂との界面の剥離を止める基点となり、リー
ド部のくびれ部とともに相乗効果により樹脂剥離の停止
に絶大な効力を発揮するものである。
方法は、金属板よりなるフレーム本体と、前記フレーム
本体の開口領域内に配設された半導体素子搭載用のダイ
パッド部と、先端部で前記ダイパッド部を支持し、他端
部で前記フレーム枠と接続した吊りリード部と、前記ダ
イパッド部の各辺にその先端部が対向し、他端部が前記
フレーム本体と接続して設けられた複数のリード部群と
を有し、前記複数のリード部群は少なくとも、上面に第
1のボンディングパッド部と、前記第1のボンディング
パッド部に対応する下面に第1のランド部とを有した第
1のリード部と、上面に第2のボンディングパッド部
と、前記第2のボンディングパッド部に対応する下面に
第2のランド部とを有した第2のリード部と、上面に第
3のボンディングパッド部と、前記第3のボンディング
パッド部に対応する下面に第3のランド部とを有した第
3のリード部とよりなり、前記第1のリード部と第3の
リード部とは、電気的に分離可能なように接続されてお
り、前記第2のリード部は前記フレーム本体近傍にその
平面幅において細幅のくびれ部を有しているリードフレ
ームを用意する工程と、前記リードフレームの下面に封
止シートを貼付する工程と、前記リードフレームのダイ
パッド部上に半導体素子を搭載する工程と、前記半導体
素子の電極と前記リードフレームの複数のリード部群の
第1のリード部の第1のボンディングパッド部、第2の
リード部の第2のボンディングパッド部、第3のリード
部の第3のボンディングパッド部を各々金属細線により
電気的に接続する工程と、前記リードフレームの上面領
域全面を封止樹脂で封止する工程と、前記リードフレー
ムの下面に貼付した封止シートを除去する工程と、前記
リードフレームの複数のリード部群の他端部のフレーム
本体と接続した領域を切断して樹脂封止型半導体装置を
得る工程とよりなる樹脂封止型半導体装置の製造方法で
ある。
程では、リードフレームの第1のリード部の第1のボン
ディングパッド部、第2のリード部の第2のボンディン
グパッド部、第3のリード部の第3のボンディングパッ
ド部の各々のボンディングパッド部は上方に突出した段
差部を有しているリードフレームを用意する樹脂封止型
半導体装置の製造方法である。
は、第2のリード部が第1のリード部と第1のリード部
との間に配置されているリードフレームを用意する樹脂
封止型半導体装置の製造方法である。
を貼付する工程の後、前記リードフレームの第1のリー
ド部と第3のリード部とを電気的に分離する工程を有す
る樹脂封止型半導体装置の製造方法である。
の他端部のフレーム本体と接続した領域を切断して樹脂
封止型半導体装置を得る工程では、回転ブレードにより
切削して切断する樹脂封止型半導体装置の製造方法であ
る。
装置の製造方法は、用いるリードフレームのリード部は
くびれ部を有しているため、このリードフレームを用い
て樹脂封止型半導体装置を製造する際の特に回転ブレー
ドで切断する場合に、リード部に応力が印加され、リー
ド部と封止樹脂との界面で剥離が発生したとしても、リ
ード部の幅がくびれ部で狭くなり、封止樹脂エリアが広
がるため、熱応力および機械的応力を緩和することがで
き、進行してきた剥離を停止させることができるもので
ある。そしてさらに剥離が樹脂封止型半導体装置の内部
に進行しようとする際、リード部はくびれ部から幅広部
となるため、この部分で剥離がさらに内部に進行するに
は、より以上の応力が必要となり、剥離はくびれ部で停
止されることになる。
ド部は上方に突出した段差部を有しているので、リード
部と封止樹脂との界面の剥離を止める基点となり、リー
ド部のくびれ部とともに相乗効果により樹脂剥離の停止
に絶大な効力を発揮するものである。
それを用いた樹脂封止型半導体装置およびその製造方法
の一実施形態について、図面を参照しながら説明する。
説明する。
レームを示す図であり、図1は主要部分の平面図、図2
は図1のC−C1箇所の断面図、図3は図1のリード部
を拡大した平面図(a)とリード部のD−D1箇所の断
面図(b)である。
ームは、銅(Cu)材である金属板よりなるフレーム本
体11(枠部)と、そのフレーム本体11の開口領域内
に配設された半導体素子搭載用のダイパッド部12と、
先端部でダイパッド部12の各角部を支持し、他端部で
フレーム枠11と接続した吊りリード部13と、ダイパ
ッド部12の各辺にその先端部が対向し、他端部がフレ
ーム本体11と接続して設けられた複数のリード部群と
を有し、フレーム本体11、ダイパッド部12、吊りリ
ード部13、複数のリード部群は、一枚の金属板により
形成されているものである。そして複数のリード部群は
少なくとも、上面に第1のボンディングパッド部14a
と、その第1のボンディングパッド部14aに対応する
下面に第1のランド部14bとを有した第1のリード部
14と、上面に第2のボンディングパッド部15aと、
その第2のボンディングパッド部15aに対応する下面
に第2のランド部15bとを有した第2のリード部15
と、上面に第3のボンディングパッド部16aと、その
第3のボンディングパッド部16aに対応する下面に第
3のランド部16bとを有した第3のリード部16とよ
りなり、第1のリード部14と第3のリード部16と
は、フレーム状態では電気的に分離可能なように接続さ
れており、第2のリード部15はフレーム本体11の近
傍にその平面幅において細幅のくびれ部17を有してい
るリードフレームである。
ド部14と第3のリード部16とは、封止シートにリー
ドフレームを貼付した後に分離するか、もしくはリード
フレームのダイパッド部12に半導体素子を搭載、金属
細線で電気的に各リード部と接続し、樹脂封止前の封止
シートにリードフレーム自体を貼付した後に分離するも
のであるが、図1では、第1のリード部14、第2のリ
ード部15、第3のリード部16の各構成要件の区別を
明確にするために、第1のリード部14と第3のリード
部16とは電気的に分離した状態で示し、封止シートは
省略している。したがって以降の実施形態の説明におい
ても第1のリード部14と第3のリード部16とは予め
分離した状態で説明することとする。
ドフレームにおいて、第1のリード部14の第1のボン
ディングパッド部14a、第2のリード部15の第2の
ボンディングパッド部15a、第3のリード部16の第
3のボンディングパッド部16aの各々のボンディング
パッド部は上方に突出した段差部18を有しているもの
である。
部14b、第2のリード部15の第2のランド部15
b、第3のリード部16の第3のランド部16bの各々
のランド部は、平面配列において3列を構成しているも
のであり、各ランド部は樹脂封止型半導体装置を形成し
た際、外部端子を構成するものである。
他端部近傍には他の外部端子としてのランド部よりも面
積的に大きい補強ランド部が設けられ、樹脂封止して樹
脂封止型半導体装置を形成した際、パッケージ底面の各
角部には補強ランド部が露出し、基板実装時の二次実装
信頼性を高める構造を実現できるものである。
状態では、第1のリード部14の先端部と第3のリード
部16の他端部とは、電気的に分離可能なように接続さ
れているものである。また、ダイパッド部12はその上
面内に上方に突出した突出部19を有し、半導体素子を
搭載した際、半導体素子をスポットフロート構造で支持
するため、樹脂封止した際、半導体素子の底面にも封止
樹脂を介在させることができ、信頼性を高めることがで
きる。
メッキ層が全面に形成されており、このメッキ層が形成
されたリード部に対して、プレス加工によりボンディン
グパッド部上に段差部18を形成するが、プレスによる
押さえ込み部分の違いにより、段差部18の周辺部領域
とその内部領域とではメッキ層の組成が変化しているも
のである。すなわちボンディングパッド部の周辺部のみ
を押さえ込んで段差部を形成するため、周辺部の内側領
域には押圧力がかからずメッキ層の組成は変化せず、樹
脂密着性はメッキ層自体が有している元来の密着性を維
持するため、段差部18の内部領域では樹脂密着性が高
くなり、封止樹脂とリード部との界面で剥離が発生し、
それが進行したとしても、段差部の周辺部領域より内側
へは進行せず、剥離を停止させることができる。これは
リード部に押圧(プレス)を実施すると、圧力が加わっ
た部分のメッキ層表面の凹凸がなくなり、密着性の劣化
が起きることによる。
ついては、リード部のボンディングパッド部の周辺部の
みをプレスし、中央部領域には押圧力が印加されないよ
うに、中央部に相当する箇所が空洞のプレス金型を用い
てプレスすることにより、リード部のボンディングパッ
ド部の周辺部のみをプレスすることができ、中央部の樹
脂密着性を維持させることができる。
のボンディングパッド部は、その上面に周辺部のみが押
圧されることによりその内側領域が上方に突出して形成
された段差部18を有し、その段差部18はメッキ層本
来の樹脂密着性を有したものである。
が銅(Cu)の場合、ニッケル層(Ni)、パラジウム
層(Pd)、金層(Au)がそれぞれ積層された金属メ
ッキ層である。この他、メッキ層としては、銀メッキ、
金メッキ、ハンダメッキなどの金属メッキ層でもよい。
4、第2のリード部15、第3のリード部16におい
て、その断面形状はテーパー状をなしているものであ
り、ボンディングパッド部の下面(底面)は樹脂封止し
た際、封止樹脂面より露出して外部端子を構成する部位
である。
は、第2のリード部15はくびれ部17を有しているた
め、このリードフレームを用いて樹脂封止型半導体装置
を製造する際、または製造した後、各リード部に応力が
印加され、リード部と封止樹脂との界面で剥離が発生し
たとしても、リード部の幅がくびれ部で狭くなり、封止
樹脂エリアが広がるため、熱応力および機械的応力を緩
和することができ、進行してきた剥離を停止させること
ができるものである。そしてさらに剥離が樹脂封止型半
導体装置の内部に進行しようとする際、リード部はくび
れ部から幅広部となるため、この部分で剥離がさらに内
部に進行するには、より以上の応力が必要となり、剥離
はくびれ部で停止されることになり、剥離に強い樹脂封
止型半導体装置を実現できるものである。
ッド部は上方に突出した段差部18を有しているので、
リード部と封止樹脂との界面の剥離を止める基点とな
り、リード部のくびれ部とともに相乗効果により樹脂剥
離の停止に絶大な効力を発揮するものである。
樹脂封止型半導体装置について説明する。
を示す図であり、図4(a)は平面図、図4(b)は主
要な断面図、図4(c)は底面図である。なお図4にお
いて、樹脂封止型半導体装置の内部構成としては図1に
示した構成と同様であるため図示は省略して説明する。
型半導体装置は、矩形状のダイパッド部12と、そのダ
イパッド部12の上面に接着剤により搭載された半導体
素子20と、ダイパッド部12の各辺にその先端部が対
向して設けられた複数のリード部群と、半導体素子20
の電極と各リード部群の上面とを各々電気的に接続した
金属細線21と、半導体素子20、金属細線21、ダイ
パッド部12の底面を除く領域、および複数のリード部
群の下面の一部を除く領域を封止した封止樹脂22とよ
りなる樹脂封止型半導体装置であって、複数のリード部
群は少なくとも、上面に金属細線21が接続された第1
のボンディングパッド部14aと、その第1のボンディ
ングパッド部14aに対応した下面に封止樹脂22から
露出した第1のランド部14bとを有した第1のリード
部14と、上面に金属細線が接続された第2のボンディ
ングパッド部と、その第2のボンディングパッド部に対
応する下面に封止樹脂から露出した第2のランド部15
bとを有した第2のリード部と、上面に金属細線21が
接続された第3のボンディングパッド部16aと、その
第3のボンディングパッド部16aに対応する下面に封
止樹脂22から露出した第3のランド部16bとを有し
た第3のリード部16とよりなり、第2のリード部の封
止樹脂端側の近傍には、その平面幅において細幅のくび
れ部を有しているものである。
ィングパッド部14a、第2のリード部の第2のボンデ
ィングパッド部、第3のリード部16の第3のボンディ
ングパッド部16aの各々のボンディングパッド部は上
方に突出した段差部18を有しているものである。
部14b、第2のリード部15の第2のランド部15
b、第3のリード部16の第3のランド部16bの各々
のランド部は、封止樹脂22の下面領域において平面配
列で3列を構成したLGA型の樹脂封止型半導体装置で
ある。
のリードフレームを用いて構成した樹脂封止型半導体装
置であって、第2のリード部はくびれ部を有しているた
め、基板実装時などに各リード部に応力が印加され、リ
ード部と封止樹脂との界面で剥離が発生したとしても、
第1のリード部と第1のリード部との間に配置された第
2のリード部の幅がくびれ部で狭くなり、封止樹脂エリ
アが広がるため、熱応力および機械的応力を緩和するこ
とができ、進行してきた剥離を停止させることができる
ものである。そしてさらに剥離が樹脂封止型半導体装置
の内部に進行しようとする際、リード部はくびれ部から
幅広部となるため、この部分で剥離がさらに内部に進行
するには、より以上の応力が必要となり、剥離をくびれ
部で停止させることができる。
ッド部は上方に突出した段差部を有しているので、リー
ド部と封止樹脂との界面の剥離を止める基点となり、リ
ード部のくびれ部とともに相乗効果により樹脂剥離の停
止に絶大な効力を発揮するものである。
樹脂封止型半導体装置の製造方法について説明する。
体装置の製造方法を示す図であり、各図において、
(a)は平面図、(b)は主要な断面図である。
な銅材である金属板よりなるフレーム本体11と、その
フレーム本体11の開口領域内に配設された半導体素子
搭載用の矩形状のダイパッド部12と、先端部でダイパ
ッド部12を支持し、他端部でフレーム枠11と接続し
た吊りリード部13と、ダイパッド部12の各辺にその
先端部が対向し、他端部がフレーム本体11と接続して
設けられた複数のリード部群とを有し、複数のリード部
群14,15,16は少なくとも、上面に第1のボンデ
ィングパッド部14aと、その第1のボンディングパッ
ド部14aに対応する下面に第1のランド部14bとを
有した第1のリード部14と、上面に第2のボンディン
グパッド部15aと、その第2のボンディングパッド部
15aに対応する下面に第2のランド部15bとを有し
た第2のリード部15と、上面に第3のボンディングパ
ッド部16aと、その第3のボンディングパッド部16
aに対応する下面に第3のランド部16bとを有した第
3のリード部16とよりなり、第1のリード部14と第
3のリード部16とは、電気的に分離可能なように接続
されており、第2のリード部15はフレーム本体11の
近傍にその平面幅において細幅のくびれ部17を有して
いるリードフレームを用意する。また用意するリードフ
レームは、第1のリード部14の第1のボンディングパ
ッド部14a、第2のリード部15の第2のボンディン
グパッド部15a、第3のリード部16の第3のボンデ
ィングパッド部16aの各々のボンディングパッド部
は、それぞれ上方に突出した段差部を有しているリード
フレームを用意するものである。
5に示すような各構成要件を1ユニットとして、そのユ
ニットを複数個、左右上下に連続して形成されたリード
フレームを用意するものである。
ームの下面に封止シートを貼付し、リードフレームの第
1のリード部と第3のリード部とを電気的に分離するた
め、第1のリード部の先端部と第3のリード部の他端部
とを切断するものである。図5においては第1のリード
部と第3のリード部とを既に切断分離した状態で示して
いる。また以降の工程では貼付した封止シートを省略し
て説明する。
ダイパッド部12上に半導体素子20を接着剤を用いて
搭載する。
上に搭載した半導体素子20の電極とリードフレームの
複数のリード部群の第1のリード部14の第1のボンデ
ィングパッド部14a、第2のリード部15の第2のボ
ンディングパッド部15a、第3のリード部16の第3
のボンディングパッド部16aを各々金属細線21によ
り電気的に接続する。
上面領域全面を封止樹脂22で一括で封止する。図8
(a)では封止樹脂22に埋没した各構成要件を破線で
示している。また図8において、後工程の樹脂封止型半
導体装置の個片化時の分割ライン(ダイシングライン)
は一点鎖線で示している。
の下面に貼付した封止シートを除去した後、リードフレ
ームの複数のリード群部の他端部のフレーム本体と接続
した領域を回転プレードにより切削(切断)して、図4
に示したような個片化した樹脂封止型半導体装置23を
得るものである。ここで回転プレードで分割する箇所
は、リード部とフレーム本体との接続部分のやや内側部
分を切削するものである。
の製造方法は、製造に用いるリードフレームの第2のリ
ード部はくびれ部を有しているため、このリードフレー
ムを用いて樹脂封止型半導体装置を製造する際の特に回
転ブレードで切断する場合に、各リード部に応力が印加
され、各リード部と封止樹脂との界面で剥離が発生した
としても、リード部の幅がくびれ部で狭くなり、封止樹
脂エリアが広がるため、熱応力および機械的応力を緩和
することができ、進行してきた剥離を停止させることが
できるものである。そしてさらに剥離が樹脂封止型半導
体装置の内部に進行しようとする際、リード部はくびれ
部から幅広部となるため、この部分で剥離がさらに内部
に進行するには、より以上の応力が必要となり、剥離を
くびれ部で停止させることができる。
ッド部は上方に突出した段差部を有しているので、リー
ド部と封止樹脂との界面の剥離を止める基点となり、リ
ード部のくびれ部とともに相乗効果により樹脂剥離の停
止に絶大な効力を発揮するものである。
を用いた樹脂封止型半導体装置およびその製造方法で
は、リードフレームとして、リード部に幅が細くなった
くびれ部を有したリードフレームを用いるため、樹脂封
止後の一括成形ダイシング工程でのリード部に印加され
る応力によって発生するリード部/封止樹脂間の剥離の
進行を停止させ、信頼性の高い樹脂封止型半導体装置を
実現することができる。
端子が3列構造のものを説明したが、リードフレームか
ら樹脂封止型半導体装置への個片化時にダイシング等の
回転ブレードで封止樹脂とともにリード部を切断する製
法を採用する場合には、3列以上の複数列でリード部が
構成されたリードフレームを用いても同様の効果があ
り、リード部/封止樹脂間の剥離の進行を停止させるこ
とができ、信頼性の高いLGA型の樹脂封止型半導体装
置を実現できるものである。
の樹脂封止型半導体装置は、少なくとも封止樹脂の外方
に通じているリード部のうち少なくとも1つのリード部
はくびれ部を有しているため、基板実装時などに各リー
ド部に応力が印加され、リード部と封止樹脂との界面で
剥離が発生したとしても、交互に配置されたリード部の
幅がくびれ部で狭くなり、封止樹脂エリアが広がるた
め、熱応力および機械的応力を緩和することができ、進
行してきた剥離を停止させることができるものである。
そしてさらに剥離が樹脂封止型半導体装置の内部に進行
しようとする際、リード部はくびれ部から幅広部となる
ため、この部分で剥離がさらに内部に進行するには、よ
り以上の応力が必要となり、剥離をくびれ部で停止させ
ることができ、信頼性の高い樹脂封止型半導体装置を実
現できるものである。
方法は、リードフレームとして、一部のリード部に幅が
細くなったくびれ部を有したリードフレームを用いるた
め、樹脂封止後の一括成形ダイシング工程でのリード部
に印加される応力によって発生するリード部/封止樹脂
間の剥離の進行を停止させ、信頼性の高い樹脂封止型半
導体装置を実現することができる。
用いるリードフレームを示す平面図
用いるリードフレームを示す断面図
用いるリードフレームを示す拡大図
示す図
製造方法を示す図
製造方法を示す図
製造方法を示す図
製造方法を示す図
製造方法を示す図
ムを示す平面図
す断面図
ムを示す平面図
す断面図
Claims (9)
- 【請求項1】 ダイパッド部と、 前記ダイパッド部の上面に搭載された半導体素子と、 前記ダイパッド部の各辺にその先端部が対向して設けら
れた複数のリード部群と、 前記半導体素子の電極と前記リード部群の上面とを各々
電気的に接続した金属細線と、 前記半導体素子、金属細線、ダイパッド部の底面を除く
領域、および複数のリード部群の下面の一部を除く領域
を封止した封止樹脂とよりなる樹脂封止型半導体装置で
あって、 前記複数のリード部群は少なくとも、上面に前記金属細
線が接続された第1のボンディングパッド部と、前記第
1のボンディングパッド部に対応した下面に前記封止樹
脂から露出した第1のランド部とを有した第1のリード
部と、 上面に前記金属細線が接続された第2のボンディングパ
ッド部と、前記第2のボンディングパッド部に対応する
下面に前記封止樹脂から露出した第2のランド部とを有
した第2のリード部と、 上面に前記金属細線が接続された第3のボンディングパ
ッド部と、前記第3のボンディングパッド部に対応する
下面に前記封止樹脂から露出した第3のランド部とを有
した第3のリード部とよりなり、 前記第2のリード部の前記封止樹脂端側はその平面幅に
おいて細幅のくびれ部を有していることを特徴とする樹
脂封止型半導体装置。 - 【請求項2】 第1のリード部の第1のボンディングパ
ッド部、第2のリード部の第2のボンディングパッド
部、第3のリード部の第3のボンディングパッド部の各
々のボンディングパッド部は上方に突出した段差部を有
していることを特徴とする請求項1に記載の樹脂封止型
半導体装置。 - 【請求項3】 第1のリード部の第1のランド部、第2
のリード部の第2のランド部、第3のリード部の第3の
ランド部の各々のランド部は、封止樹脂の下面領域にお
いて平面配列で3列を構成していることを特徴とする請
求項1に記載の樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項4】 第2のリード部は第1のリード部と第1
のリード部との間に配置されていることを特徴とする請
求項1に記載の樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項5】 金属板よりなるフレーム本体と、前記フ
レーム本体の開口領域内に配設された半導体素子搭載用
のダイパッド部と、先端部で前記ダイパッド部を支持
し、他端部で前記フレーム枠と接続した吊りリード部
と、前記ダイパッド部の各辺にその先端部が対向し、他
端部が前記フレーム本体と接続して設けられた複数のリ
ード部群とを有し、前記複数のリード部群は少なくと
も、上面に第1のボンディングパッド部と、前記第1の
ボンディングパッド部に対応する下面に第1のランド部
とを有した第1のリード部と、上面に第2のボンディン
グパッド部と、前記第2のボンディングパッド部に対応
する下面に第2のランド部とを有した第2のリード部
と、上面に第3のボンディングパッド部と、前記第3の
ボンディングパッド部に対応する下面に第3のランド部
とを有した第3のリード部とよりなり、前記第1のリー
ド部と第3のリード部とは、電気的に分離可能なように
接続されており、前記第2のリード部は前記フレーム本
体近傍にその平面幅において細幅のくびれ部を有してい
るリードフレームを用意する工程と、前記リードフレー
ムの下面に封止シートを貼付する工程と、前記リードフ
レームのダイパッド部上に半導体素子を搭載する工程
と、前記半導体素子の電極と前記リードフレームの複数
のリード部群の第1のリード部の第1のボンディングパ
ッド部、第2のリード部の第2のボンディングパッド
部、第3のリード部の第3のボンディングパッド部を各
々金属細線により電気的に接続する工程と、前記リード
フレームの上面領域全面を封止樹脂で封止する工程と、
前記リードフレームの下面に貼付した封止シートを除去
する工程と、前記リードフレームの複数のリード部の他
端部のフレーム本体と接続した領域を切断して樹脂封止
型半導体装置を得る工程とよりなることを特徴とする樹
脂封止型半導体装置の製造方法。 - 【請求項6】 リードフレームを用意する工程では、リ
ードフレームの第1のリード部の第1のボンディングパ
ッド部、第2のリード部の第2のボンディングパッド
部、第3のリード部の第3のボンディングパッド部の各
々のボンディングパッド部は上方に突出した段差部を有
しているリードフレームを用意することを特徴とする請
求項5に記載の樹脂封止型半導体装置の製造方法。 - 【請求項7】 リードフレームを用意する工程では、第
2のリード部が第1のリード部と第1のリード部との間
に配置されているリードフレームを用意することを特徴
とする請求項5に記載の樹脂封止型半導体装置の製造方
法。 - 【請求項8】 リードフレームの下面に封止シートを貼
付する工程の後、前記リードフレームの第1のリード部
と第3のリード部とを電気的に分離する工程を有するこ
とを特徴とする請求項5に記載の樹脂封止型半導体装置
の製造方法。 - 【請求項9】 リードフレームの複数のリード部群の他
端部のフレーム本体と接続した領域を切断して樹脂封止
型半導体装置を得る工程では、回転ブレードにより切削
して切断することを特徴とする請求項5に記載の樹脂封
止型半導体装置の製造方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7170149B2 (en) | 2001-04-13 | 2007-01-30 | Yamaha Corporation | Semiconductor device and package, and method of manufacture therefor |
JP2009026791A (ja) * | 2007-07-17 | 2009-02-05 | Denso Corp | モールドパッケージおよびその製造方法 |
JP2012235172A (ja) * | 2012-09-04 | 2012-11-29 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 半導体装置用基板及び半導体装置 |
JP2015181206A (ja) * | 2015-07-13 | 2015-10-15 | 大日本印刷株式会社 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
Families Citing this family (47)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8129222B2 (en) * | 2002-11-27 | 2012-03-06 | United Test And Assembly Test Center Ltd. | High density chip scale leadframe package and method of manufacturing the package |
SG157957A1 (en) * | 2003-01-29 | 2010-01-29 | Interplex Qlp Inc | Package for integrated circuit die |
CN100454220C (zh) * | 2003-05-08 | 2009-01-21 | 希尔克瑞斯特实验室公司 | 用于组织、选择和启动媒体项的控制架构 |
JP2004363365A (ja) * | 2003-06-05 | 2004-12-24 | Renesas Technology Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
US6929485B1 (en) * | 2004-03-16 | 2005-08-16 | Agilent Technologies, Inc. | Lead frame with interdigitated pins |
US10013371B2 (en) | 2005-06-24 | 2018-07-03 | Google Llc | Configurable memory circuit system and method |
US8244971B2 (en) | 2006-07-31 | 2012-08-14 | Google Inc. | Memory circuit system and method |
US8041881B2 (en) | 2006-07-31 | 2011-10-18 | Google Inc. | Memory device with emulated characteristics |
US8111566B1 (en) | 2007-11-16 | 2012-02-07 | Google, Inc. | Optimal channel design for memory devices for providing a high-speed memory interface |
US8327104B2 (en) | 2006-07-31 | 2012-12-04 | Google Inc. | Adjusting the timing of signals associated with a memory system |
US8090897B2 (en) * | 2006-07-31 | 2012-01-03 | Google Inc. | System and method for simulating an aspect of a memory circuit |
US8359187B2 (en) | 2005-06-24 | 2013-01-22 | Google Inc. | Simulating a different number of memory circuit devices |
US8335894B1 (en) | 2008-07-25 | 2012-12-18 | Google Inc. | Configurable memory system with interface circuit |
US8130560B1 (en) | 2006-11-13 | 2012-03-06 | Google Inc. | Multi-rank partial width memory modules |
US20080028136A1 (en) * | 2006-07-31 | 2008-01-31 | Schakel Keith R | Method and apparatus for refresh management of memory modules |
US7386656B2 (en) | 2006-07-31 | 2008-06-10 | Metaram, Inc. | Interface circuit system and method for performing power management operations in conjunction with only a portion of a memory circuit |
US8169233B2 (en) | 2009-06-09 | 2012-05-01 | Google Inc. | Programming of DIMM termination resistance values |
US9507739B2 (en) | 2005-06-24 | 2016-11-29 | Google Inc. | Configurable memory circuit system and method |
US8386722B1 (en) | 2008-06-23 | 2013-02-26 | Google Inc. | Stacked DIMM memory interface |
US9171585B2 (en) | 2005-06-24 | 2015-10-27 | Google Inc. | Configurable memory circuit system and method |
US8077535B2 (en) | 2006-07-31 | 2011-12-13 | Google Inc. | Memory refresh apparatus and method |
US8089795B2 (en) | 2006-02-09 | 2012-01-03 | Google Inc. | Memory module with memory stack and interface with enhanced capabilities |
US8796830B1 (en) * | 2006-09-01 | 2014-08-05 | Google Inc. | Stackable low-profile lead frame package |
KR101377305B1 (ko) * | 2005-06-24 | 2014-03-25 | 구글 인코포레이티드 | 집적 메모리 코어 및 메모리 인터페이스 회로 |
US8060774B2 (en) * | 2005-06-24 | 2011-11-15 | Google Inc. | Memory systems and memory modules |
US8438328B2 (en) | 2008-02-21 | 2013-05-07 | Google Inc. | Emulation of abstracted DIMMs using abstracted DRAMs |
US8397013B1 (en) | 2006-10-05 | 2013-03-12 | Google Inc. | Hybrid memory module |
US8081474B1 (en) | 2007-12-18 | 2011-12-20 | Google Inc. | Embossed heat spreader |
US8055833B2 (en) | 2006-10-05 | 2011-11-08 | Google Inc. | System and method for increasing capacity, performance, and flexibility of flash storage |
US7609567B2 (en) | 2005-06-24 | 2009-10-27 | Metaram, Inc. | System and method for simulating an aspect of a memory circuit |
US20080082763A1 (en) | 2006-10-02 | 2008-04-03 | Metaram, Inc. | Apparatus and method for power management of memory circuits by a system or component thereof |
US9542352B2 (en) | 2006-02-09 | 2017-01-10 | Google Inc. | System and method for reducing command scheduling constraints of memory circuits |
GB2444663B (en) | 2005-09-02 | 2011-12-07 | Metaram Inc | Methods and apparatus of stacking drams |
US9632929B2 (en) | 2006-02-09 | 2017-04-25 | Google Inc. | Translating an address associated with a command communicated between a system and memory circuits |
US7724589B2 (en) | 2006-07-31 | 2010-05-25 | Google Inc. | System and method for delaying a signal communicated from a system to at least one of a plurality of memory circuits |
US20080079127A1 (en) * | 2006-10-03 | 2008-04-03 | Texas Instruments Incorporated | Pin Array No Lead Package and Assembly Method Thereof |
US8209479B2 (en) | 2007-07-18 | 2012-06-26 | Google Inc. | Memory circuit system and method |
US8080874B1 (en) | 2007-09-14 | 2011-12-20 | Google Inc. | Providing additional space between an integrated circuit and a circuit board for positioning a component therebetween |
JP2009076658A (ja) * | 2007-09-20 | 2009-04-09 | Renesas Technology Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
US7932130B2 (en) * | 2008-08-01 | 2011-04-26 | Stats Chippac Ltd. | Method for forming an etched recess package on package system |
JP2010171181A (ja) * | 2009-01-22 | 2010-08-05 | Renesas Technology Corp | 半導体装置 |
TWI404187B (zh) * | 2010-02-12 | 2013-08-01 | 矽品精密工業股份有限公司 | 能避免電磁干擾之四方形扁平無引腳封裝結構及其製法 |
CN102194797A (zh) * | 2010-03-11 | 2011-09-21 | 矽品精密工业股份有限公司 | 能避免电磁干扰的四方形扁平无引脚封装结构及其制法 |
JP6129645B2 (ja) * | 2013-05-29 | 2017-05-17 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
JP6354285B2 (ja) * | 2014-04-22 | 2018-07-11 | オムロン株式会社 | 電子部品を埋設した樹脂構造体およびその製造方法 |
KR101747226B1 (ko) * | 2016-03-16 | 2017-06-27 | 해성디에스 주식회사 | 반도체 패키지 기판 및 그 제조 방법 |
CN107799498A (zh) * | 2016-09-06 | 2018-03-13 | 精工半导体有限公司 | 半导体装置的制造方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08250641A (ja) | 1995-03-09 | 1996-09-27 | Fujitsu Ltd | 半導体装置とその製造方法 |
JP3074264B2 (ja) | 1997-11-17 | 2000-08-07 | 富士通株式会社 | 半導体装置及びその製造方法及びリードフレーム及びその製造方法 |
TW351008B (en) * | 1996-12-24 | 1999-01-21 | Matsushita Electronics Corp | Lead holder, manufacturing method of lead holder, semiconductor and manufacturing method of semiconductor |
JP3292082B2 (ja) | 1997-03-10 | 2002-06-17 | 松下電器産業株式会社 | ターミナルランドフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法 |
JPH10335566A (ja) * | 1997-04-02 | 1998-12-18 | Dainippon Printing Co Ltd | 樹脂封止型半導体装置とそれに用いられる回路部材、および樹脂封止型半導体装置の製造方法 |
FR2764115B1 (fr) * | 1997-06-02 | 2001-06-08 | Sgs Thomson Microelectronics | Dispositif semiconducteur et procede de connexion des fils internes de masse d'un tel dispositif |
JPH11307707A (ja) * | 1998-04-21 | 1999-11-05 | Matsushita Electron Corp | リードフレームの製造方法及び樹脂封止型半導体装置 |
JP3405202B2 (ja) | 1998-06-26 | 2003-05-12 | 松下電器産業株式会社 | リードフレームおよびそれを用いた樹脂封止型半導体装置およびその製造方法 |
JP3478139B2 (ja) * | 1998-09-02 | 2003-12-15 | 松下電器産業株式会社 | リードフレームの製造方法 |
JP3436159B2 (ja) * | 1998-11-11 | 2003-08-11 | 松下電器産業株式会社 | 樹脂封止型半導体装置の製造方法 |
JP2000196004A (ja) | 1998-12-25 | 2000-07-14 | Mitsui High Tec Inc | 半導体装置用リ―ドフレ―ム及びこれを用いた半導体装置 |
JP2000286377A (ja) * | 1999-03-30 | 2000-10-13 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体装置 |
JP3046024B1 (ja) * | 1999-04-23 | 2000-05-29 | 松下電子工業株式会社 | リ―ドフレ―ムおよびそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法 |
-
2001
- 2001-03-01 JP JP2001056521A patent/JP3436253B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2002
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Cited By (5)
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US7554182B2 (en) | 2001-04-13 | 2009-06-30 | Yamaha Corporation | Semiconductor device and package, and method of manufacturer therefor |
JP2009026791A (ja) * | 2007-07-17 | 2009-02-05 | Denso Corp | モールドパッケージおよびその製造方法 |
JP2012235172A (ja) * | 2012-09-04 | 2012-11-29 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 半導体装置用基板及び半導体装置 |
JP2015181206A (ja) * | 2015-07-13 | 2015-10-15 | 大日本印刷株式会社 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
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