ES2244603T3 - Sal compleja de paladio y su utilizacion para ajustar la concentracion en paladio de un baño electrolitico destinado para el deposito de paladio o de una de sus aleaciones. - Google Patents

Sal compleja de paladio y su utilizacion para ajustar la concentracion en paladio de un baño electrolitico destinado para el deposito de paladio o de una de sus aleaciones.

Info

Publication number
ES2244603T3
ES2244603T3 ES01921483T ES01921483T ES2244603T3 ES 2244603 T3 ES2244603 T3 ES 2244603T3 ES 01921483 T ES01921483 T ES 01921483T ES 01921483 T ES01921483 T ES 01921483T ES 2244603 T3 ES2244603 T3 ES 2244603T3
Authority
ES
Spain
Prior art keywords
palladium
ethylenediamine
bath
use according
sulfate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
ES01921483T
Other languages
English (en)
Inventor
Jose Gonzalez
Lionel Chalumeau
Michel Limayrac
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Metalor Technologies France Sas
Original Assignee
Metalor Technologies France Sas
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Metalor Technologies France Sas filed Critical Metalor Technologies France Sas
Application granted granted Critical
Publication of ES2244603T3 publication Critical patent/ES2244603T3/es
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/50Electroplating: Baths therefor from solutions of platinum group metals
    • C25D3/52Electroplating: Baths therefor from solutions of platinum group metals characterised by the organic bath constituents used
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G55/00Compounds of ruthenium, rhodium, palladium, osmium, iridium, or platinum

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Non-Biological Materials By The Use Of Chemical Means (AREA)
  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)

Abstract

Sal compleja de sulfato de paladio y de etilendiamina, caracterizada en que contiene entre un 31 y un 41% de peso de paladio y en que la relación molar [SO4] : [Pd] está comprendida entre 0, 9 y 1, 15 y la relación [etilendiamina]

Description

Sal compleja de paladio y su utilización para ajustar la concentración en paladio de un baño electrolítico destinado para el depósito de paladio o de una de sus aleaciones.
La presente invención se refiere a una sal compleja nueva a base de etilendiamina y de sulfato de paladio y a su utilización para ajustar la concentración de paladio de un baño electrolítico para el depósito de paladio o de una de sus aleaciones.
Los contactos eléctricos y los conectores que se utilizan en el campo de la electrónica utilizan como acabado capas finas de metales preciosos electrodepositados que deben tener un brillo adecuado, una buena ductilidad, no deben ser porosos, deben ser resistentes frente a la corrosión, resistentes frente al frotamiento y tener resistencias de contacto bajas. La industria comenzó utilizando depósitos a los que a menudo se daba el nombre de "Hard Gold", de oro endurecido con pequeñas cantidades de níquel o de cobalto codepositado. El paladio es un metal precioso que tiene una densidad de depósito menor (12 g/cm^{3}) que los depósitos de "Hard Gold" (17,3 g/cm^{3}), y también tiene una dureza superior y una porosidad menor. Al ser menos caros, el paladio y sus aleaciones se han considerado aptos para sustituir al oro en la mayor parte de las aplicaciones. La industria utiliza para los acabados de una gran variedad de aplicaciones depósitos de poco espesor (a los que se da también el nombre de depósitos de tipo flash) de oro sobre paladio o sobre una aleación de paladio. Las aleaciones de paladio que se utilizan son principalmente aleaciones paladio-níquel o paladio-plata. El tonel, la cesta vibrante, la atadura, la metalización en discontinuo, en continuo a alta velocidad, a chorro (también denominada metalización "por jet-plating"), o al tampón son técnicas que se utilizan habitualmente para electrodepositar el paladio y sus aleaciones. La industria está en constante búsqueda de baños electrolíticos y de procedimientos más eficaces. El paladio y sus aleaciones se utilizan igualmente para las aplicaciones decorativas como subcapa o como acabado.
Los baños de paladio y de aleaciones que se comercializan actualmente son mayoritariamente baños amoniacales que contienen en la mayor parte de los casos iones cloruros. Estos baños siguen siendo sin embargo baños que presentan importantes inconvenientes, tanto para la salud de los operarios como para la corrosión de los equipos; necesitan muchas operaciones de mantenimiento y de limpieza.
Se ha intentado también recurrir a baños no amoniacales.
Los primeros baños de este tipo que se han descrito fueron baños de paladio puro, en medios muy ácidos, sin aminas orgánicas. Su utilización resultaba muy difícil. En efecto, a pH situados entre 0 y 3, el ataque de los sustratos es muy importante, además muchas de estas formulaciones contienes cloruros.
Un segundo tipo se refiere a baños de paladio puro o de aleaciones que contienen aminas orgánicas, que funcionan entre los 40 y los 65ºC, pero típicamente en una gama de pH de 9 a 12, y por tanto en condiciones altamente alcalinas. A estos pH elevados, con estas temperaturas, las poliaminas presentan una tendencia considerable a evaporarse y a carbonatarse rápidamente, generando cristalizaciones. Por otra parte, en estas condiciones, la pasivación de los sustratos niquelados es en estos casos mucho mayor que en los baños amoniacales. Para paliar la falta de adherencia, es necesario efectuar un prepaladiado de forma preliminar. Esto eleva aún más el precio de coste de estos depósitos.
Un tercer tipo de baños que se describe en concreto en la patente US 4 278 514 se refiere a baños de paladio puro que contienen aminas orgánicas. Estos baños con pH intermedios situados entre 3,0 y 7,0 contienen generalmente fosfatos, y utilizan como abrillantador un compuesto de tipo imida, como por ejemplo la succinimida.
Entre las aminas orgánicas que se utilizan en este tipo de baños, se recurre en concreto a la etilendiamina que, tal como se describe en concreto en la patente US 4 278 514 sirve, entre otras, para complejar el paladio con el fin de hacerlo soluble en el baño electrolítico. En este documento se prevé igualmente la introducción de paladio en el baño electrolítico por medio de una solución acuosa de un complejo de etilendiamina y de paladio en la que cada átomo de paladio se encuentra ya complejado con dos moléculas de etilendiamina.
Es de sobra conocido por los formuladores de electrolitos que la vida útil de los baños es más larga cuando los procedimientos optimizados permiten evitar al máximo la concentración rápida de las sales en los baños electrolíticos aplicados.
Ahora bien, hasta la fecha los baños electrolíticos que contienen paladio complejado con etilendiamina tenían vidas útiles relativamente cortas, porque los métodos de recarga de estos baños de metal recurrían a la introducción de este metal mediante una de las dos vías siguientes:
-
Bien en forma de una sal inorgánica simple, no complejada, que, esté en estado sólido o líquido, se encuentra forzosamente en un medio muy ácido para evitar la formación de hidróxido de paladio, siendo éste la mayoría de las veces muy difícil e incluso imposible de volver a disolver una vez formado.
\newpage
-
Bien en forma de paladio soluble en el agua, por lo tanto en forma de un sulfato de paladio-bis-etilendiamina que es un complejo soluble en el agua en el que la relación molar [etilendiamina]: [paladio] se encuentra cerca de 2. Este tipo de adición significa en la práctica que se añade un licor que resulta de la adición de una sal inorgánica de paladio en un medio muy ácido en una solución de etilendiamina, que contiene una cantidad de al menos 2 moles de diamina por mol de paladio.
En ambos casos, se produce una importante acumulación de iones a lo largo de la vida del baño.
En efecto:
-
En ambos casos, el baño acumula sales ocasionadas por la introducción de todos los aniones vinculados a la acidez inicial de la sal inorgánica simple aplicada.
-
En el segundo caso, el baño acumula además una gran cantidad de diamina, que el baño no puede eliminar en las condiciones de funcionamiento. El electrolito se satura entonces rápidamente por una sal de etilendiamina.
Los inventores de la presente invención han desarrollado ahora un compuesto nuevo que permite introducir el paladio con una cantidad particularmente reducida de contra-iones y como consecuencia de ello limitar de manera considerable la carga en iones de los baños electrolíticos. Este compuesto contiene una cantidad reducida del complejante, adaptada para aproximarse mucho a la cantidad justa y necesaria para mantener su concentración en un nivel estable a lo largo del tiempo. El resultado de este procedimiento es que se mejora considerablemente la vida útil de estos baños.
Así, de acuerdo con un primer aspecto, la invención se refiere a un compuesto nuevo de paladio.
Se refiere igualmente de acuerdo con un segundo aspecto a un procedimiento de preparación de este compuesto.
Se refiere igualmente de acuerdo con un tercer aspecto a la utilización de este compuesto nuevo para introducir el paladio en un baño electrolítico para el depósito electroquímico de paladio o de sus aleaciones o para ajustar su concentración a lo largo de todo el depósito electroquímico.
La invención se refiere igualmente a un baño electrolítico para el depósito de paladio o de sus aleaciones, en el que el paladio se introduce en forma del compuesto nuevo objeto del primer aspecto de la invención y donde, siempre con la misma preocupación de evitar cargar el baño con sales, los demás compuestos se introducen en formas adaptadas en este sentido.
Más concretamente, de acuerdo con una de las características esenciales, la invención se refiere a una sal compleja de sulfato de paladio y de etilendiamina que contiene entre un 31 y un 41% de peso de paladio, en la que la relación molar [SO_{4}]: [Pd] está comprendida entre 0,9 y 1,15 y la relación [etilendiamina]: [Pd] está comprendida entre 0,8 y 1,2.
Tal como se ha expuesto más arriba, este compuesto nuevo permite introducir en los baños electrolíticos para el depósito electrolítico de paladio o de sus aleaciones el paladio en una forma que se encuentra ya complejada parcialmente por medio de etilendiamina. La disolución de este compuesto en un baño acuoso que contiene un exceso de etilendiamina se corresponde solamente con la consecución de la complejación total del paladio.
El compuesto de la invención presenta por tanto la ventaja de introducir en el baño electrolítico una cantidad de sulfato claramente menor de la que sería necesaria con la introducción del paladio en forma de una de las dos formas de la técnica anterior descritas más arriba.
En efecto, el complejo utilizado de acuerdo con la técnica anterior para introducir el paladio en los baños estaba formado por un complejo soluble en el agua, a saber, el sulfato de paladio-bis-etilendiamina, en el que la relación molar [etilendiamina]: [paladio] se encuentra cerca de 2.
A diferencia de este compuesto utilizado de acuerdo con la técnica anterior, el complejo de la invención está formado por sulfato de paladio-etilendiamina y es el resultado de la complejación de cada átomo de paladio con una sola molécula de etilendiamina, encontrándose la relación molar [etilendiamina]: [paladio] cerca de 1. Esta sal compleja se presenta en forma de una sal sólida que, aunque es prácticamente insoluble en el agua, es soluble en baños que contienen un exceso de etilendiamina. Esta etilendiamina en exceso actúa como agente complejante para terminar de complejar el paladio y hacerlo por tanto soluble en el baño.
Como se desprende de las precisiones facilitadas más adelante con respecto a la síntesis del compuesto de la invención, el exceso de sulfato procedente del sulfato de paladio en forma de ácido sulfúrico libre permanece en las aguas madres de la precipitación de la sal compleja insoluble.
Debido a ello, la sal compleja de la invención no contiene ya prácticamente ácido sulfúrico libre.
El compuesto de la invención se presenta en forma de una sal de color amarillo y contiene aproximadamente de un 31 a un 41% de peso de paladio y una cantidad particularmente reducida de sulfato, puesto que la relación de las concentraciones molares de sulfato y de paladio está comprendida entre 0,9 y 1,15. Además, la cantidad de etilendiamina contenida en el compuesto de la invención es también particularmente reducida, puesto que la concentración molar de etilendiamina del compuesto de la invención se encuentra muy cerca de la del paladio y, más concretamente está comprendida entre 0,8 y 1,2.
Tal como se ha expuesto anteriormente y como se desprende igualmente de lo que se expone a continuación, el compuesto de la invención resulta especialmente interesante para ajustar la concentración de paladio de un baño para el depósito electrolítico del paladio o de sus aleaciones.
Así, de acuerdo con otro de sus aspecto, la invención se refiere a un procedimiento de preparación del producto de la invención.
Más concretamente, este procedimiento comprende la reacción de una solución de etilendiamina con una solución de sulfato de paladio en una relación molar [etilendiamina]: [paladio] comprendida entre 0,8 y 1,2. Esta reacción se lleva a cabo ventajosamente a temperatura ambiente durante al menos 12 horas.
El sulfato de paladio empleado en la reacción anterior se obtiene ventajosamente a partir de una solución de nitrato de paladio mediante la adición de ácido sulfúrico en una relación molar [H_{2}SO_{4}]: [Pd] comprendida entre 1 y 1,7. Al finalizar esta etapa de reacción del nitrato de paladio con el ácido sulfúrico, se elimina por destilación una mezcla formada por ácido nítrico y agua.
A continuación, el residuo se somete ventajosamente a una etapa de evaporación en seco, y después se vuelve a disolver en agua para transformarla en sulfato de paladio.
La solución de sulfato de paladio se mezcla a continuación en una solución de etilendiamina en proporciones en las que la relación molar etilendiamina/paladio esté comprendida entre 0,8 y 1,2.
A continuación, la mezcla se agita ventajosamente a temperatura ambiente durante al menos 12 horas y después se somete a una operación de filtración y de secado al finalizar la cual se recupera el producto de la invención.
De acuerdo con otra de sus características esenciales, la invención se refiere a la utilización de la sal compleja compuesta de sulfato de paladio y de etilendiamina de acuerdo con la invención o del producto obtenido de acuerdo con el procedimiento expuesto más arriba para introducir paladio o ajustar su concentración en un baño electrolítico acuoso con pH ácido para el depósito electroquímico del paladio o de sus aleaciones.
Tal como se ha expuesto anteriormente, la utilización de este compuesto nuevo para introducir el paladio en el baño presenta la doble ventaja de utilizar una cantidad claramente menor de contra-iones a la de la técnica anterior, lo que evita cargar inútilmente el baño con sal y en consecuencia permite prolongar su vida útil.
Además, otra ventaja del compuesto utilizado de acuerdo con la invención para introducir el paladio es que el anión no sólo se encuentra en una cantidad reducida con respecto a la utilizada de acuerdo con la técnica anterior sino que, además, se trata de sulfato, anión que reacciona mucho menos fácilmente con los electrodos que los iones nitritos o sulfitos, cuyas concentraciones son mucho más difíciles de mantener en un nivel estable en los electrolitos. Los sulfatos se persiguen también de manera especial en el campo de la galvanoplastia ya que como es perfectamente conocido, al contrario de lo que ocurre con los aniones cloruros, no provocan la corrosión del acero inoxidable.
Así, el recurso al compuesto de la invención para introducir el paladio presenta dos ventajas. Por un lado, permite mejorar la vida útil de los baños electrolíticos evitando la saturación en sales de los mismos. Por otro lado, permite evitar la introducción de aniones corrosivos con respecto a los equipos de galvanoplastia utilizados.
Otra ventaja de la utilización del compuesto de la invención en baños para el depósito del paladio o de sus aleaciones, es que permite eliminar casi por completo las adiciones de complejante a lo largo de la vida del baño, puesto que la cantidad justa y necesaria para conservar su concentración estable se introduce directamente en el compuesto de paladio. El mantenimiento de los baños resulta por lo tanto simplificado con respecto al caso en el que se mantiene la concentración de paladio con ayuda de sulfato de paladio, y donde es necesario administrar adiciones importantes de complejante mediante un seguimiento por análisis.
En los procedimientos de electrodepósito que utilizan un baño que incorpora el compuesto nuevo de la invención, la etilendiamina se encuentra preferiblemente en una cantidad suficiente para complejar el paladio y hacerlo soluble en dicho baño, preferiblemente en una concentración comprendida entre 2 y 200 ml/l.
Los baños en cuestión son más concretamente baños para el depósito bien de paladio puro o bien de aleaciones de paladio, es decir, baños que contienen, además de paladio, al menos un compuesto de un metal denominado metal secundario que deberá codepositarse en forma de aleación con el paladio.
De acuerdo con una variante ventajosa de la invención, los baños en cuestión contienen entre 1 y 100 g/l de paladio.
Los baños dirigidos a depositar una aleación de paladio y de un metal secundario contienen preferiblemente a título de metal secundario al menos un metal seleccionado entre el grupo formado por níquel, cobalto, hierro, indio, oro, plata y estaño.
El metal secundario se encuentra ventajosamente en una concentración comprendida entre 0,1 y 60 g/l en el baño.
Tal como se ha indicado anteriormente, los baños a los que se refiere la presente invención son baños de electrólisis que funcionan con pH ácido, ventajosamente con pH poco ácido, preferiblemente un pH comprendido entre 3 y 5. En efecto, en esta gama de pH los baños de la invención se muestran particularmente estables. Esta gama de pH se adapta especialmente a los baños que contienen níquel o cobalto, cuyos hidróxidos corren el riesgo de precipitarse a pH comprendidos entre 6 y 7 y permite evitar que se obtengan depósitos ocultos, como ocurre en ciertos baños con pH comprendido entre 5 y 6.
En el intervalo preferido de pH comprendido entre 3 y 5, el brillo de los depósitos obtenidos aumenta aún más de manera general debido a la presencia de un metal secundario que desempeña la función de abrillantador mineral, y ello de forma análoga a lo que se observa en los baños de oro ácidos.
Estos baños contienen igualmente de manera ventajosa un abrillantador orgánico.
A título de abrillantadores orgánicos, se utilizan ventajosamente el ácido 3-(3-piridil) acrílico, el ácido 3-(3-quinolil) acrílico o una de sus sales, preferiblemente una sal alcalina, por ejemplo una sal de sodio o de potasio. La utilización de estos abrillantadores en estos baños para el depósito electrolítico de paladio o de aleaciones de paladio en los cuales el paladio está complejado con etilendiamina, constituye el objeto de una solicitud de patente depositada el mismo día que la presente solicitud de patente.
Además, estos baños electrolíticos contienen también ventajosamente un metal que actúa como abrillantador mineral, en concreto níquel, cobalto, hierro, indio, oro, plata o estaño.
Por último, y siempre con la misma preocupación de evitar al mismo tiempo la corrosión de las instalaciones de galvanoplastia y evitar igualmente cargar el baño con sales, cuando el baño contiene, además de paladio, un metal secundario de aleaciones o un metal que actúa como abrillantador mineral, este metal se introduce ventajosamente en forma de sulfato, de hidróxido, de carbonato o de una de sus mezclas.
Cuando se codepositan uno o varios metales de aleación, y por tanto se consumen, la recarga del baño en forma de carbonatos se manifiesta como la más adaptada. En efecto, los carbonatos reaccionan en medio ácido para formar CO_{2}, el cual se escapa rápidamente en forma gaseosa en el momento de la adición.
CO_{3}^{2-} + 2H^{+} \rightarrow H_{2}O + CO_{2}^{\nearrow}
Esta reacción se produce cuando el carbonato del metal se añade al electrolito. Con este sistema, los metales secundarios pueden reajustarse sin añadir un anión en el baño. Este sistema permite prolongar la vida de los baños de la presente invención.
Otra vía para introducir los metales secundarios a lo largo de las recargas de los baños consiste en introducirlos en forma de sus hidróxidos.
Los metales secundarios pueden igualmente introducirse en forma de sulfato.
Así, la utilización de los baños de la invención permite por lo tanto prolongar la vida útil de los equipos de galvanoplastia evitando al mismo tiempo la corrosión de los mismos.
Además, los baños electrolíticos de la invención pueden contener diferentes aditivos que se utilizan convencionalmente en los baños de electrodepósito, como por ejemplo sales conductoras, tampones dirigidos a estabilizar el pH, agentes humectantes, aditivos dirigidos a reducir tensiones internas de los depósitos electrolíticos en la superficie que se quiere recubrir.
Deberán seleccionarse ventajosamente estos diferentes aditivos para que no introduzcan iones no deseados en el baño electrolítico y, en concreto, para que no introduzcan en el baño electrolítico ni cloruro ni ácido fosfórico.
Así, los baños de la invención contienen ventajosamente al menos 20 g/l de al menos una sal conductora. Esta sal conductora deberá seleccionarse ventajosamente entre el grupo formado por el sulfato de sodio, el sulfato de potasio y sus mezclas.
Los tampones dirigidos a estabilizar el pH deberán ser preferentemente de tipo acético, cítrico, bórico, láctico, málico, ftálico, acrílico, tártrico, oxálico o succínico.
\newpage
Deberá recurrirse ventajosamente a agentes humectantes. Los agentes humectantes preferidos de acuerdo con la invención son el bromuro o el yoduro de cetiltrimetilamonio.
Para evitar las tensiones internas de los depósitos, deberá optarse ventajosamente por incorporar en el baño electrolítico sacarinato de sodio.
De acuerdo con diferentes variantes especialmente ventajosas, la invención propone condiciones que permiten en concreto evitar totalmente la utilización de cloruros.
De esta forma, por lo tanto, la invención propone un conjunto de condiciones que vienen a añadirse a la utilización del compuesto nuevo y que cooperan para obtener un baño electrolítico que, al mismo tiempo, no presenta los defectos de los baños de la técnica anterior por lo que respecta a la corrosión de los dispositivos de galvanoplastia y que además se dirige a obtener condiciones que permiten minimizar la cantidad de sales en los baños.
El conjunto de estas condiciones concurre para la obtención de baños de electrodepósito de paladio o de sus aleaciones que permiten aplicar densidades de corriente comprendidas entre 0,5 y 150 A/dm^{2}.
Así, ha sido posible realizar baños que pueden utilizarse en procedimientos de electrodepósito a alta velocidad utilizando por lo tanto densidades de corriente análogas o incluso superiores a las utilizadas en los baños amoniacales más eficaces. Para esas aplicaciones, se han podido realizar depósitos brillantes de 0,1 a 6 \mum con densidades de corriente comprendidas entre 0,5 y 150 A/dm^{2}.
Sin embargo, los baños de la invención pueden igualmente utilizarse con velocidades y densidades de corriente menores, y en concreto, en aplicaciones de decoración.
No se produce formación de sal insoluble en los ánodos de titanio platinado. Esta particularidad permite prever aplicaciones de tipo depósito a chorro (también denominado "jet plating") y sobre todo las metalizaciones selectivas en continuo, por ejemplo la metalización con tampón.
En el procedimiento de electrodepósito de la invención, los ánodos son ánodos insolubles, preferiblemente de titanio platinado, de platino recubierto de óxido de iridio o de un metal precioso, como por ejemplo el platino. Además, el cátodo está formado por un sustrato metalizado.
Las formulaciones preferidas de baños de acuerdo con la presente invención pueden describirse sin carácter exhaustivo mediante la composición general que se muestra a continuación, en la que las concentraciones de derivados metálicos (de paladio y de metales de aleación) son proporcionales al metal y en las que el paladio se introduce en forma de un compuesto de sulfato de paladio y de etilendiamina que presenta relaciones molares [SO_{4}]: [Pd] = 0,9 a 1,15 y [etilendiamina]: [Pd] = 0,8 a 1,2:
- Paladio 1 a 100 g/l
- Metal de aleación seleccionado entre Ni, Co, Fe, In, Au, Ag o Sn 0 a 60 g/l
- Etilendiamina 2 a 200 ml/l
- Ácido 3-(3-piridil) acrílico 0,01 a 3 g/l o ácido 3-(3-quinolil) acrílico
- Sulfato de sodio > 20 g/l
Las condiciones de procedimiento son ventajosamente las siguientes:
- pH 3 a 5
- Temperatura 10 a 75ºC
- Agitación Moderada a muy fuerte
- Densidad de corriente 0,5 a 150 A/dm^{2}
- Ánodo Titanio platinado
Ejemplos Ejemplo A Preparación de un compuesto de acuerdo con la invención
Los compuestos de la invención que se identifican a continuación como compuestos A se preparan de la forma siguiente:
-
Materia prima: una solución ácida de nitrato de paladio.
-
Adición de ácido sulfúrico en una relación molar [H_{2}SO_{4}]/[Paladio] = 1,0 a 1,7.
-
Destilación de una mezcla agua + ácido nítrico.
-
Evaporación en seco.
-
Redisolución en el agua del sulfato de paladio.
-
Adición en una solución diluida de etilendiamina en una relación molar [etilendiamina]: [paladio] = 0,8 a 1,2.
-
Tiempo de reacción bajo agitación, a temperatura ambiente (> 12h.).
-
Filtración, secado.
La sal de color amarillo, complejo de sulfato de paladio y de etilendiamina contiene aproximadamente entre un 31 y un 41% de peso de paladio. En esta sal la relación molar [SO_{4}]: [Pd] = 0,9 a 1,15 y [etilendiamina]: [Pd] = 0,8 a 1,2.
El compuesto que se identifica a continuación como compuesto A se va a utilizar a continuación en los ejemplos de la parte B para introducir el paladio o reajustar su concentración durante el funcionamiento de los baños descritos.
Ejemplo B Baños electrolíticos
Los ejemplos 1 a 6 que se muestran a continuación ponen de manifiesto los buenos resultados que se obtienen con los baños de la invención.
En todos estos ejemplos, el sustrato que se quiere metalizar se prepara con un procedimiento adecuado, de acuerdo con la naturaleza del metal. Por ejemplo, los sustratos cuprosos o de níquel se desengrasan previamente electrolíticamente, después de aclararlo con agua, el sustrato se despasiva en el ácido sulfúrico diluido en un 5-20% de volumen, el sustrato se enjuaga con agua desionizada antes de sumergirse en uno de los electrolitos de la invención.
Opcionalmente, pueden añadirse determinados aditivos. Así:
-
Como sal conductora, puede utilizarse el sulfato de sodio, pero también el sulfato de potasio o incluso una mezcla de las dos sales.
-
Puede utilizarse un tampón acético, cítrico, bórico o cualquier otro sistema de tampón eficaz en la gama de pH en cuestión para estabilizar el pH del baño.
-
Puede añadirse un agente humectante para evitar las picaduras ocasionadas por la liberación de hidrógeno sobre las piezas. Puede resultar adecuado un agente humectante catiónico o no iónico, puede utilizarse por ejemplo yoduro o bromuro de cetiltrimetilamonio en cantidades muy pequeñas.
-
Puede añadirse un reductor de tensión para las aplicaciones decorativas, pueden añadirse cantidades muy pequeñas de sacarinato de sodio en determinados casos.
Ejemplo 1 Baño de paladio de alta velocidad
- Paladio (introducido en forma del compuesto A) 17 a 23 g/l.
- Níquel (en forma de sulfato) 0,2 a 0,5 g/l.
- Etilendiamina 55 a 75 ml/l.
- Ácido trans 3-(3-piridil) acrílico 0,22 a 0,38 g/l.
- Sulfato de sodio 20 a 50 g/l.
Condiciones de procedimiento:
- pH (ácido sulfúrico/hidróxido de sodio) 3,5 a 4,5.
- Temperatura 40 a 75ºC.
- Agitación Fuerte a muy fuerte.
- Densidad de corriente 5 a 42 A/dm^{2}.
- Ánodo Titanio platinado.
\newpage
Este baño en el que el níquel actúa exclusivamente como abrillantador, deposita paladio a más de un 99,9%, el depósito es brillante espejo, blanco, dúctil, con una resistividad baja, una porosidad reducida y una buena resistencia frente a la corrosión.
Ejemplo 2 Baño de paladio-níquel a alta velocidad
- Paladio (introducido en forma del compuesto A) 17 a 23 g/l.
- Níquel (en forma de sulfato) 9,0 a 13,0 g/l.
- Etilendiamina 55 a 75 ml/l.
- Ácido trans 3-(3-piridil) acrílico 0,22 a 0,38 g/l.
- Sulfato de sodio 20 a 50 g/l.
Condiciones de procedimiento:
- pH (ácido sulfúrico/hidróxido de sodio) 3,5 a 4,5.
- Temperatura 60 a 75ºC.
- Agitación Fuerte a muy fuerte.
- Densidad de corriente 21 a 56 A/dm^{2}.
- Ánodo Titanio platinado.
Los resultados medios son los siguientes:
- Velocidad de depósito a 70ºC y 28 A/dm^{2} 1 \mum en 10 segundos.
- Velocidad de depósito a 70ºC y 42 A/dm^{2} 1 \mum en 7 segundos.
- Velocidad de depósito a 70ºC y 56 A/dm^{2} 1 \mum en 5 segundos.
- Rendimiento catódico a 70ºC y 56 A/dm^{2} 87,2%.
Este baño deposita la aleación de paladio 80% - níquel 20%. El depósito de 0,1 a 6 \mum es brillante espejo, dúctil, con una baja resistencia de contacto, una dureza Vickers de 390 HV bajo 100 gf (medida de acuerdo con la norma ISO 4 516 (1980)). Los depósitos controlados de acuerdo con la norma ISO 4524/3 (85) son no porosos, tienen una buena resistencia frente a la corrosión y para un espesor de 0,5 a 6 \mum resultan conformes al ensayo denominado "CASS TEST" definido por la norma ISO 9 227 (1990). Además, tienen una buena resistencia frente al frotamiento y pasan con un resultado positivo el ensayo denominado "BRITISH TELECOM".
Ejemplo 3 Baño de paladio-cobalto a alta velocidad
- Paladio (introducido en forma del compuesto A) 17 a 23 g/l.
- Cobalto (en forma de sulfato) 6,0 a 9,0 g/l.
- Etilendiamina 55 a 75 ml/l.
- Ácido trans 3-(3-piridil) acrílico 0,22 a 0,38 g/l.
- Sulfato de sodio 20 a 50 g/l.
Condiciones de procedimiento:
- pH (ácido sulfúrico/hidróxido de sodio) 3,5 a 4,5.
- Temperatura 60 a 75ºC.
- Agitación Fuerte a muy fuerte.
- Densidad de corriente 21 a 56 A/dm^{2}.
- Ánodo Titanio platinado.
Este baño deposita la aleación de paladio 75% - cobalto 25%, el depósito de 0,1 a 6 \mum es brillante espejo, dúctil, con una baja resistencia de contacto, duro. Los depósitos son no porosos, tienen una buena resistencia frente a la corrosión y frente al frotamiento.
Ejemplo 4 Baño de paladio decorativo
- Paladio (introducido en forma del compuesto A) 17 a 23 g/l.
- Níquel (en forma de sulfato) (preferiblemente 0,01 a 0,5 g/l).
- Etilendiamina 55 a 75 ml/l.
- Ácido trans 3-(3-piridil) acrílico 0,10 a 0,38 g/l.
- Sulfato de sodio 20 a 50 g/l.
Condiciones de procedimiento:
- pH (ácido sulfúrico/hidróxido de sodio) 3,5 a 4,5.
- Temperatura 30 a 75ºC.
- Agitación Moderada.
- Densidad de corriente 0,5 a 5 A/dm^{2}.
- Ánodo Titanio platinado.
Este baño en el que el níquel actúa exclusivamente como abrillantador, deposita paladio de pureza >99,9%. El depósito de 0,2 a 6 \mum es brillante espejo, blanco, dúctil, sin grietas. Los depósitos son no porosos, tienen una buena resistencia frente a la corrosión y frente al frotamiento.
Ejemplo 5 Baño de paladio-níquel decorativo
- Paladio (introducido en forma del compuesto A) 6 a 9 g/l.
- Níquel (en forma de sulfato) 18,0 a 22,0 g/l.
- Etilendiamina 55 a 75 ml/l.
- Ácido trans 3-(3-piridil) acrílico 0,02 a 0,15 g/l.
- Sulfato de sodio 20 a 50 g/l.
Condiciones de procedimiento:
- pH (ácido sulfúrico/hidróxido de sodio) 3,5 a 4,5.
- Temperatura 55 a 65ºC.
- Agitación Moderada.
- Densidad de corriente 1 a 5 A/dm^{2}.
- Ánodo Titanio platinado.
Este baño deposita la aleación paladio 80% níquel 20%. El depósito de 0,2 a 6 \mum es brillante espejo, blanco, dúctil, sin grietas. Los depósitos son no porosos, tienen una buena resistencia frente a la corrosión y frente al frotamiento.
Ejemplo 6 Baño de paladio-cobalto decorativo
- Paladio (introducido en forma del compuesto A) 10 a 14 g/l.
- Cobalto (en forma de sulfato) 7,5 a 8,5 g/l.
- Etilendiamina 55 a 75 ml/l.
- Ácido trans 3-(3-piridil) acrílico 0,02 a 0,15 g/l.
- Sulfato de sodio 20 a 50 g/l.
Condiciones de procedimiento:
- pH (ácido sulfúrico/hidróxido de sodio) 3,5 a 4,5.
- Temperatura 20 a 45ºC.
- Agitación Moderada.
- Densidad de corriente 1 a 8 A/dm^{2}.
- Ánodo Titanio platinado.
Este baño deposita la aleación paladio 70% - cobalto 30% para aplicación decorativa, el depósito de 0,2 a 6 \mum es brillante espejo, dúctil, sin grietas. Los depósitos son no porosos, tienen una buena resistencia frente a la corrosión y frente al frotamiento.
Ejemplo C Ilustración de la mejora de la vida útil de los baños
Con el fin de ilustrar el interés de la utilización del compuesto de la invención en el caso de un baño correspondiente al del ejemplo 2 anterior, a lo largo de una duración de utilización correspondiente a 10 ciclos, es decir al depósito de 10 veces la cantidad de paladio inicialmente en este baño (esta cantidad corresponde por lo tanto en un baño que contiene 20 g/l de paladio al depósito de 200 g de paladio), se han realizado los ejemplos a y b que se muestran a continuación, para los cuales se ha optado deliberadamente por dar preferencia al ejemplo comparativo a imponiendo pérdidas de baño por arrastre mayores.
a) Ejemplo comparativo
En este ejemplo el reajuste se efectúa con los ingredientes siguientes:
-
Sulfato de paladio concentrado (acidez libre de 1 a 1,2 moles de ácido sulfúrico libre por mol de paladio).
-
Solución de sulfato de níquel.
-
Etilendiamina.
En este caso la electrólisis se ha realizado con una pérdida de baño por arrastre del 10 al 12% para un depósito de paladio correspondiente a la cantidad de paladio inicialmente en el baño.
A pesar de estas condiciones, el seguimiento de la evolución de la densidad del baño en función de su vida útil ha demostrado que con este modo de mantenimiento, e incluso con arrastres importantes, el electrolito alcanza rápidamente su saturación con sal después de 7 ciclos. Esto corresponde a una densidad que alcanza 1,27 a 1,3 a 25ºC. Es necesaria una filtración en frío para continuar el electrodepósito con un baño como éste.
Además, las adiciones de etilendiamina son importantes y necesitan un seguimiento preciso para conservar una concentración constante de etilendiamina en el baño.
b) Ejemplo de acuerdo con la invención
El reajuste en este ejemplo se realiza con los siguientes ingredientes:
-
Sal compleja de acuerdo con la invención.
-
Carbonato básico de níquel.
-
Etilendiamina.
En este caso, la electrólisis se ha realizado con una pérdida de baño por arrastre del 3 al 5% del volumen, por ciclo, es decir, en condiciones de pérdidas reducidas de volumen que prácticamente sólo implican una pequeña disminución de la densidad del baño.
A pesar de estas condiciones, se ha puesto de manifiesto que la adición de etilendiamina se corresponde sencillamente con las pérdidas por arrastre, es por tanto muy poco importante, y basta con un seguimiento muy espaciado en el tiempo, hasta el punto de que el baño puede funcionar varios ciclos sin adición de etilendiamina.
La densidad del baño permanece constante (d = 1,14) después de 10 ciclos, y ello mientras que las pérdidas por arrastre son claramente menores (3 al 5% en lugar del 10 al 12% del volumen en el caso del ejemplo comparativo).
En conclusión, estos resultados ponen claramente de manifiesto el interés de utilizar la sal compleja de paladio y de etilendiamina de la invención y de manera más general, el sistema global de mantenimiento de los baños de la invención.

Claims (14)

1. Sal compleja de sulfato de paladio y de etilendiamina, caracterizada en que contiene entre un 31 y un 41% de peso de paladio y en que la relación molar [SO_{4}]: [Pd] está comprendida entre 0,9 y 1,15 y la relación [etilendiamina]: [Pd] está comprendida entre 0,8 y 1,2.
2. Procedimiento para la preparación de una sal compleja de acuerdo con la reivindicación 1, caracterizada en que comprende la reacción de una solución de etilendiamina con una solución de sulfato de paladio en una relación molar [etilendiamina]: [Pd] comprendida entre 0,8 y 1,2, llevándose a cabo dicha reacción a temperatura ambiente durante al menos 12 horas.
3. Procedimiento de acuerdo con la reivindicación 2, caracterizado en que dicho sulfato de paladio se obtiene a partir de una solución de nitrato de paladio mediante la adición de ácido sulfúrico en una relación molar [H_{2}SO_{4}]: [Pd] comprendida entre 1 y 1,7, seguida de una etapa de eliminación de una mezcla de agua y de ácido nítrico.
4. Utilización de la sal compleja de acuerdo con la reivindicación 1 u obtenida de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 2 ó 3 para introducir paladio o ajustar su concentración en un baño electrolítico acuoso con pH ácido para el depósito electroquímico de paladio o de sus aleaciones.
5. Utilización de acuerdo con la reivindicación 4 caracterizada en que el pH de dicho baño está comprendido entre 3 y 5.
6. Utilización de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 4 ó 5, caracterizada en que el pH se estabiliza por medio de un tampón, siendo dicho tampón preferiblemente de tipo acético, cítrico, bórico, láctico, málico, ftálico, acrílico, tártrico, oxálico o succínico.
7. Utilización de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 4 a 6, caracterizada en que dicho baño electrolítico contiene etilendiamina en cantidad suficiente para complejar el paladio y hacerlo soluble en dicho baño.
8. Utilización de acuerdo con la reivindicación 7, caracterizada en que dicho baño contiene de 2 a 200 ml/l de etilendiamina.
9. Utilización de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 4 a 8, caracterizada en que dicho baño contiene de 1 a 100 g/l de paladio.
10. Utilización de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 4 a 9, caracterizada en que dicho baño contiene al menos un compuesto de un metal secundario destinado a ser codepositado en forma de aleación con el paladio, seleccionándose dicho metal secundario entre el grupo formado por níquel, cobalto, hierro, indio, oro, plata y estaño, con una concentración comprendida entre 0,1 y 60 g/l.
11. Utilización de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 4 a 10, caracterizada en que dicho baño contiene un metal que actúa como abrillantador mineral en concreto un metal seleccionado entre el grupo formado por níquel, cobalto, hierro, indio, oro, plata y estaño.
12. Utilización de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 10 u 11, caracterizada en que dicho metal secundario o dicho metal que actúa como abrillantador mineral se introduce en dicho baño en forma de carbonato, de sulfato, de hidróxido o de una de sus mezclas.
13. Utilización de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 4 a 12, caracterizada en que dicho baño contiene un abrillantado orgánico.
14. Utilización de acuerdo con la reivindicación 13, caracterizada en que dicho abrillantador es ácido 3-(3-piridil) acrílico, ácido 3-(3-quinolil) acrílico o una de sus sales, en concreto una de sus sales alcalinas.
ES01921483T 2000-04-06 2001-04-05 Sal compleja de paladio y su utilizacion para ajustar la concentracion en paladio de un baño electrolitico destinado para el deposito de paladio o de una de sus aleaciones. Expired - Lifetime ES2244603T3 (es)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR0004382A FR2807422B1 (fr) 2000-04-06 2000-04-06 Sel complexe de palladium et son utilisation pour ajuster la concentration en palladium d'un bain electrolytique destine au depot de palladium ou d'un de ses alliages
FR0004382 2000-04-06

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ES2244603T3 true ES2244603T3 (es) 2005-12-16

Family

ID=8848928

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ES01921483T Expired - Lifetime ES2244603T3 (es) 2000-04-06 2001-04-05 Sal compleja de paladio y su utilizacion para ajustar la concentracion en paladio de un baño electrolitico destinado para el deposito de paladio o de una de sus aleaciones.

Country Status (10)

Country Link
US (1) US6743950B2 (es)
EP (1) EP1268347B8 (es)
JP (1) JP4740508B2 (es)
CN (1) CN1214990C (es)
AT (1) ATE298729T1 (es)
AU (1) AU2001248466A1 (es)
DE (1) DE60111727T2 (es)
ES (1) ES2244603T3 (es)
FR (1) FR2807422B1 (es)
WO (1) WO2001077025A1 (es)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2807450B1 (fr) * 2000-04-06 2002-07-05 Engelhard Clal Sas Bain electrolytique destine au depot electrochimique du palladium ou de ses alliages
JP4765401B2 (ja) * 2005-05-18 2011-09-07 旭硝子株式会社 固体高分子形燃料電池用膜の製造方法及び固体高分子形燃料電池用膜電極接合体の製造方法
CN102037162B (zh) * 2008-05-07 2013-03-27 尤米科尔电镀技术有限公司 Pd-和Pd-Ni-电镀浴
DE502008000944D1 (de) * 2008-05-07 2010-08-26 Umicore Galvanotechnik Gmbh Verfahren zur Herstellung von Komplexen des Palladium(hydrogen) carbonats mit Aminliganden
EP2431502B1 (en) * 2010-09-21 2017-05-24 Rohm and Haas Electronic Materials LLC Cyanide-free silver electroplating solutions
JP2013189715A (ja) * 2013-06-06 2013-09-26 Umicore Galvanotechnik Gmbh Pd電解質浴およびPd−Ni電解質浴
CN104195604A (zh) * 2014-09-17 2014-12-10 朱忠良 一种抑制裂缝产生的铱电镀液及其电镀方法和镀膜物
CN105401182B (zh) * 2015-10-14 2017-06-23 佛山科学技术学院 一种在不锈钢上电镀厚钯的镀液配方及其电镀方法
CN108864200B (zh) * 2018-08-06 2020-12-11 金川集团股份有限公司 电镀用硫酸乙二胺钯的一步制备方法
CN112169811B (zh) * 2020-10-27 2023-03-24 金川集团股份有限公司 一种硫酸钯溶液的制备方法
CN114408858B (zh) * 2022-01-05 2023-03-17 北京科技大学 一种室温可吸氢锆基复合材料的制备方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1051383A (es) * 1965-02-17
CH572989A5 (es) * 1973-04-27 1976-02-27 Oxy Metal Industries Corp
US4278514A (en) * 1980-02-12 1981-07-14 Technic, Inc. Bright palladium electrodeposition solution
US4552628A (en) * 1982-09-09 1985-11-12 Engelhard Corporation Palladium electroplating and bath thereof
JPS5967388A (ja) * 1982-09-09 1984-04-17 エンゲルハ−ド・コ−ポレ−シヨン パラジウムメツキ浴
GB2171721B (en) * 1985-01-25 1989-06-07 Omi Int Corp Palladium and palladium alloy plating
US4673472A (en) * 1986-02-28 1987-06-16 Technic Inc. Method and electroplating solution for deposition of palladium or alloys thereof
GB8612361D0 (en) * 1986-05-21 1986-06-25 Engelhard Corp Gold electroplating bath
US5882736A (en) * 1993-05-13 1999-03-16 Atotech Deutschland Gmbh palladium layers deposition process
US5976344A (en) * 1996-05-10 1999-11-02 Lucent Technologies Inc. Composition for electroplating palladium alloys and electroplating process using that composition
US6346222B1 (en) * 1999-06-01 2002-02-12 Agere Systems Guardian Corp. Process for synthesizing a palladium replenisher for electroplating baths
FR2807450B1 (fr) * 2000-04-06 2002-07-05 Engelhard Clal Sas Bain electrolytique destine au depot electrochimique du palladium ou de ses alliages

Also Published As

Publication number Publication date
FR2807422A1 (fr) 2001-10-12
JP4740508B2 (ja) 2011-08-03
EP1268347B1 (fr) 2005-06-29
US20030047460A1 (en) 2003-03-13
EP1268347B8 (fr) 2005-09-21
ATE298729T1 (de) 2005-07-15
WO2001077025A1 (fr) 2001-10-18
CN1214990C (zh) 2005-08-17
CN1430579A (zh) 2003-07-16
DE60111727D1 (de) 2005-08-04
US6743950B2 (en) 2004-06-01
EP1268347A1 (fr) 2003-01-02
FR2807422B1 (fr) 2002-07-05
JP2003530371A (ja) 2003-10-14
AU2001248466A1 (en) 2001-10-23
DE60111727T2 (de) 2006-04-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ES2220757T3 (es) Baño electrolitico destinado para el deposito electroquimico del paladio o de sus aleaciones.
US8142639B2 (en) Hard gold alloy plating bath
ES2387055T3 (es) Baños de electrolitos de Pd y Pd-Ni
ES2244603T3 (es) Sal compleja de paladio y su utilizacion para ajustar la concentracion en paladio de un baño electrolitico destinado para el deposito de paladio o de una de sus aleaciones.
US20110308959A1 (en) Process for the deposition of platinum-rhodium layers having improved whiteness
ES2754262T3 (es) Electrolito y su uso para la deposición de recubrimientos de rutenio negro y recubrimientos obtenidos de esta manera
TWI452179B (zh) 金鍍覆液
JPS6254397B2 (es)
JP2003530486A5 (es)
KR101280675B1 (ko) 독성 금속 또는 독성 반금속의 사용 없이 전기도금에 의해 황색 금 합금 코팅을 수득하는 방법
JP3671102B2 (ja) 非シアンの電気金めっき浴
NL8105601A (nl) Samenstellingen en werkwijzen voor het elektrolytisch afzetten van palladium en palladiumlegeringen.
Nineva et al. Electrodeposition of Silver-Cobalt Coatings. Electrolytes.
US4778574A (en) Amine-containing bath for electroplating palladium
US4615774A (en) Gold alloy plating bath and process
IE841268L (en) Bath for the galvanic deposition of gold alloys.
JP3462338B2 (ja) 半光沢銀めっき用の光沢度調整剤
JP4740528B2 (ja) ニッケル−モリブデン合金めっき液とそのめっき皮膜及びめっき物品
JP2009280867A (ja) 電解合金めっき液及びそれを用いるめっき方法
EP0384679A1 (en) Electrolytic deposition of gold-containing alloys
JP2961256B1 (ja) 銀めっき浴及び銀/すず合金めっき浴並びにそれらのめっき浴を用いるめっき方法
JPH07150363A (ja) AlN基板用無電解Ni系メッキ液
US20040050712A1 (en) Acid dip for zinc-manganese alloy electrodeposition
JP3512942B2 (ja) 半光沢銀めっき用の光沢度調整剤
JPH08193290A (ja) 光沢パラジウム系めっき浴およびめっき方法