JP2001511781A - スルホンアミド誘導体 - Google Patents

スルホンアミド誘導体

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ザリンメイエー,ハミデ
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Abstract

(57)【要約】 哺乳動物におけるグルタメート受容体機能は、式(I): [式中、R1は、置換されていない芳香族もしくはヘテロ芳香族基、または置換されている芳香族もしくはヘテロ芳香族基を表し;R2は、(1−6C)アルキル、(3−6C)シクロアルキル、(1−6C)フルオロアルキル、(1−6C)クロロアルキル、(2−6C)アルケニル、(1−4C)アルコキシ(1−4C)アルキル、置換されていないフェニル、もしくはハロゲン、(1−4C)アルキル、もしくは(1−4C)アルコキシで置換されているフェニル、または式R34N(式中、R3およびR4は各々独立して、(1−4C)アルキルを表すか、またはそれらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジニル、ピロリジニル、ピペリジニル、モルホリノ、ピペラジニル、ヘキサヒドロアゼピニル、もしくはオクタヒドロアゾシニル基を形成する。)の基を表し;およびLは、置換されていない(2−4C)アルキレン鎖、もしくは(1−6C)アルキル、アリール(1−6C)アルキル、(2−6C)アルケニル、アリール(2−6C)アルケニル、およびアリールから独立して選択される1つもしくは2つの置換基で置換されている(2−4C)アルキレン鎖を表すか、またはこの2つの置換基が、それらが結合する炭素原子と一緒になって、(3−8C)炭素環式環を形成する。]の化合物およびその医薬的に許容され得る塩の有効量を使用して増強することができる。式(I)の新規化合物、それらを製造する方法、およびそれらを含む医薬組成物もまた開示する。

Description

【発明の詳細な説明】 スルホンアミド誘導体 本発明は、あるスルホンアミド誘導体を使用するグルタメート受容体機能の増 強に関する。本発明はまた、新規スルホンアミド誘導体、それらの製造方法、お よびそれらを含む医薬組成物にも関する。 哺乳動物の中枢神経系(CNS)において、神経インパルスの伝達は、送出ニュ ーロンにより放出される神経伝達物質と、この受容ニューロンの興奮を引き起こ す受容ニューロン上の表面受容体との間の相互作用によって制御される。CNS において最も豊富な神経伝達物質であるL−グルタメートは、哺乳動物における 主要な興奮性経路を媒介し、興奮性アミノ酸(EAA)と呼ばれる。グルタメート に応答する受容体は、興奮性アミノ酸受容体(EAA受容体)と呼ばれる。Watkin s & Evans,Ann.Rev.Pharmacol.Toxicol.,21,165(1981);Mona ghan,Bridges,およびCotman,Ann.Rev.Pharmacol.Toxicol.,29,365 (1989);Watkins,Krogsgaard-Larsen,およびHonore,Trans.Pharm.Sc i.,11,25(1990)。興奮性アミノ酸は、長期増強(学習および記憶)、 シナプス可塑性の発達、運動制御、呼吸、心臓血管調節、および感覚認知といっ たような、様々な生理的プロセスにおいて役割を果たす、生理的に大変重要なも のである。 興奮性アミノ酸受容体は、2つの一般的なタイプに分類される。ニューロンの 細胞膜における陽イオンチャネルの孔に直接結合する受容体は、「イオンチャン ネル型」と呼ばれる。このタイプの受容体は、少なくとも3つのサブタイプに再 分されており、選択的アゴニストであるN−メチル−D−アスパルテート(NM DA)、α−アミノ−3−ヒドロキシ−5−メチルイソオキサゾール−4−プロ ピオン酸(AMPA)、およびカイニン酸(KA)の脱分極作用により定義される。 第2の一般的なタイプの受容体は、G−タンパク質または第二メッセンジャーに リンクする「代謝型」の興奮性アミノ酸受容体である。この第2のタイプは、複 数の第二メッセンジャーシステムに共役して、ホスホイノシチド加水分解の向上 、 ホスホリパーゼDの活性化、cAMP形成の増大または減少、およびイオンチャネル 機能の変化をもたらす。SchoeppおよびConn,Trends in Pharmacol.Sci.,14 ,13(1993)。両方のタイプの受容体は、興奮性経路に沿った正常なシナ プス伝達を媒介するだけでなく、発達の間および一生を通じて、シナプス結合の 変化にも関係するらしい。Schoepp,Bockaert,およびSladeczek,Trends in Ph armacol.Sci.,11,508(1990);McDonaldおよびJohnson,Bra in R esearch Reviews,15,41(1990)。 AMPA受容体は、GluR1〜G1uR4として知られている4つのタンパク質サブ ユニットから組み立てられるが、カイニン酸受容体は、サブユニットであるGluR 5〜GluR7、並びにKA−1およびKA−2から組み立てられる。WongおよびMa yer,Molecular Pharmacology 44:505−510,1993。これらのサブ ユニットが自然の状態でどのようにして結合するのかはまだ知られていない。し かしながら、各々のサブユニットのあるヒト変異体の構造は解明されており、個 々のサブユニット変異体を発現する細胞系がクローン化されて、それらに結合す るか、またはそれらと相互作用して、それ故に、それらの機能を変調し得る化合 物を同定するために設計された試験システムに組み込まれている。従って、欧州 特許出願、公開番号EP−A2−0574257は、ヒトサブユニット変異体で あるGluR1B、GluR2B、GluR3A、およびGluR3Bを開示している。欧州特 許出願、公開番号EP−A1−0583917は、ヒトサブユニット変異体であ るGluR4Bを開示している。 AMPAおよびカイニン酸受容体の特徴的な性質の1つは、グルタメートに対 するそれらの迅速な不活性化および脱感作である。YamadaおよびTang,The Jour nal of Neuroscience,1993年9月,13(9):3904−3915、並び にKathryn M.Partin,J.Neuroscience,1996年11月1日,16(21): 6634−6647。迅速な脱感作および不活性化の生理的関係は、たとえある にしても知られていない。 グルタメートに対するAMPAおよび/またはカイニン酸受容体の迅速な脱感 作および不活性化は、ある化合物を使用して阻害され得ることが知られている。 これらの化合物のこの作用は、しばしば、別の言い方で、受容体の「増強」と呼 ばれる。AMPA受容体機能を選択的に増強する、そのような化合物の1つは、 シクロチアジドである。Partinら,Neuron.第11巻,1069−1082,1 993。シクロチアジドのような、AMPA受容体を増強する化合物は、しばし ば、アンパキン(ampakines)と呼ばれる。 国際特許出願公開番号WO 9625926は、カイニン酸およびAMPAに より誘発される膜電流を増強すると言われる、フェニルチオアルキルスルホンア ミド、S−オキシド、およびホモログの一群を開示している。 米国特許明細書番号第3,143,549号は、1−メチル−2−フェニルエチ ル ジメチルスルファミドを含む、あるフェニルアルキルスルファミドを開示し ている。その化合物は、中枢神経系活性、特に抗不安および精神安定性を有する と言われる。 米国特許明細書番号第3,267,139号は、中枢神経系活性および抗痙攣活 性を有する、あるN'−トリメチルアセチル−N−フェニルアルキルスルファミ ドおよび−フェニルシクロプロピルスルファミドを開示している。その化合物は また、実験動物においてパーキンソン様症状を引き起こすとも言われる。 米国特許明細書番号第3,860,723号は、あるフェニルアルキルスルファ ミドを使用して、健康な動物の飼料摂取量を増大させる方法を開示している。 Foyeら,J.Pharm.Sci.(1971),60(7),1095−6は、低血圧活 性を有する、N−1−メチル−2−フェニルエチル メタンスルホンアミドを含 め、あるフェニルアルキル メチルスルホンアミドを開示している。 英国特許明細書番号第1,059,360号は、1−(1−メチル−2−フェニ ルエチルアミノスルホニル)ピペリジンを含め、鎮静薬、麻酔薬、および抗痙攣 薬としての活性を有する、あるフェニルアルキルスルファミドを開示している。 米国特許明細書番号第4,210,749号は、N−1−メチル−2−フェニル −3−メトキシ エチル ブタンスルホンアミドを開示している。 Gualtieriら,J.Pharm.Sci.(1973),62(5),849−851は、 N−1−メチル−2−フェニルエチル ブタンスルホンアミドおよび蚊駆散薬と してのその評価を開示している。 Foyeら,J.Pharm.Sci.(1979),68(5),591−5は、N−1 −メチル−2−(4−クロロフェニル)エチル メタンスルホンアミドを開示して いる。 FoyeおよびSane,J.Pharm.Sci.(1977),66(7),923−6は、ア ンフェタミンおよびそのある4−置換アナログのN−メタンスルホニルおよびN −トリフルオロメタンスルホニル誘導体、並びに中枢神経系および食欲不振効果 に対するそれらの評価を開示している。 欧州特許出願公開番号EP−A1−0657442は、PEG2アゴニストお よびアンタゴニストとしての、あるナフチルオキシ酢酸誘導体を開示している。 N−(2,2−ジフェニルエチル)メタンスルホンアミドが中間体として第53頁 第38行に開示されている。 米国特許明細書番号第3,629,332号は、N−(α−メチルフェニルエチ ル)トリフルオロメタンスルホンアミド、ジフルオロメタンスルホンアミド、お よびフルオロメタンスルホンアミドを含め、植物生長調節剤としての、あるN− アリール−およびN−ヘテロアリールアルキル フルオロアルカン スルホンアミ ドを開示している。その化合物の幾つかはまた、殺虫、殺ダニ、殺線虫、鎮痛、 および抗炎症活性を含め、他の生物活性を有するとも言われる。 アンパキンは、様々な動物試験において記憶を改善することが示されている。 Staubliら,Proc.Natl.Acad.Sci.,第91巻,777−781頁,1994 ,Neurobiology,およびAraiら,The Journal of Pharmacology and Experiment al Therapeutics,278:627−638,1996。 シクロチアジドおよびあるスルホンアミド誘導体は、HEK 293細胞にお いて発現されるヒトGluR4B受容体の、アゴニストにより誘発される興奮性を増 強することが今見出された。シクロチアジドは、インビボにおいてグルタメート 受容体機能を増強することが知られているので、この発見は、スルホンアミド誘 導体もまたインビボにおいてグルタメート受容体機能を増強するであろうし、そ れ故に、その化合物がアンパキン様作用を示すであろうことを意味すると信じら れる。 従って、本発明は、そのような処置を必要とする哺乳動物においてグルタメー ト受容体機能を増強する方法であって、式: R1−L−NHSO22 I [式中、 R1は、置換されていない芳香族もしくはヘテロ芳香族基、または置換されて いる芳香族もしくはヘテロ芳香族基を表し; R2は、(1−6C)アルキル、(3−6C)シクロアルキル、(1−6C)フルオ ロアルキル、(1−6C)クロロアルキル、(2−6C)アルケニル、(1−4C)ア ルコキシ(1−4C)アルキル、置換されていないフェニル、もしくはハロゲン、 (1−4C)アルキル、もしくは(1−4C)アルコキシで置換されているフェニル 、または式R34N(式中、R3およびR4は各々独立して、(1−4C)アルキル を表すか、またはそれらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジニル 、ピロリジニル、ピペリジニル、モルホリノ、ピペラジニル、ヘキサヒドロアゼ ピニル、もしくはオクタヒドロアゾシニル基を形成する。)の基を表し;および Lは、置換されていない(2−4C)アルキレン鎖、もしくは(1−6C)アルキ ル、アリール(1−6C)アルキル、(2−6C)アルケニル、アリール(2−6C) アルケニル、およびアリールから独立して選択される1つもしくは2つの置換基 で置換されている(2−4C)アルキレン鎖を表すか、またはこの2つの置換基が 、それらが結合する炭素原子と一緒になって、(3−8C)炭素環式環を形成する 。] の化合物またはその医薬的に許容され得る塩の有効量を投与することを含んでな る方法を提供する。 別の態様によれば、本発明は、グルタメート受容体機能を増強するための薬剤 の製造のための、上に定義した式Iの化合物またはその医薬的に許容され得る塩 の使用を提供する。 さらに別の態様によれば、本発明は、グルタメート受容体機能を増強するため の、上に定義した式Iの化合物またはその医薬的に許容され得る塩の使用を提供 する。 本明細書中、「グルタメート受容体機能を増強する」という用語は、グルタメ ートまたはアゴニストに対するグルタメート受容体(例えば、AMPA受容体)の いずれかの応答性の増強をいい、限定されるものではないが、グルタメートに対 するAMPA受容体の迅速な脱感作または不活性化の阻害が含まれる。 式Iの化合物およびそれらの医薬的に許容され得る塩により、グルタメート受 容体機能の増強剤としてのそれらの作用によって、広範囲にわたる様々な状態を 治療または予防することができる。そのような状態には、精神医学的および神経 学的障害(例えば、認識障害);アルツハイマー病のような神経変性障害;加齢と 関係のある痴呆;加齢により誘発される記憶障害;晩発性運動異常症、ハンチン トン舞踏病、ミオクローヌス、およびパーキンソン病といったような運動障害; (コカイン、アンフェタミン、アルコールにより誘発される状態といったような )薬物により誘発される状態の反転;うつ病;注意欠陥障害;注意欠陥多動障害 ;精神病;精神病と関連のある認識欠陥;並びに薬物により誘発される精神病と いったような、グルタメート機能低下と関連のある状態が含まれる。式Iの化合 物はまた、(短期間と長期間との両方の)記憶および学習能力を改善するのにも有 用であり得る。本発明は、これらの各々の状態の処置のための、式Iの化合物の 使用を提供する。 式Iの化合物は、1つまたはそれ以上の不斉炭素原子を含み得ることから、従 って、個々の鏡像異性体の形で存在して使用され得ることが分かるであろう。本 発明には、式Iの化合物の個々の鏡像異性体が含まれる。 本明細書中で使用する「芳香族基」という用語は、アリールと同一物を意味し 、フェニル、およびナフチルのような多環式芳香族炭素環式環が含まれる。 「ヘテロ芳香族基」という用語には、酸素、硫黄、および窒素から選択される 1〜4個のヘテロ原子を含む芳香族の5−6員環、並びにベンゼン環または酸素 、硫黄、および窒素から選択される1〜4個の原子を含む別の5−6員環と縮合 した、酸素、硫黄、および窒素から選択される1〜4個のヘテロ原子を含む5− 6員環からなる二環式基が含まれる。ヘテロ芳香族基の例は、チエニル、フリル 、オキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル、ピラゾリル、チアゾリ ル、チアジアゾリル、イソチアゾリル、イミダゾリル、トリアゾリル、テトラゾ リル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジル、ベンゾフリル、ベンゾチエニル、 ベンゾイミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、インドリル、お よびキノリルである。 「置換されている芳香族またはヘテロ芳香族基」という用語において使用する 「置換されている」という用語は、1つまたはそれ以上の(例えば、1つまたは 2つの)置換基が存在し得ることを意味し、該置換基は、式Iの化合物に存在す る場合、式Iの化合物がグルタメート受容体機能の増強剤として機能するのを妨 げない原子および基から選択される。 置換されている芳香族またはヘテロ芳香族基に存在し得る置換基の例には、ハ ロゲン;ニトロ;シアノ;ヒドロキシイミノ;(1−10C)アルキル;(2−1 0C)アルケニル;(2−10C)アルキニル;(3−8C)シクロアルキル;ヒド ロキシ(3−8C)シクロアルキル;オキソ(3−8C)シクロアルキル;ハロ(1 −10C)アルキル;(CH2)y19(式中、yは、0または1〜4の整数であ り、X1は、O、S、NR10、CO、COO、OCO、CONR11、NR12CO 、NR12COCOO、OCONR13を表し、R9は、水素、(1−10C)アルキ ル、(3−10C)アルケニル、(3−10C)アルキニル、ピロリジニル、テトラ ヒドロフリル、モルホリノ、または(3−8C)シクロアルキルを表し、およびR10 、R11、R12、およびR13は各々独立して、水素または(1−10C)アルキル を表すか、またはR9およびR10、R11、R12、またはR13は、それらが結合し ている窒素原子と一緒になって、アゼチジニル、ピロリジニル、ピペリジニル、 もしくはモルホリノ基を形成する。);N−(1−4C)アルキルピペラジニル; N−フェニル(1−4C)アルキルピペラジニル;チエニル;フリル;オキサゾリ ル;イソオキサゾリル;ピラゾリル;イミダゾリル;チアゾリル;ピリジル;ピ リダジニル;ピリミジニル;ジヒドロチエニル;ジヒドロフリル;ジヒドロチオ ピラニル;ジヒドロピラニル;ジヒドロチアゾリル;(1−4C)アルコキシカル ボニル ジヒドロチアゾリル;(1−4C)アルコキシカルボニル ジメチルジヒド ロチアゾリル;テトラヒドロチエニル;テトラヒドロフリル;テトラヒドロチオ ピラニル;テトラヒドロピラニル;インドリル;ベンゾフリル;ベンゾチエニル ;ベンゾイミダゾリル;および式R14−(La)n−X2−(Lb)m(式中、X2は、結 合、O、NH、S、SO、SO2、CO、CH(OH)、CONH、NHCO、N HCONH、NHCOO、COCONH、OCH2CONH、またはCH=CH を表し、LaおよびLbは各々、(1−4C)アルキレンを表し、nお よびmの一方は0または1であって、他方は0であり、およびR14は、置換され ていないフェニルもしくはヘテロ芳香族基、または1つもしくは2つのハロゲン ;ニトロ;シアノ;(1−10C)アルキル;(2−10C)アルケニル;(2−1 0C)アルキニル;(3−8C)シクロアルキル;4−(1,1−ジオキソテトラヒ ドロ−1,2−チアジニル);ハロ(1−10C)アルキル;シアノ(2−10C)ア ルケニル;フェニル;および(CH2)z315(式中、zは、0または1〜4の 整数であり、X3は、O、S、NR16、CO、CH(OH)、COO、OCO、C ONR17、NR18CO、NHSO2、NHSO2NR17、OCONR19、またはN R19COOを表し、R15は、水素、(1−10C)アルキル、フェニル(1−4C) アルキル、(1−10C)ハロアルキル、(1−4C)アルコキシカルボニル(1− 4C)アルキル、(1−4C)アルキルスルホニルアミノ(1−4C)アルキル、N −(1−4C)アルコキシカルボニル(1−4C)アルキルスルホニルアミノ(1− 4C)アルキル、(3−10C)アルケニル、(3−10C)アルキニル、(3−8C )シクロアルキル、カンホリル、または置換されていない芳香族もしくはヘテロ 芳香族基、もしくは1つもしくは2つのハロゲン、(1−4C)アルキル、(1− 4C)ハロアルキル、ジ(1−4C)アルキルアミノ、および(1−4C)アルコキ シで置換されている芳香族もしくはヘテロ芳香族基を表し、およびR16、R17、 R18、およびR19は各々独立して、水素または(1−10C)アルキルを表すか、 またはR15およびR16、R17、R18、もしくはR19は、それらが結合している窒 素原子と一緒になって、アゼチジニル、ピロリジニル、ピペリジニル、もしくは モルホリノ基を形成する。)で置換されているフェニルもしくはヘテロ芳香族基 を表す。)の基が含まれる。 (1−10C)アルキルという用語には、(1−8C)アルキル、(1−6C)アル キル、および(1−4C)アルキルが含まれる。詳細な意義は、メチル、エチル、 プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシ ル、ヘプチル、オクチル、ノニル、およびデシルである。 (2−10C)アルケニルという用語には、(3−10C)アルケニル、(1−8 C)アルケニル、(1−6C)アルケニル、および(1−4C)アルケニルが含まれ る。詳細な意義は、ビニルおよびプロプ−2−エニルである。 (2−10C)アルキニルという用語には、(3−10C)アルキニル、(1−8 C)アルキニル、(1−6C)アルキニル、および(3−4C)アルキニルが含まれ る。詳細な意義は、プロプ−2−イニルである。 (3−8C)シクロアルキルという用語には、それ自体で、または(3−8C)シ クロアルキルオキシという用語において、単環式および多環式基が含まれる。詳 細な意義は、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル 、およびビシクロ[2.2.2]オクタンである。その用語には、(3−6C)シクロ アルキル;シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、およびシクロヘキ シルが含まれる。 ヒドロキシ(3−8C)シクロアルキルという用語には、3−ヒドロキシシクロ ペンチルのようなヒドロキシシクロペンチルが含まれる。 オキソ(3−8C)シクロアルキルという用語には、3−オキソシクロペンチル のようなオキソシクロペンチルが含まれる。 ハロゲンという用語には、フッ素、塩素、臭素、およびヨウ素が含まれる。 ハロ(1−10C)アルキルという用語には、トリフルオロメチルおよび2,2, 2−トリフルオロエチルといったようなフルオロ(1−10C)アルキル、並びに クロロメチルのようなクロロ(1−10C)アルキルが含まれる。 シアノ(2−10C)アルケニルという用語には、2−シアノエテニルが含まれ る。 (2−4C)アルキレンという用語には、エチレン、プロピレン、およびブチレ ンが含まれる。好ましい意義は、エチレンである。 チエニルという用語には、チエン−2−イルおよびチエン−3−イルが含まれ る。 フリルという用語には、フル−2−イルおよびフル−3−イルが含まれる。 オキサゾリルという用語には、オキサゾール−2−イル、オキサゾール−4− イル、およびオキサゾール−5−イルが含まれる。 イソオキサゾリルという用語には、イソオキサゾール−3−イル、イソオキサ ゾール−4−イル、およびイソオキサゾール−5−イルが含まれる。 オキサジアゾリルという用語には、[1,2,4]オキサジアゾール−3−イルお よび[1,2,4]オキサジアゾール−5−イルが含まれる。 ピラゾリルという用語には、ピラゾール−3−イル、ピラゾール−4−イル、 およびピラゾール−5−イルが含まれる。 チアゾリルという用語には、チアゾール−2−イル、チアゾール−4−イル、 およびチアゾール−5−イルが含まれる。 チアジアゾリルという用語には、[1,2,4]チアジアゾール−3−イルおよび [1,2,4]チアジアゾール−5−イルが含まれる。 イソチアゾリルという用語には、イソチアゾール−3−イル、イソチアゾール −4−イル、およびイソチアゾール−5−イルが含まれる。 イミダゾリルという用語には、イミダゾール−2−イル、イミダゾール−4− イル、およびイミダゾール−5−イルが含まれる。 トリアゾリルという用語には、[1,2,4]トリアゾール−3−イルおよび[1, 2,4]トリアゾール−5−イルが含まれる。 テトラゾリルという用語には、テトラゾール−5−イルが含まれる。 ピリジルという用語には、ピリド−2−イル、ピリド−3−イル、およびピリ ド−4−イルが含まれる。 ピリダジニルという用語には、ピリダジン−3−イル、ピリダジン−4−イル 、ピリダジン−5−イル、およびピリダジン−6−イルが含まれる。 ピリミジルという用語には、ピリミジン−2−イル、ピリミジン−4−イル、 ピリミジン−5−イル、およびピリミジン−6−イルが含まれる。 ベンゾフリルという用語には、ベンゾフル−2−イルおよびベンゾフル−3− イルが含まれる。 ベンゾチエニルという用語には、ベンゾチエン−2−イルおよびベンゾチエン −3−イルが含まれる。 ベンゾイミダゾリルという用語には、ベンゾイミダゾール−2−イルが含まれ る。 ベンゾオキサゾリルという用語には、ベンゾオキサゾール−2−イルが含まれ る。 ベンゾチアゾリルという用語には、ベンゾチアゾール−2−イルが含まれる。 インドリルという用語には、インドール−2−イルおよびインドール−3−イ ルが含まれる。 キノリルという用語には、キノール−2−イルが含まれる。 ジヒドロチアゾリルという用語には、4,5−ジヒドロチアゾール−2−イル が含まれ、および(1−4C)アルコキシカルボニルジヒドロチアゾリルという用 語には、4−メトキシカルボニル−4,5−ジヒドロチアゾール−2−イルが含 まれる。 式Iの化合物において、Lは、式: [式中、R5、R6、R7、およびR8の2つは、水素を表して、残りのものは独立 して、水素、(1−6C)アルキル、アリール(1−6C)アルキル、(2−6C)ア ルケニル、アリール(2−6C)アルケニル、もしくはアリールを表すか、または それらが結合している炭素原子と一緒になって、(3−8C)炭素環式環を形成す る。] の基を表すのが好ましい。 好ましくは、R5、R6、R7、およびR8の1つもしくは2つが(1−6C)アル キル、アリール(1−6C)アルキル、(2−6C)アルケニル、アリール(2−6 C)アルケニル、もしくはアリールを表すか、またはR5、R6、R7、およびR8 の2つが、それらが結合している炭素原子と一緒になって、(3−8C)炭素環式 環を形成して;R5、R6、R7、およびR8の残りのものが水素を表す。 R5、R6、R7、およびR8で表される(1−6C)アルキル基の例は、メチル、 エチル、およびプロピルである。アリール(1−6C)アルキル基の例は、ベンジ ルである。(2−6C)アルケニル基の例は、プロプ−2−エニルである。(3− 8C)炭素環式環の例は、シクロプロピル環である。 より好ましくは、R6およびR7は、水素を表す。 好ましくは、R5およびR8は各々独立して、水素もしくは(1−4C)アルキ ルを表すか、またはそれらが結合している炭素原子と一緒になって、(3−8C) 炭素環式環を形成する。 より好ましくは、R8がメチルもしくはエチルを表すか、またはR5およびR8 が、それらが結合している炭素原子と一緒になって、シクロプロピル環を形成す る。R8がメチルまたはエチルを表す場合、R5は、水素またはメチルを表すのが 好ましい。 R8がメチルを表し、およびR5、R6、およびR7が水素を表す化合物がとりわ け好ましい。 好ましくは、R3およびR4は各々、メチルを表す。 R2に関する意義の例は、メチル、エチル、プロピル、2−プロピル、ブチル 、2−メチルプロピル、シクロヘキシル、トリフルオロメチル、2,2,2−トリ フルオロエチル、クロロメチル、エテニル、プロプ−2−エニル、メトキシエチ ル、フェニル、4−フルオロフェニル、またはジメチルアミノである。好ましく は、R2は、エチル、2−プロピル、またはジメチルアミノである。 R9に関する意義の例は、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、t −ブチル、エテニル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロ ヘキシル、2−ピロリジニル、モルホリノ、または2−テトラヒドロフリルであ る。 R15に関する意義の例は、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、 ブチル、t−ブチル、ベンジル、2,2,2−トリフルオロエチル、2−メトキシ カルボニルエチル、シクロヘキシル、10−カンホリル、フェニル、2−フルオ ロフェニル、3−フルオロフェニル、2−トリフルオロメチルフェニル、4−ト リフルオロメチルフェニル、2−メトキシフェニル、3−メトキシフェニル、4 −メトキシフェニル、1−(5−ジメチルアミノ)ナフチル、および2−チエニル である。 X1は、O、CO、CONH、またはNHCOを表すのが好ましい。 zは、0であるのが好ましい。 R9は、(1−4C)アルキル、(2−4C)アルケニル、(3−6C)シクロアルキ ル、ピロリジニル、モルホリノ、またはテトラヒドロフリルであるのが好まし い。 基(CH2)y19および(CH2)z315に関する詳細な意義には、メトキシ 、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、およびイソブトキシといったような (1−6C)アルコキシおよび(1−4C)アルコキシを含め、(1−10C)アルコ キシ;プロプ−2−エニルオキシのような(3−6C)アルケニルオキシを含め、 (3−10C)アルケニルオキシ;プロプ−2−イニルオキシのような(3−6C) アルキニルオキシを含め、(3−10C)アルキニルオキシ;並びにホルミルおよ びエタノイルといったような(1−6C)アルカノイルが含まれる。 yに関する詳細な意義の例は、0および1である。 zに関する詳細な意義の例は、0、1、2、および3である。 LaおよびLbは各々独立して、CH2を表すのが好ましい。 X2は、結合、O、NH、CO、CH(OH)、CONH、NHCONH、また はOCH2CONHを表すのが好ましい。 好ましくは、基(CH2)y19は、CHO;COCH3;OCH3;OCH(C H3)2;NHCOR9(式中、R9は、メチル、エチル、イソプロピル、t−ブチル 、エテニル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル 、2−ピロリジニル、またはモルホリノを表す。);CONHR9(式中、R9は 、シクロプロピルまたはシクロペンチルを表す。);NHCOCOOCH3;ま たは2−テトラヒドロフリルメトキシを表す。 好ましくは、基(CH2)z315は、NH2;CH2NH2;(CH2)2NH2;(C H2)3NH2;CONH2;CONHCH3;CON(CH3)2;N(C25)2;CH2 OH;CH(OH)CH3;CH(OH)CH2CH2;CHO;COCH3;COOH ;COOCH3;CH2NHCOOC(CH3)3;(CH2)2NHCOOC(CH3)3; NHSO2CH(CH3)2;式(CH2)2NHSO215(式中、R15は、CH3、C H2CH3、CH(CH3)2、(CH2)2CH3、(CH3)3CH3、ベンジル、CH2C F2、2−メトキシカルボニルエチル、シクロヘキシル、10−カンホリル、フ ェニル、2−フルオロフェニル、4−フルオロフェニル、2−トリフルオロメチ ルフェニル、4−トリフルオロメチルフェニル、4−メトキシフェニル、1−( 2−ジメチルアミノ)ナフチル、または2−チエニルを表す)の基; CH(OH)CH2NHSO2CH3;(CH2)3NHSO2CH(CH3)2;COCH2 N(OCOC(CH3)2)SO2CH3;COCH2NHSO2CH3;(CH2)2NHC OR15(式中、R15は、CH3、CH(CH3)2、CH2CH(CH3)2、フェニル、 3−フルオロフェニル、4−フルオロフェニル、ベンジル、2−メトキシフェニ ル、4−メトキシフェニル、2−チエニル、CH=CH、CH=CHCN、OC H3、またはO(CH2)3CH3を表す。)を表す。 (La)n−X2−(Lb)mに関する詳細な意義の例は、結合、O、NH、S、SO 、SO2、CO、CH2、COCH2、COCONH、CH(OH)CH2、CONH 、NHCO、NHCONH、CH2O、OCH2、OCH2CONH、CH2NH、 NHCH2、およびCH2CH2である。 R14は、置換されていないフェニル、ナフチル、フリル、チエニル、イソオキ サゾリル、チアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリミジル、ベンゾチエニル 、もしくはベンゾチアゾリル基、または置換されているフェニル、ナフチル、フ リル、チエニル、イソオキサゾリル、チアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピ リミジル、ベンゾチエニル、もしくはベンゾチアゾリル基であるのが好ましい。 R14に関する詳細な意義の例は、フェニル、2−フルオロフェニル、3−フル オロフェニル、4−フルオロフェニル、2−クロロフェニル、3−クロロフェニ ル、4−クロロフェニル、2−ブロモフェニル、3−ブロモフェニル、4−ブロ モフェニル、4−ヨードフェニル、2,3−ジフルオロフェニル、2,4−ジフル オロフェニル、3,4−ジクロロフェニル、3,5−ジクロロフェニル、4−シア ノフェニル、3−ニトロフェニル、4−ヒドロキシイミノフェニル、2−メチル フェニル、4−メチルフェニル、4−エチルフェニル、3−プロピルフェニル、 4−t−ブチルフェニル、2−プロプ−2−エニルフェニル、4−(4−(1,1− ジオキソテトラヒドロ)−1,2−チアジニル)フェニル、2−トリフルオロメチ ルフェニル、3−トリフルオロメチルフェニル、4−トリフルオロメチルフェニ ル、2−ブロモメチルフェニル、2−フルオロ−4−トリフルオロメチルフェニ ル、4−(2−シアノエテニル)フェニル、4−フェニル、2−ホルミルフェニル 、3−ホルミルフェニル、4−ホルミルフェニル、2−アセチルフェニル、3− アセチルフェニル、4−アセチルフェニル、2−プロパノイルフェニル、2−( 2 −メチルプロパノイル)フェニル、2−メトキシフェニル、3−メトキシフェニ ル、4−メトキシフェニル、4−ブトキシフェニル、2−ヒドロキシメチルフェ ニル、4−ヒドロキシメチルフェニル、2−(1−ヒドロキシエチル)フェニル、 3−(1−ヒドロキシエチル)フェニル、4−(1−ヒドロキシエチル)フェニル、 2−(1−ヒドロキシプロピル)フェニル、4−(1−ヒドロキシプロピル)フェニ ル、2−(1−ヒドロキシ−2,2−ジメチルプロピル)フェニル、4−トリフル オロメトキシフェニル、2−アミノフェニル、4−アミノフェニル、4−N,N −ジエチルアミノフェニル、4−アミノメチルフェニル、4−(2−アミノエチ ル)フェニル、4−(3−アミノプロピル)フェニル、4−カルボキシフェニル、 4−カルバモイルフェニル、4−N−メチルカルバモイルフェニル、4−N,N −ジメチルカルバモイルフェニル、2−イソプロピルアミノメチルフェニル、4 −t−ブトキシカルボニルアミノメチルフェニル、4−(2−イソプロポキシカル ボキシアミド)エチルフェニル、4−(2−t−ブトキシカルボキシアミド)エチル フェニル、4−イソプロピルスルホニルアミノフェニル、4−(2−メタンスル ホニルアミノ)エチルフェニル、4−(2−エチルスルホニルアミノ)エチルフェ ニル、4−(3−イソプロピルスルホニルアミノ)プロピルフェニル、4−(1−( 2−(2−プロパン)スルホニルアミノ)プロピル)フェニル、4−(2−プロピル スルホニルアミノ)エチルフェニル、4−(2−イソプロピルスルホニルアミノ) エチルフェニル、4−(2−ブチルスルホニルアミノ)エチルフェニル、4−(1 −イソプロピルスルホニルアミノメチル)エチルフェニル、4−(1−ヒドロキシ −2−メタンスルホニルアミノ)エチルフェニル、4−(2−(2,2,2−トリフ ルオロエチル)スルホニルアミノエチル)フェニル、4−(2−シクロヘキシルス ルホニルアミノ)エチルフェニル、4−(2−(2,2,2−トリフルオロエチル)ス ルホニルアミノ)エチルフェニル、4−(2−N,N−ジメチルアミノスルホニル アミノ)エチルフェニル、4−(2−フェニルスルホニルアミノエチル)フェニル 、4−(2−(2−フルオロフェニル)スルホニルアミノエチル)フェニル、4−( 2−(4−フルオロフェニル)スルホニルアミノエチル)フェニル、4−(2−(2 −トリフルオロメチルフェニル)スルホニルアミノエチル)フェニル、4−(2−( 4−トリフルオロメチルフェニル)スルホニルアミノエチル)フェニル、4−(2 − (4−メトキシフェニル)スルホニルアミノエチル)フェニル、4−(2−(1−(5 −ジメチルアミノ)ナフタレンスルホニルアミノ)エチル)フェニル、4−(2−( 2−チエニル)スルホニルアミノ)エチルフェニル、4−(2−ベンズアミドエチ ル)フェニル、4−(2−(4−フルオロベンズアミド)エチル)フェニル、4−(2 −(3−メトキシベンズアミド)エチル)フェニル、4−(2−(3−フルオロベン ズアミド)エチル)フェニル、4−(2−(4−メトキシベンズアミド)エチル)フェ ニル、4−(2−(2−メトキシベンズアミド)エチル)フェニル、4−(1−(2−( 2−メトキシカルボニル)エタンスルホニルアミノ)エチル)フェニル、4−(1− (2−(10−カンファー)スルホニルアミノ)エチル)フェニル、4−(1−(2− ベンジルスルホニルアミノ)エチル)フェニル、4−(2−フェニルアセトアミド) エチルフェニル、4−メタンスルホニルアミノエタノイルフェニル、4−(N−( t−ブトキシカルボニル)メタンスルホニルアミノエタノイル)フェニル、4−(2 −(2−チエニルカルボキシアミド)エチル)フェニル、チエン−2−イル、5− ヒドロキシメチルチエン−2−イル、5−ホルミルチエン−2−イル、チエン− 3−イル、5−ヒドロキシメチルチエン−3−イル、5−ホルミルチエン−3− イル、2−ブロモチエン−3−イル、フル−2−イル、5−ニトロフル−2−イ ル、フル−3−イル、イソオキサゾール−5−イル、3−ブロモイソオキサゾー ル−5−イル、イソオキサゾール−3−イル、5−トリメチルシリルイソオキサ ゾール−3−イル、5−メチルイソオキサゾール−3−イル、5−ヒドロキシメ チルイソオキサゾール−3−イル、5−メチル−3−フェニルイソオキサゾール −4−イル、5−(2−ヒドロキシエチル)イソオキサゾール−3−イル、5−ア セチルイソオキサゾール−3−イル、5−カルボキシイソオキサゾール−3−イ ル、5−N−メチルカルバモイルイソオキサゾール−3−イル、5−メトキシカ ルボニルイソオキサゾール−3−イル、3−ブロモ[1,2,4]オキサゾール−5 −イル、ピラゾール−1−イル、チアゾール−2−イル、4−ヒドロキシメチル チアゾール−2−イル、4−メトキシカルボニルチアゾール−2−イル、4−カ ルボキシチアゾール−2−イル、イミダゾール−1−イル、2−スルフヒドリル イミダゾール−1−イル、[1,2,4]トリアゾール−1−イル、テトラゾール− 5−イル、2−メチルテトラゾール−5−イル、2−エチルテトラゾール−5 −イル、2−イソプロピルテトラゾール−5−イル、2−(2−プロペニル)テト ラゾール−5−イル、2−ベンジルテトラゾール−5−イル、ピリド−2−イル 、5−エトキシカルボニルピリド−2−イル、ピリド−3−イル、6−クロロピ リド−3−イル、ピリド−4−イル、5−トリフルオロメチルピリド−2−イル 、6−クロロピリダジン−3−イル、6−メチルピリダジン−3−イル、6−メ トキシピラジン−3−イル、ピリミジン−5−イル、ベンゾチエン−2−イル、 ベンゾチアゾール−2−イル、およびキノール−2−イルである。 R1で表される、置換されていない芳香族もしくはヘテロ芳香族基、または置 換されている芳香族もしくはヘテロ芳香族基の例は、置換されていないフェニル 、フリル、(3−チエニルのような)チエニル、および(3−ピリジルのような)ピ リジル、または置換されているフェニル、フリル、(3−チエニルのような)チエ ニル、および(3−ピリジルのような)ピリジルである。 R1は、置換されていないナフチル基、もしくはフェニル、フリル、チエニル 、もしくはピリジル基、または ハロゲン;ニトロ;シアノ;ヒドロキシイミノ;(1−10C)アルキル;(2 −10C)アルケニル;(2−10C)アルキニル;(3−8C)シクロアルキル ;ヒドロキシ(3−8C)シクロアルキル;オキソ(3−8C)シクロアルキル; ハロ(1−10C)アルキル;(CH2)y1R9(式中、yは、0または1〜4の 整数であり、X1は、O、S、NR10、CO、COO、OCO、CONR11、 NR12CO、NR12COCOO、OCONR13を表し、R9は、水素、(1−1 0C)アルキル、(3−10C)アルケニル、(3−10C)アルキニル、ピロリ ジニル、テトラヒドロフリル、モルホリノ、または(3−8C)シクロアルキル を表し、およびR10、R11、R12、およびR13は各々独立して、水素または( 1−10C)アルキルを表すか、またはR9およびR10、R11、R12、もしくは R13は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジニル、ピロ リジニル、ピペリジニル、もしくはモルホリノ基を形成する。);N−(1− 4C)アルキルピペラジニル;N−フェニル(1−4C)アルキルピペラジニル ;チエニル;フリル;オキサゾリル;イソオキサゾリル;ピラゾリル;イミダ ゾリル;チアゾリル;ピリジル;ピリダジニル;ピリミジニル;ジ ヒドロチエニル;ジヒドロフリル;ジヒドロチオピラニル;ジヒドロピラニル; ジヒドロチアゾリル;(1−4C)アルコキシカルボニル ジヒドロチアゾリル;( 1−4C)アルコキシカルボニル ジメチルジヒドロチアゾリル;テトラヒドロチ エニル;テトラヒドロフリル;テトラヒドロチオピラニル;テトラヒドロピラニ ル;インドリル;ベンゾフリル;ベンゾチエニル;ベンゾイミダゾリル;および 式R14−(La)n−X2−(Lb)m(式中、X2は、結合、O、NH、S、SO、SO2 、CO、CH(OH)、CONH、NHCONH、NHCO、NHCOO、CO CONH、OCH2CONH、またはCH=CHを表し、LaおよびLbは各々、( 1−4C)アルキレンを表し、nおよびmの一方は0または1であって、他方は 0であり、およびR14は、置換されていないフェニルもしくはヘテロ芳香族基、 または1つもしくは2つのハロゲン、ニトロ、シアノ、ヒドロキシイミノ、(1 −10C)アルキル、(2−10C)アルケニル、(2−10C)アルキニル、(3− 8C)シクロアルキル、4−(1,1−ジオキソテトラヒドロ−1,2−チアジニル )、ハロ(1−10C)アルキル、シアノ(2−10C)アルケニル、フェニル、お よび(CH2)z315(式中、zは、0または1〜4の整数であり、X3は、O、 S、NR16、CO、CH(OH)、COO、OCO、CONR17、NR18CO、N HSO2、NHSO2NR17、NHCONH、OCONR19、またはNR19COO を表し、R15は、水素、(1−10C)アルキル、フェニル(1−4C)アルキル、 (1−10C)ハロアルキル、(1−4C)アルコキシ(1−4C)アルキル、(1− 4C)アルキルスルホニルアミノ(1−4C)アルキル、(N−(1−4C)アルコキ シカルボニル)(1−4C)アルキルスルホニルアミノ(1−4C)アルキル、(3− 10C)アルケニル、(3−10C)アルキニル、(3−8C)シクロアルキル、カ ンホリル、または置換されていない芳香族もしくはヘテロ芳香族基、もしくは1 つもしくは2つのハロゲン、(1−4C)アルキル、(1−4C)ハロアルキル、ジ (1−4C)アルキルアミノ、および(1−4C)アルコキシで置換されている芳香 族もしくはヘテロ芳香族基を表し、およびR16、R17、R18、およびR19は各々 独立して、水素または(1−10C)アルキルを表すか、またはR15およびR16、 R17、R18、もしくはR19は、それらが結合している窒素原子と一緒に なって、アゼチジニル、ピロリジニル、ピペリジニル、もしくはモルホリノ基 を形成する。)で置換されているフェニルもしくはヘテロ芳香族基を表す。) の基から独立して選択される1つもしくは2つの置換基で置換されているナフ チル基、もしくはフェニル、フリル、チエニル、もしくはピリジル基 を表すのが好ましい。 より好ましくは、R1は、2−ナフチル、または式: [式中、 R20は、ハロゲン;ニトロ;シアノ;ヒドロキシイミノ;(1−10C)アルキ ル;(2−10C)アルケニル;(2−10C)アルキニル;(3−8C)シクロアル キル;ヒドロキシ(3−8C)シクロアルキル;オキソ(3−8C)シクロアルキル ;ハロ(1−10C)アルキル;(CH2)y19(式中、yは、0または1〜4の 整数であり、X1は、O、S、NR10、CO、COO、OCO、CONR11、N R12CO、NR12COCOO、OCONR13を表し、R9は、水素、(1−10C )アルキル、(3−10C)アルケニル、(3−10C)アルキニル、ピロリジニル 、テトラヒドロフリル、モルホリノ、または(3−8C)シクロアルキルを表し、 およびR10、R11、R12、およびR13は各々独立して、水素または(1−10C) アルキルを表すか、またはR9およびR10、R11、R12、もしくはR13は、それ らが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジニル、ピロリジニル、ピペ リジニル、もしくはモルホリノ基を形成する。);N−(1−4C)アルキルピペ ラジニル;N−フェニル(1−4C)アルキルピペラジニル;チエニル;フリル; オキサゾリル;イソオキサゾリル;ピラゾリル;イミダゾリル;チアゾリル;テ トラゾリル;ピリジル;ピリダジニル;ピリミジニル;ジヒドロチエニ ル;ジヒドロフリル;ジヒドロチオピラニル;ジヒドロピラニル;ジヒドロチア ゾリル;(1−4C)アルコキシカルボニル ジヒドロチアゾリル;(1−4C)ア ルコキシカルボニル ジメチルジヒドロチアゾリル;テトラヒドロチエニル;テ トラヒドロフリル;テトラヒドロチオピラニル;テトラヒドロピラニル;インド リル;ベンゾフリル;ベンゾチエニル;ベンゾイミダゾリル;ベンゾチアゾリル ;および式R14−(La)n−X2−(Lb)m(式中、X2は、結合、O、NH、S、S O、SO2、CO、CH(OH)、CONH、NHCONH、NHCOO、COC ONH、OCH2CONH、またはCH=CH、NHCOを表し、LaおよびLb は各々、(1−4C)アルキレンを表し、nおよびmの一方は0または1であって 、他方は0であり、およびR14は、置換されていないフェニルもしくはヘテロ芳 香族基、または1つもしくは2つのハロゲン;ニトロ;シアノ;(1−10C)ア ルキル;(2−10C)アルケニル;(2−10C)アルキニル;(3−8C)シクロ アルキル;4−(1,1−ジオキソテトラヒドロ−1,2−チアジニル);ハロ( 1−10C)アルキル;シアノ(2−10C)アルケニル;フェニル;(CH2)z3 15(式中、zは、0または1〜4の整数であり、X3は、O、S、NR16、C O、CH(OH)、COO、OCO、CONR17、NR18CO、NHSO2、NH SO2NR17、NHCONH、OCONR19、またはNR19COOを表し、R15 は、水素、(1−10C)アルキル、フェニル(1−4C)アルキル、(1−10C) ハロアルキル、(1−4C)アルコキシカルボニル(1−4C)アルキル、(1−4 C)アルキルスルホニルアミノ(1−4C)アルキル、(N−(1−4C)アルコキシ カルボニル)(1−4C)アルキルスルホニルアミノ(1−4C)アルキル、(3−1 0C)アルケニル、(3−10C)アルキニル、(3−8C)シクロアルキル、カン ホリル、または置換されていない芳香族もしくはヘテロ芳香族基、もしくは1つ もしくは2つのハロゲン、(1−4C)アルキル、(1−4C)ハロアルキル、ジ( 1−4C)アルキルアミノ、および(1−4C)アルコキシで置換されている芳香 族もしくはヘテロ芳香族基を表し、およびR16、R17、R18、およびR19は各々 独立して、水素または(1−10C)アルキルを表すか、またはR15およびR16、 R17、R18、もしくはR19は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、 アゼチジニル、ピロリジニル、ピペリジニル、もしくはモルホ リノ基を形成する。)で置換されているフェニルもしくはヘテロ芳香族基を表す 。)の基を表し;および R21は、水素原子、ハロゲン原子、(1−4C)アルキル基、または(1−4C) アルコキシ基を表す。] の基を表す。 R20に関する詳細な意義の例は、フッ素、塩素、臭素、シアノ、ヒドロキシイ ミノ、メチル、エチル、プロピル、2−プロピル、ブチル、2−メチルプロピル 、1,1−ジメチルエチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、3−ヒドロキシ シクロペンチル、3−オキソシクロペンチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ 、2−プロポキシ、アセチル、アセチルアミノ、エチルカルボキシアミド、プロ ピルカルボキシアミド、1−ブタノイルアミド、t−ブチルカルボキシアミド、 アクリロイルアミド、2−ピロリジニルカルボキシアミド、2−テトラヒドロフ リルメトキシ、モルホリノカルボキシアミド、メチルオキサリルアミド、シクロ プロピルカルボキシアミド、シクロブチルカルボキシアミド、シクロペンチルカ ルボキシアミド、シクロヘキシルカルボキシアミド、シクロプロピルカルバモイ ル、シクロペンチルカルバモイル、ピロリジン−1−イル、モルホリノ、ピペリ ジン−1−イル、N−メチルピペラジニル、N−ベンジルピペラジニル、2−チ エニル、3−チエニル、2−フリル、3−フリル、イソオキサゾール−3−イル 、チアゾール−2−イル、テトラゾール−5−イル、ピリド−2−イル、ピリド −3−イル、ピリド−4−イル、ピリミジン−5−イル、4,5−ジヒドロチア ゾール−2−イル、4,5−ジヒドロ−4−メトキシカルボニルチアゾール−2 −イル、4,5−ジヒドロ−4−メトキシカルボニル−5,5−ジメチルチアゾー ル−2−イル、ベンゾチエン−2−イル、ベンゾチアゾール−2−イル、フェニ ル、2−フルオロフェニル、3−フルオロフェニル、2,3−ジフルオロフェニ ル、4−クロロフェニル、3,4−ジクロロフェニル、3,5−ジクロロフェニル 、3−ニトロフェニル、4−シアノフェニル、2−メチルフェニル、4−メチル フェニル、4−(4−(1,1−ジオキソテトラヒドロ)−1,2−チアジニル)フェ ニル、3−トリフルオロメチルフェニル、4−トリフルオロメチルフェニル、4 −(2−シアノエテニル)フェニル、2−ホルミルフェニル、3−ホルミルフェニ ル、 4−ホルミルフェニル、3−アセチルフェニル、4−アセチルフェニル、4−カ ルボキシフェニル、2−メトキシフェニル、4−メトキシフェニル、2−ヒドロ キシメチルフェニル、4−ヒドロキシメチルフェニル、3−(1−ヒドロキシエ チル)フェニル、4−(1−ヒドロキシエチル)フェニル、4−(1−ヒドロキシプ ロピル)フェニル、2−アミノフェニル、4−アミノフェニル、4−N,N−ジエ チルアミノフェニル、4−アミノメチルフェニル、4−(2−アミノエチル)フェ ニル、4−(3−アミノプロピル)フェニル、4−(2−アセチルアミノエチル)フ ェニル、4−(t−ブトキシカルボキシルアミノエチル)フェニル、4−(2−t− ブトキシカルボキシルアミノエチル)フェニル、ベンジルスルホニルアミノ、4 −イソプロピルスルホニルアミノフェニル、4−(2−メタンスルホニルアミノ エチル)フェニル、4−(2−エチルスルホニルアミノエチル)フェニル、4−(2 −プロピルスルホニルアミノエチル)フェニル、4−(2−ブチルスルホニルアミ ノエチル)フェニル、4−(2−イソプロピルスルホニルアミノエチル)フェニル 、4−(1−ヒドロキシ−2−メタンスルホニルアミノエチル)フェニル、4−( 2−ジメチルアミノスルホニルアミノエチル)フェニル、4−(1−(2−(2−プ ロピル)スルホニルアミノ)プロピル)フェニル、4−(2−(2,2,2−トリフル オロエチル)スルホニルアミノエチル)フェニル、4−(2−シクロヘキシルスル ホニルアミノエチル)フェニル、4−(2−フェニルスルホニルアミノエチル)フ ェニル、4−(2−(2−フルオロフェニル)スルホニルアミノエチル)フェニル、 4−(2−(4−フルオロフェニル)スルホニルアミノエチル)フェニル、4−(2 −(2−トリフルオロメチルフェニル)スルホニルアミノエチル)フェニル、4−( 2−(4−トリフルオロメチルフェニル)スルホニルアミノエチル)フェニル、4 −(2−(4−メトキシフェニル)スルホニルアミノエチル)フェニル、4−(2−( 1−(5−ジメチルアミノ)ナフタレンスルホニルアミノ)エチル)フェニル、4− (2−(2−チエニル)スルホニルアミノ)エチルフェニル、4−(2−ベンズアミ ドエチル)フェニル、4−(2−(4−フルオロベンズアミド)エチル)フェニル、 4−(2−(3−メトキシベンズアミド)エチル)フェニル、4−(2−(3−フルオ ロベンズアミド)エチル)フェニル、4−(2−(4−メトキシベンズアミド)エチ ル)フェニル、4−(2−(2−メトキシベンズアミド)エチル)フェニル、4−(2 −(2−チエニルカルボキシアミド)エチル)フェニル、4−カルバモイルフェニ ル、4−メチルカルバモイルフェニル、4−ジメチルカルバモイルフェニル、4 −(2−(2−メチルプロパンアミド)エチル)フェニル、4−(2−(3−メチルブ タンアミド)エチル)フェニル、ベンゾイルメチル、ベンズアミド、2−フルオロ ベンズアミド、3−フルオロベンズアミド、4−フルオロベンズアミド、2,4 −ジフルオロベンズアミド、3−クロロベンズアミド、4−クロロベンズアミド 、4−ブロモベンズアミド、4−ヨードベンズアミド、4−シアノベンズアミド 、3−メチルベンズアミド、4−メチルベンズアミド、4−エチルベンズアミド 、4−プロピルベンズアミド、4−t−ブチルベンズアミド、4−ビニルベンズ アミド、2−トリフルオロメチルベンズアミド、3−トリフルオロメチルベンズ アミド、4−トリフルオロメチルベンズアミド、2−フルオロ−4−トリフルオ ロメチルベンズアミド、2−メトキシベンズアミド、3−メトキシベンズアミド 、4−メトキシベンズアミド、4−ブトキシベンズアミド、4−フェニルフェニ ルカルボキシアミド、4−ベンジルカルボキシアミド、4−フェノキシメチルカ ルボキシアミド、2−フルオロベンジルアミノ、ベンジルオキシ、2−フルオロ ベンジルオキシ、2−ヒドロキシ−2−フェニルエチル、2−フルオロフェニル カルバモイル、4−(1−(2−(2−メトキシカルボニル)エタンスルホニルアミ ノ)エチル)フェニル、4−(1−(2−(10−カンファー)スルホニルアミノ)エ チル)フェニル、4−(1−(2−ベンジルスルホニルアミノ)エチル)フェニル、 4−(2−フェニルアセトアミド)エチルフェニル、4−(メタンスルホニルアミ ノエタノイル)フェニル、4−(N−(t−ブトキシカルボニル)メタンスルホニル アミノエタノイル)フェニル、2−チエニルカルボキシアミド、2−フリルカル ボキシアミド、3−(5−メチルイソオキサゾリル)カルボキシアミド、5−イソ オキサゾリルカルボキシアミド、2−ベンゾチエニルカルボキシアミド、4−( 5−メチル−3−フェニルイソオキサゾリル)カルボキシアミド、4−ピリジル カルボキシアミド、2−(5−ニトロフリル)カルボキシアミド、2−ピリジルカ ルボキシアミド、6−クロロ−2−ピリジルカルボキシアミド、2−チエニルス ルホンアミド、2−チエニルメチルアミノ、3−チエニルメチルアミノ、2−フ リルメチルアミノ、3−フリルメチルアミノ、3−アセチルウレイド、および2 −(2−チエニル)エチルウレイドである。 R21に関する詳細な意義の例は、水素および塩素である。R21は、R20に対し てオルトであるのが好ましい。 R1に関する詳細な意義の例は、2−ナフチル、4−ブロモフェニル、4−シ アノフェニル、4−ベンズアミドフェニル、4−メチルフェニル、4−イソプロ ピルフェニル、4−イソブチルフェニル、4−t−ブチルフェニル、4−メトキ シフェニル、4−イソプロポキシフェニル、4−シクロペンチルフェニル、4− シクロヘキシルフェニル、4−(2−ヒドロキシメチルフェニル)フェニル、4− (4−ヒドロキシメチルフェニル)フェニル、4−(2−フリル)フェニル、4−( 3−フリル)フェニル、4−(2−チエニル)フェニル、4−(3−チエニル)フェ ニル、4−(ピロリジン−1−イル)フェニル、4−(ピペリジン−1−イル)フェ ニル、3−クロロ−4−ピペリジン−1−イルフェニル、4−ベンジルオキシフ ェニル、4−(2−フルオロフェニル)フェニル、4−(3−フルオロフェニル)フ ェニル、4−(2−ホルミルフェニル)フェニル、4−(3−ホルミルフェニル)フ ェニル、4−(4−ホルミルフェニル)フェニル、4−(4−メチルフェニル)フェ ニル、および4−(2−メトキシフェニル)フェニルである。 式Iのある化合物は、新規であると信じられ、本発明のさらなる態様として提 供する。これらの化合物は、式:[式中、 R1は、置換されていないナフチル基、もしくはフェニル、フリル、チエニル 、もしくはピリジル基、または ハロゲン;ニトロ;シアノ;ヒドロキシイミノ;(1−10C)アルキル;(2 −10C)アルケニル;(2−10C)アルキニル;(3−8C)シクロアルキル ;ヒドロキシ(3−8C)シクロアルキル;オキソ(3−8C)シクロアルキル; ハロ(1−10C)アルキル;(CH2)y19(式中、yは、0または1 〜4の整数であり、X1は、O、S、NR10、CO、COO、OCO、CONR1 1 、NR12CO、NR12COCOO、OCONR13を表し、R9は、水素、(1− 10C)アルキル、(3−10C)アルケニル、(3−10C)アルキニル、ピロリ ジニル、テトラヒドロフリル、モルホリノ、または(3−8C)シクロアルキルを 表し、およびR10、R11、R12、およびR13は各々独立して、水素または(1− 10C)アルキルを表すか、またはR9およびR10、R11、R12、もしくはR13は 、それらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジニル、ピロリジニル 、ピペリジニル、もしくはモルホリノ基を形成する。);N−(1−4C)アルキ ルピペラジニル;N−フェニル(1−4C)アルキルピペラジニル;チエニル;フ リル;オキサゾリル;イソオキサゾリル;ピラゾリル;イミダゾリル;チアゾリ ル;ピリジル;ピリダジニル;ピリミジニル;ジヒドロチエニル;ジヒドロフリ ル;ジヒドロチオピラニル;ジヒドロピラニル;ジヒドロチアゾリル;(1−4 C)アルコキシカルボニル ジヒドロチアゾリル;(1−4C)アルコキシカルボニ ル ジメチルジヒドロチアゾリル;テトラヒドロチエニル;テトラヒドロフリル ;テトラヒドロチオピラニル;テトラヒドロピラニル;インドリル;ベンゾフリ ル;ベンゾチエニル;ベンゾイミダゾリル;および式R14−(La)n−X2−(Lb)m (式中、X2は、結合、O、NH、S、SO、SO2、CO、CH(OH)、CO NH、NHCO、NHCONH、NHCOO、COCONH、OCH2CONH 、またはCH=CHを表し、LaおよびLbは各々、(1−4C)アルキレンを表し 、nおよびmの一方は0または1であって、他方は0であり、およびR14は、置 換されていないフェニルもしくはヘテロ芳香族基、または1つもしくは2つのハ ロゲン、ニトロ、シアノ、(1−10C)アルキル、(2−10C)アルケニル、( 2−10C)アルキニル、(3−8C)シクロアルキル、4−(1,1−ジオキソテ トラヒドロ−1,2−チアジニル)、ハロ(1−10C)アルキル、シアノ(2−1 0C)アルケニル、フェニル、および(CH2)z315(式中、zは、0または1 〜4の整数であり、X3は、O、S、NR16、CO、CH(OH)、COO、OC O、CONR17、NR18CO、NHSO2、NHSO2NR17、NHCONH、O CONR19、またはNR19COOを表し、R15は、水素、(1−10C)アル キル、フェニル(1−4C)アルキル、(1−10C)ハロアルキル、(1−4C) アルコキシカルボニル(1−4C)アルキル、(1−4C)アルキルスルホニルア ミノ(1−4C)アルキル、(N−(1−4C)アルコキシカルボニル)(1−4C) アルキルスルホニルアミノ(1−4C)アルキル、(3−10C)アルケニル、( 3−10C)アルキニル、(3−8C)シクロアルキル、カンホリル、または置 換されていない芳香族もしくはヘテロ芳香族基、もしくは1つもしくは2つの ハロゲン、(1−4C)アルキル、(1−4C)ハロアルキル、ジ(1−4C)アル キルアミノ、および(1−4C)アルコキシで置換されている芳香族もしくはヘ テロ芳香族基を表し、およびR16、R17、R18、およびR19は各々独立して、 水素または(1−10C)アルキルを表すか、またはR15およびR16、R17、R 18、もしくはR19は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチ ジニル、ピロリジニル、ピペリジニル、もしくはモルホリノ基を形成する。) で置換されているフェニルもしくはヘテロ芳香族基を表す。)の基から独立し て選択される1つもしくは2つの置換基で置換されているナフチル基、もしく はフェニル、フリル、チエニル、もしくはピリジル基 を表し; R2は、(1−6C)アルキル、(3−6C)シクロアルキル、(1−6C)フルオ ロアルキル、(1−6C)クロロアルキル、(2−6C)アルケニル、(1−4C)ア ルコキシ(1−4C)アルキル、置換されていないフェニル、もしくはハロゲン、 (1−4C)アルキル、もしくは(1−4C)アルコキシで置換されているフェニル 、または式R34N(式中、R3およびR4は各々独立して、(1−4C)アルキル を表すか、またはそれらが結合している窒素原子と一緒になって、ピロリジニル 、ピペリジニル、モルホリノ、もしくはピペラジニル基を形成する。)の基を表 し;および R5、R6、R7、およびR8のいずれか1つは、(1−6C)アルキル;アリール (1−6C)アルキル;(2−6C)アルケニル;アリール(2−6C)アルケニル; もしくはアリールを表すか、またはR5、R6、R7、およびR8の2つは、それら が結合している炭素原子と一緒になって、(3−8C)炭素環式環を形成して;R5 、R6、R7、およびR8の残りのものは、水素を表す。] (但し、N−(2,2−ジフェニルエチル)メタンスルホンアミド、並びにR7がメ チルを表し;R5、R6、およびR8が水素を表し;および (a)R1がフェニルを表し;およびR2がメチル、ブチル、フルオロメチル、 ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、ジメチルアミノ、またはピペリジニル を表すか;または (b)R1が4−クロロフェニル、4−ニトロフェニル、または3−メトキシ フェニルを表し;およびR2がメチルを表すか;または (c)R1が4−ニトロフェニルを表し;およびR2がトリフルオロメチルを表 す; 式Iの化合物を除く。) 、またはその医薬的に許容され得る塩で表すことができる。 式Iの化合物は、式: R1−L−NH2 II の化合物を、式: R2SO2X III [式中、Xは、脱離原子または基を表す。] の化合物と反応させた後、必要および/または所望である場合には、医薬的に許 容され得る塩を形成することにより製造することができる。 Xで表される脱離原子または基は、例えば、塩素または臭素原子といったよう なハロゲン原子であり得る。 その反応は、便利には、塩基(例えば、水酸化ナトリウムのようなアルカリ金 属の水酸化物、炭酸カリウムのようなアルカリ金属の炭酸塩、トリエチルアミン または1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7−エンのような第三級ア ミン)の存在下に行う。 適当な溶媒には、ジクロロメタンのようなハロゲン化炭化水素が含まれる。 その反応は、便利には、−20〜100℃、好ましくは−5〜50℃の範囲内 の温度で行う。 R1が4−ブロモフェニル基を表す式Iの化合物を、便利には、適当なホウ酸( boronic acid)誘導体(例えば、ベンゼンホウ酸誘導体)との反応により、Rが別 の4−置換フェニル基を表す式Iの他の化合物に転換するのがよい。その反応は 、便利には、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)のようなテト ラキス(トリアリールホスフィン)パラジウム(0)触媒、および炭酸カリウムのよ うな塩基の存在下に行う。その反応に便利な溶媒には、トルエンのような芳香族 炭化水素が含まれる。その反応を行う温度は、便利には、0〜150℃、好まし くは75〜120℃の範囲内である。式Iの化合物の製造に有用なビス芳香族中 間体は、ブロモ芳香族またはブロモヘテロ芳香族化合物を芳香族またはヘテロ芳 香族ホウ酸と類似の方法で反応させることにより製造することができる。 出発物質として使用するホウ酸誘導体は、ホウ酸トリイソプロピルのようなト リアルキルのホウ酸エステルを適当な有機リチウム化合物と還元温度で反応させ ることにより製造することができる。例えば、2−フルオロベンゼンホウ酸は、 テトラヒドロフラン中、2−フルオロブロモベンゼンをブチルリチウムと約−7 8℃で反応させて、2−フルオロフェニルリチウムを得た後、この有機リチウム 化合物をホウ酸トリイソプロピルと反応させることにより製造することができる 。 あるいはまた、R1が4−ブロモフェニル基を表す式Iの化合物は、トルエン のような非プロトン性溶媒中、対応する臭化物を、トリエチルアミンのような第 三級アミン塩基の存在下、80〜140℃、好ましくは90〜110℃の範囲の 温度にて、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)のようなパラジ ウム(0)触媒およびヘキサアルキルジスタンナン(ここで、そのアルキル基は、 メチルまたはn−ブチルである)で処理することにより、4−(トリメチルスタン ニル)フェニルまたは4−(トリ−n−ブチルスタンニル)フェニル基に転換するの がよい。 次いで、ジオキサンのような非プロトン性溶媒中、R1が4−(トリ−n−ブチ ルスタンニル)フェニル基を表す式Iの化合物を、テトラキス(トリフェニルホス フィン)パラジウム(0)のようなパラジウム(0)触媒、またはビス(トリフェニル ホスフィン)パラジウム(II)ジクロリドのようなパラジウム(II)触媒の存在下、 80〜140℃、好ましくは90〜110℃の範囲の温度で、2−ブロモチオフ ェン−5−カルボキシアルデヒドのようなアリール−またはヘテロアリールブロ ミドと反応させて、対応する4−(アリール)フェニルまたは4−(ヘテロアリー ル)フェニルで置換されている化合物を得るのがよい。 R1が4−ブロモフェニル基を表す式Iの化合物は、ジエチルエーテルのよう な非プロトン性溶媒中、対応する臭化物を、[1,1'−ビス(ジフェニルホスフィ ノ)フェロセン]ジクロロパラジウム(II)(PdCl2(dppf))のようなパラジウム(II) 触媒の存在下、−78℃〜25℃の範囲の温度にて、適当なアルキル−またはシ クロアルキルグリニャール試薬で処理することにより、R1が4−シクロペンチ ルフェニルのような4−置換アルキル−またはシクロアルキルフェニル基を表す 式Iの他の化合物に転換してもよい。 R1が4−ブロモフェニル基を表す式Iの化合物は、ジメチルホルムアミドの ような非プロトン性溶媒中、対応する臭化物を、ビス(トリフェニルホスフィン) パラジウム(II)ジクロリドのようなパラジウム(II)触媒およびギ酸ナトリウムの 存在下、70〜110℃の範囲の温度、好ましくは90℃にて、その反応物に大 気圧下で通気する一酸化炭素ガスで処理することにより、4−置換カルボキシア ルデヒドフェニル(ホルミルフェニル)基に転換してもよい。 R1が4−ヒドロキシフェニル基を表す式Iの化合物は、ジメチルホルムアミ ドのような非プロトン性溶媒中、対応するヒドロキシフェニル基を、水素化ナト リウムの存在下、25〜100℃、好ましくは50〜90℃の範囲の温度にて、 臭化ベンジルのような適当なハロゲン化アルキルで処理することにより、R1が アルコキシ基を表す式Iの他の化合物に転換するのがよい。 式IIの化合物は知られており、または従来の方法により(例えば、ボランを使 用して、対応するアミドまたはニトリルを還元することにより)製造することが できる。 出発物質として使用するニトリルまたはアミドの幾つかは、便利には、テトラ ヒドロフランのような非プロトン性溶媒中、式R1CH2CNのアセトニトリル( 例えば、4−メトキシフェニルアセトニトリルのような置換されているフェニル アセトニトリル)、または式R1CH2COOR(式中、Rは、例えば、アルキル である)の酢酸エステル(例えば、4−tert−ブチルフェニル酢酸メチルのよう なフェニル酢酸エステル)を、−78〜25℃の範囲の温度にて、ナトリウムま たはリチウムビス(トリメチルシリル)アミドといったようなリチウムアミ ド強塩基、およびヨウ化メチルのようなハロゲン化アルキルで処理することによ り製造することができる。そのエステルを、酸への加水分解(水、アルコール、 および水酸化ナトリウムまたはカリウム)、その酸の酸クロリドへの転換(SOC l2または(COCl)2+DMF(1滴))、次いで、アンモニア水、およびテトラ ヒドロフランまたはジオキサンといったような補助溶媒でのアミドへの転換によ り、アミドに転換する。 式IIの化合物を製造するために使用するあるニトリルはまた、便利には、ジメ チルエーテル中、対応するケトン誘導体(例えば、(2−アセチル−5−チエン- 3−イル)チオフェンのような式R1COR8の化合物)をイソシアン化トシルメチ ルおよびカリウムt−ブトキシドと反応させることにより製造することもできる 。 次の試験方法を使用して、グルタメート受容体機能を増強する式Iの化合物の 能力を実証することができる。 ヒトGluR4Bを安定に発現するHEK細胞(欧州特許出願公開番号EP−A 1−583917に記載されているようにして得た。)の集密的単層を含む96 ウェルのプレートを調製した。次いで、ウェル中の組織培養培地を捨てて、その ウェルを各々、5NaCa緩衝液(グルコース,10mM、塩化ナトリウム,138mM 、塩化マグネシウム,1mM、塩化カリウム,5mM、1mM、塩化カルシウム,5mM 、N−[2−ヒドロキシエチル]ピペラジン−N−[2−エタンスルホン酸],10 mM、pH7.1〜7.3)200μlで1回洗浄した。次いで、そのプレートを、各 々のウェル中、5NaCa緩衝液中の20μM Fluo3−AM染料(Molecular Probes Inc,Eugene,Oregonから入手した。)と共に、暗所で60分間インキュベート した。インキュベーション後、各々のウェルを5NaCa緩衝液100μlで1回洗 浄し、5NaCa緩衝液200μlを加えて、そのプレートを30分間インキュベート した。 その試験で使用するための溶液をまた、次のようにしても調製した。5NaCa緩 衝液を使用して、DMSO中の試験化合物の10mM 溶液から、試験化合物の3 0μM、10μM、3μM、および1μM 希釈物を調製した。100mM シクロ チアジド3μlを5NaCa緩衝液3mlに加えることにより、100μM シクロチ アジド溶液を調製した。DMSO 1.5μlを5NaCa緩衝液498.5μlに加え ることにより、対照緩衝液を調製した。 次いで、各々の試験を次のようにして行った。各々のウェル中の5NaCa緩衝液 200μlを捨てて、5NaCa緩衝液45μlで置き換えた。次いで、FLUORO SKAN II蛍光計(Labsystems,Needham Heights,MA,USA,a Division of Life Sciences International Plcから入手した。)を使用して、1回目の読 み取りを行った。次いで、そのウェルから緩衝液を捨て、5NaCa緩衝液45μl を外側のウェルに加えて、試験化合物溶液45μlを内側のウェルに加えた。次 いで、その蛍光計を使用して、2回目の読み取りを行った。次いで、そのプレー トを蛍光計に5分間放置して、3回目の読み取りを行った。次いで、400μM グルタメート溶液15μlを各々のウェルに加えて(最終グルタメート濃度10 0μM)、4回目の読み取りを直ちに行った。約3分後、5回目の読み取りを行 った。 4回目の読み取り(グルタメートによる蛍光)から3回目を差し引くことにより 、試験化合物、対照、およびシクロチアジド溶液の活性を測定した。試験化合物 の活性を100μM シクロチアジドの活性と比較して表した。 別の試験では、ヒトGluR4を安定に発現するHEK293細胞(欧州特許出願 公開番号EP−A1−0583917に記載されているようにして得た。)をA MPA受容体増強剤の電気生理的特性決定において使用した。細胞外読み取り用 溶液は、次のものを含んでいた(mM単位):140 NaCl、5 KCl、10HEPE S、1 MgCl2、2 CaCl2、10グルコース、NaOHでpH=7.4、295mOsm k g-1。細胞内読み取り用溶液は、次のものを含んでいた(mM単位):140CsCl、 1 MgCl2、10 HEPES、(N−[2−ヒドロキシエチル]ピペラジン−N1− [2−エタンスルホン酸])10 EGTA(エチレン−ビス(オキシエチレンニト リロ)四酢酸)、CsOHでpH=7.2、295mOsmkg-1。これらの溶液では、 読み取り用ピペットが2−3MΩの抵抗を有してした。全細胞電圧固定技術を使 用して、細胞を−60mVに電圧固定して、100μM グルタメートに対する 対照応答を誘発した。このアゴニスト攻撃に対する安定な基準応答が得られたら 、増強剤を、最低濃度で細胞を浸す(bathing)細胞 外溶液に導入し、この濃度の増強剤の存在下での100μM グルタメートに対 する応答を測定した。 bathing溶液とアゴニストを共適用した溶液との両方において、最大増強が見 られるまで、増強剤の濃度を半対数単位で増大させた。この方法で集めたデータ をヒルの式に当てはめて、増強剤の効力を示すEC50値を得た。次いで、その逆 反応を調べるために、増強剤を対照溶液とアゴニストを含む溶液との両方から洗 い出した。アゴニスト攻撃に対する対照応答が再び確立されたら、100μM シクロチアジドによる、これらの応答の増強を、bathing溶液とアゴニストを含 む溶液との両方における、その封入により測定した。この方法では、増強剤の効 力をシクロチアジドの効力と比較して測定することができた。 本明細書中に例示する化合物は、この試験で少なくとも30μMのEC50を与 えることが見出された。例えば、実施例28の化合物は、230±59nMのE C50を与えた。 別の態様によれば、本発明は、上に定義した式Iaの化合物またはその医薬的に 許容され得る塩、および医薬的に許容され得る希釈剤または担体を含んでなる医 薬組成物を提供する。 その医薬組成物は、周知かつ容易に入手できる成分を使用して、既知の方法に より製造する。本発明の組成物を製造する際には、活性成分を、通常、担体と混 合するか、または担体で希釈するか、または担体内に充填して、カプセル、サシ ェ、紙、もしくは他の容器の形態となり得る。担体が希釈剤として働く場合、そ れは、固体、半固体、または液体の物質であり得、これは、活性成分に対してビ ヒクル、賦形剤、または媒体としての役割を果たす。その組成物は、錠剤、丸剤 、粉末剤、ロゼンジ剤、サシェ剤、カシェ剤、エリキシル剤、懸濁液剤、乳濁液 剤、溶液剤、シロップ剤、エアゾール剤、例えば、活性化合物を10重量%まで 含む軟膏剤、軟および硬ゼラチンカプセル剤、坐剤、無菌注射用溶液剤、並びに 無菌包装粉末剤の形態となり得る。 適当な担体、賦形剤、および希釈剤の幾つかの例には、ラクトース、デキスト ロース、スクロース、ソルビトール、マンニトール、デンプン、ゴム、アラビア ゴム、リン酸カルシウム、アルギン酸塩、トラガカント、ゼラチン、ケイ酸カル シウム、微晶質セルロース、ポリビニルピロリドン、セルロース、ウォーターシ ロップ、メチルセルロース、ヒドロキシ安息香酸メチルおよびプロピル、タルク 、ステアリン酸マグネシウム、並びに鉱油が含まれる。加えて、その製剤には、 滑沢剤、湿潤剤、乳化および沈殿防止剤、保存剤、甘味料、または香料が含まれ 得る。当業界でよく知られている方法を使用することにより、本発明の組成物を 、患者に投与した後、活性成分を迅速に、持続的に、または遅延して放出するよ う製剤化することができる。 その組成物は、単位用量形態で製剤化するのが好ましく、各々の用量は、活性 成分を約1mg〜約500mg、より好ましくは約5mg〜約300mg(例えば、25m g)含む。「単位用量形態」という用語は、ヒト患者および他の哺乳動物のための 単位的用量として適当な、物理的に独立した単位をいい、各々の単位は、適当な 医薬担体、希釈剤、または賦形剤と共に、所望の治療効果をもたらすよう計算さ れた、予め決定されている量の活性物質を含む。次の製剤例は、単に説明的なも のであって、本発明の範囲を何ら限定しようとするものではない。 製剤例1 次の成分を使用して、硬ゼラチンカプセル剤を製造する。 上の成分を混合して、硬ゼラチンカプセルに460mg量を充填する。 製剤例2 活性成分を各々60mg含む錠剤を次のようにして製造する。 活性成分、デンプン、およびセルロースをNo.45メッシュU.S.の篩にかけて 、完全に混合する。その結果得られた粉末とポリビニルピロリドン溶液とを混合 した後、これをNo.14メッシュU.S.の篩にかける。このようにして製造した 顆粒を50℃で乾燥させて、No.18メッシュU.S.の篩にかける。次いで、予 めNo.60メッシュU.S.の篩にかけておいたカルボキシメチルデンプンナトリ ウム、ステアリン酸マグネシウム、およびタルクを顆粒に加え、混合した後、こ れを打錠機で圧縮して、各々の重量が150mgである錠剤を得る。 本発明により投与する化合物の個々の用量は、勿論、投与する化合物、投与経 路、処置すべき個々の状態、および同様の考慮すべき事柄を含め、その症例を取 り巻く個々の状況により決定されるであろう。その化合物は、経口、直腸、経皮 、皮下、静脈内、筋肉内、または鼻腔内経路を含め、様々な経路により投与する ことができる。あるいはまた、その化合物を連続注入により投与してもよい。典 型的な一日用量は、本発明の活性化合物を約0.01mg/kg〜約100mg/kg含 む であろう。好ましくは、一日用量は、約0.05mg/kg〜約50mg/kg、より好 ましくは約0.1mg/kg〜約25mg/kgであろう。 次の製造例および実施例により、本発明を説明する。 製造例1 2−(4−ブロモフェニル)プロピオニトリル 密封容器中、炭酸ジメチル387ml中の4−ブロモフェニルアセトニトリル5 0.0g(225.0mmol)および炭酸カリウム1.8g(12.8mmol)の溶液を18 0℃まで16時間加熱した。次いで、その溶液を冷却し、酢酸エチル200mlで 希釈して、水100mlで1回、10%水性重硫酸ナトリウム100mlで1回、お よびブライン100mlで1回洗浄した。有機部分を乾燥させ(MgSO4)、濾過して 、減圧下に濃縮した。残留物をショートパス(short path)蒸留装置によって減圧 下に蒸留して、標記化合物40.3g(85%)を得た。 製造例2 2−(4−ブロモフェニル)プロピルアミン塩酸塩 還流温度下、テトラヒドロフラン35.0ml中の製造例1から得られた物質3 5.2g(167.6mmol)の溶液に、10M ボラン−ジメチル−スルフィド18. 4ml(184.3mmol)を注射器によって徐々に加えた。添加が完了した後、その 溶液を還流温度下にさらに1時間加熱した。その溶液を周囲温度まで冷却して、 メタノール中の塩化水素の飽和溶液をpH 2に達するまで徐々に加えた。その結 果得られたスラリーを減圧下に濃縮した。残留物をメタノールに溶解して、減圧 下に2回濃縮した。その結果得られた固体をエチルエーテルに縣濁させ、濾過し 、エチルエーテルで濯いで、減圧下に乾燥させて、標記化合物31.2g(74% )を得た。 製造例3 2−フルオロベンゼンホウ酸 テトラヒドロフラン400ml中の2−フルオロブロモベンゼン50g(285. 6mmol)の溶液を−78℃まで冷却して、1.6M n−ブチルリチウム200ml( 320.0mmol)をカニューレによって加えた。その混合物を−78℃で60分間 撹拌した後、ホウ酸トリイソプロピル98.9ml(428.4mmol)をカニューレに よって加えて、60分間攪拌し続けた。冷却浴を取り外して、その混合物を周囲 温度で1.5時間攪拌した後、6N塩酸150mlを加えて、1.5時間攪拌し続け た。その混合物にブライン100mlを加えた後、有機層を分離して、水層を各々 エーテル3Omlで3回抽出した。合わせた有機抽出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過し て、減圧下に濃縮した。残留物を水から再結晶化させて、標記化合物25.2g( 63%)を得た。 製造例4 2−(4−ブロモフェニル)−N−(t−ブトキシカルボニル)プロピルアミン クロロホルム100mlおよび飽和重炭酸ナトリウム100ml中の製造例2から 得られた物質11.8g(55.0mmol)の溶液に、ジ炭酸ジ−tert−ブチル12. 0g(55.0mmol)を加えた。その溶液を周囲温度で1時間攪拌した。有機層を 分離して、水層を各々クロロホルム30mlで3回抽出した。合わせた有機抽出物 を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮して、標記化合物16.5g(95 %)を得た。 製造例5 2−(4−(2−フルオロフェニル)フェニル)−N− (t−ブトキシカルボニル)プロピルアミン トルエン140ml中の製造例4から得られた物質12.5g(39.8mmol)、製 造例3から得られた物質6.7g(47.7mmol)、および炭酸カリウム8.2g(5 9.7mmol)の脱気溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0 )2.3g(1.9mmol)を加えた。その混合物を90℃で18時間加熱した。次い で、 その混合物を周囲温度まで冷却して、水300mlおよびエーテル150mlを加え た。有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル50mlで3回抽出した。合わせた 有機抽出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマ トグラフィー(シリカゲル500g、10%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記 化合物9.3g(71%)を得た。 製造例6 2−(4−(2−フルオロフェニル)フェニル)プロピルアミン 20%トリフルオロ酢酸/ジクロロメタン100ml中の製造例5から得られた 物質9.3gの溶液を周囲温度で2時間攪拌した。その混合物を減圧下に濃縮し て、物質11.7gを得た。その物質をエーテル100mlに溶解して、1N 水酸 化ナトリウム50mlで2回洗浄した。有機層を減圧下に濃縮して、標記化合物5 .48g(85%)を得た。 製造例7 2−(4−イソプロピルフェニル)プロピオニトリル 250mlのフラスコ中、4−イソプロピルフェニノレアセトニトリル8.00 g(50.2mmol)を窒素雰囲気下にテトラヒドロフラン(150ml)に溶解した。 その溶液を−78℃まで冷却して、リチウム ビス(トリメチルシリル)アミド(テ トラヒドロフラン中の1M)52.8ml(52.8mmol)を加えた。その結果得られ た混合物を−78℃で1時間攪拌した。この反応混合物にヨードメタン3.29 ml(52.8mmol)を加えた。その結果得られた混合物を周囲温度まで16時間か けて徐々に温めた後、0.2M塩酸でクエンチして、ジエチルエーテルで2回抽 出した。有機画分を合わせ、乾燥させて(MgSO4)、減圧下に濃縮した。クロマト グラフィー(SiO2、20%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物6.32g( 73%)を得た。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=173。 C1215Nに関する分析: 理論値:C 83.19;H 8.73;N 8.08。 実測値:C 82.93;H 8.57;N 8.02。 製造例8 2−(4−イソプロピルフェニル)プロピルアミン塩酸塩 コンデンサーを取り付けた100mlのフラスコ中、2−(4−イソプロピルフ ェニル)プロピオニトリル1.90g(11.0mmol)を窒素雰囲気下にテトラヒド ロフラン(70ml)に溶解した。その溶液にボラン−メチルスルフィド錯体(テト ラヒドロフラン中の10.0−10.2M、1.20ml、12.1mmol)を加えて、 その混合物を還流温度まで3時間加熱した。その溶液を周囲温度まで冷却して、 メタノール中の塩酸の飽和溶液を白色の沈殿が形成されるまで徐々に加えた。溶 媒を減圧下に除去して、その結果得られた白色の固体をジエチルエーテルでトリ チュレートした(×4)。減圧下に乾燥させて、標記化合物1.76g(73%)を 得た。 製造例9 2−(4−メトキシフェニル)プロピオニトリル 製造例7の方法に従うが、4−メトキシフェニルアセトニトリル5.00g(3 4.0mmol)を使用して、標記化合物6.32gを得た。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=161。 C1011NOに関する分析: 理論値:C 74.51;H 6.88;N 8.69。 実測値:C 74.34;H 6.67;N 8.93。 製造例10 2−(4−メトキシフェニル)プロピルアミン塩酸塩 製造例8の方法に従うが、製造例9の生成物2.75g(17.1mmol)を使用し て、標記化合物2.77g(81%)を得た。 C1016ClNOに関する分析: 理論値:C 59.55;H 8.00;N 6.94。 実測値:C 59.33;H 7.89;N 6.71。 製造例11 2−(4−t−ブチルフェニル)プロパン酸メチル −78℃で、無水THF100ml中の4−tert−ブチルフェニル酢酸メチル4 .75g(23mmols)に、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド23.3ml(1. 0M、23mmols)を窒素下に攪拌しながら滴加した。その混合物をこの温度で4 5分間攪拌した後、ヨウ化メチル1.5ml(24mmol)を滴加して、その溶液を− 78℃でさらに1時間攪拌した。その混合物をH2O 200mlに注ぎ入れて、 所望の生成物をジエチルエーテル500mlで抽出した。有機層をH2O 500m lで1回逆洗浄し、K2CO3で乾燥させて、減圧下に濃縮して、暗色の油状物質 5.12gを得た。その油状物質をヘキサン〜ヘキサン/酢酸エチル 19:1 の溶媒グラジエントで溶出するシリカゲルクロマトグラフィーによって精製した 。所望の生成物を含む画分を合わせて、減圧下に濃縮して、標記化合物2.65 g(53%)を得た。 質量スペクトル:M=220。 製造例12 2−(4−t−ブチルフェニル)ブタン酸メチル 4−tert−ブチルフェニル酢酸メチル4g(19mmol)、リチウムビス(トリメ チルシリル)アミド19.5ml(1.0M、19mmol)、およびヨウ化エチル3.12 g(20mmol)を製造例11に記載したように反応させて、褐色の油状物質5.1 3gを得た。ヘキサン〜ヘキサン/酢酸エチル 19:1のグラジエント溶媒で 溶出するクロマトグラフィーにより、標記化合物2.35g(53%)を得た。 質量スペクトル:M=234。 製造例13 2−(4−t−ブチルフェニル)−2−メチルプロパン酸メチル 4−tert−ブチルフェニル酢酸メチル4.75g(23mmol)、リチウムビス(ト リメチルシリル)アミド46.6ml(1.0M、46mmol)、およびヨウ化メチル6 .80g(48mmols)を製造例11に記載したように反応させて、粗製の油状物 質4.73gを得た。ヘキサン〜ヘキサン/酢酸エチル 19:1の溶媒グラジエ ントで溶出するクロマトグラフィーにより、標記化合物2.0g(37%)を得た 。 質量スペクトル:M=234。 製造例14 2−(2−ナフチル)プロパン酸エチル 2−ナフチル酢酸エチル5g(23mmol)、リチウム ビス(トリメチルシリル) アミド23.3ml(1.0M、23mmol)、およびヨウ化メチル1.5ml(24mmol) を製造例11に記載したように反応させて、暗色の油状物質5.71gを得た。 ヘキサン〜ヘキサン/酢酸エチル 19:1の溶媒グラジエントで溶出するクロ マトグラフィーにより、標記化合物2.85g(54%)を得た。 質量スペクトル:M=228。 製造例15 2−(4−t−ブチルフェニル)プロパン酸 製造例11の生成物2.60g(12mmol)および水酸化リチウム1.75g(4 2mMol)をテトラヒドロフラン(189ml)、CH3OH(63ml)、およびH2O(6 3ml)の三溶媒溶液に入れて、周囲温度で16時間攪拌した。次いで、その混合 物を減圧下に濃縮して、その結果得られた白色の固体を1NHCl 200mlに 取り入れて、所望の生成物を酢酸エチル250mlで抽出した。有機層を減圧下に 濃縮して、標記化合物1.21g(49%)を得た。 質量スペクトル:M=206、 製造例16 2−(4−t−ブチルフェニル)ブタン酸 製造例12の生成物から出発して、標記化合物(2.14g)を製造例15の方 法により製造して、ヘキサンから再結晶化させた。 質量スペクトル:M=220。 製造例17 2−(4−t−ブチルフェニル)−2−メチルプロパン酸 製造例13の生成物から出発して、標記化合物(1.75g)を製造例15の方 法により製造して、ヘキサンから再結晶化させた。 質量スペクトル:M=220。 製造例18 2−(2−ナフチル)プロパン酸 製造例14の生成物から出発して、標記化合物(3.81g)を製造例15の方 法により製造して、ヘキサン/酢酸エチル 9:1から再結晶化させた。 質量スペクトル:M=214。 製造例19 2−(4−t−ブチルフェニル)プロピオンアミド N2下、周囲温度で、塩化オキサリル(10ml)に製造例15の生成物900mg( 4.4mmol)を滴加した後、CH2Cl2(10ml)を滴加した。反応の開始は、DM F1滴の添加により成し遂げられた。気体の発生が見られ、その反応物を周囲温 度で2時間攪拌した。その溶液を減圧下に濃縮して、油状物質を得た。ジオキサ ン(10ml)を溶解性のために加えて、周囲温度で攪拌しながら、28%水酸化ア ンモニウム(10ml)を加えて、その反応物を16時間攪拌した。次いで、その溶 液を減圧下に濃縮して、白色の固体を得た。この固体を酢酸エチル50mlに取り 入れ、H2O 50mlで1回逆洗浄し、K2CO3で乾燥させて、減圧下に濃縮して 、固体770mgを得た。ヘキサン/酢酸エチル 1:1からの再結晶化に より、標記化合物555mg(61%)を得た。 質量スペクトル:M=205。 製造例20 2−(4−t−ブチルフェニル)ブタンアミド 製造例16の生成物から出発して、標記化合物を製造例19の方法により製造 した。精製をヘキサン/酢酸エチル 1:1の溶媒で溶出するシリカゲルクロマ トグラフィー(Chromatotron−2000ミクロンのローター)により達成して、4 71mg(60%)を得た。 質量スペクトル:M=219。 製造例21 2−(4−t−ブチルフェニル)−2−メトキシプロピオンアミド 製造例17の生成物から出発して、標記化合物を製造例19の方法に従い製造 した。粗製の生成物をヘキサン/酢酸エチル 19:1の溶液で1/2時間トリ チュレートして、濾過して、白色の固体1.16gを得た。その後、酢酸エチル /エタノール 1:1からの再結晶化により、回収率80%を板状物質として得 た。 質量スペクトル:M=219。 製造例22 2−(2−ナフチル)プロピオンアミド 製造例18の生成物から出発して、標記化合物を製造例19の方法に従い製造 した。ヘキサン/酢酸エチル 1:1からの再結晶化により、1.65g(90%) を得た。 質量スペクトル:M=199。 製造例23 2−(4−t−ブチルフェニル)プロピルアミン N2下、周囲温度で、製造例19の生成物1.10g(5.4mmol)(60ml)に、 ボラン−テトラヒドロフラン錯体25ml(1.0M、.025Mol)を注射器によっ て加えた。次いで、その混合物を60−65℃で16時間加熱した。次いで、飽 和HCl/メタノール溶液(5ml)を周囲温度で激しく泡立てながら注射器によっ て加えた後、その溶液を減圧下に濃縮した。その結果得られた白色の固体を1N NaOH 100mlに取り入れて、遊離した遊離アミンをジエチルエーテル200ml で1回抽出した。有機層をH2O 200mlで1回逆洗浄し、K2CO3で乾燥させ て、減圧下に濃縮して、褐色の油状物質1.21gを得た。酢酸エチル/MeOH 9 :1〜MeOHのグラジエント溶媒で溶出するクロマトグラフィー(Chromatotron− 2000ミクロンのローター)により、856mg(83%)を得た。 質量スペクトル:M=191。 製造例24 2−(4−t−ブチルフェニル)ブチルアミン 製造例20の生成物から出発して、標記化合物540mgを製造例23の方法に より油状物質として製造した。 質量スペクトル:M=205。 製造例25 2−(4−t−ブチルフェニル)−2−メチルプロピルアミン 製造例21の生成物から出発し、メタノールをクロマトグラフィー溶媒として 使用して、標記化合物428mg(42%)を製造例23の方法に従い製造した。 質量スペクトル:M=205。 製造例26 2−(2−ナフチル)プロピルアミン 製造例22の生成物から出発し、メタノールをクロマトグラフィー溶媒として 使用して、標記化合物450mg(44%)を製造例23の方法に従い油状物質とし て製造した。 質量スペクトル:M=185。 製造例27 1−(4−t−ブチルフェニル)シクロプロパンカルボン酸メチル 無水THF 100ml中の4−tert−ブチルフェニル酢酸メチル4g(19.4 mmol)、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド39ml(1.0M、2当量)、およ び1−ブロモ−2−クロロエタン3g(2当量)を、その反応混合物を後処理前に 周囲温度で1時間攪拌したことを除き、製造例11に記載したように反応させた 。この反応により、褐色の油状物質4.21gを得た。この物質をヘキサン〜ヘ キサン/EtOAc 19:1のグラジエント溶媒で溶出するシリカゲルクロマトグラ フィーによって精製して、標記化合物1.57g(35%)を淡黄色の固体として 得た。 融点:58−60℃。 C15202として計算した: 理論値:C 77.37;H 8.81。 実測値:C 77.54;H 8.68。 製造例28 1−(4−t−ブチルフェニル)シクロプロパンカルボン酸 製造例27の生成物1g(4.3mmol)および水酸化リチウム650mg(15.5m mol)をTHF(66ml)、メタノール(22ml)、およびH2O(22ml)の三溶媒溶 液に入れて、製造例15に記載したように反応させて、固体840mgを得た。こ の物質を溶媒としてヘキサン/EtOAc 1:1で溶出するシリカゲルクロマトグラ フィーによって精製して、標記化合物600mg(64%)を白色の固体として得た 。 融点:分解>150℃。 C14182として計算した: 理論値:C 77.03;H 8.31。 実測値:C 77.08;H 8.02。 製造例29 1−(4−t−ブチルフェニル)シクロプロパンカルボキシアミド 製造例27の生成物580mg(2.7mmol)、塩化オキサリル(10ml)、塩化メ チレン(10ml)、およびDMF1滴を製造例19に記載したように反応させて、 粗製の酸クロリド573mgを得た。アミドの転換を製造例27に記載したように 28%水酸化アンモニウム(10ml)およびジオキサン(10ml)で成し遂げて、固 体590mgを得た。ヘキサン/EtOAc 19:1中でのトリチュレーション、およ びその後の濾過により、標記化合物510mg(87%)を白色の固体として得た。 融点:178−180℃。 C1419NOとして計算した: 理論値:C 77.38;H 8.81;N 6.45。 実測値:C 77.53;H 8.77;N 6.39。 製造例30 1−(4−t−ブチルフェニル)シクロプロピルメチルアミン THF(50ml)中のボラン−テトラヒドロフラン錯体7ml(1.0M、7mmol) および製造例29の生成物500mg(2.3mmol)を製造例23に記載したように 反応させて、油状物質510mgを得た。精製は、EtOAc/メタノール 9:1〜メ タノールのグラジエント溶媒で溶出するシリカゲルクロマトグラフィーによって 達成されて、222mg(47%)を固体として得た。 融点:39−41℃。 C1421Nとして計算した: 理論値:C 82.70;H 10.41;N 6.89。 実測値:C 81.36;H 10.13;N 7.24。 製造例31 2−(4−ブロモフェニル)プロピルアミン塩酸塩 無水ジメトキシエタン800ml中の4−ブロモアセトフェノン50.0g(25 1.2mmol)およびイソシアン化トシルメチル49.0g(251.2mmol)の−15 ℃の溶液に、tert−ブチルアルコール230ml中のカリウムtert−ブトキシド5 0.7g(452.2mmol)の熱溶液を、その温度を0℃以下に保持する速度で滴加 した。添加が完了した後、その反応物を−5℃で45分間攪拌した。冷却浴を取 り外して、その反応物をさらに2.5時間攪拌した。その混合物を減圧下に体積 200mlまで濃縮して、水500mlで希釈した。その水性混合物をジエチルエー テルで4回抽出して、合わせた有機部分を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下 に濃縮した。残留物をテトラヒドロフラン55mlに溶解して、還流温度まで加熱 した。その還流溶液に、10.0M ボラン−ジメチルスルフィド錯体27.6ml( 276.3mmol)を徐々に滴加した。添加が完了した後、20分間還流し続けた。 その混合物を周囲温度まで冷却して、塩化水素で飽和したメタノールをpH 2 に達するまで大変徐々に加えた。その混合物を減圧下に濃縮して、残留物をメタ ノールに溶解して、再び減圧下に濃縮した。固体残留物をエタノール125mlに 縣濁させ、濾過し、エタノールで濯いだ後、ジエチルエーテルで濯いだ。白色の 固体を減圧下に乾燥させて、標記化合物25.4g(40%)を得た。濾液を減圧 下に濃縮して、ジエチルエーテルに縣濁させた。固体を濾過し、ジエチルエーテ ルで濯いで、減圧下に乾燥させて、別の標記化合物15.6g(25%)を得た。 製造例32 2−(4−メチルフェニル)プロピオニトリル 標記化合物を製造例7に記載したようにして4−メチルフェニルアセトニトリ ルから製造した。 C1011Nに関する分析: 理論値:C 82.72;H 7.64;N 9.65。 実測値:C 82.75;H 7.42;N 9.94。 製造例33 2−(4−メチルフェニル)プロピルアミン塩酸塩 標記化合物を製造例8に記載したようにして製造例32の生成物から製造した 。フィールドディソープション質量スペクトル:M=150(M−HCl)。 製造例34 2−(4−ベンジルオキシフェニル)プロピオニトリル 4−ヒドロキシフェニルアセトニトリル(15.3g、114.9mmol)をジメ チルホルムアミド(120ml)に溶解して、これに炭酸カリウム(23.78g、1 72.4mmol)、臭化ベンジル(20.64g、120.6mmol)、およびヨウ化カリ ウム(3.81g、30.0mmol)を加えた。その溶液を周囲温度で6時間攪拌した 後、水を加えた。4−ベンジルオキシフェニルアセトニトリルが溶液から沈析し た。その縣濁液を濾過して、沈殿を水で洗浄した(×3)。24.8g(97%)を 黄色の結晶として得た。標記生成物を製造例7に記載したように4−ベンジルオ キシフェニルアセトニトリルから製造した。収率76%。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=237.2。 C1615NOに関する分析: 理論値:C 80.98;H 6.37;N 5.90。 実測値:C 80.93;H 6.46;N 6.11。 製造例35 2−(4−ベンジルオキシフェニル)プロピルアミン塩酸塩 標記化合物を製造例2に記載したようにして製造例34の生成物から製造した 。 C1620ClNOに関する分析: 理論値:C 59.55;H 8.00;N 6.94。 実測値:C 59.33;H 7.89;N 6.71。 製造例36 N−t−ブトキシカルボニル−N−(2−(4−ヒドロキシフェニル)プロピル) 2−プロパンスルホンアミド 実施例40の生成物(7.6g、23.8mmol)をジクロロメタン(100ml)に溶 解して、この混合物にジ炭酸ジ−tert−ブチル(5.71g、26.2mmol)および 4−ジメチルアミノピリジン(1.45g、11.9mmol)を加えた。その反応物を 周囲温度で1時間攪拌した。その反応物を硫酸水素ナトリウムおよびブラインの 飽和水溶液で洗浄した。有機画分を硫酸マグネシウムで乾燥させて、減圧下に濃 縮した。保護されたスルホンアミド(9.00g、21.0mmol)を酢酸エチル:H2 O(5:1)に溶解して、その混合物にギ酸アンモニウム(2.0g、31.5mmol )を加えた。次いで、その反応物に、炭素に担持させたパラジウム(10%)(0. 9g)を加えて、これを周囲温度で6時間攪拌した。縣濁液を、セライトを通し て濾過して、その結果得られた溶液を減圧下に濃縮して、標記生成物5.51g( 78%)を得た。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=329.1。 C1523NO5Sに関する分析: 理論値:C 54.69;H 7.04;N 4.25。 実測値:C 53.70;H 7.72;N 4.04。 製造例37 2−(4−ブロモフェニル)−1−ニトロ−1−メチルエチレン トルエン200ml中の4−ブロモベンズアルデヒド30.0g(162mmol)、 ニトロエタン116ml(1.6モル)、および酢酸アンモニウム37.5g(486m mol)の溶液をDean and Starkのトラップ下に18時間加熱した。次いで、その混 合物を80℃まで冷却し、濃硫酸1mlを加えて、その混合物を80℃で2時間攪 拌した。次いで、その混合物を周囲温度まで冷却して、ブライン200mlで洗浄 した。有機層を分離して、水層をジエチルエーテル60mlで3回抽出した。合わ せた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物をメタノ ールから再結晶化させて、標記化合物18.7g(47%)を得た。 製造例38 2−(4−ブロモフェニル)−1−ニトロ−1−メチルエタン テトラヒドロフラン(THF)55ml中の水素化アルミニウムリチウム1.3g( 33.9mmol)の縣濁液を0℃まで冷却した。THF5ml中の製造例37から得ら れた物質4.1g(16.9mmol)の溶液を滴加した。水1.3ml、1M水酸化ナトリ ウム1.3ml、および水4.0mlを順次加えた。その混合物を、セライトを通して 濾過して、ジクロロメタンで濯いだ。有機物を減圧下に濃縮して、標記化合物3 .0g(83%)を得た。 製造例39 N−2−(4−ブロモフェニル)プロピル2−プロパンスルホンアミド ジクロロメタン150ml中の製造例31から得られた物質15.0g(59.9m mol)およびトリエチルアミン18.4ml(131.8mmol)の溶液を室温で20分攪 拌した後、0℃まで冷却して、ジクロロメタン10ml中の2−プロピルスルホニ ルクロリド8.1ml(71.9mmol)で5分かけて滴加処理した。室温で一晩攪拌し た後、その反応物を10%水性重硫酸ナトリウム200mlで1回洗浄し、層を分 離して、水層を各々ジクロロメタン100mlで2回抽出した。合わせた有機抽出 物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフ ィー(シリカゲル500g、30%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物1 1.0g(57%)を得た。 製造例40 N−2−(4−トリ−n−ブチルスタンニルフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド トルエン35ml中の製造例39から得られた物質4.8g(15.1mmol)、トリ エチルアミン2.1ml(15.1mmol)、およびヘキサブチルジスズ8.0ml(15. 9mmol)の脱気溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0. 9g(0.8mmol)を加えた。その混合物を100℃まで16時間加熱し、室温ま で冷却して、酢酸エチル35mlで希釈した。その混合物を10%水性重硫酸ナ トリウム50mlで洗浄し、有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル50mlで2 回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した 。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル350g、20%酢酸エチル/ヘキ サン)により、標記化合物3.5g(44%)を無色透明の油状物質として得た。 C2445NO2SSnに関する分析: 計算値:%C 54.35;%H 8.55;%N 2.64。 実測値:%C 54.41;%H 8.16;%N 2.74。 質量スペクトル:M=530。 製造例41 2−(4−ブロモフェニル)−N−(t−ブトキシカルボニル)エチルアミン クロロホルム100ml中の4−ブロモフェネチルアミン10.0g(50.0mmo l)およびジ炭酸ジ−tert−ブチル11.0g(50.0mmol)の室温の溶液に、飽和 水性重炭酸ナトリウム100mlを加えた。その混合物を室温で1.5時間攪拌し て、水100mlで希釈した。有機層を分離して、水層を各々クロロホルム100 mlで2回抽出した。合わせた有機物を10%水性重硫酸ナトリウム100mlで1 回洗浄し、乾燥させ(NaSO4)、濾過して、減圧下に濃縮して、14.6g(97%) を得た。 質量スペクトル:M+1=301。 製造例42 4−シアノフェニルホウ酸 テトラヒドロフラン100ml中の4−ブロモベンゾニトリル10.0g(54. 9mmol)の溶液を−85℃まで冷却し、その後、ヘキサン中のn−ブチルリチウム の1.6M溶液36.0ml(57.6mmol)を加えた。その混合物を5分間攪拌して 、ホウ酸トリイソプロピル19.0ml(82.4mmol)を加えた。その混合物を−8 5℃で30分間攪拌した後、1時間かけて周囲温度まで温めた。その混合物に5 N塩酸35mlを加えて、2.5時間攪拌し続けた。その混合物を飽和水性塩化ナ トリウム100mlで希釈して、各々エチルエーテル100mlで3回抽出した。合 わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物を水か ら再結晶化させて、濾過して、標記化合物2.0g(25%)を得た。 製造例43 N−2−(4−ホルミルフェニル)プロピル2−プロパンスルホンアミド テトラヒドロフラン50ml中の製造例39から得られた物質4.6g(14.5m mol)の溶液を−85℃まで冷却して、1.6M n−ブチルリチウム19ml(30. 5mmol)を注射器によって加えた。その混合物を−85℃で30分間攪拌した後 、N,N−ジメチルホルムアミド2.2ml(29.0mmol)を注射器によって加えて 、30分間攪撹拌し続けた。その混合物を0℃で30分間攪拌した後、ブライン 100mlおよびエーテル50mlを加えた。有機層を分離して、水層を各々エーテ ル20mlで3回抽出した。合わせた有機抽出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、 減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル200g、40% 酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物2.2g(56%)を得た。 製造例44 N−2−(4−(4−(1−ヒドロキシ−2−(N−(t−ブトキシカルボニル)− メチルスルホンアミド)エチル)フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド A.N−(t−ブトキシカルボニル)メタンスルホンアミド: ジクロロメタン200ml中のメタンスルホンアミド15.0g(157.7mmol) 、トリエチルアミン17.6g(173.5mmol)、および4−ジメチルアミノピリ ジン1.9g(15.8mmol)の溶液に、ジクロロメタン200ml中のジ−t−ブチ ルジカーボネート37.9g(173.5mmol)を10分かけて加えた。その混合物 を周囲温度で2.25時間攪拌して、減圧下に濃縮した。残留物を酢酸エチル2 50mlに溶解して、1N塩酸200mlで1回、水100mlで1回、および飽和水 性塩化ナトリウム100mlで1回洗浄した。有機層を乾燥させ(MgSO4)、濾過し て、減圧下に濃縮した。残留物をヘキサン100mlに縣濁させ、濾過して、減圧 下に乾燥させて、標記化合物26.1g(85%)を得た。 C713NO4Sに関する分析: 計算値:%C 36.91;%H 6.71;%N 7.17。 実測値:%C 36.97;%H 6.79;%N 7.04。 質量スペクトル:M+1=196。 B.N−(4−ブロモフェニル)カルボニルメチル−N−t−ブトキシカルボニル メタンスルホンアミド: アセトニトリル25ml中の工程Aから得られた物質1.0g(5.1mmol)、2, 4'−ジブロモアセトフェノン1.4g(5.1mmol)、および炭酸カリウム0.8g (5.6mmol)の溶液を周囲温度で2時間攪拌した。その混合物を酢酸エチル25m lで希釈して、水15mlで1回洗浄した。有機層を分離して、水層を各々酢酸エ チル10mlで3回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減 圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル50g、20%酢酸 エチル/ヘキサン)により、標記化合物1.5g(76%)を得た。 C1417NBrO5Sに関する分析: 計算値:%C 42.87;%H 4.63:%N 3.57。 実測値:%C 43.11;%H 4.66;%N 3.37。 質量スペクトル:M−1=391。 C.N−[2−(4−ブロモフェニル)−2−ヒドロキシエチル]−N−(t−ブトキ シカルボニル)メタンスルホンアミド: エタノール25ml中の工程Bから得られた物質2.6g(6.7mmol)の溶液に、 水素化ホウ素ナトリウム0.3g(6.7mmol)を加えて、その混合物を16時間攪 拌した。その混合物を減圧下に濃縮して、残留物を酢酸エチル25mlと水25ml との間で分配した。有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル10mlで3回抽出 した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮して、標記 化合物2.6g(98%)を得た。 C1419NBrO5Sに関する分析: 計算値:%C 42.65;%H 5.11;%N 3.55。 実測値:%C 42.60;%H 5.08;%N 3.46。 質量スペクトル:M=394。 D.トルエン5ml中の工程Cから得られた物質0.6g(1.5mmol)および製造例 40から得られた物質0.8g(1.5mmol)の脱気溶液に、テトラキス(トリフェ ニルホスフィン)パラジウム(0)0.08g(0.07mmol)を加えた。その混合物 を還流温度まで16時間加熱し、周囲温度まで冷却して、酢酸エチル10mlで希 釈した。その混合物を飽和水性フッ化カリウム8mlで1回洗浄し、有機層を分離 して、水層を各々酢酸エチル5mlで4回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(M gSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル 50g、50%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.3g(32%)を得 た。 C2638272・0.05CHCl3に関する分析: 計算値:%C 55.80;%H 6.84;%N 5.00。 実測値:%C 55.47;%H 6.93;%N 4.72。 質量スペクトル:M=554。 製造例45 ジブロモホルムアルドキシム 水1200ml中のグリオキシル酸150g(1.6モル)および塩酸ヒドロキシ ルアミン142g(2.0モル)の溶液を2日間攪拌した。その混合物に重炭酸ナ トリウム342g(4.1モル)およびジクロロメタン1000mlを徐々に加えた 。その混合物を0℃まで冷却して、ジクロロメタン700ml中の臭素147ml( 2.8モル)の溶液を滴加した。その混合物を周囲温度で18時間攪拌した。有機 層を分離して、水層を各々ジクロロメタン300mlで3回抽出した。合わせた有 機抽出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮して、標記化合物93.1 g(28%)を得た。 製造例46 2−トリメチルスタンニルチアゾール A.テトラヒドロフラン120ml中のチアゾール5.0g(58.7mmol)の−78 ℃の溶液に、ヘキサン中のn−ブチルリチウムの1.6M溶液36.7ml(58. 7mmol)を加えた。その混合物を20分間攪拌し、その後、テトラヒドロフラン 15ml中の11.7g(58.7mmol)を15分かけて滴加した。冷却浴を取り外し て、その混合物を2時間攪拌した。その混合物を水100mlで希釈して、エチル エーテル100mlで3回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過し て、減圧下に濃縮した。残留物をエチルエーテル50mlに溶解し、シリカゲルを 通して濾過して、減圧下に濃縮して、標記化合物3.6g(24%)を得た。 製造例47 N−2−(4−ブロモフェニル)エチル 2−プロパンスルホンアミド ジクロロメタン150ml中の4−ブロモフェネチルアミン10.0g(50mmol )およびトリエチルアミン7.6ml(55mmol)の溶液に、ジクロロメタン40ml中 のイソプロピルスルホニル クロリド6.2ml(55mmol)の溶液を滴加した。その 混合物を室温で18時間攪拌した。その混合物を1N 水性塩酸100mlで洗浄 し、有機層を分離して、水層を各々ジクロロメタン100mlで1回抽出した。合 わせた有機物を乾燥させ(Na2SO4)、濾過して、減圧下に濃縮して、標記化合物6 .7g(44%)を得た。 製造例48 N−2−(4−(トリ−n−ブチルスタンニル)フェニル)エチル 2−プロパンスルホンアミド トルエン55ml中の製造例47から得られた物質5.0g(16.3mmol)、ビス −トリ−n−ブチルスタンナン9.9g(17.1mmol)、およびトリエチルアミン 2.3ml(16.3mmol)の溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウ ム(0)0.9g(0.8mmol)を加えた。その混合物を100℃で18時間加熱した 。その混合物を室温まで冷却して、10%水性重硫酸ナトリウム55mlを加えた 。有機層を分離して、水層を各々エーテル20mlで2回抽出した。合わせた有機 抽出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグ ラフィー(シリカゲル400g、25%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合 物3.5g(42%)を得た。 製造例49 4−(4−ブロモフェニル)−1,1−ジオキソテトラヒドロ−1,2−チアジン A.4−ブロモフェニル酢酸エチル: アセトニトリル250ml中の4−ブロモフェニル酢酸25.0g(116.3mmo l)、炭酸カリウム24.1g(174.4mmol)、およびヨードエタン10.2ml(1 27.9mmol)の溶液を70℃で16時間加熱した。その混合物を周囲温度まで冷 却し、酢酸エチル200mlで希釈して、飽和水性重炭酸ナトリウム200mlで1 回洗浄した。有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル75mlで3回抽出した。 合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮して、標記化合物 16.2g(57%)を得た。 B.3−カルベトキシ−3−(4−ブロモフェニル)プロピルスルホン酸フェニル : トルエン130ml中の工程Aから得られた物質16.2g(66.6mmol)、炭酸 カリウム4.6g(33.3mmol)、および18−クラウン−6 4.4g(16.7mm ol)の溶液を90℃まで加熱して、トルエン35ml中のビニルスルホン酸フェニ ル6.1g(33.3mmol)を1時間かけて滴加した。その混合物を16時間加熱し 、周囲温度まで冷却して、酢酸エチル100mlで希釈した。その混合物を半飽和 ブライン100mlで1回洗浄した。有機層を分離して、水層を酢酸エチル50ml で1回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮 した。残留物のクロマトグラフィー(Waters 2000、15%酢酸エチル/ヘキ サン)により、標記化合物4.8g(17%)を得た。 C18195SBrに関する分析: 計算値:%C 50.59;%H 4.48。 実測値:%C 50.61;%H 4.47。 質量スペクトル:M+1=428。 C.3−カルボキシ−3−(4−ブロモフェニル)プロピルスルホン酸フェニル: メタノール40ml中の工程Bから得られた物質4.8g(11.3mmol)の溶液に 、2N水性水酸化ナトリウム6.8mlを加えた。その混合物を周囲温度で5時間 攪拌して、減圧下に濃縮した。残留物を水50mlに溶解して、各々エチルエーテ ル 20mlで3回抽出した。水層を10%水性重硫酸ナトリウムでpH 2まで酸性 として、各々酢酸エチル20mlで4回抽出した。合わせた酢酸エチル層を乾燥さ せ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮して、標記化合物4.1g(91%)を得た。 C16155SBrに関する分析: 計算値:%C 48.13;%H 3.79。 実測値:%C 48.17;%H 3.53。 質量スペクトル:M=399。 D.3−カルボキシアミド−3−(4−ブロモフェニル)プロピルスルホン酸フェ ニル: テトラヒドロフラン23ml中の工程Cから得られた物質4.1g(10.2mmol) およびトリエチルアミン2.0ml(14.3mmol)の0℃の溶液に、クロロギ酸イソ ブチル1.9ml(14.3mmol)を加えた。その混合物を0℃で25分間攪拌し、 その後、メタノール中のアンモニアの2N 溶液11.2ml(22.4mmol)を加え た。冷却浴を取り外して、その反応物を16時間攪拌した。その混合物を酢酸エ チル50mlで希釈して、水50mlで1回洗浄した。有機層を分離して、水層を各 々酢酸エチル25mlで3回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過 して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル250g、 35%アセトン/ヘキサン)により、標記化合物1.7g(44%)を得た。 質量スペクトル:M=398。 E.4−(4−ブロモフェニル)−1,1,3−トリオキソテトラヒドロ−1,2− チアジン: テトラヒドロフラン15ml中のカリウムtert−ブトキシドの1.0Mテトラヒ ドロフラン溶液9.0ml(9.0mmol)の0℃の溶液に、テトラヒドロフラン14ml 中の工程Dから得られた物質1.7g(4.5mmol)の溶液を30分かけて滴加した 。0℃で2時間攪拌した後、冷却浴を取り外して、30分間攪拌し続けた。その 混合物を水25mlで希釈して、各々エチルエーテル10mlで2回抽出した。水性 部分を10%水性重硫酸ナトリウムでpH 2まで酸性として、各々酢酸エチル 20mlで4回抽出した。合わせた酢酸エチル層を乾燥させ(MgSO4)、濾過 して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル75g、0. 25%酢酸/40%アセトン/ヘキサン)により、標記化合物0.2g(17%)を 得た。 C1010NO3SBrに関する分析: 計算値:%C 39.49;%H 3.31;%N 4.61。 実測値:%C 39.74;%H 3.23;%N 4.42。 質量スペクトル:M=304。 F.ジオキサン3ml中の工程Eから得られた物質0.13g(0.4mmol)および水 素化ホウ素ナトリウム0.2g(4.9mmol)の縣濁液に、トリフルオロ酢酸0.4m l(4.9mmol)を注射器によって徐々に加えた。周囲温度で30分間攪拌した後、 その混合物を還流温度まで5時間加熱した。その混合物を周囲温度まで冷却し、 メタノール3mlで希釈して、16時間攪拌した。その混合物を除去して、30分 間攪拌し続けた。その混合物を減圧下に濃縮し、酢酸エチル10mlに溶解して、 各々1N 塩酸5mlで2回および20%飽和水性重炭酸ナトリウム/ブライン5m lで1回洗浄した。有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮して、標 記化合物0.1g(89%)を得た。 C1012NO3SBrに関する分析: 計算値:%C 41.39;%H 4.17;%N 4.83。 実測値:%C 41.10;%H 4.34;%N 4.76。 質量スペクトル:M−1=289。 製造例50 D,L−ペニシラミン メチルエステル塩酸塩 メタノール200ml中のD,L−ペニシラミン10.0g(67.0mmol)の縣濁 液を通して、塩化水素を5分間通気した。その混合物を16時間還流し、周囲温 度まで冷却して、減圧下に濃縮した。残留物をエチルエーテルに縣濁させ、濾過 して、乾燥させて、標記化合物12.6g(94%)を得た。 質量スペクトル:M=163。 製造例51 N−(t−ブトキシカルボニル)−4−トリブチルスタンニルアニリン A.N−(t−ブトキシカルボニル)−4−ブロモアニリン: テトラヒドロフラン30ml中の4−ブロモアニリン6.0g(39.4mmol)の溶 液に、テトラヒドロフラン中のナトリウムビス(トリメチルシリル)アミドの1. 0M溶液69.8ml(69.8mmol)を加えた。その混合物に、テトラヒドロフラン 10ml中のジ−t−ブチルジカーボネート7.6g(34.9mmol)を加えた。その 混合物を周囲温度で1時間攪拌して、減圧下に濃縮した。残留物を酢酸エチル5 0mlに溶解して、10%水性重硫酸ナトリウム50mlで1回洗浄した。有機層を 分離して、水層を各々酢酸エチル25mlで2回抽出した。合わせた有機物を乾燥 させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリ カゲル250g)10%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物5.0g(53 %)を得た。 C1114NO2Brに関する分析: 計算値:%C 48.55;%H 5.19;%N 5.15。 実測値:%C 48.81;%H 5.29;%N 4.95。 質量スペクトル:M−1=271。 B.トルエン45ml中の工程Aから得られた物質4.9g(18.0mmol)、トリエ チルアミン2.6ml(18.9mmol)、ビス(トリブチルスズ)9.6ml(18.9mmol) 、およびテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)1.0g(0.9mmo l)の脱気溶液を100℃まで5時間加熱した。その混合物を周囲温度まで冷却し て、酢酸エチル40mlで希釈した。その混合物を10%水性重硫酸ナトリウム5 0mlで1回洗浄し、有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル20mlで3回抽出 した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留 物のクロマトグラフィー(シリカゲル400g、5%酢酸エチル/ヘキサン)によ り、標記化合物1.4g(16%)を得た。 質量スペクトル:M+1=483。 製造例52 N−2−(4−トリ−n−ブチルスタンニルフェニル)プロピル メタンスルホンアミド 実施例1の生成物から出発して、標記化合物(3.6g)を製造例40の方法に より製造した。 製造例53 N−2−(4−(3−チエニル)フェニル)プロピルアミン A.2−(3−チエニル)フェニル−N−(t−ブトキシカルボニル)プロピルアミ ン: ジオキサン5mlおよび水1ml中の製造例4から得られた物質0.7g(2.2mmo l)、チオフェン−3−ホウ酸0.3g(2.4mmol)、および炭酸カリウム0.46 g(3.3mmol)の溶液に、酢酸パラジウム(II)0.025g(0.11mmol)および トリフェニルホスフィン0.058g(0.22mmol)を加えた。その混合物を10 0℃で18時間加熱した。その混合物を室温まで冷却して、ブライン5mlを加え た。有機層を分離して、乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。 残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル25g、25%酢酸エチル/ヘキサン) により、標記化合物0.44g(60%)を得た。 B.ジクロロメタン4mlおよびトリフルオロ酢酸1ml中の製造例53Aから得ら れた物質0.4g(1.3mmol)の溶液を周囲温度で3時間攪拌した。その混合物を 減圧下に濃縮して、残留物を酢酸エチル5mlおよび飽和重炭酸ナトリウム5mlに 溶解した。有機層を分離して、水層を酢酸エチル5mlで3回抽出した。合わせた 有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮して、標記化合物0.21g (74%)を得た。 製造例54A 4−(N,N−ジベンジルアミノ)フェニルアセトニトリル 無水DMF(150ml)中の4−アミノフェニルアセトニトリル(20g)151 .3mmol)の溶液を、炭酸カリウム(50.1g、363.1mmol)、臭化ベンジル (54.4g、318mmol)、およびヨウ化カリウム(5g、0.2 30.3mmol)で 処理した。その反応混合物を室温で12時間攪拌した。その混合物に水(100m l)を加えて、有機物をエーテル(3×200ml)で抽出した。合わせた有機画分を ブライン(200ml)で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させて、濃縮した。粗製の 生成物をフラッシュクロマトグラフィー(SiO2、20% EtOAc:ヘキサン)により さらに精製して、純粋な生成物36.2g(76%)を得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=312。 製造例54B 1−クロロプロプ−2−イル スルホニル クロリド 水100ml中の塩素の0℃の飽和溶液にプロピレンスルフィド15.7ml(20 0mmol)を、その混合物に塩素を通気しながら、滴加した。滴加後、その混合物 を0℃で1時間攪拌した。その結果得られた油状物質を分離して、水性部分を各 々ジクロロメタン20mlで2回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(CaCl2)、 濾過して、減圧下に濃縮した。減圧蒸留により、標記化合物10.8g(30%) を得た。 フィールドディソープション質量スペクトル:M−1=176。 製造例55 2−(4−(N,N−ジベンジルアミノ)フェニル)プロピオニトリル 無水THF(70ml)中の製造例54Aから得られた物質(22.8g、73mmol )の−78℃の溶液をリチウム ビス(トリメチルシリル)アミド(THF中の1M 、76.6ml、76.6mmol)で処理した。その結果得られた混合物を−78℃で 1時間攪拌した。その混合物にヨウ化メチル(4.8ml、76.6mmol)を加えた。 その反応混合物を−78℃で1時間攪拌して、12時間かけて室温まで徐々に温 めた。その混合物に塩酸(0.2M、100ml)を加えて、有機物をエーテル(3× 200ml)で抽出した。合わせた有機画分を水(3×200ml)、ブライン(200 ml)で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させて、濃縮した。粗製の生成物をフラ ッシュクロマトグラフィー(SiO2、20% EtOAc:ヘキサン)によりさらに精製し て、純粋な生成物22.6g(95%)を得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=326。 製造例56 2−(4−(N,N−ジベンジルアミノ)フェニル)プロピルアミン 塩酸塩 無水THF(100ml)中の製造例55から得られた物質(23.6g、72.3m mol)の0℃の溶液をボラン メチルスルフィド(THF中の10M、8ml、80mm ol)で処理した。その反応混合物を3時間還流しながら攪拌した。その溶液を室 温まで冷却して、メタノール中の塩酸の飽和溶液で白色の沈殿が形成されるまで 処理した。溶媒を減圧下に除去して、その結果得られた白色の固体をエーテル( 4×100ml)でトリチュレートした。所望の塩酸塩を減圧下に乾燥させて、純 粋な生成物28.2g(97%)を得、これをさらに全く精製することなく次の工 程で使用した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 製造例57 N−2−(4−(N',N'−ジベンジルアミノ)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジクロロメタン(125ml)中の製造例56から得られた物質(15.2g、37 .7mmol)の0℃の縣濁液をトリエチルアミン(11.4g、113mmol)で処理し た後、2−プロピルスルホニル クロリド(9.2g、56.5mmol)で処理した。 その反応混合物を0℃で1時間、および室温で6時間攪拌した。その反応を水( 100ml)の添加により停止させた。有機物をジクロロメタン(3×200ml)で 抽出した。合わせた有機画分を塩酸(0.2M 100ml)、水(3×200ml)、ブ ライン(100ml)で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させて、減圧下に濃縮して、 粗製の物質を得、これをフラッシュクロマトグラフィー(SiO2、30% EtOAc: ヘキサン)によりさらに精製して、標記生成物10.32g(63%)を得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=436。 製造例58 N−2−(4−アミノフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド EtOH(30ml)中の製造例57から得られた生成物(2.5g、5.72mmol)の溶 液を、ギ酸アンモニウム(0.4g、6.3mmol)および炭素に担持させたパラジウ ム(0.25g、10モル%)で処理した。その反応混合物を室温で6時間攪拌し た。その混合物を、セライトケーキを通して濾過して、濾液を減圧下に濃縮して 、純粋な生成物1.36g(93%)を得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=257。 製造例59 N−t−ブチルオキシカルボニル−N−2−(4− (N',N'−ジベンジルアミノ)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 無水ジクロロメタン(25ml)中の製造例57から得られた物質(2.5g、5. 72mmol)の溶液を、ジ炭酸ジ−t−ブチル(1.47g、6.3mmol)および4−ジ メチルアミノピリジン(0.37g、2.8mmol)で処理した。その反応混合物を室 温で1時間攪拌した。その反応を水(20ml)の添加により停止させた。有機物を エーテル(3×30ml)で抽出した。合わせた有機画分を硫酸水素ナトリウムの2 0%溶液(2×30ml)、水(3×100ml)、ブライン(30ml)で洗浄し、硫酸ナ トリウムで乾燥させて、減圧下に濃縮して、粗製の物質を得、これをフラッシュ クロマトグラフィー(SiO2、30% EtOAc:ヘキサン)によりさらに精製して、標 記化合物3.07g(100%)を得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=XXX。 製造例60 N−t−ブチルオキシカルボニル−N−2−(4−アミノフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド EtOH(30ml)中の製造例59から得られた生成物(3.07g、5.72mmol)の 溶液を、ギ酸アンモニウム(0.54g、8.6mmol)および炭素に担持させたパラ ジウム(0.3g、10モル%)で処理した。その反応混合物を室温で6時間攪拌 した。その混合物を、セライトケーキを通して濾過して、濾液を減圧下に濃縮し て、標記化合物1.9g(93%)を得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=257。 製造例61 2−(4−ニトロフェニル)プロピオニトリル メトキシエチルエーテル(400ml)中の4−ニトロアセトフェノン(16.5g 、100mmol)およびイソシアン化トシルメチル(29.3g、150mmol)の−1 5℃の溶液を、t−ブタノール(200ml)中のカリウム t−ブトキシド(28g、 250mmol)の室温の溶液で徐々に処理した。その反応混合物を−15℃で1時 間攪拌した後、一晩かけて室温まで温めた。その混合物に水(100ml)を加えて 、有機物をエーテル(3×200ml)で抽出した。合わせた有機画分を水(3×2 00ml)、ブライン(100ml)で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させて、減圧下 に濃縮して、粗製の物質を得、これをフラッシュクロマトグラフィー(SiO2、3 0% EtOAc:ヘキサン)によりさらに精製して、標記化合物13.6g(77%)を 得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=225。 製造例62 2−(4−ニトロフェニル)プロピルアミン 無水THF(200ml)中の製造例61から得られた物質(11.8g、67mmo l)の0℃の溶液をボラン テトラヒドロフラン(THF中の1M、72ml、72mm ol)で処理した。その反応混合物を室温で16時間攪拌した。その反応混合物に THF:MeOH(1:1、10ml)および水酸化ナトリウム(5N、40ml)の溶液を 滴加して、その混合物を5時間還流した。その反応混合物を室温まで冷却した。 有機物をジクロロメタン(3×100ml)で抽出した。合わせた有機画分を水(3 ×200ml)、ブライン(100ml)で洗浄し、炭酸カリウムで乾燥させて、減圧 下に濃縮して、粗製の物質を得、これをフラッシュクロマトグラフィー(SiO2、 5% MeOH:CH2Cl2)によりさらに精製して、純粋な生成物8.5g(71%)を得 た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=181。 製造例63 N−2−(4−ニトロフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジクロロメタン(200ml)中の製造例62から得られた物質(8.2g、45. 3mmol)の0℃の縣濁液を1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−エン(7. 6g、49.8mmol)で処理した後、2−プロピルスルホニル クロリド(12g、 49.8mmol)で処理した。その反応混合物を0℃で1時間および室温で余分に1 2時間攪拌した。その反応を水(100ml)の添加により停止させた。有機物をジ クロロメタン(3×200ml)で抽出した。合わせた有機画分を水(3×200ml) 、ブライン(100ml)で洗浄し、炭酸カリウムで乾燥させて、減圧下に濃縮して 、粗製の物質を得、これをフラッシュクロマトグラフィー(SiO2、30% EtOAc :ヘキサン)によりさらに精製して、純粋な生成物8.9g(68%)を得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=287。 製造例64 N−2−(4−アミノフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 酢酸エチル(200ml)中の製造例63から得られた物質(8.75g、31mmol )の脱気溶液を、炭素に担持させたパラジウム(4g、50モル%)で処理した。 その混合物を60psiの水素ガス下に2時間振盪した。その反応混合物を、セラ イトケーキを通して濾過して、濾液を減圧下に濃縮して、純粋な生成物7.44 g(94%)を得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=257。 製造例65 N−2−(4−(ベンジルアミノ)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 圧力チューブ中、無水トルエン(40ml)中の製造例39から得られた臭化物( 3g、9.7mmol)の脱気溶液を、ベンジルアミン(1.27ml、11.6mmol)、ト リス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(170mg、0.19mmol)、S −(−)−BINAP(360mg、0.58mmol)、およびナトリウム t−ブトキシ ド(1.95mg、20.3mmol)で処理した。その反応混合物を80℃で16時間攪 拌した。その混合物を室温まで冷却した。その混合物に水(5ml)を加えて、有機 物をエーテル(3×% ml)で抽出した。合わせた有機画分を水(2×5ml)、ブラ イン(5ml)で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させて、減圧下に濃縮して、粗製の 物質を得、これをフラッシュクロマトグラフィー(SiO2、20% EtOAc:ヘキサ ン)によりさらに精製して、黄色の油状物質1.9g(58%)を標記化合物として 得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 製造例66 2−(4−アミノフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド EtOAc(30ml)中の製造例65から得られた生成物(1.5g、4.33mmol) の溶液を、ギ酸アンモニウム(0.41g、6.5mmol)および炭素に担持させたパ ラジウム(0.15g、10モル%)で処理した。その反応混合物を室温で3時間 攪拌した。その混合物を、セライトケーキを通して濾過して、濾液を減圧下に濃 縮して、標記化合物1.1g(98%)を得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=257。 製造例67 N−2−(4−(カルボキシ)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 無水THF(2ml)中の製造例39から得られた生成物(220mg、0.65mmol )の−85℃の溶液をn−ブチルリチウム溶液(0.87ml、1.37mmol、1.6M 溶液)で処理した。その反応混合物を−85℃で10分間攪拌した後、その混合 物に二酸化炭素を1分間通気した。その反応混合物を室温まで温めた。その混合 物に水(5ml)および濃塩酸(3ml)を加えて、有機物をエーテル(3×10ml)で抽 出した。合わせた有機画分を水(2×10ml)、ブライン(5ml)で洗浄し、硫酸ナ トリウムで乾燥させて、減圧下に濃縮して、純粋な生成物210mg(98%)を得 、これをさらに精製することなく次の工程で使用した。 製造例68 N−t−ブチルオキシカルボニル−4−ピペラジノアセトフェノン テトラヒドロフラン:水(200ml、1:1混合物)中の4−ピペラジノアセト フェノン(10g、49mmol)の溶液を、炭酸カリウム(8.43g、58mmol)お よびジ炭酸ジ−t−ブチル(13.1g、53.9mmol)で処理した。その反応混合 物を室温で3時間攪拌した。その混合物に水(300ml)を加えて、有機物を酢酸 エチル(3×100ml)で抽出した。合わせた有機画分を水(2×200ml)、ブラ イン(100ml)で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させて、減圧下に濃縮して、黄 色がかった固体17.41gとした。粗製の生成物を30% EtOAc:ヘキサンで 溶出するPrep LC 2000によりさらに精製して、標記化合物10.9g(73% )を白色の固体として得た。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=305。 製造例69 2−(N−t−ブチルオキシカルボニル−4− ピペラジノフェニル)プロピオニトリル 製造例68の生成物から出発し、イソシアン化トシルメチルを使用して、標記 化合物1.8g(16%)を製造例61の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=316。 製造例70 2−(N−t−ブチルオキシカルボニル−4− ピペラジノフェニル)プロピルアミン 製造例69の生成物から出発し、ボラン メチルスルフィドを使用して、標記 化合物1.78g(100%)を製造例62の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=319。 製造例71 N−2−(N−t−ブチルオキシカルボニル−4−ピペラジノフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例70の生成物から出発し、ボラン メチルスルフィドを使用して、標記 化合物676mg(61%)を製造例63の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=319。 製造例72 N−2−(4−ピペラジノフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジクロロメタン(10ml)中の製造例71から得られた物質(800mg、1.88 mmol)の溶液をトリフルオロ酢酸(5ml)で処理した。その反応混合物を室温で3 時間攪拌した。その混合物に水酸化ナトリウムの1N 溶液(10ml)を加えて、 有機物をジクロロメタン(3×20ml)で抽出した。合わせた有機画分を水(2× 20ml)、ブライン(20ml)で洗浄し、炭酸カリウムで乾燥させて、減圧下に濃 縮して、純粋な生成物560mg(91%)を得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=319。 製造例73 N−2−(N−ベンジル−4−ピペラジノフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジクロロメタン(10ml)中の製造例72から得られた物質(80mg、0.25mm ol)の0℃の溶液を、トリエチルアミン(28mg、0.27mmol)および無水安息香 酸(61mg、0.27mmol)で処理した。その反応混合物を0℃で30分間攪拌し た。その混合物に水(5ml)を加えて、有機物をジクロロメタン(3×5ml)で抽出 した。合わせた有機画分を水(2×5ml)、ブライン(5ml)で洗浄し、炭酸カリウ ムで乾燥させて、減圧下に濃縮して、標記化合物94mg(87%)を得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=430.2。 製造例74 3−トリブチルスズ−2−シクロペンテン−1−オン 無水THF(15ml)中のヘキサブチルスズ(4.6g、7.9mmol)の−20℃の 溶液をnBuLi(4.9ml、7.9mmol、ヘキサン中の1.6M 溶液)で処理した。 その反応混合物を−20℃で30分間攪拌した後、−78℃まで冷却した。その 混合物を3−エトキシ−2−シクロペンテン−1−オン(1.0g、7.9mmol)で 処理して、その反応混合物を−78℃で30分間攪拌した。塩化アンモニウムの 飽和水溶液(2ml)、続いて、水(30ml)、そして有機物をヘキサン(2×30ml) で抽出した。合わせた有機層をブライン(20ml)で洗浄し、硫酸マグネシウム で乾燥させて、減圧下に濃縮した。これにより、粗製の生成物2.7g(93% )を得、これをさらに精製することなく使用した。 NMRは、標記構造と一致した。 製造例75 N−2−(4−(1−(3−オキソ)シクロペンテニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 脱気した無水THF(15ml)中の製造例39の生成物(1.0g、3.22mmol) の溶液を、製造例74の生成物(1.8g、4.83mmol)およびジクロロビス(ト リフェニルホスフィン)パラジウム(II)(45mg、0.06mmol)で処理した。その 反応混合物を還流温度まで48時間加熱した。その混合物を冷却して、アセトニ トリルとヘキサンとの間で分配した。アセトニトリル層をヘキサン(3×20ml) で洗浄した後、減圧下に濃縮した。粗製の生成物をフラッシュクロマトグラフィ ー(SiO2、70% EtOAc:ヘキサン)によりさらに精製して、標記化合物0.71 g(68%)を純粋な生成物として得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=321.1。 製造例76 1−(4−ブロモフェニル)−2,5−ジメチルピロール 4−ブロモアニリン(56.0g、0.33Mol)、2,5−ヘキサンジオン(37. 6g、0.33Mol)、および酢酸(5ml)をトルエン(500ml)に入れて、Dean S tarkのトラップを使用して還流温度下に8時間加熱して、その反応物から水を除 去した。その反応物を室温まで冷却して、減圧下に濃縮した。その結果得られた 油状物質を酢酸エチルに取り入れ、2N 塩酸、2N NaOH、およびH2Oで各々 1回洗浄し、Na2SO4で乾燥させて、減圧下に濃縮して、褐色の固体を得た。物質 をヘキサンで溶出するシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーにより精製した 。適当な画分の濃縮により、薄い黄色の固体55.0gm(68%)を得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+249。 融点:71−73℃。 製造例77 1−(4−アセチルフェニル)−2,5−ジメチルピロール 無水エーテル(500ml)中の製造例76から得られた物質(25.0g、0.1m ol)の−30℃の溶液をn−ブチルリチウム(1.6Mの70ml、0.12mol)で処 理して、−30℃で1時間攪拌した。N,N−ジメチルアセトアミド(9.7g、 0.12mol)を加えて、その反応物をこの温度で4時間持続した。次いで、その 反応物を室温まで温めて、この温度で一晩攪拌した。朝に、その混合物を酢酸エ チルで希釈して、合わせた有機層を2.0N 塩酸およびH2Oで各々1回ずつ洗 浄し、Na2SO4で乾燥させて、減圧下に濃縮して、白色の固体を得た。その物質を ヘキサン中でトリチュレートして、濾過して、白色の固体12.8gmを得た。 融点:106−108℃(60%)。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+214。 製造例78 1−(4−(1−シアノ)エチルフェニル)−2,5−ジメチルピロール 製造例77から得られた出発ケトン(44.3g、0.21mol)、イソシアン化 トシルメチル(40.6g、.21mol)、カリウム t−ブトキシド(39.2g、0. 35mol)、およびt−ブチルアルコール(250ml)を、製造例61に記載したよ うに、エチレングリコール ジメチルエーテル(500ml)中で反応させて、黄色 の固体を得た。精製は、ヘキサン/酢酸エチル 4:1で溶出するシリカゲルフ ラッシュクロマトグラフィーにより達成されて、黄色の結晶32.3gmを得た。 融点:79−80℃(68%)。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+225。 製造例79 1−(4−(2−(2−シアノ)プロピル)フェニル)−2,5−ジメチルピロール 無水テトラヒドロフラン(100ml)中の製造例78から得られた物質(7.0g 、32mmol)の−78℃の溶液をリチウム(ビス)トリメチルシリルアミド(1.0 Mの40ml、1.3当量)で処理した。この温度で30分攪拌した後、ヨウ化メチ ル(2.6ml、1.3当量)を滴加して、その反応物を室温まで温めた。その混合物 をエーテルで希釈して、合わせた有機層をH2Oで1回洗浄し、K2CO3で乾燥 させて、減圧下に濃縮して、黄色の固体7.61gmを得た。物質をヘキサン/酢 酸エチル 9:1の溶媒で溶出するシリカゲルクロマトグラフィーによって精製 して、黄色の固体6.30gmを得た。 融点:135−137℃(83%)。 フィールドディソープション質量スペクトル:M++1 239。 製造例80 1−(4−(2−(3−アミノ−2−メチル)プロピル)フェニル)−2,5− ジメチルピロール テトラヒドロフラン(250ml)中の製造例79から得られたニトリル(6.23 g、26.22mmol)を製造例62に記載したようにボラン−THF錯体(17.1m l、1.0M)で処理して、泡状物質6.37gmを得た。この物質をジクロロメタン 〜ジクロロメタン/メタノール 9:1のグラジエント溶媒で溶出するシリカゲ ルクロマトグラフィーによって精製して、白色の固体4.08gmを得た。 融点:95−97℃(65%)。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+243。 製造例81 N−2−(4−(2,5−ジメチルピロール)フェニル)−2−メチルプロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例80から得られたアミン(4.0g、16.6mmol)を製造例63に記載し たようにジクロロメタン(80ml)中の1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデ ク−エン(3.28g、1.3当量)および2−プロピルスルホニルクロリド(3.2 ml、1.3当量)で処理して、黄色の油状物質6.1gmを得た。この物質をヘキサ ン/酢酸エチル 4:1のアイソクラチック溶媒で溶出するシリカゲルクロマト グラフィーによって精製して、白色の固体4.3gmを得た。 融点:110−112℃(62%)。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+349。 製造例82 N−2−(4−アミノフェニル)−2−メチルプロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例81から得られたスルホンアミド(2.17g、6.3mmol)を、無水エタ ノール(16ml)および水(6ml)中の塩酸ヒドロキシルアミン(2.0g、13.8m mol)および水酸化カリウム(0.96g、20.0mmol)で処理した。この混合物を 24時間還流した。その溶液を室温まで冷却して、H2Oに注ぎ入れて、所望の 生成物をエーテルで抽出した。有機層をH2Oで1回逆洗浄し、K2CO3で乾燥 させて、減圧下に濃縮して、1.57gmを油状物質として得た。この物質をヘキ サン/酢酸エチル 1:1のアイソクラチック溶媒で溶出するシリカゲルクロマ トグラフィーによって精製して、白色の固体1.41gmを得た。 融点:87−88℃(84%)。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+271。 製造例83 N−2−(4−ニトロフェニル)プロピル N,N−ジメチルスルファミド 製造例62から得られたニトロ−アミン(1.8g、0.01Mol)を、製造例6 3に述べたように、ジクロロメタン(40ml)中の1,8−ジアゾビシクロ[5.4. 0]ウンデク−エン(1.70g、1.1当量)およびN,N−ジメチルスルファモイ ル クロリド(2.1ml、1.1当量)で処理して、暗色の油状物質3.60gmを得た 。この物質をヘキサン/酢酸エチル 9:1〜ヘキサン/酢酸エチル 7:3のグ ラジエント溶媒で溶出するシリカゲルクロマトグラフィーによって精製して、白 色の固体1.0gmを得た。 融点:79−81℃(50%)。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+288。 製造例84 N−2−(4−アミノフェニル)プロピル N,N−ジメチルスルファミド 製造例83から得られたニトロ−スルファミド(1.0g、3.5mmol)を、製造 例64に記載したように、酢酸エチル(100ml)中の5% Pd/C(2.0g、過 剰)および水素で処理して、白色の固体820mgを得た。 融点:101.5−103℃(91%)。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+258。 製造例85 4−ブロモフェニルアセチル クロリド 塩化チオニル150ml中の4−ブロモフェニル酢酸50.0g(232mmol)の 溶液を室温で18時間攪拌した。その混合物を減圧下に濃縮して、標記化合物5 4g(100%)を得た。 製造例86 (R)−(−)−4−ベンジル−3−(4−ブロモフェニルアセチル)−2− オキサゾリジノン テトラヒドロフラン300ml中の(R)−(+)−4−ベンジル−2−オキサゾリ ジノン20.0g(117mmol)の溶液を−78℃まで冷却して、1.6M n−ブチ ルリチウム73.0ml(117mmol)を滴加した。その混合物を30分攪拌した後 、−78℃で、テトラヒドロフラン150ml中の製造例85から得られた物質2 5g(107mmol)の溶液にカニューレによって徐々に加えた。その混合物を1時 間 攪拌した後、10%水性重硫酸ナトリウム300mlを加えた。有機層を分離して 、水層を各々エーテル100mlで3回抽出した。合わせた有機抽出物を乾燥させ (MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲ ル750g、25%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物27.4g(68 %)を得た。 C1816BrNO3に関する分析: 計算値:%C 57.77;% H4.31;%N 3.74。 実測値:%C 57.62;% H4.21;%N 3.74。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=374。 [a]D 20=−59.83(c=1.04、CHCl3)。 製造例87 (−)−4R−ベンジル−3−(2R−(4− ブロモフェニル)プロピオニル)−2−オキサゾリジノン テトラヒドロフラン200ml中の製造例86から得られた物質48g(128m mol)の溶液を−78℃まで冷却して、1M ナトリウム ビス(トリメチルシリル) アミド141ml(141mmol)を滴加した。その混合物を60分攪拌した後、テト ラヒドロフラン20ml中のヨードメタン20g(141mmol)の溶液を徐々に加え た。その混合物を−78℃で60分間攪拌した後、室温まで60分間温めた。そ の反応物に10%水性重硫酸ナトリウムを加えて、有機層を分離して、水層を各 々エーテル100mlで3回抽出した。合わせた有機抽出物を乾燥させ(MgSO4)、 濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル500 g、25%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物28.7g(58%)を得た 。 C1918BrNO3に関する分析: 計算値:%C 58.78;%H 4.67;%N 3.61。 実測値:%C 58.81;%H 4.63;%N 3.54。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=388。 [a]D 20=−110.4(c=0.96、CHCl3)。 製造例88 (R)−(+)−2−(4−ブロモフェニル)プロパノール エーテル250ml中の製造例87から得られた物質28.7g(74mmol)の溶 液を0℃まで冷却して、テトラヒドロフラン中の2M 水素化ホウ素リチウム7 4ml(148mmol)を滴加した。その混合物を2時間攪拌した後、1N 水酸化ナ トリウムを加えて、その混合物を有機および水層の両方が透明になるまで攪拌し た。有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル10mlで3回抽出した。合わせた 有機抽出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマ トグラフィー(シリカゲル800g、25%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記 化合物12.3g(79%)を得た。 C911BrOに関する分析: 計算値:%C 50.26;%H 5.15。 実測値:%C 48.96;%H 4.91。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+1=216。 [a]D 20=+13.79(c=1.06、CHCl3)。 製造例89 (R)−2−(4−ブロモフェニル)プロピル メタンスルホネート ジクロロメタン180ml中の製造例88から得られた物質12.2g(56.7m mol)およびトリエチルアミン8.7ml(62.4mmol)の溶液を0℃まで冷却した。 ジクロロメタン10ml中のメタンスルホニルクロリド4.8ml(62.4mmol)の溶 液を滴加した。氷浴を取り外して、その混合物を室温で2時間攪拌した。その混 合物を10%水性重硫酸ナトリウム200mlで洗浄し、有機層を分離して、水層 をエーテル60mlで3回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過し て、減圧下に濃縮して、標記化合物15.9g(96%)を得た。 製造例90 (R)−2−(4−ブロモフェニル)プロピル アジド N,N−ジメチルホルムアミド180ml中の製造例89から得られた物質15. 8g(54mmol)の溶液およびアジ化ナトリウム7.0g(108mmol)を80℃で 15時間加熱した。その混合物を冷却して、減圧下に濃縮した。残留物を水10 0mlとエーテル100mlとの間で分配した。有機層を分離して、水層を各々エー テル30mlで3回洗浄した。合わせた有機抽出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して 、減圧下に濃縮して、標記化合物12.13g(94%)を得た。 製造例91 (R)−(+)−2−(4−ブロモフェニル)プロピルアミン 塩酸塩 テトラヒドロフラン168mlおよび水3.6ml中の製造例90から得られた物 質12.2g(50.4mmol)の溶液を室温で18時間攪拌した。その混合物をエー テル100mlおよびブライン50mlで希釈した。有機層を乾燥させ(MgSO4)、濾 過して、減圧下に濃縮した。残留物をエーテル100mlに溶解して、これに塩酸 で飽和したエーテル200mlを加えた。その結果得られた固体の濾過により、標 記化合物11.9g(94%)を得た。 C913BrClNに関する分析: 計算値:%C 43.14;%H 5.23;%N 5.59。 実測値:%C 43.44;%H 5.23;%N 5.56。 質量スペクトル:[M−HCl]=214。 [a]D 20=+24.06(c=1.00、H2O)。 製造例92 (R)−2−(4−ブロモフェニル)−N− (t−ブトキシカルボニル)プロピルアミン クロロホルム30mlおよび飽和重炭酸ナトリウム30ml中の製造例91から得 られた物質5.0g(20.0mmol)の溶液にジ炭酸ジ−tert−ブチル4.3g(20 .0mmol)を加えた。その溶液を室温で18時間攪拌した。有機層を分離して、水 層を各々クロロホルム10mlで3回抽出した。合わせた有機抽出物を乾燥させ(M gSO4)、濾過して、減圧下に濃縮して、標記化合物6.2g(100%)を得た。 製造例93 (S)−(+)−4−ベンジル−3−(4−ブロモフェニルアセチル)−2− オキサゾリジノン 製造例86の方法に従い、(R)−(+)−4−ベンジル−2−オキサゾリジノン の代わりに(S)−(−)−4−ベンジル−2−オキサゾリジノンを使用して、標記 化合物25.3g(63%)を得た。 C1816BrNO3に関する分析: 計算値:%C 57.77;%H 4.31;%N 3.74。 実測値:%C 57.69;%H 4.18;%N 3.82。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=374。 [a]D 20=+59.35(c=1.04、CHCl3)。 製造例94 (+)−4S−ベンジル−3−(2S−(4− ブロモフェニル)プロピオニル)−2−オキサゾリジノン 製造例87の方法に従い、製造例86から得られた物質の代わりに製造例93 から得られた物質を使用して、標記化合物28.9g(51%)を得た。 C1918BrNO3に関する分析: 計算値:%C 58.78;%H 4.67;%N 3.61。 実測値:%C 59.40;%H 4.61;%N 3.64。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=388。 [a]D 20=+114.8(c=1.01、CHCl3)。 製造例95 (S)−(−)−2−(4−ブロモフェニル)プロパノール 製造例88の方法に従い、製造例87から得られた物質の代わりに製造例94 から得られた物質を使用して、標記化合物12.3g(79%)を得た。 C911BrOに関する分析: 計算値:%C 50.26;%H 5.15。 実測値:%C 50.38;%H 5.08。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+1=216。 [a]D 20=−13.25(c=1.06、CHCl3)。 製造例96 (S)−2−(4−ブロモフェニル)プロピルメタンスルホネート 製造例89の方法に従い、製造例88から得られた物質の代わりに製造例95 から得られた物質を使用して、標記化合物16.9g(100%)を得た。 製造例97 (S)−2−(4−ブロモフェニル)プロピル アジド 製造例90の方法に従い、製造例89から得られた物質の代わりに製造例96 から得られた物質を使用して、標記化合物13.0g(94%)を得た。 製造例98 (S)−(−)−2−(4−ブロモフェニル)プロピルアミン 塩酸塩 製造例91の方法に従い、製造例90から得られた物質の代わりに製造例97 から得られた物質を使用して、標記化合物11.6g(86%)を得た。 C913BrClNに関する分析: 計算値:%C 43.14;%H 5.23;%N 5.59。 実測値:%C 43.36;%H 5.39;%N 5.64。 質量スペクトル:[M−HCl]=214。 [a]D 20=−25.3(c=1.02、H2O)。 製造例99 (S)−2−(4−ブロモフェニル)−N− (t−ブトキシカルボニル)プロピルアミン 製造例92の方法に従い、製造例91から得られた物質の代わりに製造例98 から得られた物質を使用して、標記化合物5.9g(94%)を得た。 製造例100 (R)−2−(4−(3−チエニル)フェニル)−N− (t−ブトキシカルボニル)プロピルアミン ジオキサン20mlおよび水5ml中の製造例92から得られた物質2.0g(6. 4mmol)、チオフェン−3−ホウ酸0.9g(7.0mmol)、および炭酸カリウム1. 3g(9.6mmol)の溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0 )0.4g(0.32mmol)を加えた。その混合物を100℃で18時間加熱した。 その混合物を室温まで冷却して、水20mlおよびエーテル20mlを加えた。有機 層を分離して、水層を各々エーテル10mlで3回抽出した。合わせた有機抽出物 を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィ ー(シリカゲル150g、15%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物1. 4g(70%)を得た。 製造例101 (S)−2−(4−(3−チエニル)フェニル)−N− (t−ブトキシカルボニル)プロピルアミン 製造例100の方法に従い、製造例92から得られた物質の代わりに製造例9 9から得られた物質を使用して、標記化合物5.9g(94%)を得た。 製造例102 2R−(4−(3−チエニル)フェニル)プロピルアミン 25%トリフルオロ酢酸/ジクロロメタン15ml中の製造例100から得られ た物質1.4gの溶液を室温で3時間攪拌した。その混合物を減圧下に濃縮し て、残留物を1N 水酸化ナトリウム20mlおよび酢酸エチル20mlに溶解した 。有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル10mlで4回抽出した。合わせた有 機抽出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮して、標記化合物0.85 g(89%)を得た。 製造例103 2S−(4−(3−チエニル)フェニル)プロピルアミン 製造例102の方法に従い、製造例100から得られた物質の代わりに製造例 101から得られた物質を使用して、標記化合物0.9g(94%)を得た。 実施例1 N−2−(4−ブロモフェニル)プロピル メタンスルホンアミド 周囲温度で、ジクロロメタン30mlおよび10%水性水酸化ナトリウム30ml 中の製造例2から得られた物質2.8g(11.3mmol)の溶液に、メタンスルホニ ルクロリド1.1ml(13.6mmol)を加えた。1時間後、メタンスルホニルクロリ ド1.1ml(13.6mmol)をさらに加えて、1.5時間攪拌し続けた。有機部分を 分離して、水性部分を各々ジクロロメタン25mlで2回抽出した。合わせた有機 物を10%水性重硫酸ナトリウム25mlで1回洗浄し、乾燥させ(Na2SO4)、濾過 して、減圧下に濃縮して、標記化合物2.7g(81%)を得た。 C1014NBrO2Sに関する分析: 計算値:%C 41.11;%H 4.83;%N 4.79。 実測値:%C 40.92;%H 4.78;%N 4.85。 フィールドディソープション質量スペクトル:M−1=291。 実施例2 N−2−(4−(3−フルオロフェニル)フェニル)プロピル メタンスルホンアミド トルエン30ml中の実施例1から得られた物質1.5g(5.1mmol)、3−フル オロベンゼンホウ酸1.1g(7.7mmol)、および炭酸カリウム1.1g(7.7mmo l)の脱気溶液に、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド0. 2g(0.3mmol)を加えた。その混合物を100℃まで16時間加熱して、周囲 温度まで冷却して、酢酸エチル20mlで希釈した。その混合物を水25mlで1回 洗浄して、有機部分を分離した。水性部分を酢酸エチルで3回抽出して、合わせ た有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。シリカゲル75g でのクロマトグラフィー(20%酢酸エチル/トルエン)、続いて、エチルエーテ ルからの再結晶化、濾過、および減圧下に60℃での乾燥により、標記化合物0 .15g(9%)を得た。 C1618NFO2S・0.25H2Oに関する分析: 計算値:%C 61.62;%H 5.98;%N 4.49。 実測値:%C 61.67;%H 5.83;%N 4.64。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=307。 実施例3 N−2−(4−(3−ホルミルフェニル)フェニル)プロピル メタンスルホンアミド トルエン30ml中の実施例1から得られた物質1.5g(5.1mmol)、3−ホル ミルベンゼンホウ酸1.2g(8.1mmol)、および炭酸カリウム1.1g(8.1mmo l)の脱気溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.3g( 0.3mmol)を加えた。その混合物を100℃まで16時間加熱し、その後、水5 mlを加えて、1時間加熱し続けた。次いで、その混合物を周囲温度まで冷却して 、水10mlを加えた。有機部分を分離して、水性部分を酢酸エチルで2回抽出し た。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。 シリカゲル50gでのクロマトグラフィー(40%酢酸エチル/ヘキサン)により 、標記化合物0.7g(41%)を得た。 C1719NO3Sに関する分析: 計算値:%C 64.33;%H 6.03;%N 4.41。 実測値:%C 64.33;%H 6.06;%N 4.01。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=317。 実施例4 N−2−(4−(4−ホルミルフェニル)フェニル)プロピル メタンスルホンアミド トルエン30ml中の実施例1から得られた物質1.5g(5.1mmol)、4−ホル ミルベンゼンホウ酸1.2g(8.1mmol)、および炭酸カリウム1.1g(8.1mmo l)の脱気溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.3g( 0.3mmol)を加えた。その混合物を100℃まで4時間加熱し、その後で、4− ホルミルベンゼンホウ酸0.3g(2.0mmol)およびテトラキス(トリフェニルホ スフィン)パラジウム(0)0.1g(0.09mmol)を加えて、16時間加熱し続け た。この溶液に水5mlを加えて、1時間加熱し続けた。次いで、その混合物を周 囲温度まで冷却して、水10mlを加えた。有機部分を分離して、水性部分を酢酸 エチルで2回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下 に濃縮した。シリカゲル50gでのクロマトグラフィー(50%酢酸エチル/ヘ キサン)により固体を得、これをブロモブタン/酢酸エチルから再結晶化させ、 濾過して、減圧下に60℃で乾燥させて、標記化合物0.5g(32%)を得た。 C1719NO3Sに関する分析: 計算値:%C 64.33;%H 6.03;%N 4.41。 実測値:%C 64.62;%H 5.97;%N 4.36。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=317。 実施例5 N−2−(4−(3−チエニル)フェニル)プロピル メタンスルホンアミド トルエン30ml中の実施例1から得られた物質1.5g(5.1mmol)、チオフェ ン−3−ホウ酸1.0g(7.7mmol)、および炭酸カリウム1.1g(7.7mmol)の 脱気溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.3g(0. 3mmol)を加えた。その混合物を100℃まで4時間加熱し、周囲温度まで冷却 して、酢酸エチル20mlで希釈した。次いで、その混合物を水で1回洗浄して、 有機部分を分離した。水性部分を酢酸エチルで2回抽出して、合わせた有機物を 乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。シリカゲル50gでのクロマ トグラフィー(35%酢酸エチル/ヘキサン)により固体を得、これをブロモブタ ンから再結晶化させ、濾過して、減圧下に60℃で乾燥させて、標記化合物0. 4g(27%)を得た。 C1417NO22に関する分析: 計算値:%C 56.92;%H 5.80;%N 4.74。 実測値:%C 57.00;%H 5.92;%N 4.78。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=295。 実施例6 N−2−(4−(2−メトキシフェニル)フェニル)プロピル メタンスルホンアミド ジオキサン15mlおよび水5ml中の実施例1から得られた物質1.0g(3.4m mol)、2−メトキシベンゼンホウ酸0.8g(5.1mmol)、および炭酸カリウム0 .7g(5.1mmol)の脱気溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウ ム(0)0.2g(0.2mmol)を加えた。その混合物を100℃まで16時間加熱し た。その反応混合物を周囲温度まで冷却し、水10mlで希釈して、酢酸エチルで 3回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮し た。シリカゲル50gでのクロマトグラフィー(35%酢酸エチル/ヘキサン)に より、標記化合物1.0g(90%)を粘性の油状物質として得た。 C1721NO3Sに関する分析: 計算値:%C 63.92;%H 6.62;%N 4.39。 実測値:%C 63.68;%H 6.78;%N 4.23。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=319。 実施例7 N−2−(4−(2−フルオロフェニル)フェニル)エチル 2−プロパンスルホンアミド A.2−(4−ブロモフェニル)−N−(t−ブトキシカルボニル)エチルアミン: クロロホルム100mlおよび飽和重炭酸ナトリウム100ml中の4−ブロモフ ェネチルアミン10.0g(50.0mmol)の溶液に、ジ炭酸ジ−tert−ブチル11 .0g(50.0mmol)を加えた。その溶液を周囲温度で1時間攪拌した。有機層を 分離して、水層を各々クロロホルム30mlで3回抽出した。合わせた有機抽出物 を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮して、標記化合物15g(100% )を得た。 B.2−(4−(2−フルオロフェニル)フェニル)−N−(t−ブトキシカルボニル )フェニルエチルアミン: トルエン90ml中の工程Aから得られた物質7.9g(26.2mmol)、製造例3 から得られた物質5.5g(39.3mmol)、および炭酸カリウム5.4g(39.3m mol)の脱気溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)1.5 g(1.3mmol)を加えた。その混合物を90℃で3時間加熱した。その混合物を 周囲温度まで冷却して、水90mlを加えた。有機層を分離して、水層を各々酢酸 エチル30mlで3回抽出した。合わせた有機抽出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過し て、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル400g、1 5%酢酸エチル/ヘキサン)により物質7.1gを得、これをヘキサン中でトリチ ュレートして、標記化合物3.5g(42%)を得た。 C.2−(4'−(2−フルオロビフェニル))エチルアミン: 20%トリフルオロ酢酸/ジクロロメタン40ml中の工程Bから得られた物質 3.5gの溶液を周囲温度で1時間攪拌した。その混合物を減圧下に濃縮して、 標記化合物3.9g(100%)を得た。 D.ジクロロメタン10ml中の工程Cから得られた物質1.0g(3.0mmol)およ びトリエチルアミン1ml(7.6mmol)の溶液を0℃まで冷却した。ジクロロメタ ン5ml中のイソプロピルスルホニルクロリド0.33ml(3.0mmol)の溶液を滴加 した。氷浴を取り外して、その混合物を周囲温度で1時間攪拌した。その混合物 をエーテル10mlで希釈して、10%水性重硫酸ナトリウム20mlで洗浄し、有 機層を分離して、水層を各々エーテル10mlで3回抽出した。合わせた有機物を 乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮して、標記化合物0.5g(52%)を 得た。 C1720FNO2S・0.25H2Oに関する分析: 計算値:%C 62.65;%H 6.34;%N 4.30。 実測値:%C 62.62;%H 6.15;%N 4.49。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=321。 実施例8 N−2−(4−(2−フルオロフェニル)フェニル)プロピル エテンスルホンアミド ジクロロメタン15ml中の製造例6から得られた物質1.0g(4.4mmol)およ びトリエチルアミン0.67ml(4.8mmol)の溶液を0℃まで冷却した。ジクロロ メタン2ml中の2−クロロ−1−エタンスルホニル クロリド0.46ml(4.4mm ol)の溶液を滴加した。氷浴を取り外して、その混合物を周囲温度で1時間攪拌 した。その混合物をエーテル15mlで希釈して、10%水性重硫酸ナトリウム1 5mlで洗浄し、有機層を分離して、水層を各々エーテル5mlで3回抽出した。合 わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロ マトグラフィー(シリカゲル25g、30%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記 化合物0.6g(43%)を得た。 C1718FNO2Sに関する分析: 計算値:%C 63.93;%H 5.68;%N 4.39。 実測値:%C 63.98;%H 5.58;%N 4.42。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=319。 実施例9 N−2−(4−(2−フルオロフェニル)フェニル)プロピル エタンスルホンアミド ジクロロメタン5ml中の製造例6から得られた物質0.2g(0.80mmol)およ びトリエチルアミン0.13ml(0.95mmol)の溶液を0℃まで冷却した。ジクロ ロメタン1ml中のエタンスルホニルクロリド0.076ml(0.80mmol)の溶液を 滴加した。氷浴を取り外して、その混合物を周囲温度で16時間攪拌した。その 混合物を10%水性重硫酸ナトリウム5mlで洗浄し、有機層を分離して、水層を ジクロロメタン5mlで1回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過 して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル25g、3 5%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.20g(78%)を得た。 C1720FNO2Sに関する分析: 計算値:%C 63.53;%H 6.27;%N 4.36。 実測値:%C 63.24;%H 6.27;%N 4.39。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=321。 実施例10 N−2−(4−(2−フルオロフェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジクロロメタン5ml中の製造例6から得られた物質0.2g(0.80mmol)およ びトリエチルアミン0.13ml(0.95mmol)の溶液を0℃まで冷却した。ジクロ ロメタン1ml中のイソプロピルスルホニルクロリド0.090ml(0.80mmol)の 溶液を滴加した。氷浴を取り外して、その混合物を周囲温度で16時間攪拌した 。その混合物を10%水性重硫酸ナトリウム5mlで洗浄し、有機層を分離して、 水層をジクロロメタン5mlで1回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4) 、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル25 g、35%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.040g(15%)を得 た。 C1822FNO2Sに関する分析: 計算値:%C 64.45;%H 6.61;%N 4.81。 実測値:%C 64.20;%H 6.51;%N 4.02。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=335。 実施例11 N−2−(4−(2−フルオロフェニル)フェニル)プロピル N',N'−ジメチルスルファミド ジクロロメタン5ml中の製造例6から得られた物質0.2g(0.80mmol)およ びトリエチルアミン0.13ml(0.95mmol)の溶液を0℃まで冷却した。ジクロ ロメタン1ml中のジメチルスルファモイルクロリド0.086ml(0.80mmol)の 溶液を滴加した。氷浴を取り外して、その混合物を周囲温度で16時間攪拌した 。その混合物を10%水性重硫酸ナトリウム5mlで洗浄し、有機層を分離して、 水層をジクロロメタン5mlで1回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4) 、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル25 g、35%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.20g(74%)を得た 。 C1721FN22Sに関する分析: 計算値:%C 60.69;%H 6.29;%N 8.33。 実測値:%C 60.42;%H 6.23;%N 8.06。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=336。 実施例12 N−2−(4−イソプロピルフェニル)プロピル トリフルオロメタンスルホンアミド ジクロロメタン(20ml)中の製造例8の生成物0.30g(1.40mmol)の縣濁 液を0℃まで冷却した。その縣濁液にトリエチルアミン0.59ml(4.21mmol) を加えた後、トリフルオロメタンスルホニルクロリド0.16ml(1.54mmol)を 加えた。その溶液を0℃で30分間攪拌した後、周囲温度まで温めた。その反応 の進行は、薄層クロマトグラフィーによりモニターした。出発物質が消費された 後、その反応混合物を水とジクロロメタンとの間で分配した。有機画分を0.2 M 塩酸、ブラインで洗浄し、乾燥させて(MgSO4)、減圧下に濃縮した。クロマト グラフィー(SiO2、30%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.35g( 81%)を得た。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=309。 C13183NO3Sに関する分析: 計算値:%C 50.48;%H 5.86;%N 4.53。 実測値:%C 50.40;%H 5.78;%N 4.74。 実施例13 N−2−(4−イソプロピルフェニル)プロピル2−プロパンスルホンアミド ジクロロメタン(20ml)中の製造例8の生成物0.30g(1.40mmol)の縣濁 液を0℃まで冷却した。その縣濁液にトリエチルアミン0.59ml(4.21mmol) を加えた後、イソプロピルスルホニルクロリド(0.16ml、1.54mmol)を加え た。その溶液を0℃で30分間攪拌した後、周囲温度まで温めた。その反応の進 行は、薄層クロマトグラフィーによりモニターした。出発物質が消費された後、 その反応混合物を水とジクロロメタンとの間で分配した。有機画分を0.2M 塩 酸、ブラインで洗浄し、乾燥させて(MgSO4)、減圧下に濃縮した。クロマトグラ フィー(SiO2、30%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.35g(81 %)を得た。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=283。 C13183NO3Sに関する分析: 計算値:%C 63.57;%H 8.89;%N 4.94。 実測値:%C 63.63;%H 8.90;%N 5.18。 実施例14 N−2−(4−メトキシフェニル)プロピル トリフルオロメタンスルホンアミド ジクロロメタン(50ml)中の製造例10の生成物1.00g(4.96mmol)の縣 濁液を0℃まで冷却した。その縣濁液にトリエチルアミン2.09ml(14.9mmo l)を加えた後、トリフルオロメタンスルホニルクロリド0.58ml(5.45mmol) を加えた。その溶液を0℃で30分間攪拌した後、周囲温度まで温めた。その反 応の進行は、薄層クロマトグラフィーによりモニターした。出発物質が消費され た後、その反応混合物を水とジクロロメタンとの間で分配した。有機画分を0. 2M 塩酸、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させて、減圧下に濃縮 した。クロマトグラフィー(SiO2、30%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化 合物1.07g(73%)を得た。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=297。 C11143NO3Sに関する分析: 理論値:C 44.44;H 4.75;N 4.77。 実測値:C 44.54;H 4.55;N 4.80。 実施例15 N−2−(4−シクロペンチルフェニル)プロピル メタンスルホンアミド 条件1:窒素雰囲気下、実施例1の生成物0.50g(1.71mmol)を無水テト ラヒドロフラン(5ml)に溶解した。これにテトラキス(トリフェニルホスフィン) パラジウム(0)(0.099g、0.086mmol)を加えた後、シクロペンチルマグ ネシウムブロミド(ジエチルエーテル中の2M、2.14ml、4.28mmol)を加え た。その溶液を還流温度まで16時間加熱した。その反応物を冷却したら、水と ジエチルエーテルとの間で分配した。水層をジエチルエーテルで2回逆抽出して 、有機画分を合わせた。その有機層をブラインで洗浄し、乾燥させて(MgSO4)、 減圧下に濃縮した。クロマトグラフィー(SiO2、30%酢酸エチル/ヘキサン)に より、標記化合物0.06g(13%)を得た。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=281。 C1523NO2Sに関する分析: 理論値:C 64.02;H 8.24;N 4.98。 実測値:C 64.30;H 8.35;N 4.84。 条件2:その後、上の反応に最適な条件は次の通りであることが発見されてい る:臭化物をジエチルエーテルに溶解して、−78℃まで冷却した。[1,1'− ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]ジクロロ−パラジウム(II)(PdCl2(dppf ))を加えた後、適当なアルキルマグネシウム試薬を加えた。その溶液を1時間攪 拌した後、2時間かけて周囲温度まで温めた。後処理は、上に記載した条件1と 同じである。 実施例16 N−2−(4−t−ブチルフェニル)プロピル メタンスルホンアミド N2下、周囲温度で、ジクロロメタン(15ml)中の製造例23の生成物100m g(0.52mmol)およびトリエチルアミン60mg(0.59mmol)の溶液に、ジクロ ロメタン(5ml)中のメタンスルホニルクロリド65mg(0.57mmol)を滴加した 。その反応混合物を周囲温度で16時間攪拌した。次いで、その混合物を減圧下 に濃縮して、その結果得られた半固体を酢酸エチル25mlに取り入れ、H2O 2 5mlで1回洗浄し、K2CO3で乾燥させて、減圧下に濃縮した。ヘキサン/酢酸 エチル 9:1からの再結晶化により、標記化合物65mg(46%)を白色の結晶 として製造した。 C1423NO2Sに関する分析: 計算値:%C 62.42;%H 8.61;%N 5.20。 実測値:%C 62.64;%H 8.41;%N 5.19。 質量スペクトル:M=269。 実施例17 N−2−(4−t−ブチルフェニル)プロピル トリフルオロメタンスルホンアミド 製造例23の生成物から出発し、トリフルオロメタンスルホニルクロリドを使 用して、標記化合物70mg(29%)を実施例16の方法に従い油状物質として製 造した。 C1420NO2SF3に関する分析: 計算値:%C 52.00;%H 6.23;%N 4.33。 実測値:%C 51.79;%H 6.20;%N 4.27。 質量スペクトル:M=323。 実施例18 N−2−(4−t−ブチルフェニル)ブチル メタンスルホンアミド 製造例24の生成物から出発して、標記化合物140mg(67%)を実施例16 の方法に従い油状物質として製造した。精製は、ヘキサン/酢酸エチル 3:1 の溶媒で溶出するシリカゲルクロマトグラフィー(Chromatotron−1000ミク ロンのローター)により達成された。 C1525NO2Sに関する分析: 計算値:%C 63.57;%H 8.89;%N 4.94。 実測値:%C 63.63;%H 8.49;%N 4.93。 質量スペクトル:M=283。 実施例19 N−2−(4−t−ブチルフェニル)−2−メチルプロピル トリフルオロメタンスルホンアミド 製造例25の生成物から出発し、トリフルオロメタンスルホニルクロリドを使 用して、標記化合物131mg(40%)を実施例16の方法に従いヘキサン/酢酸 エチル 19:1から結晶性固体として製造した。 C1522NO2SF3に関する分析: 計算値:%C 53.40;%H 6.57;%N 4.15。 実測値:%C 53.75;%H 6.40;%N 4.02。 質量スペクトル:M=337。 実施例20 N−2−(2−ナフチル)プロピル トリフルオロメタンスルホンアミド 製造例26の生成物から出発して、標記化合物を実施例16の方法に従い製造 した。精製は、ヘキサン/酢酸エチル 19:1の溶媒で溶出するシリカゲルク ロマトグラフィー(Chromatotron−1000ミクロンのローター)により達成され て、標記化合物140mg(44%)を固体として得た。 C1414NO2SF3に関する分析: 計算値:%C 52.99;%H 4.45;%N 4.41。 実測値:%C 52.90;%H 4.42;%N 4.32。 質量スペクトル:M=317。 実施例21 N−2−(4−t−ブチルフェニル)ブチル トリフルオロメタンスルホンアミド 製造例24の生成物から出発し、トリフルオロメタンスルホニルクロリドを使 用して、標記化合物を実施例16の方法に従い製造した。精製は、ヘキサン/酢 酸エチル 19:1の溶媒で溶出するシリカゲルクロマトグラフィー(Chromatotr on−2000ミクロンのローター)により達成されて、標記化合物187mg(57 %)を油状物質として得た。 C1522NO2SF3に関する分析: 計算値:%C 53.56;%H 6.31;%N 4.12。 実測値:%C 53.40;%H 6.57;%N 4.15。 質量スペクトル:M=337。 実施例22 N−2−(4−t−ブチルフェニル)ブチル 2−プロパンスルホンアミド 製造例24の生成物およびイソプロピルスルホニルクロリドから出発して、標 記化合物を実施例16の方法に従い製造した。精製は、ヘキサン〜ヘキサン/酢 酸エチル 4:1のグラジエント溶媒で溶出するシリカゲルクロマトグラフィー( Chromatotron−2000ミクロンのローター)により達成されて、標記化合物 73mg(32%)を油状物質として製造した。 C1729NO2Sに関する分析: 計算値:%C 65.55;%H 9.38;%N 4.50。 実測値:%C 64.65;%H 8.96;%N 4.60。 質量スペクトル:M=311。 実施例23 N−2−(4−t−ブチルフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例23の生成物およびイソプロピルスルホニルクロリドから出発して、標 記化合物を実施例16の方法に従い製造した。精製は、ヘキサン/酢酸エチル 4:1の溶媒で溶出するシリカゲルクロマトグラフィー(Chromatotron−200 0ミクロンのローター)によって達成されて、標記化合物111mg(29%)を製 造した。 C1627NO2Sに関する分析: 計算値:%C 64.61;%H 9.15;%N 4.71。 実測値:%C 64.53;%H 8.99;%N 4.92。 質量スペクトル:M=297。 実施例24 N−1−(4−t−ブチルフェニル)シクロプロピルメチル トリフルオロメタンスルホンアミド ジクロロメタン(15ml)中、トリフルオロメチルスルホニルクロリド165mg (0.98mmol)、製造例30の生成物100mg(0.49mmol)、およびトリエチル アミン100mg(0.98mmol)を合わせて、実施例16に記載したように反応さ せて、油状物質164mgを得た。この物質をヘキサン〜ヘキサン/EtOAc 9:1 のグラジエント溶媒で溶出するシリカゲルクロマトグラフィーによって精製して 、標記化合物100mg(61%)を徐々に結晶化する油状物質として得た。 融点:82−84℃。 C1520NO2SF3として計算した: 理論値:C 53.72;H 6.01;N 4.18。 実測値:C 53.97;H 6.12;N 4.10。 質量スペクトル:M=335。 実施例25 N−1−(4−t−ブチルフェニル)シクロプロピルメチル 2−プロパンスルホンアミド ジクロロメタン(15ml)中、イソプロピルスルホニルクロリド140mg(0.9 8mmol)、製造例30の生成物100mg(0.49mmol)、およびトリエチルアミン 100mg(0.98mmol)を合わせて、実施例16に記載したように反応させて、 油状物質147mgを得た。この物質をヘキサン/EtOAc 19:1〜ヘキサン/Et OAc 1:1のグラジエント溶媒で溶出するシリカゲルクロマトグラフィーによっ て精製して、標記化合物33mg(22%)を徐々に結品化する油状物質として得た 。 融点:87−89.5℃。 C1727NO2Sとして計算した: 理論値:C 65.98;H 8.79;N 4.53。 実測値:C 65.78;H 9.01;N 4.35。 実施例26 N−2−(4−(4−メチルフェニル)フェニル)プロピル メタンスルホンアミド トルエン30mlおよび水10ml中の実施例1の生成物1.4g(4.7mmol)、4 −メチルベンゼンホウ酸1.0g(7.1mmol)、炭酸カリウム1.0g(7.1mmol) の脱気溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.3g( 0.2mmol)を加えた。その混合物を100℃まで2時間加熱し、周囲温度まで冷 却して、有機部分を分離した。水性部分を酢酸エチルで3回抽出して、合わせた 有機部分を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物をシリカゲ ルでのクロマトグラフ(30%酢酸エチル/ヘキサン)にかけて、オフホワイ ト色の固体を得た。その固体をジエチルエーテルに縣濁させ、濾過して、減圧下 に乾燥させて、標記化合物0.6g(43%)を得た。 C1721NO2Sに関する分析: 計算値:%C 67.29;%H 6.98;%N 4.62。 実測値:%C 66.98;%H 6.96;%N 4.36。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=307。 実施例27 N−2−(4−ブロモフェニル)プロピル 2−プロピルスルホンアミド ジクロロメタン5ml中の製造例31の生成物0.5g(2.0mmol)の縣濁液に、 トリエチルアミン0.6ml(4.0mmol)を加えた。その混合物を0℃まで冷却して 、イソプロピルスルホニルクロリド0.2ml(2.0mmol)を加えた。0℃で20分 間攪拌した後、その混合物を10%水性重硫酸ナトリウムで1回洗浄して、有機 層を分離した。水層をジクロロメタンで3回抽出した。合わせた有機部分を乾燥 させ(Na2SO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。シリカゲル50gでのクロマトグ ラフィー(35%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.2g(25%)を 得た。 C1218NO2SBrに関する分析: 計算値:%C 45.01;%H 5.67;%N 4.37。 実測値:%C 45.30;%H 5.92;%N 4.43。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+1=321。 実施例28 N−2−(4−(3−チエニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド A.N−2−(4−(3−チエニル)フェニル)−N−t−ブトキシカルボニルプロ ピルアミン: ジオキサン75mlおよび水25ml中の製造例4から得られた物質8.2g(26 .0mmol)、チオフェン−3−ホウ酸4.0g(31.2mmol)、および炭酸カリウム 5.3g(39.0mmol)の脱気溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラ ジウム(0)1.5g(1.3mmol)を加えた。その混合物を90℃で18時間加熱し た。その混合物を周囲温度まで冷却して、水200mlおよびエーテル100mlを 加えた。有機層を分離して、水層を各々エーテル60mlで3回抽出した。合わせ た有機抽出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロ マトグラフィー(シリカゲル500g、10%酢酸エチル/ヘキサン)により、標 記化合物7.8g(94%)を得た。 B.2−(4−(3−チエニル)フェニル)プロピルアミン トリフルオロ酢酸塩: 20%トリフルオロ酢酸/ジクロロメタン80ml中の工程Aから得られた物質 7.8g(24.6mmol)の溶液を周囲温度で5時間攪拌した。その混合物を減圧下 に濃縮して、標記化合物8.1g(100%)を得た。 C.ジクロロメタン10ml中の工程Bから得られた物質0.5g(1.5mmol)およ びトリエチルアミン0.52ml(3.7mmol)の溶液を0℃まで冷却した。ジクロロ メタン1ml中のイソプロピルスルホニルクロリド0.17ml(1.5mmol)の溶液を 滴加した。氷浴を取り外して、その混合物を室温で5時間攪拌した。その混合物 を10%水性重硫酸ナトリウム10mlで洗浄し、有機層を分離して、水層をジク ロロメタン5mlで3回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して 、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル25g、35% 酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.100g(21%)を得た。 C1621NO22に関する分析: 計算値:%C 59.41;%H 6.54;%N 4.33。 実測値:%C 59.34;%H 6.34;%N 4.29。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=323。 実施例29 N−2−(4−(3−チエニル)フェニル)プロピル ジメチルスルファミド A.ジクロロメタン10ml中の実施例28の工程Bから得られた物質0.5g(1 .5mmol)およびトリエチルアミン0.52ml(3.70mmol)の溶液を0℃まで冷却 した。ジクロロメタン1ml中のジメチルスルファモイルクロリド0.16ml(1. 5mmol)の溶液を滴加した。氷浴を取り外して、その混合物を周囲温度で5時間 攪拌した。その混合物を10%水性重硫酸ナトリウム10mlで洗浄し、有機層を 分離して、水層をジクロロメタン5mlで3回抽出した。合わせた有機物を乾燥さ せ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物を50%エーテル/ヘキサン に縣濁させて、濾過して、標記化合物0.22g(46%)を得た。 C1520222に関する分析: 計算値:%C 55.53;%H 6.21;%N 8.63。 実測値:%C 55.51;%H 6.21;%N 8.39。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=324。 実施例30 N−2−(4−メトキシフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 標記生成物を実施例13に記載したようにして製造例10の生成物から製造し た。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=271.4。 C1321NO3Sに関する分析: 理論値:C 56.71;H 8.16;N 4.86。 実測値:C 57.54;H 7.80;N 5.16。 実施例31 N−2−(4−メチルフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 標記化合物を実施例13に記載したようにして製造例33の生成物から製造し た。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=255.2。 C1321NO2Sに関する分析: 理論値:C 61.14;H 8.29;N 5.48。 実測値:C 61.23;H 8.35;N 5.30。 実施例32 N−2−(4−イソプロピルフェニル)プロピル エタンスルホンアミド 標記生成物を、イソプロピルスルホニルクロリドの代わりにエタンスルホニル クロリドを使用したことを除き、実施例13に記載したようにして製造例8の生 成物から製造した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=269.1。 C1423NO2Sに関する分析: 理論値:C 62.42;H 8.61;N 5.20。 実測値:C 62.68;H 8.34;N 5.11。 実施例33 N−2−(4−イソプロピルフェニル)プロピル ジメチルスルファミド 標記生成物を、イソプロピルスルホニルクロリドの代わりにジメチルスルファ モイルクロリドを使用したことを除き、実施例13に記載したようにして製造例 8の生成物から製造した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=349.1。 C1423NO2Sに関する分析: 理論値:C 55.00;H 6.35;N 4.01。 実測値:C 54.70;H 6.12;N 3.82。 実施例34 N−2−(4−イソブチルフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 標記生成物を実施例13に記載したようにして2−(4−イソブチルフェニル) プロピルアミン 塩酸塩から製造した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=297.2。 C1627NO2Sに関する分析: 理論値:C 64.61;H 9.15;N 4.71。 実測値:C 64.84;H 9.10;N 4.74。 実施例35 N−2−(4−シクロペンチルフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 標記生成物を実施例15の条件2に記載したようにして((4−ブロモ)−2−メ チルフェネチル)2−プロパンスルホンアミドから製造した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=309.3。 C1727NO2Sに関する分析: 理論値:C 65.98;H 8.79;N 4.53。 実測値:C 66.21;H 9.04;N 4.54。 実施例36 N−2−(4−シクロヘキシルフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 標記生成物を、シクロペンチルマグネシウムブロミドの代わりにシクロヘキシ ルマグネシウムクロリドを使用したことを除き、実施例15の条件2に記載した ようにして実施例27の生成物から製造した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=323.3。 C1829NO2Sに関する分析: 理論値:C 66.83;H 9.04;N 4.33。 実測値:C 67.00;H 9.18;N 4.09。 実施例37 N−2−(3−クロロ−4−ピペリジニルフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 標記生成物を実施例13に記載したようにして2−(3−クロロ−4−ピペリ ジニルフェニル)プロピルアミン 塩酸塩から製造した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=358.2。 C1727ClN22Sに関する分析: 理論値:C 56.89;H 7.58;N 7.80。 実測値:C 57.19;H 7.68;N 8.02。 実施例38 N−2−(−)−(4−ピペリジニルフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 標記生成物を実施例13に記載したようにして(−)−2−(4−ピペリジニル フェニル)プロピルアミン 塩酸塩(Synthesis,6,447,1991)から製造 した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=324.2。 C172822Sに関する分析: 理論値:C 62.93;H 8.70;N 8.63。 実測値:C 63.22;H 8.51;N 8.49。 実施例39 N−2−(+)−((4−ピペリジニルフェニル)プロピル) 2−プロパンスルホンアミド 標記生成物を実施例13に記載したようにして(+)−2−(4−ピペリジニル フェニル)プロピルアミン塩酸塩(Synthesis,6,447,1991)から製造し た。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=324.2。 C172822Sに関する分析: 理論値:C 62.93;H 8.70;N 8.63。 実測値:C 62.68;H 8.45;N 8.72。 実施例40 N−2−(4−ベンジルオキシフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 標記化合物を実施例13に記載したようにして製造例35の生成物から製造し た。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=347.2。 C1925NO3Sに関する分析: 理論値:C 65.68;H 7.25;N 4.03。 実測値:C 65.63;H 7.31;N 4.07。 実施例41 N−2−(4−イソプロポキシフェニル)プロピル2−プロパンスルホンアミド 製造例36の生成物(0.14g、0.40mmol)をジメチルホルムアミドに溶解 して、水素化ナトリウム(0.018g、0.44mmol)を加えた。10分後、2− ブロモプロパン(0.054g、0.44mmol)を加えて、その反応物を周囲温度で 2時間攪拌した。その反応混合物をジエチルエーテルと水との間で分配した。有 機画分をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させて、減圧下に濃縮した 。クロマトグラフィー(SiO2、20%酢酸エチル/ヘキサン)により、アルキル化 物質0.11g(70%)を得た。この物質をジクロロメタンに溶解して、周囲温 度にてトリフルオロ酢酸で処理した。その反応物を水、ブラインで洗浄し、硫酸 マグネシウムで乾燥させて、減圧下に濃縮して、標記生成物0.083gを得た 。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=299.0。 C1525NO3Sに関する分析: 理論値:C 60.17;H 8.42;N 4.68。 実測値:C 58.57;H 8.40;N 4.31。 実施例42 N−2−(4−(2−フルオロフェニル)フェニル)プロピル 2−メタンスルホンアミド ジクロロメタン20ml中の製造例6から得られた物質1.6g(6.5mmol)およ びN,N−ジイソプロピルエチルアミン1.2ml(7.1mmol)の溶液を0℃まで冷 却した。ジクロロメタン1ml中のメタンスルホニルクロリド0.51ml(6.5mmo l)の溶液を滴加した。氷浴を取り外して、その混合物を周囲温度で1時間攪拌し た。その混合物を10%水性重硫酸ナトリウム20mlで洗浄し、有機層を分離 して、水層を1:1ジクロロメタン/エーテル5mlで3回抽出した。合わせた有 機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮して、標記化合物1.9g(1 00%)を得た。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=307。 C1618FNO2Sに関する分析: 理論値:C 62.52;H 5.90;N 4.56。 実測値:C 64.41;H 5.99;N 4.67。 実施例43 N−1−メチル−2−(4−ブロモフェニル)エチル2−メタンスルホンアミド ジクロロメタン50ml中の製造例38の生成物3.0g(14.0mmol)およびト リエチルアミン2.1ml(15.4mmol)の溶液を0℃まで冷却した。ジクロロメタ ン2ml中のメタンスルホニルクロリド1.1ml(14.0mmol)の溶液を滴加した。 次いで、その混合物を0℃で1時間攪拌した。次いで、その混合物を10%水性 重硫酸ナトリウム50mlで洗浄し、有機層を分離して、水層をジエチルエーテル 20mlで3回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下 に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル100g、35%酢酸エ チル/ヘキサン)により、標記化合物1.5g(37%)を得た。 実施例44 N−1−メチル−2−(4−(2−フルオロフェニル)フェニル)エチル 2−メタンスルホンアミド トルエン20ml中の実施例43の生成物1.5g(5.1mmol)、製造例3の生成 物1.1g(7.7mmol)、および炭酸カリウム1.1g(7.7mmol)の脱気溶液に、 テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.3g(0.2mmol)を加え た。その混合物を90℃で18時間加熱した。次いで、それを周囲温度まで冷却 して、水20mlを加えた。有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル10mlで3 回抽出した。合わせた有機抽出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮 した。残留物をジエチルエーテルに縣濁させて、濾過して、標記化合物0. 673g(43%)を得た。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=307。 C1618FNO2Sに関する分析: 理論値:C 62.52;H 5.90;N 4.56。 実測値:C 62.26;H 5.92;N 4.49。 実施例45 N−2−(4−(4−ホルミルフェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジオキサン33mlおよび水11ml中の製造例39から得られた物質2.4g(7 .5mmol)、4−ホルミルフェニルホウ酸1.7g(11.2mmol)、炭酸カリウム1 .6g(11.2mmol)、およびテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム( 0)0.4g(0.4mmol)の脱気溶液を100℃まで一晩加熱した。その混合物を 室温まで冷却し、水20mlで希釈して、各々酢酸エチル50mlで3回抽出した。 合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のク ロマトグラフィー(シリカゲル175g、35%酢酸エチル/ヘキサン)により、 標記化合物1.8g(71%)を得た。 C1923NO3Sに関する分析: 計算値:%C 66.06;%H 6.71;%N 4.05。 実測値:%C 66.23;%H 6.69;%N 4.11。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=345。 実施例46 N−2−(4−(4−(ヒドロキシメチル)フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド エタノール5ml中の実施例45から得られた物質0.5g(1.45mmol)および 水素化ホウ素ナトリウム0.055g(1.45mmol)の溶液を室温で一晩攪拌した 後、減圧下に濃縮した。残留物を水25mlと酢酸エチル25mlとの間で分配し、 有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル25mlで3回以上抽出した。合わせた 有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグ ラフィー(シリカゲル25g、60%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物 1.8g(71%)を得た。 C1925NO3Sに関する分析: 計算値:%C 65.68;%H 7.25;%N 4.03。 実測値:%C 65.40;%H 7.40;%N 4.02。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=347。 実施例47 N−2−(4−(2−ホルミルフェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジオキサン93mlおよび水24ml中の製造例39から得られた物質8.1g(2 5.1mmol)、2−ホルミルフェニルホウ酸4.7g(31.4mmol)、炭酸カリウム 5.2g(37.3mmol)、およびテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム (0)1.5g(1.3mmol)を使用して、実施例45でのようにして製造した。標記 化合物7.5g(86%)を得た。 C1923NO3Sに関する分析: 計算値:%C 66.06:%H 6.71;%N 4.05。 実測値:%C 66.06;%H 6.70;%N 4.10。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=345。 実施例48 N−2−(4−(2−(ヒドロキシメチル)フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド エタノール5ml中の実施例47から得られた物質2.0g(5.8mmol)および水 素化ホウ素ナトリウム0.22g(5.8mmol)を使用して、実施例46でのように して製造した。標記化合物1.7g(84%)を得た。 C1925NO3Sに関する分析: 計算値:%C 65.68;%H 7.25;%N 4.03。 実測値:%C 65.14;%H 6.73;%N 3.76。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=347。 実施例49 N−2−(4−(4−(2−t−ブトキシカルボニルアミノ)エチル)フェニル)− フェニルプロピル 2−プロパンスルホンアミド トルエン15ml中の製造例40から得られた物質2.0g(3.8mmol)および製 造例41から得られた物質1.4g(4.5mmol)の溶液に、テトラキス(トリフェ ニルホスフィン)パラジウム(0)0.2g(0.2mmol)を加えた。その混合物を1 00℃まで6.5時間加熱し、室温まで冷却して、エチルエーテル15mlで希釈 した。その混合物を飽和水性フッ化カリウム15mlで1回洗浄し、有機層を分離 して、水層を各々エチルエーテル10mlで3回抽出した。合わせた有機物を乾燥 させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シ リカゲル100g、30%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.6g( 35%)を得た。 C253624Sに関する分析: 計算値:%C 65.19;%H 7.88;%N 6.08。 実測値:%C 65.29;%H 7.84;%N 5.84。 質量スペクトル:M=460。 実施例50 N−2−(4−(4−(2−アミノエチル)フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 20%トリフルオロ酢酸/ジクロロメタン5ml中の実施例49から得られた物 質0.6g(1.3mmol)の溶液を室温で1.5時間攪拌した。その混合物を減圧下 に濃縮して、残留物をジクロロメタン10mlと5N 水性水酸化ナトリウム5ml との間で分配した。有機層を分離して、水層を各々ジクロロメタン5mlで3回 抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(Na2SO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。 その結果得られた固体をヘキサンに縣濁させ、濾過し、ヘキサンで1回濯いで、 減圧下に周囲温度で乾燥させて、標記化合物0.4g(88%)を得た。 C202822Sに関する分析: 計算値:%C 66.63;%H 7.83;%N 7.77。 実測値:%C 66.93;%H 7.79;%N 7.94。 質量スペクトル:M=360。 実施例51 N−2−(4−(4−(2−メタンスルホンアミドエチル)フェニル)フェニル)− プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジクロロメタン2ml中の実施例50から得られた物質0.1g(0.3mmol)およ びトリエチルアミン0.06ml(0.4mmol)の室温の溶液に、メタンスルホニルク ロリド0.03ml(0.4mmol)を加えた。その混合物を周囲温度で16時間攪拌し た。その反応混合物のクロマトグラフィー(シリカゲル10g、50%酢酸エチ ル/ヘキサン)により、標記化合物0.1g(94%)を得た。 C2130242に関する分析: 計算値:%C 57.51;%H 6.89;%N 6.39。 実測値:%C 57.90;%H 6.72;%N 6.33。 質量スペクトル:M=438。 実施例52 N−2−(4−(4−ヒドロキシメチル)フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド エタノール5ml中の実施例45から得られた物質0.5g(1.5mmol)の溶液に 水素化ホウ素ナトリウム0.06g(1.5mmol)を加えた。その混合物を周囲温度 で16時間攪拌し、減圧下に濃縮して、酢酸エチル10mlと水5mlとの間で分配 した。有機層を分離して、水性部分を各々酢酸エチル5mlで3回抽出した。合わ せた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のク ロマトグラフィー(シリカゲル25g、60%酢酸エチル/ヘキサン)により、標 記化合物0.5g(98%)を得た。 C1925NO3Sに関する分析: 計算値:%C 65.68;%H 7.25;%N 4.03。 実測値:%C 65.40;%H 7.40;%N 4.02。 質量スペクトル:M=347。 実施例53 N−2−(4−シアノフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 無水ジメチルホルムアミド230ml中の製造例39から得られた物質10.0 g(31.2mmol)、シアン化銅(I)11.2g(124.8mmol)、およびヨウ化銅( I)23.8g(124.8mmol)の縣濁液を140℃まで16時間加熱し、周囲温 度まで冷却して、減圧下に濃縮した。残留物を酢酸エチル200mlに縣濁させ、 セライトを通して濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー( シリカゲル500g、35%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物6.4g (77%)を得た。 C131822Sに関する分析: 計算値:%C 58.62;%H 6.81;%N 10.51。 実測値:%C 58.44;%H 6.64;%N 10.23。 質量スペクトル:M=266。 実施例54 N−2−(4−(5−ブロモ[1,2,4]オキサジアゾール−3−イル)− フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド トルエン3ml中の実施例53から得られた物質2.0g(7.5mmol)、製造例4 5から得られた物質0.8g(3.8mmol)、および1.3g(12.0mmol)の縣濁液 を90℃まで7時間加熱し、冷却して、酢酸エチル10mlで希釈した。その混合 物を水10mlで1回洗浄し、有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル5mlで3 回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮 した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル150g、30%酢酸エチル/ ヘキサン)により固体を得、これをエチルエーテルから再結晶化させて、標記化 合物0.06g(4%)を得た。 C14182BrO3Sに関する分析: 計算値:%C 43.31;%H 4.67;%N 10.82。 実測値:%C 43.58;%H 4.65;%N 10.76。 質量スペクトル:M−1=387。 実施例55 N−2−(4−(2−フリル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジオキサン5ml中の実施例27から得られた物質0.5g(1.6mmol)および2 −(トリブチルスタンニル)フラン0.6g(1.7mmol)の溶液に、テトラキス(ト リフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.1g(0.1mmol)を加えた。その混合 物を還流温度まで16時間加熱し、周囲温度まで冷却して、エチルエーテル5ml で希釈した。その混合物を飽和水性フッ化カリウム5mlで1回洗浄し、有機層を 分離して、水性部分を各々エチルエーテル5mlで3回抽出した。合わせた有機物 を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィ ー(シリカゲル25g、25%酢酸エチル/ヘキサン)により黄色の油状物質を得 、これをエチルエーテル/ヘキサンから再結晶化させて、標記化合物0.2g(5 1%)を得た。 C1621NO3Sに関する分析: 計算値:%C 62.51;%H 6.89;%N 4.56。 実測値:%C 62.73;%H 6.90;%N 4.31。 質量スペクトル:M=307。 実施例56 N−2−(4−(4−(2−(N',N'−ジメチルアミノスルホンアミド)− エチル)フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 標記生成物を実施例51に記載したようにしてN,N−ジメチルスルファモイ ル クロリドから製造した。 C2233342に関する分析: 計算値:%C 56.50;%H 7.11;%N 8.99。 実測値:%C 56.21;%H 7.20;%N 8.71。 質量スペクトル:M=467。 実施例57 N−2−(4−(2−(4,5−ジヒドロ)チアゾリル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド エタノール5ml中の実施例53から得られた物質0.2g(0.8mmol)および2 −アミノエタンチオール0.1g(1.5mmol)の溶液を還流温度まで16時間加熱 し、周囲温度まで冷却して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー( シリカゲル25g、50%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.2g( 86%)を得た。 C1522222に関する分析: 計算値:%C 55.18;%H 6.79;%N 8.58。 実測値:%C 55.03;%H 6.73;%N 8.37。 質量スペクトル:M=326。 実施例58 N−2−(4−(4−シアノフェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 75%ジオキサン/水73ml中の実施例27から得られた物質4.0g(12. 4mmol)、製造例42から得られた物質2.0g(13.6mmol)、および炭酸カリ ウム1.9g(13.6mmol)の脱気溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン) パラジウム(0)0.7g(0.6mmol)を加えた。その混合物を100℃まで16時 間加熱し、周囲温度まで冷却し、水30mlで希釈して、各々エチルエーテル35 mlで3回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃 縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル250g、35%酢酸エ チル/ヘキサン)により、標記化合物2.3g(56%)を淡黄色の固体として得た 。クロロブタンからの0.16gの再結晶化により、純粋な標記化合物0.12g を得た。 C192222Sに関する分析: 計算値:%C 66.64;%H 6.48;%N 8.18。 実測値:%C 66.86;%H 6.42;%N 8.09。 質量スペクトル:M=342。 実施例59 N−2−(4−(4−t−ブトキシカルボニルアミノメチル)フェニル)− フェニルプロピル2−プロパンスルホンアミド A.N−2−(4−(4−アミノメチル)フェニル)フェニルプロピル 2−プロパ ンスルホンアミド塩酸塩: 5%炭素に担持させたパラジウム0.2gの存在下、エタノール70mlおよび 1N 塩酸3ml中の実施例58から得られた物質2.2g(6.4mmol)の溶液を周 囲温度および60p.s.i.で16時間水素化した。その混合物を、セライトを通し て濾過して、減圧下に濃縮した。その残留物に1N 塩酸4mlを加えて、その混 合物を減圧下に濃縮した。残留物をエタノール10mlに溶解して、その混合物を 減圧下に濃縮した。残留物を酢酸エチル50mlに縣濁させて、1時間攪拌し、濾 過して、減圧下に乾燥させて、標記化合物1.7g(75%)を得た。 B.ジクロロメタン10ml中の1.1g(3.3mmol)の縣濁液にトリエチルアミン 0.5ml(3.6mmol)を加えて、その混合物を15分間攪拌した。その混合物にジ 炭酸ジ−tert−ブチル0.7g(3.3mmol)を加えて、その混合物を周囲温度で1 6時間攪拌した。その混合物を10%水性重硫酸ナトリウム5mlで1回洗浄し、 有機層を分離して、水層を各々ジクロロメタン5mlで2回抽出した。合わせた有 機物を乾燥させ(Na2SO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラ フィー(シリカゲル75g、30%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0 .5g(32%)を得た。 C243424Sに関する分析: 計算値:%C 64.55;%H 7.67;%N 6.27。 実測値:%C 64.70;%H 7.69;%N 6.39。 質量スペクトル:M=446。 実施例60 N−2−(4−(4−アミノメチル)フェニル)フェニルプロピル 2−プロパンスルホンアミド,トリフルオロ酢酸塩 20%トリフルオロ酢酸/ジクロロメタン5ml中の実施例59から得られた物 質0.5g(1.0mmol)の溶液を周囲温度で2時間攪拌した。その混合物を減圧下 に濃縮し、ジクロロメタン5mlに溶解して、飽和水性重炭酸ナトリウム5mlで洗 浄した。有機層を分離して、水層を各々ジクロロメタン5mlで3回抽出した。合 わせた有機物を乾燥させ(Na2SO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物にジク ロロメタン4mlを加えて、その結果得られた沈殿を濾過し、エチルエーテルで濯 いで、減圧下に60℃で乾燥させて、標記化合物0.2g(49%)を得た。 C192622S・C2HO23に関する分析: 計算値:%C 54.77;%H 5.91;%N 6.08。 実測値:%C 54.70;%H 5.95;%N 6.11。 質量スペクトル:M=346。 実施例61 N−2−(4−(2−チエニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジオキサン7mlおよび水2ml中の実施例27から得られた物質0.5g(1.6m mol)、チオフェン−2−ホウ酸0.3g(2.3mmol)、および炭酸カリウム0.3 g(2.3mmol)の溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0) 0.1g(0.1mmol)を加えた。その混合物を100℃まで16時間加熱し、周囲 温度まで冷却し、水5mlで希釈して、各々エチルエーテル5mlで3回抽出した。 合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物をエ チルエーテルから再結晶化させ、濾過して、減圧下に乾燥させて、標記化合 物0.2g(47%)を得た。 C1621NO22に関する分析: 計算値:%C 59.41;%H 6.54;%N 4.33。 実測値:%C 59.36;%H 6.44;%N 4.11。 質量スペクトル:M=323。 実施例62 N−2−(4−(4−(1−ヒドロキシ−2−メタンスルホンアミドエチル)− フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 14%トリフルオロ酢酸/ジクロロメタン3.5ml中の製造例44(工程D)か ら得られた物質0.3g(0.5mmol)の溶液を周囲温度で4時間攪拌した。トリフ ルオロ酢酸0.5mlを加えて、その混合物を50℃まで2時間加熱した。その混 合物を周囲温度まで冷却して、減圧下に濃縮した。残留物をジクロロメタン5ml に溶解して、飽和水性重炭酸ナトリウム5mlで1回洗浄した。有機層を分離して 、水層を各々ジクロロメタン5mlで3回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(N a2SO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲ ル10g、50%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.1g(51%)を 得た。 C2130252・0.05CHCl3に関する分析: 計算値:%C 54.89;%H 6.58;%N 6.08。 実測値:%C 54.66;%H 6.79;%N 6.27。 質量スペクトル:M=454。 実施例63 N−2−(4−(5−テトラゾリル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例53から得られた物質0.2g(0.8mmol)およびアジドトリブチルスタ ンナン0.5g(1.5mmol)を80℃まで72時間加熱した。その混合物を周囲温 度まで冷却し、飽和メタノール性HCl溶液5mlを加え、その混合物を30分間 攪拌して、減圧下に濃縮した。残留物をアセトニトリル10mlに溶解して、各々 ヘキサン5mlで4回抽出した。アセトニトリル層を減圧下に濃縮して、その結果 得られた固体をエチルエーテル10mlに縣濁させ、濾過して、減圧下に60℃で 乾燥させて、標記化合物0.2g(89%)を得た。 C131952Sに関する分析: 計算値:%C 50.47;%H 6.19;%N 22.64。 実測値:%C 50.19;%H 6.11;%N 22.54。 質量スペクトル:M+1=310。 実施例64 N−2−(4−(5−(2−メチル)テトラゾリル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド N,N−ジメチルホルムアミド2ml中の実施例63から得られた物質0.1g( 0.3mmol)、炭酸カリウム0.07g(0.5mmol)、およびヨウ化メチル0.03m l(0.4mmol)の溶液を80℃まで16時間加熱した。その混合物を周囲温度まで 冷却し、水10mlで希釈して、各々ジクロロメタン5mlで4回抽出した。合わせ た有機物を乾燥させ(Na2SO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマト グラフィー(シリカゲル10g、25%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合 物0.05g(48%)を得た。 C142152Sに関する分析: 計算値:%C 51.99;%H 6.54;%N 21.65。 実測値:%C 52.28;%H 6.54;%N 21.83。 質量スペクトル:M=323。 実施例65 N−2−(4−(2−チアゾリル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジオキサン6ml中の製造例39から得られた物質0.7g(2.1mmol)、製造例 46から得られた物質0.5g(2.2mmol)、およびテトラキス(トリフェニルホ スフィン)パラジウム(0)0.1g(0.1mmol)の溶液を100℃まで16時間加 熱した。その混合物を周囲温度まで冷却し、エチルエーテル10mlで希釈して、 飽和水性フッ化カリウム10mlで1回洗浄した。有機層を分離して、水層を各々 エチルエーテル5mlで3回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過 して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル30g、4 5%酢酸エチル/ヘキサン)により油状物質を得、これをエチルエーテルから結 晶化させ、濾過して、減圧下に60℃で乾燥させて、標記化合物0.3g(41% )を得た。 C1520222に関する分析: 計算値:%C 55.53;%H 6.21;%N 8.63。 実測値:%C 55.75;%H 6.29;%N 8.63。 質量スペクトル:M=324。 実施例66 N−2−(4−(2−(4S−メトキシカルボニル−4,5−ジヒドロ)− チアゾリル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド エタノール5ml中の実施例53から得られた物質0.3g(0.9mmol)、L−シ ステイン メチルエステル 塩酸塩0.3g(1.9mmol)、およびトリエチルアミン 0.3ml(1.9mmol)の溶液を還流温度まで16時間加熱した。その混合物を周囲 温度まで冷却して、減圧下に濃縮した。残留物を酢酸エチル5mlに溶解して、水 5mlで1回洗浄した。有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル5mlで3回抽出 した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。 残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル10g、45%酢酸エチル/ヘキサン) により、標記化合物0.05g(15%)を得た。 質量スペクトル:M=384。 実施例67 N−2−(4−(2−(4R−メトキシカルボニル−4,5−ジヒドロ)− チアゾリル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド エタノール5ml中の実施例53から得られた物質0.3g(0.9mmol)、D−シ ステイン メチルエステル 塩酸塩0.2g(1.4mmol)、およびトリエチルアミン 0.2ml(1.4mmol)の溶液を還流温度まで16時間加熱した。その混合物にD− システイン メチルエステル 塩酸塩0.16g(0.9mmol)およびトリエチルアミ ン0.14ml(0.9mmol)を加えて、7時間還流し続けた。その混合物を周囲温度 まで冷却して、減圧下に濃縮した。残留物を酢酸エチル5mlに溶解して、水5ml で1回洗浄した。有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル5mlで3回抽出した 。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物の クロマトグラフィー(シリカゲル10g、45%酢酸エチル/ヘキサン)により、 標記化合物0.04g(11%)を得た。 C1724242に関する分析: 計算値:%C 53.10;%H 6.29;%N 7.29。 実測値:%C 52.99;%H 6.35;%N 7.49。 質量スペクトル:M=384。 実施例68 N−(2−(4−(4−(2−(2−プロパン)スルホンアミド)エチル)− フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジクロロメタン1ml中の実施例50から得られた物質0.1g(0.3mmol)およ びトリエチルアミン0.07ml(0.5mmol)の溶液に、イソプロピルスルホニルク ロリド0.04ml(0.3mmol)を加えた。その混合物を周囲温度で16時間攪拌し た。その混合物を10%水性重硫酸ナトリウム1.5mlで1回洗浄し、有機層を 分離して、水層を各々ジクロロメタン1mlで2回抽出した。合わせた有機物を乾 燥させ(Na2SO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー( シリカゲル10g、50%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.05g (39%)を得た。 C2334242に関する分析: 計算値:%C 59.20;%H 7.34;%N 6.00。 実測値:%C 59.08;%H 7.33;%N 5.76。 質量スペクトル:M=466。 実施例69 N−2−(4−(5−ホルミルチエン−3−イル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジオキサン3ml中の製造例40から得られた物質0.4g(0.8mmol)および4 −ブロモ−2−チオフェンカルボキシアルデヒド0.09ml(0.8mmol)の脱気溶 液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.05g(0.04m mol)を加えた。その混合物を100℃まで16時間加熱し、周囲温度まで冷却し て、酢酸エチル3mlで希釈した。その混合物を飽和水性フッ化カリウム3mlで1 回洗浄した。有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル3mlで3回抽出した。合 わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロ マトグラフィー(シリカゲル25g、35%酢酸エチル/ヘキサン)により固体を 得、これをエチルエーテルに縣濁させ、濾過して、減圧下に乾燥させて、標記化 合物0.1g(42%)を得た。 C1721NO32に関する分析: 計算値:%C 58.09;%H 6.02;%N 3.99。 実測値:%C 58.29;%H 6.04;%N 3.71。 質量スペクトル:M=351。 実施例70 N−2−(4−(5−ヒドロキシメチルチエン−3−イル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド エタノール2ml中の実施例69から得られた物質0.09g(0.3mmol)の溶液 に水素化ホウ素ナトリウム0.01g(0.3mmol)を加えた。その混合物を周囲温 度で16時間攪拌して、減圧下に濃縮した。残留物を酢酸エチル5mlと水5mlと の間で分配した。有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル3mlで3回抽出した 。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物の クロマトグラフィー(シリカゲル1g、50%酢酸エチル/ヘキサン)により、標 記化合物0.06g(69%)を得た。 質量スペクトル:M=353。 実施例71 N−2−(4−(4−(1−ヒドロキシエチル)フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 周囲温度で、テトラヒドロフラン3ml中の実施例45から得られた物質0.2 g(0.41mmol)の溶液に、エチルエーテル中のメチルマグネシウムブロミドの 3.0M 溶液0.3ml(0.9mmol)を加えた。その混合物を16時間攪拌し、水5 mlで希釈して、各々酢酸エチル5mlで4回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ (MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲ ル10g、45%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.1g(74%)を 得た。 C2027NO3S・0.2CHCl3に関する分析: 計算値:%C 62.96;%H 7.11;%N 3.63。 実測値:%C 63.31;%H 7.02;%N 3.62。 質量スペクトル:M=361。 実施例72 N−2−(4−(4−(1−ヒドロキシプロピル)フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 周囲温度で、テトラヒドロフラン4ml中の実施例45から得られた物質0.3 g(0.7mmol)の溶液に、エチルエーテル中のエチルマグネシウムブロミドの3. 0M 溶液0.5ml(1.5mmol)を加えた。その混合物を16時間攪拌し、半飽和 ブライン5mlで希釈して、各々酢酸エチル5mlで4回抽出した。合わせた有機物 を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラ フィー(シリカゲル15g、50%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0 .1g(42%)を得た。 C2129NO3Sに関する分析: 計算値:%C 67.17;%H 7.78;%N 3.73。 実測値:%C 66.95;%H 7.69;%N 3.59。 質量スペクトル:M=375。 実施例73 N−2−(4−(4−カルボキシフェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 75%ジオキサン/水20ml中の製造例39から得られた物質1.0g(3.1m mol)、4−カルボキシフェニルホウ酸0.8g(4.7mmol)、および炭酸カリウム 0.7g(4.7mmol)の脱気溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジ ウム(0)0.2g(0.2mmol)を加えた。その混合物を100℃まで16時間加熱 し、周囲温度まで冷却して、10%水性重硫酸ナトリウム15mlで希釈した。そ の混合物を各々酢酸エチル20mlで3回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(M gSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。クロロブタンからの残留物の再結晶化に より、標記化合物0.4g(37%)を得た。試料0.1gを再結晶化させて、純粋 な標記化合物0.07gを得た。 C1923NO4Sに関する分析: 計算値:%C 63.14;%H 6.41;%N 3.88。 実測値:%C 63.25;%H 6.42;%N 3.79。 質量スペクトル:M=361。 実施例74 N−2−(4−(4−カルバモイルフェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジクロロメタン5ml中の実施例73から得られた物質0.3g(0.9mmol)およ び4−メチルモルホリン0.1ml(0.9mmol)の0℃の溶液に、クロロギ酸イソブ チル0.1ml(0.9mmol)を加えて、その混合物を0℃で30分間攪拌した。その 混合物の3分の1を、0℃で、メタノール中の2.0M アンモニア2mに加えて 、冷却浴を取り外した。20分後、その結果得られた固体を濾過して、減圧下に 60℃で乾燥させて、標記化合物0.034g(33%)を得た。 C192423に関する分析: 計算値:%C 63.31;%H 6.71;%N 7.77。 実測値:%C 63.68;%H 6.85;%N 7.61。 質量スペクトル:M=360。 実施例75 N−2−(4−(4−メチルカルバモイルフェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジクロロメタン5ml中の実施例73から得られた物質0.9g(2.4mmol)およ び4−メチルモルホリン0.3ml(2.5mmol)の0℃の溶液に、クロロギ酸イソブ チル0.3ml(2.5mmol)を加えて、その混合物を0℃で30分間攪拌した。その 混合物に、0℃で、40%水性メチルアミン10mlを加えて、冷却浴を取り外し た。1時間後、水10mlを加え、有機層を分離して、水層を各々ジクロロメタン 5mlで2回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に 濃縮した。メタノール/クロロブタンからの再結晶化により、標記化合物0.4 g(44%)を得た。 C202623Sに関する分析: 計算値:%C 64.14;%H 7.00;%N 7.48。 実測値:%C 63.97;%H 6.92;%N 7.33。 質量スペクトル:M=374。 実施例76 N−2−(4−(4−ジメチルカルバモイルフェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジクロロメタン5ml中の実施例73から得られた物質0.3g(0.9mmol)およ び4−メチルモルホリン0.1ml(0.9mmol)の0℃の溶液に、クロロギ酸イソブ チル0.1ml(0.9mmol)を加えて、その混合物を0℃で30分間攪拌した。その 混合物の3分の1を、0℃で、テトラヒドロフラン中の2.0Mジメチルアミン 2mに加えて、冷却浴を取り外した。25分後、その混合物を酢酸エチル5mlで 希釈して、水5mlで1回洗浄した。有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル2 mlで3回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃 縮した。残留物をエチルエーテルから結晶化させ、濾過して、減圧下に60℃で 乾燥させて、標記化合物0.04g(36%)を得た。 C212823Sに関する分析: 計算値:%C 64.92;%H 7.26;%N 7.21。 実測値:%C 64.84;%H 7.19;%N 6.92。 質量スペクトル:M=388。 実施例77 N−2−(4−(4−アセチルフェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 75%ジオキサン/水20ml中の製造例39から得られた物質1.0g(3.1m mol)、4−アセチルフェニルホウ酸0.8g(4.7mmol)、および炭酸カリウム0 .7g(4.7mmol)の脱気溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウ ム(0)0.2g(0.2mmol)を加えた。その混合物を100℃まで4.5時間加熱 し、周囲温度まで冷却して、水15mlで希釈した。その結果得られた固体を濾過 し、乾燥させて、クロロブタンから再結晶化させて、標記化合物0.7g(65% )を得た。 C2025NO3Sに関する分析: 計算値:%C 66.82;%H 7.01;%N 3.90。 実測値:%C 66.95;%H 7.16;%N 3.63。 質量スペクトル:M=359。 実施例78 N−2−(4−(2−(5−ホルミル)チエニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジオキサン3ml中の製造例40から得られた物質0.4g(0.8mmol)および5 −ブロモ−2−チオフェンカルボキシアルデヒド0.09ml(0.8mmol)の脱気溶 液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.05g(0.04m mol)を加えた。その混合物を100℃まで16時間加熱し、5−ブロモ−2−チ オフェンカルボキシアルデヒド0.04ml(0.4mmol)を加えて、6時間加熱し続 けた。その混合物を周囲温度まで冷却して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマ トグラフィー(シリカゲル25g、35%酢酸エチル/ヘキサン)により固体を得 、これをエチルエーテルに縣濁させ、濾過して、減圧下に乾燥させて、標記化合 物0.06g(24%)を得た。 C1721NO32に関する分析: 計算値:%C 58.09;%H 6.02;%N 3.99。 実測値:%C 58.22;%H 6.07;%N 3.69。 質量スペクトル:M=351。 実施例79 N−2−(4−(2−(5−ヒドロキシメチル)チエニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド エタノール1ml中の実施例78から得られた物質0.03g(0.08mmol)の溶 液に水素化ホウ素ナトリウム0.003g(0.08mmol)を加えた。その混合物を 周囲温度で2時間攪拌し、減圧下に濃縮して、酢酸エチル2mlと水2mlとの間で 分配した。有機層を分離して、水性部分を各々酢酸エチル1mlで3回抽出した。 合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のク ロマトグラフィー(シリカゲル1g、35%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記 化合物0.02g(64%)を得た。 C1723NO32・0.05CHCl3に関する分析: 計算値:%C 56.97;%H 6.46;%N 3.90。 実測値:%C 57.13;%H 6.34;%N 3.75。 質量スペクトル:M=353。 実施例80 N−2−(4−(2−(5−メトキシカルボニル)チアゾリル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジクロロメタン15ml中の実施例66から得られた物質2.0g(5.2mmol)お よび1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7−エン0.9ml(5.8mmol) の0℃の溶液に、ブロモトリクロロメタン0.5ml(5.8mmol)を8分かけて滴加 した。その混合物を0℃で2時間攪拌して、飽和水性塩化アンモニウム10mlで 1回洗浄した。有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル10mlで2回抽出した 。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物の クロマトグラフィー(シリカゲル100g、35%酢酸エチル/ヘキサン)により 、標記化合物1.5g(76%)を得た。 C1722242に関する分析: 計算値:%C 53.38;%H 5.80;%N 7.32。 実測値:%C 53.08;%H 5.94;%N 7.18。 質量スペクトル:M=382。 実施例81 N−2−(4−(2−アミノフェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド トルエン3ml中の製造例40から得られた物質0.5g(0.9mmol)および2− ブロモアニリン0.2g(0.9mmol)の脱気溶液に、テトラキス(トリフェニルホ スフィン)パラジウム(0)0.06g(0.05mmol)を加えた。その混合物を10 0℃まで16時間加熱し、その後、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジ ウム(0)0.03g(0.03mmol)を加えて、16時間加熱し続けた。その混合物 を周囲温度まで冷却して、クロマトグラフィー(シリカゲル25g、35%酢酸 エチル/ヘキサン)にかけて油状物質を得、これをクロロブタン/ヘキサンから 結晶化させて、標記化合物0.06g(20%)を得た。 C182422Sに関する分析: 計算値:%C 65.03;%H 7.28;%N 8.43。 実測値:%C 65.17;%H 7.40;%N 8.29。 質量スペクトル:M=332。 実施例82 N−2−(4−(4−フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 75%ジオキサン/水9ml中の製造例39から得られた物質0.5g(1.6mmo l)、フェニルホウ酸0.3g(2.3mmol)、および炭酸カリウム0.3g(2.3mmo l)の脱気溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.09 g(0.08mmol)を加えた。その混合物を100℃まで16時間加熱し、周囲温 度まで冷却して、水5mlで希釈した。その混合物を各々酢酸エチル5mlで3回抽 出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。 残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル25g、25%酢酸エチル/ヘキサン) により、標記化合物0.4g(71%)を得た。 C1823NO2Sに関する分析: 計算値:%C 68.14;%H 7.30;%N 4.41。 実測値:%C 67.81;%H 7.23;%N 4.61。 質量スペクトル:M=317。 実施例83 N−2−(4−(2−(5−カルボキシ)チアゾリル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 4:1メタノール/テトラヒドロフラン25ml中の実施例80から得られた物 質1.4g(3.7mmol)の溶液に1N 水性水酸化ナトリウム4.1ml(4.1mmol) を加えた。5時間後、1N 水性水酸化ナトリウム1.0ml(1.0mmol)を加え た。その混合物を16時間攪拌して、減圧下に濃縮した。残留物を水25mlに溶 解して、エチルエーテルで1回抽出した。有機層を捨てて、水層を10%水性重 硫酸ナトリウムでpH2まで酸性とした。水層を各々酢酸エチル25mlで4回抽 出して、合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。そ の結果得られた固体をエチルエーテルに縣濁させ、濾過して、減圧下に乾燥させ て、標記化合物1.0g(70%)を得た。試料0.2gをメタノール/酢酸エチル から再結晶化させて、純粋な標記化合物0.1gを得た。 C1620222に関する分析: 計算値:%C 52.15;%H 5.47;%N 7.60。 実測値:%C 52.24;%H 5.40;%N 7.42。 質量スペクトル:M=368。 実施例84 N−2−(4−(4−(2−シアノエテニル)フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド テトラヒドロフラン2ml中の水素化ナトリウム(ヘキサンで3回洗浄した)0. 4g(10.4mmol)の縣濁液に、シアノメチルホスホン酸ジエチル1.6ml(10. 4mmol)を加えた。その混合物を周囲温度で15分間攪拌した。その混合物に、 テトラヒドロフラン15ml中の実施例45から得られた物質3.0g(8.7mmol) の溶液を加えた。2時間攪拌した後、その混合物を水25mlで希釈して、各々エ チルエーテル20mlで3回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過 して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル150g、 35%酢酸エチル/ヘキサン)により白色の固体を得、これをエチルエーテルに 縣濁させ、濾過して、減圧下に乾燥させて、標記化合物2.5g(79%)を得た 。 C212422Sに関する分析: 計算値:%C 68.45;%H 6.56;%N 7.60。 実測値:%C 68.65;%H 6.49;%N 7.55。 質量スペクトル:M=368。 実施例85 N−2−(4−(3−(2−ブロモ)チエニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 1:1 クロロホルム/酢酸0.5ml中の実施例28から得られた物質0.1g( 0.3mmol)の溶液に、1:1 クロロホルム/酢酸1ml中のN−ブロモスクシン イミド0.06g(0.3mmol)の縣濁液を加えた。その混合物を周囲温度で1時間 攪拌して、水1.5mlで希釈した。有機層を分離し、1N 水性水酸化ナトリウム で1回洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物をジク ロロメタン1mlに溶解し、35%酢酸エチル/ヘキサンで溶出するシリカゲルの プラグを通して濾過して、減圧下に濃縮して、標記化合物0.1g(72%)を得 た。 C1620NO22Brに関する分析: 計算値:%C 47.76;%H 5.01;%N 3.48。 実測値:%C 48.02;%H 5.22;%N 3.48。 質量スペクトル:M+2=404。 実施例86 N−2−(4−(4−(2−(N−(t−ブトキシカルボニル)− メチルスルホンアミド)エタノイル)フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド A.N−(4−トリ−n−ブチルスタンニルフェニル)カルボニルメチル−N−t− ブトキシカルボニル−メタンスルホンアミド: トルエン35ml中の製造例44(工程B)から得られた物質5.0g(12.7mmo l)、ビス(トリブチルスズ)7.1ml(14.0mmol)、およびトリエチルアミン2. 0ml(14.0mmol)の脱気溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジ ウム(0)0.7g(0.6mmol)を加えた。その混合物を還流温度まで16時間加熱 し、周囲温度まで冷却して、酢酸エチル35mlで希釈した。その混合物を10% 水性重硫酸ナトリウム30mlで1回洗浄し、有機層を分離して、水層を各々酢酸 エチル15mlで3回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過 して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル200g、 5%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物2.2g(28%)を得た。 C2645NO5SSnに関する分析: 計算値:%C 51.84;%H 7.53;%N 2.33。 実測値:%C 52.12;%H 7.56;%N 2.57。 質量スペクトル:M+2=604。 B.トルエン10ml中の製造例39から得られた物質1.1g(3.5mmol)、工程 Aから得られた物質2.1g(3.5mmol)の脱気溶液に、テトラキス(トリフェニ ルホスフィン)パラジウム(0)0.2g(0.2mmol)を加えた。その混合物を92 ℃まで16時間加熱し、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0 .2g(0.2mmol)を加えて、4時間加熱し続けた。その混合物を周囲温度まで冷 却して、酢酸エチル5mlで希釈した。飽和水性フッ化カリウム5mlを加えて、そ の混合物を1時間攪拌した。その混合物を、珪藻土を通して濾過し、有機層を分 離して、水層を各々酢酸エチル5mlで3回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ (MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲ ル50g、40%酢酸エチル/ヘキサン)により黄褐色の固体を得、これをエチ ルエーテルに縣濁させて、減圧下に乾燥させて、標記化合物0.2g(10%)を 得た。 C2636272に関する分析: 計算値:%C 56.50;%H 6.57;%N 5.07。 実測値:%C 56.56;%H 6.73;%N 5.18。 質量スペクトル:M=552。 実施例87 N−2−(4−(4−(2−メタンスルホンアミド)エタノイル)フェニル)− フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 20%トリフルオロ酢酸/ジクロロメタン2.5ml中の実施例86から得られ た物質0.2g(0.3mmol)の溶液を周囲温度で1.5時間攪拌した。その混合物 を減圧下に濃縮し、ジクロロメタン5mlに溶解して、飽和水性重炭酸ナトリウム 5mlで洗浄した。有機層を分離して、水層を各々ジクロロメタン5mlで3回抽出 した。合わせた有機物を乾燥させ(Na2SO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。 残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル10g、60%酢酸エチル/ヘキサン) により、標記化合物0.1g(60%)を得た。 C2128252に関する分析: 計算値:%C 55.73;%H 6.24;%N 6.19。 実測値:%C 55.44;%H 6.17;%N 6.15。 質量スペクトル:M=452。 実施例88 N−2−(4−(4−(4−(1,1−ジオキソテトラヒドロ)−1,2− チアジニル)フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 20%ジオキサン/トルエン2ml中の製造例49から得られた物質0.1g(0 .4mmol)および製造例40から得られた物質0.2g(0.4mmol)の溶液に、酢酸 パラジウム(II)4mg(0.02mmol)およびトリフェニルホスフィン9mg(0.04m mol)を加えた。その混合物を100℃まで16時間加熱して、製造例40から得 られた物質0.1g(0.2mmol)を加えた。8時間加熱し続けた。その混合物を周 囲温度まで冷却し、酢酸エチル2mlで希釈して、飽和水性フッ化カリウム1mlを 加えた。1時間攪拌した後、有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル1mlで3 回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した 。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル10g、40%酢酸エチル/ヘキサ ン)により、標記化合物0.04g(22%)を得た。 C2230242に関する分析: 計算値:%C 58.64;%H 6.71;%N 6.22。 実測値:%C 58.34;%H 6.77;%N 6.06。 質量スペクトル:M−1=449。 実施例89 N−2−(4−(5−(3−ベンジル)テトラゾリル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド N,N−ジメチルホルムアミド4ml中の実施例63から得られた物質0.2g( 0.7mmol)、炭酸カリウム0.1g(1.0mmol)、および臭化ベンジル0.09ml( 0.7mmol)の溶液を80℃まで4時間加熱した。その混合物を周囲温度まで冷却 し、水10mlで希釈して、各々ジクロロメタン5mlで4回抽出した。合わせた有 機物を乾燥させ(Na2SO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラ フィー(シリカゲル20g、35%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0 .2g(79%)を得た。 C202552Sに関する分析: 計算値:%C 60.13;%H 6.31;%N 17.53。 実測値:%C 60.36;%H 6.17;%N 17.71。 質量スペクトル:M+1=400。 実施例90 N−2−(4−(2−(4,5−ジヒドロ−4−メトキシカルボニル−5,5− ジメチル)チアゾリル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド エタノール8ml中の実施例53から得られた物質0.3g(0.9mmol)、製造例 50から得られた物質0.5g(2.4mmol)、およびトリエチルアミン0.3ml(2 .4mmol)の溶液を還流温度まで16時間加熱した。その混合物を周囲温度まで冷 却して、減圧下に濃縮した。残留物を酢酸エチル10mlに溶解して、水10mlで 1回洗浄した。有機層を分離して、水性部分を各々酢酸エチル5mlで3回抽出し た。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物 のクロマトグラフィー(シリカゲル15g、35%酢酸エチル/ヘキサン)により 、標記化合物0.17g(43%)を得た。 C1928242に関する分析: 計算値:%C 55.31;%H 6.84;%N 6.79。 実測値:%C 55.35;%H 6.95;%N 6.64。 質量スペクトル:M=412。 実施例91 N−2−(4−(5−(2−エチル)テトラゾリル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 標記化合物を、ヨードメタンの代わりにヨードエタンを使用したことを除き、 実施例64に記載したようにして実施例63の生成物から製造した。 C152352Sに関する分析: 計算値:%C 53.39;%H 6.87;%N 20.75。 実測値:%C 53.49;%H 6.89;%N 20.45。 質量スペクトル:M+1=338。 実施例92 N−2−(4−(5−(2−(2−プロピル))テトラゾリル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 標記化合物を、ヨードメタンの代わりに2−ヨードプロパンを使用したことを 除き、実施例64に記載したようにして実施例63の生成物から製造した。 C162552Sに関する分析: 計算値:%C 54.68;%H 7.17;%N 19.93。 実測値:%C 54.78;%H 6.93;%N 19.76。 質量スペクトル:M+1=352。 実施例93 N−2−(4−(5−(2−プロプ−3−エニル)テトラゾリル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 標記化合物を、ヨードメタンの代わりに臭化アリルを使用したことを除き、実 施例64に記載したようにして実施例63の生成物から製造した。 C162352Sに関する分析: 計算値:%C 54.99;%H 6.63;%N 20.04。 実測値:%C 54.99;%H 6.40;%N 19.77。 質量スペクトル:M+1=350。 実施例94 N−2−(4−(4−アミノフェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド A.N−2−(4−(4−t−ブトキシカルボニルアミノフェニル)フェニル)プロ ピル 2−プロパンスルホンアミド: トルエン10ml中の実施例39から得られた物質0.9g(2.9mmol)、製造例 51から得られた物質1.4g(2.8mmol)、およびテトラキス(トリフェニルホ スフィン)パラジウム(0)0.2g(0.1mmol)の脱気溶液を還流温度まで5時間 加熱した。その混合物を周囲温度まで冷却して、減圧下に濃縮した。残留物のク ロマトグラフィー(シリカゲル100g、30%酢酸エチル/ヘキサン)により、 標記化合物0.15g(12%)を得た。 質量スペクトル:M=432。 B.20%トリフルオロ酢酸/ジクロロメタン2.5ml中の工程Aから得られた 物質0.2g(0.5mmol)の溶液を周囲温度で2時間攪拌した。その混合物を減圧 下に濃縮し、ジクロロメタン2mlに溶解して、飽和水性重炭酸ナトリウム1mlで 1回洗浄した。有機層を分離して、水層を各々ジクロロメタン1mlで3回抽出し た。合わせた有機物を乾燥させ(Na2SO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物 をクロロブタン/ヘキサンから結晶化させて、標記化合物0.03g(20%)を 得た。 C182422Sに関する分析: 計算値:%C 65.03;%H 7.28;%N 8.43。 実測値:%C 65.11;%H 7.52;%N 8.23。 質量スペクトル:M=350。 実施例95 N−2−(4−(3−フリル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジオキサン10ml中の製造例39から得られた物質0.8g(2.6mmol)および 3−(トリブチルスタンニル)フラン1.0g(2.9mmol)の溶液に、テトラキス( トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.2g(0.1mmol)を加えた。その混 合物を還流温度まで4時間加熱し、周囲温度まで冷却して、水10mlで希釈した 。その混合物を各々エチルエーテル10mlで3回抽出した。合わせた有機物を乾 燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シ リカゲル25g、25%酢酸エチル/ヘキサン)により固体を得、これをヘキサ ンに縣濁させ、濾過して、減圧下に乾燥させて、標記化合物0.3g(42%)を 得た。 C1621NO3Sに関する分析: 計算値:%C 62.51;%H 6.89;%N 4.56。 実測値:%C 62.64;%H 6.92;%N 4.69。 質量スペクトル:M=307。 実施例96 N−2−(4−(2−(4−ヒドロキシメチル)チアゾリル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド テトラヒドロフラン6ml中の実施例83から得られた物質0.8g(2.0mmol) の0℃の溶液に、10M ボランジメチルスルフィド0.4ml(4.1mmol)を加え た。その混合物を0℃で30分間攪拌して、周囲温度まで16時間温めた。その 混合物に飽和水性重炭酸ナトリウム3mlを徐々に加えた。その混合物を水10ml で希釈して、各々酢酸エチル10mlで4回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ (MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物を、シリカゲル5gを通して濾 過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル2g、5 0%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.03g(4%)を得た。 C1622232・0.05CHCl3に関する分析: 計算値:%C 53.48;%H 6.17;%N 7.77。 実測値:%C 53.31;%H 6.46;%N 7.93。 質量スペクトル:M=354。 実施例97 N−2−(4−(4−フルオロフェニル)フェニル)プロピル メタンスルホンアミド トルエン30ml中の実施例1から得られた物質1.5g(5.1mmol)、炭酸カリ ウム1.1g(7.7mmol)、および4−フルオロベンゼンホウ酸1.1g(7.7mmo l)の脱気溶液に、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)0.2 g(0.3mmol)を加えた。その混合物を100℃まで16時間加熱して、周囲温 度まで冷却した。その混合物を酢酸エチル20mlで希釈し、珪藻土を通して濾過 して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル50g、3 0%酢酸エチル/ヘキサン)により白色の固体を得、これをエチルエーテルに縣 濁させ、濾過して、クロロブタンから再結晶化させて、標記化合物0.2g(12 %)を得た。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=307。 実施例98 N−2−(4−(2,3−ジフルオロフェニル)フェニル)プロピル メタンスルホンアミド トルエン5ml中の製造例52から得られた物質0.4g(0.8mmol)、2,3− ジフルオロフェニル トリフルオロメタンスルホネート0.2g(0.8mmol)、塩 化リチウム0.1g(2.3mmol)の溶液に、ジクロロビス(トリフェニルホスフィ ン)パラジウム(II)0.03g(0.04mmol)を加えた。その混合物を100℃ま で16時間加熱して、周囲温度まで冷却した。その混合物を酢酸エチル5mlで希 釈して、水5mlで洗浄した。有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル5mlで3 回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮 した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル50g、25%酢酸エチル/ヘ キサン)により油状物質を得、これをジエチルエーテルから結晶化させて、標記 化合物0.1g(37%)を得た。 C1617NO2SF2に関する分析: 計算値:%C 59.06;%H 5.27;%N 4.30。 実測値:%C 59.05;%H 5.14;%N 4.08。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=325。 実施例99 N−2−(4−ブロモフェニル)プロピル トリフルオロメタンスルホンアミド 標記化合物を、イソプロピルスルホニルクロリドの代わりにトリフルオロメタ ンスルホニルクロリドを使用したことを除き、製造例39に記載したようにして 製造例2の生成物から製造した。 C1011NO2SBrF3に関する分析: 計算値:%C 34.70;%H 3.20;%N 4.05。 実測値:%C 34.95;%H 3.32;%N 4.00。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+1=347。 実施例100 N−2−(4−(2−ホルミルフェニル)フェニル)プロピル メタンスルホンアミド 標記化合物を、4−フルオロベンゼンホウ酸の代わりに2−ホルミルベンゼン ホウ酸を使用して、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)の代 わりにテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)を使用したことを除 き、実施例97に記載したようにして実施例1の生成物から製造した。 C1719NO3Sに関する分析: 計算値:%C 64.33;%H 6.03;%N 4.41。 実測値:%C 64.13;%H 5.90;%N 4.40。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=317。 実施例101 N−2−(4−(2−メチルフェニル)フェニル)プロピルメタンスルホンアミド 標記化合物を、2−ホルミルベンゼンホウ酸の代わりに2−メチルベンゼンホ ウ酸を使用して、その反応混合物に水10mlを加えたことを除き、実施例100 に記載したようにして実施例1の生成物から製造した。 C1721NO2Sに関する分析: 計算値:%C 67.29;%H 6.98;%N 4.62。 実測値:%C 67.11;%H 7.18;%N 4.53。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=303。 実施例102 N−2−(4−(4−メトキシフェニル)フェニル)プロピル メタンスルホンアミド 標記化合物を、2−メトキシベンゼンホウ酸の代わりに4−メトキシベンゼン ホウ酸を使用したことを除き、実施例6に記載したようにして実施例1の生成物 から製造した。 C1721NO3Sに関する分析: 計算値:%C 63.92;%H 6.63;%N 4.39。 実測値:%C 63.92;%H 6.50;%N 4.18。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=319。 実施例103 N−2−(4−(3−チエニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジクロロメタン50ml中の製造例53(工程B)から得られた物質3.1g(14 .4mmol)および1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7−エン4.8g( 31.7mmol)の0℃の溶液に、ジクロロメタン10ml中の製造例54から得られ た物質2.8g(15.8mmol)の溶液を加えた。その混合物を0℃で30分間攪拌 し、冷却浴を取り外して、その混合物を1時間攪拌した。その反応混合物を10 %水性重硫酸ナトリウム30mlで1回洗浄した。有機層を分離して、水層を各々 ジ クロロメタン10mlで3回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(Na2SO4)、濾過 して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル300g、 25%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物1.0g(22%)を得た。 C1619NO22に関する分析: 計算値:%C 59.78;%H 5.96;%N 4.36。 実測値:%C 59.90;%H 6.10;%N 4.26。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+1=322。 実施例104 N−2−(4−(ヒドロキシイミノイル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド エチルアルコール6ml中の製造例43から得られた物質0.5g(1.9mmol)お よび塩酸ヒドロキシルアミン0.14g(2.0mmol)の溶液を還流温度まで18時 間加熱した。その混合物を冷却して、減圧下に濃縮した。残留物を水5mlと酢酸 エチル5mlとの間で分配した。有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル5mlで 2回抽出した。合わせた有機抽出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃 縮して、標記化合物0.4g(74%)を得た。 C132023Sに関する分析: 計算値:%C 54.91;%H 7.09;%N 9.85。 実測値:%C 56.04;%H 6.82;%N 10.43。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=284。 実施例105 N−2−(4−(3−(5−ヒドロキシメチル)イソオキサゾリル)フェニル)− プロピル 2−プロパンスルホンアミド 酢酸エチル3mlおよび水1滴中の実施例104から得られた物質0.3g(1. 0mmol)およびプロパルギルアルコール0.1g(2.0mmol)および重炭酸カリウ ム0.3g(3.0mmol)の溶液に、N−クロロスクシンイミド0.1g(1.0mmol) を加えた。その混合物を室温で18時間攪拌した後、水3mlを加えた。有機層を 分離して、水層を各々酢酸エチル3mlで3回抽出した。合わせた有機抽出物を乾 燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シ リカゲル12g、50%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.037g (11%)を得た。 C162224Sに関する分析: 計算値:%C 56.79;%H 6.55;%N 8.28。 実測値:%C 51.97;%H 5.93;%N 10.96。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=338。 実施例106 N−2−(4−(3−(5−メトキシカルボニル)イソオキサゾリル)フェニル)− プロピル 2−プロパンスルホンアミド A.N−2−(4−(1−ヒドロキシ−2−クロロイミノイル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド: N,N−ジメチルホルムアミド10ml中の実施例104から得られた物質1.0 g(3.5mmol)の溶液にN−クロロスクシンイミド0.5g(3.5mmol)を小さな 固体部分で加えた。その溶液を室温で3時間攪拌した。その混合物を氷40mlに 注ぎ入れて、水層を各々エーテル10mlで3回抽出した。合わせた有機抽出物を 乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮して、標記化合物1.25g(100 %)を得た。 B.酢酸エチル3mlおよび水1滴中の実施例106Aから得られた物質0.5g( 1.mmol)およびプロピオール酸メチル0.3g(3.1mmol)の溶液に、重炭酸カリ ウム0.5g(4.7mmol)を加えた。その混合物を室温で18時間攪拌した後、水 3mlを加えた。有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル3mlで3回抽出した。 合わせた有機抽出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物 のクロマトグラフィー(シリカゲル25g、35%酢酸エチル/ヘキサン)により 、標記化合物0.34g(51%)を得た。 C172225Sに関する分析: 計算値:%C 55.72;%H 6.05;%N 7.64。 実測値:%C 55.95;%H 6.24;%N 7.37。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=366。 実施例107 N−2−(4−(3−(5−カルボキシ)イソオキサゾリル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド メチルアルコール3mlおよび1N 水酸化ナトリウム1ml(1mmol)中の実施例 106Bから得られた物質0.3g(0.8mmol)の溶液を50℃で18時間加熱し た。その混合物に1N 水酸化ナトリウム1ml(1mmol)を加えて、その混合物を 50℃で7時間加熱した。その混合物を冷却して、減圧下に濃縮した。残留物を 水3mlとエーテル3mlとの間で分配した。有機層を分離して、水層を各々エーテ ル3mlで3回洗浄した。水層を濃塩酸でpH=1まで酸性とした。水層を各々エ ーテル3mlで3回抽出した。合わせた有機抽出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して 、減圧下に濃縮して、標記化合物0.11g(39%)を得た。 C162025Sに関する分析: 計算値:%C 54.53;%H 5.72;%N 7.95。 実測値:%C 55.80;%H 5.27;%N 7.74。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=352。 実施例108 N−2−(4−(3−(5−トリメチルシリル)イソオキサゾリル)フェニル)− プロピル 2−プロパンスルホンアミド 酢酸エチル3mlおよび水1滴中の実施例106Aから得られた物質0.5g(1 .6mmol)および(トリメチルシリル)アセチレン0.3g(3.1mmol)の溶液に、重 炭酸カリウム0.5g(4.7mmol)を加えた。その混合物を室温で18時間攪拌し た後、水3mlを加えた。有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル3mlで3回抽 出した。合わせた有機抽出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮 した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル25g、35%酢酸エチル/ヘ キサン)により、標記化合物0.36g(59%)を得た。 C182823SSiに関する分析: 計算値:%C 56.81;%H 7.42;%N 7.36。 実測値:%C 57.63;%H 7.41;%N 7.52。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=380。 実施例109 N−2−(4−(3−(5−アセチル)イソオキサゾリル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 酢酸エチル3mlおよび水1滴中の実施例106Aから得られた物質0.07g( 0.2mmol)および3−ブチン−2−オン0.029g(0.4mmol)の溶液に、重炭 酸カリウム0.066g(0.6mmol)を加えた。その混合物を室温で18時間攪拌 した後、水3mlを加えた。有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル3mlで3回 抽出した。合わせた有機抽出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮し た。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル12g、35%酢酸エチル/ヘキ サン)により、標記化合物0.04g(57%)を得た。 C172224Sに関する分析: 計算値:%C 58.27;%H 6.33;%N 7.99。 実測値:%C 59.08;%H 6.29;%N 7.36。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=350。 実施例110 N−2−(4−(3−(5−(N'−メチルカルバモイル))イソオキサゾリル)− フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジクロロメタン2ml中の実施例107から得られた物質0.1g(0.28mmol) およびN−メチルモルホリン0.03g(0.3mmol)の溶液を0℃まで冷却した。 ジクロロメタン1ml中のクロロギ酸イソブチル0.033ml(0.3mmol)の溶液を 加えて、その混合物を0℃で30分間攪拌した。その混合物を40%メチルア ミンおよび水2mlに注ぎ入れて、0℃で30分間攪拌した。有機層を分離して、 水層を各々酢酸エチル3mlで3回抽出した。合わせた有機抽出物を乾燥させ(MgS O4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル1 2g、50%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.04g(39%)を得 た。 C172334Sに関する分析: 計算値:%C 55.87;%H 6.34;%N 11.50。 実測値:%C 55.97;%H 6.28;%N 11.20。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=365。 実施例111 N−2−(4−(3−イソオキサゾリル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例108から得られた物質0.3g(0.79mmol)および濃水酸化アンモニ ウム0.079mlの溶液を100℃で2時間加熱した。その混合物に濃水酸化ア ンモニウム2滴を加えて、その混合物を100℃で18時間加熱した。その混合 物を冷却して、水5mlとエーテル5mlとの間で分配した。有機層を分離して、水 層を各々エーテル5mlで3回抽出した。合わせた有機抽出物を乾燥させ(MgSO4) 、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル12 g、35%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.038g(16%)を得 た。 C152023Sに関する分析: 計算値:%C 58.42;%H 6.54;%N 9.08。 実測値:%C 58.28;%H 6.67;%N 8.78。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=308。 実施例112 N−2−(4−(3−(5−(2−ヒドロキシ)エチル)イソオキサゾリル)− フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 酢酸エチル3mlおよび水1滴中の実施例106Aから得られた物質0.58g( 1.8mmol)および3−ブチン−1−オール0.25g(3.6mmol)の溶液に、重炭 酸カリウム0.54g(5.4mmol)を加えた。その混合物を室温で18時間攪拌し た後、3−ブチン−1−オール3滴を加えて、2時間攪拌した後、水3mlを加え た。有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル3mlで3回抽出した。合わせた有 機抽出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマト グラフィー(シリカゲル25g、75%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合 物0.24g(38%)を得た。 C172424Sに関する分析: 計算値:%C 57.93;%H 6.86;%N 7.95。 実測値:%C 58.23;%H 6.99;%N 8.14。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=352。 実施例113 N−2−(4−(5−(3−ブロモ)イソオキサゾリル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド A.N−2−(4−エチニルフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド: トルエン20ml中の製造例39から得られた物質2.0g(6.2mmol)およびト リ−n−ブチルスタンニルエチン2.0g(6.2mmol)の溶液に、テトラキス(トリ フェニルホスフィン)パラジウム(0)0.36g(0.3mmol)を加えた。その混合 物を90℃で18時間加熱した。その混合物を冷却して、珪藻土を通して濾過し て、酢酸エチル20mlで濯いで、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィ ー(シリカゲル100g、35%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0. 3g(18%)を得た。 B.酢酸エチル2mlおよび水1滴中の実施例113Aから得られた物質0.3g( 1.1mmol)および製造例45から得られた物質0.1g(0.5mmol)の溶液に、 重炭酸カリウム0.17g(0.7mmol)を加えた。その混合物を室温で18時間攪 拌した後、製造例45から得られた物質0.1g(0.5mmol)を加えて、5時間攪 拌した後、水2mlを加えた。有機層を分離して、乾燥させ(MgSO4)、濾過して、 減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル12g、35%酢 酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.1g(23%)を得た。 C1519BrN23Sに関する分析: 計算値:% C46.52;%H 4.94;%N 7.23。 実測値:% C46.73;%H 5.00;%N 6.94。 フィールドディソープション質量スペクトル:M−1=386。 実施例114 N−2−(4−(2−ピリジル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド トルエン10ml中の製造例39から得られた物質4.3g(13.4mmol)および 2−(トリ−n−ブチルスタンニル)ピリジン4.9g(13.4mmol)の溶液に、テ トラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.78g(0.67mmol)を加 えた。その混合物を90℃で18時間加熱した。次いで、ビス(トリフェニルホ スフィン)パラジウム(II)クロリド0.025g(0.03mmol)を加えて、その混 合物を90℃で18時間加熱した。その混合物を冷却して、減圧下に濃縮した。 残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル400g、50%酢酸エチル/ヘキサ ン)により、標記化合物4.3g(98%)を得た。 C172222S・0.5H2Oに関する分析: 計算値:%C 62.35;%H 7.08;%N 8.55。 実測値:%C 62.05;%H 6.78;%N 8.23。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=318。 実施例115 N−2−(4−(4−ピリジル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジオキサン10ml中の製造例39から得られた物質1.0g(3.1mmol)および 4−(トリ−n−ブチルスタンニル)ピリジン1.1g(3.1mmol)の溶液に、テト ラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.072g(0.062mmol)を 加えた。その混合物を90℃で18時間加熱した。次いで、テトラキス(トリフ ェニルホスフィン)パラジウム(0)0.1g(0.08mmol)および4−(トリ−n− ブチルスタンニル)ピリジン0.5g(1.5mmol)を加えて、その混合物を90℃ で18時間加熱した。その混合物を冷却して、珪藻土を通して濾過して、酢酸エ チル10mlで濯いだ。有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した 。残留物をジクロロメタン10mlに縣濁させて、固体を濾過して、ヘキサン10 mlで洗浄して、標記化合物0.24g(24%)を得た。 C172222Sに関する分析: 計算値:%C 64.12;%H 6.96;%N 8.80。 実測値:%C 63.90;%H 6.71;%N 8.93。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=318。 実施例116 N−2−(4−(3−ピリジル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド トルエン10ml中の製造例39から得られた物質1.0g(3.1mmol)および3 −(トリ−n−ブチルスタンニル)ピリジン1.1g(3.1mmol)の溶液に、テトラ キス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.072g(0.062mmol)を加 えた。その混合物を90℃で18時間加熱した。次いで、テトラキス(トリフェ ニルホスフィン)パラジウム(0)0.1g(0.08mmol)および3−(トリ−n−ブ チルスタンニル)ピリジン0.5g(1.5mmol)を加えて、その混合物を90℃で 18時間加熱した。その混合物を冷却して、珪藻土を通して濾過して、酢酸エチ ル10mlで濯いだ。濾液を減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シ リカゲル75g、75%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.43g( 44%)を得た。 C172222S・0.25H2Oに関する分析: 計算値:%C 63.23;%H 7.02;%N 8.67。 実測値:%C 63.31;%H 7.04;%N 8.01。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=318。 実施例117 N−2−(4−(5−ピリミジニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド A.5−(トリ−n−ブチルスタンニル)ピリミジン: エーテル100ml中の1.6M n−ブチルリチウム19.6ml(31.4mmol)の 溶液を−100℃まで冷却して、エーテル20ml中の5−ブロモピリミジン5g (31.4mmol)の溶液を滴加した。その混合物を−78℃で30分間攪拌した後 、エーテル20ml中のトリ−n−ブチルスタンニルクロリド8.5ml(31.4mmol )を滴加した。その混合物を30分間攪拌した後、水100mlを加えた。有機層 を分離して、水層を各々エーテル30mlで3回抽出した。合わせた有機抽出物を 乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー( シリカゲル250g、50%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物3.3g (28%)を得た。 B.ジオキサン15ml中の製造例39から得られた物質1.4g(4.4mmol)およ び実施例117Aから得られた物質3.3g(8.9mmol)の溶液に、テトラキス( トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.25g(0.2mmol)を加えた。その 混合物を90℃で18時間加熱した。その混合物を冷却して、減圧下に濃縮した 。残留物をアセトニトリル10mlに縣濁させて、固体を濾過して、アセトニトリ ル5mlで洗浄して、標記化合物0.06g(4%)を得た。 C162132Sに関する分析: 計算値:%C 60.16;%H 6.63;%N 13.15。 実測値:%C 60.18;%H 6.62;%N 13.00。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=319。 実施例118 N−2−(4−(3−チエニル)フェニル)エチル 2−プロパンスルホンアミド ジオキサン8mlおよび水2ml中の製造例47から得られた物質1.0g(3.3m mol)、チオフェン−3−ホウ酸0.5g(3.9mmol)、および炭酸カリウム0.7 g(4.9mmol)の溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0) 0.18g(0.16mmol)を加えた。その混合物を90℃で18時間加熱した。そ の混合物を室温まで冷却して、水10mlおよびエーテル10mlを加えた。有機層 を分離して、水層を各々エーテル5mlで3回抽出した。合わせた有機抽出物を乾 燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シ リカゲル50g、35%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.6g(5 9%)を得た。 C1519NO22に関する分析: 計算値:%C 58.22;%H 6.19;%N 4.53。 実測値:%C 58.30;%H 5.96;%N 4.48。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=309。 実施例119 N−2−(4−(4−ホルミルフェニル)フェニル)エチル 2−プロパンスルホンアミド ジオキサン32mlおよび水8ml中の製造例47から得られた物質4.0g(13 .3mmol)、4−ホルミルベンゼンホウ酸2.3g(15.7mmol)、および炭酸カリ ウム2.7g(19.6mmol)の溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラ ジウム(0)0.7g(0.6mmol)を加えた。その混合物を90℃で5時間加熱した 。その混合物を室温まで冷却して、水40mlおよびエーテル40mlを加えた。有 機層を分離して、水層を各々エーテル20mlで3回抽出した。合わせた有機抽出 物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフ ィー(シリカゲル200g、35%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物3 .6g(83%)を得た。 C1821NO3Sに関する分析: 計算値:%C 65.23;%H 6.39;%N 4.23。 実測値:%C 65.38;%H 6.43;%N 4.05。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=331。 実施例120 N−2−(4−(4−ヒドロキシメチルフェニル)フェニル)エチル 2−プロパンスルホンアミド エチルアルコール20ml中の実施例119から得られた物質0.5g(1.5mmo l)の溶液に水素化ホウ素ナトリウム0.056g(1.5mmol)を加えた。その混合 物を周囲温度で2時間攪拌した後、酢酸エチル10mlおよび水10mlを加えた。 有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル5mlで2回抽出した。合わせた有機抽 出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮して、標記化合物0.5g(1 00%)を得た。 C1823NO3Sに関する分析: 計算値:%C 64.84;%H 6.95;%N 4.20。 実測値:%C 64.74;%H 6.92;%N 4.36。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=333。 実施例121 N−2−(4−(4−N'−(2−プロパンスルホニルアニリノ))フェニル)エチル 2−プロパンスルホンアミド A.4−ブロモ−N−(t−ブトキシカルボニル)アニリン: テトラヒドロフラン110ml中の4−ブロモアニリン6.0g(34.9mmol) の溶液に1N ナトリウム ビス(トリメチルシリル)アミド70ml(70mmol)を加 えた。その混合物を15分間攪拌して、ジ炭酸ジ−tert−ブチル7.6g(34. 9mmol)を加えた。その混合物を18時間攪拌した後、減圧下に濃縮した。残留 物を10%水性重硫酸ナトリウム120mlと酢酸エチル120mlとの間で分配し た。有機層を分離して、各々ブライン50mlで2回洗浄した。有機層を乾燥させ (MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲ ル250g、10%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物5.4g(57%) を得た。 B.N−2−(4−(4−N'−(t−ブトキシカルボニルアミノフェニル)フェニル )t−ブトキシカルボニル)プロピルアミン: トルエン10ml中の製造例48から得られた物質1.75g(3.4mmol)および 実施例121Aから得られた物質1.0g(3.4mmol)の溶液に、テトラキス(ト リフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.2g(0.17mmol)を加えた。その混 合物を100℃で18時間加熱した。その混合物を冷却して、水10mlを加えた 。有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル5mlで3回抽出した。合わせた有機 抽出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグ ラフィー(シリカゲル100g、35%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合 物0.2g(14%)を得た。 C.ジクロロメタン4mlおよびトリフルオロ酢酸1ml中の実施例121Bから得 られた物質0.2g(0.48mmol)の溶液を周囲温度で3時間攪拌した。その混合 物を減圧下に濃縮して、残留物をジクロロメタン5mlに溶解して、1,8−ジア ザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7−エン0.15ml(1.0mmol)を加えた。その 溶液を0℃まで冷却して、ジクロロメタン1ml中のイソプロピルスルホニルクロ リド0.06ml(0.5mmol)の溶液を加えた。氷浴を取り外して、その混合物を周 囲温度で4時間攪拌した。その混合物を1N 水性塩酸5mlで洗浄し、有機層を 分離して、水層を酢酸エチル5mlで3回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(M gSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル 12g、50%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.005g(2%)を 得た。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=424。 実施例122 N−2−(4−(4−シアノフェニル)フェニル)エチル 2−プロパンスルホンアミド トルエン10ml中の製造例48から得られた物質1.7g(3.4mmol)および4 −ブロモベンゾニトリル0.6g(3.4mmol)の溶液に、テトラキス(トリフェニ ルホスフィン)パラジウム(0)0.2g(0.17mmol)を加えた。その混合物を1 00℃で18時間加熱した。その混合物を冷却して、固体を濾過して、ヘキサン 10mlで濯いで、標記化合物0.4g(36%)を得た。 C182ON22Sに関する分析: 計算値:%C 65.83;%H 6.14;%N 8.53。 実測値:%C 65.61;%H 5.87;%N 8.44。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=328。 実施例123 N−2−(4−(4−N',N'−ジエチルアミノフェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド A.4−N,N−ジエチルアミノベンゼンホウ酸: テトラヒドロフラン150ml中の4−ブロモ−N,N−ジエチルアニリン10 g(43.8mmol)の溶液を−78℃まで冷却して、1.6M n−ブチルリチウム3 0ml(48.2mmol)を滴加した。その混合物を−78℃で60分間攪拌した後、 ホウ酸トリイソプロピル15.2ml(65.7mmol)を滴加して、60分間攪拌し続 けた。冷却浴を取り外した後、水75mlおよび5N 塩酸をpH=6まで加えて 、18時間攪拌し続けた。水層を分離して、有機層を各々1N 水酸化ナトリウ ム25mlで2回抽出した。合わせた水性抽出物を濃塩酸でpH=7まで酸性とし た。その結果得られた固体を濾過して、メチルアルコール20mlで洗浄して、標 記化合物2.8g(33%)とした。 B.ジオキサン4mlおよび水1ml中の製造例39から得られた物質0.5g(1. 6mmol)、実施例123Aから得られた物質0.36g(1.9mmol)、および炭酸 カリウム0.33g(2.4mmol)の溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン) パラジウム(0)0.09g(0.07mmol)を加えた。その混合物を90℃で18時 間加熱した。その混合物を室温まで冷却して、水10mlおよびエーテル5mlを加 えた。有機層を分離して、水層を各々エーテル5mlで3回抽出した。合わせた有 機抽出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマト グラフィー(シリカゲル25g、25%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合 物0.38g(61%)を得た。 C223222Sに関する分析: 計算値:%C 68.00;%H 8.30;%N 7.21。 実測値:%C 67.70;%H 8.52;%N 6.98。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=388。 実施例124 N−2−(4−(2−フルオロフェニル)フェニル)プロピル 1−クロロメタンスルホンアミド ジクロロメタン10ml中の製造例6から得られた物質0.4g(1.7mmol)およ びトリエチルアミン0.27ml(1.9mmol)の溶液を0℃まで冷却した。ジクロロ メタン1ml中のメタンスルホニルクロリド0.15ml(1.7mmol)の溶液を加えた 。氷浴を取り外して、その混合物を室温で3時間攪拌した。その混合物を10% 水性重硫酸ナトリウム10mlで洗浄し、有機層を分離して、水層を1:1 ジク ロロメタン/エーテル5mlで3回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4) 、濾過して、減圧下に濃縮して、標記化合物0.60g(100%)を得た。 C1617ClFNO2Sに関する分析: 計算値:%C 56.22;%H 5.01;%N 4.10。 実測値:%C 56.55;%H 5.27;%N 4.10。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=341。 実施例125 N−2−(4−(4−(1−(2−(2−プロパン)スルホニルアミノ)− プロピル)フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド トルエン10ml中の製造例40から得られた物質1.3g(2.5mmol)および3 −クロロ−6−メチルピリダジン0.65g(5.0mmol)の溶液に、テトラキス( トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.14g(0.12mmol)を加えた。そ の混合物を90℃で18時間加熱した。その混合物を冷却して、珪藻土を通して 濾過して、酢酸エチル10mlで濯いだ。濾液を減圧下に濃縮した。残留物のクロ マトグラフィー(シリカゲル50g、50%酢酸エチル/ヘキサン)により、標 記化合物0.20g(33%)を得た。 C243624Sに関する分析: 計算値:%C 59.97;%H 7.55;%N 5.83。 実測値:%C 59.67;%H 7.55;%N 5.97。 フィールドディソープション質量スペクトル:M−1=479。 実施例126 N−2−(4−(4−(1−(2−(2−プロパン)スルホニルアミノ)− エチル)フェニル)フェニル)エチル 2−プロパンスルホンアミド ジオキサン20ml中の製造例47から得られた物質1.5g(4.9mmol)、ヘキ サメチル二スズ0.8g(2.4mmol)、および塩化リチウム0.6g(14.7mmol) の溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.1g(0.1m mol)を加えた。その混合物を90℃で18時間加熱した。その混合物を冷却して 、珪藻土を通して濾過して、酢酸エチル10mlで濯いだ。濾液を水10mlで1回 洗浄して、乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマト グラフィー(シリカゲル75g、50%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合 物0.054g(2.5%)を得た。 C2232242に関する分析: 計算値:%C 58.38;%H 7.13;%N 6.19。 実測値:%C 58.54;%H 7.08;%N 5.92。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=452。 実施例127 N−2−(4−(4−(1−(2−シアノ)エテニル)フェニル)フェニル)エチル 2−プロパンスルホンアミド テトラヒドロフラン15ml中のシアノメチルホスホン酸ジエチル1.5g(8. 4mmol)の溶液に1M ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド8.4ml(8.4m mol)を加えた。その混合物を周囲温度で30分間攪拌した後、テトラヒドロフラ ン5ml中の実施例119から得られた物質の溶液を加えた。その混合物を1時 間攪拌して、水20mlで洗浄した。有機層を分離して、水層を酢酸エチル5mlで 3回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮し た。残留物をジクロロメタン5mlに縣濁させて、その結果得られた固体を濾過し て、標記化合物1.2g(56%)を得た。濾液を減圧下に濃縮した。残留物のク ロマトグラフィー(シリカゲル100g、50%酢酸エチル/ヘキサン)により、 標記化合物0.5g(23%)をさらに得た。 C202222Sに関する分析: 計算値:%C 67.77;%H 6.26;%N 7.90。 実測値:%C 67.50;%H 6.21;%N 7.73。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=354。 実施例128 N−2−(4−(4−(1−(3−アミノ)プロピル)フェニル)フェニル)エチル 2−プロパンスルホンアミド塩酸塩 パー(parr)の振盪機中、エチルアルコール75mlおよび5N 塩酸3ml中の実 施例127から得られた物質0.47g(1.3mmol)および5%炭素に担持させた パラジウム0.32gの溶液を60psiの水素および50℃で18時間水素化した 。その混合物を濾過して、減圧下に濃縮した。残留物を1N 塩酸10mlに縣濁 させて、濾過した。アセトニトリルおよびメチルアルコールからの再結晶化によ り、標記化合物0.1g(20%)を得た。 C202922S・0.85HClに関する分析: 計算値:%C 61.20;%H 7.67;%N 7.14。 実測値:%C 61.06;%H 7.70;%N 6.91。 フィールドディソープション質量スペクトル:M−1=360。 実施例129 N−2−(4−(4−(1−(3−(2−プロパン)スルホニルアミノ)− プロピル)フェニル)フェニル)エチル 2−プロパンスルホンアミド ジクロロメタン5ml中の実施例128から得られた物質0.09g(0.2mmol) およびトリエチルアミン0.07ml(0.5mmol)の溶液に、イソプロピルスルホニ ルクロリド0.025ml(0.2mmol)を加えた。その混合物を室温で8時間攪拌し た。その混合物を1N 塩酸5mlで洗浄し、有機層を分離して、水層を酢酸エチ ル5mlで1回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下 に濃縮して、標記化合物0.050g(53%)を得た。 C2334242・0.5CHCl3に関する分析: 計算値:%C 53.62;%H 6.61;%N 5.32。 実測値:%C 53.18;%H 6.78;%N 4.97。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=466。 実施例130 N−2−(4−(3−チエニル)フェニル)プロピル エテンスルホンアミド ジクロロメタン5ml中の製造例53Bから得られた物質0.21g(0.9mmol) および1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7−エン0.15ml(1.0mmo l)の溶液に、2−クロロ−1−エタンスルホニル クロリド0.10ml(1.0mmol )を加えた。その混合物を室温で4時間攪拌した。その混合物を1N 塩酸5mlで 洗浄し、有機層を分離して、水層をエーテル5mlで3回抽出した。合わせた有機 物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフ ィー(シリカゲル10g、25%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0. 2g(71%)を得た。 C1517NO22・0.2CHCl3に関する分析: 計算値:%C 55.10;%H 5.23;%N 4.22。 実測値:%C 55.40;%H 5.10;%N 4.20。 フィールドディソープション質量スペクトル: M−1=306。 実施例131 N−2−(4−(3−チエニル)フェニル)プロピル エタンスルホンアミド 酢酸エチル5ml中の実施例130から得られた物質0.024g(0.078mmo l)および5%炭素に担持させたパラジウム5mgの溶液を水素バルーン下に3回 脱気して、室温で4時間攪拌した。その混合物を濾過して、減圧下に濃縮した。 残留物をエーテルおよびヘキサンから再結晶化させて、標記化合物0.024g( 99%)を得た。 C1519NO22に関する分析: 計算値:%C 58.22;%H 6.19;%N 4.53。 実測値:%C 58.63;%H 5.71;%N 4.32。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+1=310。 実施例132 N−2−(4−(3−アセチルフェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジオキサン28mlおよび水7ml中の製造例39から得られた物質3.2g(10 .2mmol)、3−アセチルベンゼンホウ酸2.0g(12.2mmol)、および炭酸カリ ウム2.1g(15.2mmol)の溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラ ジウム(0)0.59g(0.5mmol)を加えた。その混合物を90℃で18時間加熱 した。その混合物を室温まで冷却して、水30mlおよびエーテル30mlを加えた 。有機層を分離して、水層を各々エーテル10mlで3回抽出した。合わせた有機 抽出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグ ラフィー(シリカゲル150g、35%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合 物2.4g(66%)を得た。 C2025NO3Sに関する分析: 計算値:%C 66.82;%H 7.01;%N 3.89。 実測値:%C 66.38;%H 6.96;%N 3.73。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=359。 実施例133 N−2−(4−(3−(1−ヒドロキシエチル)フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド エチルアルコール5ml中の実施例132から得られた物質0.5g(1.4mmol) の溶液に水素化ホウ素ナトリウム0.05g(1.4mmol)を加えた。その混合物を 周囲温度で2時間攪拌し、減圧下に濃縮した後、酢酸エチル10mlおよび水10 mlを加えた。有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル5mlで3回抽出した。合 わせた有機抽出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物の クロマトグラフィー(シリカゲル40g、50%酢酸エチル/ヘキサン)により、 標記化合物0.3g(65%)を得た。 C2027NO3Sに関する分析: 計算値:%C 66.40;%H 7.53;%N 3.87。 実測値:%C 66.56;%H 7.65;%N 3.92。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=361。 実施例134 N−2−(4−(2−ベンゾチエニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジオキサン4mlおよび水1ml中の製造例39から得られた物質0.5g(1.5m mol)、ベンゾ[b]チオフェン−2−ホウ酸0.3g(1.9mmol)、および炭酸カリ ウム0.3g(2.3mmol)の溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジ ウム(0)0.09g(0.08mmol)を加えた。その混合物を90℃で18時間加熱 した。その混合物を室温まで冷却して、水5mlおよびエーテル5mlおよび酢酸エ チル10mlを加えた。その混合物を減圧下に濃縮して、残留物を酢酸エチル10 mlに溶解して、ブライン10mlで洗浄した。有機層を分離して、乾燥させ(MgSO4 )、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル50 g、35%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.08g(14%)を得た 。 C2023NO22・0.1CHCl3に関する分析: 計算値:%C 62.40;%H 6.07;%N 3.63。 実測値:%C 62.63;%H 6.04;%N 3.63。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=373。 実施例135 N−2−(4−(3,4−ジクロロフェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジオキサン5mlおよび水1ml中の製造例39から得られた物質0.5g(1.6m mol)、3,4−ジクロロベンゼンホウ酸0.4g(1.9mmol)、および炭酸カリウ ム0.3g(2.3mmol)の溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウ ム(0)0.09g(0.08mmol)を加えた。その混合物を90℃で18時間加熱し た。その混合物を室温まで冷却して、水5mlおよびエーテル5mlを加えた。有機 層を分離して、水層を各々酢酸エチル5mlで3回抽出した。合わせた有機抽出物 を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィ ー(シリカゲル75g、35%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.5 2g(86%)を得た。標記化合物の第二クロマトグラフィー(シリカゲル40g 、35%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.25g(41%)を得た。 C1821Cl2NO2Sに関する分析: 計算値:%C 55.95;%H 5.48;%N 3.62。 実測値:%C 56.22;%H 5.28;%N 3.56。 フィールドディソープション質量スペクトル:M−1=385。 実施例136 N−2−(4−(4−メチルフェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジオキサン5mlおよび水1ml中の製造例39から得られた物質0.5g(1.6m mol)、4−メチルベンゼンホウ酸0.25g(1.9mmol)、および炭酸カリウム0 .3g(2.3mmol)の溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム( 0)0.09g(0.08mmol)を加えた。その混合物を90℃で18時間加熱した 。その混合物を室温まで冷却して、水5mlおよびエーテル5mlを加えた。有機層 を分離して、水層を各々酢酸エチル5mlで3回抽出した。合わせた有機抽出物を 乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィ ー(シリカゲル30g、35%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.4 2g(82%)を得た。標記化合物の第二クロマトグラフィー(シリカゲル25g 、35%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.24g(46%)を得た。 C1925NO2Sに関する分析: 計算値:%C 68.80;%H 7.60;%N 4.20。 実測値:%C 69.11;%H 7.70;%N 4.10。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=331 実施例137 N−2−(4−(4−クロロフェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジオキサン5mlおよび水1ml中の製造例39から得られた物質0.5g(1.6m mol)、4−クロロベンゼンホウ酸0.29g(1.9mmol)、および炭酸カリウム0 .3g(2.3mmol)の溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム( 0)0.09g(0.08mmol)を加えた。その混合物を90℃で18時間加熱した 。その混合物を室温まで冷却して、水5mlおよびエーテル5mlを加えた。有機層 を分離して、水層を各々酢酸エチル3mlで3回抽出した。合わせた有機抽出物を 乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー( シリカゲル35g、35%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.36g を得た。その化合物を純粋になるまでエーテルで再結品化させて、標記化合物0 .36g(65%)を得た。 C1822ClNO2Sに関する分析: 計算値:%C 61.40;%H 6.30;%N 3.98。 実測値:%C 61.48;%H 6.11;%N 3.62。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=351 実施例138 N−2−(4−(2−メチルフェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジオキサン5mlおよび水1ml中の製造例39から得られた物質0.5g(1.6m mol)、2−メチルベンゼンホウ酸0.25g(1.9mmol)、および炭酸カリウム0 .3g(2.3mmol)の溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム( 0)0.09g(0.08mmol)を加えた。その混合物を90℃で18時間加熱した 。その混合物を室温まで冷却して、水5mlおよびエーテル5mlを加えた。有機層 を分離して、水層を各々酢酸エチル4mlで3回抽出した。合わせた有機抽出物を 乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー( シリカゲル30g、30%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.35g (68%)を得た。 C1925NO2Sに関する分析: 計算値:%C 68.80;%H 7.60;%N 4.20。 実測値:%C 68.82;%H 7.75;%N 4.23。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=331 実施例139 N−2−(4−(3,5−ジクロロフェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジオキサン5mlおよび水1ml中の製造例39から得られた物質0.5g(1.6m mol)、3,5−ジクロロベンゼンホウ酸0.36g(1.9mmol)、および炭酸カリ ウム0.3g(2.3mmol)の溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジ ウム(0)0.09g(0.08mmol)を加えた。その混合物を90℃で18時間加熱 した後、3,5−ジクロロベンゼンホウ酸0.36g(1.9mmol)を加えた。その 混合物を90℃でもう18時間加熱した。その混合物を室温まで冷却して、水1 0mlおよびエーテル10mlを加えた。有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル 5mlで3回抽出した。合わせた有機抽出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧 下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル35g、10%酢 酸エチル/トルエン)により、標記化合物0.36g(60%)を得た。 C1821NCl22Sに関する分析: 計算値:%C 55.90;%H 5.50;%N 3.60。 実測値:%C 56.22;%H 5.50;%N 3.39。 フィールドディソープション質量スペクトル:M−1=385。 実施例140 N−2−(4−(4−トリフルオロメチルフェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジオキサン5mlおよび水1ml中の製造例39から得られた物質0.5g(1.6m mol)、4−トリフルオロメチルベンゼンホウ酸0.35g(1.9mmol)、および炭 酸カリウム0.3g(2.3mmol)の溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン) パラジウム(0)0.09g(0.08mmol)を加えた。その混合物を90℃で18時 間加熱した。その混合物を室温まで冷却して、水5mlおよびエーテル5mlを加え た。有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル4mlで3回抽出した。合わせた有 機抽出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマト グラフィー(シリカゲル50g、20%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化 合物0.40g(67%)を得た。 C19223NO2Sに関する分析: 計算値:%C 59.20;%H 5.75;%N 3.60。 実測値:%C 59.14;%H 5.67;%N 3.34。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=385。 実施例141 N−2−(4−(3−トリフルオロメチルフェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジオキサン5mlおよび水1ml中の製造例39から得られた物質0.5g(1.6m mol)、3−トリフルオロメチルベンゼンホウ酸0.35g(1.9mmol)、および炭 酸カリウム0.3g(2.3mmol)の溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン) パラジウム(0)0.09g(0.08mmol)を加えた。その混合物を90℃で18時 問加熱した。その混合物を室温まで冷却して、水5mlおよびエーテル5mlを加え た。有機層を分離して、水層を各々酢酸エチル4mlで3回抽出した。合わせた有 機抽出物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマト グラフィー(シリカゲル50g、20%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合 物0.44g(73%)を得た。 C19223NO2Sに関する分析: 計算値:%C 59.20;%H 5.75;%N 3.60。 実測値:%C 59.20;%H 5.72;%N 3.62。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=385。 実施例142 N−2−(4−(3−ニトロフェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジオキサン5mlおよび水1ml中の製造例39から得られた物質0.5g(1.6m mol)、3−ニトロベンゼンホウ酸0.31g(1.9mmol)、および炭酸カリウム0 .3g(2.3mmol)の溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム( 0)0.09g(0.08mmol)を加えた。その混合物を90℃で18時間加熱した 。その混合物を室温まで冷却して、水5mlおよびエーテル5mlを加えた。有機層 を分離して、水層を各々酢酸エチル4mlで3回抽出した。合わせた有機抽出物を 乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー( シリカゲル50g、35%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.40g (71%)を得た。 C182224Sに関する分析: 計算値:%C 59.60;%H 6.12;%N 7.73。 実測値:%C 59.59;%H 6.07;%N 7.74。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=362。 実施例143 N−2−(4−(3−チエニル)フェニル)プロピル 1−(2−メチル)プロパンスルホンアミド A.イソブチルスルホニルクロリド: 水100ml中のジイソブチルジスルフィド13g(73mmol)の溶液を0℃まで 冷却した。黄色の溶液が持続するまで、水溶液を通して、塩素ガスを通気した後 、窒素ガスを15分間ずっと通気した。その反応混合物をエーテル100mlで希 釈して、有機層を分離して、水層をエーテル30mlで3回抽出した。合わせた有 機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物を蒸留して、標 記化合物12g(52%)を得た。 B.テトラヒドロフラン10ml中の製造例53Bから得られた物質0.5g(2. 3mmol)およびトリエチルアミン0.42ml(3.0mmol)の溶液に、実施例143 Aから得られた物質0.47g(3.0mmol)を加えた。その混合物を室温で18時 間攪拌した。その混合物を1N 塩酸20mlで洗浄し、有機層を分離して、水層 をエーテル5mlで3回抽出した。合わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して 、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル25g、30% 酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.6g(77%)を得た。 C1723NO22に関する分析: 計算値:% C60.50;%H 6.87;%N 4.15。 実測値:%C60.30;%H 6.88;%N 4.07。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=337。 実施例144 N−2−(4−(2−ベンゾチアゾリル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド キシレン5ml中の製造例40から得られた物質0.4g(0.7mmol)および2− クロロベンゾチアゾール0.13g(0.7mmol)の溶液に、ジクロロビス(トリフ ェニルホスフィン)パラジウム(II)0.016g(0.02mmol)を加えた。その混 合物を120℃で18時間加熱して、その混合物にジクロロビス(トリフェニル ホスフィン)パラジウム(II)0.010g(0.02mmol)を加えて、その混合物を 120℃で5時間加熱した。その混合物を冷却して、飽和フッ化カリウム20ml を加えて、その混合物を1時間攪拌した。その混合物を濾過して、有機層を除去 し、乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフ ィー(シリカゲル25g、25%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0. 03g(11%)を得た。 C1922222に関する分析: 計算値:%C 60.93;%H 5.92;%N 7.48。 実測値:%C 61.24;%H 6.05;%N 7.04。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=374。 実施例145 N−2−(4−(2−フルオロフェニル)フェニル)プロピル 2−メトキシエタンスルホンアミド メチルアルコール中の2M アンモニア5ml中の、実施例8から得られた物質 0.5g(1.6mmol)の溶液を室温で18時間攪拌した。その溶液に濃水酸化アン モニウム2mlを加えて、5時間攪拌し続けた。その混合物を減圧下に濃縮した。 残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル25g、2%メチルアルコールを含む 50%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物0.03g(5%)を得た。 C1822FNO3Sに関する分析: 計算値:%C 61.52;%H 6.31;%N 3.99。 実測値:%C 65.02;%H 6.17;%N 4.06。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=351。 実施例146 N−2−(4−(2−フルオロフェニル)フェニル)エチル トリフルオロメタンスルホンアミド ジクロロメタン10ml中の実施例7Cから得られた物質1.0g(3.0mmol)お よびトリエチルアミン1.0ml(7.6mmol)の溶液を0℃まで冷却して、トリフル オロメタンスルホニルクロリド0.32ml(3.0mmol)を加えた。その混合物を0 ℃で1時間攪拌した。その混合物を10%重硫酸ナトリウム10mlで洗浄し、有 機層を分離して、水層をジクロロメタン10mlで3回抽出した。合わせた有機物 を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮して、標記化合物0.45g(43 %)を得た。 C15134NO2に関する分析: 計算値:%C 51.87;%H 3.77;%N 4.03。 実測値:%C 53.45;%H 3.91;%N 4.15。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=347。 実施例147 N−2−(4−(2−フルオロフェニル)フェニル)プロピル トリフルオロメタンスルホンアミド クロロホルム26ml中の製造例6から得られた物質0.53g(2.3mmol)の保 存溶液を調製して、1mlを取って、4mlのテフロンキャップ付バイアルに加えた 。そのバイアルに、ポリ(4−ビニルピリジン)2%架橋樹脂0.038g(0.1 3mmol)およびトリフルオロメタンスルホニルクロリド11.5μl(0.11mmol) を加えた。そのバイアルを室温で24時間振盪した後、アミノメチルポリスチレ ン.040g(0.8mmol)を加えて、そのバイアルを8時間振盪した。その反応混 合物を、綿栓を通して濾過して、濾液を減圧下に濃縮して、標記化合物を得た。 NMRは、提示した化合物と一致した。 実施例148 N−2−(4−(2−フルオロフェニル)フェニル)プロピル トリフルオロエタンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、2,2,2−トリフルオロエタンスルホニルクロリ ド12.2μl(0.11mmol)を使用して、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 実施例149 N−2−(4−(2−フルオロフェニル)フェニル)プロピル ベンゼンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、ベンゼンスルホニルクロリド14.0μl(0.11 mmol)を使用して、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M+1=370。 実施例150 N−2−(4−(2−フルオロフェニル)フェニル)プロピル 4−フルオロベンゼンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、4−フルオロベンゼンスルホニル クロリド21m g(0.11mmol)を使用して、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 実施例151 N−2−(4−(4−(2−(エタンスルホニルアミノ)エチル)− フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.5g(1.4mmol) の保存溶液1mlおよびエタンスルホニルクロリド7.6μl(0.11mmol)を使用 して、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M−1=451。 実施例152 N−2−(4−(4−(2−(1−プロパンスルホニルアミノ)エチル)− フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.5g(1.4mmol) の保存溶液1mlおよび1−プロパンスルホニル クロリド9.0μl(0.11mmol) を使用して、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M−1=465。 実施例153 N−2−(4−(4−(2−(1−ブタンスルホニルアミノ)エチル)− フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.5g(1.4mmol) の保存溶液1mlおよび1−ブタンスルホニル クロリド10.4μl(0.11mmol) を使用して、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M−1=479。 実施例154 N−2−(4−(1−(2−(1S−10−カンファースルホニルアミノ)− エチル)フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.5g(1.4mmol) の保存溶液1mlおよび1S−10−カンファースルホニル クロリド20mg(0. 11mmol)を使用して、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M−1=573。 実施例155 N−2−(4−(1−(2−(1R−10−カンファースルホニルアミノ)− エチル)フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.5g(1.4mmol) の保存溶液1mlおよび1R−10−カンファースルホニル クロリド20mg(0. 11mmol)を使用して、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M−1=573。 実施例156 N−2−(4−(1−(2−(2−メトキシカルボニルエタンスルホニルアミノ)− エチル)フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.5g(1.4mmol) の保存溶液1mlおよび2−カルボメトキシエタンスルホニル クロリド15mg(0 .11mmol)を使用して、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:[M+H2O]=528。 実施例157 N−2−(4−(1−(2−(2−トリフルオロエタンスルホニルアミノ)− エチル)フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.5g(1.4mmol) の保存溶液1mlおよび2,2,2−トリフルオロエタンスルホニル クロリド8.8 μl(0.11mmol)を使用して、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M−1=505。 実施例158 N−2−(4−(1−(2−(ベンゼンスルホニルアミノ)エチル)− フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.5g(1.4mmol) の保存溶液1mlおよびベンゼンスルホニルクロリド14mg(0.11mmol)を使用し て、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M−1=499。 実施例159 N−2−(4−(1−(2−(ベンジルスルホニルアミノ)エチル)− フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.5g(1.4mmol) の保存溶液1mlおよびα−トルエンスルホニル クロリド15mg(0.11mmol)を 使用して、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M−1=513。 実施例160 N−2−(4−(1−(2−(シクロヘキサンスルホニルアミノ)エチル)− フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.5g(1.4mmol) の保存溶液1mlおよびシクロヘキサンスルホニルクロリド15mg(0.11mmol) を使用して、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M−1=505。 実施例161 N−2−(4−(4−(2−(2−フルオロベンゼンスルホニルアミノ)− エチル)フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.5g(1.4mmol) の保存溶液1mlおよび2−フルオロベンゼンスル ホニルクロリド15mg(0.1 1mmol)を使用して、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 工レクトロスプレー質量スペクトル:M−1=517。 実施例162 N−2−(4−(4−(2−(3− トリフルオロメチルベンゼンスルホニルアミノ)エチル)フェニル)− フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.5g(1.4mmol) の保存溶液1mlおよび3−トリフルオロメチルベンゼンスルホニル クロリド1 9mg(0.11mmol)を使用して、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M−1=567。 実施例163 N−2−(4−(4−(2−(4−フルオロベンゼンスルホニルアミン)− エチル)フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.5g(1.4mmol) の保存溶液1mlおよび4−フルオロベンゼンスルホニル クロリド15mg(0.1 1mmol)を使用して、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M−1=517。 実施例164 N−2−(4−(4−(2−(2−チオフェンスルホニルアミノ)エチル)− フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.5g(1.4mmol) の保存溶液1mlおよび2−チオフェンスルホニル クロリド14mg(0.11mmol) を使用して、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M−1=505。 実施例165 N−2−(4−(4−(2−(4−メトキシベンゼンスルホニルアミン)− エチル)フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.5g(1.4mmol) の保存溶液1mlおよび4−メトキシベンゼンスルホニル クロリド16mg(0.1 1mmol)を使用して、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M−1=529。 実施例166 N−2−(4−(4−(2−(4− トリフルオロメチルベンゼンスルホニルアミン)エチル)フェニル)− フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.5g(1.4mmol) の保存溶液1mlおよび4−トリフルオロメチルベンゼンスルホニル クロリド2 0mg(0.11mmol)を使用して、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M−1=567。 実施例167 N−2−(4−(4−(2−(1−(5−ジメチルアミノ)− ナフタレンスルホニルアミノ)エチル)フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.5g(1.4mmol) の保存溶液1mlおよびダンシルクロリド22mg(0.11mmol)を使用して、標記 化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M+1=594。 実施例168 N−2−(4−(4−(2−(ベンズアミド)エチル)フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.6g(1.8mmol) の保存溶液1mlおよびベンゾイルクロリド15μl(0.11mmol)を使用して、標 記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M+1=465。 実施例169 N−2−(4−(1−(2−(3−メチルブタンアミド)エチル)− フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.6g(1.8mmol) の保存溶液1mlおよびバレリルクロリド13μl(0.11mmol)を使用して、標記 化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M+1=445。 実施例170 N−2−(4−(4−(2−(4−フルオロベンズアミド)エチル)− フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.6g(1.8mmol) の保存溶液1mlおよび4−フルオロベンゾイル クロリド13μl(0.11mmol) を使用して、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M+1=483。 実施例171 N−2−(4−(4−(2−(3−メトキシベンズアミド)エチル)− フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.6g(1.8mmol) の保存溶液1mlおよび3−メトキシベゾイル クロリド18mg(0.11mmol)を使 用して、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M+1=495。 実施例172 N−2−(4−(4−(2−(2−チオフェンアミド)エチル)− フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.6g(1.8mmol) の保存溶液1mlおよび2−チオフェンカルボニルクロリド11μl(0.11mmol) を使用して、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M+1=471。 実施例173 N−2−(4−(4−(2−(3−フルオロベンズアミド)エチル)− フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.6g(1.8mmol) の保存溶液1mlおよび3−フルオロベゾイル クロリド13μl(0.11mmol)を 使用して、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M+1=483。 実施例174 N−2−(4−(4−(2−(4−メトキシベンズアミド)エチル)− フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.6g(1.8mmol) の保存溶液1mlおよび4−メトキシベゾイル クロリド13μl(0.11mmol)を 使用して、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M+1=495。 実施例175 N−2−(4−(4−(2−(2−メチルプロパンアミド)エチル)− フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.6g(1.8mmol) の保存溶液1mlおよびイソブチリルクロリド11μl(0.11mmol)を使用して、 標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M+1=431。 実施例176 N−2−(4−(4−(2−(2−メトキシベンズアミド)エチル)− フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.6g(1.8mmol) の保存溶液1mlおよび2−メトキシベゾイル クロリド16μl(0.11mmol)を 使用して、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M+1=495。 実施例177 N−2−(4−(4−(2−(フェニルアセトアミド)エチル)フェニル)− フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.6g(1.8mmol) の保存溶液1mlおよびフェニルアセチルクロリド14μl(0.11mmol)を使用し て、標記化合物を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M+1=479。 実施例178 N−2−(4−(4−(2−(アセトアミド)エチル)フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例147の方法に従い、実施例50から得られた物質0.6g(1.8mmol) の保存溶液1mlおよび塩化アセチル8μl(0.11mmol)を使用して、標記化合物 を製造した。 NMRは、提示した化合物と一致した。 エレクトロスプレー質量スペクトル:M−1=401。 実施例179 N−2−(4−N−(4−ベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ジクロロメタン(5ml)中の製造例60から得られた物質(333mg、0.93mm ol)の溶液をベンゾイルクロリド(197mg、1.4mmol)およびトリエチルアミン (140mg、1.4mmol)で処理した。その反応混合物を室温で3時間攪拌した。 その混合物に水(10ml)を加えて、有機物をエーテル(3×10ml)で抽出した。 合わせた有機画分をブライン(10ml)で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させて、 減圧下に濃縮して、粗製の生成物を得、これをフラッシュクロマトグラフィー(S iO2、30% EtOAc:ヘキサン)によりさらに精製した。純粋な生成物をトリフル オロ酢酸:ジクロロメタン(5ml、1:1混合物)で処理した。その混合物を室温 で1時間攪拌した。その混合物に水(10ml)を加えて、有機画分をジクロロメタ ン(3×10ml)で抽出した。合わせた有機画分を水(2×10ml)、ブライン(1 0ml)で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させて、減圧下に濃縮して、標記化合物 248mg(74%)を得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=360。 C192423Sに関する分析: 理論値:C 63.31;H 6.71;N 7.77。 実測値:C 63.17;H 6.67;N 7.73。 実施例180 N−2−(4−N−(アセトアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例60の生成物から出発し、塩化アセチルを使用して、標記化合物118 mg(75%)を実施例179の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=360。 C142223Sに関する分析: 理論値:C 56.35;H 7.43;N 9.39。 実測値:C 57.36;H 7.98;N 10.40。 実施例181 N−2−(4−N−(2−フルオロベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例60の生成物から出発し、2−フルオロベンゾイル クロリドを使用し て、標記化合物160mg(75%)を実施例179の方法に従い固体として製造し た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=378.3。 C1923FN23Sに関する分析: 理論値:C 60.30;H 6.13;N 7.40。 実測値:C 59.51;H 5.98;N 7.11。 実施例182 N−2−(4−N−(2−フリルカルボキシアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例60の生成物から出発し、2−フロイル クロリドを使用して、標記化 合物150mg(47%)を実施例179の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=352.3。 C172224Sに関する分析: 理論値:C 58.29;H 6.33;N 7.99。 実測値:C 58.19;H 6.81;N 7.25。 実施例183 N−2−(4−N−(2−チエニルカルボキシアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例7の生成物から出発し、2−チオフェン クロリドを使用して、標記化 合物150mg(33%)を実施例1の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=366.2。 C1722232に関する分析: 理論値:C 55.71;H 6.05;N 7.64。 実測値:C 55.59;H 5.01;N 7.80。 実施例184 N−2−(4−N−(4−ビニルベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例60の生成物から出発し、4−ビニルベンゾイル クロリドを使用して 、標記化合物420mg(56%)を実施例179の方法に従い固体として製造した 。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=387.2。 C212423Sに関する分析: 理論値:C 65.26;H 6.78;N 7.250。 実測値:C 64.99;H 6.69;N 7.17。 実施例185 N−2−(4−N−(4−ヨードベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例60の生成物から出発し、4−ヨードベンゾイル クロリドを使用して 、標記化合物610mg(73%)を実施例179の方法に従い固体として製造した 。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=487.2。 C192323Sに関する分析: 理論値:C 46.91;H 4.73;N 5.76。 実測値:C 47.13;H 4.51;N 5.60。 実施例186 N−2−(4−(4−N−(1−(2−(2−プロパン)スルホニルアミノ)− プロピルベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 無水アセトン(5ml)中の製造例67から得られた物質(210mg、0.77mmol )の0℃の溶液をN−メチルモルホリン(120mg、1.2mmol)およびj−ブチル クロロホルメート(120mg、0.85mmol)で処理した。その反応混合物を30 分間攪拌した。溶媒を除去して、その結果得られた固体をDMF(5ml)に溶解し た。その混合物を製造例58から得られたアニリン(220mg、0.85mmol)で 処理した。その反応混合物を室温で16時間攪拌した。その混合物に水(10ml) を加えて、有機物をジクロロメタン(3×10ml)で抽出した。合わせた有機画分 を水(2×10ml)、ブライン(10ml)で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させて、 濃縮して、粗製の生成物を得、これをフラッシュクロマトグラフィー(SiO2、3 0% EtOAc:ヘキサン)によりさらに精製して、純粋な生成物100mg(25%) を得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=509.8。 C2435352に関する分析: 理論値:C 56.78;H 6.55;N 8.28。 実測値:C 56.71;H 6.64;N 8.01。 実施例187 N−2−(4−N−(シクロヘキサンカルボキシアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 4mlのテフロンキャップ付バイアル中、無水THF(1ml)中の製造例58から 得られた物質(20mg、0.08mmol)の溶液をポリ(4−ビニルピリジン)2% 架橋樹脂(200mg、1.6mmol)および適当な酸クロリド(1.2当量、0.096 mmol)で処理した。そのバイアルを室温で24時間振盪した。その反応物を、交 換カラム(予め充填したおいたSCX 1211−3039 0.5g)を通して濾 過して、未反応のアニリンを除去した。濾液にアミノメチルポリスチレン(40 0mg、0.8mmol)を加えて、その混合物を室温で24時間振盪した。その反応混 合物を、綿栓を通して濾過して、濾液を濃縮して、純粋なアミドを得た。 各々のアミドのNMRは、提示した構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=366.3。 実施例188 N−2−(4−N−(4−フルオロベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、4−フルオロベンゾイル クロリドを使用し て、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=378.2。 実施例189 N−2−(4−N−(3−メチルベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、3−メチルベンゾイル クロリドを使用して 、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=374.2。 実施例190 N−2−(4−N−(3−トリフルオロメチルベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、3−メチルベンゾイル クロリドを使用して 、 標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=428.2。 実施例191 N−2−(4−N−(2−トリフルオロメチルベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、2−トリフルオロメチルベンゾイル クロリ ドを使用して、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=428.2。 実施例192 N−2−(4−N−(3−フルオロベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、3−フルオロベンゾイル クロリドを使用し て、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=378.2。 実施例193 N−2−(4−N−(2−メトキシベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、2−メトキシベンゾイル クロリドを使用し て、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=390.2。 実施例194 N−2−(4−N−(3−メトキシベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、3−メトキシベンゾイル クロリドを使用し て、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=390.2。 実施例195 N−2−(4−N−(4−t−ブチルベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、4−t−ブチルベンゾイル クロリドを使用し て、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=416.2。 実施例196 N−2−(4−N−(2,4−ジフルオロベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、2,4−ジフルオロベンゾイル クロリドを使 用して、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=396.2。 実施例197 N−2−(4−N−(4−メトキシベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、4−メトキシベンゾイル クロリドを使用し て、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=390.2。 実施例198 N−2−(4−N−(4−エチルベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、4−エチルベンゾイル クロリドを使用して 、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=388.2。 実施例199 N−2−(4−N−(シクロブチルカルボキシアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、シクロブタンカルボニルクロリドを使用して 、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=338.2。 実施例200 N−2−(4−N−(フェニルアセトアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、フェニルアセチルクロリドを使用して、標記 化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=374.2。 実施例201 N−2−(4−N−(4−メチルベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、4−メチルベンゾイル クロリドを使用して 、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=374.2。 実施例202 N−2−(4−N−((3−(5−メチル)イソオキサゾリル)− カルボキシアミド)フェニル)プロピル2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、5−メチル−3−イソオキサゾール酸クロリ ドを使用して、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=365.2。 実施例203 N−2−(4−N−((2−フルオロ−4−トリフルオロメチル)− ベンズアミド)フェニル)プロピル2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、2−フルオロ−4−(トリフルオロメチル)ベ ンゾイルクロリドを使用して、標記化合物を実施例187の方法に従い固体とし て製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=446.1。 実施例204 N−2−(4−N−(4−トリフルオロメチルベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、4−(トリフルオロメチル)ベンゾイル クロ リドを使用して、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=444.1。 実施例205 N−2−(4−N−(4−n−ブチルオキシベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、4−n−ブチルオキシベンゾイル クロリド を使用して、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=432.2。 実施例206 N−2−(4−N−(シクロプロピルカルボキシアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、シクロプロパンカルボニルクロリドを使用し て、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=324.2。 実施例207 N−2−(4−N−(シクロペンチルカルボキシアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、シクロペンタンカルボニルクロリドを使用し て、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=353。 実施例208 N−2−(4−N−(エチルカルボキシアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、プロピオニルクロリドを使用して、標記化合 物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=312。 実施例209 N−2−(4−N−(プロピルカルボキシアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、ブタノイルクロリドを使用して、標記化合物 を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=326。 実施例210 N−2−(4−N−(5−イソオキサゾリルカルボキシアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、5−イソオキサゾール酸クロリドを使用して 、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=351。 実施例211 N−2−(4−N−(2−ベンゾチオフェニルカルボキシアミド)− フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、2−ベンゾチオフェン酸クロリドを使用して 、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=416。 実施例212 N−2−(4−N−(4−フェニルベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、4−フェニルベンゾイル クロリドを使用し て、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=436。 実施例213 N−2−(4−N−(4−プロピルベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、4−プロピルベンゾイル クロリドを使用し て、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=402。 実施例214 N−2−(4−N−(4−シアノベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、4−シアノベンゾイル クロリドを使用して 、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=385。 実施例215 N−2−(4−N−(2−チオフェニルアセトアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、2−チオフェンアセチル クロリドを使用し て、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=380。 実施例216 N−2−(4−N−(4−(3−フェニル−5−メチル)イソオキサゾリル)− カルボキシアミドフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、3−フェニル−5−メチル−4−イソオキサ ゾール酸クロリドを使用して、標記化合物を実施例187の方法に従い固体とし て製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=441。 実施例217 N−2−(4−N−(4−モルホリニルカルボキシアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、4−モルホリンカルボニル クロリドを使用 して、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=369。 実施例218 N−2−(4−N−(イソニコチニルアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、イソニコチノイルクロリドを使用して、標記 化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=361。 実施例219 N−2−(4−N−(3−クロロベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、3−クロロベンゾイル クロリドを使用して 、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=395。 実施例220 N−2−(4−N−(4−ブロモベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、4−ブロモベンゾイル クロリドを使用して 、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=439.4。 実施例221 N−2−(4−N−(4−クロロベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、4−クロロベンゾイル クロリドを使用して 、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=395。 実施例222 N−2−(4−N−(メチルオキサリルアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、メチルオキサリルクロリドを使用して、標記 化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=343。 実施例223 N−2−(4−N−(フェノキシアセトアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、フェノキシアセチルクロリドを使用して、標 記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=391。 実施例224 N−2−(4−N−(アクリロイルアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、塩化アクリロイルを使用して、標記化合物を 実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=311。 実施例225 N−2−(4−N−(5−ニトロ−2−フリルカルボキシアミド)− フェニル)プロピル2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、5−ニトロ−2−フロイル クロリドを使用 して、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=396。 実施例226 N−2−(4−N−(6−クロロニコチニルカルバミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、6−クロロニコチニルクロリドを使用して、 標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=396。 実施例227 N−2−(4−N−(ピコニオイルカルバミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、塩化ピコニオイルを使用して、標記化合物を 実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=362。 実施例228 N−2−(4−N−(2−(S)−(−)−N−(トリフルオロアセチル)− ピロリジニルカルボキシアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、(S)−(−)−N−(トリフルオロアセチル)プ ロリルクロリドを使用して、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として 製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=450。 実施例229 N−2−(4−N−(ピバロイルカルバミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、塩化ピバロイルを使用して、標記化合物を実 施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=341。 実施例230 N−2−(4−N−(3−アセチルフェニル尿素)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 4mlのテフロンキャップ付バイアル中、無水THF(1ml)中の製造例58の物 質(15mg、0.058mmol)の溶液を3−アセチルフェニルイソシアネート(12 mg、0.073mmol)で処理した。その反応混合物を16時間振盪した。その反応 混合物にアミノメチルポリスチレン樹脂(150mg、0.3mmol)を加えて、この 混合物を2時間攪拌した。その反応物を、イオン交換カラム(予め充填したおい たSCX 1211−3039 0.5g)を通して濾過して、未反応のアニリンを 除去した。その反応混合物を、綿栓を通して濾過して、濾液を濃縮して、純粋な アミド32mgを得た。 生成物のNMRは、提示した構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=417.5。 実施例231 N−2−(4−N−(2−(2−チエニル)エチル尿素)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 4mlのテフロンキャップ付バイアル中、無水THF(1ml)中の製造例58の物 質(15mg、0.058mmol)の溶液を2−(チエン−2−イル)エチルイソシアネ ート(12mg、0.073mmol)で処理した。その反応混合物を16時間振盪した 。その反応混合物にアミノメチルポリスチレン樹脂(150mg、0.3mmol)を加 え て、この混合物を2時間攪拌した。その反応物を、イオン交換カラム(予め充填 したおいたSCX 1211−3039 0.5g)を通して濾過して、未反応のア ニリンを除去した。その反応混合物を、綿栓を通して濾過して、濾液を濃縮して 、純粋なアミド26.5mgを得た。 生成物のNMRは、提示した構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=409.6。 実施例232 N−2−(4−(4−N−ベンジルピペラジノ)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 無水テトラヒドロフラン(10ml)中の製造例73から得られた物質(80mg、 0.18mmol)の溶液をボラン メチルスルフィド(THF中の1M、3ml、3mmol )で処理した。その反応混合物を還流しながら4時間攪拌した。その溶液を室温 まで冷却して、5N 水酸化ナトリウム(5ml)およびメタノール(5ml)で処理し た。その混合物を12時間還流した。その反応混合物を室温まで冷却して、その 混合物に水(10ml)を加えた。有機物を酢酸エチル(3×10ml)で抽出した。 合わせた有機画分を水(2×10ml)、ブライン(10ml)で洗浄し、炭酸カリウム で乾燥させて、減圧下に濃縮して、粗製の物質を得、これをフラッシュクロマト グラフィー(SiO2、30%ジクロロメタン:EtOAc)によりさらに精製して、純粋 な生成物34mg(45%)を得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=436。 C23333OSに関する分析: 理論値:C 66.47;H 8.00;N 10.11。 実測値:C 65.72;H 7.89;N 9.68。 実施例233 N−2−(4−(4−メチルピペラジノ)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド ギ酸(0.7ml)中の製造例72から得られた物質(80mg、0.18mmol)の溶液 をホルムアルデヒド(0.7ml、37%)で処理した。その反応混合物を80℃で 1時間加熱した後、室温まで冷却した。その混合物に水(10ml)を加えた。その 混合物のpHを1N 水酸化ナトリウムの添加により10とした。有機物を酢酸 エチル(3×10ml)で抽出した。合わせた有機画分を水(2×10ml)、ブライン (10ml)で洗浄し、炭酸カリウムで乾燥させて、減圧下に濃縮して、粗製の物質 を得、これをフラッシュクロマトグラフィー(SiO2、10%メタノール:ジクロ ロメタン)によりさらに精製して、純粋な生成物46mg(75%)を得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=436。 C172932Sに関する分析: 理論値: C 60.14;H 8.61;N 12.38。 実測値: C 59.31;H 8.57;N 11.58。 実施例234 N−2−(4−(2−チエニル)メチルアミノフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド メタノール(3ml)および氷酢酸(1滴)中の製造例58から得られた生成物(0. 15g、0.42mmol)の溶液を2−チオフェンカルボキシアルデヒド(0.031 g、0.28mmol)で処理した。その反応物を周囲温度で90分間攪拌して、水素 化ホウ素ナトリウム(0.015g、0.42mmol)を加えた。その反応物を16時 間攪拌した。水(5ml)を加えて、有機物を塩化メチレン(2×10ml)で抽出した 。合わせた有機層をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させて、濃縮し た。粗製の生成物を塩化メチレン(3ml)に溶解して、TFA(5滴)を加えた。そ の反応物を周囲温度で3時間攪拌した後、水(3ml)を加えた。有機物を塩化メチ レン(2×10ml)で抽出した。合わせた有機層をブラインで洗浄し、硫酸マ グネシウムで乾燥させて、濃縮した。粗製の標記生成物をフラッシュクロマトグ ラフィー(SiO2、30% EtOAc:ヘキサン)により精製して、純粋な生成物0.0 60g(60%)を得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=353。 C1724222に関する分析: 理論値:C 57.92;H 6.86;N 7.95。 実測値:C 58.11;H 6.71;N 7.79。 実施例235 N−2−(4−(2−フリル)メチルアミノフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の物質から出発し、2−フルアルデヒドを使用して、標記化合物8 0mg(85%)を実施例234の方法に従い油状物質として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=336。 C172423Sに関する分析: 理論値:C 60.69;H 7.19;N 8.33。 実測値:C 60.52;H 7.03;N 8.45。 実施例236 N−2−(4−(3−チエニル)メチルアミノフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の物質から出発し、3−チオフェンカルボキシアルデヒドを使用し て、標記化合物70mg(54%)を実施例234の方法に従い油状物質として製造 した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=336.1。 C172423Sに関する分析: 理論値:C 60.69;H 7.19;N 8.33。 実測値:C 60.89;H 7.16;N 8.09。 実施例237 N−2−(4−(3−フリル)メチルアミノフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の物質から出発し、3−フルアルデヒドを使用して、標記化合物4 0mg(21%)を実施例234の方法に従い油状物質として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=352。 C172422Sに関する分析: 理論値:C 57.92;H 6.86;N 7.95。 実測値:C 57.80;H 6.63;N 7.78。 実施例238 N−2−(4−(2−フルオロフェニル)メチルアミノフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の物質から出発し、2−フルオロベンズアルデヒドを使用して、標 記化合物52mg(52%)を実施例234の方法に従い油状物質として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=XXX。 C1925FN22Sに関する分析: 実施例239 N−2−(4−モルホリノフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例39(パート1)の生成物から出発し、モルホリンを使用して、標記化合 物70mg(47%)を製造例65の方法に従い油状物質として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=XXX。 C162623Sに関する分析: 実施例240 N−2−(4−(2−フルオロフェニル)メトキシフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 無水DMF(20ml)中の製造例36の生成物(0.3g、0.84mmol)の溶液を 水素化ナトリウム(0.037g、0.92mmol)および2−フルオロベンジル ブ ロミド(0.17g、0.92mmol)で処理した。その反応混合物を周囲温度で5時 間攪拌した。水(10ml)を加えて、有機物をエーテル(2×30ml)で抽出した。 合わせた有機層をブライン(20ml)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させて、 減圧下に濃縮した。粗製の物質を塩化メチレン(20ml)に取り入れて、TFA(2 ml)を加えた。その反応混合物を周囲温度で3時間攪拌した。水(5ml)を加えて 、有機物を塩化メチレン(2×20ml)で抽出した。合わせた有機層をブライン( 20ml)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させて、減圧下に濃縮した。粗製の 生成物をフラッシュクロマトグラフィー(SiO2、30% EtOAc:ヘキサン)により さらに精製して、白色の固体0.25g(82%)を純粋な生成物として得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=365。 C1924FNO3Sに関する分析: 理論値:C 62.44;H 6.62;N 3.83。 実測値:C 62.42;H 6.59;N 3.76。 実施例241 N−2−(4−(2−テトラヒドロフリル)メトキシフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例36の生成物から出発し、テトラヒドロフルフリルブロミドを使用して 、標記化合物150mg(52%)を実施例240の方法に従い固体として製造した 。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=341.1。 C1727NO4Sに関する分析: 理論値:C 59.80;H 7.97;N 4.10。 実測値:C 59.84;H 8.00;N 3.80。 実施例242 N−2−(4−ベンゾイルメチルフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 脱気した無水テトラヒドロフラン(25ml)中の製造例39の生成物(1.0g、 3.2mmol)の溶液を、塩化パラジウム(0.028g、0.16mmol)、トリ−o− トリルホスフィン(0.097g、0.32mmol)、トリブチルスズフルオリド(1. 0g、3.4mmol)、および1−フェニル−1−(トリメチルシロキシ)エチレン( 1.0ml、4.8mmol)で処理した。その反応混合物を還流温度まで16時間加熱 した。その混合物に水(50ml)を加えて、有機層をエーテル(3×50ml)で抽出 した。合わせた有機層をブライン(50ml)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥さ せて、減圧下に濃縮して、粗製の生成物を得、これをフラッシュクロマトグラフ ィー(SiO2、30% EtOAc:ヘキサン)によりさらに精製して、橙色の固体0.2 8g(24%)を純粋な生成物として得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 イオンスプレー質量スペクトル:M+1=360.0、M−1=358.0。 C2025NO3Sに関する分析: 理論値:C 66.82;H 7.01;N 3.90。 実測値:C 66.86;H 7.16;N 3.85。 実施例243 N−2−(4−アセチルフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 無水THF(30ml)中の製造例39の生成物(2.0g、6.4mmol)の−80℃ の溶液をnBuLiの溶液(8.0ml、13.5mmol、ヘキサン中の1.7M溶液)で 徐々に処理した。その反応物を−80℃で30分間攪拌した後、ジメチルアセト アミド(0.6ml、12.8mmol)で処理した。その反応物を、−80℃で、塩化ア ンモニウムの水性飽和溶液(2ml)で処理した。その混合物に水(30ml)を加えて 、有機層をエーテル(2×50ml)で抽出した。合わせた有機層をブライン(50m l)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させて、濃縮した。粗製の生成物をフラッ シュクロマトグラフィー(SiO2、30% EtOAc:ヘキサン)によりさらに精製して 、白色の固体1.0g(55%)を純粋な生成物として得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=283.0。 C1421NO3Sに関する分析: 理論値:C 59.34;H 7.47;N 4.94。 実測値:C 59.36;H 7.65;N 5.10。 実施例244 N−2−(4−シクロプロピルカルバノイルフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド アセトン中の製造例67の生成物(0.18g、0.63mmol)の0℃の溶液を4 −メチルモルホリン(0.095g、0.94mmol)およびクロロギ酸イソブチル( 0.094g、0.69mmol)で処理した。その反応混合物を30分間攪拌して、 減圧下に濃縮した。その結果得られた白色の固体をDMFに取り入れて、クロロ プロピルアミン(0.040g、0.69mmol)およびDMAP(触媒性)を加えた。 その反応混合物を周囲温度で16時間攪拌した。水(5ml)を加えて、有機物を塩 化メチレン(2×20ml)で抽出した。合わせた有機層をNaHSO4の水性飽和溶液( 20ml)、ブライン(20ml)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させて、減圧下 に濃縮した。粗製の物質をフラッシュクロマトグラフィー(SiO2、30%EtOAc: ヘキサン)により精製して、白色の固体0.09g(56%)を純粋な生成物として 得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=324.2。 C162423Sに関する分析: 理論値:C 59.23;H 7.46;N 8.63。 実測値:C 59.35;H 7.69;N 8.53。 実施例245 N−2−(4−シクロペンチルカルバノイルフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例67の物質から出発し、シクロペンチルアミンを使用して、標記化合物 90mg(41%)を実施例244の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=352.2。 C182823Sに関する分析: 理論値:C 61.33;H 8.01;N 7.95。 実測値:C 61.08;H 7.78;N 8.07。 実施例246 N−2−(4−(2−フルオロフェニル)カルバノイルフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例67の物質から出発し、2−フルオロアニリンを使用して、標記化合物 105mg(50%)を実施例244の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=378。 C182823Sに関する分析: 理論値:C 61.20;H 6.42;N 7.14。 実 測値:C 61.12;H 6.27;N 6.87。 実施例247 N−2−(4−ベンジルスルホニルアミノフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の物質から出発し、ベンジルスルホニルクロリドを使用して、標記 化合物63mg(82%)を実施例179の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=396。 実施例248 N−2−(4−(2−チエニル)スルホニルアミノフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例58の生成物から出発し、2−チエニルスルホニル クロリドを使用し て、標記化合物を実施例187の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=428.2。 実施例249および250 N−2−(4−(3−オキソシクロペンチル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド(A) および N−2−(4−(3−ヒドロキシシクロペンチル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド(B) 水素雰囲気下、EtOAc(5ml)中の製造例75から得られた物質(0.15g、0. 47mmol)の溶液を、炭素に担持させたパラジウム(0.02g、10モル%)で処 理した。その混合物を周囲温度で4時間攪拌した後、50℃まで2時間加熱した 。その反応物を、セライトケーキを通して濾過して、濾液を減圧下に濃縮した。 両方の標記生成物の粗製の混合物をフラッシュクロマトグラフィー(SiO2、70 % EtOAc:ヘキサン)により精製して、1番目の標記化合物(A)0.06g(4 0%)および2番目の標記化合物(B)0.05g(33%)を得た。 (A)NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=323。 C1725NO3Sに関する分析: 理論値:C 63.13;H 7.91;N 4.33。 実測値:C 63.34;H 7.76;N 4.30。 (B)NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=325。 C1727NO3Sに関する分析: 理論値:C 62.74;H 8.36;N 4.30。 実測値:C 62.54;H 8.27;N 4.24。 実施例251 N−2−(4−(2−ヒドロキシ−2−フェニル)エチルフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド エタノール(5ml)中の実施例242から得られた標記化合物(65mg、0.18 mmol)の溶液を水素化ホウ素ナトリウム(9mg、0.22mmol)で処理した。その反 応混合物を2時間攪拌して、水(2ml)を徐々に加えた。その混合物を塩化メチレ ン(2×10ml)で抽出した。合わせた有機層をブライン(95ml)で洗浄し、硫酸 マグネシウムで乾燥させて、減圧下に濃縮した。その結果得られた粗製の生成物 をEtOAcで希釈して、1インチのシリカゲルプラスを通して濾過して、減圧下に 濃縮して、無色の油状物質61mg(94%)を純粋な生成物として得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=361。 C2027NO3Sに関する分析: 理論値:C 66.45;H 7.53;N 3.87。 実測値:C 66.36;H 7.77;N 3.63。 実施例252 N−2−(4−ホルミルフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例39の生成物から出発し、ジメチルホルムアミドを使用して、標記化合 物1.18g(68%)を実施例243の方法に従い固体として製造した。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=269.3。 C1319NO3Sに関する分析: 理論値:C 57.97;H 7.11;N 5.20。 実測値:C 57.78;H 6.95;N 5.00。 実施例253 N−2−(4−(1−ピロリジニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド DMF(20ml)中の製造例60から得られた物質(0.17g、0.45mmol)の 溶液をジョードブタン(0.15g、0.95mmol)で処理した後、水素化ナトリウ ム(38mg、0.47mmol)で処理した。その反応混合物を70℃まで4時間加熱 した。水(10ml)を加えて、有機物をエーテル(2×20ml)で抽出した。合わせ た有機層をブライン(10ml)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させて、濃縮し た。粗製の生成物をフラッシュクロマトグラフィー(SiO2、20% EtOAc:ヘキ サン)によりさらに精製して、油状物質0.10gを得た。この油状物質を塩化メ チレン(10ml)で希釈して、TFA(2ml)を加えた。その反応物を周囲温度で3 時間攪拌した。水(5ml)を加えて、有機物をブライン(5ml)でさらに洗浄し、硫 酸マグネシウムで乾燥させて、減圧下に濃縮した。フラッシュクロマトグラフィ ー(SiO2、30% EtOAc:ヘキサン)により、白色の固体20mg(14%)を純粋な 生成物として得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=310.2。 実施例254 N−2−(4−N−(ベンズアミド)フェニル)−2−メチルプロピル 2−プロパンスルホンアミド 窒素下、ジクロロメタン(20ml)中の製造例82から得られたアミン(150m g、.56mmol)およびトリエチルアミン(65mg、1.1当量)の溶液に、室温で、 ジクロロメタン(5ml)中の塩化ベンジル(87mg、1.1当量)を滴加した。1時 間後、その反応が完了した。その溶液をH2Oで1回洗浄し、K2CO3で乾燥さ せて、減圧下に濃縮して、固体206mgを得た。物質をヘキサン/酢酸エチル5 :1から再結晶化させて、141mgを結晶として得た。 融点:202.5−204℃(67%)。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+375。 C202623Sに関する分析: 理論値:C 64.14;H 7.00;N 7.48。 実測値:C 64.20;H 7.25;N 7.58。 実施例255 N−2−(4−N−(シクロブチルカルボキシアミド)フェニル)−2− メチルプロピル2−プロパンスルホンアミド 製造例82の生成物(100mg、0.37mmol)およびトリエチルアミン(45mg 、1.2当量)から出発し、シクロブタンカルボニルクロリド(48mg、1.1当量 )で処理して、標記化合物を実施例254の方法に従い固体として製造した。そ の結果得られた固体を酢酸エチル/ヘキサン 4:1から再結晶化させて、結晶 74mgを得た。 融点:186−188℃(57%)。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+353。 C182823Sに関する分析: 理論値:C 61.33;H 8.01;N 7.95。 実測値:C 61.51;H 7.77;N 7.80。 実施例256 N−2−(4−N−(プロパノイルアミド)フェニル)−2−メチルプロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例82の生成物(100mg、0.37mmol)およびトリエチルアミン(45mg 、1.2当量)から出発し、塩化プロパノイル(40mg、1.1当量)で処理して、 標記化合物を実施例254の方法に従い固体として製造した。その結果得られた 固体を酢酸エチル/ヘキサン 4:1から再結晶化させて、結晶75mgを得た。 融点:154−155℃(58%)。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+327。 C162623Sに関する分析: 理論値:C 58.87;H 8.03;N 8.58。 実測値:C 58.96;H 7.75;N 8.54。 実施例257 N−2−(4−N−(2−チエニルカルボキシアミド)フェニル)−2− メチルプロピル2−プロパンスルホンアミド 製造例82の生成物(100mg、0.37mmol)から出発し、2−チオフェン ク ロリド(66mg、1.2当量)で処理して、標記化合物を実施例254の方法に従 い固体として製造した。その結果得られた固体を酢酸エチル/ヘキサン 2:1 から再結晶化させて、結晶77mgを得た。 融点:183−185℃(55%)。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+381。 C1824232に関する分析: 理論値:C 56.81;H 6.36;N 7.36。 実測値:C 56.90;H 6.57;N 7.39。 実施例258 N−2−(4−N−(3−(5−メチル)イソオキサゾリルカルボキシアミド)− フェニル)−2−メチルプロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例82の生成物(100mg、0.37mmol)およびトリエチルアミン(45mg 、1.2当量)から出発し、5−メチル−3−イソオキサゾール酸クロリド(68m g、1.2当量)で処理して、標記化合物を実施例254の方法に従い固体として 製造した。その結果得られた固体をヘキサン/酢酸エチル 1:1から再結晶化 させて、結晶83mgを得た。 融点:118−120℃(59%)。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+−380。 C182534Sに関する分析: 理論値:C 56.97;H 6.64;N 11.07。 実測値:C 57.11;H 6.68;N 11.16。 実施例259 N−2−(4−N−(フェノキシメチルカルボキシアミド)フェニル)−2− メチルプロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例82の生成物(100mg、0.37mmol)およびトリエチルアミン(45mg 、1.2当量)で出発し、フェノキシアセチルクロリド(76mg、1.2当量)で処 理して、標記化合物を実施例254の方法に従い固体として製造した。その結果 得られた固体をヘキサン/酢酸エチル 1:1から再結晶化させて、結晶80mg を得た。 融点:143−144℃(54%)。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+405。C212824Sに 関する分析: 理論値:C 62.35;H 6.98;N 6.93。 実測値:C 62.37;H 6.83;N 6.74。 実施例260 N−2−(4−N−(4−エチルベンズアミド)フェニル)−2−メチルプロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例82の生成物(100mg、0.37mmol)およびトリエチルアミン(45mg 、1.2当量)で出発し、4−エチルベンゾイルクロリド(76mg、1.2当量)で 処理して、標記化合物を実施例254の方法に従い固体として製造した。その結 果得られた固体をヘキサン/酢酸エチル 1:1から再結晶化させて、結晶68m gを得た。 融点:118−119℃(46%)。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+403。 C223023Sに関する分析: 理論値:C 65.64;H 7.51;N 6.96。 実測値:C 65.84;H 7.47;N 7.06。 実施例261 N−2−[4−N−(シクロヘキシルカルボキシアミド)フェニル]−2− メチルプロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例82の生成物(100mg、0.37mmol)およびトリエチルアミン(45mg 、1.2当量)で出発し、シクロヘキサンカルボニルクロリド(51mg、1.2当量 )で処理して、標記化合物を実施例254の方法に従い固体として製造した。そ の結果得られた固体をヘキサン/酢酸エチル 3:1から再結晶化させて、結晶 91mgを得た。 融点:203−205℃(65%)。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+381。 C203223Sに関する分析: 理論値:C 63.13;H 8.48;N 7.36。 実測値:C 63.41;H 8.66;N 7.58。 実施例262 N−2−[4−N−(イソニコチニルアミド)フェニル]−2−メチルプロピル 2−プロパンスルホンアミド 製造例82の生成物(100mg、0.37mmol)およびトリエチルアミン(90mg 、2.2当量)で出発し、イソニコチノイルクロリドHCl(100mg、1.2当量)で 処理して、標記化合物を実施例254の方法に従い固体として製造した。その結 果得られた固体をヘキサン/酢酸エチル 1:1から再結晶化させて、結晶90m gを得た。 融点:174−175℃(65%)。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+376。 C192533Sに関する分析: 理論値:C 60.78;H 6.71;N 11.19。 実測値:C 61.01;H 7.01;N 11.04。 実施例263 窒素下、ジクロロメタン(20ml)中の製造例84から得られたアミン(100m g、0.39mmol)およびトリエチルアミン(45mg、0.43mmol)の溶液に、室温 で、ジクロロメタン(5ml)中のベンゾイルクロリド(61mg、1.2当量)を滴加 した。1時間後、その反応が完了した。その溶液をH2Oで1回洗浄し、K2CO3 で乾燥させて、減圧下に濃縮して、固体139mgを得た。物質をヘキサン/酢 酸エチル 3:1から再結晶化させて、70mgを結晶として得た。 融点:146−148℃(50%)。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+362。 C182333Sに関する分析: 理論値:C 59.81;H 6.41;N 11.63。 実測値:C 60.08;H 6.36;N 11.45。 実施例264 N−2−(4−N−(シクロブチルカルボキシアミド)フェニル)プロピル N,N−ジメチルスルファミド 製造例84の生成物(100mg、0.39mmol)およびトリエチルアミン(45mg 、1.2当量)から出発し、シクロブタンカルボニルクロリド(55mg、1.2当量 )で処理して、標記化合物を実施例263の方法に従い固体として製造した。そ の結果得られた固体を酢酸エチル/ヘキサン 3:1から再結晶化させて、結晶 55mgを得た。 融点:161−162℃(42%)。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+340。 C162533Sに関する分析: 理論値:C 56.61;H 7.42;N 12.38。 実測値:C 56.91;H 7.66;N 12.45。 実施例265 N−2−(4−N−(プロピオニルアミド)フェニル)プロピル N,N−ジメチルスルファミド 製造例84の生成物(100mg、0.39mmol)およびトリエチルアミン(45mg 、1.2当量)から出発し、プロピオニルクロリド(40mg、1.2当量)で処理し て、標記化合物を実施例263の方法に従い固体として製造した。その結果得ら れた固体を酢酸エチル/ヘキサン 4:1から再結晶化させて、結晶57mgを得 た。 融点:109−110.5℃(51%)。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+314。 C142333Sに関する分析: 理論値:C 53.65;H 7.40;N 13.41。 実測値:C 53.91;H 7.48;N 13.41。 実施例266 N−2−(4−N−(2−チエニルカルボキシアミド)フェニル)プロピル N,N−ジメチルスルファミド 製造例84の生成物(100mg、0.39mmol)およびトリエチルアミン(45mg 、1.2当量)から出発し、2−チオフェンクロリド(70mg、1.2当量)で処理 して、標記化合物を実施例263の方法に従い固体として製造した。その結果得 られた固体を酢酸エチル/ヘキサン 1:1から再結品化させて、結晶62mgを 得た。 融点:148−150℃(43%)。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+368。 C1621332に関する分析: 理論値:C 52.30;H 5.76;N 11.43。 実測値:C 52.59;H 5.78;N 11.23。 実施例267 N−2−(4−N−(3−(5−メチル)イソオキサゾリルカルボキシアミド)− フェニル)プロピルN,N−ジメチルスルファミド 製造例84の生成物(100mg、0.39mmol)およびトリエチルアミン(45mg 、1.2当量)から出発し、5−メチル−3−イソオキサゾール酸クロリド(70m g、1.2当量)で処理して、標記化合物を実施例263の方法に従い固体として 製造した。その結果得られた固体をヘキサン/酢酸エチル 4:1から再結晶化 させて、結晶78mgを得た。 融点:138.5−140℃(55%)。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+367。 C162244Sに関する分析: 理論値:C 52.44;H 6.05;N 15.29。 実測値:C 52.71;H 6.20;N 15.28。 実施例268 N−2−(4−N−(フェノキシメチルカルボキシアミド)フェニル)プロピル N,N−ジメチルスルファミド 製造例84の生成物(100mg、0.39mmol)およびトリエチルアミン(45mg 、1.2当量)で出発し、フェノキシアセチルクロリド(73mg、1.2当量)で処 理して、標記化合物を実施例263の方法に従い固体として製造した。その結果 得られた固体をヘキサン/酢酸エチル 9:1から再結晶化させて、結晶73mg を得た。 融点:120−121℃(48%)。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+392。 C192534Sに関する分析: 理論値:C 58.29;H 6.44;N 10.73。 実測値:C 58.49;H 6.22;N 10.45。 実施例269 N−2−(4−N−(4−エチルベンズアミド)フェニル)プロピル N,N−ジメチルスルファミド 製造例84の生成物(100mg、0.39mmol)およびトリエチルアミン(45mg 、1.2当量)で出発し、4−エチルベンゾイルクロリド(80mg、1.2当量)で 処理して、標記化合物を実施例263の方法に従い固体として製造した。その結 果得られた固体をヘキサン/酢酸エチル 2:1から再結晶化させて、結晶87m g を得た。 融点:131−133℃(57%)。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+390。 C202733Sに関する分析: 理論値:C 61.67;H 6.99;N 10.79。 実測値:C 61.49;H 6.79;N 10.97。 実施例270 N−2−(4−N−(イソニコチニルアミド)フェニル)プロピル N,N−ジメチルスルファミド 製造例84の生成物(73mg、0.29mmol)およびトリエチルアミン(75mg、 2.2当量)で出発し、イソニコチノイルクロリドHCl(78mg、1.2当量)で処理 して、標記化合物を実施例263の方法に従い固体として製造した。その結果得 られた固体をヘキサン/酢酸エチル 2:1から再結晶化させて、70mgを結晶 として得た。 融点:156−157℃(50%)。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+363。 C172243Sに関する分析: 理論値:C 56.34;H 6.12;N 15.46。 実測値:C 56.62;H 5.80;N 15.17。 実施例271 N−2−(2−チエン−3−イル−5−チエニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド A.(2−アセチル−5−チエン−3−イル)チオフェン: ジオキサン32mlおよび水8ml中の2−アセチル−5−ブロモチオフェン1. 45g(7.10mmol)、チオフェン3−ホウ酸2.0g(7.81mmol)、テトラキ ス(トリフェニルホスフィン)パラジウム328mg(0.28mmol)、および炭酸カ リウム1.47g(10.6mmol)の溶液を90℃で3日間加熱した。ブラインを加 えて、酢酸エチルで3回抽出した。有機相をNa2SO4で乾燥させ、濾過して、減圧 下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル300g、25%酢酸 エチル/ヘキサン)により、標記化合物1.10g(74%)を得た。 B.2−[2−(チエン−3−イル)−5−チエニル]プロピルアミン: DME18ml中の工程Aで製造した物質1.1g(5.3mmol)およびイソシアン 化トシルメチル1.05g(5.35mmol)の−15℃の溶液に、tert−ブタノール 5ml中のカリウムtert−ブトキシド1.07g(9.54mmol)の熱溶液を徐々に加 えた。その混合物を−5℃で45分間、そして周囲温度で2時間攪拌した。水を 加えて、ジエチルエーテルで3回抽出した。有機相をNa2SO4で乾燥させ、濾過し て、減圧下に濃縮した。粗製の物質をジエチルエーテル15mlに溶解した後、ジ エチルエーテル5ml中の水素化アルミニウムリチウム218mg(5.75)の縣濁 液に加えた。その混合物を周囲温度で2時間攪拌した。Na2SO4・10H2Oを加 えて、その混合物を周囲温度で30分間攪拌した。固体を濾過して、その有機溶 液を減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル150g、酢 酸エチル/ヘキサン/メタノール10/10/1)により、標記化合物250mg( 22%)を得た。 C.ジクロロメタン(5ml)中の工程Bで製造した物質200mg(0.89mmol)の0 ℃の溶液にトリエチルアミン0.15ml(1.07mmol)を加えた後、イソプロピル スルホニルクロリド(0.12ml、1.07mmol)を加えた。氷浴を取り外して、そ の溶液を周囲温度で一晩攪拌した。その有機溶液を1N 塩酸、重炭酸ナトリウ ム飽和溶液、ブラインで洗浄し、Na2SO4で乾燥させ、濾過して、減圧下に濃縮し た。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル100g、25%酢酸エチル/ヘ キサン)により、標記化合物61mg(21%)を得た。 C1419NO23に関する分析: 計算値:%C 51.03;%H 5.81;%N 4.25。 実測値:%C 51.30;%H 5.81;%N 4.25。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=329。 実施例272 N−2−(2−チエン−3−イル−4−チエニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 4−アセチル−2−ブロモチオフェン4.38g(21.31mmol)およびチオフ ェン 3−ホウ酸3g(23.44mmol)を使用して、実施例271でのようにして 製造した。3工程の後、全収量421mg(6%)を得た。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=329。 実施例273 N−2−(2−チエン−3−イル−5−ピリジル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド A.2−(2−チエン−3−イル−5−ピリジル)プロパンニトリル: ジオキサン13mlおよび水3ml中の5−アセチル−2−ブロモピリジン960 mg(4.8mmol)、チオフェン 3−ホウ酸676mg(5.28mmol)、テトラキス(ト リフェニルホスフィン)パラジウム222mg(0.19mmol)、および炭酸カリウム 995mg(7.2mmol)の溶液を90℃で一晩加熱した。ブラインを加えて、酢酸 エチルで3回抽出した。有機相をNa2SO4で乾燥させ、濾過して、減圧下に濃縮し た。THF16ml中の粗製物およびシアン化リチウム475mg(14.4mmol)の 溶液に、シアノホスホン酸ジエチル2.2ml(14.4mmol)を手際良く(neat)周囲 温度で加えた。その混合物を周囲温度で30分間攪拌した。水を加えて、酢酸エ チル/ヘキサンの1:1溶液で抽出した。その有機溶液をNa2SO4で乾燥させ、濾 過して、減圧下に濃縮した。その粗製物をTHF10mlに溶解して、サマリウム 3.32g(22.08mmol)および1,2−ジヨードエタン3.89g(13.8mmol )から製造したヨウ化サマリウムの溶液に滴加した。その混合物を1時間攪拌し た。塩酸の2.5N 溶液を加えて、ジエチルエーテルで3回抽出した。有機相を チオ硫酸ナトリウムの1N 溶液で洗浄した。その有機溶液をNa2SO4で乾燥させ 、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル10 0g、25%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物225mg(22%)を得 た。 B.THF5ml中の工程Aで製造した物質214mg(1mmol)の周囲温度の溶液に 、THF中のボラン−メチルスルフィド錯体(1.1mmol)の10M 溶液0.11m lを滴加した。その混合物を周囲温度で2時間攪拌した。次いで、THF中のボ ラン−メチルスルフィド錯体(1.0mmol)の10M 溶液0.1mlを加えて、その 混合物を一晩攪拌した。メタノール(5ml)中の塩酸の飽和溶液を加えて、10分 間攪拌した。その溶液を減圧下に濃縮した。その粗製物をジクロロメタン(5ml) に溶解して、0℃まで冷却し、トリエチルアミン0.44ml(3.2mmol)を加えた 後、イソプロピルスルホニルクロリド(0.14ml、1.2mmol)を加えた。氷浴を 取り外して、その溶液を周囲温度で2時間攪拌した。その有機溶液を1N 塩酸 、重炭酸ナトリウム飽和溶液、ブラインで洗浄し、Na2SO4で乾燥させ、濾過して 、減圧下に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル50g、33% 酢酸エチル/ヘキサン)により、標記化合物25mg(7%)を得た。 フィールドディソープション質量スペクトル:M=324。 実施例274 (+)−N−2R−(4−(3−チエニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 0℃で、ジクロロメタン10ml中の製造例102から得られた物質0.75g( 3.5mmol)および1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7−エン0.60 ml(3.8mmol)の溶液に、2−プロパンスルホニル クロリド0.40ml(3.5mmo l)を加えた。その混合物を室温で4時間攪拌した後、1N 塩酸10mlで洗浄し 、有機層を分離して、水層をジクロロメタン5mlで1回抽出した。合わせた有機 物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。メチルアルコールからの 再結晶化により、標記化合物0.46g(41%)を得た。 C1621NO22に関する分析: 計算値:%C 59.41;%H 6.54;%N 4.33。 実測値:%C 59.69;%H 6.68;%N 4.42。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+1=324。 [a]D 20=+42.55(c=0.99、CHCl3)。 実施例275 (+)−N−2S−(4−(3−チエニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例274の方法に従い、製造例102から得られた物質の代わりに製造例 103から得られた物質を使用して、標記化合物0.45g(39%)を得た。 C1621NO22に関する分析: 計算値:%C 59.41;%H 6.54;%N 4.33。 実測値:%C 59.71;%H 6.35;%N 4.43。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+1=324。 [a]D 20=−43.98(c=1.05、CHCl3)。 実施例276 (+)−N−2R−(4−(3−チエニル)フェニル)プロピル N',N'−ジメチルスルファミド 0℃で、ジクロロメタン10ml中の製造例102から得られた物質0.1g(0 .46mmol)および1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7−エン0.07 ml(0.46mmol)の溶液に、N,N−ジメチルスルファモイル クロリド0.05ml (0.46mmol)を加えた。その混合物を室温で4時間攪拌した後、1N 塩酸10 mlで洗浄し、有機層を分離して、水層をジクロロメタン5mlで1回抽出した。合 わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロ マトグラフィー(シリカゲル10g、25%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記 化合物0.04g(26%)を得た。 C152ON222に関する分析: 計算値:%C 55.53;%H 6.21;%N 8.63。 実測値:%C 55.39;%H 6.08;%N 8.50。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+1=325。 [a]D 20=+20.75(c=0.77、CHCl3)。 実施例277 (−)−N−2S−(4−(3−チエニル)フェニル)プロピル N',N'−ジメチルスルファミド 実施例276の方法に従い、製造例102から得られた物質の代わりに製造例 103から得られた物質を使用して、標記化合物0.02g(13%)を得た。 C1520222に関する分析: 計算値:%C 55.53;%H 6.21;%N 8.63。 実測値:%C 55.31;%H 6.23;%N 8.36。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+1=325。 [a]D 20=−25.81(c=1.24、CHCl3)。 実施例278 (+)−N−2R−(4−(2−ピリジル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド A.(R)−2−(4−(2−ピリジル)フェニル)−N−(t−ブトキシカルボニル)プ ロピルアミン: ジオキサン10ml中の製造例92から得られた物質1.0g(3.2mmol)および 2−(トリ−n−ブチルスタンニル)ピリジン1.2g(3.2mmol)の溶液に、テト ラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.18g(0.16mmol)を加え た。その混合物を100℃で18時間加熱した。その混合物を冷却して、減圧下 に濃縮した。残留物のクロマトグラフィー(シリカゲル150g、25%酢酸エ チル/ヘキサン)により、標記化合物0.87g(85%)を得た。 B.酢酸エチル5ml中の実施例278Aから得られた物質0.85g(2.7mmol) の溶液に、塩酸で飽和した酢酸エチル5mlを加えた。その混合物を室温で3時間 攪拌した後、減圧下に濃縮した。残留物をメチルアルコール5mlに縣濁させて、 減圧下に濃縮した後、ジクロロメタン5mlに溶解した。その混合物に1,8−ジ アザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7−エン1.2ml(8.4mmol)を加えて、その 溶液を0℃まで冷却した。この混合物に2−プロパンスルホニル クロリド0.3 0ml(2.7mmol)を加えた。その混合物を室温で4時間攪拌した後、1N 塩酸5 mlで洗浄し、有機層を分離して、水層をジクロロメタン5mlで3回抽出した。合 わせた有機物を乾燥させ(MgSO4)、濾過して、減圧下に濃縮した。残留物のクロ マトグラフィー(シリカゲル25g、50%酢酸エチル/ヘキサン)により、標記 化合物0.49g(57%)を得た。 C172222Sに関する分析: 計算値:%C 64.12;%H 6.71;%N 8.82。 実測値:%C 64.22;%H 6.71;%N 8.82。 質量スペクトル:M+1=319。 [a]D 20=+40(c=1.0、CHCl3)。 実施例279 (−)−N−2S−(4−(2−ピリジル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド 実施例278の方法に従い、製造例92から得られた物質の代わりに製造例9 9から得られた物質を使用して、標記化合物0.36g(47%)を得た。 C172222Sに関する分析: 計算値:%C 64.12;%H 6.96;%N 8.80。 実測値:%C 63.93;%H 6.86;%N 8.65。 質量スペクトル:M+1=319。 [a]D 20=−36(c=1.0、CHCl3)。 実施例280 N−2−(4−N−(フェニルオキサリルアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド THF(5ml)中の実施例222から得られた物質(0.28g、0.79mmol)の −78℃の溶液をフェニルマグネシウムブロミド(0.27ml、0.82mmol)で処 理した。その反応混合物を僅かに温めて、固体を溶解した。1時間後、フェニル マグネシウムブロミド(0.27ml、0.82mmol)を−78℃でさらに加えて、そ の混合物を2時間攪拌した。その反応混合物を、−78℃で、塩化アンモニウム の10%溶液でクエンチした。有機物をエーテル(2×20ml)で抽出した。合わ せた有機層をブライン(10ml)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させて、濃縮 した。粗製の生成物をフラッシュクロマトグラフィー(SiO2、30% EtOAc:ヘ キサン)によりさらに精製して、黄色の油状物質0.31g(46%)を純粋な生成 物として得た。 NMRは、提示した標記構造と一致した。 フィールドディソープション質量スペクトル:M+=389.3。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) A61K 31/41 A61K 31/41 31/42 31/42 31/4245 31/4245 31/426 31/426 31/428 31/428 31/4402 31/4402 31/4406 31/4406 31/4409 31/4409 31/4439 31/4439 31/4465 31/4465 31/495 31/495 31/505 31/505 31/5375 31/5375 31/54 31/54 31/695 31/695 C07C 307/06 C07C 307/06 311/04 311/04 311/05 311/05 311/06 311/06 311/08 311/08 311/11 311/11 311/13 311/13 311/14 311/14 311/16 311/16 311/18 311/18 311/24 311/24 311/29 311/29 311/39 311/39 C07D 207/16 C07D 207/16 211/26 211/26 213/42 213/42 213/76 213/76 239/26 239/26 257/04 257/04 C 261/08 261/08 261/10 261/10 271/06 271/06 277/10 277/10 277/26 277/26 277/28 277/28 277/56 277/56 277/66 277/66 279/02 279/02 295/12 295/12 Z A 295/20 295/20 Z 307/12 307/12 307/52 307/52 307/71 307/71 333/20 333/20 333/28 333/28 333/34 333/34 333/40 333/40 333/58 333/58 409/04 409/04 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(GH,GM,KE,LS,M W,SD,SZ,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY ,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM),AL,AM ,AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY, CA,CH,CN,CU,CZ,DE,DK,EE,E S,FI,GB,GE,GH,GM,GW,HU,ID ,IL,IS,JP,KE,KG,KP,KR,KZ, LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV,MD,M G,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,PL,PT ,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK,SL, TJ,TM,TR,TT,UA,UG,US,UZ,V N,YU,ZW (72)発明者 ブリークマン,デイビッド アメリカ合衆国46077インディアナ州ザイ オンズビル、イーグル・クリーク・コート 720番 (72)発明者 ブレイシュ,トーマス・ジェイ アメリカ合衆国46060インディアナ州ノー ブルズビル、スカーバーロウ・ウェイ318 番 (72)発明者 キャントレル,バディ・イー アメリカ合衆国46130インディアナ州ファ ウンテンタウン、ウエスト・600・サウス 1206番 (72)発明者 エスクリバノ,アナ・エメ スペイン、エ―28039マドリッド、ビリャ アミル43番、セグンド・ビ (72)発明者 マツモト,ケン アメリカ合衆国46250インディアナ州イン ディアナポリス、ブライアウッド・ドライ ブ4240番 (72)発明者 マッケノン,トレーシー・イー アメリカ合衆国98007ワシントン州ベルビ ュー、サウスイースト・エイティーンス・ ストリート15502番 (72)発明者 オルンスタイン,ポール・エル アメリカ合衆国46032インディアナ州カー メル、ボサーン・コート10441番 (72)発明者 サイモン,リチャード・エル アメリカ合衆国46142インディアナ州グリ ーンウッド、レッドバッド・プレイス371 番 (72)発明者 スミス,エドワード・シー・アール アメリカ合衆国46038インディアナ州フィ ッシャーズ、パークウェイ・ドライブ9969 番 (72)発明者 ティザノ,ジョゼフ・ピー アメリカ合衆国46163インディアナ州ニュ ー・パレスタイン、ウエスト・スウィー ト・クリーク・ドライブ6682番 (72)発明者 ザリンメイエー,ハミデ アメリカ合衆国46032インディアナ州カー メル、セイブル・ラン924番 (72)発明者 ジンマーマン,デニス・エム アメリカ合衆国46077インディアナ州ザイ オンズビル、オーク・リッジ・ドライブ 10343番

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.グルタメート受容体機能を増強するための薬剤の製造のための、式: R1−L−NHSO22 I [式中、 R1は、置換されていない芳香族もしくはヘテロ芳香族基、または置換されて いる芳香族もしくはヘテロ芳香族基を表し; R2は、(1−6C)アルキル、(3−6C)シクロアルキル、(1−6C)フルオロ アルキル、(1−6C)クロロアルキル、(2−6C)アルケニル、(1−4C)アル コキシ(1−4C)アルキル、置換されていないフェニル、もしくはハロゲン、( 1−4C)アルキル、もしくは(1−4C)アルコキシで置換されているフェニル 、または式R34N(式中、R3およびR4は各々独立して、(1−4C)アルキル を表すか、またはそれらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジニル 、ピロリジニル、ピペリジニル、モルホリノ、ピペラジニル、ヘキサヒドロアゼ ピニル、もしくはオクタヒドロアゾシニル基を形成する。)の基を表し;および Lは、置換されていない(2−4C)アルキレン鎖、もしくは(1−6C)アルキ ル、アリール(1−6C)アルキル、(2−6C)アルケニル、アリール(2−6C) アルケニル、およびアリールから独立して選択される1つもしくは2つの置換基 で置換されている(2−4C)アルキレン鎖を表すか、またはこの2つの置換基が 、それらが結合する炭素原子と一緒になって、(3−8C)炭素環式環を形成する 。] の化合物またはその医薬的に許容され得る塩の使用。 2.R2が、(1−6C)アルキル、(1−6C)フルオロアルキル、(2−6C)ア ルケニル、または式R34N(式中、R3およびR4は各々独立して、(1−4C) アルキルを表すか、またはそれらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼ チジニル、ピロリジニル、ピペリジニル、モルホリノ、ピペラジニル、ヘキサヒ ドロアゼピニル、もしくはオクタヒドロアゾシニル基を形成する。)の基を表す 、請求項1に記載の使用。 3.Lが、式:[式中、R5、R6、R7、およびR8の2つは、水素を表して、残りのものは独立 して、水素、(1−6C)アルキル、アリール(1−6C)アルキル、(2−6C)ア ルケニル、アリール(2−6C)アルケニル、もしくはアリールを表すか、または それらが結合している炭素原子と一緒になって、(3−8C)炭素環式環を形成す る。] の基を表す、請求項1または請求項2に記載の使用。 4.R6およびR7が、水素を表し;およびR5およびR8が各々独立して、水素も しくは(1−4C)アルキルを表すか、またはそれらが結合している炭素原子と一 緒になって、(3−8C)炭素環式環を形成する、請求項3に記載の使用。 5.R8が、(1−4C)アルキルを表すか、またはR5およびR8が、それらが結 合している炭素原子と一緒になって、シクロプロピル環を形成する、請求項4に 記載の使用。 6.R2が、メチル、エチル、プロピル、2−プロピル、ブチル、2−メチルプ ロピル、シクロヘキシル、トリフルオロメチル、2,2,2−トリフルオロエチル 、クロロメチル、エテニル、プロプ−2−エニル、メトキシエチル、フェニル、 4−フルオロフェニル、またはジメチルアミノを表す、請求項1〜5のいずれか に記載の使用。 7.R2が、エチル、2−プロピル、またはジメチルアミノを表す、請求項6に 記載の使用。 8.R1が、置換されていないナフチル基、もしくはフェニル、フリル、チエニ ル、もしくはピリジル基、または ハロゲン;ニトロ;シアノ;ヒドロキシイミノ;(1−10C)アルキル;(2 −10C)アルケニル;(2−10C)アルキニル;(3−8C)シクロアルキル ;ヒドロキシ(3−8C)シクロアルキル;オキソ(3−8C)シクロアルキル; ハロ(1−10C)アルキル;(CH2)y19(式中、yは、0または1 〜4の整数であり、X1は、O、S、NR10、CO、COO、OCO、CON R11、NR12CO、NR12COCOO、またはOCONR13を表し、R9は、 水素、(1−10C)アルキル、(3−10C)アルケニル、(3−10C)アルキ ニル、ピロリジニル、テトラヒドロフリル、モルホリノ、または(3−8C)シ クロアルキルを表し、およびR10、R11、R12、およびR13は各々独立して、 水素または(1−10C)アルキルを表すか、またはR9およびR10、R11、R1 2、もしくはR13は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチ ジニル、ピロリジニル、ピペリジニル、もしくはモルホリノ基を形成する。) ;N−(1−4C)アルキルピペラジニル;N−フェニル(1−4C)アルキルピ ペラジニル;チエニル;フリル;オキサゾリル;イソオキサゾリル;ピラゾリ ル;イミダゾリル;チアゾリル;ピリジル;ピリダジニル;ピリミジニル;ジ ヒドロチエニル;ジヒドロフリル;ジヒドロチオピラニル;ジヒドロピラニル ;ジヒドロチアゾリル;(1−4C)アルコキシカルボニル ジヒドロチアゾリ ル;(1−4C)アルコキシカルボニル ジメチルジヒドロチアゾリル;テトラ ヒドロチエニル;テトラヒドロフリル;テトラヒドロチオピラニル;テトラヒ ドロピラニル;インドリル;ベンゾフリル;ベンゾチエニル;ベンゾイミダゾ リル;および式R14−(La)n−X2−(Lb)m(式中、X2は、結合、O、NH、 S、SO、SO2、CO、CH(OH)、CONH、NHCO、NHCONH、 NHCOO、COCONH、OCH2CONH、またはCH=CHを表し、La およびLbは各々、(1−4C)アルキレンを表し、nおよびmの一方は0また は1であって、他方は0であり、およびR14は、置換されていないフェニルも しくはヘテロ芳香族基、または1つもしくは2つのハロゲン、ニトロ、シアノ 、ヒドロキシイミノ、(1−10C)アルキル、(2−10C)アルケニル、(2 −10C)アルキニル、(3−8C)シクロアルキル、4−(1,1−ジオキソテ トラヒドロ−1,2−チアジニル)、ハロ(1−10C)アルキル、シアノ(2− 10C)アルケニル、フェニル、および(CH2)z315(式中、zは、0また は1〜4の整数であり、X3は、O、S、NR16、CO、CH(OH)、COO 、OCO、CONR17、NR18CO、NHSO2、NHSO2NR17、NHCO NH、OCONR19、またはNR19COOを表し、R15は、 水素、(1−10C)アルキル、フェニル(1−4C)アルキル、(1−10C)ハ ロアルキル、(1−4C)アルコキシカルボニル(1−4C)アルキル、(1−4 C)アルキルスルホニルアミノ(1−4C)アルキル、(N−(1−4C)アルコキ シカルボニル)(1−4C)アルキルスルホニルアミノ(1−4C)アルキル、(3 −10C)アルケニル、(3−10C)アルキニル、(3−8C)シクロアルキル 、カンホリル、または置換されていない芳香族もしくはヘテロ芳香族基、もし くは1つもしくは2つのハロゲン、(1−4C)アルキル、ハロ(1−4C)アル キル、ジ(1−4C)アルキルアミノ、および(1−4C)アルコキシで置換され ている芳香族もしくはヘテロ芳香族基を表し、およびR16、R17、R18、およ びR19は各々独立して、水素または(1−10C)アルキルを表すか、またはR 15およびR16、R17、R18、もしくはR19は、それらが結合している窒素原子 と一緒になって、アゼチジニル、ピロリジニル、ピペリジニル、もしくはモル ホリノ基を形成する。)で置換されているフェニルもしくはヘテロ芳香族基を 表す。)の基から独立して選択される1つもしくは2つの置換基で置換されて いるナフチル基、もしくはフェニル、フリル、チエニル、もしくはピリジル基 を表す、請求項1〜7のいずれかに記載の使用。 9.R1が、置換されていないナフチル基もしくはフェニル基、または ハロゲン;ニトロ;シアノ;(1−10C)アルキル;(V2−10C)アルケニ ル;(2−10C)アルキニル;(3−8C)シクロアルキル;ハロ(1−10C) アルキル;(CH2)y19(式中、yは、0または1〜4の整数であり、X1 は、O、S、NR10、CO、COO、OCO、CONR11、NR12CO、OC ONR13を表し、R9は、水素、(1−10C)アルキル、(3−10C)アルケ ニル、(3−10C)アルキニル、または(3−8C)シクロアルキルを表し、お よびR10、R11、R12、およびR13は各々独立して、水素または(1−10C) アルキルを表すか、またはR9およびR10、R11、R12、もしくはR13は、そ れらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジニル、ピロリジニル、 ピペリジニル、もしくはモルホリノ基を形成する。);チエニル;フリル;オ キサゾリル;イソオキサゾリル;ピラゾリル;イミダゾリル;チアゾリ ル;ピリジル;ピリダジニル;ピリミジニル;ジヒドロチエニル;ジヒドロフ リル;ジヒドロチオピラニル;ジヒドロピラニル;テトラヒドロチエニル;テ トラヒドロフリル;テトラヒドロチオピラニル;テトラヒドロピラニル;イン ドリル;ベンゾフリル;ベンゾチエニル;ベンゾイミダゾリル;および式R14 −(La)n−X2−(Lb)m(式中、X2は、結合、O、NH、S、SO、SO2、 CO、CONH、またはNHCOを表し、LaおよびLbは各々、(1−4C)ア ルキレンを表し、nおよびmの一方は0または1であって、他方は0であり、 およびR14は、置換されていないフェニル基、または1つもしくは2つのハロ ゲン、ニトロ、シアノ、(1−10C)アルキル、(2−10C)アルケニル、( 2−10C)アルキニル、(3−8C)シクロアルキル、ハロ(1−10C)アル キル、および(CH2)z315(式中、zは、0または1〜4の整数であり、 X3は、O、S、NR16、CO、COO、OCO、CONR17、NR18CO、 OCONR19を表し、R15は、水素、(1−10C)アルキル、(3−10C)ア ルケニル、(3−10C)アルキニル、または(3−8C)シクロアルキルを表し 、およびR16、R17、R18、およびR19は各々独立して、水素または(1−1 0C)アルキルを表すか、またはR15およびR16、R17、R18、もしくはR19 は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジニル、ピロリジ ニル、ピペリジニル、もしくはモルホリノ基を形成する。)で置換されている フェニル基を表す。)の基から独立して選択される1つもしくは2つの置換基 で置換されているナフチル基もしくはフェニル基 を表す、請求項1〜8のいずれかに記載の使用。 10.R1が、2−ナフチル、または式: [式中、 R20は、ハロゲン;ニトロ;シアノ;ヒドロキシイミノ;(1−10C)アルキ ル;(2−10C)アルケニル;(2−10C)アルキニル;(3−8C)シクロアル キル;ヒドロキシ(3−8C)シクロアルキル;オキソ(3−8C)シクロアルキル ;ハロ(1−10C)アルキル;(CH2)y19(式中、yは、0または1〜4の 整数であり、X1は、O、S、NR10、CO、COO、OCO、CONR11、N R12CO、NR12COCOO、またはOCONR13を表し、R9は、水素、(1− 10C)アルキル、(3−10C)アルケニル、(3−10C)アルキニル、ピロリ ジニル、テトラヒドロフリル、モルホリノ、または(3−8C)シクロアルキルを 表し、およびR10、R11、R12、およびR13は各々独立して、水素または(1− 10C)アルキルを表すか、またはR9およびR10、R11、R12、もしくはR13は 、それらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジニル、ピロリジニル 、ピペリジニル、もしくはモルホリノ基を形成する。);N−(1−4C)アルキ ルピペラジニル;N−フェニル(1−4C)アルキルピペラジニル;チエニル;フ リル;オキサゾリル;イソオキサゾリル;ピラゾリル;イミダゾリル;チアゾリ ル;ピリジル;ピリダジニル;ピリミジニル;ジヒドロチエニル;ジヒドロフリ ル;ジヒドロチオピラニル;ジヒドロピラニル;ジヒドロチアゾリル;(1−4 C)アルコキシカルボニル ジヒドロチアゾリル;(1−4C)アルコキシカルボニ ル ジメチルジヒドロチアゾリル;テトラヒドロチエニル;テトラヒドロフリル ;テトラヒドロチオピラニル;テトラヒドロピラニル;インドリル;ベンゾフリ ル;ベンゾチエニル;ベンゾイミダゾリル;および式R14−(La)n−X2−(Lb)m (式中、X2は、結合、O、NH、S、SO、SO2、CO、CH(OH)、C ONH、NHCO、NHCONH、NHCOO、COCONH、OCH2CON H、またはCH=CH、NHCOを表し、LaおよびLbは各々、(1−4C)アル キレンを表し、nおよびmの一方は0または1であって、他方は0であり、およ びR14は、置換されていないフェニルもしくはヘテロ芳香族基、または1つもし くは2つのハロゲン;ニトロ;シアノ;ヒドロキシイミノ;(1−10C)アルキ ル;(2−10C)アルケニル;(2−10C)アルキニル;(3−8C)シクロアル キル;4−(1,1−ジオキソテトラヒドロ−1,2− チアジニル);ハロ(1−10C)アルキル;シアノ(2−10C)アルケニル;フ ェニル;(CH2)z315(式中、zは、0または1〜4の整数であり、X3は、 O、S、NR16、CO、CH(OH)、COO、OCO、CONR17、NR18CO 、NHSO2、NHSO2NR17、NHCONH、OCONR19、またはNR19C OOを表し、R15は、水素、(1−10C)アルキル、フェニル(1−4C)アルキ ル、(1−10C)ハロアルキル、(1−4C)アルコキシカルボニル(1−4C)ア ルキル、(1−4C)アルキルスルホニルアミノ(1−4C)アルキル、(N−(1− 4C)アルコキシカルボニル)(1−4C)アルキルスルホニルアミノ(1−4C)ア ルキル、(3−10C)アルケニル、(3−10C)アルキニル、(3−8C)シクロ アルキル、カンホリル、または置換されていない芳香族もしくはヘテロ芳香族基 、もしくは1つもしくは2つのハロゲン、(1−4C)アルキル、および(1−4 C)アルコキシで置換されている芳香族もしくはヘテロ芳香族基を表し、および R16、R17、R18、およびR19は各々独立して、水素または(1−10C)アルキ ルを表すか、またはR15およびR16、R17、R18、もしくはR19は、それらが結 合している窒素原子と一緒になって、アゼチジニル、ピロリジニル、ピペリジニ ル、もしくはモルホリノ基を形成する。)で置換されているフェニルもしくはヘ テロ芳香族基を表す。)の基を表し;および R21は、水素原子、ハロゲン原子、(1−4C)アルキル基、または(1−4C) アルコキシ基を表す。] の基を表す、請求項8に記載の使用。 11.R1が、2−ナフチル、または式: [式中、 R20は、ハロゲン;ニトロ;シアノ;(1−10C)アルキル;(2−10C)ア ルケニル;(2−10C)アルキニル;(3−8C)シクロアルキル;ハロ(1− 10C)アルキル;(CH2)y19(式中、yは、0または1〜4の整数であり 、X1は、O、S、NR10、CO、COO、OCO、CONR11、NR12CO、 またはOCONR13を表し、R9は、水素、(1−10C)アルキル、(3−10C )アルケニル、(3−10C)アルキニル、または(3−8C)シクロアルキルを表 し、およびR10、R11、R12、およびR13は各々独立して、水素または(1−1 0C)アルキルを表すか、またはR9およびR10、R11、R12、もしくはR13は、 それらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジニル、ピロリジニル、 ピペリジニル、もしくはモルホリノ基を形成する。);チエニル;フリル;オキ サゾリル;イソオキサゾリル;ピラゾリル;イミダゾリル;チアゾリル;ピリジ ル;ピリダジニル;ピリミジニル;ジヒドロチエニル;ジヒドロフリル;ジヒド ロチオピラニル;ジヒドロピラニル;テトラヒドロチエニル;テトラヒドロフリ ル;テトラヒドロチオピラニル;テトラヒドロピラニル;インドリル;ベンゾフ リル;ベンゾチエニル;ベンゾイミダゾリル;および式R14−(La)n−X2−(Lb )m(式中、X2は、結合、O、NH、S、SO、SO2、CO、CONH、また はNHCOを表し、LaおよびLbは各々、(1−4C)アルキレンを表し、nおよ びmの一方は0または1であって、他方は0であり、およびR14は、置換されて いないフェニル基、または1つもしくは2つのハロゲン;ニトロ;シアノ;(1 −10C)アルキル;(2−10C)アルケニル;(2−10C)アルキニル;(3− 8C)シクロアルキル;ハロ(1−10C)アルキル;(CH2)z315(式中、z は、0または1〜4の整数であり、X3は、O、S、NR16、CO、COO、O CO、CONR17、NR18CO、OCONR19を表し、R15は、水素、(1−1 0C)アルキル、(3−10C)アルケニル、(3−10C)アルキニル、または(3 −8C)シクロアルキルを表し、およびR16、R17、R18、およびR19は各々独 立して、水素または(1−10C)アルキルを表すか、またはR15およびR16、R17 、R18、もしくはR19は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、ア ゼチジニル、ピロリジニル、ピペリジニル、もしくはモルホリノ基を形成する。 )で置換されているフェニル基を表す。)の基を表し;および R21は、水素原子、ハロゲン原子、(1−4C)アルキル基、または(1−4 C)アルコキシ基を表す。] の基を表す、請求項9に記載の使用。 12.R1が、2−ナフチル、4−ブロモフェニル、4−ベンズアミドフェニル 、4−メチルフェニル、4−イソプロピルフェニル、4−イソブチルフェニル、 4−t−ブチルフェニル、4−メトキシフェニル、4−イソプロポキシフェニル 、4−シクロペンチルフェニル、4−シクロヘキシルフェニル、4−(2−ヒド ロキシメチルフェニル)フェニル、4−(4−ヒドロキシメチルフェニル)フェニ ル、4−(2−フリル)フェニル、4−(3−フリル)フェニル、4−(2−チエニ ル)フェニル、4−(3−チエニル)フェニル、4−(ピロリジン−1−イル)フェ ニル、4−(ピペリジン−1−イル)フェニル、3−クロロ−4−ピペリジン−1 −イルフェニル、4−ベンジルオキシフェニル、4−(2−フルオロフェニル)フ ェニル、4−(3−フルオロフェニル)フェニル、4−(2−ホルミルフェニル)フ ェニル、4−(3−ホルミルフェニル)フェニル、4−(4−ホルミルフェニル)フ ェニル、4−(4−メチルフェニル)フェニル、または4−(2−メトキシフェニ ル)フェニルを表す、請求項11に記載の使用。 13.認識障害;神経変性障害;加齢と関係のある痴呆;加齢により誘発される 記憶障害;運動障害;薬物により誘発される状態の反転;うつ病;注意欠陥障害 ;注意欠陥多動障害;精神病;精神病と関連のある認識欠陥;または薬物により 誘発される精神病の処置のための薬剤の製造のための、式: R1−L−NHSO22 I [式中、 R1は、置換されていない芳香族もしくはヘテロ芳香族基、または置換されて いる芳香族もしくはヘテロ芳香族基を表し; R2は、(1−6C)アルキル、(3−6C)シクロアルキル、(1−6C)フルオ ロアルキル、(1−6C)クロロアルキル、(2−6C)アルケニル、(1−4C)ア ルコキシ(1−4C)アルキル、置換されていないフェニル、もしくはハロゲン、 (1−4C)アルキル、もしくは(1−4C)アルコキシで置換されているフェニル 、または式R34N(式中、R3およびR4は各々独立して、(1−4C)アルキル を表すか、またはそれらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジニル 、 ピロリジニル、ピペリジニル、モルホリノ、ピペラジニル、ヘキサヒドロアゼピ ニル、もしくはオクタヒドロアゾシニル基を形成する。)の基を表し;および Lは、置換されていない(2−4C)アルキレン鎖、もしくは(1−6C)アルキ ル、アリール(1−6C)アルキル、(2−6C)アルケニル、アリール(2−6C) アルケニル、およびアリールから独立して選択される1つもしくは2つの置換基 で置換されている(2−4C)アルキレン鎖を表すか、またはこの2つの置換基が 、それらが結合する炭素原子と一緒になって、(3−8C)炭素環式環を形成する 。] の化合物またはその医薬的に許容され得る塩の使用。 14.記憶または学習能力を改善するための薬剤の製造のための、式: R1−L−NHSO22 I [式中、 R1は、置換されていない芳香族もしくはヘテロ芳香族基、または置換されて いる芳香族もしくはヘテロ芳香族基を表し; R2は、(1−6C)アルキル、(3−6C)シクロアルキル、(1−6C)フルオ ロアルキル、(1−6C)クロロアルキル、(2−6C)アルケニル、(1−4C)ア ルコキシ(1−4C)アルキル、置換されていないフェニル、もしくはハロゲン、 (1−4C)アルキル、もしくは(1−4C)アルコキシで置換されているフェニル 、または式R34N(式中、R3およびR4は各々独立して、(1−4C)アルキル を表すか、またはそれらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジニル 、ピロリジニル、ピペリジニル、モルホリノ、ピペラジニル、ヘキサヒドロアゼ ピニル、もしくはオクタヒドロアゾシニル基を形成する。)の基を表し;および Lは、置換されていない(2−4C)アルキレン鎖、もしくは(1−6C)アルキ ル、アリール(1−6C)アルキル、(2−6C)アルケニル、アリール(2−6C) アルケニル、およびアリールから独立して選択される1つもしくは2つの置換基 で置換されている(2−4C)アルキレン鎖を表すか、またはこの2つの置換基が 、それらが結合する炭素原子と一緒になって、(3−8C)炭素環式環を形成する 。] の化合物またはその医薬的に許容され得る塩の使用。 15.式: [式中、 R1は、置換されていないナフチル基、もしくはフェニル、フリル、チエニル 、もしくはピリジル基、または ハロゲン;ニトロ;シアノ;ヒドロキシイミノ;(1−10C)アルキル;(2 −10C)アルケニル;(2−10C)アルキニル;(3−8C)シクロアルキル ;ヒドロキシ(3−8C)シクロアルキル;オキソ(3−8C)シクロアルキル; ハロ(1−10C)アルキル;(CH2)y19(式中、yは、0または1〜4の 整数であり、X1は、O、S、NR10、CO、COO、OCO、CONR11、 NR12CO、NR12COCOO、またはOCONR13を表し、R9は、水素、( 1−10C)アルキル、(3−10C)アルケニル、(3−10C)アルキニル、 ピロリジニル、テトラヒドロフリル、モルホリノ、または(3−8C)シクロア ルキルを表し、およびR10、R11、R12、およびR13は各々独立して、水素ま たは(1−10C)アルキルを表すか、またはR9およびR10、R11、R12、も しくはR13は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジニル 、ピロリジニル、ピペリジニル、もしくはモルホリノ基を形成する。);N− (1−4C)アルキルピペラジニル;N−フェニル(1−4C)アルキルピペラジ ニル;チエニル;フリル;オキサゾリル;イソオキサゾリル;ピラゾリル;イ ミダゾリル;チアゾリル;ピリジル;ピリダジニル;ピリミジニル;ジヒドロ チエニル;ジヒドロフリル;ジヒドロチオピラニル;ジヒドロピラニル;ジヒ ドロチアゾリル;(1−4C)アルコキシカルボニル ジヒドロチアゾリル;(1 −4C)アルコキシカルボニル ジメチルジヒドロチアゾリル;テトラヒドロチ エニル;テトラヒドロフリル;テトラヒドロチオピラニル;テトラヒドロピラ ニル;インドリル;ベンゾフリル;ベンゾチエニル;ベンゾイミダゾリル;お よび式R14−(La)n−X2−(Lb)m(式中、X2は、結合、 O、NH、S、SO、SO2、CO、CH(OH)、CONH、NHCO、NH CONH、NHCOO、COCONH、OCH2CONH、またはCH=CH を表し、LaおよびLbは各々、(1−4C)アルキレンを表し、nおよびmの一 方は0または1であって、他方は0であり、およびR14は、置換されていない フェニルもしくはヘテロ芳香族基、または1つもしくは2つのハロゲン、ニト ロ、シアノ、ヒドロキシイミノ、(1−10C)アルキル、(2−10C)アルケ ニル、(2−10C)アルキニル、(3−8C)シクロアルキル、4−(1,1−ジ オキソテトラヒドロ−1,2−チアジニル)、ハロ(1−10C)アルキル、シア ノ(2−10C)アルケニル、フェニル、および(CH2)z315(式中、zは 、0または1〜4の整数であり、X3は、O、S、NR16、CO、CH(OH) 、COO、OCO、CONR17、NR18CO、NHSO2、NHSO2NR17、 NHCONH、OCONR19、またはNR19COOを表し、R15は、水素、( 1−10C)アルキル、フェニル(1−4C)アルキル、(1−10C)ハロアル キル、(1−4C)アルコキシカルボニル(1−4C)アルキル、(1−4C)アル キルスルホニルアミノ(1−4C)アルキル、(N−(1−4C)アルコキシカル ボニル)(1−4C)アルキルスルホニルアミノ(1−4C)アルキル、(3−10 C)アルケニル、(3−10C)アルキニル、(3−8C)シクロアルキル、カン ホリル、または置換されていない芳香族もしくはヘテロ芳香族基、もしくは1 つもしくは2つのハロゲン、(1−4C)アルキル、および(1−4C)アルコキ シで置換されている芳香族もしくはヘテロ芳香族基を表し、およびR16、R17 、R18、およびR19は各々独立して、水素または(1−10C)アルキルを表す か、またはR15およびR16、R17、R18、もしくはR19は、それらが結合して いる窒素原子と一緒になって、アゼチジニル、ピロリジニル、ピペリジニル、 もしくはモルホリノ基を形成する。)で置換されているフェニルもしくはヘテ ロ芳香族基を表す。)の基から独立して選択される1つもしくは2つの置換基 で置換されているナフチル基、もしくはフェニル、フリル、チエニル、もしく はピリジル基 を表し; R2は、(1−6C)アルキル、(3−6C)シクロアルキル、(1−6C)フルオ ロアルキル、(1−6C)クロロアルキル、(2−6C)アルケニル、(1−4C)ア ルコキシ(1−4C)アルキル、置換されていないフェニル、もしくはハロゲン、 (1−4C)アルキル、もしくは(1−4C)アルコキシで置換されているフェニル 、または式R34N(式中、R3およびR4は各々独立して、(1−4C)アルキル を表すか、またはそれらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジニル 、ピロリジニル、ピペリジニル、モルホリノ、ピペラジニル、ヘキサヒドロアゼ ピニル、もしくはオクタヒドロアゾシニル基を形成する。)の基を表し;および R5、R6、R7、およびR8のいずれか1つは、(1−6C)アルキル;アリール (1−6C)アルキル;(2−6C)アルケニル;アリール(2−6C)アルケニル; もしくはアリールを表すか、またはR5、R6、R7、およびR8の2つは、それら が結合している炭素原子と一緒になって、(3−8C)炭素環式環を形成して;R5 、R6、R7、およびR8の残りのものは、水素を表す。] (但し、N−(2,2−ジフェニルエチル)メタンスルホンアミド、並びにR7がメ チルを表し;R5、R6、およびR8が水素を表し;および (a)R1がフェニルを表し;およびR2がメチル、ブチル、フルオロメチル、 ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、ジメチルアミノ、またはピペリジニル を表すか;または (b)R1が4−クロロフェニル、4−ニトロフェニル、または3−メトキシ フェニルを表し;およびR2がメチルを表すか;または (c)R1が4−ニトロフェニルを表し;およびR2がトリフルオロメチルを表 す; 式Iの化合物を除く。) の化合物またはその医薬的に許容され得る塩。 16.R1が、置換されていないナフチル基もしくはフェニル基、または ハロゲン;ニトロ;シアノ;(1−10C)アルキル;(2−10C)アルケニル ;(2−10C)アルキニル;(3−8C)シクロアルキル;ハロ(1−10C)ア ルキル;(CH2)y19(式中、yは、0または1〜4の整数であり、X1は 、O、S、NR10、CO、COO、OCO、CONR11、NR12CO、OCO NR13を表し、R9は、水素、(1−10C)アルキル、(3−10C)アル ケニル、(3−10C)アルキニル、または(3−8C)シクロアルキルを表し、 およびR10、R11、R12、およびR13は各々独立して、水素または(1−10 C)アルキルを表すか、またはR9およびR10、R11、R12、もしくはR13は、 それらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジニル、ピロリジニル 、ピペリジニル、もしくはモルホリノ基を形成する。);チエニル;フリル; オキサゾリル;イソオキサゾリル;ピラゾリル;イミダゾリル;チアゾリル; ピリジル;ピリダジニル;ピリミジニル;ジヒドロチエニル;ジヒドロフリル ;ジヒドロチオピラニル;ジヒドロピラニル;テトラヒドロチエニル;テトラ ヒドロフリル;テトラヒドロチオピラニル;テトラヒドロピラニル;インドリ ル;ベンゾフリル;ベンゾチエニル:ベンゾイミダゾリル;および式R14−( La)n−X2−(Lb)m(式中、X2は、結合、O、NH、S、SO、SO2、CO 、CONH、またはNHCOを表し、LaおよびLbは各々、(1−4C)アルキ レンを表し、nおよびmの一方は0または1であって、他方は0であり、およ びR14は、置換されていないフェニル基、または1つもしくは2つのハロゲン 、ニトロ、シアノ、(1−10C)アルキル、(2−10C)アルケニル、(2− 10C)アルキニル、(3−8C)シクロアルキル、ハロ(1−10C)アルキル 、および(CH2)z315(式中、zは、0または1〜4の整数であり、X3は 、O、S、NR16、CO、COO、OCO、CONR17、NR18CO、OCO NR19を表し、R15は、水素、(1−10C)アルキル、(3−10C)アルケニ ル、(3−10C)アルキニル、または(3−8C)シクロアルキルを表し、およ びR16、R17、R18、およびR19は各々独立して、水素または(1−10C)ア ルキルを表すか、またはR15およびR16、R17、R18、もしくはR19は、それ らが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジニル、ピロリジニル、ピ ペリジニル、もしくはモルホリノ基を形成する。)で置換されているフェニル 基を表す。)の基から独立して選択される1つもしくは2つの置換基で置換さ れているナフチル基もしくはフェニル基 を表し;および R2が、(1−6C)アルキル、(1−6C)フルオロアルキル、(2−6C)アル ケニル、または式R34N(式中、R3およびR4は各々独立して、(1−4C) アルキルを表すか、またはそれらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼ チジニル、ピロリジニル、ピペリジニル、モルホリノ、ピペラジニル、ヘキサヒ ドロアゼピニル、もしくはオクタヒドロアゾシニル基を形成する。)の基を表す ; 請求項15に記載の化合物。 17.R6およびR7が、水素を表す、請求項15または請求項16に記載の化合 物。 18.R5およびR8が各々独立して、水素もしくは(1−4C)アルキルを表すか 、またはそれらが結合している炭素原子と一緒になって、(3−8C)炭素環式環 を形成する、請求項17に記載の化合物。 19.R8が、メチルもしくはエチルを表すか、またはR5およびR8が、それら が結合している炭素原子と一緒になって、シクロプロピル環を形成する、請求項 18に記載の化合物。 20.R1が、2−ナフチル、または式: [式中、 R20は、ハロゲン;ニトロ;シアノ;ヒドロキシイミノ;(1−10C)アルキ ル;(2−10C)アルケニル;(2−10C)アルキニル;(3−8C)シクロアル キル;ヒドロキシ(3−8C)シクロアルキル;オキソ(3−8C)シクロアルキル ;ハロ(1−10C)アルキル;(CH2)y19(式中、yは、0または1〜4の 整数であり、X1は、O、S、NR10、CO、COO、OCO、CONR11、N R12CO、NR12COCOO、OCONR13を表し、R9は、水素、(1−10C )アルキル、(3−10C)アルケニル、(3−10C)アルキニル、ピロリジ ニル、テトラヒドロフリル、モルホリノ、または(3−8C)シクロアルキルを表 し、およびR10、R11、R12、およびR13は各々独立して、水素または(1−1 0C)アルキルを表すか、またはR9およびR10、R11、R12、もしくはR13は、 それらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジニル、ピロリジニル、 ピペリジニル、もしくはモルホリノ基を形成する。);N−(1−4C)アルキル ピペラジニル;N−フェニル(1−4C)アルキルピペラジニル;チエニル;フリ ル;オキサゾリル;イソオキサゾリル;ピラゾリル;イミダゾリル;チアゾリル ;ピリジル;ピリダジニル;ピリミジニル;ジヒドロチエニル;ジヒドロフリル ;ジヒドロチオピラニル;ジヒドロピラニル;ジヒドロチアゾリル;(1−4C) アルコキシカルボニル ジヒドロチアゾリル;(1−4C)アルコキシカルボニル ジメチルジヒドロチアゾリル;テトラヒドロチエニル;テトラヒドロフリル;テ トラヒドロチオピラニル;テトラヒドロピラニル;インドリル;ベンゾフリル; ベンゾチエニル;ベンゾイミダゾリル;および式R14−(La)n−X2−(Lb)m( 式中、X2は、結合、O、NH、S、SO、SO2、CO、CONH、NHCO、 NHCONH、NHCOO、COCONH、OCH2CONH、またはCH=C H、NHCOを表し、LaおよびLbは各々、(1−4C)アルキレンを表し、nお よびmの一方は0または1であって、他方は0であり、およびR14は、置換され ていないフェニルもしくはヘテロ芳香族基、または1つもしくは2つのハロゲン ;ニトロ;シアノ;ヒドロキシイミノ;(1−10C)アルキル;(2−10C)ア ルケニル;(2−10C)アルキニル;(3−8C)シクロアルキル;4−(1,1− ジオキソテトラヒドロ−1,2−チアジニル);ハロ(1−10C)アルキル;シア ノ(2−10C)アルケニル;フェニル;(CH2)z315(式中、zは、0また は1〜4の整数であり、X3は、O、S、NR16、CO、CH(OH)、COO、 OCO、CONR17、NR18CO、NHSO2、NHSO2NR17、NHCONH 、OCONR19、またはNR19COOを表し、R15は、水素、(1−10C)アル キル、フェニル(1−4C)アルキル、(1−10C)ハロアルキル、(1−4C)ア ルコキシカルボニル(1−4C)アルキル、(1−4C)アルキルスルホニルアミノ (1−4C)アルキル、(N−(1−4C)アルコキシカルボニル)(1−4C)アルキ ルスルホニルアミノ(1−4C)アルキル、(3−10 C)アルケニル、(3−10C)アルキニル、(3−8C)シクロアルキル、カンホ リル、または置換されていない芳香族もしくはヘテロ芳香族基、もしくは1つも しくは2つのハロゲン、(1−4C)アルキル、および(1−4C)アルコキシで置 換されている芳香族もしくはヘテロ芳香族基を表し、およびR16、R17、R18、 およびR19は各々独立して、水素または(1−10C)アルキルを表すか、または R15およびR16、R17、R18、もしくはR19は、それらが結合している窒素原子 と一緒になって、アゼチジニル、ピロリジニル、ピペリジニル、もしくはモルホ リノ基を形成する。)で置換されているフェニルもしくはヘテロ芳香族基を表す 。)の基を表し;および R21は、水素原子、ハロゲン原子、(1−4C)アルキル基、または(1−4C) アルコキシ基を表す。] の基を表す、請求項15〜19のいずれかに記載の化合物。 21.R1が、2−ナフチル、または式: [式中、 R20は、ハロゲン;ニトロ;シアノ;(1−10C)アルキル;(2−10C)ア ルケニル;(2−10C)アルキニル;(3−8C)シクロアルキル;ハロ(1−1 0C)アルキル;(CH2)y19(式中、yは、0または1〜4の整数であり、 X1は、O、S、NR10、CO、COO、OCO、CONR11、NR12CO、O CONR13を表し、R9は、水素、(1−10C)アルキル、(3−10C)アルケ ニル、(3−10C)アルキニル、または(3−8C)シクロアルキルを表し、およ びR10、R11、R12、およびR13は各々独立して、水素または(1−10C)アル キルを表すか、またはR9およびR10、R11、R12、もしくはR13は、それらが 結合している窒素原子と一緒になって、アゼチジニル、ピロリジニル、ピペリジ ニル、もしくはモルホリノ基を形成する。);チエニル;フリル;オキサ ゾリル;イソオキサゾリル;ピラゾリル;イミダゾリル;チアゾリル;ピリジル ;ピリダジニル;ピリミジニル;ジヒドロチエニル;ジヒドロフリル;ジヒドロ チオピラニル;ジヒドロピラニル;テトラヒドロチエニル;テトラヒドロフリル ;テトラヒドロチオピラニル;テトラヒドロピラニル;インドリル;ベンゾフリ ル;ベンゾチエニル;ベンゾイミダゾリル;および式R14−(La)n−X2−(Lb)m (式中、X2は、結合、O、NH、S、SO、SO2、CO、CONH、または NHCOを表し、LaおよびLbは各々、(1−4C)アルキレンを表し、nおよび mの一方は0または1であって、他方は0であり、およびR14は、置換されてい ないフェニル基、または1つもしくは2つのハロゲン;ニトロ;シアノ;(1− 10C)アルキル;(2−10C)アルケニル;(2−10C)アルキニル;(3−8 C)シクロアルキル;ハロ(1−10C)アルキル;(CH2)z315(式中、zは 、0または1〜4の整数であり、X3は、O、S、NR16、CO、COO、OC O、CONR17、NR18CO、OCONR19を表し、R15は、水素、(1−10 C)アルキル、(3−10C)アルケニル、(3−10C)アルキニル、または(3− 8C)シクロアルキルを表し、およびR16、R17、R18、およびR19は各々独立 して、水素または(1−10C)アルキルを表すか、またはR15およびR16、R17 、R18、もしくはR19は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、アゼ チジニル、ピロリジニル、ピペリジニル、もしくはモルホリノ基を形成する。) で置換されているフェニル基を表す。)の基を表し;および R21は、水素原子、ハロゲン原子、(1−4C)アルキル基、または(1−4C) アルコキシ基を表す。] の基を表す、請求項15〜19のいずれかに記載の化合物。 22.R1が、2−ナフチル、4−ブロモフェニル、4−ベンズアミドフェニル 、4−メチルフェニル、4−イソプロピルフェニル、4−イソブチルフェニル、 4−t−ブチルフェニル、4−メトキシフェニル、4−イソプロポキシフェニル 、4−シクロペンチルフェニル、4−シクロヘキシルフェニル、4−(4−(ヒド ロキシメチル)フェニル)フェニル、4−(2−(ヒドロキシメチル)フェニル)フェ ニル、4−(2−フリル)フェニル、4−(3−フリル)フェニル、4−(2−チエ ニル)フェニル、4−(3−チエニル)フェニル、4−(ピロリジン−1−イル)フ ェ ニル、4−(ピペリジン−1−イル)フェニル、3−クロロ−4−ピペリジン−1 −イルフェニル、4−ベンジルオキシフェニル、4−(2−フルオロフェニル)フ ェニル、4−(3−フルオロフェニル)フェニル、4−(2−ホルミルフェニル)フ ェニル、4−(3−ホルミルフェニル)フェニル、4−(4−ホルミルフェニル)フ ェニル、4−(4−メチルフェニル)フェニル、または4−(2−メトキシフェニ ル)フェニルを表す、請求項21に記載の化合物。 23.R2が、メチル、エチル、プロピル、2−プロピル、2−メチルプロピル 、シクロヘキシル、トリフルオロメチル、2,2,2−トリフルオロエチル、クロ ロメチル、エテニル、プロプ−2−エニル、メトキシエチル、フェニル、4−フ ルオロフェニル、またはジメチルアミノを表す、請求項15〜22のいずれかに 記載の化合物。 24.R2が、エチル、2−プロピル、またはジメチルアミノを表す、請求項2 3に記載の化合物。 25.N−2−(4−(3−チエニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホン アミド; N−2−(4−(3−チエニル)フェニル)プロピル ジメチルスルファミド; N−2−(4−シクロペンチルフェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミ ド; N−2−(4−(4−(2−メタンスルホンアミドエチル)フェニル)フェニル)プ ロピル 2−プロパンスルホンアミド; N−2−(4−(5−ブロモ−[1,2,4]オキサジアゾール−3−イル)フェニ ル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド; N−2−(4−(5−(2−メチル)テトラゾリル)フェニル)プロピル 2−プロ パンスルホンアミド; N−2−(4−(4−アミノフェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホ ンアミド; N−2−(4−(3−(5−(2−ヒドロキシ)エチル)イソオキサゾリル)フェニ ル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド; N−2−(4−(5−(3−ブロモ)イソオキサゾリル)フェニル)プロピル 2− プロパンスルホンアミド; N−2−(4−(2−ピリジル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミ ド; N−2−(4−(4−(2−(アセトアミド)エチル)フェニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホンアミド; N−2−(4−N−(ベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパンスルホン アミド; N−2−(4−N−(4−エチルベンズアミド)フェニル)プロピル 2−プロパ ンスルホンアミド; N−2−(4−N−(シクロブチルカルボキシアミド)フェニル)プロピル 2− プロパンスルホンアミド; N−2−(4−N−(5−イソオキサゾリルカルボキシアミド)フェニル)プロピ ル 2−プロパンスルホンアミド; N−2−(4−N−(6−クロロニコチニルカルバミド)フェニル)プロピル 2 −プロパンスルホンアミド; N−2−(4−N−(ピコニオイルカルバミド)フェニル)プロピル 2−プロパ ンスルホンアミド; N−2−(4−N−(ベンズアミド)フェニル)プロピル 2−ジメチルスルファ ミド; N−2−(2−チエン−3−イル−5−チエニル)プロピル 2−プロパンスル ホンアミド; (+)−N−2R−(4−(3−チエニル)フェニル)プロピル 2−プロパンスル ホンアミド; およびその医薬的に許容され得る塩から選択される、請求項15に記載の化合物 。 26.請求項15〜25のいずれかに記載の化合物、および医薬的に許容され得 る希釈剤または担体を含んでなる医薬組成物。 27.式: の化合物を、式: R2SO2X III [式中、Xは、脱離原子または基を表す。] の化合物と反応させた後、必要および/または所望である場合には、医薬的に許 容され得る塩を形成することを含んでなる、請求項15〜26のいずれかに記載 の化合物の製造方法。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001525844A (ja) * 1997-05-16 2001-12-11 ローディア シミ ペルフルオロスルホンアミド、ペルスルホンイミド及びそれらの塩の合成方法並びにスルホニル化試薬
JP2002338538A (ja) * 2001-05-21 2002-11-27 Takeda Schering-Plough Animal Health Kk 新規スルホンアミド誘導体およびそれを含む魚類用抗寄生虫薬
WO2009057515A1 (ja) * 2007-11-01 2009-05-07 Ube Industries, Ltd. スルホン酸フェニル化合物、それを用いた非水電解液及びリチウム電池
JP2013509376A (ja) * 2009-10-28 2013-03-14 ドムペ・ソチエタ・ペル・アツィオーニ ブラジキニン受容体アンタゴニストとして有用な2−アリール−プロピオンアミド誘導体およびそれらを含有する医薬組成物
JP2015519308A (ja) * 2012-04-10 2015-07-09 ザ・リージエンツ・オブ・ザ・ユニバーシテイー・オブ・カリフオルニア 癌治療用組成物および方法
JP2017206507A (ja) * 2011-12-27 2017-11-24 バイエル・インテレクチュアル・プロパティ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツングBayer Intellectual Property GmbH 殺菌剤としてのヘテロアリールピペリジン誘導体及びヘテロアリールピペラジン誘導体

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6613804B2 (en) 1993-05-20 2003-09-02 Encysive Pharmaceuticals, Inc. Biphenylsulfonamides and derivatives thereof that modulate the activity of endothelin
US5877193A (en) * 1996-07-19 1999-03-02 Hoffmann-La Roche Inc. Use of N-(4-aryl-thiazol-2-yl)-sulfonamides
GB9702194D0 (en) * 1997-02-04 1997-03-26 Lilly Co Eli Sulphonide derivatives
SK143399A3 (en) * 1997-04-28 2000-05-16 Texas Biotechnology Corp Sulfonamides for treatment of endothelin-mediated disorders
CA2322139A1 (en) 1998-02-24 1999-09-02 Eli Lilly And Company Sulphonamide derivatives
PE20000943A1 (es) * 1998-07-31 2000-09-28 Lilly Co Eli Derivados de sulfonamida
US6552086B1 (en) 1998-07-31 2003-04-22 Eli Lilly And Company Sulfonamide derivatives
US6358981B1 (en) 1998-07-31 2002-03-19 Eli Lilly And Company Sulphonamide derivatives
US6693137B1 (en) 1998-07-31 2004-02-17 Eli Lilly And Company Sulphonamide derivatives
PE20000944A1 (es) * 1998-07-31 2000-09-20 Lilly Co Eli Derivados de sulfonamida
US6617351B1 (en) 1998-07-31 2003-09-09 Eli Lilly And Company Amide, carbamate, and urea derivatives
WO2000006537A1 (en) * 1998-07-31 2000-02-10 Eli Lilly And Company N-substituted sulfonamide derivatives
PE20000942A1 (es) * 1998-07-31 2000-09-28 Lilly Co Eli Derivados de amida, carbamato y urea
CA2338862A1 (en) 1998-07-31 2000-02-10 Dennis Michael Zimmerman Alkenyl sulphonamide derivatives
DE69917278T2 (de) * 1998-07-31 2005-05-19 Eli Lilly And Co., Indianapolis Heterocyclyl sulphonamid derivate
US6500865B1 (en) 1998-07-31 2002-12-31 Eli Lilly And Company Sulfonamide derivatives
US6521605B1 (en) 1998-07-31 2003-02-18 Eli Lilly And Company Amidophosphate derivatives
US6503935B1 (en) * 1998-08-07 2003-01-07 Abbott Laboratories Imidazoles and related compounds as α1A agonists
IL146052A0 (en) 1999-04-30 2002-07-25 Lilly Co Eli Monofluoroalkyl derivatives
US6639107B1 (en) 1999-12-08 2003-10-28 Eli Lilly And Company Cyclopentyl sulfonamide derivatives
AU2001234420A1 (en) * 2000-02-03 2001-08-14 Eli Lilly And Company Potentiators of glutamate receptors
AU2001241512A1 (en) 2000-03-13 2001-09-24 Eli Lilly And Company Sulfonamide derivatives
US6984756B2 (en) * 2000-05-19 2006-01-10 Eli Lilly And Company Process for preparing biphenyl compounds
KR20030007643A (ko) 2000-05-19 2003-01-23 일라이 릴리 앤드 캄파니 술폰아미드 유도체
AU2001261023A1 (en) * 2000-05-24 2001-12-03 Eli Lilly And Company Use of an ampa receptor potentiator for the treatment of obesity
EP1292571A2 (en) * 2000-06-06 2003-03-19 Eli Lilly And Company (bis)sulfonamide derivatives
ATE272617T1 (de) 2000-06-13 2004-08-15 Lilly Co Eli Sulfonamid-derivate
WO2002018329A1 (en) * 2000-08-31 2002-03-07 Eli Lilly And Company Acetylenic sulfonamide derivatives
AU2001288972A1 (en) * 2000-09-11 2002-03-26 Sepracor, Inc. Antipsychotic sulfonamide-heterocycles, and methods of use thereof
US6900353B2 (en) * 2000-10-13 2005-05-31 Eli Lilly And Company Cyclopentyl sulfonamide derivatives
WO2002089848A2 (en) * 2001-05-04 2002-11-14 Eli Lilly And Company Use of an ampa receptor potentiator for the manufacture of a medicament for the treatment of type 2 diabetes
US20040157817A1 (en) * 2001-05-30 2004-08-12 Cantell Buddy Eugene Cycloalkenylsulfonamide derivatives
WO2002098846A1 (en) * 2001-06-05 2002-12-12 Eli Lilly And Company Sulfonamide derivatives
WO2003032974A2 (en) * 2001-10-12 2003-04-24 Eli Lilly And Company Use of sulfonamide derivatives as pharmaceuticals compounds
EP1505966A4 (en) * 2002-05-10 2006-08-30 Bristol Myers Squibb Co 1,1-DISUBSTITUTED CYCLOALKYL DERIVATIVES AS FACTOR XA HEMMER
US7005549B2 (en) * 2003-01-06 2006-02-28 Hobson David W Peracid precursors for antimicrobial use
US7307191B2 (en) * 2003-01-06 2007-12-11 Oh Technologies Llp Organic peroxyacid precursors
US7615187B2 (en) * 2003-01-06 2009-11-10 D H Technologies, LLP Organic peroxyacid precursors
US20070021606A1 (en) * 2003-04-15 2007-01-25 Ian Egle Therapeutic compounds
WO2005013961A1 (en) * 2003-07-17 2005-02-17 Eli Lilly And Company Combination therapy for treatment of cognitive disorders or psychoses
US7625932B2 (en) 2003-10-08 2009-12-01 Eli Lilly And Company Pyrrole and pyrazole derivatives as potentiators of glutamate receptors
WO2006087169A1 (en) * 2005-02-15 2006-08-24 Glaxo Group Limited Compounds which potentiate glutamate receptor and uses thereof in medicine
DE602006003661D1 (de) 2005-06-06 2008-12-24 Lilly Co Eli Ampa-rezeptoren-verstärker
US7910179B2 (en) * 2005-11-23 2011-03-22 Lg Chem, Ltd. Vinylsulfone derivative, liquid crystal composition comprising the same and compensation film using the same liquid crystal composition
US20070293573A1 (en) * 2006-02-24 2007-12-20 Eric Gouaux Glu2 receptor modulators
CN101541741A (zh) * 2006-12-11 2009-09-23 伊莱利利公司 Ampa受体增强剂
TW200841879A (en) * 2007-04-27 2008-11-01 Eisai R&D Man Co Ltd Pyridine derivatives substituted by heterocyclic ring and phosphonoamino group, and anti-fungal agent containing same
AR072297A1 (es) 2008-06-27 2010-08-18 Novartis Ag Derivados de indol-2-il-piridin-3-ilo, composicion farmaceutica que los comprende y su uso en medicamentos para el tratamiento de enfermedades mediadas por la sintasa aldosterona.
US20110218190A1 (en) * 2008-11-10 2011-09-08 The Regents Of The University Of California Therapeutic uses of ampa receptor modulators for treatment of motor dysfunction
US20130058915A1 (en) 2010-03-02 2013-03-07 Children's Medica Center Corporation Methods and compositions for treatment of angelman syndrome and autism spectrum disorders
US20130253022A1 (en) * 2010-11-30 2013-09-26 Fox Chase Chemical Diversity Center, Inc. Novel fluorinated sulfamides exhibiting neuroprotective action and their method of use
WO2013112323A1 (en) 2012-01-23 2013-08-01 Eli Lilly And Company Phenyl methanesulfonamide derivatives useful as mgat - 2 inhibitors
MX2014008604A (es) 2012-01-31 2014-08-22 Lilly Co Eli Nuevos derivados de morofolinilo utiles como inhibidores de mogat-2.
WO2013130501A1 (en) * 2012-03-01 2013-09-06 The Board Of Regents Of The University Of Texas System Bivalent ampa receptor positive allosteric modulators
JP2016501844A (ja) 2012-11-06 2016-01-21 イーライ リリー アンド カンパニー MoGAT−2阻害剤として有用な新規のベンジルスルホンアミド化合物
US9745319B2 (en) 2013-03-15 2017-08-29 Araxes Pharma Llc Irreversible covalent inhibitors of the GTPase K-Ras G12C
US9227978B2 (en) 2013-03-15 2016-01-05 Araxes Pharma Llc Covalent inhibitors of Kras G12C
CN103145637A (zh) * 2013-03-17 2013-06-12 石家庄学院 3-苯基-5-溴-1,2,4-噁二唑衍生物的合成新工艺
BR112015031249A2 (pt) 2013-06-13 2017-07-25 Veroscience Llc método de tratamento, método para tratar um distúrbio metabólico ou um elemento chave do mesmo, método para normalizar um ritmo diário de liberação de dopamina no sumn, método para estimular a liberação de dopamina de neurônios dopaminérgicos no sumn de um indivíduo e composição farmacêutica
JO3805B1 (ar) 2013-10-10 2021-01-31 Araxes Pharma Llc مثبطات كراس جي12سي
JO3556B1 (ar) 2014-09-18 2020-07-05 Araxes Pharma Llc علاجات مدمجة لمعالجة السرطان
WO2016049568A1 (en) 2014-09-25 2016-03-31 Araxes Pharma Llc Methods and compositions for inhibition of ras
ES2826443T3 (es) 2014-09-25 2021-05-18 Araxes Pharma Llc Inhibidores de proteínas mutantes KRAS G12C
CN104496920A (zh) * 2014-12-04 2015-04-08 北京理工大学 一种n-烯丙基-二取代四唑及其制备方法和检测方法
MX2017012979A (es) 2015-04-10 2017-11-28 Araxes Pharma Llc Compuestos de quinazolina sustituidos y metodos de uso de los mismos.
JP6789239B2 (ja) 2015-04-15 2020-11-25 アラクセス ファーマ エルエルシー Krasの縮合三環系インヒビターおよびその使用の方法
US10144724B2 (en) 2015-07-22 2018-12-04 Araxes Pharma Llc Substituted quinazoline compounds and methods of use thereof
EP3356354A1 (en) 2015-09-28 2018-08-08 Araxes Pharma LLC Inhibitors of kras g12c mutant proteins
EP3356339A1 (en) 2015-09-28 2018-08-08 Araxes Pharma LLC Inhibitors of kras g12c mutant proteins
EP3356349A1 (en) 2015-09-28 2018-08-08 Araxes Pharma LLC Inhibitors of kras g12c mutant proteins
US10882847B2 (en) 2015-09-28 2021-01-05 Araxes Pharma Llc Inhibitors of KRAS G12C mutant proteins
US10875842B2 (en) 2015-09-28 2020-12-29 Araxes Pharma Llc Inhibitors of KRAS G12C mutant proteins
EP3356351A1 (en) 2015-09-28 2018-08-08 Araxes Pharma LLC Inhibitors of kras g12c mutant proteins
US10858343B2 (en) 2015-09-28 2020-12-08 Araxes Pharma Llc Inhibitors of KRAS G12C mutant proteins
WO2017070256A2 (en) 2015-10-19 2017-04-27 Araxes Pharma Llc Method for screening inhibitors of ras
US10414757B2 (en) 2015-11-16 2019-09-17 Araxes Pharma Llc 2-substituted quinazoline compounds comprising a substituted heterocyclic group and methods of use thereof
US9988357B2 (en) 2015-12-09 2018-06-05 Araxes Pharma Llc Methods for preparation of quinazoline derivatives
US10822312B2 (en) 2016-03-30 2020-11-03 Araxes Pharma Llc Substituted quinazoline compounds and methods of use
US10646488B2 (en) 2016-07-13 2020-05-12 Araxes Pharma Llc Conjugates of cereblon binding compounds and G12C mutant KRAS, HRAS or NRAS protein modulating compounds and methods of use thereof
US10280172B2 (en) 2016-09-29 2019-05-07 Araxes Pharma Llc Inhibitors of KRAS G12C mutant proteins
JP2019534260A (ja) 2016-10-07 2019-11-28 アラクセス ファーマ エルエルシー Rasの阻害剤としての複素環式化合物およびその使用方法
WO2018140600A1 (en) 2017-01-26 2018-08-02 Araxes Pharma Llc Fused hetero-hetero bicyclic compounds and methods of use thereof
US11274093B2 (en) 2017-01-26 2022-03-15 Araxes Pharma Llc Fused bicyclic benzoheteroaromatic compounds and methods of use thereof
EP3573970A1 (en) 2017-01-26 2019-12-04 Araxes Pharma LLC 1-(6-(3-hydroxynaphthalen-1-yl)quinazolin-2-yl)azetidin-1-yl)prop-2-en-1-one derivatives and similar compounds as kras g12c inhibitors for the treatment of cancer
US11358959B2 (en) 2017-01-26 2022-06-14 Araxes Pharma Llc Benzothiophene and benzothiazole compounds and methods of use thereof
WO2018140513A1 (en) 2017-01-26 2018-08-02 Araxes Pharma Llc 1-(3-(6-(3-hydroxynaphthalen-1-yl)benzofuran-2-yl)azetidin-1yl)prop-2-en-1-one derivatives and similar compounds as kras g12c modulators for treating cancer
EP3630747A1 (en) 2017-05-25 2020-04-08 Araxes Pharma LLC Quinazoline derivatives as modulators of mutant kras, hras or nras
JP2020521742A (ja) 2017-05-25 2020-07-27 アラクセス ファーマ エルエルシー Krasの共有結合性阻害剤
WO2018218071A1 (en) 2017-05-25 2018-11-29 Araxes Pharma Llc Compounds and methods of use thereof for treatment of cancer
CN110577512B (zh) * 2019-09-20 2021-01-26 河南大学 非对称结构5-烷氧基-2,3′-联噻吩及溴代衍生物的制备方法
EP4151616A4 (en) * 2021-04-26 2023-12-20 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING THEREOF
CN114436911B (zh) * 2022-03-17 2023-04-28 南京林业大学 一种樟脑磺酰苄胺类化合物的制备方法及其应用

Family Cites Families (72)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE640160A (ja)
US2193015A (en) * 1939-05-24 1940-03-12 Eastman Kodak Co Developer containing sulphonamide groups
US2548574A (en) * 1947-02-27 1951-04-10 Eastman Kodak Co Sulfonamide substituted p-phenylenediamines containing o-alkoxy groups as silver halide photographic developers
US2592363A (en) * 1947-05-23 1952-04-08 Eastman Kodak Co P-phenylenediamine developer containing nu-alkylacetamido ethyl substituent
US2618656A (en) * 1950-04-29 1952-11-18 Eastman Kodak Co (alkylsulfonamidoalkyl) arylhydrazines
US2652428A (en) * 1951-05-05 1953-09-15 Eastman Kodak Co N-alkyl-n-(beta-methylsulfonamidoethyl)-p-aminophenols
US3147305A (en) 1962-09-14 1964-09-01 Smith Kline French Lab 2-phenylcyclopropylsulfamides
BE636655A (ja) 1962-09-14
CH452504A (de) * 1962-11-20 1968-03-15 Ciba Geigy Neues Sulfamid
DE1240853B (de) 1962-12-06 1967-05-24 Smith Kline French Lab Verfahren zur Herstellung von Sulfurylamiden
US3257337A (en) 1962-12-31 1966-06-21 Hooker Chemical Corp Phosphorus containing polyurethane compositions
US3267139A (en) 1963-09-24 1966-08-16 Smith Kline French Lab Nu'-trimethylacetyl-nu-phenylalkyl-sulfamides and-phenylcyclopropylsulfamides
US3629332A (en) 1969-01-29 1971-12-21 Minnesota Mining & Mfg N-(aralkyl)fluoroalkanesulfonamides
US3860723A (en) 1972-02-09 1975-01-14 Smithkline Corp Methods and compositions for increasing feed intake of animals
JPS4929179A (ja) * 1972-07-07 1974-03-15
US4210749A (en) 1974-11-12 1980-07-01 Pennwalt Corporation Substituted 1,2,4,5-tetrahydro-3H,3 benzazepines
JPS6053022B2 (ja) 1977-04-07 1985-11-22 ウェルファイド株式会社 ピリダジノン誘導体
DE2809377A1 (de) * 1978-03-04 1979-09-13 Boehringer Mannheim Gmbh Phenoxyalkylcarbonsaeure-derivate, verfahren zu deren herstellung sowie diese verbindungen enthaltende arzneimittel
FR2421880A1 (fr) * 1978-04-06 1979-11-02 Oreal Nouvelles paraphenylenediamines utilisables en teinture capillaire dite d'oxydation
DE3000377A1 (de) * 1980-01-07 1981-07-09 Boehringer Mannheim Gmbh, 6800 Mannheim Neue sulfonamide, verfahren zu deren herstellung sowie diese verbindungen enthaltende arzneimittel
US4401663A (en) * 1981-06-30 1983-08-30 The Procter & Gamble Company Novel sulfonamide derivatives
DE3535167A1 (de) 1985-10-02 1987-04-09 Boehringer Mannheim Gmbh Neue sulfonyl-phenyl(alkyl)amine, verfahren zu ihrer herstellung sowie arzneimittel
IL83230A (en) 1986-08-06 1992-06-21 Tanabe Seiyaku Co Phenoxyacetic acid derivatives,their preparation and pharmaceutical compositions containing them
US4863905A (en) * 1987-02-04 1989-09-05 Warner-Lambert Company Renin inhibitors II
JPH01175962A (ja) 1987-12-28 1989-07-12 Tanabe Seiyaku Co Ltd フェニル酢酸誘導体
DE68909958D1 (de) 1988-01-19 1993-11-25 Tanabe Seiyaku Co Phenoxyessigsäure-Derivate, ihre Herstellung, pharmazeutische Zusammensetzungen, die sie enthalten, und deren Verwendung.
CN1016963B (zh) 1988-01-28 1992-06-10 三菱化成株式会社 以苯磺酰胺为活性成分的除草剂组合物
DE3821540A1 (de) 1988-06-25 1989-12-28 Boehringer Mannheim Gmbh Neue sulfonamide, verfahren zu ihrer herstellung sowie solche sulfonamide enthaltende arzneimittel
JPH0272150A (ja) * 1988-09-06 1990-03-12 Otsuka Pharmaceut Factory Inc スルホンアミド誘導体
US5160449A (en) 1989-11-02 1992-11-03 Dow Corning Corporation Shampoo suspension containing amine functional polydiorganosiloxane
JPH0449230A (ja) 1990-06-19 1992-02-18 Tanabe Seiyaku Co Ltd トロンボキサンA↓z拮抗剤
FR2665440B1 (fr) 1990-07-31 1994-02-04 Lipha Nouveaux cycloalkylsulfonamides substitues, procedes de preparation et medicaments les contenant.
WO1992008696A1 (en) * 1990-11-20 1992-05-29 Dunlena Pty. Limited Herbicides
GB9103862D0 (en) * 1991-02-25 1991-04-10 Glaxo Group Ltd Chemical compounds
WO1993014745A1 (en) * 1992-01-23 1993-08-05 Smithkline Beecham Plc Use of 5-ht4 receptor antagonists as medicaments for treating migraine
ES2112430T3 (es) * 1992-08-25 1998-04-01 Searle & Co Sulfonilalcanoilamino hidroxietilamino sulfonamidas utiles como inhibidores de proteasas retroviricas.
GB9311282D0 (en) 1993-06-01 1993-07-21 Rhone Poulenc Rorer Ltd New compositions of matter
IL111730A (en) * 1993-11-29 1998-12-06 Fujisawa Pharmaceutical Co Piperazine derivatives, processes for their preparation and pharmaceutical preparations containing them
DE69410956T2 (de) 1993-12-09 1999-03-25 Ono Pharmaceutical Co Naphthylessigsäurederivate als PGEZ Agonisten und Antagonisten
US5483237A (en) 1994-01-31 1996-01-09 At&T Corp. Method and apparatus for testing a CODEC
EP0758317B1 (en) * 1994-05-04 1999-04-07 Novartis AG N-sulphonyl and n-sulphinyl amino acid amides as microbiocides
WO1996005818A1 (en) 1994-08-19 1996-02-29 Nps Pharmaceuticals, Inc. Methods and compounds active at metabotropic glutamate receptors useful for treatment of neurological disorders and diseases
DE69611437T2 (de) 1995-02-21 2001-08-23 Nippon Suisan Kaisha Ltd Gluteminsäurerezeptor agonisten
MY132385A (en) 1995-08-31 2007-10-31 Novartis Ag 2,3-dioxo-1,2,3,4-tetrahydro-quinoxalinyl derivatives
US6310095B1 (en) * 1995-11-06 2001-10-30 University Of Pittsburgh Inhibitors of protein isoprenyl transferases
GB9702194D0 (en) * 1997-02-04 1997-03-26 Lilly Co Eli Sulphonide derivatives
US6174922B1 (en) 1998-05-11 2001-01-16 Eli Lilly And Company Sulphonamide derivatives
PE20000943A1 (es) 1998-07-31 2000-09-28 Lilly Co Eli Derivados de sulfonamida
US6358981B1 (en) 1998-07-31 2002-03-19 Eli Lilly And Company Sulphonamide derivatives
DE69917278T2 (de) 1998-07-31 2005-05-19 Eli Lilly And Co., Indianapolis Heterocyclyl sulphonamid derivate
PE20000944A1 (es) 1998-07-31 2000-09-20 Lilly Co Eli Derivados de sulfonamida
WO2000006537A1 (en) 1998-07-31 2000-02-10 Eli Lilly And Company N-substituted sulfonamide derivatives
US6521605B1 (en) 1998-07-31 2003-02-18 Eli Lilly And Company Amidophosphate derivatives
US6500865B1 (en) 1998-07-31 2002-12-31 Eli Lilly And Company Sulfonamide derivatives
PE20000942A1 (es) 1998-07-31 2000-09-28 Lilly Co Eli Derivados de amida, carbamato y urea
CA2338862A1 (en) * 1998-07-31 2000-02-10 Dennis Michael Zimmerman Alkenyl sulphonamide derivatives
AU5240099A (en) 1998-07-31 2000-02-21 Eli Lilly And Company Heterocyclic sulphonamide derivatives
US6552086B1 (en) 1998-07-31 2003-04-22 Eli Lilly And Company Sulfonamide derivatives
IL146052A0 (en) 1999-04-30 2002-07-25 Lilly Co Eli Monofluoroalkyl derivatives
EP1246797B1 (en) 1999-12-08 2008-07-23 Eli Lilly And Company Cyclopentyl sulfonamide derivatives
AU2001241512A1 (en) 2000-03-13 2001-09-24 Eli Lilly And Company Sulfonamide derivatives
HUP0302246A2 (hu) 2000-05-19 2003-10-28 Eli Lilly And Co. Bifenil vegyületek előállítására szolgáló eljárás
KR20030007643A (ko) 2000-05-19 2003-01-23 일라이 릴리 앤드 캄파니 술폰아미드 유도체
DZ3343A1 (fr) 2000-05-19 2001-11-29 Lilly Co Eli Derives de sulfonamide
ATE272617T1 (de) 2000-06-13 2004-08-15 Lilly Co Eli Sulfonamid-derivate
WO2002014275A2 (en) 2000-08-11 2002-02-21 Eli Lilly And Company Heterocyclic sulfonamide derivatives and their use for potentiating glutamate receptor function
EP1309577A2 (en) 2000-08-11 2003-05-14 Eli Lilly And Company Heterocyclic sulfonamide derivatives and their use for potentiating glutamate receptor function
WO2002018329A1 (en) 2000-08-31 2002-03-07 Eli Lilly And Company Acetylenic sulfonamide derivatives
US6900353B2 (en) 2000-10-13 2005-05-31 Eli Lilly And Company Cyclopentyl sulfonamide derivatives
US7299729B2 (en) 2001-05-23 2007-11-27 Cox William A Rotary die module
US20040157817A1 (en) 2001-05-30 2004-08-12 Cantell Buddy Eugene Cycloalkenylsulfonamide derivatives
WO2002098846A1 (en) 2001-06-05 2002-12-12 Eli Lilly And Company Sulfonamide derivatives

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001525844A (ja) * 1997-05-16 2001-12-11 ローディア シミ ペルフルオロスルホンアミド、ペルスルホンイミド及びそれらの塩の合成方法並びにスルホニル化試薬
JP4865115B2 (ja) * 1997-05-16 2012-02-01 ローディア シミ (ペルフルオロ)スルホニル化方法
JP2002338538A (ja) * 2001-05-21 2002-11-27 Takeda Schering-Plough Animal Health Kk 新規スルホンアミド誘導体およびそれを含む魚類用抗寄生虫薬
WO2009057515A1 (ja) * 2007-11-01 2009-05-07 Ube Industries, Ltd. スルホン酸フェニル化合物、それを用いた非水電解液及びリチウム電池
US8512897B2 (en) 2007-11-01 2013-08-20 Ube Industries, Ltd. Phenyl sulfonate compound, nonaqueous electrolyte solution using the same, and lithium battery
JP5375616B2 (ja) * 2007-11-01 2013-12-25 宇部興産株式会社 スルホン酸フェニル化合物、それを用いた非水電解液及びリチウム電池
JP2013509376A (ja) * 2009-10-28 2013-03-14 ドムペ・ソチエタ・ペル・アツィオーニ ブラジキニン受容体アンタゴニストとして有用な2−アリール−プロピオンアミド誘導体およびそれらを含有する医薬組成物
JP2017206507A (ja) * 2011-12-27 2017-11-24 バイエル・インテレクチュアル・プロパティ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツングBayer Intellectual Property GmbH 殺菌剤としてのヘテロアリールピペリジン誘導体及びヘテロアリールピペラジン誘導体
JP2015519308A (ja) * 2012-04-10 2015-07-09 ザ・リージエンツ・オブ・ザ・ユニバーシテイー・オブ・カリフオルニア 癌治療用組成物および方法

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