JPS61253384A - アモルフアス合金のメツキ方法 - Google Patents
アモルフアス合金のメツキ方法Info
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- JPS61253384A JPS61253384A JP60000122A JP12285A JPS61253384A JP S61253384 A JPS61253384 A JP S61253384A JP 60000122 A JP60000122 A JP 60000122A JP 12285 A JP12285 A JP 12285A JP S61253384 A JPS61253384 A JP S61253384A
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- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/34—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/02—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
アモルファス合金は優れた磁性材料として電子部品など
に利用されつつあるが、欠点として半田性に欠けること
である。
に利用されつつあるが、欠点として半田性に欠けること
である。
この欠点はアモルファス合金の表面に強固な不動態化皮
膜が形成されているからであり、非晶質特有の合金構造
が半田性を阻害している。
膜が形成されているからであり、非晶質特有の合金構造
が半田性を阻害している。
しかし、アモルファス合金を電子材料として利用する場
合、端部を接続するときは半田性を持たす必要がある。
合、端部を接続するときは半田性を持たす必要がある。
アモルファス合金を接続するためには、圧着方法がある
が、接続効果は低く不安定であシ、かシに強固な圧着が
可能であっても表面の不動態化皮膜が通電をさまたげる
。
が、接続効果は低く不安定であシ、かシに強固な圧着が
可能であっても表面の不動態化皮膜が通電をさまたげる
。
また、アモルファス合金は脆いので曲げ加工が困難であ
り、曲げや、ねじりの方法による接続は破断するのでで
きない。
り、曲げや、ねじりの方法による接続は破断するのでで
きない。
その他、スポット溶接などの溶接法があるが、溶接個所
が高温度になるため、アモルファス合金の組成を変化さ
せ、アモルファス合金の持つ金属特性を失うので使用不
可能である。
が高温度になるため、アモルファス合金の組成を変化さ
せ、アモルファス合金の持つ金属特性を失うので使用不
可能である。
このため、半田付けを可能にするべく、アモルファス合
金へのメッキ法が種々研究されていたが、現在まだ成功
例を見ていない。
金へのメッキ法が種々研究されていたが、現在まだ成功
例を見ていない。
これはアモルファス合金特有の不動態化皮膜の除去と、
アモルファス合金中のシリコン、ボロンなどの処理法が
困難なことと、アモルファス合金開発の歴史が浅く研究
開発が広く行われていないことにも起因している。
アモルファス合金中のシリコン、ボロンなどの処理法が
困難なことと、アモルファス合金開発の歴史が浅く研究
開発が広く行われていないことにも起因している。
本発明は、アモルファス合金の素地を侵蝕することなく
、不動態化皮膜を完全に除去し、密着性の優れた金属メ
ッキを施すことを目的として、以下の如き処理を行うこ
とを特徴とするものである。
、不動態化皮膜を完全に除去し、密着性の優れた金属メ
ッキを施すことを目的として、以下の如き処理を行うこ
とを特徴とするものである。
すなわち、塩酸（３５％溶液）１５〜２５重量％、硫酸
（８５チ溶液）５〜１５重量％、クエン酸粉末５〜１５
重量％、酢酸（９０％溶液）０．５〜１．５重量％、硝
酸（６８チ溶液）４〜６重量％、非イオンまたは両性界
面活性剤０．１〜０．３重量％、アミン系腐蝕抑制剤０
．０５〜０．１５重量％を配合した酸性活性化浴を用い
てアモルファス合金を浸漬または電解処理する化学研摩
工程と、燐酸（８５チ溶液）５〜１５重量％、硫酸（８
５％溶液）５〜１５重量％、クエン酸粉末５〜１５重量
％、酢酸（９０％溶液）０．５〜１．５重量％、非イオ
ンまたは両性界面活性剤０．１〜０．３重量％、アミン
系腐蝕抑制剤０．０５〜０．１５重量％を配合した陰極
電解浴を用いて、上記アモルファス合金を活性化する電
解活性化工程と、銅、ニッケル、錫、亜鉛のうちの一種
またはその合金を、活性化後のアモルファス合金にメッ
キし半田性を付与することを特徴とするアモルファス合
金のメッキ法である。
（８５チ溶液）５〜１５重量％、クエン酸粉末５〜１５
重量％、酢酸（９０％溶液）０．５〜１．５重量％、硝
酸（６８チ溶液）４〜６重量％、非イオンまたは両性界
面活性剤０．１〜０．３重量％、アミン系腐蝕抑制剤０
．０５〜０．１５重量％を配合した酸性活性化浴を用い
てアモルファス合金を浸漬または電解処理する化学研摩
工程と、燐酸（８５チ溶液）５〜１５重量％、硫酸（８
５％溶液）５〜１５重量％、クエン酸粉末５〜１５重量
％、酢酸（９０％溶液）０．５〜１．５重量％、非イオ
ンまたは両性界面活性剤０．１〜０．３重量％、アミン
系腐蝕抑制剤０．０５〜０．１５重量％を配合した陰極
電解浴を用いて、上記アモルファス合金を活性化する電
解活性化工程と、銅、ニッケル、錫、亜鉛のうちの一種
またはその合金を、活性化後のアモルファス合金にメッ
キし半田性を付与することを特徴とするアモルファス合
金のメッキ法である。
本発明における酸性活性化浴の配合組成は、本発明者が
数多くの実験と試行錯誤の結果発見したものであり、各
成分の組合せによる相乗効果により目的の効果を発揮す
るものである。
数多くの実験と試行錯誤の結果発見したものであり、各
成分の組合せによる相乗効果により目的の効果を発揮す
るものである。
従って、上記の諸条件は本発明に必要不可欠の構成要件
であり、各成分の併用とその添加量の範囲以外では、ア
モルファス合金表面の素地を侵蝕することなく不動態化
皮膜を完全に除去して、密着性に優れた金属メッキを得
ることは困難である。
であり、各成分の併用とその添加量の範囲以外では、ア
モルファス合金表面の素地を侵蝕することなく不動態化
皮膜を完全に除去して、密着性に優れた金属メッキを得
ることは困難である。
以下、実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例１ （Ｆ
ｅ４４．３％、Ｎｉ４４．２％、Ｍｏ ７．９ ％、Ｂ
３．６チの合金組成で厚さ２７μｍ１幅２５閣、長さ１
．８００ ｍのフープ状のアモルファス合金を、次の工
程を経て銅メッキを行った。
ｅ４４．３％、Ｎｉ４４．２％、Ｍｏ ７．９ ％、Ｂ
３．６チの合金組成で厚さ２７μｍ１幅２５閣、長さ１
．８００ ｍのフープ状のアモルファス合金を、次の工
程を経て銅メッキを行った。
■通常の方法によるトリクレン脱脂洗滌工程０適常の方
法によるアルカリ脱脂工程 ■化学研摩工程 続いて上記アモルファス合金のフープ材を、塩酸（３５
％溶液）２０重量％、硫酸（８５チ溶液）１０重量％、
クエン酸（粉末）１０重量％、酢酸（９０チ溶液）１容
量チ及び硝酸（６８％溶液）５容量チよりなる混酸に、
ホリエチレングリコールアルキルエーテル、ポリエチレ
ングリコール脂肪酸エステルなどの非イオンまたはアミ
ノ酸類の両性界面活性剤０．２重量％及びアミン系腐蝕
抑制剤０．１重量％を加えた浴中を通過させ、該アモル
ファス合金フープ材表面の酸化物及び不純物を除去した
。
法によるアルカリ脱脂工程 ■化学研摩工程 続いて上記アモルファス合金のフープ材を、塩酸（３５
％溶液）２０重量％、硫酸（８５チ溶液）１０重量％、
クエン酸（粉末）１０重量％、酢酸（９０チ溶液）１容
量チ及び硝酸（６８％溶液）５容量チよりなる混酸に、
ホリエチレングリコールアルキルエーテル、ポリエチレ
ングリコール脂肪酸エステルなどの非イオンまたはアミ
ノ酸類の両性界面活性剤０．２重量％及びアミン系腐蝕
抑制剤０．１重量％を加えた浴中を通過させ、該アモル
ファス合金フープ材表面の酸化物及び不純物を除去した
。
り電解活性化工程
燐酸（８５％溶液）１０重量％、硫酸
（８５％溶液）１０重量％、クエン酸（粉末）５重量％
、酢酸（９０％溶液）１重量％に、上記と同様の非イオ
ンまたは両性界面活性剤０．２重量％及び腐蝕抑制剤０
．１重量％を加えた浴を６０℃に加温し、アモルファス
合金フープ材に（−）電流を、チタン白金メツキ板に（
十）電流を通じ４ポルトにセットして浴中を通過させて
アモルファス合金フープ材の表面の活性化を行った。
、酢酸（９０％溶液）１重量％に、上記と同様の非イオ
ンまたは両性界面活性剤０．２重量％及び腐蝕抑制剤０
．１重量％を加えた浴を６０℃に加温し、アモルファス
合金フープ材に（−）電流を、チタン白金メツキ板に（
十）電流を通じ４ポルトにセットして浴中を通過させて
アモルファス合金フープ材の表面の活性化を行った。
■銅ストライクメッキ工程
硫酸鋼２０ ｇ／ｌ、クエン酸９０ｆｌ／ｌ−クエン酸
ソーダ９０ｇ／ｌのメッキ浴中を６Ａ／Ｄ、ｎ’の電流
密度で１０秒間メッキして０．０２〜０．０６μｍの銅
メッキを得た。
ソーダ９０ｇ／ｌのメッキ浴中を６Ａ／Ｄ、ｎ’の電流
密度で１０秒間メッキして０．０２〜０．０６μｍの銅
メッキを得た。
■銅メッキ工程
硫酸銅１８０９／１１硫酸４５９／ｌのメッキ浴中を２
Ａ／ＤＴＩＩ’の電流密度で２分間メッキして約２μｍ
の銅メッキを得た。
Ａ／ＤＴＩＩ’の電流密度で２分間メッキして約２μｍ
の銅メッキを得た。
実施例２
ＣＯ８６％、Ｆｅ６％、Ｓｉ５％、Ｂ！１％＋７）組成
であるアモルファス合金線材で線径０．１５ｗｍ長さ５
．０００ ｍのボビン巻き製品を、次の工程を経て錫メ
ッキを施した。
であるアモルファス合金線材で線径０．１５ｗｍ長さ５
．０００ ｍのボビン巻き製品を、次の工程を経て錫メ
ッキを施した。
■■■■の各工程は実施例１と同じ方法によシ処理し、
アモルファス合金線材の表面活性化を行った。
アモルファス合金線材の表面活性化を行った。
■錫メッキ工程
硫酸第１錫４０ｆ！／ｌ、硫酸６０ ｆｌ／ｌ。
ゼラチン２ Ｆ！／ｌの浴で電流密度１．５Ａ／Ｄｒｔ
？で錫メッキを６分間行った。
？で錫メッキを６分間行った。
その結果、アモルファス合金線の表面に１．５μｍの錫
メッキが施された。
メッキが施された。
実施例３
Ｆｅ９２％、Ｓｉ５．０％、８３％の合金組成で厚さ２
７μｍ１幅５０＋ｍａ、長さ７００ｍのアモルファス合
金フープ材を次の工程を経てニッケルメッキを行った。
７μｍ１幅５０＋ｍａ、長さ７００ｍのアモルファス合
金フープ材を次の工程を経てニッケルメッキを行った。
■■■■の各工程は、実施例１と同じ方法により処理し
、アモルファス合金フープ材の表面活性化を行った。
、アモルファス合金フープ材の表面活性化を行った。
■ニッケルストライクメッキ工程
スルファミン酸ニッケル５０ 、！ｉ’／ ｌ、 硫酸
ニッケル５０９／ｌ、硼酸４０９／Ｉｔ、クエン酸４５
９／１３のメッキ浴中を６Ａ／Ｄｉの電流密度で１０秒
間メッキし、約０．０３μｍのニッケルメッキを施した
。
ニッケル５０９／ｌ、硼酸４０９／Ｉｔ、クエン酸４５
９／１３のメッキ浴中を６Ａ／Ｄｉの電流密度で１０秒
間メッキし、約０．０３μｍのニッケルメッキを施した
。
■ニッケルメッキ工程
スルファミン酸ニッケル６００ｇ／ｌ、塩化ニッケル５
Ｆ！／１３．硼酸４０ Ｅｌ／ｉｔのメッキ浴で陽極
にニッケル板をセットし、１０Ａ／Ｄ！、？′の電流密
度で３分間メッキした。
Ｆ！／１３．硼酸４０ Ｅｌ／ｉｔのメッキ浴で陽極
にニッケル板をセットし、１０Ａ／Ｄ！、？′の電流密
度で３分間メッキした。
その結果、アモルファス合金フープ材の表面に密着性に
優れた約２μｍのニッケルメッキを得た。
優れた約２μｍのニッケルメッキを得た。
実施例４
実施例３と同様のアモルファス合金フープ材の亜鉛メッ
キを行った。
キを行った。
■■■■の各工程は実施例１と同じ方法により処理し、
アモルファス合金フープ材の表面活性化を行った。
アモルファス合金フープ材の表面活性化を行った。
■亜鉛メッキ工程
硫酸アニン２４０ｇ／ｌ、塩化アンモニウム１５ｇ／ｌ
、硫酸７Ａ／ミニウム３０ｆｊ／１３の浴で電流密度２
Ａ／Ｄｉで５分間メッキを行った結果、アモルファス合
金フープ材の表面ド約４μｍの亜鉛メッキが施された。
、硫酸７Ａ／ミニウム３０ｆｊ／１３の浴で電流密度２
Ａ／Ｄｉで５分間メッキを行った結果、アモルファス合
金フープ材の表面ド約４μｍの亜鉛メッキが施された。
以上、４つの実施例によって得たメッキしたアモルファ
ス合金のメッキ密着性および半田性のテストは次の通り
であシ、優れたメッキ性であることが確認された。
ス合金のメッキ密着性および半田性のテストは次の通り
であシ、優れたメッキ性であることが確認された。
（１）剥離性
（イ）１８０°曲げテスト、（＝）テープ剥離テスト、
（−） ４００℃、１０分間加熱後急冷テストを行った
。その結果、３方法ともアモルファス合金よりメッキ層
の剥離は認められなかった。
（−） ４００℃、１０分間加熱後急冷テストを行った
。その結果、３方法ともアモルファス合金よりメッキ層
の剥離は認められなかった。
（ｎ）半田性
ソルダーテスト機でテストの結果、半田の濡れ性が極め
て良く、半田初期の半田表面張力による押し上げが殆ん
どみられなかった。
て良く、半田初期の半田表面張力による押し上げが殆ん
どみられなかった。
また、錫６、鉛４の半田を２３０℃に溶融した半田槽中
に４つの実施例によって得たメッキしたアモルファス合
金のフープ材および線材を浸漬したところ、すべて９５
％以上の半田のぬれ性を示した。
に４つの実施例によって得たメッキしたアモルファス合
金のフープ材および線材を浸漬したところ、すべて９５
％以上の半田のぬれ性を示した。
アモルファス合金は、メッキと半田が困難であるために
、その用途は主として磁気特性を利用した磁心に限られ
ていた。
、その用途は主として磁気特性を利用した磁心に限られ
ていた。
しかし、以上で説明したように、本発明の方法によると
、アモルファス合金に対して、銅、ニッケル、錫、亜鉛
などの各種金属のメッキが可能となシ、従って、半田性
が付与されるのでアモルファス合金が具備する磁気的特
性と、表層に電導性に富んだ金属をメッキした新規の複
合材料として、従来不可能であった半田による結、合は
もとより、アモルファス線材を織物状とすることなどが
可能となシ、磁気的特性以外の特性をも活かした分野へ
用途が拡大できるから産業に寄与するところが犬である
。
、アモルファス合金に対して、銅、ニッケル、錫、亜鉛
などの各種金属のメッキが可能となシ、従って、半田性
が付与されるのでアモルファス合金が具備する磁気的特
性と、表層に電導性に富んだ金属をメッキした新規の複
合材料として、従来不可能であった半田による結、合は
もとより、アモルファス線材を織物状とすることなどが
可能となシ、磁気的特性以外の特性をも活かした分野へ
用途が拡大できるから産業に寄与するところが犬である
。
昭和ど７年９月７日
昭和７９年 特許願 第 ／２） 号２゜発明の名称
アεルア１ス、会・宿のヌ、ア＋牙う氏３、補正をする
者 事件との関係 特許出願人 〜名うづ ｃ１＼＃ 正ピー ４、代理人 んλλ電と鴫６犠亀 明細書の浄書（内容に変更な− 全文補正明細書 １、発明の名称 アモルファス合金のメッキ方法 ２、特許請求の範囲 塩酸（３５％溶液）１５〜２５容量％、硫酸（８５％溶
液）５〜１５容量％、クエン酸粉末５〜１５重量％、酢
酸（９０％溶液）０．５〜１．５容量％、硝酸（６８％
溶液）４〜６容量％、非イオンまたは両性界面活性剤０
．１〜０．３重量％、アミン系腐蝕抑制剤０．０５〜０
．１５重量％を配合した酸性活性化浴を用いて、アモル
ファス合金を浸漬または電解処理する化学研磨工程と、 燐酸（８５％溶液）５〜１５容量％、硫酸（８５％溶液
）５〜１５容量％、クエン酸粉末５〜１５重量％、酢酸
（９０％溶液）０．５〜１．５容量％、非イオンまたは
両性界面活性剤０．１〜０．３重量％、アミン系腐蝕抑
制剤０．０５〜０．１５重量％を配合した陰極電解浴を
用いて上記アモルファス合金を活性化する電解活性化工
程と、 その直後に銅、ニッケル、錫、亜鉛のうちの一種または
、その合金をメッキする工程と、よりなることを特徴と
するアモルファス合金のメッキ方法。
者 事件との関係 特許出願人 〜名うづ ｃ１＼＃ 正ピー ４、代理人 んλλ電と鴫６犠亀 明細書の浄書（内容に変更な− 全文補正明細書 １、発明の名称 アモルファス合金のメッキ方法 ２、特許請求の範囲 塩酸（３５％溶液）１５〜２５容量％、硫酸（８５％溶
液）５〜１５容量％、クエン酸粉末５〜１５重量％、酢
酸（９０％溶液）０．５〜１．５容量％、硝酸（６８％
溶液）４〜６容量％、非イオンまたは両性界面活性剤０
．１〜０．３重量％、アミン系腐蝕抑制剤０．０５〜０
．１５重量％を配合した酸性活性化浴を用いて、アモル
ファス合金を浸漬または電解処理する化学研磨工程と、 燐酸（８５％溶液）５〜１５容量％、硫酸（８５％溶液
）５〜１５容量％、クエン酸粉末５〜１５重量％、酢酸
（９０％溶液）０．５〜１．５容量％、非イオンまたは
両性界面活性剤０．１〜０．３重量％、アミン系腐蝕抑
制剤０．０５〜０．１５重量％を配合した陰極電解浴を
用いて上記アモルファス合金を活性化する電解活性化工
程と、 その直後に銅、ニッケル、錫、亜鉛のうちの一種または
、その合金をメッキする工程と、よりなることを特徴と
するアモルファス合金のメッキ方法。
３、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明はアモルファス合金のメッキ方法に関する。
アモルファス合金は優れた磁性材料として電子部品など
に利用されつつあるが、半田性に欠ける欠点がある。
に利用されつつあるが、半田性に欠ける欠点がある。
この欠点はアモルファス合金の表面に強固な不動態化皮
膜が形成されているからであり、非晶質特有の合金構造
が半田性を阻害している。
膜が形成されているからであり、非晶質特有の合金構造
が半田性を阻害している。
しかし、アモルファス合金を電子材料として利用する場
合、端部を接続するときは半田性を持たす必要がある。
合、端部を接続するときは半田性を持たす必要がある。
アモルファス合金を接続するためには、圧着方法がある
が、接続効果は低く不安定であり、かりに強固な圧着が
可能であっても表面の不動態化皮膜が通電をさまたげる
。
が、接続効果は低く不安定であり、かりに強固な圧着が
可能であっても表面の不動態化皮膜が通電をさまたげる
。
また、アモルファス合金は脆いので曲げ加工が困難であ
り、曲げや、ねじりの方法による接続は破断するのでで
きない。
り、曲げや、ねじりの方法による接続は破断するのでで
きない。
その他、スポット溶接などの溶接法があるが、溶接個所
が高温度になるため、アモルファス合金の組成を変化さ
せ、アモルファス合金の持つ金属特性を失うので使用不
可能である。
が高温度になるため、アモルファス合金の組成を変化さ
せ、アモルファス合金の持つ金属特性を失うので使用不
可能である。
このため、半田付けを可能にするべく、アモルファス合
金へのメッキ法が種々研究されていたが、現在まだ成功
例を見ていない。
金へのメッキ法が種々研究されていたが、現在まだ成功
例を見ていない。
これはアモルファス合金特有の不動態化皮膜の除去と、
アモルファス合金中のシリコン、ボロンなどの処理法が
困難なことと、アモルファス合金開発の歴史が浅く研究
開発が広く行われていないことにも起因している。
アモルファス合金中のシリコン、ボロンなどの処理法が
困難なことと、アモルファス合金開発の歴史が浅く研究
開発が広く行われていないことにも起因している。
本発明は、アモルファス合金の素地を侵蝕することなく
、不動態化皮膜を完全に除去し、密着性の優れた金属メ
ッキを施すことを目的とする。
、不動態化皮膜を完全に除去し、密着性の優れた金属メ
ッキを施すことを目的とする。
上記目的は、塩酸（３５％溶液）１５〜２５容量％、硫
酸（８５％溶液）５〜１５容量％、クエン酸粉末５〜１
５重量％、酢酸（９０％溶液）０．５〜１．５容量％、
硝酸（６８％溶液）４〜６容量％、非イオンまたは両性
界面活性剤０．１−０．３重量％、アミン系腐蝕抑制剤
０．０５〜０．１５重量％を配合した酸性活性化浴を用
いてアモルファス合金を浸漬または電解処理する化学研
磨工程と、燐酸（８５％溶液）５〜１５容量％、硫酸（
８５％溶液）５〜１５容量％、クエン酸粉末５〜１５重
量％、酢酸（９０％溶液）０．５〜１．５容量％、非イ
オンまたは両性界面活性剤０．１〜０．３重量％、アミ
ン系腐蝕抑制剤０．０５〜銅、ニッケル、錫、亜鉛のう
ちの一種またはその合金を、活性化後のアモルファス合
金にメッキし半田性を付与することを特徴とするアモル
ファス合金のメッキ法によって達成される。
酸（８５％溶液）５〜１５容量％、クエン酸粉末５〜１
５重量％、酢酸（９０％溶液）０．５〜１．５容量％、
硝酸（６８％溶液）４〜６容量％、非イオンまたは両性
界面活性剤０．１−０．３重量％、アミン系腐蝕抑制剤
０．０５〜０．１５重量％を配合した酸性活性化浴を用
いてアモルファス合金を浸漬または電解処理する化学研
磨工程と、燐酸（８５％溶液）５〜１５容量％、硫酸（
８５％溶液）５〜１５容量％、クエン酸粉末５〜１５重
量％、酢酸（９０％溶液）０．５〜１．５容量％、非イ
オンまたは両性界面活性剤０．１〜０．３重量％、アミ
ン系腐蝕抑制剤０．０５〜銅、ニッケル、錫、亜鉛のう
ちの一種またはその合金を、活性化後のアモルファス合
金にメッキし半田性を付与することを特徴とするアモル
ファス合金のメッキ法によって達成される。
本発明における酸性活性化浴および陰極電解浴の配合組
成は、本発明者が数多くの実験と試行錯誤の結果発見し
たものであり、各成分の組合せによる相乗効果により所
期の効果を発揮するものである。すなわち、上記の諸条
件は本発明に必要不可欠の構成要件であり、各成分の添
加量の範囲外では、アモルファス合金表面の素地を侵蝕
することなく不動態化皮膜を完全に除去して、密着性に
優れた金属メッキを得ることは困難である。
成は、本発明者が数多くの実験と試行錯誤の結果発見し
たものであり、各成分の組合せによる相乗効果により所
期の効果を発揮するものである。すなわち、上記の諸条
件は本発明に必要不可欠の構成要件であり、各成分の添
加量の範囲外では、アモルファス合金表面の素地を侵蝕
することなく不動態化皮膜を完全に除去して、密着性に
優れた金属メッキを得ることは困難である。
アモルファス合金としては、−ｍに常用されるタイプの
もの、すなわち、（イ）鉄、コバルトおよびニッケルの
中から選ばれた少くとも一種の金属１０〜９５重量％、
（ロ）珪素、はう素、炭素、燐およびアルミニウムの中
から選ばれた少くとも一種の元素５〜７０重量％、なら
びにチタン、クロム、モリブデン、マンガン、ジルコニ
ウム、ネオジミウム、ハフニウム、タングステンおよび
ニオブの中から選ばれた少くとも一種の金属〇二３０重
量％からなるものを用いることができる。
もの、すなわち、（イ）鉄、コバルトおよびニッケルの
中から選ばれた少くとも一種の金属１０〜９５重量％、
（ロ）珪素、はう素、炭素、燐およびアルミニウムの中
から選ばれた少くとも一種の元素５〜７０重量％、なら
びにチタン、クロム、モリブデン、マンガン、ジルコニ
ウム、ネオジミウム、ハフニウム、タングステンおよび
ニオブの中から選ばれた少くとも一種の金属〇二３０重
量％からなるものを用いることができる。
以下、実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
スｍ
Ｆｅ４４．３％、Ｎｉ４４．２％、Ｍｏ７．９％、Ｂ３
．６％の合金組成で厚さ２７μｍ、幅２６ｍ、長さ１
、８００ ｍのフープ状のアモルファス合金を、次の工
程を経て銅メッキを行った。
．６％の合金組成で厚さ２７μｍ、幅２６ｍ、長さ１
、８００ ｍのフープ状のアモルファス合金を、次の工
程を経て銅メッキを行った。
■ 通常の方法によるトリクレン脱脂洗滌工程■ 通常
の方法によるアルカリ脱脂工程■ 化学研磨工程 続いて上記アモルファス合金のフープ材を、塩酸（３５
％溶液）２０容量％、硫酸（８５％溶液）１０容量％、
クエン酸（粉末）１０重量％、酢酸（９０％溶液）１容
量％及び硝酸（６８％溶液）５容量％よりなる混酸に、
ポリエチレングリコールアルキルエーテル、ポリエチレ
ングリコール脂肪酸エステルなどの非イオンまたはアミ
ノ酸類の両性界面活性剤０．２重量％及びアミン系腐蝕
抑制剤０．１重量％を加えた浴中を通過させ、該アモル
ファス合金フープ材表面の酸化物及び不純物を除去した
。
の方法によるアルカリ脱脂工程■ 化学研磨工程 続いて上記アモルファス合金のフープ材を、塩酸（３５
％溶液）２０容量％、硫酸（８５％溶液）１０容量％、
クエン酸（粉末）１０重量％、酢酸（９０％溶液）１容
量％及び硝酸（６８％溶液）５容量％よりなる混酸に、
ポリエチレングリコールアルキルエーテル、ポリエチレ
ングリコール脂肪酸エステルなどの非イオンまたはアミ
ノ酸類の両性界面活性剤０．２重量％及びアミン系腐蝕
抑制剤０．１重量％を加えた浴中を通過させ、該アモル
ファス合金フープ材表面の酸化物及び不純物を除去した
。
■ 電解活性化工程
燐酸（８５％溶液）１０容量％、硫酸（８５％溶液）１
０重量％、クエン酸（粉末）５重量％、酢酸（９０％溶
液）１重量％に、上記と同様の非イオンまたは両性界面
活性剤０．２重量％及び腐蝕抑制剤０．１重量％を加え
た浴を６０℃に加温し、アモルファス合金フープ材に（
−）電流を、チタン白金メツキ板に（＋）電流を通じ４
ボルトにセットして浴中を 以下余白 通過させてアモルファス合金フープ材の表面の活性化を
行った。
０重量％、クエン酸（粉末）５重量％、酢酸（９０％溶
液）１重量％に、上記と同様の非イオンまたは両性界面
活性剤０．２重量％及び腐蝕抑制剤０．１重量％を加え
た浴を６０℃に加温し、アモルファス合金フープ材に（
−）電流を、チタン白金メツキ板に（＋）電流を通じ４
ボルトにセットして浴中を 以下余白 通過させてアモルファス合金フープ材の表面の活性化を
行った。
■銅ストライクメッキ工程
硫酸銅２０ ｇ／ｌ、クエン酸９０９／ｌ。
クエン酸ソーダ９０９／ｌのメッキ浴中を６Ａ／Ｄ−の
電流密度で１０秒間メッキして０．０２〜０．０５μｍ
の銅メッキを得た。
電流密度で１０秒間メッキして０．０２〜０．０５μｍ
の銅メッキを得た。
■銅メッキ工程
硫酸銅１ａｏｇ／Ｊ、硫酸４５ｇ／ｌのメッキ浴中を２
Ａ／Ｄｍ”の電流密度で２分間メッキして約２μｍの銅
メッキを得た。
Ａ／Ｄｍ”の電流密度で２分間メッキして約２μｍの銅
メッキを得た。
実施例２
ＣＯ８６％、Ｆｅ６％、８ｉ５％、８５％の組成である
アモルファス合金線材で線径０．１５ｍ＋長さ５． Ｏ
ＯＯｍのボビン巻ｔ１製品を、次の工程を経て錫メッキ
を施した。
アモルファス合金線材で線径０．１５ｍ＋長さ５． Ｏ
ＯＯｍのボビン巻ｔ１製品を、次の工程を経て錫メッキ
を施した。
■■■φの各工程は実施例１と同じ方法によυ処理し、
アモルファス合金線材の表面活性化を行りた。
アモルファス合金線材の表面活性化を行りた。
■錫メッキ工程
硫酸第１錫４０１１′／ｌ、硫酸６０ Ｅｌ／ｌ。
ゼラチン２ｇ／ＩＩの浴で電流密度ｔ ５ Ａ／Ｄ＆で
錫メッキを３分間行った。
錫メッキを３分間行った。
その結果、ア七ルファス合金線の表面に１．５μｍの錫
メッキが施された。
メッキが施された。
実施例３
Ｆｅ９２％、ｓ、ｔ５．ｏ％、８５％の合金組成で厚さ
２７μｍｓ＠５０畷、長さ７００ｍのアモルファス合金
フープ材を次の工程を経てニッケルメッキを行った。
２７μｍｓ＠５０畷、長さ７００ｍのアモルファス合金
フープ材を次の工程を経てニッケルメッキを行った。
■■■■の各工程は、実施例１と同じ方法により処理し
、アモルファス合金フープ材の表面活性化を行った。
、アモルファス合金フープ材の表面活性化を行った。
■ニッケルストライクメッキ工程
スルファミン酸ニッケ／’５０９／ＩＩ、 （ｉｉｌＥ
［ニッケに５０９／ｌ、硼酸４０９／１３．クエン酸８
５９／ｌのメッキ浴中を６Ａ／Ｄｍ’の電流密度で１０
秒間メッキし、約０．０３μｍのニッケルメッキを施し
た。
［ニッケに５０９／ｌ、硼酸４０９／１３．クエン酸８
５９／ｌのメッキ浴中を６Ａ／Ｄｍ’の電流密度で１０
秒間メッキし、約０．０３μｍのニッケルメッキを施し
た。
■ニッケルメッキ工程
スルファミン酸ニッケル６００ｇ／ｌ、塩化ニッケ々５
Ｅｌ／ｌ、硼酸４０ ｇ／ｌのメッキ浴で陽極にニッ
ケル板をセットし、１０人／Ｄ−の電流密度でＳ分間メ
ッキした０その結果、アモルファス合金フープ材の表面
、に密着性に優れた約２μｍのニッケルメッキを得た。
Ｅｌ／ｌ、硼酸４０ ｇ／ｌのメッキ浴で陽極にニッ
ケル板をセットし、１０人／Ｄ−の電流密度でＳ分間メ
ッキした０その結果、アモルファス合金フープ材の表面
、に密着性に優れた約２μｍのニッケルメッキを得た。
実施例４
実施例３と同様のアモルファス合金フープ材の亜鉛メッ
キを行りた。
キを行りた。
■■■■の各工程は実施例１と同じ方法により処理し、
アモルファス合金フープ材の表面活性化を行りた。
アモルファス合金フープ材の表面活性化を行りた。
■亜鉛メッキ工程
硫酸アニン２４０９／１３．塩化アンモニウム１５９／
ｌ、硫酸アルミニウム５０１１／１の浴で電流密度２Ａ
／Ｄｒｒ？で５分間メッキを行った結果、アモルファス
合金フープ材の表面に約４μｍの亜鉛メッキが施された
。
ｌ、硫酸アルミニウム５０１１／１の浴で電流密度２Ａ
／Ｄｒｒ？で５分間メッキを行った結果、アモルファス
合金フープ材の表面に約４μｍの亜鉛メッキが施された
。
以上、４つの実施例によって得たメッキしたアモルファ
ス合金のメッキ密着性および半田性のテストは次の通り
であシ、優れたメッキ性であることが確認された。
ス合金のメッキ密着性および半田性のテストは次の通り
であシ、優れたメッキ性であることが確認された。
（Ｉ）剥離性
（イ）１８０°曲げテスト、０２）テープ剥離テスト、
（−、）４００℃、１０分間加熱後急冷テストを行りた
。その結果、３方法ともアモルファス合金よシメッキ層
の剥離は認められなかりた０ （ＩＩ）半田性 ソルダーテスト機でテストの結果、半田の濡れ性が極め
て良く、半田初期の半田表面張力による押し上げが殆ん
どみられなかった。
（−、）４００℃、１０分間加熱後急冷テストを行りた
。その結果、３方法ともアモルファス合金よシメッキ層
の剥離は認められなかりた０ （ＩＩ）半田性 ソルダーテスト機でテストの結果、半田の濡れ性が極め
て良く、半田初期の半田表面張力による押し上げが殆ん
どみられなかった。
また、錫６、鉛４の半田を２５０℃に溶融した半田槽中
に４つの実施例によりて得たメッキしたアモルファス合
金のフープ材および線材を浸漬したところ、すべて９５
％以上の半田のぬれ性を示した。
に４つの実施例によりて得たメッキしたアモルファス合
金のフープ材および線材を浸漬したところ、すべて９５
％以上の半田のぬれ性を示した。
アそル７アス合金は、メッキと半田が困難であるために
、その用途は主として磁気特性を利用した磁心に限られ
ていた。
、その用途は主として磁気特性を利用した磁心に限られ
ていた。
しかし、以上で説明したように、本発明の句浅によると
、アモルファス合金に対して、銅、ニッケル、錫、亜鉛
などの各種金属のメッキが可能となり、従って、半田性
が付与されるのでアモルファス合金が具備する磁気的特
性と、表層に電導性に冨んだ金属をメッキした新規の複
合材料として、従来不可能であった半田による結合はも
とより、アモルファス線材を織物状とすることなどが可
能となり、磁気的特性以外の特性をも活かした分野へ用
途が拡大できるから産業に寄与するところが大である。
、アモルファス合金に対して、銅、ニッケル、錫、亜鉛
などの各種金属のメッキが可能となり、従って、半田性
が付与されるのでアモルファス合金が具備する磁気的特
性と、表層に電導性に冨んだ金属をメッキした新規の複
合材料として、従来不可能であった半田による結合はも
とより、アモルファス線材を織物状とすることなどが可
能となり、磁気的特性以外の特性をも活かした分野へ用
途が拡大できるから産業に寄与するところが大である。
手続補正書（自発）
昭和６１年ｊ月８日
特許庁長官 宇 賀 道 部 殿
１、事件の表示
昭和６０年特許願第１２２号
２、発明の名称
アモルファス合金のメッキ方法
３、補正をする者
事件との関係 特許出願人
省１色小林正巳
４、代理人
住所 〒１０５東京都港区虎ノ門−丁目８番１０号６、
補正の内容 浄 書（内容に変更なし） ７、添付書類の目録
補正の内容 浄 書（内容に変更なし） ７、添付書類の目録
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 塩酸（３５％溶液）１５〜２５容量％、硫酸（８５％溶
液）５〜１５容量％、クエン酸粉末５〜１５重量％、酢
酸（９０％溶液）０．５〜１．５容量％、硝酸（６８％
溶液）４〜６容量％、非イオンまたは両性界面活性剤０
．１〜０．５重量％、アミン系腐蝕抑制剤０．０５〜０
．１５重量％を配合した酸性活性化浴を用いて、アモル
ファス合金を浸漬または電解処理する化学研摩工程と、 燐酸（８５％溶液）５〜１５容量％、硫酸（８５％溶液
）５〜１５容量％、クエン酸粉末５〜１５重量％、酢酸
（９０％溶液）０．５〜１．５容量％、非イオンまたは
両性界面活性剤０．１〜０．３重量％、アミン系腐蝕抑
制剤０．０５〜０．１５重量％を配合した陰極電解浴を
用いて上記ステンレス鋼帯を活性化する電解活性化工程
と、 その直後に銅、ニッケル、錫、亜鉛のうちの一種または
、その合金をメッキする工程と、よりなることを特徴と
するアモルファス合金のメッキ方法
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60000122A JPS61253384A (ja) | 1985-01-07 | 1985-01-07 | アモルフアス合金のメツキ方法 |
| EP85116675A EP0190465A3 (en) | 1985-01-07 | 1985-12-31 | Process for electroplating amorphous alloys |
| US06/816,534 US4652347A (en) | 1985-01-07 | 1986-01-06 | Process for electroplating amorphous alloys |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60000122A JPS61253384A (ja) | 1985-01-07 | 1985-01-07 | アモルフアス合金のメツキ方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61253384A true JPS61253384A (ja) | 1986-11-11 |
| JPH031394B2 JPH031394B2 (ja) | 1991-01-10 |
Family
ID=11465230
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60000122A Granted JPS61253384A (ja) | 1985-01-07 | 1985-01-07 | アモルフアス合金のメツキ方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4652347A (ja) |
| EP (1) | EP0190465A3 (ja) |
| JP (1) | JPS61253384A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63168037A (ja) * | 1986-12-29 | 1988-07-12 | Tanaka Electron Ind Co Ltd | 半導体材料の接続方法 |
| JP2011094199A (ja) * | 2009-10-30 | 2011-05-12 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 金属−金属ガラス複合材、電気接点部材および金属−金属ガラス複合材の製造方法 |
| CN112064006A (zh) * | 2020-09-23 | 2020-12-11 | 东莞长盈精密技术有限公司 | 铜制件的钝化方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5494760A (en) * | 1991-12-24 | 1996-02-27 | Gebrueder Sulzer Aktiengesellschaft | Object with an at least partly amorphous glass-metal film |
| JP3279353B2 (ja) * | 1992-09-25 | 2002-04-30 | ディップソール株式会社 | 錫−亜鉛合金電気めっき浴 |
| US5547484A (en) * | 1994-03-18 | 1996-08-20 | Sandia Corporation | Methods of making metallic glass foil laminate composites |
| US20040065555A1 (en) * | 2002-05-07 | 2004-04-08 | University Of Southern California | Conformable contact masking methods and apparatus utilizing in situ cathodic activation of a substrate |
| US20060154084A1 (en) * | 2005-01-10 | 2006-07-13 | Massachusetts Institute Of Technology | Production of metal glass in bulk form |
| DE102005055768A1 (de) * | 2005-11-21 | 2007-05-24 | Ralf Waldmann | Verfahren und Mittel zur elektrolytischen Reinigung und Entzunderung eines metallischen Werkstücks |
| US9175406B2 (en) | 2007-03-13 | 2015-11-03 | Tokoku University | Method of surface treatment for metal glass part, and metal glass part with its surface treated by the method |
| ES2340973T3 (es) * | 2008-02-29 | 2010-06-11 | Atotech Deutschland Gmbh | Baño basado en pirofosfato para la deposicion de capas de aleaciones de estaño. |
| US20120288335A1 (en) * | 2011-05-11 | 2012-11-15 | Rodney Green | Soil Stabilization Composition and Methods for Use |
| CN108251872B (zh) * | 2017-12-20 | 2019-12-06 | 宁波韵升股份有限公司 | 一种烧结钕铁硼磁体复合电镀方法 |
| RU2676719C1 (ru) * | 2018-02-14 | 2019-01-10 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт электрофизики Уральского отделения Российской академии наук | Способ низкотемпературного нанесения нанокристаллического покрытия из альфа-оксида алюминия |
| EP3930996B1 (en) * | 2019-02-28 | 2023-10-25 | Circuit Foil Luxembourg | Composite copper foil and method of fabricating the same |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3726773A (en) * | 1971-08-02 | 1973-04-10 | Us Army | Surface preparation of maraging steel for electroplating |
| US4422906A (en) * | 1981-09-17 | 1983-12-27 | Masami Kobayashi | Process for direct gold plating of stainless steel |
| JPS6047913B2 (ja) * | 1981-11-18 | 1985-10-24 | 正己 小林 | ステンレス鋼に直接金メツキを施す方法 |
| JPS5857520B2 (ja) * | 1982-08-25 | 1983-12-20 | 正巳 小林 | 電子部品用ステンレス鋼帯の金メッキ方法 |
-
1985
- 1985-01-07 JP JP60000122A patent/JPS61253384A/ja active Granted
- 1985-12-31 EP EP85116675A patent/EP0190465A3/en not_active Withdrawn
-
1986
- 1986-01-06 US US06/816,534 patent/US4652347A/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63168037A (ja) * | 1986-12-29 | 1988-07-12 | Tanaka Electron Ind Co Ltd | 半導体材料の接続方法 |
| JPH0565051B2 (ja) * | 1986-12-29 | 1993-09-16 | Tanaka Electronics Ind | |
| JP2011094199A (ja) * | 2009-10-30 | 2011-05-12 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 金属−金属ガラス複合材、電気接点部材および金属−金属ガラス複合材の製造方法 |
| CN112064006A (zh) * | 2020-09-23 | 2020-12-11 | 东莞长盈精密技术有限公司 | 铜制件的钝化方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0190465A2 (en) | 1986-08-13 |
| JPH031394B2 (ja) | 1991-01-10 |
| US4652347A (en) | 1987-03-24 |
| EP0190465A3 (en) | 1987-08-26 |
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