JPS61166986A - 金属メツキを施したアモルフアス合金 - Google Patents
金属メツキを施したアモルフアス合金Info
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- JPS61166986A JPS61166986A JP493285A JP493285A JPS61166986A JP S61166986 A JPS61166986 A JP S61166986A JP 493285 A JP493285 A JP 493285A JP 493285 A JP493285 A JP 493285A JP S61166986 A JPS61166986 A JP S61166986A
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- Japan
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- plating
- alloy
- acid
- amorphous alloy
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F3/00—Brightening metals by chemical means
- C23F3/04—Heavy metals
- C23F3/06—Heavy metals with acidic solutions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Coating With Molten Metal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、金属メッキが困難なアモルファス合金に密着
性に優れた各種金属をメッキし、新規な複合材料とした
アモルファス合金に関するものである。
性に優れた各種金属をメッキし、新規な複合材料とした
アモルファス合金に関するものである。
アモルファス合金は、従来の金属材料では得られないす
ぐれた性質を数多く有している合金で、高い透磁率およ
び高硬度などは今迄の結晶合金には見られない物性を持
つ新素材である。
ぐれた性質を数多く有している合金で、高い透磁率およ
び高硬度などは今迄の結晶合金には見られない物性を持
つ新素材である。
従って、この合金はその特性から電気関係の材料として
広範囲に利用される要素を内蔵している。
広範囲に利用される要素を内蔵している。
しかし、アモルファス合金は非結晶のガラスに似た結晶
構造のために合金表面は一般の金属とは異なシ、不動態
化皮膜が存在すると共にシリコンやボロンなどの半金属
を含んでいるため特殊な表面状態となりている。このた
め、この合金に金属メッキを施すことは困難であり、今
迄メッキを施す研究は種々行なわれたが成功例は見当ら
ない。
構造のために合金表面は一般の金属とは異なシ、不動態
化皮膜が存在すると共にシリコンやボロンなどの半金属
を含んでいるため特殊な表面状態となりている。このた
め、この合金に金属メッキを施すことは困難であり、今
迄メッキを施す研究は種々行なわれたが成功例は見当ら
ない。
従りて、アモルファス合金の用途は、優れた緒特性を有
しているにも拘わらず、磁気特性を利用した磁心に限ら
れているのが現状である。
しているにも拘わらず、磁気特性を利用した磁心に限ら
れているのが現状である。
本発明者は、アモルファス合金の欠点である半田性のな
いこと、および高靭性のために加工性に欠ける点を改良
すれば、この合金の利用範囲は一気に拡大するものであ
り、新規な複合材料として広範囲に応用される材料とな
るとの知見に基づき本発明を完成した。
いこと、および高靭性のために加工性に欠ける点を改良
すれば、この合金の利用範囲は一気に拡大するものであ
り、新規な複合材料として広範囲に応用される材料とな
るとの知見に基づき本発明を完成した。
ところが、アモルファス合金へのメッキは極めて困難で
ある。その第１の理由は、この合金の表面に不動態化皮
膜が存在しており、この皮膜除去が必要であるが、この
皮膜は除去しても急速に再発生する性質を持っている。
ある。その第１の理由は、この合金の表面に不動態化皮
膜が存在しており、この皮膜除去が必要であるが、この
皮膜は除去しても急速に再発生する性質を持っている。
第２の理由は、この合金中に含まれるシリコン、ボロン
または炭素などの半金属が、一般金属と異なった表面状
態を形成しており、電導性を阻害するのでメッキ作業時
の通電効率が極めて悪いことである。
または炭素などの半金属が、一般金属と異なった表面状
態を形成しており、電導性を阻害するのでメッキ作業時
の通電効率が極めて悪いことである。
第５の理由は、アモルファス合金は非晶質であたかもガ
ラスに似た結晶構造であり、一般の結晶合金と異なり、
メッキ作業時における発生機の水素原子が°合金中に侵
入し易い構造となっており、水素脆性を起こし易い合金
なので、メッキ作業時に水素脆性を防止する処置をとる
必要がある。
ラスに似た結晶構造であり、一般の結晶合金と異なり、
メッキ作業時における発生機の水素原子が°合金中に侵
入し易い構造となっており、水素脆性を起こし易い合金
なので、メッキ作業時に水素脆性を防止する処置をとる
必要がある。
本発明者は、上記のようなメッキの困難なアモルファス
合金に密着性に優れ、水素脆性を起こさないメッキ方法
を発見し、半田性を有し、加工性に富んだアモルファス
合金の複合新材料を発明した。
合金に密着性に優れ、水素脆性を起こさないメッキ方法
を発見し、半田性を有し、加工性に富んだアモルファス
合金の複合新材料を発明した。
この目的とするアモルファス合金へのメッキ方法は次の
通りであり、メッキ前の活性化は水素脆性を起こさない
活性化浴である。
通りであり、メッキ前の活性化は水素脆性を起こさない
活性化浴である。
すなわち、塩酸（３５％溶液）１５〜２５容量チ、硫酸
（８５％溶液）５〜１５容量チ、クエン酸粉末５〜１５
重量％、酢酸（９０チ溶液）０．５〜１．５容量チ、硝
酸（６８ｑｂ溶液）４〜６容量チ、非イオンまたは両性
界面活性剤０．１〜０．３重量％、Ｎ−アルキル・トリ
メチレン・ジアミン０．０５〜０．１５重量％を配合し
た酸性活性化浴を用いてアモルファス合金を浸漬または
電解処理する化学器・摩工程と、燐酸（８５％溶液）５
〜１５容量チ、硫酸（８５％溶液）５〜１５容量チ、ク
エン酸粉末５〜１５重量％、酢酸（９０チ溶液）０．５
〜１．５容量チ、非イオンまたは両性界面活性剤０．１
〜０．３重量％、アミン系腐蝕抑制剤０．０５〜０．１
５重量％を配合した陰極電解浴を用いて、上記アモルフ
ァス合金を活性化する電解活性化工程とによって、アモ
ルファス合金表面の活性化を行なう。
（８５％溶液）５〜１５容量チ、クエン酸粉末５〜１５
重量％、酢酸（９０チ溶液）０．５〜１．５容量チ、硝
酸（６８ｑｂ溶液）４〜６容量チ、非イオンまたは両性
界面活性剤０．１〜０．３重量％、Ｎ−アルキル・トリ
メチレン・ジアミン０．０５〜０．１５重量％を配合し
た酸性活性化浴を用いてアモルファス合金を浸漬または
電解処理する化学器・摩工程と、燐酸（８５％溶液）５
〜１５容量チ、硫酸（８５％溶液）５〜１５容量チ、ク
エン酸粉末５〜１５重量％、酢酸（９０チ溶液）０．５
〜１．５容量チ、非イオンまたは両性界面活性剤０．１
〜０．３重量％、アミン系腐蝕抑制剤０．０５〜０．１
５重量％を配合した陰極電解浴を用いて、上記アモルフ
ァス合金を活性化する電解活性化工程とによって、アモ
ルファス合金表面の活性化を行なう。
この活性化液中のＮ−アルキル・トリメチレン・ジアミ
ンはアモルファス合金表面の不動態化皮膜が除去される
と急速に素地表面に単分子皮膜を形成し、水素原子の素
地への侵入を防ぎ水素脆性の原因を作らず、同時に酸が
素地を侵食する、いわゆる酸洗過多も防止する効果があ
る０ 上記の酸による活性化でアモルファス合金表面の不動態
化皮膜のみが完全に除去され、メッキ金属の密着し易い
表面状態となる。
ンはアモルファス合金表面の不動態化皮膜が除去される
と急速に素地表面に単分子皮膜を形成し、水素原子の素
地への侵入を防ぎ水素脆性の原因を作らず、同時に酸が
素地を侵食する、いわゆる酸洗過多も防止する効果があ
る０ 上記の酸による活性化でアモルファス合金表面の不動態
化皮膜のみが完全に除去され、メッキ金属の密着し易い
表面状態となる。
ちなみに、アモルファス合金の組成により活性化の難易
があり、鉄主体の合金は活性化が容易で、従ってメッキ
も比較的容易であるが、コバルト主体でシリコン、ボロ
ンなどが大量台まれた組成のものは活性化もメッキも難
しい。
があり、鉄主体の合金は活性化が容易で、従ってメッキ
も比較的容易であるが、コバルト主体でシリコン、ボロ
ンなどが大量台まれた組成のものは活性化もメッキも難
しい。
上記活性化工程を経て、メッキ工程に移るが、メッキ方
法は大別して以下の３種類の方法がある０ ■電解メツキにより１μｍ以下の金属メッキを行ない、
このメッキの後、溶融半田の中を浸漬通過させ半田メッ
キを施す方法 ■電解メッキで極薄金属メッキを施し、その後で無電解
メッキにより厚づけメッキを行なう方法 ■無電解による金属メッキ方法 以下、実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
法は大別して以下の３種類の方法がある０ ■電解メツキにより１μｍ以下の金属メッキを行ない、
このメッキの後、溶融半田の中を浸漬通過させ半田メッ
キを施す方法 ■電解メッキで極薄金属メッキを施し、その後で無電解
メッキにより厚づけメッキを行なう方法 ■無電解による金属メッキ方法 以下、実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例１
Ｆｅ４４．５９ｂ、Ｎｉ４４．２％、Ｍｏ７．９％、Ｂ
３．６−の合金組成り厚さ２７μｍ１幅２５ｍＭ、長さ
１．８００ ｍの７−プ状のアモルファス合金を、次の
工程を経て銅メッキを行なった。
３．６−の合金組成り厚さ２７μｍ１幅２５ｍＭ、長さ
１．８００ ｍの７−プ状のアモルファス合金を、次の
工程を経て銅メッキを行なった。
■通常の方法によるトリクレン脱脂洗滌工程０適常の方
法によるアルカリ脱脂工程 ■化学研摩工程 続いて上記アモルファス合金のフープ材を、塩酸１５％
溶液）２０容量チ、硫酸（８５。
法によるアルカリ脱脂工程 ■化学研摩工程 続いて上記アモルファス合金のフープ材を、塩酸１５％
溶液）２０容量チ、硫酸（８５。
チ溶液）１０容量チ、クエン酸（粉末）１０重量％、酢
酸（９０チ溶液）１容量チおよび硝酸（６８％溶液）５
容量チよりなる混酸に、ホリエチレンクリコールアルキ
ルエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステルな
どの非イオンまたはアミノ酸類の両性界面活性剤０．２
重量％およびＮ−アルキル・トリメチレン・ジアミン０
．１重量％を加えた浴中を通過させ、該アモルファス合
金フープ材表面の酸化物および不純物を除去した。
酸（９０チ溶液）１容量チおよび硝酸（６８％溶液）５
容量チよりなる混酸に、ホリエチレンクリコールアルキ
ルエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステルな
どの非イオンまたはアミノ酸類の両性界面活性剤０．２
重量％およびＮ−アルキル・トリメチレン・ジアミン０
．１重量％を加えた浴中を通過させ、該アモルファス合
金フープ材表面の酸化物および不純物を除去した。
■電解活性化工程
燐酸（８５チ溶液）１０容量チ、硫酸（８５チ溶液）１
０重量％、クエン酸（粉末）５重量％、酢酸（９０チ溶
液）１重量％に、上記と同様の非イオンまだは両性界面
活性剤０．２重量％および腐蝕抑制剤０．１重量％を加
えた浴を６０℃に加温し、アモルファス合金フープ材に
（−）電流を、チタン白金メツキ板に（＋）電流を通じ
４ポルトにセットして浴中を通過させてアモルファス合
金フープ材の表面の活性化を行なりた。
０重量％、クエン酸（粉末）５重量％、酢酸（９０チ溶
液）１重量％に、上記と同様の非イオンまだは両性界面
活性剤０．２重量％および腐蝕抑制剤０．１重量％を加
えた浴を６０℃に加温し、アモルファス合金フープ材に
（−）電流を、チタン白金メツキ板に（＋）電流を通じ
４ポルトにセットして浴中を通過させてアモルファス合
金フープ材の表面の活性化を行なりた。
■銅メッキ工程
硫酸銅５０ ｇ／ｌ、クエン酸９０ ｆｊ／ｌ１１クエ
ン酸ソーダ９０ ｇ／ｌのメッキ浴中を６Ａ／Ｄｒｒ？
の電流密度で２０秒間メッキして０．３μｍの銅メッキ
を得た。
ン酸ソーダ９０ ｇ／ｌのメッキ浴中を６Ａ／Ｄｒｒ？
の電流密度で２０秒間メッキして０．３μｍの銅メッキ
を得た。
実施例２
Ｃｏ ８６％、Ｆｅ６％、Ｓｉ５％、８３％の組成のア
モルファス線材で、線径０．１５ ｒｔｔｘ、長さ５、
０００ ｍのボビン巻き製品を、次の工程を経て錫メッ
キを施した。
モルファス線材で、線径０．１５ ｒｔｔｘ、長さ５、
０００ ｍのボビン巻き製品を、次の工程を経て錫メッ
キを施した。
■■■■の各工程は実施例１と同じ方法により処理し、
アモルファス合金線材の表面活性化を行なった。
アモルファス合金線材の表面活性化を行なった。
■錫メッキ工程
硫酸第１錫４０ｇ／１３、硫酸６０ ｇ／１２゜ゼラチ
ン２９／ｌの浴で電流密度２．５Ａ／Ｄｍ”で錫メッキ
を２０秒間行なった。
ン２９／ｌの浴で電流密度２．５Ａ／Ｄｍ”で錫メッキ
を２０秒間行なった。
その結果、アモルファス合金線の表面に０．２μｍの錫
メッキが施された。
メッキが施された。
上記実施例１および２の銅メッキしたフープ材と錫メッ
キを施した線材を次の方法によシ浸漬半田メッキを施し
た。
キを施した線材を次の方法によシ浸漬半田メッキを施し
た。
錫６、鉛４の半田を幅２００ｍ、長さ５００■、深さ１
００曝の半田槽中に溶融し、約２５０℃にセットし、前
記アモルファス合金フープ材および線材を送り側にセッ
トし、溶融半田槽の半田中を５００１１Ｉｌｌ／秒の速
度で通過させ巻き取った０ その結果、下地に銅メッキを施したフープ材には約７μ
ｍの半田メッキが得られ、錫メッキを施した線材には約
４μｍの半田メッキが得られた。
００曝の半田槽中に溶融し、約２５０℃にセットし、前
記アモルファス合金フープ材および線材を送り側にセッ
トし、溶融半田槽の半田中を５００１１Ｉｌｌ／秒の速
度で通過させ巻き取った０ その結果、下地に銅メッキを施したフープ材には約７μ
ｍの半田メッキが得られ、錫メッキを施した線材には約
４μｍの半田メッキが得られた。
このようにして得た下地に銅メッキまたは錫メッキの上
に溶融半田メッキを施した半田の密着性は極めて良好な
合金層を下地金属と形成していることが断面の顕微鏡観
察により認められた。
に溶融半田メッキを施した半田の密着性は極めて良好な
合金層を下地金属と形成していることが断面の顕微鏡観
察により認められた。
実施例６
Ｆｅ９２％、５ｉｓｓ、８５％の合金組成で、厚さ２７
μｍ１幅５０ｍ＋＋、長さ７００ｍのアモルファス合金
フープ材を次の工程を経てニッケルメッキを行なった。
μｍ１幅５０ｍ＋＋、長さ７００ｍのアモルファス合金
フープ材を次の工程を経てニッケルメッキを行なった。
■■■■の各工程は実施例１と同じ方法により処理し、
アモルファス合金フープ材の表面活性化を行なった。
アモルファス合金フープ材の表面活性化を行なった。
■ニッケルメッキ工程
スルフアミノ酸ニッケル５０ｆｉ／ｌ、 硫酸ニッケル
５０１／ｌ、硼酸４０９／１３、クエン酸４５９／ｌの
メッキ浴中を６Ａ／Ｄｒｒ？の電流密度で３０秒間メッ
キし、約０．４μｍのニッケルメッキを施した。
５０１／ｌ、硼酸４０９／１３、クエン酸４５９／ｌの
メッキ浴中を６Ａ／Ｄｒｒ？の電流密度で３０秒間メッ
キし、約０．４μｍのニッケルメッキを施した。
上記実施例１の銅メッキを施したアモルファス合金フー
プ材および実施例３のニッケルメッキを施したフープ材
に次の方法により無電解メッキを施し、銅およびニッケ
ルの厚づけメッキを行なった。
プ材および実施例３のニッケルメッキを施したフープ材
に次の方法により無電解メッキを施し、銅およびニッケ
ルの厚づけメッキを行なった。
無電解銅メッキ
硫酸銅１５ｆｊ／ｌ、ロッシェル塩６０ｇ／ｌｌ。
水酸化ナトリウム’１５ｇ／１３．アルギン酸ナトリウ
ム２９／ｌのメッキ浴で前記、銅メッキを施したアモル
ファス合金フープ材を浸漬通過させ１０分間で約３μｍ
の銅メッキを得た。
ム２９／ｌのメッキ浴で前記、銅メッキを施したアモル
ファス合金フープ材を浸漬通過させ１０分間で約３μｍ
の銅メッキを得た。
無電解ニッケルメッキ
塩化ニッケル５０ｇ／ｌ、次亜りん酸ナトリラム１０ｇ
／１．．クエン酸ナトリウム１０ｇ／ｇのメッキ浴で、
前記、ニッケルメッキを施したフープ材を浸漬通過させ
５分間で約３μｍのニッケルメッキを得た。
／１．．クエン酸ナトリウム１０ｇ／ｇのメッキ浴で、
前記、ニッケルメッキを施したフープ材を浸漬通過させ
５分間で約３μｍのニッケルメッキを得た。
実施例４
実施例１と同じアモルファス合金フープ材を次の工程を
経て無電解銅メッキを行なった。
経て無電解銅メッキを行なった。
■■■■の各工程は実施例１と同じ方法により処理し、
アモルファス合金フープ材の表面活性化を行なった。
アモルファス合金フープ材の表面活性化を行なった。
■無電解銅メッキ工程
硫酸銅５０ｇ／ｌ、炭酸ソーダ２５ ｇ／ｌ、ロッシェ
ル塩１４０ｇ／７３．水酸化ナトリウム４０ｇ／ｌ、ホ
ルマリン１６０ｇ／１３のメッキ浴で上記フープ材を浸
漬通過させてメッキを行ない、８分間で約６μｍの銅メ
ッキを得た。
ル塩１４０ｇ／７３．水酸化ナトリウム４０ｇ／ｌ、ホ
ルマリン１６０ｇ／１３のメッキ浴で上記フープ材を浸
漬通過させてメッキを行ない、８分間で約６μｍの銅メ
ッキを得た。
実施例５
実施例２と同様のアモルファス合金線材を次の工程を経
て鉛の無電解メッキを行なった。
て鉛の無電解メッキを行なった。
■■■■の各工程は実施例１と同じ方法により処理し、
アモルファス線材の表面活性化を行なった。
アモルファス線材の表面活性化を行なった。
■無電解メッキ工程
一酸化鉛８ ｇ／ｌ、シアン化ソーダ１００ｇ／ｌのメ
ッキ浴で上記アモルファス線材を浸漬通過させ、５分間
で約０．７μｍの鉛メッキを得た。
ッキ浴で上記アモルファス線材を浸漬通過させ、５分間
で約０．７μｍの鉛メッキを得た。
以上説明したように、水素脆性を起こさないのでアモル
ファス合金の物性を変化させず、この合金の欠点である
半田性を付与し、更に合金表層に電導性に富んだ金属メ
ッキを施した複合新材料としてのアモルファス合金の用
途は急速に拡大する可能性を得た。
ファス合金の物性を変化させず、この合金の欠点である
半田性を付与し、更に合金表層に電導性に富んだ金属メ
ッキを施した複合新材料としてのアモルファス合金の用
途は急速に拡大する可能性を得た。
即ち、アモルファス線材に関しては、各種センサー高周
波同軸ケーブルの芯線、各種巻線、電磁波防止ネットな
どの応用分野が開け、ツー １ ニブ材に関しても磁
気ヘッド、ノイズフィルター、スイッチングレギュレー
ター、その他高周波関係への応用が可能となり、産業に
寄与するところが犬である。
波同軸ケーブルの芯線、各種巻線、電磁波防止ネットな
どの応用分野が開け、ツー １ ニブ材に関しても磁
気ヘッド、ノイズフィルター、スイッチングレギュレー
ター、その他高周波関係への応用が可能となり、産業に
寄与するところが犬である。
Claims (1)
- 金属メッキを施し、半田性と加工性を付与したことを特
徴とするアモルファス合金
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP493285A JPS61166986A (ja) | 1985-01-17 | 1985-01-17 | 金属メツキを施したアモルフアス合金 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP493285A JPS61166986A (ja) | 1985-01-17 | 1985-01-17 | 金属メツキを施したアモルフアス合金 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61166986A true JPS61166986A (ja) | 1986-07-28 |
Family
ID=11597354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP493285A Pending JPS61166986A (ja) | 1985-01-17 | 1985-01-17 | 金属メツキを施したアモルフアス合金 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61166986A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4749625A (en) * | 1986-03-31 | 1988-06-07 | Hiraoka & Co., Ltd. | Amorphous metal laminate sheet |
| JPH0649613A (ja) * | 1992-07-02 | 1994-02-22 | Nippon Alum Co Ltd | めっき処理方法 |
| WO1998033951A1 (en) * | 1997-01-31 | 1998-08-06 | Taylor James M | Composition and method for priming substrate materials |
| WO1999032683A1 (de) * | 1997-12-19 | 1999-07-01 | Sms Demag Ag | Verfahren zur herstellung eines bandförmigen metallischen verbundwerkstoffes durch hochtemperatur-tauchbeschichten |
| US6174561B1 (en) | 1998-01-30 | 2001-01-16 | James M. Taylor | Composition and method for priming substrate materials |
| US6555170B2 (en) | 1998-01-30 | 2003-04-29 | Duratech Industries, Inc. | Pre-plate treating system |
-
1985
- 1985-01-17 JP JP493285A patent/JPS61166986A/ja active Pending
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| US6174561B1 (en) | 1998-01-30 | 2001-01-16 | James M. Taylor | Composition and method for priming substrate materials |
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