FI103038B - Menetelmä suurikokoisen kvartsilasiputken, suurimittakaavaisen kvartsi lasiesineen sekä optisen kuidun valmistamiseksi - Google Patents

Menetelmä suurikokoisen kvartsilasiputken, suurimittakaavaisen kvartsi lasiesineen sekä optisen kuidun valmistamiseksi Download PDF

Info

Publication number
FI103038B
FI103038B FI935138A FI935138A FI103038B FI 103038 B FI103038 B FI 103038B FI 935138 A FI935138 A FI 935138A FI 935138 A FI935138 A FI 935138A FI 103038 B FI103038 B FI 103038B
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
quartz glass
tube
glass tube
rod
diameter
Prior art date
Application number
FI935138A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI935138A (fi
FI103038B1 (fi
FI935138A0 (fi
Inventor
Kiyoshi Yokokawa
Masaaki Aoyama
Gerhart Vilsmeier
Original Assignee
Shinetsu Quartz Prod
Heraeus Quarzglas
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shinetsu Quartz Prod, Heraeus Quarzglas filed Critical Shinetsu Quartz Prod
Publication of FI935138A0 publication Critical patent/FI935138A0/fi
Publication of FI935138A publication Critical patent/FI935138A/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI103038B publication Critical patent/FI103038B/fi
Publication of FI103038B1 publication Critical patent/FI103038B1/fi

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/01205Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
    • C03B37/01225Means for changing or stabilising the shape, e.g. diameter, of tubes or rods in general, e.g. collapsing
    • C03B37/01228Removal of preform material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/10Non-chemical treatment
    • C03B37/12Non-chemical treatment of fibres or filaments during winding up
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B19/00Single-purpose machines or devices for particular grinding operations not covered by any other main group
    • B24B19/22Single-purpose machines or devices for particular grinding operations not covered by any other main group characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground
    • B24B19/226Single-purpose machines or devices for particular grinding operations not covered by any other main group characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground of the ends of optical fibres
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D1/00Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor
    • B28D1/02Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor by sawing
    • B28D1/04Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor by sawing with circular or cylindrical saw-blades or saw-discs
    • B28D1/041Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor by sawing with circular or cylindrical saw-blades or saw-discs with cylinder saws, e.g. trepanning; saw cylinders, e.g. having their cutting rim equipped with abrasive particles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B23/00Re-forming shaped glass
    • C03B23/04Re-forming tubes or rods
    • C03B23/047Re-forming tubes or rods by drawing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/01205Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/01205Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
    • C03B37/01211Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments by inserting one or more rods or tubes into a tube
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/01205Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
    • C03B37/01225Means for changing or stabilising the shape, e.g. diameter, of tubes or rods in general, e.g. collapsing
    • C03B37/01228Removal of preform material
    • C03B37/01231Removal of preform material to form a longitudinal hole, e.g. by drilling
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/01205Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
    • C03B37/01225Means for changing or stabilising the shape, e.g. diameter, of tubes or rods in general, e.g. collapsing
    • C03B37/0124Means for reducing the diameter of rods or tubes by drawing, e.g. for preform draw-down
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/20Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
    • C03B2201/23Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with hydroxyl groups
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/50Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
    • Y02P40/57Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S65/00Glass manufacturing
    • Y10S65/08Quartz
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/13Hollow or container type article [e.g., tube, vase, etc.]
    • Y10T428/131Glass, ceramic, or sintered, fused, fired, or calcined metal oxide or metal carbide containing [e.g., porcelain, brick, cement, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Mining & Mineral Resources (AREA)
  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)

Description

! 103038
Menetelmä suurikokoisen kvartsilasiputken, suurimittakaa-vaisen kvartsilasiesineen sekä optisen kuidun valmistamiseksi 5 Keksinnön tausta
Keksinnön alue
Keksintö koskee suurikokoista kvartsilasiputkea, jolla on suuri halkaisija ja paksu seinämä, ja optisen kuidun valmistukseen käytettävää esivalmistetta, jolla on 10 vähäinen epäkeskisyys ja erinomaiset valonläpäisyominai-suudet ja joka kuitenkin sopii pienikustannuksiseen massatuotantoon. Erityisemmin se koskee suurimittakaavaista kvartsilasiesivalmistetta, joka on valmistettu yhdistämällä synteettinen kvartsilasiputki optisen yksiosaisen 15 kuidun ydinlasisauvan kanssa käyttäen sauva putkessa -tekniikkaa, menetelmää sen valmistamiseksi ja esivalmis-teesta saatua optista kuitua.
Tekniikan taso
Optisia kvartsilasikuituja (joita tästä lähtien 20 nimitetään yksinkertaisesti optisiksi kuiduiksi), erityi semmin yksiosaisia optisia kuituja on usean vuoden ajan sovellettu käytäntöön ja niitä käytetään suuria määriä. Optisia kuituja valmistetaan ensisijaisesti VAD-menetel-mällä (aksiaalinen kaasutaasipinnoitus, vapor-phase axial * · · 25 deposition) kuten on kuvattu julkaisussa JPA nro 50- 101 416, OVD-menetelmällä (ulkopuolinen kaasutaasipinnoitus, outside vapor-phase deposition) kuten on kuvattu US-patentissa 3 932 162, ja vastaavilla menetelmillä ja MCVD-menetelmällä (modifioitu kemiallinen kaasutaasipinnoitus, 30 modified chemical vapor deposition) kuten on kuvattu US-patentissa 4 217 027. Näillä menetelmillä saadut tuotteen kattavat suurimman osan maailman kuitumarkkinoista. Optisten kuitujen sovellutusalue on kuitenkin laajentunut, eikä kuituja nykyään käytetä ainoastaan suurien etäisyyk-35 sien johtimiin, vaan myös yleisesti kuluttajayhteyksissä.
* 2 103038
Siksi on nähtävissä, että optisten kuitujen tarve kasvaa lähitulevaisuudessa. On kuitenkin ennustettu, että sekä tuottavuus että kustannukset kohtaavat rajansa valmistettaessa optisia kuituja kolmella edellä mainitulla tavalla.
5 Koska on kulunut 20 vuotta optisten kuitujen tut kimisen aloittamisesta, läpäisyominaisuuksien ja luotettavuuden tutkimukset on viety loppuun asti. Siksi näyttää olevan melko vaikeaa kehittää uutta pienikustannuksista massatuotantoon sopivaa menetelmää ilman että läpäisyomi-10 naisuudet ja luotettavuus huononisivat.
Jos esivalmistuksen osuutta voidaan kasvattaa ja tuottavuutta laitteistoa kohden lisätä, massatuotanto olisi mahdollinen. Lisäksi odotetaan samalla muita kustannussäästöjä, koska tutkimuskustannukset ja epäkelvol-15 listen tuotteiden muovauksen estämisestä aiheutuvat kustannukset pienenisivät merkittävästi. Edellä mainitut kolme ensisijaista menetelmää tuottavat varmasti korkealaatuisia optisia kuituja, mutta ottaen huomioon, että ne ovat alunperin pienimittakaavaisia laboratoriomenetelmiä, 20 ne eivät täytä pienikustannuksisen massatuotannon vaatimuksia, sillä ne eivät sovellu suurimittakaavaiseen tuotantoon. Tätä seikkaa voidaan kuvata tarkemmin: MCVD-me- netelmällä tuotetusta esivalmisteesta saadun optisen kuidun pituus on vain 15 - 30 km ja VAD- tai OVD-menetelmällä ' * 25 tuotetusta esivalmisteesta saadun optisen kuidun pituus on 100 - 200 km.
Edellä kuvatut kolme menetelmää ovat varmasti parhaita kuidun tiedonsiirto-osan tuottamiseen. Samanaikainen pintakerroksen valmistaminen yhdessä prosessissa on kui-30 tenkin kaukana edullisesta valmistuksesta sekä kustannus-. ten pienentämisen että tuottavuuden kasvattamisen näkökul masta. On pidetty yhtenä parhaimmista menetelmistä valmistaa erikseen pintakerros, joka käsittää niinkin suuren osan kuin 80 % tai enemmän optisen kuidun poikkipinta-35 alasta, halvalla tehokkaalla menetelmällä ja yhdistää se 3 103038 edellä mainittuihin kolmeen tavanomaiseen menetelmään, kuten esimerkiksi laatuluokitellun kuidun tai yksiosaisen kuidun valmistuksessa. Menetelmää, joka perustuu edellä kuvattuun, on jo käytetty esimerkiksi menetelmänä, jolla 5 syntetisoidaan ja kerrostetaan OVD-menetelmällä pintakerros ydinlasisauvalle, joka on tuotettu VAD-menetelmällä. Tämä menetelmä kärsi kuitenkin huonosta pintakerroksen synteettisestä pinnoitustehokkuudesta ydinlasisauvan päälle, koska käytettiin ohutta ja lyhyttä ydinlasisauvaa. Li-10 säksi menetelmän kustannukset eivät olleet pienet eikä se ollut vielä läheskään sovellettavissa massatuotantoon, koska oli välttämätöntä syntetisoida jokainen ydinlasisau-voista.
Sen mukaisesti tämän keksijät suorittivat lisätut-15 kimuksia koskien edellä kuvattuja seikkoja ja havaitsivat niiden tuloksena, että ongelmista voidaan päästä tuottamalla tehokkaasti pinnoitekerros yksinään erillään ydin-lasisauvasta ja yhdistämällä pinnoitekerros lopuksi sauvaan, joka oli muodostettu alalla hyvin tunnetulla mene-20 telmällä. Siksi on päätelty, että sauva putkessa -tekniikka sopii parhaiten sellaiseen menetelmään.
Sauva putkessa -menetelmässä on kuitenkin vielä ratkaistavia ongelmia. Tavanomaisessa sauva putkessa -menetelmässä tavanomaiset kvartsilasiputket olivat niinkin * ' * 25 pieniä kuin 15 - 30 mm ulkohalkaisijaltaan ja seinämäpak- suudeltaan alueella 1-6 mm; lisäksi mittatarkkuus oli niin huono, että saatiin tuotteita, joiden ulkohalkaisija vaihteli noin 10 % ja paksuus 20 - 30 %. Asetettaessa ydinlasisauva tällaisen putken sisään sauva putkessa 30 -tekniikan mukaisesti vaadittiin muutaman millimetrin vä-.. lys putkien pituudesta ja koosta tai valmistajan taidosta riippuen, jotta vältettiin sauvan koskettaminen lasiputken sisäseinämään. Voidaan nähdä, että tällaiset haitat yhdessä, so. liian pieni putken halkaisija, huono mittatarkkuus 35 ja vaatimus suuresta välyksestä, aiheuttivat epäkeskisyy- • , 103038 4 den esiintymistä esivalmisteessa. Tämä aiheutti suurta epäkeskisyyttä optisessa kuidussa. Sauva putkessa -tekniikasta ei ole ajateltu olevan etua optisen kuidun valmistuksessa johtuen yksiosaisen optisen kuidun liitos-5 häviöstä useiden ytimien kokonaisliitostyössä.
Koska kvartsilasiputkien sisään laitettavien ydin-lasisauvojen ominaisuudet vaihtelevat, vaikka valmistus- olosuhteet pidetään samoina, ja myös kuidun spesifikaation, käyttäjän ja valmistusmenetelmän mukaan, on välttä-10 mätöntä tehdä eri mittaisia kvartsilasiputkia suurella tarkkuudella. Tällaisten eri tyyppisten ja eri mittaisten kavrtsilasiputkien työstö mekaanisesti hiomalla tai vastaavasti vaatii paljon työaikaa ja on kaukana halvasta massatuotannosta. Eri tyyppisten kvartsilasiputkien työs-15 tömenetelmäksi harkittiin kuumavetomenetelmää. Koska ve dettävän putken pienet mittapoikkeamat kuitenkin kasvoivat huomattavasti vedettäessä, oli vaikeaa valmistaa mitoiltaan tarkasti ennalta määrätyn kokoisia putkia.
Edellä mainittujen ongelmien lisäksi sauva putkes-20 sa -tekniikka kärsi vielä enemmän sellaisista ongelmista, kuin kuplien muodostuminen ja epäpuhtauksien sulkeumat kvartsilasiputken sisäseinämän ja ydinlasisauvan ulkopinnan liitosrajapinnassa. Tämä ongelma ei aiheutunut ainoastaan ilmakehästä ja sauva putkessa -menetelmässä käytetys-“ ’ 25 tä puhdistusmenetelmästä, vaan myös kvartsilasiputken si säpinnan viimeistelystä.
Edellä kuvattujen olosuhteiden valossa tämän keksijät ovat tehneet laajoja tutkimuksia ongelmien ratkaisemiseksi. Tuloksena on havaittu, että hyvin vakiintuneita 30 kolmea menetelmää voidaan muuntaa esivalmisteen koon kasvattamiseksi yhdistämällä täydellisesti paksu kvartsilasi-putki, jonka halkaisija on suuri, optisen kuidun ydinlasi-sauvaan käyttäen sauva putkessa -menetelmää. Tämä muunnettu menetelmä tuottaa suuria esivalmisteita, joiden laatu 35 on parempi epäkeskisyyden ja senkaltaisten seikkojen osal- « « s 103038 ta käytettynä yksiosaisena optisena kuituna. Samalla menetelmä on halpa ja sopii massatuotantoon. Edellä luetellut sauva putkessa -tekniikkaan liittyvät ongelmat on ratkaistu käyttämällä suuritarkkuuksista teollisuuskonetta suuri-5 kokoisen esikäsitellyn kvartsilasiputken valmistusprosessissa, joka käsittää ensin reiän poraamisen kvartsilasiva-lanteeseen tai putkimaiseen lasivalmisteeseen käyttäen porakoneessa rengasmaista poranterää (core drill perforator) (kauppanimi, valmistaja on Ueda Technical Institu-10 te) , kehähiomakonetta tai tarkkuushoonausmenetelmää, joka on kuvattu julkaisussa Cho-seimitsu Kakou Gijyutsu (Suurtarkkuuskoneistus) , Cho-seimitsu Kakou Kenkyukai (toim.), 1984, s. 421, Kogyo Chosakai Publishing Co. Ltd.; tuloksena saatavan putken uiko- ja sisäpintojen mekaanisen 15 hionnan, porauksen ja kiillotuksen putken viimeistelemiseksi mittatarkaksi; tahrojen, työstönaarmujen ja pinnan karheuden poistamisen pinnasta syövytysmenetel-mällä vetyfluoridihapon avulla; tuloksena saatavan primaarisen kvartsilasiputken lisäporaamisen upotuskuumahiilipo-20 ralla (tästä lähtien sanotaan "kuumahiiliporausmentelmäk-si), ja sitten tuloksena saatavan primaarisen kvartsilasiputken lämpökäsittelyn ilman työkalua suoritettavalla ve-tomenetelmällä (Tool Free Drawing), joka on esitetty julkaisussa Application Technology of High-Purity Silica, si-' * “· 25 vu 106; lopuksi saadun primaarisen kvartsilasiputken ku tistamisen edellä mainitun optisen kuidun ydinlasisauvan päälle yhtenäisen esivalmisteen muodostamiseksi käyttäen sauva putkessa -tekniikkaa. Nämä prosessit mahdollistavat esivalmisteen valmistuksen, josta voidaan onnistuneesti 30 saada korkealaatuista optista kuitua pituudeltaan maksimissaan jopa 3 000 km. Erityisesti kun raaka-aineena käytettiin synteettistä kvartsilasia, josta vieraat lisäaineet ja epäpuhtaudet poistettiin ja joka oli dehydratoitu ja jolla oli määrätty taitekerroin, voitiin saada parhaat 35 optiset ominaisuudet optiselle kuidulle. Tämä keksintö on 6 103038 tehty näiden havaintojen perusteella.
Keksinnön yhteenveto
Keksinnön kohteena on patenttivaatimuksen 1 tun-nusmerkkiosan mukainen menetelmä suuritarkkuuksisen suuri-5 mittakaavaisen ja paksun kvartsilasiputken valmistamiseksi .
Keksinnön kohteena on myös patenttivaatimuksen 5 tunnusmerkkiosan mukainen menetelmä suurimittakaavaisen kvartsilasiesivalmisteen valmistamiseksi käyttäen edellä 10 mainittua suurimittakaavaista kvartsilasiputkea.
Edellä olevien kohteiden saavuttamiseksi aikaansaadaan suurimittakaavainen kvartsilasiputki, jonka epä-keskisyys on pieni ja johon muodostuu vähän kuplia putken ja sauvan välisessä liitosrajapinnassa ja joka pienentää 15 kustannuksia ja lisää tuottavuutta ja jota voidaan käyttää tarkkalaatuisiin optisiin kuituihin.
Piirrosten lyhyt kuvaus
Kuvio 1 esittää vaakatasossa olevan poikkileikkauksen keksinnön mukaisesta suurimittakaavaisesta kvart-20 silasiputkesta.
Kuvio 2 esittää vaakatasossa olevan poikkileikkauksen keksinnön mukaisesta yksiosaista kuitua varten tarkoitetusta suurimittakaavaisesta kvartsilasiesivalmis-teesta, joka on valmistettu käyttäen suurikokoista kvart-* * 25 silasiputkea.
Kuvio 3 esittää kaaviomaisen vaakatasossa olevan poikkileikkauskuvan optisesta kuidusta, joka on valmistettu yksiosaisen kuidun valmistukseen tarkoitetusta esi-valmisteesta, joka on esitetty kuviossa 2.
30 Kuvio 4 esittää sekä taitekerroin- että valon in- tensitettijakautuman yksiosaisessa kuidussa.
Kuvio 5 esittää osittaisen pystyleikkauksen kaaviokuvan suurikokoisen kvartsilasiputken valmistusmenetelmästä käyttäen rengasmaista poraa, joka menetelmä on kek-35 sinnön edullinen toteutusmuoto.
7 103038
Kuvio 6 on kaaviokuva suurikokoisen kvartsilasi-putken valmistusmenetelmästä kuumahiiliporausmenetelmällä, joka on toinen keksinnön edullinen toteutusmuoto.
Kuvio 7 on kaaviokuva suurimittakaavaisen lämpökä-5 sitellyn kvartsilasiputken valmistusmenetelmästä, jossa sovelletaan ilman työkalua tapahtuvaa vetomenetelmää esi-käsiteltyyn kvartsilasiputkeen, joka menetelmä on myös keksinnön edullinen toteutusmuoto.
Keksinnön yksityiskohtainen kuvaus 10 Esivalmiste on valmistettu menetelmällä, joka kä sittää kvartsilasilähtömateriaalin ulkopinnan tai uiko- ja sisäpinnan mekaanisen hionnan suurella tarkkuudella ja sen jälkeen kvartsilasiputken, jonka sisäpinta on viimeistelty vähintään pinnankarheuteen 20 μτη, yhdistämisen optisen 15 kuidun ydinlasisauvan kanssa sauva putkessa -tekniikalla. Tässä käytetyt termit on määritelty seuraavasti: (1) "Suurikokoinen kvartsilasiputki" tarkoittaa putkimaista kvartsilasia yleensä mukaan lukien luonnon kvartsilasiputken ja synteettisen kvartsilasiputken, jotka 20 on valmistettu sauva putkessa -menetelmää varten.
(2) "Kvartsilasilähtömateriaali" tarkoittaa suurikokoista sylinterimäistä kvartsilasivalannetta tai putkimaista suurimittakaavaista kvartsilasia, joka on valmistettu hyvin puhtaasta luonnon kvartsilasista tai syntetti- ‘ - 25 sestä kvartsilasista; ja kvartsilasia, jonka ulkopinta on tarvittaessa karkeasti viimeistelty ennen prosessointia haluttuun mittaan; Käytettäessä synteettistä kvartsilasia putken OH-ryhmät ja taitekerroin säädetään tuotteiden suunnitellun 30 laadun mukaisesti. Taitekerroinero (A n) pidetään . 0,02 %:n alueella; (3) "Primaarinen kvartsilasiputki" tarkoittaa suurikokoista kvartsilasiputkea, joka on saatu haluttuun mittaan mekaanisesti hiomalla ja poraamalla kvartsilasilähtö- 35 materiaaliin reikä rengasmaisella poralla tai lävistämällä * 8 103038 sama lähtömateriaali putkeksi kuumahiiliporausmenetelmällä tai syntetisoimalla kvartsilasi putkimaiseen muotoon ja sitten karkeasti hiomalla sen uiko- ja sisäpinnat; (4) "Esikäsitelty kvartsilasiputki" tarkoittaa 5 suurikokoista kvartsilasiputkea, jonka sisä- ja ulkohal- kaisijoiden tarkkuus on säädetty siten, että seinämäpak-suuden virhe on korkeintaan 2 %, ja jonka sisäpinnan karheus on säädetty 20 |im:ksi tai sitä pienemmäksi HF-syövy-tyksen jälkeen; 10 (5) "Lämpökäsitelty kvartsilasiputki" tarkoittaa suurikokoista kvartsilasiputkea, joka on saatu suorittamalla esikäsitellylle kvartsilasiputkelle lämpökäsittely, kuumennus ja veto tai kuumennus- ja vetokäsittely paineen alaisena ilman työkalua tapahtuvan vetomenetelmän mukai-15 sesti; vastaavasti se tarkoittaa synteettistä kvartsilasiputkea, jonka pinta on lämpökäsitelty, ja/tai putkea, jonka halkaisija on erikokoinen kuin esikäsitellyllä kvartsi-lasiputkella; (6) "Paksuusvirhe" on arvo, jonka määrittelee seu- 20 raava yhtälö: [ (tmax — tmin) / (tmax + tmin ) / 2 ] X 100 (%) jossa tmax on putken maksimipaksuus ja tmin on putken mini-25 mipaksuus, jotka arvot on saatu mittaamalla paksuus (t) suurimittakaavaisesta kvartsilasiputkesta ennalta määrätyltä matkalta esimerkiksi 5 tai useammasta pisteestä putken pituussuunnassa tai pyörittämällä saatua putkea ja mittaamalla se 50 - 100 mm:n välein ja ilmoittamalla mak-30 simipaksuus prosentteina koko putken matkalla; (7) "Ilman työkalua tapahtuva vetomenetelmä" tar- « ‘ koittaa menetelmää, jossa esikäsiteltyyn synteettiseen kvartsilasiputkeen kiinnitetään sulattamalla apuputki ja jossa putki vedetään alaspäin tietokoneohjatun lämmitys-35 vyöhykkeen läpi vetopyörien avulla. Tällä tavalla esikä- 103038 9 sitellylle kvartsilasiputkelle voidaan suorittaa lämpökäsittely, kuumennus ja veto tai kuumennus ja veto paineen alaisena koskematta kvartsilasiputkeen.
(8) "Optisen kuidun ydinlasisauva" tarkoittaa la-5 sisauvaa, joka on optinen valonjohdeosa, joka koostuu ydinosasta ja optisesta pinnoitteesta mukaan lukien riittävästi syntettisellä pinnoitteella pinnoitettu ydin, kun optista valonjohdetta käytetään yleisessä tiedonsiirtojärjestelmässä yksiosaisena valonjohtimena tai moniosaisena 10 valonjohtimena, jolloin vaaditaan korkeaa laatua, ja lisäksi pinnoitettu ydin, jossa pinnoite on saatu aikaan OVD-menetelmällä, tai kvartsilasiputki, josta on mahdoton vetää kuitua standardien mukaisesti.
Sauva putkessa -tekniikassa käytettävä kvartsila-15 siputki on suurikokoinen edellä mainitusta suurikokisesta kvartsilasiputkesta saatu putki, ja se on suurimittakaa-vainen putki, jonka ulkohalkaisija on 50 - 300 mm ja joka on tehty kvartsilasista, jonka laatu on riittävä täyttämään optisten kuitujen pinnoiteputkelta vaaditut ominai-20 suudet. Suurihalkasijaisella ja paksulla kvartsilasiput-kella voidaan päästä pienentyneeseen mittapoikkeamaan. Sauva putkessa -tekniikalla valmistetusta suurimittakaa-vaisesta esivalmisteesta vedetyn optisen kuidun epäkeski-syys voi olla pienentynyt ja se voidaan lisäksi myös to- ··- 25 teuttaa hyvin tehokkaasti massatuotannossa pienin kustan nuksin.
Mitä suurempi on ulkohalkaisija tai ulkohalkaisi-jan ja sisähalkaisijän suhde, sitä tarkemmin optinen kuitu voidaan valmistaa, koska absoluuttinen arvo kasvaa putken 30 paksuuden mukaan. Sitä vastoin mitä pienempi on ulkohal- « ·' kaisija tai ulkohalkaisijan ja sisähalkaisijan suhde, sitä enemmän virhe kasvaa, jolloin ytimen vieressä olevan reaktiivisen putken mitoilta vaaditaan suuri tarkkuus MCVD-menetelmän ja pienihalkaisijäisen ja ohuen putken käyttöä 35 varten moniosaisessa vaipassa.
t 10 103038
Kuviot 1 ja 2 esittävät vastaavasti vaakasuuntaiset poikkileikkaukset suurikokoisesta kvartsilasi-putkesta ja suurimittakaavaisesta kvartsilasi- esivalmisteesta.
5 Kuviossa 1 D0 tarkoittaa ulkohalkaisiajaa ja Di si- sähalkaisijaa. Kuviossa 2 numero 1 tarkoittaa on ydinlasi-sauvaa, numero 2 pinnoitekerrosta ja numero 3 suljettua suurikokoista kvartsilasiputkea.
Kuviossa 3 on vaakasuuntainen kaaviomainen poikki-10 leikkauskuva optisesta kuidusta, joka on esimerkiksi yksiosainen ja vedetty edellä mainitusta suurimittakaavaisesta kvartsilasiesivalmisteesta. Kuviossa 3 numero 4 tarkoittaa ydintä, numero 5 optista pinnoitekerrosta ja numero 6 li-säpinnoitekerrosta ja "a" on ytimen halkaisija (dCOre) » "b" 15 optisen pinnoitteen halkaisija (dciadi) ja "c" optisen kuidun ulkohalkaisija (dciado) » joka on 125 mm. Saadun yksiosaisen kuidun taitekerroinjakautuma ja valon intensiteetti jakautuma on esitetty kuviossa 4. Kuviossa 4 optinen pinnoite on osa, jossa valoteho leviää ytimen halkaisijan 20 (dcoreo) ulkopuolelle. Optisen pinnoitteen halkaisija (dciadi) käsittää siksi samalla sekä ytimen ja että sen päälle syntetisoidun pinnoitekerroksen. Optisen pinnoitteen paksuuden tulisi vaihdella riippuen sellaisista tekijöistä kuin ytimen taitekerroinjakautuma, taitekerroinero ..· 25 (Λ n) ja kuidun käyttö. Optisen kuidun halkaisijana käy tetään tavallisesti arvoa, jossa saadut tulokset on kerrottu varmuuskertoimella. Keksinnön mukainen optinen kvartsilasiydinsauva merkitsee kvartsilasisauvaa, jossa on kuviossa 4 esitetty optinen pinnoitekerros.
30 Koska, kuten edellä on mainittu, keksinnön mukai- .' nen optinen kuitu on vedetty suurimittakaavaisesta esival- misteesta, kuviossa 3 esitetyn optisen kuidun ulkohalkai-sijan dciado suhde optisen pinnoitteen halkaisijaan dciadi, dciado/dciadi» on suunnilleen sama suhde kuin kuviossa 1 esi-35 tetyn suurikokoisen kvartsilasiputken, josta valmistetaan n 103038 kuviossa 2 oleva suurimittakaavainen esivalmiste, ulkohal-kaisijan D0 suhde sisähalkaisijaan Di, D0/Di. Sen mukaisesti on tarpeen suunnitella optiset kuidut käyttäen ohjearvona suhdetta D0/Di. Jos esimerkiksi oletetaan, että 5 yksiosaisen kuidun (aallonpituusalueelle 1,3 μπι) ytimen halkaisija on 9 μιη, GI-tyyppisen moniosaisen kuidun ytimen halkaisija 50 μπι ja optisen kuidun ulkohalkaisija on 125 μιη, suhde D0/Di saa taulukossa 1 esitetyt arvot. Taulukko 1 10 dcladi (jcladi (dciado/dciadi) Huomautuksia (μιη) dydin ®(Do/Di) 9 1 13,89 dciado ja dciadi samat, ei voi toteuttaa 18 2 6,94 minimipinnoitekerros 15 27 3 4,63 käyttökelpoinen alue 45 5 2,77 käyttökelpoinen alue (50) (1/0) (2,50) (moniosakuitukäyttöön, tarvitaan ohut pinnoite) (60) (1/2) (2,08) (käyttökelpoinen alue 20 moniosaisille kuiduille) 72 8 1,74 alue, jossa pinnoitteita on kaksi tai useampia 90 10 1,39 100 11,1 1,25 25 (114) 12,7 1,10 125 13,9 1,00 uloin osa
Huomaa: sulkeissa oleva tarkoittaa moniosaista kuitua.
Edellä olevan taulukon 1 mukaisesti esimerkiksi 30 suhteeksi D0/Di tulee 2,5 tai vähemmän, jos kuitu on moniosainen, tavallisesti samanaikaisesti ytimen kanssa yhdes- • l sä syntetisoidun pinnoitekerroksen suhde ytimeen on 5 - 30 %. Siksi kuidun, jossa on esimerkiksi 20 % pinnoiteker-rosta, halkaisija on 60 μπι ja D0/Dj. = 2,08. Jos kyseessä 35 on yksiosainen kuitu, on välttämätöntä, että Dc/Di on pie- 12 103038 neitipi kuin 7, jotta saadaan käyttökelpoinen kuitu. Toisin sanoen 1,3 μπι:η alueen (kuten yhteensovitetuissa pinnoite-tyypeissä, deplest-tyypeissä) , 1,55 μπι:η alueella ja dis-persiosiirtymätyypeissä tehon jakautuman oletetaan olevan 5 noin 20 μπι tai vähemmän. Suhteelle dcudi/dydin käytetään sopivina arvoina arvoja, jotka ovat yli noin 3, so. D0/Di « 4,63, jolloin on otettu huomioon varmuuskerroin. Suhde D0/Di pienenee myös, jos esivalmisteissa käytetään kahta tai kolmea pinnoitekerrosta. Sopivan kuidun valmis-10 tusolosuhteiden vuoksi on välttämätöntä valita D0/Di~arvo väliltä 1,1 - 7. On luonnollista, että kvartsiputken ja ytimen välillä täytyy esiintyä joitakin rakoja siinä tapauksessa, että kvartsilasiputki on suunniteltu sauva putkessa -tekniikkaa varten, koska D0/Di on esivalmisteen 15 suhde.
Valmistettaessa suurikokoinen kvartsilasiputki kvartsilasilähtömateriaalista voidaan käyttää monen tyyppisiä tunnettuja menetelmiä luonnon kvartsin käsittelemi-sesksi. Esimerkiksi upokassulavetomenetelmä ja muottimuov-20 ausmenetelmä voivat olla käyttökelpoisia. On kuitenkin vaikeaa valmistaa putkea, jonka säde on suuri, upokassula-vetomenetelmällä. Käytettäessä upokassulavetomenetelmää upokkaan kuumankestävä materiaali on sulatuksen ajan suorassa kosketuksessa sulan lasin kanssa useita tunteja, ··' 25 jolloin kuumankestävässä materiaalisssa olevat epäpuhtau det siirtyvät diffuusion välityksellä kvartsilasin sisä-ja ulkopintoihin. Sellaiset epäpuhtaudet ovat ei-toivottu-ja, sillä ne kasvattavat optisen kuidun siirtohäviöitä. Siksi on välttämätöntä poistaa kontaminoitunut ytimen osa, 30 kun pinnoiteputki liitetään ydinosan päälle.
. Seuraavia kolmea menetelmää suositellaan keksinnön mukaisen suurikokoisen kvartsilasiputken valmistamiseksi.
Ensimmäinen menetelmä koostuu kahdesta vaiheesta. Ensimmäisessä vaiheessa valmistetaan sylinterimäinen 35 kvartsilasilähtömateriaali. Toisessa vaiheessa lähtömate- 13 103038 riaaliin porataan joko mekaanisesti reikä keskelle putki-poralla, kuten on esitetty kuviossa 5, tai lähtömateriaalia käsitellään lyhyen aikaa kuumahiiliporausmenetelmällä reiän tekemiseksi.
5 Toinen menetelmä on käyttää OVD-menetelmää, joka on kuvattu US-patentissa 2 272 342 ja jossa huokoinen piidioksidi jauhemateriaali kerrostetaan kuumankestävän ytimen päälle, sitten ydin poistetaan ja saatu pinnoitekerros de-hydratoidaan ja poltetaan sen muuttamiseksi lasimaiseksi. 10 Kolmas menetelmä käsittää lävistetyn jauhemateri- aalin muodostamisen suoraan VAD-menetelmällä ja sitten pinnoitekerroksen polttamisen ja dehydratoinnin sen muuttamiseksi lasimaiseksi.
Kuviossa 5 numero 7 tarkoittaa sylinterimäistä 15 kvartsilasilähtömateriaalia, numero 8 putkiporaa ja numero 9 hiomakiveä. Kuvio 6 esittää kaaviokuvan kuumahiilipo-rausmenetelmästä, jossa kuvassa numero 10 tarkoittaa sylinterimäistä kvartsilasilähtömateriaalia, numero 11 hii-liporaa, numero 12 primaarista kvartsilasiputkea ja numero 20 13 kuumenninta. Jos alkuperäinen sauva putkessa -tek niikkaan tarkoitetun kvartsilasiputken mittavirhe on kovin iso, kuumennus- ja vetokaäsittely kasvattavat sitä vielä suhteellisesti suuremmaksi. Koska myös usean pinnoitekerroksen käyttö kasvattaa virhettä, tarkka mittojen säätämi-··· 25 nen on ensiarvoisen tärkeää. Suuren tarkkuuden omaava kvartsilasilähtömateriaalista tehty primaarinen kvartsila-siputki voidaan saada aikaan mekaanisesti hiomalla. Kvart-silasin kasvaneen koon myötä mekaaninen hionta eli tark-kuushionta hyvin tunnetuilla tavanomaisilla suurilla ko-30 neilla on tullut mahdolliseksi. Suuritarkkuuksinen koneis-·* tus voidaan suorittaa kuitenkin vain lukuisten koneistus- vaurioiden, kuten mikrosäröjen, samentumien, koneistus-naarmujen jne. kustannuksella, jotka jäävät käsiteltyyn pintaan aiheuttaen kuplanmuodostusta sisäpuolisessa raja-35 pinnassa sauva putkessa -tekniikan mukaisen liittämisen 14 103038 aikana. Edellä mainittujen ongelmien ratkaisemiseksi on suoritettu suuritarkkuuksinen mekaaninen kiillotus, sisäpinnan liekkikiillotus tai erityisen lasipinnoitteen muodostaminen sisäpintaan pinnan karheuden saamiseksi alueel-5 le 0,01 mm (katso Japan Laid Open Publication nro 52-92 530).
Nämä käsittelyt olivat kuitenkin niin vaivalloisia, että niitä on melkein mahdotonta suorittaa suurikokoisen (suuri halkaisija, paksu ja pitkä) kvartsilasi-10 putken massatuotannon yhteydessä. On kuitenkin havaittu, että hyvin puhtaan primaarisen kvartsilasiputken sisäpinnan kiillotus voidaan suorittaa tarkkuushoonauskoneella.
Tämän menetelmän mukaisesti primaarinen kvartsila-siputki, jonka ulkohalkaisija on 50 mm tai suurempi ja pi-15 tuus noin 3 000 mm, voidaan käsitellä kokonaisuudessan suoraksi putkeksi, jonka poikkileikkaus on hyvin ympyrämäinen. Sen mukaisesti saadun putken pinta täytyy viimeistellä mekaanisesti kiillottamalla toisilla hiomakivillä tai erikokoisilla kuluttavilla rakeilla säröjen, samennus-20 ten ja naarmujen poistamiseksi, jotka ovat aiheutuneet jännityksistä tai vastaavista, ja suorittaa HF-syövytys jännityskonsentraatioiden poistamiseksi.
Putkelle suoritetaan edelleen ultraäänipesu epäpuhtauksina olevien materiaalien poistamiseksi pinnasta ja 25 sitten tarkastetaan, että sisäpinnan pinnankarheus on 20 pm tai pienempi. Toisin sanoen lämpökäsittely voi tehdä putken pinnan sileäksi sen kautta, että se poistaa mekaanisen hionnan aikana syntyneet terävät karheudet, laukaisee jännitystä ja rajoittaa kuplien muodostumista.
30 Keksijöiden surittama koe osoitti, että kun hion- .· nasta aiheutunut sisäpinnan pinnankarheus ylittää 20 pm, * · sen aiheuttamia haittoja ei voida lieventää tai poistaa kuumennus- ja vetokäsittelyilla, ja se aiheuttaa kuplan-muodostusta sisärajapinnassa yhdistämisen aikana sauva 35 putkessa -tekniikkaa käytettäessä. Edullinen kvartsilasi- 15 103038 putken sisäpinnan viimeistelymenetelmä on suuritarkkuus-hoonausmenetelmä joko siinä tapauksessa, että sylinterimäinen kvartsilasilähtömateriaali porataan mekaanisesti putkiporalla tai vastaavalla reiän tekemiseksi keskelle, 5 tai että käytetään primaarista kvartsilasiputkea, joka on saatu karkeasti mekaanisesti hiomalla suurimittakaavaisen putkimaisen kvartsilasilähtömateriaalin sisä- ja ulkopinnat OVD-menetelmässä tai vastaavassa.
Tuloksena voidaan ydinlasisauvan ja kvartsilasi-10 putken välistä välystä pienentää. Käytettäessä tätä tapaa primaariselle putkelle, jonka sisäpinta on hiottu ja mekaanisesti kiillotettu tarkkuushoonauskoneella, suoritetaan kehähionta paksuuden säätämiseksi siten, että pak-suusvirhe jää 2 %:n sisälle. Kun paksuusvirhe on tällä ta-15 voin säädelty, virheen laajeneminen vedossa voidaan välttää ja siten kuituun ei tule ei-toivottuja haittavaikutuksia epäkeskisyydestä.
Kuumahiiliporausmenetelmä suoritetaan siten, että sylinterimäinen kvartsilasilähtömateriaali kuumennetaan ja 20 hiilipora painetaan lähtömateriaalin keskustaan. Käytettäessä tämän kaltaista reiänlävistysmenetelmää etuna on, että voidaan helposti valmistaa suurikokoinen kvartsilasi-putki, jonka sisäpinnan pinnankarheus on 20 pm tai vähemmän, käytännössä vain muutama pm, ilman kvartsilasiputken 25 sisäpinnan hiontaa ja kiillotusta. Jos kvartsilasilähtömateriaalin ukohalkaisija on suurempi kuin 50 mm, voidaan reikäosan keskisyyttä ja putken suoruutta merkittävästi parantaa.
Siten jos sylinterimäiseen kvartsilasilähtömate-30 riaaliin, jonka ulkohalkaisija on 50 mm tai suurempi, val-mistetaan reikä keskelle kuumahiiliporausmenetelmällä,
» I
voidaan saada suora sylinterimäinen putki, jonka ulkohalkaisija on 300 mm tai suurempi ja pituus noin 3 000 mm ja jonka poikkileikkaus on hyvin ympyrämäinen missä kohtaa 35 tahansa putken pituudella.
16 103038
Ulkokehän hiontaolosuhteet eivät ole niin tiukat kuin sisäkehän, koska kuumennusvyöhyke kuumentaa suoraan ulkokehää. Ulkokehän pinnankarheus pitää kuitenkin säätää siten, että se on 200 μπι tai vähemmän, edullisesti 100 pm 5 tai vähemmän, HF-syövytyksen avulla poistamalla osa, jossa on suuria jännityskonsentraatioita tai laukaisemalla jännitykset siitä osasta, koska sen osan laatu vaikuttaa lopullisen tuotteen eli optisen kuidun murtolujuuteen. Pin-nankarheuden säädössä voidaan käyttää hyvin vakiintuneita 10 puolijohdevalanteille ja monen tyyppisille keraamisille materiaaleille käytettyjä koneistusmenetelmiä, kuten stan-dardikehähiontaa tai menetelmää, jossa käytetään sylinte-rimäistä hiovaa osaa.
Edellä kuvatun prosessin jälkeen mekaanisesti kä-15 sitellylle pinnalle suoritetaan viimeistelykiillotus pak-suusvirheen saamiseksi 2 %:n sisälle ja HF-syövytyskäsit-tely, jotta saadaan esikäsitelty kvartsilasiputki, jonka sisäpinnan karheus on 20 pm tai alle. Esikäsitelty kvartsilasiputki yhdistetään täydellisesti ydinlasisauvan kans-20 sa optiseksi kuiduksi soveltaen siihen sauva putkessa -tekniikkaa.
Ydinlasisauvan ominaisuudet vaihtelevat, vaikka sauvaa voidaan tuottaa samoissa olosuhteissa riippuen kuidun erityisvaatimuksista tai käyttäjän tai valmistajan me-25 netelmistä.
Sen mukaisesti voidaan tuottaa monen kokoisia kvartsilasiputkia suorittamalla kuumennus- ja vetokäsit-tely esikäsitellyille kvartsilasiputkille, joissa on ydin-lasisauva. Tässä lämpökäsittelymenetelmässä käytetään il-30 man työkalua tapahtuvaa vetomenetelmää epäpuhtauksien kiinnittymisen estämiseksi.
•«
Kuvio 7 esittää kaaviokuvan ilman työkalua tapahtuvasta vetomenetelmästä, jossa kuvassa numero 14 tarkoittaa esikäsiteltyä kvartsilasia, numero 15 kuumenninta, nu-35 mero 16 vetorullaa, numero 17 apuputkea, numero 18 läm- 17 103038 pökäsiteltyä kvartsilasiputkea ja numero 19 sensoria.
Vaadittujen mittojen aikaansaamiseksi suurella tarkkuudella tätä menetelmää käytettäessä siihen täytyy liittää veto ja sisäinen paine. Painetta pitää muutella 5 esikäsitellyn putken mittojen ja paksuuden, kuumennetun lasin viskositeetin ja vetosuhteen mukaan; mittojen saavuttamiseksi suuremmalla tarkkuudella prosessi tulisi toteuttaa siten, että suhde (D0/Dj.) / (d0/di) osuu välille 1,0 -1,5, jolloin D0 ja Di tarkoittavat esikäsitellyn 10 synteettisen kvartsilasiputken uiko- ja sisähalkaisijaa ja d0 ja di tarkoittavat lämpökäsitellyn putken uiko- ja sisähalkaisi jaa . Jos edellä oleva suhde jää pienemmäksi kuin 1,0, putkessa voi tapahtua deformaatiota lämpökäsittelyssä, ja jos suhde on suurempi kuin 1,5, paksuusvirhe 15 tulee niin suureksi, että se voi aiheuttaa putken halkeamisen riippuen lämpötilaolosuhteista. Siten ei voida odottaa saatavan mittatarkkaa synteettistä kvartsilasiputkea, jos suhde jää määritellyn alueen ulkopuolelle. Erityisesti, jos suhde lähestyy arvoa 1,5, paksuusvirheen täytyy 20 ehdottomasti olla 2 %:n sisällä.
Halkaisijaltaan 50 - 300 mm olevien putkien lämpökäsittely täytyy suorittaa lämpötila-alueella 1 600 -3 000 °C, edullisesti alueella 2 000 - 2 800 °C taloudellisista syistä. Jos lämpökäsittely suoritetaan matalammas-*··- 25 sa lämpötilassa kuin edellä määritelty alue, esikäsitelty kvartsilasiputki ei pehmene riittävästi; jos käsittely suoritetaan korkeammassa lämpötilassa kuin määritelty alue, esikäsitellyssä putkessa voi tapahtua hajoamista tai se voi muuttua juoksevaksi. Kummassakaan tapauksessa ei 30 voida enää säilyttää suurta mittatarkkutta. Suhde D0/Di tai d0/di tarkoittaa yksiosaisen optisen kuidun pinnoite-kerroksen paksuutta. Optisella kuidulla, jolla on yksi suojuskerros, edellä mainitun suhteen täytyy olla välillä 2 - 7; optisella kuidulla, jolla on kaksi tai useampia 35 suojuskerroksia, suhteen pitäisi olla välillä 1,1 - 3.
18 103038 Tällä tavalla saatu kvartsilasiputki on lämpökäsitelty korkeassa lämpötilassa lämpötilavälillä 1 600 -3 000 °C siten, että monenlaiset viat, kuten karheus ja mekaanisen hionnan aiheuttamat hiontatyöstöjäljet, voidaan 5 poistaa tai niitä voidaan lieventää. Erityisesti mitä enemmän muovataan termisesti valssaamalla, sitä laajemmiksi tulevat pinnan halkeamat, säröt ja kuopat niin, että urat loivenevat ja menettävät kulmaosuutensa.
Sen mukaisesti voidaan välttää joitakin menetel-10 miä, jotka eivät ole olleet sopivia massatuotantoon, mutta jotka ovat edellytyksenä sauva putkessa -tekniikalla tapahtuvassa kvartsilasiputken valmistuksessa, kuten mekaaninen suurtarkkuushionta, sisäpinnan liekkikiillotus ja menetelmä, jolla muodostetaan sisäpintaan erikoislasiker-15 ros.
Siten tavoitteena oleva suurikokoinen kvartsilasiputki voidaan aikaansaada tehokkaasti muovaamalla termisesti suurikokoinen hyvin tarkasti tehty esikäsitelty kvartsilasiputki.
20 Tämän keksinnön mukainen valmistusmenetelmä luon non kvartsilasia varten käsittää vaiheet, joissa valitaan hyvälaatuiset osat luonnon kiteisistä lasikappaleista, edelleen otetaan niistä keskiosat poistamalla jokaisen ki-dekappaleen pintakerros, tehdään partikkelit samanko-25 koisiksi rikkomalla kappaleet ja poistetaan epäpuhtaudet kemiallisella käsittelyllä vieraiden aineiden poistamisen jälkeen. Näin käsiteltyyn materiaaliin sovelletaan sitten hyvin tunnettuja tavanomaisia menetelmiä, kuten upokassu-lavetomenetelmää tai muottivalumenetelmää, joita on käy-30 tetty laajasti pitkän aikaa.
Suurikokoisen sylinterimäisen kvartsilasilähtöma- • « teriaalin valmistusmenetelmäksi suositellaan kuitenkin parhaana menetelmänä kvartsilasimateriaalin valmistamiseksi optisia kuituja varten Verneuil-menetelmää, jossa käy-35 tetään vety-happi-liekkiä, koska siinä kuituun siirtyy vä- « 19 103038 hiten epäpuhtauksia.
Vaikka erilaisia menetelmiä voidaan käyttää synteettisen kvartsilasivalanteen tai vastaavan sellaisen putkimaisen kappaleen valmistamiseksi, kuten menetelmää, 5 joka on kuvattu edellä mainitussa julkaisussa "Application Technology of High-Purity Silica" sivuilla 100 - 104, korkeassa lämpötilassa tapahtuva kaasufaasi-Verneuil-menetel-mä, jossa syntetisoidaan suoraan kaasumaisista piiyhdisteistä, esimerkiksi SiCl^stä, lasivalanne vety-happi-lie-10 kin avulla, on sopimaton optisen kuidun materiaalin val-mistukseeen, koska siitä saatu synteettinen kvartsilasi sisältää OH-ryhmiä suurina, yli 800 ppm:n pitoisuuksina.
Siten tällä menetelmällä saatuja lasivalanteita käytetään usein valomaskialustoina puolijohteille ja va-15 lotuslaitteiden optisina osina. Plasmamenetelmä, joka on muunnettu Verneuil-menetelmä, sopii erikoistuotteiden valmistamiseen, kuten optisen kuidun erittäin puhtaan la-siytimen valmistamiseen, koska se kuluttaa paljon sähköenergiaa, ja on siten kallis menetelmä. Erotuksena edellä 20 mainittuihin menetelmiin tunnetaan eräs muu menetelmä, jolla ei ole edellä mainittuja puutteita ja joka siksi on sopiva tämän keksinnön mukaisten lähtömateriaalien valmistamiseksi, ja tämä menetelmä käsittää huokoisen jauhemaisen materiaalin pinnoittamisen pyörivälle alustalle (koh-25 de) puhaltamalla kaasumaista materiaalia samalla, kun liekin lämpötilaa lasketaan, jauhemaisen materiaalin dehydra-tointikäsittelyn tai vastaavan ja lopuksi käsitellyn jau-hemateriaalin sintraamisen lasimaiseksi. Eräs tällainen menetelmä, so. VAD-menetelmä, tuottaa ensisijaisesti kiin-30 teän sylinterimäisen kvartsilasilähtömateriaalin. Toinen menetelmä, so. OVD-menetelmä, tekee mahdolliseksi muodostaa suoraan putkimainen lasituote.
Tässä keksinnössä käytettävä synteettinen kvartsi-lasilähtömateriaali valmistetaan edullisesti huokoisesta 35 jauhemateriaalista, koska OH-ryhmiä ja taitekerrointa voi- » 20 103038 daan säädellä halutulla tavalla, jotta täytetään menetelmässä käytettävän ydinlasisauvan pinnoitteesta riippuvat vaatimukset. Suurihalkaisijäinen esivalmiste, jonka halkaisija on 75 mm tai pienempi, voidaan saada suoraan ei 5 vain kvartsilasiputkesta, jonka halkaisija on 75 mm, vaan myös joko uudelleen vetämällä suurempaa esivalmistetta tai tuottamalla suoraan halutun halkaisijan omaava esivalmiste suorittamalla samanaikaisesti veto, jossa kvartsilasiputki kutistuu ydinlasisauvan päälle sauva putkessa -teknii-10 kalla.
Kappaleen kentän halkaisijan, katkaisuaallonpituu-den ja hajaantumisen valinta on tärkeä yksiosaista ydinla-sisauvaa varten. Viimeaikaisen laadun parantumisen myötä on usein kysymys sirontaominaisuusarvojen löytämisestä 15 käytettäessä tuotettuja ydinlasisauvoja niin kuin niitä käytetään. Siten on edullista, että ydinlasisauvan pinnoitteen paksuus säädetään ennen suojapinnoitusta ja sitten tehdään hienosäätö syövyttämällä tms. tavalla, sen jälkeen kun sauva on valmistettu esivalmisteeksi.
20 Suuritarkkuuksinen säätö voidaan tehdä suurimit- takaavaiseen kvartsilasiesivalmisteeseen sen laajan sää-töalueen ansiosta.
Esimerkki 1
Suurimittakaavainen huokoinen kvartsijauhemateri-25 aali valmistettiin aksiaalisella kaasutaasipinnoitusmene-telmällä (VAD), joka käsittää SiCl4:n höyrystämisen; SiCl4-kaasun liekkihydrolysoinnin vety-happi-polttimella SiC>2-jauheen tuottamiseksi ja sen pinnoittamisen pyörivän kvartsisauvan päälle. Tuloksena saatu jahemateriaali de-30 hydratoitiin kuumentamalla se He/Cl2-kaasuseoksessa säh-. köuunissa, jossa toteutettiin vyöhykesulatusprosessi ’ 1 550 °C:ssa yhtenäisen lasin saamiseksi. Täten saatiin suuri sylinterin muotoinen kvartsilasilähtömateriaali. Kvartsilasivalanteen ulkopinnan mitta oli karkeasti sel-35 lainen, että mitat säädeltiin kehähiomakoneella, jossa oli 21 103038 numeron 80 hiomakivi, sen jälkeen kun molemmat päät oli katkaistu, ja sitten sen keskelle porattiin reikä putkipo-ralla, jossa oli myös numeron 80 hiomakivi. Täten saatiin synteettinen primaarinen kvartsilasiputki, jonka massa oli 5 noin 10 kg, ulkohalkaisija noin 94 mm, sisähalkaisija 30 mm, uiko- ja sisähalkaisijan suhde 3,13, seinämäpaksuus noin 32 mm ja pituus 730 mm.
Saadun primaarisen putken sisäpinta koneistettiin koko pituudelta automaattisella pitkällä hoonauskoneella 10 pinnan viimeistelemiseksi suurella tarkkuudella, jotta saatiin pitkä putki, jossa oli poikkileikkaukseltaan hyvin ympyrämäinen reikä, joka oli porattu suoraan pituusakselin suunnassa. Kiillotusastetta lisättiin asteittain vaihtamalla hiomakiviä lopettaen nro:n 800 hiomakiveen. Sitten 15 putken ulkokehä hiottiin NC-kehähiomakoneella siten, että ulkopinnan keskiakseli yhtyi sisäpinnan keskiakseliin. Kun oli varmistettu, että putki oli viimeistelty paksuuteen, jonka virhe oli 2 %:n sisällä, ulkopinta viimeisteltiin hiomalla hiomakivella nro 140. Putki syövytettiin vety-20 fluoridihappokennossa, jossa vetyfluoridihapon konsentraa-tio oli 5 - 30 %, samalla tarkkaillen pintaa. Tämä vaihe on välttämätön pintalian poistamiseksi ja koneistuksen aiheuttamien pintajännitysten poistamiseksi. Esikäsitelty synteettinen kvartsilasiputki saatiin lopuksi pesemällä *. 25 syövyttämällä viimeistelty putki puhtaalla vedellä. Siten saadun esikäsitellyn putken ulkohalkaisija oli 91,5 mm, sisähalkaisija 32,4 mm, uiko- ja sisähalkaisijan suhde D0/Di 2,82, paksuus 29,55 mm, pituus 730 mm ja massa 9,2 kg. Paksuusvirhe (t^ax - tmin) oli 0,48 mm (1,62 %) . Li-30 säksi pinnankarheus tarkastettiin kuljettamalla kosketus-tyyppistä kompaktia pinnankarheusmittaria 8 mm matka putken pituussuunnassa, jolloin saatiin sisäpinnan pinnankar-heudeksi 4,8 μπι ja ulkopinnan pinnankarheudeksi 53 pm.
Yksiosainen 1,3 pm:n aallonpituuden ydinlasisauva, 35 jonka taitekerroinero (Λ n) ytimen ja pinnoitteen välillä 22 1 0 3 0 3 8 oli 0,343, valmistettiin erikseen VAD-menetelmällä. Tämän ydinlasisauvan ulkohalkaisija oli 54,5 mm mukaan lukien pinnoitteen adheesio ja pituus 455 mm. Sauva kuumavedet-tiin ulkohalkaisijaan 30,1 mm automaattisella vetokoneel-5 la, joka oli varustettu ulkohalkaisijan säätimellä ja suunniteltu niin, että aallonpituusraja c oli 1,25 pm. Ulkopinnan lievän syövytyksen jälkeen sauva kuumaleikat-tiin pituuteen 730 mm. Siten saatu ydinlasisauva sovitettiin sitten varovasti edellä mainitun esikäsitellyn syn-10 teettisen kvartsilasiputken sisään ja kiinnitettiin siihen sovittaen sauvan keskiakseli putken keskiakselin kanssa samaan kohtaan. Asennuksen jälkeen kumpaankin päähän kiinnitettiin apukvartsikappale ja pyöritettiin taipumien ja vääntymien oikaisemiseksi. Tämä sovitelma laitettiin sit-15 ten pystysuoraan sähköuuniin yläpäästä niin, että etupää kuumeni lämpötilaan 2 180 °C, ja paine pienennettiin tyh-jiöpumpulla. Sauva putkessa -sovitelmaa kuljetettiin vaih-televalla nopeudella säätäen samalla erikseen lämpötilaa välillä 2 000 - 2 800 °C ja painetta välillä 20 - 100 mbar 20 (200 - 1 000 mmAq) ilmakuplien muodostumisen tarkkailemi seksi rajapinnassa. Esivalmiste saatiin kuljettamalla hitaasti koko sovitelmaa nopeudella 2 mm/min uunin läpi niin, että ilmakuplia ei muodostuisi. Täten saatiin stabiilissa tilassa oleva esivalmiste, jonka ulkohalkaisija •t 25 oli 90,2 mm, pituus 595 mm ja massa 8,3 kg. Tästä saadaan jopa 300 km:n mittaisia kuituja. Osa saadusta esivalmis-teesta kuumavedettiin niin, että ulkohalkaisijaksi tuli 50 mm, ja se tarkastettiin esivalmisteanalysaattorilla. Taitekertoimen muutos pinnoitteen ja sauvan rajapinnassa 30 ei ollut suurempi kuin 0,01 % ja epäkeskisyys oli 0,153 mm (0,34 %) .
Esimerkki 2
Esikäsitelty synteettinen kvartsilasiputki, jonka ulkohalkaisija (D0) oli 93,5 mm, sisähalkaisija (Di) 35 31,6 mm, uiko- ja sisähalkaisijan suhde 2,96, paksuus 23 103038 30,95 nun, paksuusvirhe (t^x - tmin) 0,42 mm (1,36 %), pituus 700 mm ja massa 9,3 kg, valmistettiin samalla tavalla kuin esimerkissä 1.
Pinnankarheus tarkastettiin edelleen kuljettamalla 5 kosketustyyppistä kompaktia pinnankarheusmittaria 8 mm pintaa pitkin putken pituussuunnassa, jolloin saatiin sisäpinnan karheudeksi R^ax 8,5 μπι ja ulkopinnan karheudeksi 68 μπι.
Esikäsitelty synteettinen kvartsilasiputki kuumen-10 nettiin sitten lämpötilaan 2 200 °C pystysuorassa uunissa alapään yhteen hitsaamiseksi ja kuumavedettiin paineen alaisena, kuten kuviossa 6 on esitetty, inertin kaasun virratessa putken sisä- ja ulkopuolella. Tällä tavalla saatiin taulukossa 2 esitetyt viisi eri tyyppistä lämpö-15 käsiteltyjä kvartsilasiputkia. Sisäpinnan karheuden Rmax havaittiin pienentyneen merkittävästi lämpökäsittelyn jälkeen .
Yksiosainen ydinlasisauva, jonka taitekerroinero ( Λ n) oli 0,335 %, valmistettiin erikseen VAD-menetel-20 mällä. Ydinlasisauva valmistettiin siten, että se sopi kaikkiin viiteen taulukossa 2 esitettyyn esikäsiteltyyn synteettiseen kvartsilasiputkeen, jotka toimivat pinnoi-tekerroksena. Vastaavasti ydinlasisauvan ulkopinta syövytettiin ja kuumavedettiin jokaisen taulukossa 2 esitetyn *. 25 ydinlasisauvan saamiseksi. Jokainen ydinlasisauva sijoi tettiin vastaavaan lämpökäsiteltyyn synteettiseen kvartsilasiputkeen siten, että jokaisesta saatiin sauva putkessa -sovitelma, joka sitten kuumennettiin kokoon puristamiseksi, jotta saatiin muodostettua kiinteä esivalmiste. 30 Taitekertoimessa ei havaittu askelmaista muutosta pinnoi-tekerroksen ja sauvan välillä esivalmisteanalysaattorilla mitattaessa.
. · I
24 103038 I I to 113 Ο ·η H A! ·Η
r-t’s-in to >—< ·—< I
m to co Tf to t— en > C X ^ HUH g M 0) id g W 4-> Λ —
H I
• W i—l (¾ a
'JBSiT? cm to o tn o I
c>ow~ ^ ^ w cm w •H 3 M -H g Ό td rl to g ϊη w 3 A! — |T-\ s m, H H H CV) Ti1 fyi
^ V V V V V
s ¢1__________ ¢5 ^ cm oo to in •h \ \ -i -1 o <3 o 3 03
- .S- M
w------- M ^
Ai .h ,3 W ,
3 t! 3 03 T? rf 03 CM CO
« Ιο \ “l «l ^ ^ °° °l.
e > _J CM CM CM CM CM CM
a: ^ >1 4-> f—I 1 — ' . 1 ' ' 0) ti ^ « . s
'S^rtOCD CM tO 03 tD tO
tOÄ-H^CO CO CM tD CM tr1
ftttOO) t-t 1H CM CM CO CO
g 03 -H O
• ltd H (0 t5 im w a;
(O
. e .-i 3 g in
2 Zt'-' (O 00 CM in CM CO
o S _ CO ^ to t-i 03 03 a; -h 3 rH 3 X3 d a; ^ • 03
P
>i0 ·—t cm co ^ in to
<3 P Z C
« 25 103038
Primaarinen optinen kuitu, jonka halkaisija oli 125 mm, valmistettiin halkaisijaltaan 62 mm olevasta taulukon 2 esivalmisteesta nro 3, ja kuidun ominaisuudet mitattiin. Havaittiin tuloksena olevan korkealaatuinen opti-5 nen kuitu, jonka raja-aallonpituus c oli 1,245 μιη, signaalin vaimennus 1,3 μπι:η aallonpituudelle 0,334 dB/km ja epäkeskisyys 0,32 μπι.
Esimerkki 3
Suuri huokoinen aksiaalisella kaasufaasipinnoitus-10 menetelmällä (VAD) tuotettu jauhemateriaali dehydratoitiin ja sintrattiin lasimaiseksi esimerkissä 1 kuvatun menetelmän mukaisesti. Saatu tuote dehydratoitiin lämmöllä, sintrattiin lasimaiseksi ja hiottiin karkeasti samalla tavalla kuin on kuvattu esimerkissä 1, jotta saatiin sylinterimäi-15 nen kvartsilasilähtömateriaali (valanne), jonka pituus oli noin 820 mm ja ulkohalkaisija noin 96 mm.
Tähän valanteeseen porattiin reikä keskelle kuuma-hiiliporausmenetelmällä. Suurempi mittatarkkuus saavutettiin sitten hiomalla ulkopinta ja sen jälkeen syövyttämäl-20 lä vetyfluoridihappoliuoksella. Synteettisen primaarisen kvartsilasiputken, joka tässä vaiheessa oli massaltaan 11,5 kg, ulkohalkaisijän todettiin olevan 101 mm ja sisä-halkaisijan 40 mm, uiko- ja sisähalkaisijän suhde oli 2,525 ja pituus 775 mm. Koska lävistetyn putken sisäpinta 25 oli sulatettu kuumahiiliporalla, sellaisia vikoja kuin mekaanisista iskuista aiheutuneita säröjä tai hiontavau-rioita, halkeamia, koneistusjännityksiä tai vastaavia ei havaittu.
Edellä mainitun esikäsitellyn synteettisen kvart-30 silasiputken sisäpinnan karheus kiillotettiin hoonausko- neella vaihtamalla hionta-astetta 150 mm:n välein. Sitten mekaanisesti kiillotettu pinta syövytettiin vetyfluoridihappoliuoksella taulukossa 3 olevien näytteiden saamiseksi. Halkaisijaltaan noin 38 mm:n kokoiset ydin-35 lasisauvat sovitettiin synteettisiin kvartsilasiputkiin
4 · I
103038 26 esivalmisteen valmistamiseksi samalla menetelmällä kuin esimerkissä 1. Myös rajapinnat tutkittiin ja tulokset on kerätty taulukkoon 3.
Taulukko 3 5 Näyte nro 7 8 9 10 11
Hioma-aine - nro 800 nro 400 nro 140 nro 80
Pinnankar-heus syövy-10 tyksen jälkeen (Rmax) (pm) <1,2 4,5 16,4 26 68
Rajapinnan ei ei vähän hienoja lukuisia 15 tila kuplia kuplia kuplia kuplia kuplia
Esimerkki 4
Suuri huokoinen ulkopuolisella kaasufaasipinnoi-tusmenetelmällä (VAD) tuotettu jauhemateriaali dehydra-toitiin ja sille suoritettiin taitekertoimen säätökäsit-20 tely ja se sintrattiin lasimaiseksi synteettisen putkimaisen kvartsilasilähtömateriaalin saamiseksi. Kvartsila-silähtömateriaalin sekä sisä- että ulkopinta irrotettiin ja sen ulkopinta hiottiin karkeasti kehähiomakoneella, jossa oli nro:n 80 hiomakivi, oleellisesti määrätyn ulko-• 25 halkaisijan saavuttamiseksi. Saadun putken sisäpinta kiil lotettiin kokonaan hoonauskoneella, jossa oli nro:n 80 hiomakivi. Kiillotusastetta lisättiin asteittain vaihtamalla hiomakiviä niin, että viimeistely suoritettiin hiomakivillä nro 140, nro 400 ja nro 800. Sitten tar-30 kastettiin näin käsitellyn putken paksuuspoikkeama kul-jettamalla ultraäänipaksuusmittaria 50 mm:n matka putken pituussuunnassa 8 mittapisteen saamiseksi kehän eri kohdissa. Siten saatu paksuusvirhe havainnollistettiin tietokoneen avulla. Putken ulkokehä hiottiin sitten NC-kehä-35 hiomakoneella. Kun oli varmistettu, että putki oli vii- • «' 27 103038 meistelty mittaan, joka mahtui ennalta määrättyyn virhe-alueeseen, putki syövytettiin vetyfluoridihappoliuoksessa. Siten saatu suuri esikäsitelty synteettinen kvartsi-lasiputki oli suurikokoinen kvartsilasisylinteri, jonka 5 ulkohalkaisija oli 164 mm, sisähalkaisija 58,9 mm, ulko-ja sisähalkaisijoiden suhde D0/Di 2,78, paksuus 52,55 mm ja paksuusvirhe 440 μπι (0,84 %), pituus 1 870 mm ja massa noin 75 kg. Tämän esikäsitellyn putken sisäpinnan karheuden Rmax todettiin olevan 3,5 μπι ja ulkopinnan karheuden 10 77 μπι.
Suuria ydinkvartsilasisauvoja yksiosaista kuitu-käyttöä varten valmistettiin erikseen VAD-menetelmällä käytettäväksi yhdessä edellä saadun esikäsitellyn synteettisen kvartsilasiputken kanssa. Näin valmistetuista 15 sauvoista valittiin kolme sauvaa, joilla oli samanlaiset ominaisuudet. Ydinlasisauvoilta vaadittava halkaisija, jotta ne sopivat esikäsiteltyyn synteettiseen kvartsila-siputkeen, laskettiin ja osa pinnoitteesta syövytettiin sauvan halkaisijan säätämiseksi. Saadut kolme ydinlasi-20 sauvaa liitettiin lämmön avulla, vedettiin suunnilleen samaan ulkohalkaisijaan (55 mm), syövytettiin ja sitten koko niiden pinta liekkikiillotettiin.
Siten saatu ydinlasisauva asetettiin esikäsiteltyyn suureen synteettiseen kvartsilasiputkeen ja kiinni-·’ 25 tettiin. Näin saatu sovitelma kuumennettiin lämpötilavä- lille 2 000 - 2 800 °C pystysuorassa sähköuunissa sen kuumentamiseksi ja pehmentämiseksi alapäästään ja samalla sitä kuljetettiin samalla tarkkaillen lämpötilaa ja painetta, joka pidettiin välillä 20 - 100 mbar (200 -30 1 000 mmAq). Riittämätön lämpötila tai liian suuri kulje- ·* tusnopeus aiheuttaa ilmakuplien muodostusta sisällä ole vassa rajapinnassa. Niinpä sovitelma ensin vedettiin halkaisijan saamiseksi noin 50 mm:iin yhdessä vaiheessa niin, että rajapinnat saattoivat hitsautua riittävästi. Sitten 35 suoritettiin veto halkaisijoihin 75 mm, 100 mm, 125 mm ja • · 28 103038 150 mm, jolloin saatiin kaikkiaan 5 esivalmistetta. Lopuksi saatujen viiden esivalmisteen maksimiulkohalkaisija oli 152 mm ja niiden massa oli kokonaisuudessaan 71 kg. Tämä määrä vastasi pituudeltaan 2 600 km primaarista optista 5 kuitua.
Saatujen esivalmisteiden ominaisuuksia arvioitiin yksityiskohtaisemmin. Halkaisijaltaan 50 mm:n kokoinen esivalmiste valittiin näytteeksi. Ytimen ominaisuudet tutkittiin esivalmisteanalysaattorilla, ja havaittiin, että 10 esivalmisteessa ei ollut askelmaista muutosta taitekertoimessa ytimen ja pinnoitteen rajapinnassa, vaan noin 0,008 %:n siirtymä, ja keskiöintivirhe ytimen ja pinnoitteen välillä oli 0,28 %.
Edellä oleva halkaisijaltaan 50 mm:n kokoinen esi-15 valmiste vedettiin optisen kuidun vetokoneella ulkohalkai-sijaltaan 125 μπι ± 0,5 μπι olevan kuidun saamiseksi. Saadulla primaarisella optisella kuidulla havaittiin olevan seuraavat läpäisyominaisuudet: epäkeskisyys 0,11 μιη, raja-aallonpituus c 1,270 μπι, signaalin vaimennus 1,3 μιτι:η 20 aallonpituudella 0,361 dB/km ja OH-ryhmien aiheuttama vaimennus aallonpituudella 1,38 μπι 0,65 dB/km.
Esimerkki 5
Suuri huokoinen ulkopuolisella kaasutaasipinnoi-tusmenetelmällä (OVD) valmistettu jauhemateriaali dehyd-• 25 ratoitiin, sille suoritettiin taitekertoimen säätökäsit- tely ja se sintrattiin lasimaiseksi samalla tavalla kuin esimerkissä 4 putkimaisen synteettisen kvartsilasilähtö-materiaalin saamiseksi. Saadun tuotteen sisä- ja ulkokehät hiottiin mekaanisesti neljän synteettisen primaarisen 30 kvartsilasiputken saamiseksi.
Kun saadun primaarisen putken sisähalkaisija oli viimeistelty suuritarkkuushoonauskoneella 32 mm:iin, sisä- ja ulkopintojen keskiakselit siirrettiin keinotekoisesti. Sitten ulkohalkaisija hiottiin mittaan 100 mm niin, 35 että uiko- ja sisähalkaisijoiden suhde D0/Di oli 3,125.
29 103038
Lopuksi putki viimeisteltiin syövyttämällä vetyfluoridi-happoliuoksella ja pesemällä vedellä. Saadun esikäsitellyn synteettisen kvartsilasiputken mitattu paksuusvirhe on esitetty taulukossa 4.
5 Edellä mainittu esikäsitelty kvartsilasiputki ve dettiin paineessa 0-10 mbar (0 - 100 mmAq) ja kuumennettiin lämpötilaan 2 200 °C sähköuunissa käsittelyn aiheut-tamen mittamuutosten tutkimiseksi. Tulokset on koottu taulukkoon 4 . 1 • · · 103038 30
P
Q>
<D
£ Lämpökäsitellyn putken H 1 1 paksuusvirhe (%) 0 ö
H
o
CO J
CO Tj< 3 f ►) 1/5 O U5 , ' p ,
° or i m I
CU
^ CO , , , CU 3. 1 1 1
CU t—I H
00 CU O II,
w n ^ · I I I
CU ,—1 f—4 00
03 O
Q ^ 1Ί 1°κ II
CU r-C C) CO
Π CO
y oo co ,
| o h n 1α I
0 CU O CU co 3 ^ ffl H------- in 00 00 oo o PQ CU" t-ί r-t CU to tn
H
to
CU
<1 CO- r-i »—I CU rf CO
«
1 I
h in
W C C 3 CO 00 03 CD
«Ö >1 (U 3 U r-j- ro" in' A! H Λί Ifl Ä ° ^ ^ 1/3
H ,-H P A! M - J.I J.I J.I U.I
W <U 3 (0 -H <1> Tl Tl Tl Tl WP Di tl 3 '— I ?! CU CO rf Lf3 >1 o ·~1 r-· r-4 1-4
>3 U Z G
• · 3i 103038
Huom. a*: dD/di; β**: (D0/Dj) / (d0/di)
Olosuhde A: sisäinen paine säädettiin suunnilleen samaksi kuin ulkoinen paine.
Kuten taulukossa 4 on esitetty, esikäsitelty 5 kvartsilasiputki, jossa on suuri virhe, aiheuttaa suuremman virheen, kun sitä käsitellään olosuhteissa, joissa painesuhde tai vetosuhde on suurempi. Erityiset! paine-suhde lisää suoraan kvartsilasiputken paksuusvirhettä. Esikäsitelty putki, jonka virhe oli suurempi kuin 3,9 %, 10 muovautui epäsymmetrisesti alkuvaiheen epästabiileissa olosuhteissa ja tämä lisääntyi nopeasti päätyen murtumaan uunissa.
Optisen kuidun ydinlasisauva asetettiin yhteen (nro 13) lämpökäsitellyistä synteettisistä kvartsilasiput-15 kista, jotka oli valmistettu olosuhteissa B, so. esikäsi-tellystä putkesta saatuun kvartsilasiputkeen, jonka pak-suusvirhe oli 1,8 %:n sisällä ja joka oli viimeistelty kuumavetämällä paineen alaisena niin, että paksuusvirhe oli 2 %:n sisällä. Tästä saatiin esivalmiste sauva putkes-20 sa -tekniikalla. Tästä esivalmisteesta havaittiin, että taitekertoimen ero pinnoitteen ja sauvan välillä oli niin pieni kuin 0,01 % tai vähemmän ja epäkeskisyys vedon jälkeen oli 0,45 fim esivalmisteanalysaattorilla arvioinnin perusteella. Voidaan siksi havaita, että esivalmistetta ·' 25 voidaan edullisesti käyttää yksiosaiseen optiseen kuituun.
Esimerkki €
Suurimittakaavaiseen sylinterimäiseen luonnon-kvartsilasilähtömateriaaliin, joka oli tuotettu Verneuil-menetelmällä käyttäen vety-happi-liekkiä, porattiin reikä 30 keskelle kuumahiiliporausmenetelmällä samalla tavalla kuin ·. esimerkissä 3.
Saadun tuotteen ulkokehä hiottiin mekaanisesti ja viimeisteltiin syövyttämällä vetyfluoridihappoliuoksella, pesemällä vedellä ja kuivaamalla esikäsitellyn kvartsila-35 siputken saamiseksi, jonka ulkohalkaisija oli 175 mm, si- • < 32 103038 sähalkaisija 60 mm, uiko- ja sisähalkaisijan suhde 2,916, pituus 3 m ja massa 150 kg. Keskimääräinen paksuusvirhe pituussuunnassa 50 mm:n välein mitattuna oli 0,3 mm, joka osuu ennalta määrättyyn virhealueeseen.
5 Edelleen tutkittiin pinnankarheus kosketustyyppi- sellä kompaktilla pinnankarheusmittarilla ja saatiin tulokseksi Rmax <0,8 μπι sisäpinnalle ja <95 μπι ulkopinnalle putken päätyosassa. Yksiosainen optinen kuitusauva, jonka pinnoite oli osittain 1,3 μπι:η aallonpituudella käyttöä 10 varten ja joka oli valmistettu VAD-menetelmällä, asetettiin edellä mainittuun esikäsiteltyyn kvartsilasiputkeen ja sijoitettiin pystytyyppiseen sähköuuniin. Sauvan pää-tyosat liitettiin hitsaamalla lämpötilassa 2 250 °C ilmanpainetta pienemmässä paineessa. Käytettiin sauva putkessa 15 -tekniikkaa esivalmisteen saamiseksi, jonka maksimiulko-halkaisija oli 160 mm, olosuhteissa, joissa paine on säädetty arvoon 20 - 100 mbar (200 - 1 000 mmAq) ja vedetty lähtöhalkaisija on asetettu arvoon 50 mm, ja lämpötilaa, vetonopeutta ja painetta muuteltiin riippuen sauvan ja 20 esikäsitellyn kvartsilasiputken välisen rajapinnan kuumen-tumistilasta.
Edellä käsitelty esivalmiste, joka oli aluksi vedetty halkaisijaan 50 mm, tutkittiin esivalmisteanalysaat-torilla, jolla saatiin epäkeskisyydeksi 0,52 % ja taite-' : 25 kertoimen eroksi noin -0,005 % siten, että putkella oli lievästi pienempi taitekerroin. Edellä oleva esivalmiste vedetään vetokoneella, jotta saadaan halkaisijaltaan 125 μιη:η optinen kuitu, jonka epäkeskisyys on 0,41 μπι ja signaalin vaimennus 1,3 pm:n aallonpituudella 0,346 dB/km.
30 Siksi voidaan katsoa, että esivalmistetta voidaan edullisesti käyttää yksiosaiseen optiseen kuituun.
Esimerkki 7
Sylinterimäiseen kvartsilasilähtömateriaaliin, joka oli tehty erittäin puhtaasta luonnon kvartsilasista, 35 porattiin reikä keskelle kuumahiiliporausmenetelmällä sa- « 33 103038 maila tavalla kuin esimerkissä 6.
Ulkokehä, jonka keskiakseli oli asetettu sisäpinnan keskiakselin kanssa samaan kohtaan, hiottiin sen mittatarkkuuden varmistamiseksi, syövytettiin vetyfluoridi-5 happoliuoksella, pestiin vedellä ja kuivattiin. Näin käsitelty kvartsilasiputki, jonka ulkohalkaisija oli 150 mm, sisähalkaisija 62 mm, uiko- ja sisähalkaisijoiden suhde 2,42 ja pituus 2 500 mm, mitattiin pituussuunnassa 50 mm:n välein ja saatiin paksuusvirheeksi 0, 35 mm (0,79 %), alle 10 1 μπκη sisäpinnan karheus R^x ja 85 μπι:η ulkopinnan karhe- u S Rmax ·
Osoittautui, että edellä oleva kvartsilasi sisälsi OH-ryhmiä keskimäärin 166 ppm sen 2,7 μπι:η absorptionauhan tarkastuksen perusteella infrapunaspektrofotometrillä.
15 Edellä oleva kvartsilasiputki asetettiin pysty- tyyppiseen sähköuuniin, jonka lämpötila oli 2 250 °C putken pohjaosan hitsausliitosta varten. Veto suoritettiin siten, että painetta säädettiin ilman avulla, joka johdettiin sisään yläpäästä, lämpökäsitellyn kvartsilasiput-20 kien saamiseksi, joiden ulkohalkaisijät olivat 50 mm, 75 mm ja 125 mm. Eri mittaiset lämpökäsitellyt kvartsi-lasiputket on esitetty taulukossa 5.
• · l w « 34 1 0 3 0 3 8
Sisäpinnan
Putki d. d, d./d, 'ΒζΒ' da/dt karheus m) 5 50 23,3 2,15 1,13 <1 Lämpö käsitelty wpuiki 75 34,4 2,18 1,11 <1 10 100 44,6 2,24 1,08 <1 125 54,2 2,31 1,05 <1
Esiläm- 15 mitetty 150 62 2,42 1,00 <1 putki
Yksiosaisen kuidun optinen kuitusauva, joka oli tehty VAD-menetelmällä, yhdistettiin lämpökäsiteltyyn 20 kvartsilasiputkeen, jonka ulkohalkaisija oli 100 mm, sauva putkessa -menetelmällä. Valmistettiin kolmenlaisia lämpökäsiteltyjä putkia, joiden ulkohalkaisijät olivat vetämisen alussa 50 mm, 75 mm ja 96 mm. Jokainen esivalmiste viipaloitiin ja hiottiin kuplien havaitsemiseksi kvartsi-• * 25 lasiputken sisäpinnan ja ydinlasisauvan ulkopinnan väli sessä hitsautuneessa liitoksessa. Ei kuitenkaan havaittu juuri yhtään kuplia. Optisen kuidulla, joka oli valmistettu vetämällä edellä kuvattu halkaisijaltaan 50 mm:n esivalmiste, havaittiin epäkeskisyydeksi 0,27 μιη ja signaalin 30 vaimennukseksi 1,3 μιη:η aallonpituudella 0,347 dB/km.
Tämän keksinnön monet modifikaatiot ja muunnokset ovat mahdollisia edellä esitetyn valossa, ja siksi oheisten patenttivaatimusten puitteissa keksintöä voidaan soveltaa muutenkin kuin edellä erityisesti kuvatulla taval-35 la.

Claims (7)

35 103038 Patenttivaatimukset::
1. Menetelmä suurikokoisen kvartsilasiputken valmistamiseksi, tunnettu siitä, että menetelmä kä- 5 sittää seuraavat vaiheet: a) reiän lävistäminen kvartsilasilähtömateriaaliin tai tuottamalla ontto kvartsilasiputki OVD-menetelmällä; b) muodostuvan putken sisä- ja ulkopintojen hiominen, hankaaminen ja viimeistely; 10 c) pintojen syövyttäminen vetyfluoridihapolla; ja d) edellä käsitellyn lähtömateriaalin pesu, jotta saataisiin aikaan suurikokoinen esikäsitelty kvartsilasiputki, jonka aa) ulkohalkaisija on välillä 50 - 300 mm: 15 bb) uiko- ja sisähalkaisijän suhde on välillä 1,1 - 7; cc) seinämäpaksuus on 10 mm tai suurempi; dd) seinämäpaksuuden virhe on 2 % tai vähemmän; ja ee) sisäpinnan pinnankarheus on 20 μια tai pie-20 nempi; ja e) esikäsitellyn kvartsilasiputken terminen muovailu kuumentamalla ja kuumavetämällä tai kuumavetämällä paineessa.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, *ti 25 tunnettu siitä, että kuumaveto paineen alaisena käsittää ilman työkalua tapahtuvan vetomenetelmän käytön säätäen samalla sen sisällä vallitsevaa painetta lämpötila-alueella 1 600 - 3 000 °C siten, että seuraava yhtälö toteutuu: 30 .. (D0/Di)/(d0/di) = 1,0 ~ 1,5, jossa D0 tarkoittaa esikäsitellyn kvartsilasiputken ulko-halkaisijaa ja Di sen sisähalkaisijaa; ja dc tarkoittaa 35 esikäsitellystä kvartsilasiputkesta saadun lämpökäsitellyn 103038 36 kvartsilasiputken ulkohalkaisijaa ja di sen sisähalkaisi-jaa.
3. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä suurikokoisen esikäsitellyn kvartsilasiputken valmistamiseksi, 5 tunnettu siitä, että reiän lävistämiseen käytetään mekaanista poraa, ja sisä- ja ulkopintojen hiomiseen, han-kaamiseen ja viimeistelyyn käytetään sekä kehähiomakonetta että suuritarkkuuksista hoonauskonetta.
4. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä suuri-10 kokoisen esikäsitellyn kvartsilasiputken valmistamiseksi, tunnettu siitä, että reikä lävistetään kvartsila-silähtömateriaaliin kuumahiiliporausmenetelmällä.
5. Menetelmä suurimittakaavaisen kvartsilasiesi-valmisteen valmistamiseksi, tunnettu siitä, että 15 a) hankitaan suurikokoinen kvartsilasiputki, joka on valmistettu minkä tahansa edellisen vaatimuksen mukaan; ja b) yhdistetään se optisen kuidun ydinlasisauvan kanssa.
6. Patenttivaatimuksen 5 mukainen menetelmä suu rimittakaavaisen kvartsilasiesivalmisteen valmistamiseksi, tunnettu siitä, että yhteenliittäminen ja veto suoritetaan samanaikaisesti samaan aikaan tapahtuvassa prosessissa, jossa suurikokoinen kvartsilasiputki ja opti-25 sen kuidun ydinlasisauva yhdistetään täydellisesti sauva putkessa -tekniikalla.
7. Menetelmä optisen kuidun valmistamiseksi, tunnettu siitä, että kuitu vedetään jommankumman patenttivaatimuksen 5 tai 6 mukaisesti suurimittakaavai-30 sesta kvartsilasiesivalmisteesta. 37 103038
FI935138A 1992-11-19 1993-11-19 Menetelmä suurikokoisen kvartsilasiputken, suurimittakaavaisen kvartsilasiesineen sekä optisen kuidun valmistamiseksi FI103038B1 (fi)

Applications Claiming Priority (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33220392 1992-11-19
JP33220392 1992-11-19
JP22667193 1993-08-20
JP22667193 1993-08-20
JP22666993 1993-08-20
JP22667093 1993-08-20
JP22666993 1993-08-20
JP22667093 1993-08-20

Publications (4)

Publication Number Publication Date
FI935138A0 FI935138A0 (fi) 1993-11-19
FI935138A FI935138A (fi) 1994-05-20
FI103038B true FI103038B (fi) 1999-04-15
FI103038B1 FI103038B1 (fi) 1999-04-15

Family

ID=27477231

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI935138A FI103038B1 (fi) 1992-11-19 1993-11-19 Menetelmä suurikokoisen kvartsilasiputken, suurimittakaavaisen kvartsilasiesineen sekä optisen kuidun valmistamiseksi

Country Status (10)

Country Link
US (2) US5837334A (fi)
EP (1) EP0598349B1 (fi)
KR (1) KR0133027B1 (fi)
CN (1) CN1042825C (fi)
DE (1) DE69319999T2 (fi)
DK (1) DK0598349T3 (fi)
ES (1) ES2120467T3 (fi)
FI (1) FI103038B1 (fi)
RU (1) RU2096355C1 (fi)
WO (1) WO1994011317A2 (fi)

Families Citing this family (101)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6138476A (en) * 1995-06-26 2000-10-31 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Method of producing an optical fiber coupling member
US5897679A (en) * 1997-08-27 1999-04-27 Lucent Technologies Inc. Dimensional control in the manufacture of optical fiber ferrule connectors by etching
AU753111B2 (en) * 1998-02-03 2002-10-10 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Method of manufacturing optical fiber base material
CA2332123A1 (en) * 1998-05-29 1999-12-02 George E. Berkey Method of making a glass preform
SG84541A1 (en) 1998-08-19 2001-11-20 Hoya Corp Glass substrate for magnetic recording medium, magnetic recording medium, and method of manufacturing the same
EP1000908B1 (en) * 1998-10-08 2005-12-28 Heraeus Tenevo GmbH Method for producing quartz glass preform for optical fibers and the quartz glass tube used thereto
JP3819614B2 (ja) * 1998-10-16 2006-09-13 信越石英株式会社 光ファイバ用石英ガラス母材の製造方法
DE59902297D1 (de) * 1998-10-28 2002-09-12 Schott Glas Quarzglasplatten hoher brechzahlhomogenität
DE19852704A1 (de) * 1998-11-16 2000-05-18 Heraeus Quarzglas Verfahren zur Herstellung einer Vorform für eine optische Faser und für die Durchführung des Verfahrens geeignetes Substratrohr
DE19856892C2 (de) * 1998-12-10 2001-03-15 Heraeus Quarzglas Verfahren zur Herstellung eines Rohres aus glasigem Werkstoff, insbesondere aus Quarzglas
DE19915509C1 (de) * 1999-04-07 2000-06-08 Heraeus Quarzglas Verfahren für die Herstellung eines zylinderförmigen Bauteils aus Quarzglas und dafür geeignete Vorrichtung
DE19927788C2 (de) * 1999-06-18 2003-03-06 Forschungszentrum Juelich Gmbh Polarisator für die Polarisation eines Edelgases
DE19952821B4 (de) * 1999-11-02 2004-05-06 Heraeus Tenevo Ag Verfahren zur Herstellung einer Quarzglas-Vorform für Lichtleitfasern
DE19958289C1 (de) * 1999-12-03 2001-06-13 Heraeus Quarzglas Verfahren zur Herstellung eines Quarzglasstabs und Verwendung desselben zur Herstellung einer Vorform
KR100418426B1 (ko) * 2000-05-01 2004-02-11 신에쯔 세끼에이 가부시키가이샤 석영유리속에 함유되는 미량오에이치기농도의 측정방법
US6553790B1 (en) * 2000-05-09 2003-04-29 Fitel Usa Corp. Process for fabricating optical fiber involving tuning of core diameter profile
DE10025176A1 (de) * 2000-05-24 2001-12-06 Heraeus Quarzglas Verfahren für die Herstellung einer optischen Faser und Vorform für eine optische Faser
WO2001094268A1 (de) * 2000-06-09 2001-12-13 Heraeus Tenevo Ag Verfahren für die herstellung eines vollzylinders aus quarzglas
US6739155B1 (en) * 2000-08-10 2004-05-25 General Electric Company Quartz making an elongated fused quartz article using a furnace with metal-lined walls
DE10044715C1 (de) * 2000-09-08 2001-12-06 Heraeus Quarzglas Verfahren zur Herstellung eines Quarzglasrohres und Bohrkörper zur Durchführung des Verfahrens
DE10052072B4 (de) * 2000-10-19 2005-06-16 Heraeus Tenevo Ag Verfahren zur Bearbeitung eines langgestreckten hohlzylindrischen Bauteils aus Quarzglas mittels Laserstrahlung
US6598429B1 (en) 2000-11-17 2003-07-29 Beamtek, Inc. Method for fabricating gradient-index rods and rod arrays
US7797966B2 (en) * 2000-12-29 2010-09-21 Single Crystal Technologies, Inc. Hot substrate deposition of fused silica
US20020083739A1 (en) * 2000-12-29 2002-07-04 Pandelisev Kiril A. Hot substrate deposition fiber optic preforms and preform components process and apparatus
US20020083740A1 (en) * 2000-12-29 2002-07-04 Pandelisev Kiril A. Process and apparatus for production of silica grain having desired properties and their fiber optic and semiconductor application
JP2002234750A (ja) * 2001-02-01 2002-08-23 Shinetsu Quartz Prod Co Ltd 光ファイバ用石英ガラス母材の製造方法
JP4759816B2 (ja) * 2001-02-21 2011-08-31 住友電気工業株式会社 光ファイバの製造方法
JP2002296438A (ja) 2001-03-29 2002-10-09 Fujikura Ltd 偏波保持光ファイバおよびその母材の製造方法
DE10117153C1 (de) * 2001-04-05 2002-06-13 Heraeus Quarzglas Verfahren zur Herstellung eines Bauteils aus Quarzglas
WO2002088808A1 (de) * 2001-04-30 2002-11-07 Infineon Technologies Ag Anordnung zum multiplexen und/oder demultiplexen der signale mindestens zweier optischer wellenlängenkanäle
US6687445B2 (en) * 2001-06-25 2004-02-03 Nufern Double-clad optical fiber for lasers and amplifiers
DE10155134C1 (de) * 2001-11-12 2002-12-19 Heraeus Tenevo Ag Verfahren für die Herstellung einer Vorform für eine optische Faser und Vorform für eine optische Faser
WO2003059828A1 (fr) * 2002-01-17 2003-07-24 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Procede et dispositif de fabrication d'un tube de verre
JP2003212581A (ja) * 2002-01-21 2003-07-30 Sumitomo Electric Ind Ltd 偏波保持ファイバの製造方法
WO2003064338A1 (fr) 2002-01-30 2003-08-07 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Procede et dispositif de fabrication de tube de verre
AU2003210420A1 (en) 2002-03-22 2003-10-08 Heraeus Tenevo Ag Method for producing an optical fiber and optical fiber
DE10214029C2 (de) * 2002-03-22 2003-09-18 Heraeus Tenevo Ag Verfahren zur Herstellung einer optischen Faser sowie nach dem Verfahren hergestellte optische Faser
WO2003095379A1 (fr) * 2002-05-09 2003-11-20 The Furukawa Electric Co., Ltd. Procede de fabrication de fibres optiques
KR20050027086A (ko) * 2002-08-12 2005-03-17 스미토모 덴키 고교 가부시키가이샤 유리체의 고순도화 방법 및 고순도 유리체 및 유리관의제조 방법 및 장치
US20040065119A1 (en) * 2002-10-02 2004-04-08 Fitel U.S.A. Corporation Apparatus and method for reducing end effect of an optical fiber preform
US20040144133A1 (en) * 2003-01-23 2004-07-29 Fletcher Joseph Patrick Methods for joining glass preforms in optical fiber manufacturing
US7021083B2 (en) * 2003-01-29 2006-04-04 Fitel Usa Corp. Manufacture of high purity glass tubes
JP2004243433A (ja) * 2003-02-12 2004-09-02 Shinetsu Quartz Prod Co Ltd 管状脆性材料の内表面研摩方法および該研摩方法で得られた管状脆性材料
CN100351192C (zh) * 2003-03-21 2007-11-28 赫罗伊斯·坦尼沃有限责任公司 用于生产预制体的合成二氧化硅玻璃管、用垂直拉丝工艺生产它的方法和所述管的用途
DE10393680B4 (de) * 2003-03-21 2009-03-26 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Rohr aus synthetischem Quarzglas für die Herstellung einer Vorform, Verfahren für seine Herstellung in einem Vertikalziehverfahren und Verwendung des Rohres
JP4014045B2 (ja) * 2003-04-16 2007-11-28 信越化学工業株式会社 ガラスロッドの製造方法
EP1632460A4 (en) * 2003-05-19 2011-12-28 Sumitomo Electric Industries LIGHTING FIBER AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
DE10325539A1 (de) * 2003-06-04 2004-01-08 Heraeus Tenevo Ag Quarzglas-Zylinder für die Herstellung eines optischen Bauteils sowie Verfahren für seine Herstellung
DE10325538A1 (de) * 2003-06-04 2004-01-22 Heraeus Tenevo Ag Verfahren für die Herstellung eines optischen Bauteils aus Quarzglas durch Elongieren einer koaxialen Anordnung sowie nach dem Verfahren hergestelltes optisches Bauteil
JP4206850B2 (ja) * 2003-07-18 2009-01-14 信越化学工業株式会社 露光用大型合成石英ガラス基板の製造方法
US20050097923A1 (en) * 2003-11-12 2005-05-12 General Electric Company System and support rod assembly for sintering fiber optic sleeve tubes
DE10357063B3 (de) 2003-12-04 2005-04-21 Heraeus Tenevo Ag Vertikalziehverfahren zur Herstellung eines zylinderförmigen Glaskörpers und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
FR2863606B1 (fr) * 2003-12-15 2007-06-01 Cit Alcatel Procede de realisation d'une preforme a fibre optique, preforme a fibre optique et fibre optique associees
US7395679B2 (en) * 2004-03-19 2008-07-08 Konica Minolta Opto, Inc. Method of manufacturing glass substrate for information recording medium
CN102583997B (zh) * 2004-11-29 2015-03-11 古河电气工业株式会社 光纤母材、光纤母材的制造方法以及光纤的制造方法
DE102004059804B4 (de) * 2004-12-10 2006-11-09 Heraeus Tenevo Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Quarzglas-Hohlzylinders als Ausgangsmaterial für eine optische Vorform oder für eine optische Faser und Verwendung
DE102004060408B4 (de) * 2004-12-14 2007-08-16 Schott Ag Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Glasrohrs
DE102005028219B3 (de) * 2005-05-16 2006-10-12 Heraeus Tenevo Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Rohres aus Quarzglas durch Elongieren eines Quarzglas-Hohlzylinders
JP2007063094A (ja) * 2005-09-01 2007-03-15 Sumitomo Electric Ind Ltd 石英管の内面処理方法、光ファイバ母材製造方法及び光ファイバ製造方法
DE102007022272B4 (de) * 2007-05-09 2016-06-02 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung eines Rohres aus Quarzglas durch Elongieren eines Quarzglas-Hohlzylinders
DE102008016230A1 (de) 2008-03-27 2009-05-20 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren für die Herstellung eines Zylinders aus synthetischem Quarzglas
CN101643310B (zh) * 2009-09-03 2011-03-02 成士林 一种连熔一步法生产超大口径抗高温变形石英玻璃管的方法
US8192702B2 (en) * 2010-02-01 2012-06-05 Norell, Inc. Sample tubes for use in automated systems and methods of manufacture
CN101811819B (zh) * 2010-04-16 2011-11-16 李秀山 制造大口径玻璃管的模具和利用该模具制造玻璃管的方法
CN102199000B (zh) * 2011-03-30 2012-08-08 连云港福东正佑照明电器有限公司 砷化镓晶体生长用双料壁石英玻璃管及其制备方法
US9405078B2 (en) 2011-08-30 2016-08-02 Opsens Inc. Method for disposable guidewire optical connection
US8936401B2 (en) * 2011-08-30 2015-01-20 Claude Belleville Method for disposable guidewire optical connection
CN102515507B (zh) * 2011-12-08 2014-07-09 华中科技大学 金属芯微结构光纤及其制备方法
DE102012006410B4 (de) * 2012-03-30 2013-11-28 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung eines Quarzglas-Hohlzylinders
CN102981221B (zh) * 2012-12-03 2015-02-18 连云港市盛昌照明电器有限公司 一种光纤连接器用套管的制备方法
DE102013107435B4 (de) * 2013-07-12 2015-01-29 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung eines Quarzglas-Großrohres
US10384972B2 (en) 2014-02-06 2019-08-20 Momentive Performance Materials Inc. Fused quartz tubing for pharmaceutical packaging and methods for making the same
JP6402466B2 (ja) * 2014-03-31 2018-10-10 住友電気工業株式会社 マルチコア光ファイバの製造方法
KR102233643B1 (ko) 2014-06-17 2021-04-01 헤래우스 쿼츠 노쓰 아메리카 엘엘씨 투명한 원통형 물체의 측정을 위한 장치 및 방법
CN105891951A (zh) * 2014-09-30 2016-08-24 中国兵器装备研究院 一种多芯合束器的模块化制作方法
CN107406296B (zh) 2015-06-02 2022-01-25 贺利氏石英北美有限责任公司 用于将芯杆插入到具有间隔件的外包覆管中的方法
EP3112323B1 (de) * 2015-07-03 2021-09-01 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Verfahren zur herstellung eines substratrohres aus quarzglas
CN108698883A (zh) 2015-12-18 2018-10-23 贺利氏石英玻璃有限两合公司 石英玻璃制备中的二氧化硅的喷雾造粒
EP3390290B1 (de) 2015-12-18 2023-03-15 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Herstellung eines opaken quarzglaskörpers
WO2017103133A1 (de) * 2015-12-18 2017-06-22 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Herstellen und nachbehandeln eines quarzglaskörpers
JP7044454B2 (ja) 2015-12-18 2022-03-30 ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー 石英ガラス調製時の中間体としての炭素ドープ二酸化ケイ素造粒体の調製
TWI812586B (zh) 2015-12-18 2023-08-21 德商何瑞斯廓格拉斯公司 石英玻璃體、其製備方法與應用、及用於控制烘箱出口處之露點
CN109153593A (zh) 2015-12-18 2019-01-04 贺利氏石英玻璃有限两合公司 合成石英玻璃粉粒的制备
TW201731782A (zh) 2015-12-18 2017-09-16 何瑞斯廓格拉斯公司 在多腔式爐中製備石英玻璃體
CN108698887B (zh) 2015-12-18 2022-01-21 贺利氏石英玻璃有限两合公司 由均质石英玻璃制得的玻璃纤维和预成形品
TWI794150B (zh) 2015-12-18 2023-03-01 德商何瑞斯廓格拉斯公司 自二氧化矽顆粒製備石英玻璃體
US11952303B2 (en) 2015-12-18 2024-04-09 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Increase in silicon content in the preparation of quartz glass
KR20180095616A (ko) 2015-12-18 2018-08-27 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 용융 가열로에서 이슬점 조절을 이용한 실리카 유리체의 제조
KR102425328B1 (ko) 2016-05-03 2022-07-25 헤래우스 쿼츠 노쓰 아메리카 엘엘씨 광학 유리 부품을 제조하기 위한 연신 방법 및 프리폼
US10450214B2 (en) 2016-06-10 2019-10-22 Corning Incorporated High optical quality glass tubing and method of making
US11237323B2 (en) * 2017-02-28 2022-02-01 Corning Incorporated Methods and systems for controlling air flow through an annealing furnace during optical fiber production
EP3761087A4 (en) 2018-02-28 2021-10-27 Furukawa Electric Co., Ltd. MULTI-CORE FIBER AND ITS MANUFACTURING PROCESS, AND OPTICAL TRANSMISSION SYSTEM AND OPTICAL TRANSMISSION PROCESS
JP6987021B2 (ja) * 2018-05-28 2021-12-22 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
CN108793692B (zh) * 2018-06-19 2021-04-23 江苏省晶瑞石英工业开发研究院有限公司 一种气炼石英玻璃碇自整型的方法
EP3636607B1 (de) * 2018-10-09 2021-01-13 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Verfahren zur herstellung eines kapillarrohres
CN110028235B (zh) * 2019-03-01 2020-09-08 江苏永鼎股份有限公司 一种基于连熔石英套管的光纤预制棒及其制造方法
RU2764064C1 (ru) * 2020-10-02 2022-01-13 Акционерное общество «Обнинское научно-производственное предприятие «Технология» им. А.Г.Ромашина» Способ механической обработки крупногабаритных сложнопрофильных керамических изделий
EP4067315A1 (de) * 2021-03-29 2022-10-05 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Rohr aus quarzglas und verfahren zur herstellung desselben
CN113213748B (zh) * 2021-04-28 2022-05-06 中国科学院西安光学精密机械研究所 一种高强度石英光纤的制备方法
CN114918741A (zh) * 2022-03-17 2022-08-19 无锡海力自控工程有限公司 一种单晶硅超薄壁管加工工艺
CN114634306A (zh) * 2022-03-17 2022-06-17 深圳市比洋互联科技有限公司 一种四纤毛细管制备方法

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2106744A (en) * 1934-03-19 1938-02-01 Corning Glass Works Treated borosilicate glass
US2272342A (en) * 1934-08-27 1942-02-10 Corning Glass Works Method of making a transparent article of silica
US3455666A (en) * 1966-05-06 1969-07-15 American Optical Corp Method of making laser components
US3659915A (en) * 1970-05-11 1972-05-02 Corning Glass Works Fused silica optical waveguide
US3711262A (en) * 1970-05-11 1973-01-16 Corning Glass Works Method of producing optical waveguide fibers
US4217027A (en) * 1974-02-22 1980-08-12 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Optical fiber fabrication and resulting product
US3932162A (en) * 1974-06-21 1976-01-13 Corning Glass Works Method of making glass optical waveguide
DE2536456C2 (de) * 1975-08-16 1981-02-05 Heraeus Quarzschmelze Gmbh, 6450 Hanau Halbzeug für die Herstellung von Lichtleitfasern und Verfahren zur Herstellung des Halbzeugs
JPS59456B2 (ja) * 1976-01-29 1984-01-06 日本電信電話株式会社 光ガラスフアイバの製造方法
JPS52134623A (en) * 1976-05-06 1977-11-11 Nippon Telegraph & Telephone Process for preparing silica glass tube
JPS53144758A (en) * 1977-05-23 1978-12-16 Sumitomo Electric Ind Ltd Production of glass fibers for optical transmission
JPS5529020A (en) * 1978-08-17 1980-03-01 Yoshiki Maeda Sea water moving device using ebb and flow of tide
JPS5617932A (en) * 1979-07-18 1981-02-20 Toshiba Ceramics Co Ltd Transparent quartz glass pipe for optical fiber
JPS603014B2 (ja) * 1979-07-20 1985-01-25 三菱マテリアル株式会社 高軸対称性を有する石英ガラス管の製造法
JPS5637235A (en) * 1979-09-05 1981-04-10 Toshiba Ceramics Co Ltd Thick-walled transparent quartz glass tube of high accuracy
GB2109367B (en) * 1981-11-17 1985-02-13 Pirelli General Plc Manufacture of a preform for optical fibres by the rod in tube method
NL8201453A (nl) * 1982-04-06 1983-11-01 Philips Nv Werkwijze voor de vervaardiging van optische vezels.
JPS58213652A (ja) * 1982-06-04 1983-12-12 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光学ガラスロツドの表面処理方法
US4596589A (en) * 1984-02-09 1986-06-24 Perry Gregory A Method for producing a single mode fiber preform
JPS61201633A (ja) * 1985-03-04 1986-09-06 Sumitomo Electric Ind Ltd マルチコア光フアイバの製造方法
JPS62275035A (ja) * 1985-05-07 1987-11-30 Sumitomo Electric Ind Ltd 光フアイバ用母材の製造方法
US4820322A (en) * 1986-04-28 1989-04-11 American Telephone And Telegraph Company At&T Bell Laboratories Method of and apparatus for overcladding a glass rod
NL8601830A (nl) * 1986-07-14 1988-02-01 Philips Nv Werkwijze voor de vervaardiging van optische vezels met een kern en een mantel uit glas onder toepassing van de staaf in buistechniek.
US4882209A (en) * 1986-09-11 1989-11-21 Asahi Glass Company, Ltd. Glass capillary tube and method for its production
DE3731604A1 (de) * 1987-09-19 1989-03-30 Philips Patentverwaltung Verfahren zur herstellung einer monomode-lichtleitfaser
DE3921086A1 (de) * 1989-06-28 1991-01-03 Kabelmetal Electro Gmbh Verfahren zur herstellung von lichtwellenleitern mit aufschmelzen eines ueberwurfrohres auf eine roh-vorform
JPH0380124A (ja) * 1989-08-22 1991-04-04 Nippon Electric Glass Co Ltd 光学繊維用ガラス管内面の洗浄方法
JPH103924A (ja) * 1996-04-19 1998-01-06 Daikin Ind Ltd 正極活物質、該正極活物質を用いた電池および電池の作製方法

Also Published As

Publication number Publication date
FI935138A (fi) 1994-05-20
KR0133027B1 (ko) 1998-04-14
EP0598349A2 (en) 1994-05-25
US5837334A (en) 1998-11-17
FI103038B1 (fi) 1999-04-15
ES2120467T3 (es) 1998-11-01
CN1042825C (zh) 1999-04-07
EP0598349B1 (en) 1998-07-29
DE69319999T2 (de) 1999-03-18
WO1994011317A3 (en) 1994-07-07
DE69319999D1 (de) 1998-09-03
US5785729A (en) 1998-07-28
CN1089580A (zh) 1994-07-20
EP0598349A3 (en) 1994-07-06
DK0598349T3 (da) 1999-04-26
WO1994011317A2 (en) 1994-05-26
KR940011972A (ko) 1994-06-22
RU2096355C1 (ru) 1997-11-20
FI935138A0 (fi) 1993-11-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI103038B (fi) Menetelmä suurikokoisen kvartsilasiputken, suurimittakaavaisen kvartsi lasiesineen sekä optisen kuidun valmistamiseksi
FI77217B (fi) Foerfarande foer framstaellning av en polarisationsbevarande optisk fiber.
FI81209B (fi) Enmods optisk vaogroersfiber och foerfarandet foer framstaellning av dess.
TW575529B (en) Method of making a tubular member for optical fiber production using plasma outside vapor deposition
CA2049898C (en) Method for manufacturing a silica glass base material
KR20060007434A (ko) 광파이버와 그 제조 방법
US4203744A (en) Method of making nitrogen-doped graded index optical waveguides
US4362545A (en) Support member for an optical waveguide preform
CN108675626A (zh) 一种减少棒管界面杂质和羟基含量的光纤预制棒套管方法
JPH02293340A (ja) 光屈折性の異なる領域を有するガラス物体の製造方法
KR100782393B1 (ko) 광섬유모재 잉곳의 제조방법
JP2980501B2 (ja) 大型石英ガラス管、大型石英ガラスプリフォ−ムおよびそれらの製造方法
JPH09286621A (ja) 石英ガラス製板材の製造方法及びその装置
EP2279985B1 (en) Method and device for manfacturing a primary preform for optical fibres
US20040099014A1 (en) Mandrel for producing quartz glass and optical fiber matrix using the mandrel, optical fiber, production method for quartz glass element
CN105985014B (zh) 一种菱形包层保偏光纤及其制造方法
CN102209690A (zh) 用于制备光学部件的方法和圆柱形半成品
EP0630864A2 (en) Fabrication process of polarization-maintaining optical fiber
KR100314699B1 (ko) 광파이버용 석영유리모재의 제조방법
EP1000908A3 (en) Method for producing quartz glass preform for optical fibers
CN104556672A (zh) 一种掺氟预制棒的制备方法
CN112573816B (zh) 掺氟石英套管及制造方法
JPH07109135A (ja) 大型石英ガラス管、大型石英ガラスプリフォ−ム及びそれらの製造方法
JPS6259545A (ja) 光フアイバ母材の製造方法
CN103224326B (zh) 一种用于制备低水峰大直径光纤预制棒套管的制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
FG Patent granted

Owner name: SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD

MA Patent expired