JP2961256B1 - 銀めっき浴及び銀/すず合金めっき浴並びにそれらのめっき浴を用いるめっき方法 - Google Patents
銀めっき浴及び銀/すず合金めっき浴並びにそれらのめっき浴を用いるめっき方法Info
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- JP2961256B1 JP2961256B1 JP14857098A JP14857098A JP2961256B1 JP 2961256 B1 JP2961256 B1 JP 2961256B1 JP 14857098 A JP14857098 A JP 14857098A JP 14857098 A JP14857098 A JP 14857098A JP 2961256 B1 JP2961256 B1 JP 2961256B1
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Abstract
【要約】
【課題】 平滑なめっきを与える銀めっき浴及び銀/す
ず合金めっき浴並びにそれらのめっき浴を用いるめっき
方法を提供する。 【解決手段】 銀イオン、しゅう酸イオン、塩素イオン
及びスルファミン酸イオンを含む酸性水溶液からなる銀
めっき浴。銀イオン、すずイオン、しゅう酸イオン、塩
素イオン及びスルファミン酸イオンを含む酸性水溶液か
らなる銀/すず合金めっき浴。
ず合金めっき浴並びにそれらのめっき浴を用いるめっき
方法を提供する。 【解決手段】 銀イオン、しゅう酸イオン、塩素イオン
及びスルファミン酸イオンを含む酸性水溶液からなる銀
めっき浴。銀イオン、すずイオン、しゅう酸イオン、塩
素イオン及びスルファミン酸イオンを含む酸性水溶液か
らなる銀/すず合金めっき浴。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、銀めっき浴及び銀
/すず合金めっき浴並びにそれらのめっき浴を用いるめ
っき方法に関するものである。
/すず合金めっき浴並びにそれらのめっき浴を用いるめ
っき方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】現在使用されている銀めっき浴は、アル
カリ性錯イオン浴で、その代表は毒性の強いシアンイオ
ン浴である。アルカリ性浴には毒性の少ない非シアン浴
としてのヨウ素イオン浴もあるが、この浴はヨウ素イオ
ンが空気中の酸素によって酸化されるので浴の保存性に
問題がある。一方、酸性の銀めっきの浴については、錯
化されていない酸性溶液中の銀イオンはその酸化還元速
度が極めて大きいので平滑なめっきとはならず、平滑め
っきを得るためには銀イオンを安定な錯化イオンとする
必要がある。しかし、現在のところ平滑めっきが得られ
る酸性溶液中での可溶性銀錯イオンは知られていない。
カリ性錯イオン浴で、その代表は毒性の強いシアンイオ
ン浴である。アルカリ性浴には毒性の少ない非シアン浴
としてのヨウ素イオン浴もあるが、この浴はヨウ素イオ
ンが空気中の酸素によって酸化されるので浴の保存性に
問題がある。一方、酸性の銀めっきの浴については、錯
化されていない酸性溶液中の銀イオンはその酸化還元速
度が極めて大きいので平滑なめっきとはならず、平滑め
っきを得るためには銀イオンを安定な錯化イオンとする
必要がある。しかし、現在のところ平滑めっきが得られ
る酸性溶液中での可溶性銀錯イオンは知られていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、平滑なめっ
きを与える銀めっき浴及び銀/すず合金めっき浴並びに
それらのめっき浴を用いるめっき方法を提供することを
その課題とする。
きを与える銀めっき浴及び銀/すず合金めっき浴並びに
それらのめっき浴を用いるめっき方法を提供することを
その課題とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者は、前記課題を
解決すべく鋭意研究を重ねた結果、今回、不溶性の塩化
銀から、しゅう酸イオンと塩素イオン及びスルファミン
酸イオンの存在下で安定な可溶性銀錯イオンが得られ、
この溶液から平滑な銀めっきが可能であることを見出し
た。また、この溶液にすずイオンを加えた浴からは、銀
/すず合金めっきの析出が可能であり、しかもめっき浴
中の銀とすずイオンの濃度及び電流密度を調整すること
により、はんだめっきの代替となる、すずが約96重量
%のすず/銀合金めっきを析出させることができること
を見出した。本発明は、これらの知見に基づいて完成さ
れたものである。即ち、本発明によれば、銀イオン、し
ゅう酸イオン、塩素イオン及びスルファミン酸イオンを
含む酸性水溶液からなる銀めっき浴が提供される。ま
た、本発明によれば、銀イオン、すずイオン、しゅう酸
イオン、塩素イオン及びスルファミン酸イオンを含む酸
性水溶液からなる銀/すず合金めっき浴が提供される。
さらに、本発明によれば、それらのめっき浴を用いるめ
っき方法が提供される。
解決すべく鋭意研究を重ねた結果、今回、不溶性の塩化
銀から、しゅう酸イオンと塩素イオン及びスルファミン
酸イオンの存在下で安定な可溶性銀錯イオンが得られ、
この溶液から平滑な銀めっきが可能であることを見出し
た。また、この溶液にすずイオンを加えた浴からは、銀
/すず合金めっきの析出が可能であり、しかもめっき浴
中の銀とすずイオンの濃度及び電流密度を調整すること
により、はんだめっきの代替となる、すずが約96重量
%のすず/銀合金めっきを析出させることができること
を見出した。本発明は、これらの知見に基づいて完成さ
れたものである。即ち、本発明によれば、銀イオン、し
ゅう酸イオン、塩素イオン及びスルファミン酸イオンを
含む酸性水溶液からなる銀めっき浴が提供される。ま
た、本発明によれば、銀イオン、すずイオン、しゅう酸
イオン、塩素イオン及びスルファミン酸イオンを含む酸
性水溶液からなる銀/すず合金めっき浴が提供される。
さらに、本発明によれば、それらのめっき浴を用いるめ
っき方法が提供される。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明の銀めっき浴は、銀イオ
ン、しゅう酸イオン、塩素イオン及びスルファミン酸イ
オンを含む酸性水溶液からなるものである。この場合の
銀イオン源としては、塩化銀や酢酸銀等の銀塩が用いら
れ、しゅう酸イオン源としては、しゅう酸又はその水溶
性塩が用いられ、塩素イオン源としては、塩化ナトリウ
ム、塩化カリウム等の金属塩化物が用いられ、スルファ
ミン酸イオン源としては、スルファミン酸が用いられ
る。
ン、しゅう酸イオン、塩素イオン及びスルファミン酸イ
オンを含む酸性水溶液からなるものである。この場合の
銀イオン源としては、塩化銀や酢酸銀等の銀塩が用いら
れ、しゅう酸イオン源としては、しゅう酸又はその水溶
性塩が用いられ、塩素イオン源としては、塩化ナトリウ
ム、塩化カリウム等の金属塩化物が用いられ、スルファ
ミン酸イオン源としては、スルファミン酸が用いられ
る。
【0006】本発明の銀めっき浴において、その銀イオ
ン濃度は0.005〜0.03モル/L、好ましくは
0.01〜0.02モル/L、そのしゅう酸イオン濃度
は0.2〜0.5モル/L、好ましくは0.3〜0.5
モル/L、そのNaCl等の水溶性塩由来の塩素イオン
濃度は2〜5モル/L、好ましくは3〜4モル/L、そ
のスルファミン酸イオン濃度は2〜5モル/L、好まし
くは3〜4モル/Lである。また、めっき浴中、しゅう
酸イオンは、銀イオン1モル当り、6〜10モルの割合
で存在する。一方、NaCl等の水溶性塩由来の塩素イ
オンは、銀イオン1モル当り、100〜200モルの割
合で存在する。スルファミン酸イオンは、銀イオン1モ
ル当り、50〜100モルの割合で存在する。銀めっき
浴のpHは、酸性領域、通常、0〜2の範囲に調節され
る。このpHの調節は、硫酸等のpH調節剤を用いて行
うことができる。本発明の銀めっき浴において、その銀
イオンは安定な錯イオンとして存在する。本発明の銀め
っき浴には、必要に応じ、界面活性剤やゼラチンを適量
加えることができ、これにより、光沢のよいかつ緻密な
めっきを得ることができる。
ン濃度は0.005〜0.03モル/L、好ましくは
0.01〜0.02モル/L、そのしゅう酸イオン濃度
は0.2〜0.5モル/L、好ましくは0.3〜0.5
モル/L、そのNaCl等の水溶性塩由来の塩素イオン
濃度は2〜5モル/L、好ましくは3〜4モル/L、そ
のスルファミン酸イオン濃度は2〜5モル/L、好まし
くは3〜4モル/Lである。また、めっき浴中、しゅう
酸イオンは、銀イオン1モル当り、6〜10モルの割合
で存在する。一方、NaCl等の水溶性塩由来の塩素イ
オンは、銀イオン1モル当り、100〜200モルの割
合で存在する。スルファミン酸イオンは、銀イオン1モ
ル当り、50〜100モルの割合で存在する。銀めっき
浴のpHは、酸性領域、通常、0〜2の範囲に調節され
る。このpHの調節は、硫酸等のpH調節剤を用いて行
うことができる。本発明の銀めっき浴において、その銀
イオンは安定な錯イオンとして存在する。本発明の銀め
っき浴には、必要に応じ、界面活性剤やゼラチンを適量
加えることができ、これにより、光沢のよいかつ緻密な
めっきを得ることができる。
【0007】本発明の銀めっき浴を用いて銀めっきを行
うには、めっき槽に本発明の銀めっき浴を充填するとと
もに、その陽極に白金被覆チタン板を用い、被めっき物
を陰極に用い、両極間に直流電圧を印加する。この場合
の電圧は2〜3ボルトであり、その電流密度は2〜5A
/dm2である。めっき温度は50〜90℃、好ましく
は60〜80℃であり、めっき時間は、5〜10分であ
る。めっき槽の陽極と陰極との間は陽イオン交換膜を用
いて分離することが好ましい。
うには、めっき槽に本発明の銀めっき浴を充填するとと
もに、その陽極に白金被覆チタン板を用い、被めっき物
を陰極に用い、両極間に直流電圧を印加する。この場合
の電圧は2〜3ボルトであり、その電流密度は2〜5A
/dm2である。めっき温度は50〜90℃、好ましく
は60〜80℃であり、めっき時間は、5〜10分であ
る。めっき槽の陽極と陰極との間は陽イオン交換膜を用
いて分離することが好ましい。
【0008】本発明の銀/すず合金めっき浴は、前記銀
めっき浴にすずイオンを加えたものである。この場合、
すずイオンとしては4価のすずイオンが用いられ、その
すずイオン源としては、4価のすず酸塩が用いられ、N
a2SnO3、K2SnO3等が挙げられる。
めっき浴にすずイオンを加えたものである。この場合、
すずイオンとしては4価のすずイオンが用いられ、その
すずイオン源としては、4価のすず酸塩が用いられ、N
a2SnO3、K2SnO3等が挙げられる。
【0009】本発明の銀/すず合金めっき浴において、
その銀イオン濃度は0.005〜0.03モル/L、好
ましくは0.01〜0.02モル/L、そのすずイオン
濃度は0.1〜0.4モル/L、好ましくは0.2〜
0.3モル/L、そのしゅう酸イオン濃度は0.2〜
0.8モル/L、好ましくは0.3〜0.5モル/L、
そのNaCl等の水溶性塩由来の塩素イオン濃度は2〜
5モル/L、好ましくは3〜4モル/L、そのスルファ
ミン酸イオン濃度は2〜5モル/L、好ましくは3〜4
モル/Lである。また、めっき浴中、しゅう酸イオンは
銀イオン1モル当り、6〜10モルの割合で存在する。
一方、NaCl等の水溶性塩由来の塩素イオンは、銀イ
オン1モル当り、100〜200モルの割合で存在す
る。スルファミン酸イオンは、銀イオン1モル当り、5
0〜100モルの割合で存在する。さらに、すずイオン
1モル当り、しゅう酸イオンを1.5〜3モルの割合で
存在させるのが好ましい。銀イオンとすずイオンは、所
望する銀/すず合金めっきの組成に応じて選定され、は
んだめっきの代替となるすず含有量の高い合金(すず9
6重量%、銀4重量%)の組成に近い合金を析出させる
ためには、銀イオン1モル当りすずイオンが10〜50
モル、好ましくは20〜30モルの浴組成とする。銀/
すず合金めっき浴のpHは、酸性領域、通常、0〜2の
範囲に調節される。このpHの調節は、硫酸等のpH調
節剤を用いて行うことができる。本発明の銀/すず合金
めっき浴において、その銀イオン及びすずイオンは錯イ
オンとして存在する。本発明の銀/すず合金めっき浴に
は、必要に応じ、界面活性剤やゼラチンを適量加えるこ
とができ、これにより、光沢のよいかつ緻密なめっきを
得ることができる。
その銀イオン濃度は0.005〜0.03モル/L、好
ましくは0.01〜0.02モル/L、そのすずイオン
濃度は0.1〜0.4モル/L、好ましくは0.2〜
0.3モル/L、そのしゅう酸イオン濃度は0.2〜
0.8モル/L、好ましくは0.3〜0.5モル/L、
そのNaCl等の水溶性塩由来の塩素イオン濃度は2〜
5モル/L、好ましくは3〜4モル/L、そのスルファ
ミン酸イオン濃度は2〜5モル/L、好ましくは3〜4
モル/Lである。また、めっき浴中、しゅう酸イオンは
銀イオン1モル当り、6〜10モルの割合で存在する。
一方、NaCl等の水溶性塩由来の塩素イオンは、銀イ
オン1モル当り、100〜200モルの割合で存在す
る。スルファミン酸イオンは、銀イオン1モル当り、5
0〜100モルの割合で存在する。さらに、すずイオン
1モル当り、しゅう酸イオンを1.5〜3モルの割合で
存在させるのが好ましい。銀イオンとすずイオンは、所
望する銀/すず合金めっきの組成に応じて選定され、は
んだめっきの代替となるすず含有量の高い合金(すず9
6重量%、銀4重量%)の組成に近い合金を析出させる
ためには、銀イオン1モル当りすずイオンが10〜50
モル、好ましくは20〜30モルの浴組成とする。銀/
すず合金めっき浴のpHは、酸性領域、通常、0〜2の
範囲に調節される。このpHの調節は、硫酸等のpH調
節剤を用いて行うことができる。本発明の銀/すず合金
めっき浴において、その銀イオン及びすずイオンは錯イ
オンとして存在する。本発明の銀/すず合金めっき浴に
は、必要に応じ、界面活性剤やゼラチンを適量加えるこ
とができ、これにより、光沢のよいかつ緻密なめっきを
得ることができる。
【0010】本発明の前記めっき浴を用いて銀/すず合
金めっきを行うには、めっき槽に本発明のめっき浴を充
填するとともに、その陽極に白金被覆チタン板を用い、
被めっき物を陰極に用い、両極間に直流電圧を印加す
る。この場合の電圧は5〜10ボルトであり、その電流
密度は20〜30A/dm2である。めっき温度は40
〜80℃、好ましくは50〜60℃であり、めっき時間
は、5〜10分である。めっき槽の陽極と陰極との間は
陽イオン交換膜を用いて分離することが好ましい。
金めっきを行うには、めっき槽に本発明のめっき浴を充
填するとともに、その陽極に白金被覆チタン板を用い、
被めっき物を陰極に用い、両極間に直流電圧を印加す
る。この場合の電圧は5〜10ボルトであり、その電流
密度は20〜30A/dm2である。めっき温度は40
〜80℃、好ましくは50〜60℃であり、めっき時間
は、5〜10分である。めっき槽の陽極と陰極との間は
陽イオン交換膜を用いて分離することが好ましい。
【0011】
【実施例】次に本発明を実施例によりさらに詳細に詳述
する。
する。
【0012】実施例1〜4 表1に示す成分組成(モル/リットル)のめっき浴(水
溶液)を調製し、その保存安定性及びそのめっき品質を
以下のようにして評価した。その結果を表1に示す。
溶液)を調製し、その保存安定性及びそのめっき品質を
以下のようにして評価した。その結果を表1に示す。
【0013】(保存安定性)めっき浴300mlをビー
カに入れ、これを室温に1週間保持した後、そのめっき
浴を観察した。その結果、めっき浴中ににごりが生じた
ものを×、生じなかったものを○とした。 (めっき品質)陽極に白金被覆チタン板を用い、陰極に
銅板を用い、これらの両極を銀めっき浴に浸漬して、銀
めっきを行った。銅板表面に形成された銀めっきを観察
し、以下の基準で評価した。 ○:非常に良好 △:良好 ×:不良
カに入れ、これを室温に1週間保持した後、そのめっき
浴を観察した。その結果、めっき浴中ににごりが生じた
ものを×、生じなかったものを○とした。 (めっき品質)陽極に白金被覆チタン板を用い、陰極に
銅板を用い、これらの両極を銀めっき浴に浸漬して、銀
めっきを行った。銅板表面に形成された銀めっきを観察
し、以下の基準で評価した。 ○:非常に良好 △:良好 ×:不良
【0014】
【表1】
【0015】実施例5〜8 表2に示す成分組成(モル/リットル)のめっき浴(水
溶液)を調製し、その保存安定性及びそのめっき品質を
以下のようにして評価した。その結果を表2に示す。
溶液)を調製し、その保存安定性及びそのめっき品質を
以下のようにして評価した。その結果を表2に示す。
【0016】(保存安定性)めっき浴300mlをビー
カに入れ、これを室温に1週間保持した後、そのめっき
浴を観察した。その結果、めっき浴中ににごりが生じた
ものを×、生じなかったものを○とした。 (めっき品質)陽極に白金被覆チタン板を用い、陰極に
銅板を用い、これらの両極を銀/すずめっき浴に浸漬し
て、めっきを行った。銅板表面に形成された銀/すず合
金めっきを観察し、以下の基準で評価した。 ○:非常に良好 △:良好 ×:不良
カに入れ、これを室温に1週間保持した後、そのめっき
浴を観察した。その結果、めっき浴中ににごりが生じた
ものを×、生じなかったものを○とした。 (めっき品質)陽極に白金被覆チタン板を用い、陰極に
銅板を用い、これらの両極を銀/すずめっき浴に浸漬し
て、めっきを行った。銅板表面に形成された銀/すず合
金めっきを観察し、以下の基準で評価した。 ○:非常に良好 △:良好 ×:不良
【0017】
【表2】
【0018】
【発明の効果】本発明のめっき浴は、保存安定性にすぐ
れるとともに、めっき浴としての性能にもすぐれ、本発
明のめっき浴を用いることにより、平滑な銀めっき及び
銀/すず合金めっきを得ることができる。
れるとともに、めっき浴としての性能にもすぐれ、本発
明のめっき浴を用いることにより、平滑な銀めっき及び
銀/すず合金めっきを得ることができる。
Claims (6)
- 【請求項1】 銀イオン、しゅう酸イオン、塩素イオン
及びスルファミン酸イオンを含む酸性水溶液からなる銀
めっき浴。 - 【請求項2】 銀イオン濃度が0.005〜0.03モ
ル/リットル、しゅう酸イオン濃度が0.2〜0.5モ
ル/リットル、塩素イオン濃度が2〜5モル/リットル
及びスルファミン酸イオンが2〜5モル/リットルであ
る請求項1の銀めっき浴。 - 【請求項3】 銀イオン、4価のすずイオン、しゅう酸
イオン、塩素イオン及びスルファミン酸イオンを含み、
チオアミド化合物又はチオール化合物を含まない酸性水
溶液からなる銀/すず合金めっき浴。 - 【請求項4】 銀イオン濃度が0.005〜0.03モ
ル/リットル、4価のすずイオン濃度が0.1〜0.4
モル/リットル、しゅう酸イオン濃度が0.2〜0.8
モル/リットル、塩素イオン濃度が2〜5モル/リット
ル及びスルファミン酸イオンが2〜5モル/リットルで
ある請求項3の銀/すず合金めっき浴。 - 【請求項5】 被めっき物に銀めっきを施す方法におい
て、そのめっき浴として、請求項1又は2の銀めっき浴
を用いることを特徴とする銀めっき方法。 - 【請求項6】 被めっき物に銀/すず合金めっきを施す
方法において、そのめっき浴として、請求項3又は4の
銀/すず合金めっき浴を用いることを特徴とする銀/す
ず合金めっき方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14857098A JP2961256B1 (ja) | 1998-05-29 | 1998-05-29 | 銀めっき浴及び銀/すず合金めっき浴並びにそれらのめっき浴を用いるめっき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14857098A JP2961256B1 (ja) | 1998-05-29 | 1998-05-29 | 銀めっき浴及び銀/すず合金めっき浴並びにそれらのめっき浴を用いるめっき方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2961256B1 true JP2961256B1 (ja) | 1999-10-12 |
JPH11343591A JPH11343591A (ja) | 1999-12-14 |
Family
ID=15455707
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14857098A Expired - Lifetime JP2961256B1 (ja) | 1998-05-29 | 1998-05-29 | 銀めっき浴及び銀/すず合金めっき浴並びにそれらのめっき浴を用いるめっき方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2961256B1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4816839B2 (ja) * | 2000-10-16 | 2011-11-16 | トヨタ自動車株式会社 | 高分子電解質型燃料電池用セパレータの製造方法 |
JP2007327127A (ja) * | 2006-06-09 | 2007-12-20 | Daiwa Fine Chemicals Co Ltd (Laboratory) | 銀めっき方法 |
US20150184307A1 (en) | 2012-07-31 | 2015-07-02 | Daiwa Fine Chemicals Co., Ltd. (Laboratory) | Silver electroplating solution |
-
1998
- 1998-05-29 JP JP14857098A patent/JP2961256B1/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH11343591A (ja) | 1999-12-14 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
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