ES2324169T3 - Baño galvanico alcalino con una membrana de filtracion. - Google Patents
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Abstract
Baño galvánico alcalino para la aplicación de aleaciones de zinc sobre substratos con un ánodo y un cátodo, que comprende un baño de aleación de zinc, caracterizado porque el espacio anódico y el espacio catódico están separados uno de otro mediante una membrana de filtración a base de polisulfonas.
Description
Baño galvánico alcalino con una membrana de
filtración.
El invento se refiere a un baño galvánico
alcalino destinado a la aplicación de aleaciones de zinc sobre
substratos, en el que el espacio anódico y el espacio catódico
están separados uno de otro mediante una membrana de filtración.
Con el baño galvánico conforme al invento se pueden depositar
aleaciones de zinc en una calidad constantemente alta sobre
substratos. El baño galvánico se hace funcionar con baños de
aleaciones de zinc, que contienen aditivos orgánicos tales como
agentes de brillo y agentes humectantes así como agentes formadores
de complejos junto a sales de zinc solubles y eventualmente otras
sales metálicas, seleccionadas entre sales de hierro, níquel,
cobalto y
estaño.
estaño.
Con el fin de hacer posible la deposición de
capas funcionales a partir de baños de zinc, se añaden al baño
agentes formadores de brillo y agentes humectantes orgánicos.
Además, el baño contiene un agente formador de complejos, con el
fin de hacer posible la deposición de otros metales adicionales de
la aleación de zinc. El agente formador de complejos sirve para
regular el potencial y mantener a los metales en solución, de manera
tal que se consigue la deseada composición de la aleación. Sin
embargo, la utilización de los componentes orgánicos antes
mencionados conduce en el caso del funcionamiento de los baños, a
problemas, tal como los que se describen en el documento de
solicitud de patente internacional WO 00/06807. Allí se percibe como
desventajoso, en particular, el hecho de que estos baños, después
de un funcionamiento durante algunas horas, muestran una
modificación del color desde originalmente violeta azulado hacia
pardo. El color pardo procede de unos productos de descomposición,
cuya cantidad aumenta en el transcurso del funcionamiento del baño.
Después de varias semanas o respectivamente varios meses, se
amplifica esta coloración. Esto da lugar a considerables trastornos
del revestimiento de las piezas de trabajo, tales como por ejemplo
unos irregulares espesores de capa o la formación de burbujitas.
Una purificación continua del baño es por consiguiente
indispensable. Ésta, sin embargo, es costosa en cuanto al tiempo y
a los gastos (compárese la página 2, líneas 3 a 10 del documento WO
00/06807).
Con la separación entre fases y con un contenido
creciente de impurezas orgánicas aparecen crecientes problemas
decorativos en el caso del revestimiento, y éstos conducen a una
productividad disminuida. Para la disminución de los problemas
decorativos se llevan a cabo por regla general unas adiciones
dosificadas aumentadas de los aditivos orgánicos al baño, con lo
cual aumenta adicionalmente el contenido de productos de
descomposición.
Como medidas técnicas de remedio se conocen
varios métodos, que se describen seguidamente:
Una dilución del baño disminuye la concentración
de las impurezas de una manera proporcional al grado de dilución.
Una dilución se puede llevar a cabo de una manera sencilla, pero
tiene sin embargo la desventaja de que la cantidad de electrólito
retirada del baño debe ser conducida a la evacuación a vertederos
con intensos costos. Una formulación nueva completa del baño puede
ser considerada en este contexto como un caso especial de la
dilución del baño.
Un tratamiento con carbón activo mediante
incorporación con agitación de 0,5-2 g/l de carbón
activo en el baño y una subsiguiente filtración disminuyen la
concentración de impurezas mediante adsorción al carbón. Una
desventaja de este método consiste en que éste es costoso en cuanto
al trabajo y sólo establece una disminución relativamente
pequeña.
Los baños alcalinos de Zn contienen una
proporción de aditivos orgánicos menor en el factor de 5 a 10 que
los baños ácidos. Correspondientemente, la impurificación por medio
de productos de descomposición es por regla general menos crítica.
En el caso de baños alcalinos, sin embargo, para la conversión en
compuestos complejos de los aditivos para alear (Fe, Co, Ni, Sn),
se necesita la adición de considerables cantidades de agentes
orgánicos formadores de complejos. Éstos son descompuestos por
oxidación junto al ánodo y los productos de descomposición
acumulados repercuten de una manera negativa sobre el proceso de
producción.
El documento de solicitud de patente europea EP
1.369.505 A2 divulga un procedimiento para la purificación de un
electrólito de zinc y níquel en un proceso galvánico, en el que una
parte del baño de proceso, utilizado en el proceso, se concentra
por evaporación, hasta que se efectúa una separación de fases en una
fase inferior, por lo menos una fase central y una fase superior, y
las fases inferior y superior se separan. Este procedimiento
necesita varias etapas y es desventajoso a causa de su consumo de
energía desde puntos de vista de los costos.
Los documentos WO 00/06807 y WO 01/96631
describen unos baños galvánicos para la aplicación de revestimientos
de zinc y níquel. Con el fin de evitar la indeseada descomposición
de aditivos junto al ánodo, se propone separar el ánodo con
respecto del electrólito alcalino mediante una membrana
intercambiadora de iones.
Los inventos tienen sin embargo la desventaja de
que el empleo de tales membranas es de intensos costos y es
susceptible a necesitar trabajos de conservación.
Además, los baños galvánicos conocidos a partir
de los documentos WO 00/06807 así como WO 01/96631 se deben de
hacer funcionar con unos anolitos y catolitos, que son diferentes en
cuanto a los materiales. Así, en el documento WO 00/06807 se
utiliza como anolito una solución de ácido sulfúrico, y en el
documento WO 01/96631 se utiliza una solución de carácter básico,
de manera preferida hidróxido de sodio, de modo tal que se necesita
un circuito del anolito dispuesto por separado.
Además, los baños conocidos en el estado de la
técnica presentan la desventaja de que, al realizarse la
descomposición anódica de los agentes formadores de complejos que
contienen nitrógeno, resulta un cianuro y éste se enriquece en una
concentración no despreciable.
El invento se basa en la misión de poner a
disposición un baño galvánico alcalino, que no presente las
desventajas antes mencionadas. En particular, la duración de vida
útil del baño debe ser aumentada, la descomposición anódica de
componentes orgánicos del baño debe ser minimizada y en el caso de
su utilización se debe de obtener un espesor de capa de calidad
constantemente alta sobre el substrato revestido.
Es objeto del invento un baño galvánico alcalino
para la aplicación de aleaciones de zinc sobre substratos, con un
ánodo y un cátodo, que comprende un baño de aleación de zinc, que
tiene una membrana de filtración a base de polisulfonas, que separa
uno de otro al espacio anódico y al espacio catódico del baño.
En el caso del baño conforme al invento se
utilizan unas membranas de filtración de por sí conocidas. El tamaño
de los poros de estas membranas de filtración está situado por lo
general, en dependencia del tipo de la membrana (membrana de
nanofiltración o respectivamente ultrafiltración) en un intervalo de
0,0001 a 1,0 \mum o respectivamente de 0,001 a 1,0 \mum. De
manera preferida, en el caso del baño galvánico alcalino se emplean
unas membranas de filtración con un tamaño de poros situado en el
intervalo de 0,05 a 0,5 \mum. De manera especialmente preferida,
el tamaño de poros está situado en un intervalo de 0,1 a 0,3
\mum.
Por lo general, la membrana de filtración en el
baño galvánico alcalino conforme al invento está estructurada como
una membrana plana. El baño galvánico obtenido conforme al invento
puede ser realizado también con otras formas de la membrana,
habiéndose de mencionar por ejemplo mangueras, capilares y fibras
huecas.
En el baño galvánico alcalino conforme al
invento se pueden emplear usuales baños con aleaciones de zinc.
Éstos, por regla general, están compuestos de la siguiente
manera:
- \bullet
- 80-250 g/l de NaOH o respectivamente KOH
- \bullet
- 5-20 g/l de zinc en forma de la sal de zinc soluble
- \bullet
- 0,02-10 g/l del metal paralear Ni, Fe, Co, Sn, en forma de las sales metálicas solubles
- \bullet
- 2-200 g/l de agentes formadores de complejos seleccionados entre poli(alquenil-aminas), alcanol-aminas y polihidroxi-carboxilatos
- \bullet
- 0,1-5 g/l de agentes formadores de brillo aromáticos o respectivamente heteroaromáticos.
\vskip1.000000\baselineskip
Tales baños se describen por ejemplo en los
documentos de patentes de los EE.UU. US 5.417.840, US 4.421.611, US
4.877.496 ó US 6.652.728.
El baño galvánico alcalino conforme al invento
tiene la ventaja de que en él se pueden utilizar también unos baños
para la deposición de aleaciones de zinc, que no son apropiados para
la utilización en el baño alcalino de zinc y níquel con una
membrana intercambiadora de iones, que se conoce a partir de los
documentos WO 00/06807 y WO 01/96631. En este contexto, se ha de
mencionar por ejemplo el baño "Protedur Ni-75"
vendido por la solicitante, que se distingue por un grado de
eficiencia especialmente alto.
Con una membrana intercambiadora de iones
usualmente utilizada y con un anolito a base de una solución de 100
g/l de ácido sulfúrico a partir de una formulación nueva del baño
Protedur Ni-75 no se pudieron depositar capas
funcionales de ningún tipo. Una formulación que se había hecho
funcionar ya durante 50 Ah/l ya no se pudo hacer funcionar después
de otros 10 Ah/l. El proceso necesita manifiestamente una cierta
cantidad de productos de descomposición producidos anódicamente,
que son obstaculizados e impedidos por el empleo de membranas
intercambiadoras de iones.
En el caso de ensayos con una membrana de
filtración se comprobó que a partir de un tamaño de poros de 0,2
\mum, también en el caso de este tipo de baños se forma todavía
una suficiente cantidad de productos de descomposición, para hacer
posible un funcionamiento sin problemas. En tal caso el grado de
eficiencia era todavía más alto que sin ninguna membrana de
filtración y el consumo de los aditivos orgánicos era
manifiestamente menor. Para las comparaciones acerca de esto véase
la Tabla 1.
\vskip1.000000\baselineskip
En el baño galvánico alcalino conforme al
invento se pueden seguir utilizando adicionalmente los ánodos
empleados hasta ahora. Éstos son, en la mayor parte de los casos,
ánodos de níquel. El empleo de estos ánodos es más barato en
comparación con el baño galvánico conocido a partir del documento WO
00/06807, en el que se deben de utilizar adicionalmente especiales
ánodos de titanio platinados.
El invento es explicado con mayor detalle
mediante las figuras adjuntas como anejo:
La Figura 1 muestra esquemáticamente el baño
galvánico conforme al invento. Aquí significan (1) el baño, (2) los
ánodos y (3) el cátodo o respectivamente la pieza de trabajo que se
ha de revestir. Se representan adicionalmente el anolito (4) que
rodea al ánodo y el catolito (5) que rodea al cátodo. El anolito y
el catolito están separados uno de otro mediante una membrana de
filtración (6). La membrana de filtración hace posible el
funcionamiento del baño, pero limita al mismo tiempo la
descomposición de los componentes orgánicos que se encuentran en el
catolito, en particular del agente formador de complejos, por
desplazamiento junto al ánodo o respectivamente dentro del espacio
anódico. Los agentes formadores de complejos pueden reaccionar
solamente de una manera disminuida junto al ánodo, es decir que
ellos son convertidos químicamente de una manera limitada en
carbonatos, oxalatos, nitrilos o respectivamente cianuros. Por lo
tanto, en el caso del funcionamiento del baño galvánico conforme al
invento no se observa tampoco ninguna separación de fases. Una
purificación continua en baño no es necesaria por consiguiente.
En el caso del baño conforme al invento, el
espacio anódico está estructurado preferiblemente de menor tamaño
que el del espacio catódico, puesto allí transcurren los procesos
esenciales.
El invento es explicado con mayor detalle
mediante los siguientes ejemplos de realización.
\vskip1.000000\baselineskip
Primeramente, un baño que estaba destinado a la
deposición de aleaciones de zinc y níquel, con la composición dada
seguidamente, se hizo funcionar con un caudal de tratamiento de 5
Ah/l, de manera tal que el consumo, al principio más alto, se
estabilizó después del comienzo del funcionamiento del baño. De esta
manera se evitan indeseados procesos de deposición. Este baño se
designa a continuación como "formulación nueva".
Se compone de los siguientes componentes:
- Zinc 10,4 g/l (como ZnO soluble)
- Níquel 1,2 g/l (como sulfato de níquel)
- NaOH 120 g/l
- Quadrol 35 g/l
- Ácido piridinio-N-propano-3-sulfónico 1,25 g/l
- Poli(etilen-imina) 5 g/l.
Además, se utilizó un baño del mismo tipo, que
ya se había hecho funcionar durante un período de tiempo más largo,
es decir presentaba un caudal de tratamiento de > 1.000 Ah/l.
Este baño se designa a continuación como "formulación
vieja".
Ambos baños se hicieron funcionar en cada caso
con y sin una membrana de filtración en depósitos que tenían una
capacidad de 5 l. Como membrana de filtración se utilizó la membrana
polimérica P150F, obtenible de Abwa-Tec, que tenía
un tamaño de poros de 0,12 \mum. La membrana se introdujo en el
baño entre el ánodo y el cátodo, siendo idénticos el anolito y el
catolito en cuanto a los materiales, es decir que no se añadió
ningún anolito especial. A continuación se emplearon unas chapas de
hierro (de 7 x 10 cm), que usualmente se utilizan para ensayos en
celdas de Hull, como las piezas de trabajo que se habían de
revestir, y se revistieron con una densidad de corriente de 2
A/dm^{2}. Los baños se hicieron funcionar en una conexión en
serie. El movimiento de las chapas de hierro se efectuó por medios
mecánicos con una velocidad de 1,4 m/min.
A continuación, se analizaron los baños y se
completaron regularmente. La dosificación posterior de los baños se
efectuó, según los resultados de ensayos en celdas de Hull, en cada
caso después de aproximadamente 5 Ah/l. Un arrastre de 12 l de
baño/10.000 Ah, que es usual en el caso de baños de producción, se
tomo en consideración asimismo y los componentes del baño se
completaron de una manera correspondiente.
La Tabla 2 muestra el espesor de capa de celdas
de Hull en el caso de una formulación nueva y de una formulación
vieja, dependiendo del caudal de tratamiento con y sin membrana de
filtración. Las mediciones de los espesores de capas se efectuaron
después de haber ajustado los baños.
Se midió tanto en puntos con alta densidad de
corriente como también en puntos con baja densidad de corriente.
Los puntos están situados en las chapas de celdas de Hull a 3 cm
desde el borde inferior y a 2,5 cm desde el borde lateral izquierdo
o respectivamente derecho. En este caso, se reproduce a la izquierda
la alta densidad de corriente (punto A) y a la derecha la baja
densidad de corriente (punto B).
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
Sorprendentemente, se encontró que el espesor de
capa disminuye en el caso de una formulación nueva sin membrana de
filtración, mientras que aumenta constantemente en el caso de una
formulación vieja con membrana de filtración.
Así, en el caso de la utilización de una
membrana de filtración, el espesor promedio de capa está situado,
en el caso de una formulación nueva en la región alta de densidades
de corriente en aproximadamente un 35%, y en la región baja de
densidades de corriente en aproximadamente un 19%, más alta que si
no se hubiera utilizado ninguna membrana de filtración. En el caso
de una formulación vieja, ella está situada en promedio en un 17%,
o respectivamente un 12%, más alta que sin ninguna membrana de
filtración.
Asombrosamente, en el caso de una formulación
vieja, en la cual después de un caudal de tratamiento de
> 1.000 Ah/l se había introducido una membrana de filtración, se ajustó después de un breve periodo de tiempo un rendimiento de corriente eléctrica comparable con el de una formulación nueva.
> 1.000 Ah/l se había introducido una membrana de filtración, se ajustó después de un breve periodo de tiempo un rendimiento de corriente eléctrica comparable con el de una formulación nueva.
La Tabla 3 muestra el consumo promedio (l/10.000
Ah) del electrólito que se encuentra en el baño, para baños
galvánicos conformes al invento que tienen una membrana de
filtración y para aquellos baños que no tienen esta membrana.
Mediante el empleo de las membranas de filtración, el consumo de
compuestos orgánicos, dependiendo de la adición se disminuyó en 12
y 29%.
\vskip1.000000\baselineskip
\hskip0.5cmAgente formador de complejos: Quadrol, que es una poli(etilen-imina)
\hskip0.5cmAditivo de brillo: ácido piridina-N-propano-3-sulfónico
\vskip1.000000\baselineskip
Las composiciones de los baños antes mencionados
se analizaron de acuerdo con los ensayos arriba descritos.
Presentaba un interés especial en este contexto su contenido de
cianuros. Este, en el caso de la utilización de los baños conformes
al invento con una membrana de filtración, era mucho más pequeño que
en el caso de baños sin ninguna membrana. Como lo demuestra la
siguiente Tabla 4, un baño sin la membrana tenía un contenido de
cianuros de
680 mg/l (formulación nueva) o respectivamente de 790 mg/l (baño con > 1.000 Ah/l), mientras que los correspondientes baños, provistos de una membrana, tenían unos contenidos de cianuros de 96 mg/l o respectivamente
190 mg/l.
680 mg/l (formulación nueva) o respectivamente de 790 mg/l (baño con > 1.000 Ah/l), mientras que los correspondientes baños, provistos de una membrana, tenían unos contenidos de cianuros de 96 mg/l o respectivamente
190 mg/l.
Sorprendentemente, se encontró que el contenido
de cianuros de una formulación vieja, es decir de un baño con
> 1.000 Ah/l se puede disminuir, cuando éste es provisto y hecho funcionar con una membrana de filtración. En el caso de uno de tales baños, el contenido de cianuros se disminuyó por ejemplo desde 670 mg/l hasta 190 mg/l.
> 1.000 Ah/l se puede disminuir, cuando éste es provisto y hecho funcionar con una membrana de filtración. En el caso de uno de tales baños, el contenido de cianuros se disminuyó por ejemplo desde 670 mg/l hasta 190 mg/l.
\vskip1.000000\baselineskip
En el caso de la realización de los ensayos
antes descritos se valoró también el color de los baños. En tal
contexto se comprobó que el color de un baño recientemente
formulado, sin ninguna membrana, se modificaba desde inicialmente
anaranjado violáceo a pardo en el transcurso de 15 Ah/l,
permaneciendo él, en el caso de una utilización de una membrana de
filtración, violeta o respectivamente anaranjado violáceo a lo largo
de todo el período de tiempo. La formulación vieja permaneció de
color pardo sin utilización de una membrana y el color viró hacia
pardo anaranjado después de 15 Ah/l en el caso de la utilización de
una membrana de filtración. El color de baños recientemente
formulados es también violeta, que luego se cambia a anaranjado
(después de algunos Ah/l) y en el caso de un alto caudal de
tratamiento, a pardo.
Finalmente se midió la tensión eléctrica entre
el ánodo y el cátodo. Ella fue de aproximadamente 3 V y estaba
situada en los casos de algunas formulaciones solo aproximadamente
50-100 mV más alta en el caso de la utilización de
una membrana de filtración. Si en lugar de la membrana de filtración
se utiliza una membrana intercambiadora de iones, tal como se
describe en el documento WO 00/06807, entonces la tensión eléctrica
está situada más alta en por lo menos 500 mV. Esto muestra de nuevo
la ventaja de la utilización de una membrana de filtración en lugar
de una membrana intercambiadora de iones.
Resumiendo, se puede comprobar que la
utilización de membranas de filtración ofrece numerosas ventajas en
comparación con la utilización de membranas intercambiadoras de
iones. Así, el procedimiento de revestimiento llevado a cabo con
ellas es más barato, puesto que no se tienen que utilizar ánodos
platinados, el catolito y el anolito pueden tener la misma
composición y por consiguiente tampoco se necesita ningún circuito
cerrado para el anolito.
En comparación con el funcionamiento de un baño
galvánico sin ninguna membrana, el rendimiento de corriente es más
alto y el consumo es menor. Finalmente, los productos de
descomposición y en particular los cianuros se pueden disminuir, o
se puede reducir su concentración y se puede mejorar la calidad de
las capas depositadas a partir del baño.
- (1)
- baño galvánico alcalino
- (2)
- ánodo
- (3)
- cátodo
- (4)
- anolito
- (5)
- catolito
- (6)
- membrana de filtración.
Claims (10)
1. Baño galvánico alcalino para la aplicación de
aleaciones de zinc sobre substratos con un ánodo y un cátodo, que
comprende un baño de aleación de zinc, caracterizado porque
el espacio anódico y el espacio catódico están separados uno de
otro mediante una membrana de filtración a base de polisulfonas.
2. Baño galvánico alcalino de acuerdo con la
reivindicación 1, caracterizado porque el tamaño de los poros
de la membrana de filtración está situado en el intervalo de 0,0001
a 1,0 \mum.
3. Baño galvánico alcalino de acuerdo con la
reivindicación 2, caracterizado porque el tamaño de los poros
de la membrana de filtración está situado en el intervalo de 0,1 a
0,3 \mum.
4. Baño galvánico alcalino de acuerdo con la
reivindicación 1, caracterizado porque la membrana de
filtración está estructurada como membrana plana.
5. Baño galvánico alcalino de acuerdo con la
reivindicación 1, caracterizado porque el anolito que se
encuentra en el espacio anódico tiene la misma composición que el
catolito que se encuentra en el espacio catódico.
6. Utilización de una membrana de filtración a
base de una polisulfona para la separación de un baño galvánico
alcalino con un ánodo y un cátodo en un espacio anódico y un espacio
catódico, con el fin de aumentar la duración de vida útil del baño,
con el fin de evitar una descomposición anódica de componentes
orgánicos del baño y con el fin de obtener capas con una calidad
constantemente alta.
7. Procedimiento para la aplicación de
aleaciones de zinc sobre substratos, caracterizado porque el
substrato se introduce como cátodo en un baño galvánico alcalino de
acuerdo con las reivindicaciones 1 a 6 y el substrato se reviste
galvánicamente con la aleación de zinc.
8. Procedimiento de acuerdo con la
reivindicación 7, caracterizado porque como electrólito se
utiliza una solución que comprende los siguientes componentes:
- \bullet
- 80-250 g/l NaOH o respectivamente KOH
- \bullet
- 5-20 g/l de zinc en forma de la sal de zinc soluble
- \bullet
- 0,02-10 g/l del metal para alear Ni, Fe, Co, Sn en la forma de las sales metálicas solubles
- \bullet
- 2-200 g/l de agentes formadores de complejos seleccionados entre poli(alquenil-aminas), alcanol-aminas y polihidroxi-carboxilatos
- \bullet
- 0,1-5 g/l de agentes formadores de brillo aromáticos o respectivamente heteroaromáticos.
9. Procedimiento de acuerdo con la
reivindicación 7, caracterizado porque el revestimiento se
lleva a cabo a una temperatura de 10 a 60ºC, de manera preferida de
20 a 30ºC.
10. Procedimiento de acuerdo con la
reivindicación 7, caracterizado porque el baño se hace
funcionar con una densidad de corriente de 0,25 a 10 A/dm^{2}, de
manera preferida de 1 a 3 A/dm^{2}.
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---|---|
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EP2384800B1 (de) | 2010-05-07 | 2013-02-13 | Dr.Ing. Max Schlötter GmbH & Co. KG | Regeneration alkalischer Zinknickelelektrolyte durch Entfernen von Cyanidionen |
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Family Cites Families (28)
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---|---|---|---|---|
GB381931A (en) * | 1931-07-11 | 1932-10-11 | Mond Nickel Co Ltd | Improvements relating to electro-plating and the electrodeposition of metals |
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US4250002A (en) * | 1979-09-19 | 1981-02-10 | Hooker Chemicals & Plastics Corp. | Polymeric microporous separators for use in electrolytic processes and devices |
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JPH01116094A (ja) * | 1987-10-28 | 1989-05-09 | Eagle Ind Co Ltd | 隔膜鍍金法 |
JPH02141596A (ja) * | 1988-11-21 | 1990-05-30 | Yuken Kogyo Kk | ジンケート型亜鉛合金メッキ浴 |
JPH0444375A (ja) * | 1990-06-12 | 1992-02-14 | Zexel Corp | レーザ共振器のアライメント装置 |
US5443727A (en) | 1990-10-30 | 1995-08-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Articles having a polymeric shell and method for preparing same |
US5082538A (en) | 1991-01-09 | 1992-01-21 | Eltech Systems Corporation | Process for replenishing metals in aqueous electrolyte solutions |
CN2175238Y (zh) * | 1993-09-29 | 1994-08-24 | 北京科技大学 | 锌-镍合金电镀用阳极 |
US5417840A (en) | 1993-10-21 | 1995-05-23 | Mcgean-Rohco, Inc. | Alkaline zinc-nickel alloy plating baths |
US5631102A (en) * | 1996-02-12 | 1997-05-20 | Wilson Greatbatch Ltd. | Separator insert for electrochemical cells |
JPH11200099A (ja) | 1998-01-08 | 1999-07-27 | Toyo Kohan Co Ltd | 不溶性陽極を用いるめっき方法およびめっき装置 |
DE19834353C2 (de) * | 1998-07-30 | 2000-08-17 | Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg | Alkalisches Zink-Nickelbad |
DE19840019C1 (de) | 1998-09-02 | 2000-03-16 | Atotech Deutschland Gmbh | Wäßriges alkalisches cyanidfreies Bad zur galvanischen Abscheidung von Zink- oder Zinklegierungsüberzügen sowie Verfahren |
JP2000087299A (ja) * | 1998-09-08 | 2000-03-28 | Ebara Corp | 基板メッキ装置 |
US6383352B1 (en) | 1998-11-13 | 2002-05-07 | Mykrolis Corporation | Spiral anode for metal plating baths |
JP4060012B2 (ja) * | 1999-07-19 | 2008-03-12 | 日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社 | カップ式めっき装置 |
ATE306572T1 (de) | 2000-06-15 | 2005-10-15 | Taskem Inc | Zink-nickel-elektroplattierung |
FR2839729B1 (fr) * | 2002-05-16 | 2005-02-11 | Univ Toulouse | Procede de protection d'un substrat en acier ou alliage d'aluminium contre la corrosion permettant de lui conferer des proprietes tribologiques, et substrat obtenu |
DE10225203A1 (de) | 2002-06-06 | 2003-12-18 | Goema Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Spülwasserrückführung und Reinigung eines Prozessbades |
EP1553211B1 (en) | 2002-07-25 | 2014-04-02 | Shinryo Corporation | Tin-silver-copper plating solution, plating film containing the same, and method for forming the plating film |
ES2609080T3 (es) | 2003-06-03 | 2017-04-18 | Coventya, Inc. | Revestimiento electrolítico de cinc y aleaciones de cinc |
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FR2864553B1 (fr) * | 2003-12-31 | 2006-09-01 | Coventya | Installation de depot de zinc ou d'alliages de zinc |
US7442286B2 (en) * | 2004-02-26 | 2008-10-28 | Atotech Deutschland Gmbh | Articles with electroplated zinc-nickel ternary and higher alloys, electroplating baths, processes and systems for electroplating such alloys |
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