ES2340973T3 - Baño basado en pirofosfato para la deposicion de capas de aleaciones de estaño. - Google Patents
Baño basado en pirofosfato para la deposicion de capas de aleaciones de estaño. Download PDFInfo
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Abstract
Baño electrolítico acuoso libre de cianuro para la deposición de capas de aleaciones de estaño sobre superficies de sustratos que comprende (i)una fuente de iones estaño y una fuente para otro elemento de aleación, caracterizado porque además contiene (ii)N-metilpirrolidona.
Description
Baño basado en pirofosfato para la deposición de
capas de aleaciones de estaño.
La presente invención se refiere a un baño
acuoso libre de cianuro y a un procedimiento para la deposición
libre de cianuro de aleaciones de estaño, especialmente aleaciones
de estaño-cobre, que contiene
N-metilpirrolidona como abrillantador orgánico.
La invención hace posible la deposición libre de
cianuro de capas de aleaciones de estaño brillantes homogéneas,
especialmente capas de aleaciones de estaño-cobre,
cuya relación de aleación puede ajustarse específicamente
dependiendo de la relación de sal metálica utilizada dentro del
electrolito.
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Las aleaciones de estaño y especialmente las
aleaciones de cobre-estaño se han convertido en el
foco de atención como alternativa a las deposiciones de níquel. Las
capas de níquel galvánicamente depositadas se utilizan normalmente
tanto para aplicaciones decorativas como para aplicaciones
funcionales.
A pesar de sus buenas propiedades, las capas de
níquel son problemáticas para la salud particularmente con el
contacto directo con la piel debido a sus propiedades
sensibilizadoras. Por este motivo son alternativas de gran
interés.
interés.
Además de las aleaciones de
estaño-plomo establecidas en el sector de la
electrónica, pero ecológicamente problemáticas, en los últimos años
se han propuesto sobre todo aleaciones de
cobre-estaño como sustitución. El capítulo 13 (pág.
155 a 163) del documento "The Electrodeposition of Tin and its
Alloys" de Manfred Jordán (Eugen G. Leuze Publ., 1ª ed.,
1995) da una visión general sobre los tipos de baños conocidos para
las deposiciones de aleaciones de cobre-estaño.
Los baños de aleaciones de
cobre-estaño que contienen cianuro están
Industrialmente establecidos. Debido a los reglamentos cada vez más
estrictos y a la alta toxicidad y a la deposición problemática y
cara de estos baños que contienen cianuro, existe una necesidad
creciente de electrolitos de cobre-estaño libres de
cianuro.
Para este fin se han desarrollo esporádicamente
electrolitos que contienen pirofosfato libres de cianuro. Así, el
documento JP 10-102278 A describe un baño de
aleación de cobre-estaño basado en pirofosfato que
como aditivo contiene un producto de reacción de una amina y de un
derivado de epihalohidrina (relación molar 1:1), un derivado de
aldehido y dado el caso, dependiendo de la aplicación,
tensioactivos. El documento US 6416571 B1 también describe un baño
basado en pirofosfato que también contiene como aditivos un producto
de reacción de una amina y un derivado de epihalohidrina (relación
molar 1:1), un tensioactivo catiónico, dado el caso otros
tensioactivos y un agente antioxidante.
En los baños anteriormente mencionados es
desventajoso que particularmente en las galvanizaciones en tambor no
se obtienen capas de aleaciones uniformes de manera que los
productos no presentan coloración ni brillo
uniformes.
uniformes.
Para solucionar este problema, en el documento
WO 2004/005528 se propone un baño de aleación de
cobre-estaño que contiene pirofosfato que como
aditivo contiene un producto de reacción de un derivado de amina,
con especial preferencia piperazina, un derivado de epihalohidrina,
sobre todo epiclorhidrina, y un éter de glicidilo. Para la
preparación de este producto de reacción, una mezcla constituida por
epiclorhidrina y el éter de glicidilo se añaden lentamente con un
control exacto de la temperatura a una disolución acuosa de
piperazina debiendo mantenerse la temperatura de 65 a 80ºC. En el
caso de este aditivo es desventajoso el procedimiento de reacción
difícil de controlar particularmente a altas temperaturas ya que los
productos de reacción de este tipo tienden a reacciones secundarias
a altas temperaturas de reacción y/o de almacenamiento y, por tanto,
a la formación de polímeros de alto peso molecular y, por tanto,
parcialmente insolubles en agua e inactivos. Una solución para este
dilema sólo puede conseguirse mediante un procedimiento de reacción
a dilución muy alta (< 1% en peso). A este respecto, en las
disoluciones de aditivo poco concentradas de este tipo se produce
una desventajosa constitución de la disolución del electrolito con
dosificaciones posteriores repetidas. De esta manera, con el uso
prolongado de electrolitos pueden producirse deposiciones
fluctuantes.
Además, este electrolito muestra debilidades en
aplicaciones en el galvanizado con bastidor. Por tanto, la calidad
de las capas depositadas que frecuentemente muestran un velo depende
mucho del tipo de movimiento de artículos durante la electrólisis.
Los recubrimientos de cobre-estaño obtenidos de esta
manera presentan además frecuentemente poros, lo que particularmente
es problemático en recubrimientos decorativos.
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Por tanto, la invención se basa en el objetivo
de desarrollar un baño galvánico para aleaciones de estaño que haga
posible la fabricación de capas de aleaciones de estaño ópticamente
agradables.
A este respecto, adicionalmente deberá ajustarse
una distribución de metales de aleaciones de estaño más homogénea y
una relación estaño-metal óptima. Además, deberá
mantenerse un espesor de capa uniforme con alto brillo y la
homogeneidad de la distribución de los componentes de aleación en el
recubrimiento durante un amplio intervalo de densidades de
corriente.
Es objeto de la invención un baño electrolítico
acuoso libre de cianuro para la deposición de capas de aleaciones de
estaño sobre superficies de sustrato que comprende
- (i)
- una fuente de iones estaño y una fuente para otro elemento de aleación, así como
- (ii)
- N-metilpirrolidona.
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Además de los componentes (i) y (ii) previamente
mencionados, el baño electrolítico según la invención comprende
además un ácido (iii) y/o una fuente de pirofosfato (iv).
En el caso del componente (iii) del baño
electrolítico acuoso libre de cianuro según la invención se trata de
un ácido discrecional que puede utilizarse en baños electrolíticos
conocidos. Preferiblemente se trata de ácidos sulfónicos orgánicos,
ácido ortofosfórico, ácido sulfúrico y ácido bórico.
El baño electrolítico acuoso libre de cianuro
según la invención contiene preferiblemente además aditivos que se
seleccionan de agentes antioxidantes y/u otros abrillantadores
orgánicos.
Los abrillantadores orgánicos preferidos son a
este respecto morfolina, ácido
2-morfolinetanosulfónico, hexametilentetramina,
3-(4-morfolino)-1,2-propanodiol,
1,4-diazabiciclo-[2,2,2]-octano,
cloruro de
1-bencil-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(2'-cloro-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(2'-fluoro-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(2'-metoxi-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(2'-carboxi-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(2'-carbamoil-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(3'-cloro-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(3'-fluoro-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(3'-metoxi-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(3'-carboxi-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(3'-carbamoil-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(4'-cloro-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(4'-fluoro-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(4'-metoxíbencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(4'-carboxi-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(4'-carbamoil-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
(1'-metil-naftil)-3-carbamoil-piridinio,
bromuro de
1-(1'metil-naftil)-3-carbamoil-piridinio,
fluoruro de
1-(1'-metil-naftil)-3-carbamoil-piridinio,
dibromuro de 1,1
'-(xilenil)-3,3'-bis-carbamoil-bis-piridinio,
tricloruro de
1,1',1''-(mesitilenil)-3,3',3''-tris-carbamoil-tri-piridinio,
así como los bromuros, fluoruros, yoduros y pseudohalogenuros (por
ejemplo, triflatos, tosilatos) correspondientes de los compuestos
anteriormente indicados, así como
N,N-bis-[dialquílamino-alquil]-ureas
cuaternizadas, siendo los derivados bencilados especialmente
adecuados.
Los aditivos según la invención pueden
utilizarse con N-metilpirrolidona sola o como mezcla
de varios sistemas de abrillantadores diferentes de los
representantes anteriormente mencionados en una concentración de
0,0001 a 20 g/l y con especial preferencia de 0,001 a 1 g/l.
La fuente de iones estaño y la fuente para otro
elemento de aleación pueden ser pirofosfatos. En este sentido, la
fuente de iones estaño y la fuente para otro elemento de aleación
también son fuentes de pirofosfato en el sentido del componentes
(iv) previamente mencionado del baño electrolítico según la
invención.
En un caso tal, la concentración de pirofosfato
de la fuente de otro elemento de aleación asciende a 0,5 a 50 g/l y
preferiblemente a 1 a 5 g/l. Por ejemplo, el baño según la invención
puede contener pirofosfato de cobre en una cantidad de 0,5 a 50 g/l,
preferiblemente de 1 a 5 g/l o pirofosfato de cinc en estas
cantidades.
Si como fuente de iones estaño en el baño
electrolítico según la invención se utiliza pirofosfato de estaño,
la concentración asciende generalmente a 0,5 a 100 g/l,
prefiriéndose especialmente concentraciones de 10 a 40 g/l.
Además de los pirofosfatos de estaño y metálicos
anteriormente mencionados, también pueden utilizarse otras sales de
estaño y metálicas solubles en agua como, por ejemplo, sulfato de
estaño, metanosulfato de estaño, sulfato de cobre, metanosulfonato
de cobre, o las sales de cinc correspondientes que pueden
transcomplejarse en los pirofosfatos correspondientes mediante la
adición de pirofosfatos de metales alcalinos adecuados dentro del
electrolito. A este respecto, la relación de concentraciones de
pirofosfato respecto a estaño/metal deberá encontrarse en 3 a 80,
con especial preferencia en 5 a 50.
Las fuentes de pirofosfato según el componente
(iv) son con especial preferencia los pirofosfatos de sodio, potasio
y amonio en concentraciones de 50 a 500 g/l, con especial
preferencia de 100 a 400 g/l.
Los agentes antioxidantes previamente
mencionados contienen compuestos aromáticos hidroxilados como, por
ejemplo, catecol, resorcina, pirocatecol, hidroquinona, pirogalol,
\alpha- o \beta-naftol, floroglucina y sistemas
basados en azúcar como, por ejemplo, ácido ascórbico, sorbitol en
concentraciones de 0,1 a 1 g/l.
Como ácidos sulfónicos orgánicos pueden
utilizarse ácidos tanto mono- como polialquilsulfónicos como, por
ejemplo, ácido metanosulfónico, ácido metanodisulfónico, ácido
etanosulfónico, ácido propanosulfónico, ácido
2-propanosulfónico, ácido butanosulfónico, ácido
2-butanosulfónico, ácido pentanosulfónico, ácido
hexanosulfónico, ácido decanosulfónico, ácido dodecanosulfónico, así
como sus sales y sus derivados hidroxilados. Se prefiere
especialmente el uso de ácido metanosulfónico en una concentración
de 0,01 a 1 g/l.
Los baños según la invención presentan un valor
de pH de 3 a 9, con especial preferencia de 6 a 8.
Sorprendente e inesperadamente pudo encontrarse
que mediante la adición de N-metilpirrolidona puede
conseguirse una mejora significativa de las capas depositadas en lo
referente al brillo y a la ausencia de poros, preferiblemente en una
concentración de 0,1 a 50 g/l, con especial preferencia de 0,1 a 4
g/l.
Los baños según la invención pueden prepararse
con procedimientos convencionales, por ejemplo, mediante la adición
de cantidades específicas de los componentes previamente descritos
al agua. La cantidad de componentes de bases, ácidos y tampones
como, por ejemplo, pirofosfato de sodio, ácido metanosulfónico y/o
ácido bórico deberá elegirse preferiblemente de forma que el baño
alcance el intervalo de pH de al menos 6 a 8.
Los baños según la invención depositan una capa
de aleación de cobre-estaño brillante, lisa y dúctil
a cada temperatura habitual de aproximadamente 15 a 50ºC,
preferiblemente 20ºC a 40ºC, con especial preferencia 25ºC a 30ºC. A
estas temperaturas, los baños según la invención son estables y
eficaces durante un amplio intervalo de densidades de corriente de
0,01 a 2 A/dm^{2}, con especial preferencia de 0,25 a 0,75
A/dm^{2}.
Los baños según la invención pueden accionarse
una forma continua o intermitente y de vez en cuando deben
complementarse los componentes del baño. Los componentes del baño
pueden añadirse por separado o en combinación. Además, pueden variar
en un amplio intervalo en función del consumo y de la concentración
presente de los componentes individuales.
Una ventaja de los baños según la invención en
comparación con los electrolitos del documento WO 2004/005528 es la
buena reproducibilidad y la estabilidad a largo plazo de las
formulaciones según la invención en comparación con los productos de
reacción de piperazina con epiclorhidrina y éter de glicidilo.
Los baños acuosos según la invención pueden
usarse en general para todos los tipos de sustratos sobre los que
pueden depositarse aleaciones de estaño. Ejemplos de sustratos
convenientes incluyen aleaciones de cobre-cinc,
superficies de plástico ABS recubiertas químicamente de cobre o
químicamente de níquel, acero dulce, acero inoxidable, acero para
resortes, acero cromado, acero al cromo-molibdeno,
cobre y estaño.
Por tanto, otro objeto es un procedimiento para
la deposición galvánica de aleaciones de
cobre-estaño sobre sustratos habituales usándose el
baño según la invención. A este respecto, el sustrato que va a
recubrirse se introduce en el baño electrolítico.
En el procedimiento según la invención, la
deposición de los recubrimientos se realiza preferiblemente a una
densidad de corriente de 0,25 a 0,75 A/dm^{2}, así como a una
temperatura de 15 a 50ºC, preferiblemente de 25 a 30ºC.
El procedimiento según la invención puede
realizarse durante la aplicación para piezas en serie, por ejemplo,
como el procedimiento de galvanizado en tambor y para la deposición
sobre piezas más grandes como el procedimiento de galvanizado con
bastidor. A este respecto se usan ánodos que pueden ser solubles
como, por ejemplo, ánodos de cobre, ánodos de estaño o ánodos de
aleaciones de cobre-estaño adecuados que al mismo
tiempo sirven de fuente de iones cobre y/o estaño para que el cobre
y/o estaño depositado sobre el cátodo se sustituya en el ánodo
mediante disolución de cobre y/o estaño.
Por otra parte, también pueden utilizarse ánodos
insolubles (por ejemplo, ánodos de óxido mixto de titanio platinado)
debiendo añadirse de nuevo de otra forma los iones cobre y estaño
extraídos del electrolito, por ejemplo, mediante la adición de sales
metálicas solubles correspondientes. Al igual que es posible en la
deposición galvánica, el procedimiento según la invención también
puede accionarse bajo inyección de nitrógeno o argón, con movimiento
de artículos o sin movimiento sin que de esto resulten desventajas
para los recubrimientos obtenidos. Para evitar o reducir las
oxidaciones de los aditivos añadidos o de iones estaño (II) puede
trabajarse con la separación de las cámaras de los electrodos o con
el uso de ánodos de membrana, por lo que puede conseguirse una
estabilización considerable del electrolito.
Como fuente de corriente sirven convertidores de
corriente continua o rectificadores de pulso habituales en el
comercio.
Ejemplo de aplicación
1
Se usa un electrolito con la siguiente
composición:
Una celda de Hull se llena con 250 ml del
electrolito con un valor de pH de 7. De ánodo sirve un electrodo de
óxido mixto de titanio. La chapa catódica se recubre 10 min a 1 A.
Después de finalizar el recubrimiento, la chapa se aclara y se seca
con aire a presión. Se obtuvo una deposición altamente
brillante.
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Ejemplo de aplicación
2
Se usa un electrolito con la siguiente
composición:
Una celda de Hull se llena con 250 ml del
electrolito con un valor de pH de 7. De ánodo sirve un electrodo de
óxido mixto de titanio. La chapa catódica se recubre 10 min a 1 A.
Después de finalizar el recubrimiento, la chapa se aclara y se seca
con aire a presión. Se obtuvo una deposición altamente brillante con
un ligero velo en el intervalo de densidades de corriente bajas.
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Ejemplo de aplicación
3
Se usa un electrolito con la siguiente
composición:
Una celda de Hull se llena con 250 ml del
electrolito con un valor de pH de 7. De ánodo sirve un electrodo de
óxido mixto de titanio. La chapa catódica se recubre 10 min a 1 A.
Después de finalizar el recubrimiento, la chapa se aclara y se seca
con aire a presión. Se obtuvo una deposición brillante.
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Ejemplo de aplicación
4
Se usa un electrolito con la siguiente
composición:
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Una celda de Hull se llena con 250 ml del
electrolito con un valor de pH de 7. De ánodo sirve un electrodo de
óxido mixto de titanio. La chapa catódica se recubre 10 min a 1 A.
Después de finalizar el recubrimiento, la chapa se aclara y se seca
con aire a presión. Se obtuvo una deposición altamente
brillante.
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Ejemplo de aplicación
5
Se usa un electrolito con la siguiente
composición:
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\vskip1.000000\baselineskip
Una celda de Hull se llena con 250 ml del
electrolito con un valor de pH de 7. De ánodo sirve un electrodo de
óxido mixto de titanio. La chapa catódica se recubre 10 min a 1 A.
Después de finalizar el recubrimiento, la chapa se aclara y se seca
con aire a presión. Se obtuvo una deposición altamente
brillante.
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Ejemplo de aplicación
6
Se usa un electrolito con la siguiente
composición:
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Una celda de Hull se llena con 250 ml del
electrolito con un valor de pH de 7. De ánodo sirve un electrodo de
óxido mixto de titanio. La chapa catódica se recubre 10 min a 1 A.
Después de finalizar el recubrimiento, la chapa se aclara y se seca
con aire a presión. Se obtuvo una deposición altamente
brillante.
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Ejemplo de aplicación
7
Se usa un electrolito con la siguiente
composición:
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\vskip1.000000\baselineskip
Una celda de Hull se llena con 250 ml del
electrolito con un valor de pH de 7. De ánodo sirve un electrodo de
óxido mixto de titanio. La chapa catódica se recubre 10 min a 1 A.
Después de finalizar el recubrimiento, la chapa se aclara y se seca
con aire a presión. Se obtuvo una deposición altamente
brillante.
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Ejemplo de aplicación
8
Se usa un electrolito con la siguiente
composición:
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Una celda de Hull se llena con 250 ml del
electrolito con un valor de pH de 7. De ánodo sirve un electrodo de
óxido mixto de titanio. La chapa catódica se recubre 10 min a 1 A.
Después de finalizar el recubrimiento, la chapa se aclara y se seca
con aire a presión. Se obtuvo una deposición altamente
brillante.
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Ejemplo de aplicación
9
Se usa un electrolito con la siguiente
composición:
Una celda de Hull se llena con 250 ml del
electrolito con un valor de pH de 7. De ánodo sirve un electrodo de
óxido mixto de titanio. La chapa catódica se recubre 10 min a 1 A.
Después de finalizar el recubrimiento, la chapa se aclara y se seca
con aire a presión. Se obtuvo una deposición altamente
brillante.
Claims (22)
1. Baño electrolítico acuoso libre de cianuro
para la deposición de capas de aleaciones de estaño sobre
superficies de sustratos que comprende
- (i)
- una fuente de iones estaño y una fuente para otro elemento de aleación, caracterizado porque además contiene
- (ii)
- N-metilpirrolidona.
2. Baño electrolítico acuoso libre de cianuro
según la reivindicación 1 que comprende además un ácido (iii) y/o
una fuente de pirofosfato (iv).
3. Baño electrolítico acuoso libre de cianuro
según la reivindicación 2 en el que el ácido es ácido ortofosfórico,
ácido sulfúrico o ácido metanosulfónico.
4. Baño electrolítico acuoso libre de cianuro
según la reivindicación 1 en el que la fuente de iones estaño es
pirofosfato de estaño.
5. Baño electrolítico acuoso libre de cianuro
según la reivindicación 4 que contiene pirofosfato de estaño en una
cantidad de 0,5 a 100 g/l.
6. Baño electrolítico acuoso libre de cianuro
según la reivindicación 1 en el que la fuente para otro elemento de
aleación es pirofosfato de cobre.
7. Baño electrolítico acuoso libre de cianuro
según la reivindicación 5 ó 6 que contiene pirofosfato de estaño en
una cantidad de 10 a 40 g/l y pirofosfato de cobre en una cantidad
de 1 a 5 g/l.
8. Baño electrolítico acuoso libre de cianuro
según la reivindicación 2 en el que la fuente de pirofosfato se
selecciona del grupo constituido por pirofosfatos de sodio, potasio
y amonio.
9. Baño electrolítico acuoso libre de cianuro
según la reivindicación 8 que contiene los pirofosfatos en una
concentración de 50 a 500 g/l.
10. Baño electrolítico acuoso libre de cianuro
según la reivindicación 2 en el que la relación de concentraciones
de pirofosfato respecto a estaño/elemento de aleación asciende a 3 a
80.
11. Baño electrolítico acuoso libre de cianuro
según la reivindicación 1 que contiene
N-metilpirrolidona en una concentración de 0,1 a 50
g/l.
12. Baño electrolítico acuoso libre de cianuro
según la reivindicación 11 que contiene
N-metilpirrolidona en una concentración de 0,1 a 4
g/l.
13. Baño electrolítico acuoso libre de cianuro
según la reivindicación 1 con un valor de pH de 3 a 9.
14. Baño electrolítico acuoso libre de cianuro
según la reivindicación 1 que comprende además un agente
antioxidante y/u otro abrillantador orgánico.
15. Baño electrolítico acuoso libre de cianuro
según la reivindicación 14 en el que el otro abrillantador orgánico
se selecciona del grupo constituido por morfolina, ácido
2-morfolinetanosulfónico, hexametilentetramina,
3-(4-morfolino)-1,2-propanodiol,
1,4-diazabiciclo-[2,2,2]-octano,
cloruro de
1-bencil-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(2'-cloro-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(2'-fluoro-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(2'-metoxi-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(2'-carboxi-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(2'-carbamoil-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(3'-cloro-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(3'-fluoro-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(3'-metoxi-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(3'-carboxi-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(3'-carbamoil-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(4'-cloro-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(4'-fluoro-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(4'-metoxi-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
1-(4'-carbamoil-bencil)-3-carbamoil-piridinio,
cloruro de
(1'-metil-naftil)-3-carbamoil-piridinio,
bromuro de
1-(1'metil-naftil)-3-carbamoil-piridinio,
dibromuro de
1,1'-(xilenil)-3,3'-bis-carbamoil-bis-piridinio,
tricloruro de
1,1',1''-(mesitilenil)-3,3',3''-tris-carbamoil-tri-piridinio,
los bromuros, fluoruros, yoduros y pseudohalogenuros
correspondientes de los compuestos previamente mencionados y
N,N-bis-[dialquilamino-alquil]-ureas
cuater-
nizadas.
nizadas.
16. Procedimiento para la deposición galvánica
de recubrimientos de aleaciones de estaño brillantes y lisos que
comprende la introducción de un sustrato que va a recubrirse en un
baño electrolítico acuoso libre de cianuro según las
reivindicaciones 1 a 15 y la deposición del recubrimiento de
aleaciones de estaño sobre el sustrato.
17. Procedimiento según la reivindicación 16 en
el que el baño se acciona a una densidad de corriente de 0,01 a 2
A/dm^{2}.
18. Procedimiento según la reivindicación 17, en
el que el baño se acciona a una densidad de corriente de 0,25 a 0,75
A/dm^{2}.
19. Procedimiento según la reivindicación 16 en
el que el baño se acciona a una temperatura de 15 a 50ºC.
20. Procedimiento según la reivindicación 19 en
el que el baño se acciona a una temperatura de 25 a 30ºC.
21. Procedimiento según las reivindicaciones 16
a 20 en el que los recubrimientos se depositan sobre un sustrato
conductor aplicando un procedimiento de galvanizado con
bastidor.
22. Procedimiento según las reivindicaciones 16
a 21 en el que como ánodos se usan ánodos de membrana.
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