JPS5857520B2 - 電子部品用ステンレス鋼帯の金メッキ方法 - Google Patents

電子部品用ステンレス鋼帯の金メッキ方法

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JPS5857520B2
JPS5857520B2 JP14607782A JP14607782A JPS5857520B2 JP S5857520 B2 JPS5857520 B2 JP S5857520B2 JP 14607782 A JP14607782 A JP 14607782A JP 14607782 A JP14607782 A JP 14607782A JP S5857520 B2 JPS5857520 B2 JP S5857520B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規な電子部品用ステンレス鋼帯の金メツキ
方法に関するもので、従来の銅合金筐たはニッケル合金
の電子部品用帯材(フープ)に比し、廉価でしかも剛性
、ばね性、耐熱性に優れ、筐た耐蝕性に関しても不銹鋼
と称せられるように腐蝕しにくく、會た電気特性及び半
田性に優れた新規な電子部品用ステンレス鋼帯の金メツ
キ方法に関するものである。
従来の電子部品用帯材(フープ)としては主として燐青
銅、洋白、ベリリューム鋼及びニッケル合金が用いられ
ていたが、剛性に欠け、耐蝕性が悪く、またばね性に劣
る等の欠点があった。
このために銅及びニッケル合金による電子部品は、軽量
、小型化を追及する現在の電子機器の部品として最少限
の厚み迄到達しているが、これ以上の小型軽量化は機械
的に要求される性能上困難な状態にある。
普た、銅合金にも金メッキをすることが知られているが
、銅合金上に金メッキをする場合は金が素地の銅合金に
拡散するので、拡散分を見越して金メッキ層を厚くする
か、lたはこれを防ぐために予めニッケルの下地メッキ
をする等の対策が施される。
しかし、ニッケルを下地メッキする対策では、工程が増
えてコスト高となるばかりでなく、特に性能上音響機器
及び高周波器の部品の場合、ニッケルの磁性のために好
渣しくない。
本発明者は、安価にして且つ剛性、ばね性及び耐熱性が
高り、會た電子部品として要求される電気特性、半田性
に優れたステンレス鋼帯を提供すべく長期間に亘り研究
の結果、直接金メッキしたステンレス鋼帯が従来の銅合
金及びニッケル合金と比べ極めて優れた電子部品を製作
できる鋼帯であることを見出し、この知見に基づいて本
発明を完成した。
すなわち本発明は、薄いステンレス鋼帯に直接金メッキ
するための電子部品用ステンレス鋼帯の金メツキ方法に
関するものである。
本発明で金メッキする薄いステンレス鋼帯は、その厚さ
は0.06〜0.2mmで、巾は5〜80rIrInの
ものが好1しく、金メッキの厚さは0.3〜2.0μ、
好tL<は0.5〜1.0μである。
一般にステンレス鋼はその表面に不働態化皮膜が形成さ
れているためにメッキすることが難しい。
従って、所期の金メッキを施すには、予め、この不働態
化皮膜は完全に除去するが、ステンレス鋼帯自体の素地
を侵蝕しないように注意してステンレス鋼帯の表面清浄
化を行なわなければならない。
本発明は、ステンレス鋼帯の素地を侵蝕することなく、
不働態化皮膜を完全に除去し、密着性の優れた金メッキ
を施すことを目的として、以下の如き処理を行なうこと
を特徴とするものである。
すなわち、塩酸(35多溶液)15〜25容量転硫酸(
85饅溶液)5〜15容量転 クエン酸粉末5〜15重
量も酢酸(90%溶1)0.5〜1.5容量転硝酸(6
8饅溶液4〜6容量φ、非イオンまたは両性界面活性剤
0.1〜0.3重量%、アミン系腐蝕抑性剤0.05〜
0.15重量%を配合した酸性活性化浴を用いてステン
レス鋼帯を浸漬処理する化学研摩工程と、燐酸(85多
溶液)5〜15容量多、硫酸(85多溶液)5〜15容
量先ク工ン酸粉末5〜15重量先酢酸(90%溶液)0
.5〜1.5容量宏非イオンまたは両性界面活性剤0.
1〜0.3重量%、アミン系腐蝕抑制剤0.05〜0.
15重量%を配合した陰極電解浴を用いて、上記ステン
レス鋼帯を活性化する電解活性化工程と、酸性金メッキ
浴により上記ステンレス鋼帯に直接金メッキを施す工程
とよりなることを特徴とする電子部品用ステンレス銅帯
の金メツキ方法である。
本発明における酸性活性化浴および陰極電解浴の配合組
成は、本発明者が数多くの実験と試行錯誤の結果発見し
たものであり、各成分の組合せによる相乗効果により目
的の効果を発揮するものである。
従って、上記の諸条件は本発明に必要不可欠の構成要件
であり、各成分の併用とその添加量の範囲以外では、ス
テンレス鋼帯表面の素地を侵蝕することなく不働態化皮
膜を完全に除去して、密着性に優れた直接金メッキを得
ることは困難である。
なお、以下本発明でいう金メッキは純金メッキに限るこ
となく、金−ニッケル合金メッキ、金−コバルト合金メ
ッキなどの合金メッキをも含み、メッキ工業の分野で一
般に呼称する金メッキを意味している。
ここで使用する酸性金メッキ浴としては、純金メッキ浴
以外にメッキ層の硬度を高める目的をもって、微量のニ
ッケルまたはコア<ルトを添加した合金メッキ浴も使用
することができる。
以下、実施例″f:あげて本発明を具体的に説明するが
、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例 1 ■ マスキング工程 厚さ0.12%、巾21%のステンレス鋼帯の片側のみ
を金メッキするために、脱脂工程に入る前に耐酸、耐ア
ルカリ性に富んだ樹脂テープをステンレス鋼帯の送り出
しに合せて片側にローラーで圧着し、メッキの際に片側
のみ金メッキを可能とするテープによるマスキング工程
を行なった。
■ 脱脂工程 市販されているアルカリ脱脂肢をステンレス槽中で70
〜80℃に加温し、上記ステンレス鋼帯を逐次この槽中
全通過させて一次脱脂を行ない、次に40〜60℃のア
ルカリ浴中でステンレス鋼板を陽極とし該ステンレス鋼
帯を陰極として6ボルトの電圧を印加して直流電解脱脂
を行なった。
■化学研摩工程 続いて該ステンレス鋼帯を、塩酸(35%溶液)20容
量俤、硫酸(85%溶液)10容量優、クエン酸(粉末
)io重量係、酢酸(90多溶液)1容量俤及び硝酸(
68%溶gJL)5容量悌よりなる混酸に、ポリエチレ
ングリコールアルキルエテール、ポリエチレングリコー
ノ圃旨肪酸エステルなどの非イオン渣たはアミノ酸類の
両性界面活性剤0.2重量%及びアミン系腐蝕抑制剤(
例えばライオンアーマ社製アーモヒブ28)0.1重量
%を加えた浴に600ワツトの超音波を照射しながら通
過させ、該ステンレス鋼帯表面の酸化物及び不純物を除
去した。
■ 電解活性化工程 燐酸(85係溶液)10容量先硫酸(85饅溶液)10
容量係、クエン酸(粉末)5重量%、酢酸(90%溶液
)1容量優に、上記と同様の非イオンまたは両性界面活
性剤0.2重量%及び腐蝕抑制剤0.1重量%を加えた
浴金60℃に加温し、ステンレス鋼帯に(−)電流を、
チタン白金メッキ板に(−1−)電流を通じ4ボルトに
セットして浴中を通過させてステンレス鋼帯の表面の活
性化を行なった。
■ 金メツキ工程 クエン酸120r/7. クエン酸ソーダ120t7t
、スルファミン酸ニッケル30 t/l。
シアン化金力IJ8//lのメッキ浴中で電流密度5A
/D??Z2〜lA/Drr?の範囲でメッキ液温27
℃で、ステンレス鋼帯に(−)電流を、チタン白金メツ
キ板に(ト)電流を通じ5分間金メッキを行なった。
その結果、ステンレス鋼帯の片側に1μの厚さの金メッ
キ層が形成さへ本発明のステンレス鋼帯が得られた。
実施例 2 ■ マスキング工程 厚さ0.1%、巾36%のステンレス鋼帯の片側に巾3
%と4%の金の縞状部分メッキを施すために、ステンレ
ス鋼帯の金メッキを施さない面側には予め耐薬品性に優
れた塗料を塗布し、乾燥後巻き状としてメッキ装置にセ
ットした。
次に脱脂工程に入る前に実施例1と同種の樹脂テープを
ローラーで圧着すると同時に4枚のカッターを所定の寸
法位置にセットし、巾3′Aと4%の金メッキができる
ようにテープを切り込んでこの分のテープを捨て、ステ
ンレスの素地金露出させた。
■ 脱脂工程 実施例1と同様にして行なった。
■ 化学研摩工程 実施例1と同様にして行なった。
■ 電解活性化工程 実施例1と同様にして行なった。
■ 金メツキ工程 クエン酸1201/l、クエン酸ソーダ120?/ t
、スルファミン酸ニッケル301?/l。
シアン化金カリ82/lのメッキ浴中で電流密度5A/
D??Z2〜I A/Drr?の範囲でメッキ液温27
℃で、ステンレス鋼帯に(−)電流をチタン白金メツキ
板に(−)−)電流を通じ3分間金メッキを行なつ丸 その結果、ステンレス銅帯の片側に巾3%と4%の縞状
の0.5μの厚さの金メッキが施された本発明のステン
レス鋼帯が得られた。
実施例 3 ■ マスキング工程 実施例2と同じ厚さ、巾のステンレス鋼帯の片側に金を
直径5調の円形に、かつこの円形が千鳥状に配置するよ
うに部分メッキするために、実施例1と同種の樹脂テー
プを用いて上記円形部以外の部分をマスキングした。
■ 脱脂工程 実施例1と同様にして行なった。
■ 化学研摩工程 実施例1と同様にして行なった。
■電解活性化工程 実施例1と同様に行なった。
■ 金メツキ工程 実施例1と同様にして行なった。
その結果、ステンレス鋼帯の片側に直径5mの円形が千
鳥状に配置した0、5μの厚さの部分金メッキが形成さ
ね本発明のステンレス鋼帯が得られた。
なお、本発明でこの実施例のような部分金メッキを施す
場合、部分メッキ部は直径で1〜7rrrIn程度の大
きさに施されることが多い0 実施例 4 ■ マスキング工程 実施例1と同様にして行なつ九 ■ 脱脂工程 実施例1と同様にして行なつ九 ■ 化学研摩工程 実施例1と同様にして行なった。
■ 電解活性化工程 実施例1と同様にして行なった。
■ 金メツキ工程 酸性純金メッキ浴(日本エンゲルハルト社製N−40酸
性電解純金メツキ液)を用いて、電流密度5A/[)−
〜lA/Drr?の範囲で液温を60℃にセットし、ス
テンレス鋼帯に(−)電流を、チタン白金メツキ板に(
+)電流を通じて3分間金メッキを行なった。
その結果、ステンレス鋼帯の片側に約0.5μmの厚さ
の純金メッキ層が形成され、本発明のステンレス鋼帯が
得られた。
次に、本発明ステンレス鋼帯の優れた性質について具体
的に示す。
(I) 接点部摩耗性 燐青銅上に0.5μ金ゆツキしたものと、ステンレス鋼
帯(S 7304 )に同じ<0.5μ金メツキしたも
の 摩耗テスト機で、1.2に9の加圧の下に摩耗チス
)Th行なった結果、ステンレス鋼帯に金メッキしたも
のの方が約30%耐摩耗率が高い事が判明した。
これは素地金属の軟、硬による結果であり、硬いステン
レス鋼帯上の金メッキは摩耗が少なく、軟かい燐青銅上
の金メッキは早く摩耗することがわかった。
(ロ)剥離性 (イ)1800曲げテスト、(ロ)テープ剥離テスト、
(ハ)400℃、io分間加熱後急冷テスif行なつ九
その結果、3方法ともステンレス鋼帯より金メッキ層の
剥離は認められなかった。
… 半田性 ソルダーテスト機でテストの結果、半田の濡れ性が極め
て良く、半田初期の半田表面張力による押し上げが殆ん
どみられなかった。
IV)電気電導性 燐青銅上の金メッキと比較して何んらの遜色もみられな
かった。
以上説明した本発明の方法で得た金メッキしたステンレ
ス鋼帯は、スイッチ、接点、端子、センサー、コネクタ
ー、バネ、LSI用ケーシング等に使用できる。
また、本発明ステンレス鋼帯から上記のような部品を作
成するには、本発明の金メッキしたステンレス鋼帯を金
型により打抜いて部品を作成すればよい。
ところで、金メッキを施す前に部品を作ってし筐うと全
面金メッキをせざるを得ぬが、本発明の例えば実施例2
.3のように鋼帯に部分メッキしたようなものであれば
、必要部分のみに金メッキしたものとすることができる
ので、コストが低減できる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 塩酸(35%溶液)15〜25容量も硫酸(85%
    溶液)5〜15容量係、クエン酸粉末5〜15重量φ、
    酢酸(90%溶液)0.5〜1.5容量係、硝酸(68
    %溶e、)4〜6容量多、非イオン捷たは両性界面活性
    剤0.1〜0.3重量φ、アミン系腐蝕抑制剤0.05
    〜0.15重量%を配合した酸性活性化浴を用いて、ス
    テンレス鋼帯を浸漬処理する化学研摩工程と、 燐酸(85%溶e、)5〜15容量へ硫酸(85係溶液
    )5〜15容量もクエン酸粉末5〜15重量%X酢酸(
    90饅溶液)0.5〜1.5容量多、非イオン渣たは両
    性界面活性剤0.1〜0.3重量宏アミン系腐蝕抑制剤
    0.05〜0.15重量i配合した陰極電解浴を用いて
    上記ステンレス鋼帯を活性化する電解活性化工程と、 酸性金メッキ浴により、上記ステンレス鋼帯に直接金メ
    ッキを施す工程と よりなることを特徴とする電子部品用ステンレス鋼帯の
    金メツキ方法。
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