JP2008539329A - ろ過膜を備えたアルカリ電気めっき浴 - Google Patents
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Abstract
【選択図】なし
Description
これにより、基板の被膜に、層厚のむらや気泡の生成といった深刻な欠陥が生じる。従って、前記浴の連続浄化が不可欠となる。しかしながら、これは、時間およびコストの点から見て非効率的である(特許文献1、2ページ目、3〜10行目を参照)。
相分離時および有機不純物の含有量の増加に伴い、被膜の装飾上の欠陥が生じる頻度が増してゆき、結果として、生産性が低下する。装飾上の欠陥の発生頻度を減少させるには、通常、有機浴添加物の濃度を高めるが、その結果として、分解生成物の含有量もさらに増加する。
前記浴を希釈すると、希釈の度合いに比例して不純物の濃度が低下する。希釈は容易に実施することができる。しかしながら、これは、前記浴から回収される電解液の処分にはかなり高い費用がかかるという点で不利である。これに関連して、浴の全く新しい調製は、浴希釈の特殊なケースと見なすことができる。
前記浴へ0.5〜2g/lの活性炭素を添加し、その後ろ過する活性炭素処理によって、不純物が炭素へと吸着し、その結果前記不純物の濃度が低下する。この方法の欠点とは、実施するのが面倒であり、かつ、比較的わずかな低下しか達成できないことである。
アルカリ亜鉛浴中の有機添加剤の含有量は、酸浴のそれよりも5〜10倍低い。従って、分解生成物による汚染は、通常、酸浴の場合ほど深刻ではない。しかしながら、アルカリ合金浴の場合、添加合金(Fe、Co、Ni、Sn)の錯体形成には、かなりの量の有機錯化剤の添加が必要とされる。これらは、陽極において酸化的に分解され、堆積する分解生成物は、生産工程に悪影響を及ぼす。
特許文献1および特許文献3には、亜鉛−ニッケル被膜を被着させるための電気めっき浴が記載されている。陽極における添加剤の好ましからざる分解を防ぐために、イオン交換膜によってアルカリ電解液から陽極を分離することが提案されている。
さらに、特許文献1および特許文献3から知られる電気めっき浴は、互いに組成が異なる陽極液および陰極液を用いて稼動させなければならない。さらに詳しくは、特許文献1によれば、硫酸溶液が陽極液として用いられ、そして特許文献3では、塩基性溶液、好ましくは水酸化ナトリウムが用いられ、そのため別個の陽極液循環が必要となる。
さらに、従来技術による浴には、窒素含有錯化剤の陽極分解によって、かなりの濃度まで蓄積するシアン化物が形成されるという欠点がある。
本発明によるアルカリ電気めっき浴中のろ過膜は、さまざまな有機または無機耐アルカリ性材料から成っていることができる。これら材料としては、例えば、セラミックス、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリスルホンおよびポリプロピレンが挙げられる。
ポリプロピレンからなるろ過膜を使用することが特に好ましい。
一般に、本発明によるアルカリ電気めっき浴中のろ過膜は、平膜として構成される。しかしながら、本発明によるアルカリ電気めっき浴は、チューブ、毛細管および中空繊維のごとき他の膜形態を以って実現することも可能である。
80〜250g/lのNaOHまたはKOH、
5〜20g/lの可溶性亜鉛塩の形態にある亜鉛、
0.02〜10g/lの可溶性金属塩の形態にある合金金属Ni、Fe、Co、Sn、
2〜200g/lの、ポリアルケニルアミン、アルカノールアミン、ポリヒドロキシカルボキシレートから選択される錯化剤、
0.1〜5g/lの芳香族または複素環式芳香族光沢剤、
を含んでなる。
そのような浴は、例えば、特許文献4、特許文献5、特許文献6または特許文献7に記載されている。
慣用に用いられているイオン交換膜および100g/lの硫酸溶液である陽極液を用いても、新しく調製されたProtedur Ni−75浴から機能層を被着させることはできなかった。すでに50Ah/l稼動した浴は、さらに10Ah/l稼動した後、稼動できなくなった。恐らく、前記処理には、イオン交換膜の使用によって抑制される陽極に生成される分解生成物が一定量必要とされると思われる。
ろ過膜を用いた実験において、孔径が0.2μm以上であれば、この種の浴においても、十分な量の分解生成物が形成されて円滑な稼動が可能になることが分かった。これらの実験において、効率は、ろ過膜を使用しない場合よりも高く、有機添加剤の消費量は、著しく低かった。これに関しては、表1を参照されたい。
図1は、本発明による電気めっき浴の概略図を示す。図1において、(1)は浴、(2)は陽極、そして(3)は陰極すなわちめっきされるべき基板を表す。さらに、前記陽極を囲む陽極液(4)、および、前記陰極を囲む陰極液(5)が示されている。陽極液と陰極液は、ろ過膜(6)によって分けられている。前記ろ過膜は、前記浴を稼動できるようにする一方で、陽極あるいは陽極領域への移動による、とりわけ錯化剤の陰極液中での有機成分の分解を制限する。陽極における錯化剤の反応は制限される。すなわち、前記錯化剤の、炭酸塩、シュウ酸塩、二トリルまたはシアン化物への転化は制限される。従って、本発明による電気めっき浴を稼動させた際に相分離は観察されない。それ故に、前記浴の連続浄化は不要である。
本発明を下記実施例によってさらに詳しく説明する。
前記ニューバッチは、下記成分、すなわち、
10.4g/lの(可溶性酸化亜鉛としての)亜鉛、
1.2g/lの(硫酸ニッケルとしての)ニッケル、
120g/lの水酸化ナトリウム、
35g/lのクアドロール(Quadrol)、
1.25g/lのピリジニウム−N−プロパン−3−スルホン酸、
5g/lのポリエチレンイミンとを含んでなる。
さらに、同じ種類の浴であって、すでにしばらくの間稼動させた、すなわち、スループットが>1000Ah/lである浴を用いた。以下、この浴を「オールドバッチ」と呼ぶ。
そして、前記浴を一定の間隔で分析および補充した。前記浴の後投与は、約5Ah/l後のハルセル試験の結果に従って行った。生産力のある浴では一般的である12 lの浴/10,000Ahの処理量(entrainment)も考慮に入れ、それに応じて浴成分を交換した。
測定は、電流密度の高い地点および電流密度の低い地点において行った。前記地点は、ハルセルシート上の、下縁から3cmおよび左側または右側の縁から2.5cmの地点である。高い電流密度(A地点)は左側に位置し、低い電流密度(B地点)は右側に位置する。
ろ過膜を使用した場合、ろ過膜を使用しない場合と比べて、高い電流密度におけるニューバッチについての平均層厚は約35%大きく、低い電流密度におけるニューバッチについての平均層厚は約19%大きい。オールドバッチの場合、高い電流密度における平均層厚および低い電流密度における平均層厚は、ろ過膜を使用しない場合と比べて、それぞれ、平均して17%および12%大きい。
驚くべきことに、>1000Ah/lのスループット後にオールドバッチにろ過膜を導入すると、しばらくして、ニューバッチの電流効率と同等の電流効率が得られる。
驚くべきことに、オールドバッチ、すなわち、>1000Ah/lの浴のシアン化物含有量は、この浴にろ過膜を装着して稼動させたときに減少させることができることが分かった。例えば、そのような浴のシアン化物含有量は、670mg/lから190mg/lにまで減少した。
要約すると、ろ過膜の使用には、イオン交換膜の使用と比べて、多くの利点があることが分かった。従って、それを用いて実施されるめっき処理は、白金めっきされた陽極を使用する必要が無く、陰極液と陽極液とが同じ組成を有していてもよいため陽極液の循環が不要であるので、より費用効率が高い。
膜を備えていない電気めっき浴の稼動と比べて、電流効率はより高く、消費量はより低い。さらに、分解生成物、とりわけシアン化物を減少させるか、あるいは、前記分解生成物の濃度を下げることが可能となり、浴から被着する層の質を高めることが可能になる。
(2)陽極
(3)陰極
(4)陽極液
(5)陰極液
(6)ろ過膜
Claims (11)
- 陽極と陰極とを備えた、亜鉛合金を基板に被着させるためのアルカリ電気めっき浴であって、前記陽極領域と前記陰極領域とがろ過膜によって互に分離されているアルカリ電気めっき浴。
- 前記ろ過膜の孔の大きさは、0.0001〜1.0μmの範囲にある、請求項1に記載のアルカリ電気めっき浴。
- 前記ろ過膜の孔の大きさは、好ましくは0.1〜0.3μmの範囲にある、請求項2に記載のアルカリ電気めっき浴。
- 前記ろ過膜は、セラミックス、PTFE、ポリスルホンまたはポリプロピレンから選択される材料から成る、請求項1に記載のアルカリ電気めっき浴。
- 前記ろ過膜は、平膜として構成されている、請求項1に記載のアルカリ電気めっき浴。
- 前記陽極領域内の陽極液は、前記陰極領域内の陰極液と同じ組成を有する、請求項1に記載のアルカリ電気めっき浴。
- 陽極と陰極とを備えるアルカリ電気めっき浴を陽極領域と陰極領域とに分けるためのろ過膜の、前記浴の耐用年限を延ばすための、前記浴の有機成分の陽極分解を防ぐための、および、常に高い品質の層を得るための使用。
- 亜鉛合金を基板に被着させるための方法であって、前記基板は、請求項1〜7に記載のアルカリ電気めっき浴における陰極として導入され、そして前記基板は、亜鉛合金で電気めっきされる、ことを特徴とする前記方法。
- 使用される電解液は、下記成分、
80〜250g/lのNaOHまたはKOH、
5〜20g/lの可溶性亜鉛塩の形態にある亜鉛、
0.02〜10g/lの可溶性金属塩の形態にある合金金属Ni、Fe、Co、Sn、
2〜200g/lの、ポリアルケニルアミン、アルカノールアミン、ポリヒドロキシカルボキシレートから選択される錯化剤、
0.1〜5g/lの芳香族または複素環式芳香族光沢剤、
を含んでなる溶液である、請求項8に記載の方法。 - 前記めっきは、10〜60℃、好ましくは20〜30℃の温度で実施される、請求項8に記載の方法。
- 前記浴は、0.25〜10A/dm2、好ましくは1〜3A/dm2の電流密度で運転される、請求項8に記載の方法。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US8084684B2 (en) * | 2006-10-09 | 2011-12-27 | Solexel, Inc. | Three-dimensional thin-film solar cells |
ITTO20070704A1 (it) | 2007-10-05 | 2009-04-06 | Create New Technology S R L | Sistema e metodo di placcatura di leghe metalliche mediante tecnologia galvanica |
US8177944B2 (en) | 2007-12-04 | 2012-05-15 | Ebara Corporation | Plating apparatus and plating method |
DE102008056776A1 (de) | 2008-11-11 | 2010-05-12 | Enthone Inc., West Haven | Galvanisches Bad und Verfahren zur Abscheidung von zinkhaltigen Schichten |
PL2384800T3 (pl) | 2010-05-07 | 2013-07-31 | Dr Ing Max Schloetter Gmbh & Co Kg | Regeneracja alkalicznych elektrolitów cynkowo-niklowych drogą usuwania jonów cynkowych |
IT1405319B1 (it) * | 2010-12-27 | 2014-01-03 | Fontana R D S R L | Procedimento di rivestimento di pezzi metallici filettati |
KR101420865B1 (ko) * | 2012-10-12 | 2014-07-18 | 주식회사 익스톨 | 금속 도금장치 |
EP2784189A1 (en) | 2013-03-28 | 2014-10-01 | Coventya SAS | Electroplating bath for zinc-iron alloys, method for depositing zinc-iron alloy on a device and such a device |
EP3168332B2 (en) | 2015-03-13 | 2023-07-26 | Okuno Chemical Industries Co., Ltd. | Use of a jig electrolytic stripper for removing palladium from an object and a method for removing palladium |
WO2017205473A1 (en) * | 2016-05-24 | 2017-11-30 | Coventya, Inc. | Ternary zinc-nickel-iron alloys and alkaline electrolytes for plating such alloys |
EP3491177A4 (en) * | 2016-07-29 | 2020-08-12 | Simon Fraser University | ELECTROCHEMICAL DEPOSIT PROCESS |
EP3358045A1 (de) | 2017-02-07 | 2018-08-08 | Dr.Ing. Max Schlötter GmbH & Co. KG | Verfahren zur galvanischen abscheidung von zink- und zinklegierungsüberzügen aus einem alkalischen beschichtungsbad mit reduziertem abbau von organischen badzusätzen |
FI3415665T3 (fi) | 2017-06-14 | 2024-02-06 | Dr Ing Max Schloetter Gmbh & Co Kg | Menetelmä sinkki-nikkeliseoskerroksien erottamiseksi galvaanisesti emäksisestä sinkki-nikkeliseoskylvystä vähemmällä lisäaineiden hajoamisella |
PT3461933T (pt) | 2017-09-28 | 2019-12-09 | Atotech Deutschland Gmbh | Método para depositar eletroliticamente uma camada de liga de zinco-níquel em, pelo menos, um substrato a ser tratado |
US11165091B2 (en) | 2018-01-23 | 2021-11-02 | City University Of Hong Kong | Battery system and a method of forming a battery |
MX2021008925A (es) * | 2019-01-24 | 2021-08-24 | Atotech Deutschland Gmbh | Sistema de anodo de membrana para deposito electrolitico de aleacion de cinc-niquel. |
RU2712582C1 (ru) * | 2019-07-16 | 2020-01-29 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Ивановский государственный химико-технологический университет" | Электролит для электроосаждения цинк-железных покрытий |
EP4273303A1 (en) * | 2022-05-05 | 2023-11-08 | Atotech Deutschland GmbH & Co. KG | Method for depositing a zinc-nickel alloy on a substrate, an aqueous zinc-nickel deposition bath, a brightening agent and use thereof |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01116094A (ja) * | 1987-10-28 | 1989-05-09 | Eagle Ind Co Ltd | 隔膜鍍金法 |
JPH02141596A (ja) * | 1988-11-21 | 1990-05-30 | Yuken Kogyo Kk | ジンケート型亜鉛合金メッキ浴 |
JPH0444375A (ja) * | 1990-06-12 | 1992-02-14 | Zexel Corp | レーザ共振器のアライメント装置 |
JPH11200099A (ja) * | 1998-01-08 | 1999-07-27 | Toyo Kohan Co Ltd | 不溶性陽極を用いるめっき方法およびめっき装置 |
JP2000087299A (ja) * | 1998-09-08 | 2000-03-28 | Ebara Corp | 基板メッキ装置 |
JP2001032095A (ja) * | 1999-07-19 | 2001-02-06 | Electroplating Eng Of Japan Co | カップ式めっき装置 |
JP2005015888A (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-20 | Jfe Steel Kk | 電気亜鉛系めっき鋼板 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB381931A (en) * | 1931-07-11 | 1932-10-11 | Mond Nickel Co Ltd | Improvements relating to electro-plating and the electrodeposition of metals |
US3945900A (en) | 1972-05-02 | 1976-03-23 | Dorr-Oliver Incorporated | Electro ultrafiltration process and apparatus |
IE39814B1 (en) * | 1973-08-03 | 1979-01-03 | Parel Sa | Electrochemical process and apparatus |
US4250002A (en) * | 1979-09-19 | 1981-02-10 | Hooker Chemicals & Plastics Corp. | Polymeric microporous separators for use in electrolytic processes and devices |
US4421611A (en) | 1982-09-30 | 1983-12-20 | Mcgean-Rohco, Inc. | Acetylenic compositions and nickel plating baths containing same |
JPS6353285A (ja) | 1986-08-22 | 1988-03-07 | Nippon Hyomen Kagaku Kk | 亜鉛−ニツケル合金めつき液 |
US5443727A (en) | 1990-10-30 | 1995-08-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Articles having a polymeric shell and method for preparing same |
US5082538A (en) | 1991-01-09 | 1992-01-21 | Eltech Systems Corporation | Process for replenishing metals in aqueous electrolyte solutions |
CN2175238Y (zh) * | 1993-09-29 | 1994-08-24 | 北京科技大学 | 锌-镍合金电镀用阳极 |
US5417840A (en) | 1993-10-21 | 1995-05-23 | Mcgean-Rohco, Inc. | Alkaline zinc-nickel alloy plating baths |
US5631102A (en) * | 1996-02-12 | 1997-05-20 | Wilson Greatbatch Ltd. | Separator insert for electrochemical cells |
DE19834353C2 (de) * | 1998-07-30 | 2000-08-17 | Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg | Alkalisches Zink-Nickelbad |
DE19840019C1 (de) | 1998-09-02 | 2000-03-16 | Atotech Deutschland Gmbh | Wäßriges alkalisches cyanidfreies Bad zur galvanischen Abscheidung von Zink- oder Zinklegierungsüberzügen sowie Verfahren |
US6383352B1 (en) | 1998-11-13 | 2002-05-07 | Mykrolis Corporation | Spiral anode for metal plating baths |
EP1292724B2 (en) | 2000-06-15 | 2015-12-23 | Coventya, Inc. | Zinc-nickel electroplating |
FR2839729B1 (fr) * | 2002-05-16 | 2005-02-11 | Univ Toulouse | Procede de protection d'un substrat en acier ou alliage d'aluminium contre la corrosion permettant de lui conferer des proprietes tribologiques, et substrat obtenu |
DE10225203A1 (de) | 2002-06-06 | 2003-12-18 | Goema Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Spülwasserrückführung und Reinigung eines Prozessbades |
WO2004011698A1 (ja) | 2002-07-25 | 2004-02-05 | Shinryo Electronics Co., Ltd. | 錫−銀−銅含有めっき液及び同めっき被膜並びにそのめっき方法 |
ES2609080T3 (es) * | 2003-06-03 | 2017-04-18 | Coventya, Inc. | Revestimiento electrolítico de cinc y aleaciones de cinc |
FR2864553B1 (fr) | 2003-12-31 | 2006-09-01 | Coventya | Installation de depot de zinc ou d'alliages de zinc |
US7442286B2 (en) * | 2004-02-26 | 2008-10-28 | Atotech Deutschland Gmbh | Articles with electroplated zinc-nickel ternary and higher alloys, electroplating baths, processes and systems for electroplating such alloys |
-
2005
- 2005-04-26 DE DE502005007138T patent/DE502005007138D1/de active Active
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-
2006
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- 2006-04-26 KR KR1020077019889A patent/KR101301275B1/ko active IP Right Grant
- 2006-04-26 CA CA2600273A patent/CA2600273C/en active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01116094A (ja) * | 1987-10-28 | 1989-05-09 | Eagle Ind Co Ltd | 隔膜鍍金法 |
JPH02141596A (ja) * | 1988-11-21 | 1990-05-30 | Yuken Kogyo Kk | ジンケート型亜鉛合金メッキ浴 |
JPH0444375A (ja) * | 1990-06-12 | 1992-02-14 | Zexel Corp | レーザ共振器のアライメント装置 |
JPH11200099A (ja) * | 1998-01-08 | 1999-07-27 | Toyo Kohan Co Ltd | 不溶性陽極を用いるめっき方法およびめっき装置 |
JP2000087299A (ja) * | 1998-09-08 | 2000-03-28 | Ebara Corp | 基板メッキ装置 |
JP2001032095A (ja) * | 1999-07-19 | 2001-02-06 | Electroplating Eng Of Japan Co | カップ式めっき装置 |
JP2005015888A (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-20 | Jfe Steel Kk | 電気亜鉛系めっき鋼板 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016075963A1 (ja) | 2015-07-22 | 2016-05-19 | ディップソール株式会社 | 亜鉛合金めっき方法 |
WO2016075964A1 (ja) | 2015-07-22 | 2016-05-19 | ディップソール株式会社 | 亜鉛合金めっき方法 |
US9903038B2 (en) | 2015-07-22 | 2018-02-27 | Dipsol Chemicals Co., Ltd. | Zinc alloy plating method |
US10156020B2 (en) | 2015-07-22 | 2018-12-18 | Dipsol Chemicals Co., Ltd. | Zinc alloy plating method |
WO2020166062A1 (ja) | 2019-02-15 | 2020-08-20 | ディップソール株式会社 | 亜鉛又は亜鉛合金電気めっき方法及びシステム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104911676B (zh) | 2017-11-17 |
US8293092B2 (en) | 2012-10-23 |
CN104911676A (zh) | 2015-09-16 |
BRPI0610765B1 (pt) | 2017-04-04 |
KR20070122454A (ko) | 2007-12-31 |
CN104911651A (zh) | 2015-09-16 |
WO2006114305A1 (en) | 2006-11-02 |
ES2324169T3 (es) | 2009-07-31 |
EP1717353A1 (de) | 2006-11-02 |
CA2600273C (en) | 2014-08-12 |
EP2050841A1 (de) | 2009-04-22 |
US20090107845A1 (en) | 2009-04-30 |
ES2574158T3 (es) | 2016-06-15 |
ATE429528T1 (de) | 2009-05-15 |
JP4955657B2 (ja) | 2012-06-20 |
CN101146934A (zh) | 2008-03-19 |
CA2600273A1 (en) | 2006-11-02 |
BRPI0610765A2 (pt) | 2010-07-20 |
KR101301275B1 (ko) | 2013-08-29 |
DE502005007138D1 (de) | 2009-06-04 |
EP1717353B1 (de) | 2009-04-22 |
EP2050841B1 (de) | 2016-05-11 |
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