JP2001510638A - 連続した、非ロットベースの集積回路の製造方法 - Google Patents
連続した、非ロットベースの集積回路の製造方法Info
- Publication number
- JP2001510638A JP2001510638A JP54597298A JP54597298A JP2001510638A JP 2001510638 A JP2001510638 A JP 2001510638A JP 54597298 A JP54597298 A JP 54597298A JP 54597298 A JP54597298 A JP 54597298A JP 2001510638 A JP2001510638 A JP 2001510638A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- code
- steps
- data
- wafer
- lots
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 83
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 167
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims abstract description 86
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 71
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 18
- 238000013100 final test Methods 0.000 claims description 4
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 abstract 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 4
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012536 packaging technology Methods 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B19/00—Programme-control systems
- G05B19/02—Programme-control systems electric
- G05B19/04—Programme control other than numerical control, i.e. in sequence controllers or logic controllers
- G05B19/12—Programme control other than numerical control, i.e. in sequence controllers or logic controllers using record carriers
- G05B19/128—Programme control other than numerical control, i.e. in sequence controllers or logic controllers using record carriers the workpiece itself serves as a record carrier, e.g. by its form, by marks or codes on it
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/317—Testing of digital circuits
- G01R31/31718—Logistic aspects, e.g. binning, selection, sorting of devices under test, tester/handler interaction networks, Test management software, e.g. software for test statistics or test evaluation, yield analysis
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F11/00—Error detection; Error correction; Monitoring
- G06F11/006—Identification
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/0203—Particular design considerations for integrated circuits
- H01L27/0207—Geometrical layout of the components, e.g. computer aided design; custom LSI, semi-custom LSI, standard cell technique
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B2219/00—Program-control systems
- G05B2219/30—Nc systems
- G05B2219/31—From computer integrated manufacturing till monitoring
- G05B2219/31296—Identification, pallet object data and program code for station
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B2219/00—Program-control systems
- G05B2219/30—Nc systems
- G05B2219/45—Nc applications
- G05B2219/45026—Circuit board, pcb
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2223/00—Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
- H01L2223/544—Marks applied to semiconductor devices or parts
- H01L2223/54433—Marks applied to semiconductor devices or parts containing identification or tracking information
- H01L2223/5444—Marks applied to semiconductor devices or parts containing identification or tracking information for electrical read out
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Quality & Reliability (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.集積回路(IC)装置製造プロセスにおいて、該プロセスにおけるあるステ ップを通してIC装置の複数のロットを追跡する方法であり、各IC装置は実質 的に独自の識別(ID)コードを有し、 複数のロットの各々における各IC装置のIDコードを読み取るステップと; ほぼ連続して製造プロセスにおける前記ステップを通して複数のロットのIC 装置を進行させるステップと; プロセスにおける前記ステップを通しての各IC装置の進行に関連したデータ を作成するステップと; IC装置の複数のロットがプロセスにおける前記ステップを通して追跡され得 るように、各IC装置に対して作成されたデータをその関連するIC装置のID コードと関連させるステップと; を含むことを特徴とする方法。 2.各IC装置が実質的に独自の、電気的に検索可能なIDコードによりプログ ラム化され、各IC装置のIDコードを読み取るステップが各IC装置のIDコ ードを電気的に検索することを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。 3.各IC装置が独自のヒューズIDによりプログラム化され、各IC装置のI Dコードを読み取るステップが、各IC装置にプログラム化されたヒューズID を読み取ることを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。 4.IC装置製造プロセスにおける前記ステップが組立ステップを含み、IC装 置製造プロセスにおける前記ステップを通して複数のロットのIC装置を進行さ せるステップが、組立ステップを通してIC装置を進行させることを含むことを 特徴とする請求項1に記載の方法。 5.IC装置製造プロセスにおける前記ステップは試験ステップを含み、IC装 置製造プロセスにおける前記ステップを通して複数のロットのIC装置を進行さ せるステップが、試験ステップを通してIC装置を進行させることを含むことを 特徴とする請求項1に記載の方法。 6.IC装置製造プロセスにおける前記ステップを通してIC装置を進行させる ステップの前に、各IC装置のIDコードを読み取るステップが起こることを特 徴とする請求項1に記載の方法。 7.製造プロセスにおける前記ステップを通してIC装置を進行させるステップ が、製造プロセスにおける前記ステップと関連した複数の機械を通して連続的に IC装置を進行させることを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。 8.製造プロセスにおける前記ステップを通してIC装置を進行させるステップ が、製造プロセスにおける前記ステップに関連した並列の機械を通してIC装置 を進行させることを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。 9.プロセスにおける前記ステップを通して各IC装置の進行に関連したデータ を作成するステップが、処理装置データ、処理用員データ、処理セットアップ データ、時間及び日付データ、産出高データ、及び試験データを含むグループか ら選択されるデータを作成することを含むことを特徴とする請求項1に記載の方 法。 10.さらに各IC装置のIDコードを蓄積するステップを含み、各IC装置に 対して作成されたデータをその関連するIC装置のIDコードと関連させるステ ップが、その関連するIC装置の蓄積されたIDコードに関連させて各IC装置 に対して作成されたデータを蓄積することを含むことを特徴とする請求項1に記 載の方法。 11.各IC装置が関連するロットIDを有し、各IC装置に対して作成された データをその関連するIC装置のIDコードと関連させるステップが、その関連 するIC装置のロットIDコードに関連させて、各IC装置に対して作成された データを蓄積することを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。 12.集積回路(IC)装置製造プロセスにおいて、プロセスにおけるバック− エンド試験ステップを通してIC装置の複数のロットを追跡する方法であり、各 IC装置は独自のヒューズ識別(ID)によりプログラム化され、 各バック−エンド試験ステップに対して、複数の各ロットにおける各IC装置 のヒューズIDを読み取るステップと; ほぼ連続して製造プロセスにおける前記バック−エンド試験ステップを通して 複数のロットのIC装置を進行させるステップと; 前記バック−エンド試験ステップを通して各IC装置の進行に関連したデータ を作成するステップと; IC装置の複数のロットが前記バック−エンド試験ステップを通して追跡され 得るように、各IC装置に対して作成されたデータをその関連するIC装置のヒ ューズIDと関連させるステップと; を含むことを特徴とする方法。 13.半導体ウェハから集積回路(IC)装置を製造する方法であり、 複数の半導体ウェハを複数のロットで供給するステップと; 複数のIC’sを各ウェハ上に製造するステップと; 各ウェハ上の各IC’sに、実質的に独自の識別(ID)コードを永久的に蓄 積させるステップと; 各ウェハ上の各IC’sをウェハから分離して複数のICダイスの1つを形成 するステップと; 各ICダイスをIC装置に組立てるステップと; 各IC装置におけるICからIDコードを読み取るステップと; 各IC装置を試験するステップと; IC装置を試験する間に、 ほぼ連続して少なくとも1つの試験ステップを通して半導体ウェハの複数の ロットからIC装置を進行させるステップと; 前記試験ステップを通して各IC装置の進行に関連したデータを作成するス テップと; 複数のロットからIC装置が試験ステップを通して追跡され得るように、各 IC装置に対して作成されたデータをその関連するIC装置におけるICのID コードと関連させるステップと; を含むことを特徴とする方法。 14.複数のIC’sを各ウェハ上に製造するステップが、ダイナミック ラン ダム アクセス メモリ(DRAM)IC’s、スタティック ランダム アク セス メモリ(SRAM)IC’s、同期DRAM(SDRAM)IC’s、プ ロセッサIC’s、特定用途向けIC’s(ASIC’s)、リード オンリーメ モリ(ROM)IC’s、及び電気的消去可能なプログラマブルROM(EEP ROM)IC’sを含むグループから選択される異なるタイプのIC’sを製造 することを含むことを特徴とする請求項13に記載の方法。 15.各ウェハ上の各IC’sに、実質的に独自のIDコードを永久的に蓄積さ せるステップが、独自のヒューズIDを永久的に蓄積するために各ウェハ上の各 IC’sをプログラム化することを含むことを特徴とする請求項13に記載の方 法。 16.独自のヒューズIDを永久的に蓄積するために、各ウェハ上の各IC’s をプログラム化するステップが、ロットID、作動週、ウェハID、ダイ位置、 及び製造設備IDを示す独自のヒューズIDを永久的に蓄積するために各ウェハ 上の各IC’sにおけるヒューズ及びアンチ−ヒューズの少なくとも1つをプロ グラム化することを含むことを特徴とする請求項15に記載の方法。 17.各ICダイスをIC装置に組立てるステップが、各ICダイスを、リード フレームIC装置、チップ−オン−ボード(COB)IC装置、及びフリップ− チップIC装置を含むグループから選択されるIC装置に組立てることを含むこ とを特徴とする請求項13に記載の方法。 18.各IC装置を試験するステップが、速度等級付け、バーン−イン、及び最 終の試験ステップを含むことを特徴とする請求項13に記載の方法。 19.前記試験ステップを通して各IC装置の進行に関連したデータを作成する ステップが、IC装置が進行した試験ステップを識別するデータ、及びそれら試 験ステップの合格/不合格結果を識別するデータを作成することを含み、さらに 、当該方法は、IC装置がほぼ連続的に進行する前記の少なくとも1つの試験ス テップの後、少なくとも1つの試験ステップを通してIC装置を進行させる前に 、IC装置が進行してしまって、識別された試験ステップを合格したことを確認 するステップを含むことを特徴とする請求項13に記載の方法。 20.さらに、IDコードに関するいくつかのIC装置を保持するステップを含 むことを特徴とする請求項13に記載の方法。 21.集積回路(IC)装置製造プロセスにおいて、プロセスを通して進行する とき、プロセス変数をIC装置の性能変数に関連付ける方法であり、 永久的に蓄積された実質的に独自の識別(ID)コードを有する複数のロット から複数のIC装置を供給するステップと; 各IC装置からIDコードを読み取るステップと; ほぼ連続して製造プロセスにおける少なくとも1つのステップを通して複数の ロットからIC装置を進行させるステップと; IC装置が製造プロセスにおける前記ステップを通して進行する間に、 プロセスにおける前記ステップと関連するプロセス変数に関連するデータを作 成するステップと; 製造プロセスにおける少なくとも1つのステップを通して進行するとき、IC 装置の少なくともいくつかの性能変数に関連するデータを作成するステップと; プロセス変数を性能変数と関連付けるために、各IC装置に対して作成された プロセス変数に関連するデータ及び性能変数に関連するデータを、データに関連 するIC装置のIDコードと関連させるステップと; を含むことを特徴とする方法。 22.プロセスにおける前記ステップと関連するプロセス変数に関するデータを 作成するステップが、処理装置、処理用員、処理セットアップ、時間及び日付を 含むグループから選択されるプロセス変数に関するデータを作成することを含む ことを特徴とする請求項21に記載の方法。 23.製造プロセスにおける少なくとも1つのステップを通して進行するとき、 IC装置の少なくともいくつかの性能変数に関するデータを作成するステップが 、産出高及び試験結果を含むグループから選択される性能変数に関するデータを 作成することを含むことを特徴とする請求項21に記載の方法。 24.永久的に蓄積された実質的に独自のIDコードを有する複数のロットから 複数のIC装置の各々を供給するステップが、IC装置のロットID、作動週、 ウェハID、ダイ位置、及び製造設備IDを特定する独自のヒューズIDを永久 的に蓄積するために、複数のIC装置の各々をプログラム化することを含むこと を特徴とする請求項21に記載の方法。 25.半導体ウェハからシングル インライン メモリ モジュール(SIMM ’s)を製造する方法であり、 複数の半導体ウェハを複数のロットで供給するステップと; 複数のIC’sを各ウェハ上に製造するステップと; 各ウェハ上の各IC’sに、実質的に独自の識別(ID)コードを永久的に蓄 積させるステップと; 各ウェハ上の各IC’sをウェハから分離して複数のICダイスの1つを形成 するステップと; ICダイスから複数のSIMM’sを組立てるステップと; 各SIMM’sにおけるICダイスからIDコードを読み取るステップと; 各SIMM’sにおける各ICダイスを試験するステップと; ICダイスを試験する間に、 ほぼ連続して少なくとも1つの試験ステップを通してICダイス及びSIM M’sを進行させるステップと; 前記試験ステップを通してICダイスの進行に関連したデータを作成するス テップと; 複数のロットからのICダイスが試験ステップを通して追跡され得るように 、各ICダイスに対して作成されたデータを関連するICダイにおけるICのI Dコードと関連させるステップと; を含むことを特徴とする方法。 26.半導体ウェハからデュアル インライン メモリ モジュール(DIMM ’s)を製造する方法であり、 複数の半導体ウェハを複数のロットで供給するステップと; 複数のIC’sを各ウェハ上に製造するステップと; 各ウェハ上の各IC’sに、実質的に独自の識別(ID)コードを永久的に蓄 積させるステップと; 各ウェハ上の各IC’sをウェハから分離して複数のICダイスの1つを形成 するステップと; ICダイスから複数のDIMM’sを組立てるステップと; 各DIMM’sにおけるICダイスからIDコードを読み取るステップと; 各DIMM’sにおける各ICダイスを試験するステップと; ICダイスを試験する間に、 ほぼ連続して少なくとも1つの試験ステップを通してICダイス及びDIM M’sを進行させるステップと; 前記試験ステップを通してICダイスの進行に関連したデータを作成するス テップと; 複数のロットからICダイスが試験ステップを通して追跡され得るように、 各ICダイスに対して作成されたデータを関連するICダイにおけるICのID コードと関連させるステップと; を含むことを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/822,731 | 1997-03-24 | ||
US08/822,731 US5856923A (en) | 1997-03-24 | 1997-03-24 | Method for continuous, non lot-based integrated circuit manufacturing |
PCT/US1998/005921 WO1998043191A1 (en) | 1997-03-24 | 1998-03-24 | Method for continuous, non lot-based integrated circuit manufacturing |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001510638A true JP2001510638A (ja) | 2001-07-31 |
JP3360733B2 JP3360733B2 (ja) | 2002-12-24 |
Family
ID=25236814
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP54597298A Expired - Fee Related JP3360733B2 (ja) | 1997-03-24 | 1998-03-24 | 連続した、非ロットベースの集積回路の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (6) | US5856923A (ja) |
EP (1) | EP1027675A4 (ja) |
JP (1) | JP3360733B2 (ja) |
KR (1) | KR100430174B1 (ja) |
WO (1) | WO1998043191A1 (ja) |
Families Citing this family (62)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5927512A (en) * | 1997-01-17 | 1999-07-27 | Micron Technology, Inc. | Method for sorting integrated circuit devices |
US6100486A (en) | 1998-08-13 | 2000-08-08 | Micron Technology, Inc. | Method for sorting integrated circuit devices |
US5844803A (en) * | 1997-02-17 | 1998-12-01 | Micron Technology, Inc. | Method of sorting a group of integrated circuit devices for those devices requiring special testing |
US5915231A (en) * | 1997-02-26 | 1999-06-22 | Micron Technology, Inc. | Method in an integrated circuit (IC) manufacturing process for identifying and redirecting IC's mis-processed during their manufacture |
US5856923A (en) * | 1997-03-24 | 1999-01-05 | Micron Technology, Inc. | Method for continuous, non lot-based integrated circuit manufacturing |
US7120513B1 (en) | 1997-06-06 | 2006-10-10 | Micron Technology, Inc. | Method for using data regarding manufacturing procedures integrated circuits (ICS) have undergone, such as repairs, to select procedures the ICS will undergo, such as additional repairs |
US5907492A (en) * | 1997-06-06 | 1999-05-25 | Micron Technology, Inc. | Method for using data regarding manufacturing procedures integrated circuits (IC's) have undergone, such as repairs, to select procedures the IC's will undergo, such as additional repairs |
US6446017B1 (en) * | 1997-08-21 | 2002-09-03 | Micron Technology, Inc. | Method and system for tracking manufacturing data for integrated circuit parts |
US6092000A (en) * | 1997-10-28 | 2000-07-18 | Vanguard International Semiconductor Corporation | Method for maximizing the throughput of a multiple-step workstation in a plant |
US6049624A (en) * | 1998-02-20 | 2000-04-11 | Micron Technology, Inc. | Non-lot based method for assembling integrated circuit devices |
US6238942B1 (en) * | 1998-04-07 | 2001-05-29 | Micron Technology, Inc. | Method of wire-bonding a repair die in a multi-chip module using a repair solution generated during testing of the module |
US6314547B1 (en) * | 1998-09-11 | 2001-11-06 | International Business Machines Corporation | Method for improving the assignment of circuit locations during fabrication |
JP4951811B2 (ja) * | 1999-03-24 | 2012-06-13 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US6360133B1 (en) * | 1999-06-17 | 2002-03-19 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method and apparatus for automatic routing for reentrant process |
US6990387B1 (en) * | 2000-05-18 | 2006-01-24 | Intel Corporation | Test system for identification and sorting of integrated circuit devices |
US6524881B1 (en) * | 2000-08-25 | 2003-02-25 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for marking a bare semiconductor die |
US20020147946A1 (en) * | 2001-04-05 | 2002-10-10 | Yong Jaimsomporn | Method and system for automatic test report generation from memory device reliabilty testing |
MY127433A (en) * | 2001-05-29 | 2006-12-29 | Integrated Device Tech | Die bonding apparatus with automatic die and lead frame image matching system. |
WO2003003138A2 (en) * | 2001-06-27 | 2003-01-09 | Nokia Corporation | Method and system for efficient management and transport of traffic over a network |
US6961880B2 (en) * | 2001-07-30 | 2005-11-01 | Infineon Technologies Ag | Recording test information to identify memory cell errors |
US6792365B2 (en) * | 2001-08-10 | 2004-09-14 | Micron Technology, Inc. | Sequential unique marking |
US7169685B2 (en) * | 2002-02-25 | 2007-01-30 | Micron Technology, Inc. | Wafer back side coating to balance stress from passivation layer on front of wafer and be used as die attach adhesive |
US7046536B2 (en) * | 2002-05-29 | 2006-05-16 | Micron Technology, Inc. | Programable identification circuitry |
US8321048B1 (en) * | 2002-06-28 | 2012-11-27 | Advanced Micro Devices, Inc. | Associating data with workpieces and correlating the data with yield data |
US6952623B2 (en) * | 2002-07-02 | 2005-10-04 | Texas Instruments, Inc. | Permanent chip ID using FeRAM |
US7668702B2 (en) * | 2002-07-19 | 2010-02-23 | Applied Materials, Inc. | Method, system and medium for controlling manufacturing process using adaptive models based on empirical data |
JP3736525B2 (ja) * | 2002-12-25 | 2006-01-18 | ソニー株式会社 | 半導体集積回路装置および回路基板 |
JP4449319B2 (ja) * | 2003-03-25 | 2010-04-14 | 株式会社デンソー | 製造管理方法 |
US7017429B2 (en) * | 2003-04-30 | 2006-03-28 | Infineon Technologies Richmond, Lp | Continuous test flow method and apparatus |
US6954711B2 (en) * | 2003-05-19 | 2005-10-11 | Applied Materials, Inc. | Test substrate reclamation method and apparatus |
JP4215677B2 (ja) * | 2003-08-25 | 2009-01-28 | 日立ビアメカニクス株式会社 | レーザ加工機及びレーザ加工方法 |
US20050152594A1 (en) * | 2003-11-10 | 2005-07-14 | Hermes-Microvision, Inc. | Method and system for monitoring IC process |
US7415317B2 (en) * | 2004-02-25 | 2008-08-19 | Micron Technology, Inc. | Method and system for correlating and combining production and non-production data for analysis |
US7395130B2 (en) * | 2004-02-27 | 2008-07-01 | Micron Technology, Inc. | Method and system for aggregating and combining manufacturing data for analysis |
US7185888B2 (en) * | 2004-03-29 | 2007-03-06 | Palo Alto Research Center Incorporated | Rotational jam clearance apparatus |
US7512455B2 (en) * | 2004-03-29 | 2009-03-31 | Palo Alto Research Center Incorporated | Method for self-synchronization of modular production systems |
CN101040290A (zh) * | 2004-10-15 | 2007-09-19 | 应用材料股份有限公司 | 半导体组件的晶粒跟踪装置及其测试设备 |
US7657390B2 (en) * | 2005-11-02 | 2010-02-02 | Applied Materials, Inc. | Reclaiming substrates having defects and contaminants |
US7487003B1 (en) * | 2006-03-09 | 2009-02-03 | Rockwell Automation Technologies, Inc. | Automatic tracking of a lot of items through virtual sublots |
DE102006039207B3 (de) * | 2006-08-22 | 2008-04-03 | Hans-Georg Zwicker | System sowie Verfahren zur Organisation von zu bearbeitenden Werkstücken |
WO2008147521A1 (en) * | 2007-05-24 | 2008-12-04 | Applied Materials, Inc. | Use of logical lots in semiconductor substrate processing |
EP2051189A1 (en) * | 2007-10-18 | 2009-04-22 | Siemens Aktiengesellschaft | Device for electronic identification of items |
DE102007062376A1 (de) * | 2007-12-22 | 2009-06-25 | Dietz-Automotive Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Montage einer Baugruppe |
US7908023B2 (en) * | 2008-01-14 | 2011-03-15 | International Business Machines Corporation | Method of establishing a lot grade system for product lots in a semiconductor manufacturing process |
JP5433290B2 (ja) * | 2009-04-20 | 2014-03-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板収納方法及び制御装置 |
SG177597A1 (en) * | 2009-07-10 | 2012-03-29 | Certicom Corp | System and method for performing serialization of devices |
US8689434B2 (en) * | 2009-10-14 | 2014-04-08 | Nanya Technology Corporation | Integrated circuit manufacturing system |
JP2011098808A (ja) * | 2009-11-05 | 2011-05-19 | Nikon Corp | 基板カートリッジ、基板処理装置、基板処理システム、基板処理方法、制御装置及び表示素子の製造方法 |
TWI442401B (zh) * | 2009-12-30 | 2014-06-21 | Macronix Int Co Ltd | 共享輸入封裝之三維晶片選取 |
JP5968705B2 (ja) * | 2012-07-13 | 2016-08-10 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
GB2505489A (en) | 2012-08-31 | 2014-03-05 | Sony Corp | A mobile communications device for use in a virtual narrowband carrier within a wideband carrier of a mobile communications system |
KR102021819B1 (ko) * | 2012-12-14 | 2019-09-17 | 삼성전자주식회사 | 반도체 모듈 검사 시스템 |
US9678501B2 (en) * | 2013-01-08 | 2017-06-13 | Bloom Energy Corporation | Serialization of fuel cell components |
US9305816B2 (en) | 2013-12-28 | 2016-04-05 | Intel Corporation | Methods and devices for securing and transporting singulated die in high volume manufacturing |
US9823303B1 (en) | 2014-03-14 | 2017-11-21 | Altera Corporation | Methods for selecting integrated circuit dies based on pre-determined criteria |
US9559113B2 (en) | 2014-05-01 | 2017-01-31 | Macronix International Co., Ltd. | SSL/GSL gate oxide in 3D vertical channel NAND |
WO2016005001A1 (en) * | 2014-07-11 | 2016-01-14 | Huawei Technologies Co., Ltd. | Network device, user device and methods of access signal broadcast |
CN106688291B (zh) * | 2014-12-01 | 2020-06-09 | 株式会社东芝 | 无线通信装置以及无线通信方法 |
DE102016112049B3 (de) | 2016-06-30 | 2017-08-24 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zum herstellen von cz-siliziumwafern und verfahren zum herstellen einer halbleitervorrichtung |
KR102653937B1 (ko) | 2018-07-17 | 2024-04-02 | 삼성전자주식회사 | 반도체 장치의 테스트 방법및 반도체 장치의 테스트 시스템 |
GB2581861B (en) * | 2018-09-14 | 2022-10-05 | Sino Ic Tech Co Ltd | IC Test Information Management System Based on Industrial Internet |
CN110349887A (zh) * | 2019-07-16 | 2019-10-18 | 沛顿科技(深圳)有限公司 | 基于二维码的追溯单颗ic生产情况的系统 |
Family Cites Families (146)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4032949A (en) * | 1975-05-15 | 1977-06-28 | Raytheon Company | Integrated circuit fusing technique |
US4027246A (en) | 1976-03-26 | 1977-05-31 | International Business Machines Corporation | Automated integrated circuit manufacturing system |
US4150331A (en) | 1977-07-29 | 1979-04-17 | Burroughs Corporation | Signature encoding for integrated circuits |
DE3036869C2 (de) * | 1979-10-01 | 1985-09-05 | Hitachi, Ltd., Tokio/Tokyo | Integrierte Halbleiterschaltung und Schaltkreisaktivierverfahren |
US4460999A (en) | 1981-07-15 | 1984-07-17 | Pacific Western Systems, Inc. | Memory tester having memory repair analysis under pattern generator control |
US4736373A (en) | 1981-08-03 | 1988-04-05 | Pacific Western Systems, Inc. | Memory tester having concurrent failure data readout and memory repair analysis |
JPS5850728A (ja) | 1981-09-19 | 1983-03-25 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造方法 |
JPS5852814A (ja) | 1981-09-24 | 1983-03-29 | Nec Corp | 半導体集積回路 |
JPS5860529A (ja) | 1981-10-06 | 1983-04-11 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体チツプの識別方法 |
US4454413A (en) | 1982-02-19 | 1984-06-12 | Precision Monolithics, Inc. | Apparatus for tracking integrated circuit devices |
SU1151333A1 (en) | 1983-04-16 | 1985-04-23 | Ni Pi Tsvetnoj Metallurg Armni | Apparatus for monitoring and sorting assembly units of mechanism and machine |
US4534014A (en) * | 1983-06-20 | 1985-08-06 | Ames Oliver C | Mechanically programmable read only memory |
US4510673A (en) * | 1983-06-23 | 1985-04-16 | International Business Machines Corporation | Laser written chip identification method |
US4667403A (en) * | 1984-05-16 | 1987-05-26 | Siemens Aktiengesellschaft | Method for manufacturing electronic card modules |
JPS61120433A (ja) | 1984-11-16 | 1986-06-07 | Toshiba Corp | ダイボンデイング装置 |
US4967381A (en) | 1985-04-30 | 1990-10-30 | Prometrix Corporation | Process control interface system for managing measurement data |
IT1201837B (it) * | 1986-07-22 | 1989-02-02 | Sgs Microelettronica Spa | Sistema per la verifica della funzionalita' e delle caratteristiche di dispositivi a semiconduttore di tipo eprom durante il "burn-in" |
US4796194A (en) | 1986-08-20 | 1989-01-03 | Atherton Robert W | Real world modeling and control process |
JPH0671038B2 (ja) | 1987-03-31 | 1994-09-07 | 株式会社東芝 | 結晶欠陥認識処理方法 |
JPH0616475B2 (ja) * | 1987-04-03 | 1994-03-02 | 三菱電機株式会社 | 物品の製造システム及び物品の製造方法 |
US5440240A (en) * | 1991-06-04 | 1995-08-08 | Micron Technology, Inc. | Z-axis interconnect for discrete die burn-in for nonpackaged die |
JP2627796B2 (ja) | 1988-12-19 | 1997-07-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 半導体製造装置 |
US5014208A (en) | 1989-01-23 | 1991-05-07 | Siemens Corporate Research, Inc. | Workcell controller employing entity-server model for physical objects and logical abstractions |
US4954453A (en) * | 1989-02-24 | 1990-09-04 | At&T Bell Laboratories | Method of producing an article comprising a multichip assembly |
JPH02246312A (ja) | 1989-03-20 | 1990-10-02 | Fujitsu Ltd | チップの識別方法 |
US5289113A (en) * | 1989-08-01 | 1994-02-22 | Analog Devices, Inc. | PROM for integrated circuit identification and testing |
US5003251A (en) * | 1989-09-12 | 1991-03-26 | Grumman Aerospace Corporation | Bar code reader for printed circuit board |
US4985988A (en) | 1989-11-03 | 1991-01-22 | Motorola, Inc. | Method for assembling, testing, and packaging integrated circuits |
JPH0425349A (ja) * | 1990-05-21 | 1992-01-29 | Mitsubishi Electric Corp | 混成ロット編成方法及び装置 |
KR920007535B1 (ko) | 1990-05-23 | 1992-09-05 | 삼성전자 주식회사 | 식별회로를 구비한 반도체 집적회로 칩 |
US5347463A (en) | 1990-07-03 | 1994-09-13 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | System and method for line production management |
US5043657A (en) | 1990-07-13 | 1991-08-27 | Analog Devices, Incorporated | Marking techniques for identifying integrated circuit parts at the time of testing |
JPH0480949A (ja) | 1990-07-23 | 1992-03-13 | Hitachi Ltd | リードフレーム |
US5495417A (en) * | 1990-08-14 | 1996-02-27 | Kabushiki Kaisha Toshiba | System for automatically producing different semiconductor products in different quantities through a plurality of processes along a production line |
JP2907971B2 (ja) | 1990-08-14 | 1999-06-21 | 株式会社東芝 | 半導体素子用パターンの形成または試験方法 |
US5118369A (en) | 1990-08-23 | 1992-06-02 | Colorcode Unlimited Corporation | Microlabelling system and process for making microlabels |
US5219765A (en) * | 1990-09-12 | 1993-06-15 | Hitachi, Ltd. | Method for manufacturing a semiconductor device including wafer aging, probe inspection, and feeding back the results of the inspection to the device fabrication process |
JPH07123101B2 (ja) | 1990-09-14 | 1995-12-25 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
US5197650A (en) | 1990-09-18 | 1993-03-30 | Sharp Kabushiki Kaisha | Die bonding apparatus |
US5175774A (en) | 1990-10-16 | 1992-12-29 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor wafer marking for identification during processing |
US5570293A (en) * | 1990-11-29 | 1996-10-29 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd. | Method and device for manufacturing a semiconductor chip |
US5399531A (en) | 1990-12-17 | 1995-03-21 | United Micrpelectronics Corporation | Single semiconductor wafer transfer method and plural processing station manufacturing system |
JPH0574909A (ja) | 1990-12-17 | 1993-03-26 | Asia Electron Inc | ウエハテスト方法 |
US5256562A (en) * | 1990-12-31 | 1993-10-26 | Kopin Corporation | Method for manufacturing a semiconductor device using a circuit transfer film |
US5226118A (en) | 1991-01-29 | 1993-07-06 | Prometrix Corporation | Data analysis system and method for industrial process control systems |
US5150331A (en) | 1991-03-25 | 1992-09-22 | Amoco Corporation | Method for enhancing seismic data |
JP2653566B2 (ja) | 1991-03-27 | 1997-09-17 | 株式会社東芝 | 半導体基板評価方法及び装置 |
KR970000501B1 (en) * | 1991-04-12 | 1997-01-13 | Hyundai Electronics Ind | Semiconductor memory device with redundancy confirmative circuit |
JP3158472B2 (ja) | 1991-04-17 | 2001-04-23 | 松下電器産業株式会社 | 多品種製造ラインにおける加工工程の管理方法 |
US5235550A (en) * | 1991-05-16 | 1993-08-10 | Micron Technology, Inc. | Method for maintaining optimum biasing voltage and standby current levels in a DRAM array having repaired row-to-column shorts |
JP2765771B2 (ja) * | 1991-08-07 | 1998-06-18 | ローム株式会社 | 半導体記憶装置の試験方法 |
US5110754A (en) * | 1991-10-04 | 1992-05-05 | Micron Technology, Inc. | Method of making a DRAM capacitor for use as an programmable antifuse for redundancy repair/options on a DRAM |
JP2675699B2 (ja) | 1991-10-28 | 1997-11-12 | シャープ株式会社 | マーキング方法 |
JPH05121521A (ja) * | 1991-10-29 | 1993-05-18 | Komatsu Electron Metals Co Ltd | 半導体ウエハ製造装置および製造方法 |
KR950000099B1 (ko) * | 1991-11-12 | 1995-01-09 | 삼성전자 주식회사 | 바이너리 코딩(Bianry Coding)법을 이용한 반도체소자의 위치인식방법 |
US5326709A (en) | 1991-12-19 | 1994-07-05 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Wafer testing process of a semiconductor device comprising a redundancy circuit |
US5256578A (en) * | 1991-12-23 | 1993-10-26 | Motorola, Inc. | Integral semiconductor wafer map recording |
US5355320A (en) * | 1992-03-06 | 1994-10-11 | Vlsi Technology, Inc. | System for controlling an integrated product process for semiconductor wafers and packages |
US5457400A (en) * | 1992-04-10 | 1995-10-10 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor array having built-in test circuit for wafer level testing |
JPH05315207A (ja) | 1992-05-08 | 1993-11-26 | Nec Corp | 半導体装置 |
US5442561A (en) * | 1992-05-12 | 1995-08-15 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Production management system and its application method |
US5424652A (en) * | 1992-06-10 | 1995-06-13 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for testing an unpackaged semiconductor die |
US5396614A (en) | 1992-06-25 | 1995-03-07 | Sun Microsystems, Inc. | Method and apparatus for a secure protocol for virtual memory managers that use memory objects |
JPH0613443A (ja) | 1992-06-26 | 1994-01-21 | Toshiba Seiki Kk | 半導体装置の製造装置 |
KR960013508B1 (ko) * | 1992-07-07 | 1996-10-05 | 현대전자산업 주식회사 | 반도체 기억장치 및 그 제조방법 |
JP3659981B2 (ja) * | 1992-07-09 | 2005-06-15 | アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド | ダイ特定情報に特徴付けられるダイ上の集積回路を含む装置 |
US5301143A (en) | 1992-12-31 | 1994-04-05 | Micron Semiconductor, Inc. | Method for identifying a semiconductor die using an IC with programmable links |
JP3309478B2 (ja) | 1993-02-26 | 2002-07-29 | ソニー株式会社 | チップ管理システムおよびその入力処理方法とロット処理方法およびチップ管理システムによるチップ製造方法 |
JPH06267809A (ja) | 1993-03-17 | 1994-09-22 | Hitachi Ltd | ウェハid読み取り機能付きマルチチャンバ装置 |
US5352945A (en) * | 1993-03-18 | 1994-10-04 | Micron Semiconductor, Inc. | Voltage compensating delay element |
US5345110A (en) * | 1993-04-13 | 1994-09-06 | Micron Semiconductor, Inc. | Low-power fuse detect and latch circuit |
JP2880876B2 (ja) * | 1993-04-15 | 1999-04-12 | 山口日本電気株式会社 | 搬送制御システム |
JPH06349691A (ja) | 1993-06-03 | 1994-12-22 | Hitachi Ltd | 半導体装置及びその製造装置と製造方法 |
US5360747A (en) | 1993-06-10 | 1994-11-01 | Xilinx, Inc. | Method of reducing dice testing with on-chip identification |
US5428311A (en) * | 1993-06-30 | 1995-06-27 | Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. | Fuse circuitry to control the propagation delay of an IC |
JPH0729999A (ja) * | 1993-07-15 | 1995-01-31 | Mitsubishi Electric Corp | 不揮発性半導体記憶装置およびその製造方法 |
US5399505A (en) * | 1993-07-23 | 1995-03-21 | Motorola, Inc. | Method and apparatus for performing wafer level testing of integrated circuit dice |
JPH0750233A (ja) | 1993-08-06 | 1995-02-21 | Kawasaki Steel Corp | 半導体チップ |
JP2727930B2 (ja) * | 1993-10-04 | 1998-03-18 | 日本電気株式会社 | バウンダリスキャンテスト回路 |
US5801067A (en) | 1993-10-27 | 1998-09-01 | Ronald Shaw | Method for recording and identifying integrated circuit chips and the like |
JPH07122099A (ja) * | 1993-10-29 | 1995-05-12 | Nec Corp | 半導体メモリ |
DE4338445A1 (de) * | 1993-11-10 | 1995-05-11 | Heraeus Voetsch Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Temperieren und Prüfen von elektronischen, elektromechanischen und mechanischen Baugruppen |
JP2776247B2 (ja) | 1993-11-17 | 1998-07-16 | 日本電気株式会社 | 半導体集積回路及びその製造方法 |
JP2616413B2 (ja) * | 1993-11-22 | 1997-06-04 | 日本電気株式会社 | リペアデータの編集装置およびリペアデータの編集方法 |
US5420796A (en) | 1993-12-23 | 1995-05-30 | Vlsi Technology, Inc. | Method of inspecting planarity of wafer surface after etchback step in integrated circuit fabrication |
JPH07201946A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-04 | Hitachi Ltd | 半導体装置等の製造方法及びその装置並びに検査方法及びその装置 |
JPH07307388A (ja) * | 1994-02-04 | 1995-11-21 | Advanced Micro Devices Inc | トランジスタのアレイおよびその形成方法 |
US5511005A (en) | 1994-02-16 | 1996-04-23 | Ade Corporation | Wafer handling and processing system |
US5625816A (en) * | 1994-04-05 | 1997-04-29 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method and system for generating product performance history |
JPH07335510A (ja) * | 1994-06-09 | 1995-12-22 | Hitachi Ltd | 半導体装置およびその識別子付与方法およびその不良解析方法 |
JPH0817198A (ja) * | 1994-06-28 | 1996-01-19 | Mitsubishi Denki Semiconductor Software Kk | フラッシュメモリのテスト方法 |
US6075216A (en) * | 1994-06-30 | 2000-06-13 | Advantest Corp. | Device transfer and reinspection method for IC handler |
US5450326A (en) * | 1994-07-06 | 1995-09-12 | Harris Corporation | Graphical display discriminant factor indicator for anomaly identification in semiconductor manufacture batch process |
US5654204A (en) | 1994-07-20 | 1997-08-05 | Anderson; James C. | Die sorter |
US5567927A (en) * | 1994-07-25 | 1996-10-22 | Texas Instruments Incorporated | Apparatus for semiconductor wafer identification |
US5538141A (en) * | 1994-09-27 | 1996-07-23 | Intel Corporation | Test flow assurance using memory imprinting |
US5606193A (en) * | 1994-10-03 | 1997-02-25 | Sharp Kabushiki Kaisha | DRAM and MROM cells with similar structure |
US5590069A (en) * | 1994-10-17 | 1996-12-31 | Qualcomm Incorporated | Method and apparatus for providing ROM in an integrated circuit having update through single substance layer modification capability |
JP3417098B2 (ja) | 1994-12-05 | 2003-06-16 | 日産自動車株式会社 | 電子部品の生産管理と品質管理の方法 |
JP2755195B2 (ja) * | 1994-12-08 | 1998-05-20 | 日本電気株式会社 | 半導体装置の製造方法及びその装置 |
KR0144711B1 (ko) * | 1994-12-13 | 1998-08-17 | 김광호 | 반도체 메모리장치의 테스트 제어회로 및 방법 |
US5865319A (en) * | 1994-12-28 | 1999-02-02 | Advantest Corp. | Automatic test handler system for IC tester |
US5991699A (en) * | 1995-05-04 | 1999-11-23 | Kla Instruments Corporation | Detecting groups of defects in semiconductor feature space |
KR0147194B1 (ko) * | 1995-05-26 | 1998-11-02 | 문정환 | 반도체 메모리 소자 |
US5787190A (en) * | 1995-06-07 | 1998-07-28 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method and apparatus for pattern recognition of wafer test bins |
US5828778A (en) * | 1995-07-13 | 1998-10-27 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and apparatus for analyzing failure of semiconductor wafer |
US6373452B1 (en) * | 1995-08-03 | 2002-04-16 | Fujiitsu Limited | Plasma display panel, method of driving same and plasma display apparatus |
US5963881A (en) * | 1995-09-22 | 1999-10-05 | Texas Instruments Incorporated | Method and system for enhancing the identification of causes of variations in the performance of manufactured articles |
DE19540348B4 (de) | 1995-10-28 | 2007-01-11 | Micronas Gmbh | Verfahren zum Identifizieren von Bauelementen |
US5787012A (en) | 1995-11-17 | 1998-07-28 | Sun Microsystems, Inc. | Integrated circuit with identification signal writing circuitry distributed on multiple metal layers |
JP3226780B2 (ja) | 1996-02-27 | 2001-11-05 | 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置のテストハンドラ |
US5950012A (en) | 1996-03-08 | 1999-09-07 | Texas Instruments Incorporated | Single chip microprocessor circuits, systems, and methods for self-loading patch micro-operation codes and patch microinstruction codes |
US5946497A (en) | 1996-05-17 | 1999-08-31 | Advanced Micro Devices, Inc. | System and method for providing microprocessor serialization using programmable fuses |
US5895962A (en) * | 1996-06-13 | 1999-04-20 | Micron Technology, Inc. | Structure and a method for storing information in a semiconductor device |
US6194738B1 (en) * | 1996-06-13 | 2001-02-27 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for storage of test results within an integrated circuit |
US6080170A (en) * | 1996-07-26 | 2000-06-27 | Kensey Nash Corporation | System and method of use for revascularizing stenotic bypass grafts and other occluded blood vessels |
US6138256A (en) * | 1998-03-27 | 2000-10-24 | Micron Technology, Inc. | Intelligent binning for electrically repairable semiconductor chips |
US5764650A (en) * | 1996-08-02 | 1998-06-09 | Micron Technology, Inc. | Intelligent binning for electrically repairable semiconductor chips |
US5867505A (en) * | 1996-08-07 | 1999-02-02 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for testing an integrated circuit including the step/means for storing an associated test identifier in association with integrated circuit identifier for each test to be performed on the integrated circuit |
US5822218A (en) | 1996-08-27 | 1998-10-13 | Clemson University | Systems, methods and computer program products for prediction of defect-related failures in integrated circuits |
US5898186A (en) | 1996-09-13 | 1999-04-27 | Micron Technology, Inc. | Reduced terminal testing system |
JP2962239B2 (ja) | 1996-09-27 | 1999-10-12 | 日本電気株式会社 | 半導体集積回路検査装置およびその検査方法 |
IT1290156B1 (it) | 1996-12-18 | 1998-10-19 | Texas Instruments Italia Spa | Chip di memoria contenente un registro di memoria non volatile per la memorizzazione permanente di informazioni relative alla qualita' del |
US6100486A (en) * | 1998-08-13 | 2000-08-08 | Micron Technology, Inc. | Method for sorting integrated circuit devices |
US5927512A (en) | 1997-01-17 | 1999-07-27 | Micron Technology, Inc. | Method for sorting integrated circuit devices |
US6072574A (en) * | 1997-01-30 | 2000-06-06 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuit defect review and classification process |
US5844803A (en) | 1997-02-17 | 1998-12-01 | Micron Technology, Inc. | Method of sorting a group of integrated circuit devices for those devices requiring special testing |
US5915231A (en) * | 1997-02-26 | 1999-06-22 | Micron Technology, Inc. | Method in an integrated circuit (IC) manufacturing process for identifying and redirecting IC's mis-processed during their manufacture |
US5856923A (en) * | 1997-03-24 | 1999-01-05 | Micron Technology, Inc. | Method for continuous, non lot-based integrated circuit manufacturing |
US6000830A (en) * | 1997-04-18 | 1999-12-14 | Tokyo Electron Limited | System for applying recipe of semiconductor manufacturing apparatus |
KR100216066B1 (ko) * | 1997-05-20 | 1999-08-16 | 윤종용 | 반도체 집적회로 소자 검사공정 제어 시스템 및 제어방법 |
US5926690A (en) | 1997-05-28 | 1999-07-20 | Advanced Micro Devices, Inc. | Run-to-run control process for controlling critical dimensions |
US7120513B1 (en) | 1997-06-06 | 2006-10-10 | Micron Technology, Inc. | Method for using data regarding manufacturing procedures integrated circuits (ICS) have undergone, such as repairs, to select procedures the ICS will undergo, such as additional repairs |
US5907492A (en) * | 1997-06-06 | 1999-05-25 | Micron Technology, Inc. | Method for using data regarding manufacturing procedures integrated circuits (IC's) have undergone, such as repairs, to select procedures the IC's will undergo, such as additional repairs |
JPH118327A (ja) | 1997-06-16 | 1999-01-12 | Sony Corp | 半導体チップ識別コード付与方法及び半導体チップ管理方法 |
US6018686A (en) * | 1997-10-31 | 2000-01-25 | Cypress Semiconductor Corp. | Electrically imprinting a semiconductor die with identifying information |
US5837558A (en) * | 1997-11-04 | 1998-11-17 | Texas Instruments Incorporated | Integrated circuit chip packaging method |
US6049624A (en) * | 1998-02-20 | 2000-04-11 | Micron Technology, Inc. | Non-lot based method for assembling integrated circuit devices |
US6313658B1 (en) * | 1998-05-22 | 2001-11-06 | Micron Technology, Inc. | Device and method for isolating a short-circuited integrated circuit (IC) from other IC's on a semiconductor wafer |
US6265232B1 (en) | 1998-08-21 | 2001-07-24 | Micron Technology, Inc. | Yield based, in-line defect sampling method |
US6368975B1 (en) | 1999-07-07 | 2002-04-09 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for monitoring a process by employing principal component analysis |
DE10034878C2 (de) | 2000-07-18 | 2003-12-04 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zum Überprüfen eines Bauelementes und Bauelement mit Testspeicher |
US6725121B1 (en) | 2001-05-24 | 2004-04-20 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method and apparatus for using a dynamic control model to compensate for a process interrupt |
US7169625B2 (en) | 2003-07-25 | 2007-01-30 | Applied Materials, Inc. | Method for automatic determination of semiconductor plasma chamber matching and source of fault by comprehensive plasma monitoring |
US7337034B1 (en) | 2005-09-07 | 2008-02-26 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method and apparatus for determining a root cause of a statistical process control failure |
US7517708B2 (en) | 2007-01-30 | 2009-04-14 | Tokyo Electron Limited | Real-time parameter tuning using wafer temperature |
-
1997
- 1997-03-24 US US08/822,731 patent/US5856923A/en not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-03-24 KR KR10-1999-7008661A patent/KR100430174B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-03-24 WO PCT/US1998/005921 patent/WO1998043191A1/en active IP Right Grant
- 1998-03-24 EP EP98912047A patent/EP1027675A4/en not_active Ceased
- 1998-03-24 JP JP54597298A patent/JP3360733B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-08-20 US US09/137,781 patent/US6427092B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-07-25 US US10/205,918 patent/US7555358B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-06-14 US US11/763,104 patent/US7738988B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-05-10 US US12/776,625 patent/US8315730B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-09-13 US US13/615,018 patent/US8600540B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1027675A4 (en) | 2007-05-09 |
US20070239307A1 (en) | 2007-10-11 |
US6427092B1 (en) | 2002-07-30 |
US8315730B2 (en) | 2012-11-20 |
US20130006411A1 (en) | 2013-01-03 |
US8600540B2 (en) | 2013-12-03 |
KR100430174B1 (ko) | 2004-05-03 |
EP1027675A1 (en) | 2000-08-16 |
US20020183884A1 (en) | 2002-12-05 |
JP3360733B2 (ja) | 2002-12-24 |
US7555358B2 (en) | 2009-06-30 |
WO1998043191A1 (en) | 1998-10-01 |
US5856923A (en) | 1999-01-05 |
KR20010005597A (ko) | 2001-01-15 |
US20100222913A1 (en) | 2010-09-02 |
US7738988B2 (en) | 2010-06-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2001510638A (ja) | 連続した、非ロットベースの集積回路の製造方法 | |
JP4008198B2 (ja) | ロットに基づかない集積回路デバイスの組立方法 | |
US6788993B2 (en) | Sorting a group of integrated circuit devices for those devices requiring special testing | |
US7682847B2 (en) | Method for sorting integrated circuit devices | |
US6830941B1 (en) | Method and apparatus for identifying individual die during failure analysis | |
JPH07235617A (ja) | 半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071018 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081018 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091018 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091018 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101018 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111018 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121018 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131018 Year of fee payment: 11 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |