JPS5815552B2 - クロム電気メツキ液 - Google Patents
クロム電気メツキ液Info
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- JPS5815552B2 JPS5815552B2 JP56033282A JP3328281A JPS5815552B2 JP S5815552 B2 JPS5815552 B2 JP S5815552B2 JP 56033282 A JP56033282 A JP 56033282A JP 3328281 A JP3328281 A JP 3328281A JP S5815552 B2 JPS5815552 B2 JP S5815552B2
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- plating
- chromium
- solution
- sulfate
- thiocyanate
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/04—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
- C25D3/06—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium from solutions of trivalent chromium
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はチオシアン酸クロム(■)錯体の平衡状態にさ
れた水溶液をクロム源として含むクロム電気メツキ液及
び浴に係る。
れた水溶液をクロム源として含むクロム電気メツキ液及
び浴に係る。
チオシアン酸クロム(■)錯体の平衡状態にされた水溶
液からのクロムのメッキが従来のクロム酸によるメッキ
よりも優れている種々の利点が本出願人所有の特公昭5
6−21075号の明細書に詳述されている。
液からのクロムのメッキが従来のクロム酸によるメッキ
よりも優れている種々の利点が本出願人所有の特公昭5
6−21075号の明細書に詳述されている。
その基本的方法の改良及び修正は、例えば特公昭56−
21356号及び特公昭56−36876号等の以後の
特許の明細書に記載されている。
21356号及び特公昭56−36876号等の以後の
特許の明細書に記載されている。
また、本出願人による特開昭54−134038号の明
細書は、陽イオン交換膜により分離された陽極液及び陰
極液を用いている3価のクロムによる方法の利点につい
て記載し、本出願人による特公昭56−45996号の
明細書は、クロム及びチオシアン酸塩の濃度のレベルを
始めに考えられていたレベルよりも相当に低下させるこ
とによって有利な効果が達成される、上記技術に関連し
た溶液及び方法について記載している。
細書は、陽イオン交換膜により分離された陽極液及び陰
極液を用いている3価のクロムによる方法の利点につい
て記載し、本出願人による特公昭56−45996号の
明細書は、クロム及びチオシアン酸塩の濃度のレベルを
始めに考えられていたレベルよりも相当に低下させるこ
とによって有利な効果が達成される、上記技術に関連し
た溶液及び方法について記載している。
メッキを行うために用いられる平衡状態にされたチオシ
アン酸クロム(■)錯体は、種々の出発材料から形成さ
れている。
アン酸クロム(■)錯体は、種々の出発材料から形成さ
れている。
前述の特公昭56−21075号の明細書に於て始めに
用いられた出発材料の塩は過塩素酸クロム及びチオシア
ン酸ナトリウムであった。
用いられた出発材料の塩は過塩素酸クロム及びチオシア
ン酸ナトリウムであった。
その溶液に充分な導電率を与えるために、更に過塩素酸
ナトリウムが支持電解質として加えられた。
ナトリウムが支持電解質として加えられた。
前述の特公昭56−21356号の明細書は、導電率を
与える塩として過塩素酸ナトリウム又は硫酸ナトリウム
を加えられた、カリウム又はナトリウムのへキザチオシ
アナトクロム(■)酸塩(K3Cr(NC8)6又はN
a5Cr(NC8)a)について提案している。
与える塩として過塩素酸ナトリウム又は硫酸ナトリウム
を加えられた、カリウム又はナトリウムのへキザチオシ
アナトクロム(■)酸塩(K3Cr(NC8)6又はN
a5Cr(NC8)a)について提案している。
硫酸カリウムも導電率を与え得る塩として言及されてい
るが、その実例は何ら示されていない。
るが、その実例は何ら示されていない。
前述の特公昭56−36876号の明細書に於ては、1
つの好ましい溶液が塩化クロム(■)(CrC13)及
びチオシアン酸ナトリウムから形成された。
つの好ましい溶液が塩化クロム(■)(CrC13)及
びチオシアン酸ナトリウムから形成された。
導電率を与えるために塩化カリウムが加えられた。
もう1つの好ましい溶液は、硫酸クロム(III)(C
r2 (SO4)3)及びチオシアン酸ナトリウムから
形成された。
r2 (SO4)3)及びチオシアン酸ナトリウムから
形成された。
この場合には、導電率を与えるために硫酸ナトリウムが
加えられた。
加えられた。
陰極液と陽極液とが隔膜によって分離されている。
前述の特開昭54−134038号の明細書に於ては、
陰極液が硫酸クロム(■) (Cr2(SO4)3)及びチオシアン酸ナトリウムか
ら形成され、導電率を与えるために塩化ナトリウムが加
えられた。
陰極液が硫酸クロム(■) (Cr2(SO4)3)及びチオシアン酸ナトリウムか
ら形成され、導電率を与えるために塩化ナトリウムが加
えられた。
陽極液は減極剤の水溶液から成り、導電率を与えるため
に硫酸ナトリウム(Na2SO4)が加えられた。
に硫酸ナトリウム(Na2SO4)が加えられた。
塩化ナトリウムではなく硫酸ナトリウムを陽極液中に用
いる利点は、陽極からの塩素の発生が相当に減少される
ことである。
いる利点は、陽極からの塩素の発生が相当に減少される
ことである。
前述の特公昭56−45996号の明細書に於て用いら
れている電解液は、クロムの濃度が0.03Mよりも低
くチオシアン酸塩の濃度もそれに比例して低いこと以外
は、前述の特開昭54−134038号の明細書の場合
と本質的に同様な構成成分を有している。
れている電解液は、クロムの濃度が0.03Mよりも低
くチオシアン酸塩の濃度もそれに比例して低いこと以外
は、前述の特開昭54−134038号の明細書の場合
と本質的に同様な構成成分を有している。
陰極液と陽極液とが陽イオン交換膜により分離されてい
る、前述の特開昭54−134038号及び特公昭56
−45996号の明細書に記載されている如き、電解質
からクロムをメッキする場合には、実際に於て、陽極に
於て著しい塩素の発生を生せしめるに光分な数の塩素イ
オンが陰極液から上記交換膜を通過し得ることが解った
。
る、前述の特開昭54−134038号及び特公昭56
−45996号の明細書に記載されている如き、電解質
からクロムをメッキする場合には、実際に於て、陽極に
於て著しい塩素の発生を生せしめるに光分な数の塩素イ
オンが陰極液から上記交換膜を通過し得ることが解った
。
これは、環境的に望ましくないだけでなく、表面上に塩
化鉛が形成されることから安価な鉛の陽極の使用を妨げ
ている。
化鉛が形成されることから安価な鉛の陽極の使用を妨げ
ている。
その代りに、白金で被覆されたチタンの陽極が用いられ
ねばならなかった。
ねばならなかった。
陰極液中に塩素イオンを有する浴に於げろもう1つの問
題は、pHの安定性が良好でなく、頻繁な調整を要する
ととである。
題は、pHの安定性が良好でなく、頻繁な調整を要する
ととである。
塩化物の支持電解液が上述の如き欠点を有していること
から、硫酸塩の使用が提案され得る。
から、硫酸塩の使用が提案され得る。
支持電解質のための導電率を与える塩として硫酸すトリ
ウムを用いている幾つかの例が、上述の従来技術に示さ
れている。
ウムを用いている幾つかの例が、上述の従来技術に示さ
れている。
その塩は安価であり、容易に溶解する。
陽極から有害な気体が放出されることもなく、その浴の
pHの安定性も改良される。
pHの安定性も改良される。
しかしながら、塩化物ではな(硫酸ナトリウムを用いて
いる、3価のクロムとチオシアン酸塩とのメッキ浴の効
率及びメッキ電流密度範囲は著しく減少されることが解
った。
いる、3価のクロムとチオシアン酸塩とのメッキ浴の効
率及びメッキ電流密度範囲は著しく減少されることが解
った。
この様な性能に於ける劣化の理由は、硫酸イオンとチオ
シアン酸クロム(■)錯体との間のイオン結合によるも
のと考えられ、これは溶液中に於ける上記錯体の移動度
及び電気化学的作用を妨げようとする。
シアン酸クロム(■)錯体との間のイオン結合によるも
のと考えられ、これは溶液中に於ける上記錯体の移動度
及び電気化学的作用を妨げようとする。
硫酸イオンとチオシアン酸クロム(■)錯体との間のイ
オン結合のメカニズムは十分に解明されたとはいえない
が、硫酸イオンとチオシアン酸クロム(■)錯体イオン
同志が電気的に引合ってゆるく結合しているものと考え
られる。
オン結合のメカニズムは十分に解明されたとはいえない
が、硫酸イオンとチオシアン酸クロム(■)錯体イオン
同志が電気的に引合ってゆるく結合しているものと考え
られる。
本発明は、支持電解質のための導電率を与える塩として
用いられた硫酸カリウムが3価のクロムによるメッキ方
法の性能に於てその様な劣化を生ぜしめないという発見
に基づくものである。
用いられた硫酸カリウムが3価のクロムによるメッキ方
法の性能に於てその様な劣化を生ぜしめないという発見
に基づくものである。
硫酸カリウムは前述の特公昭56−21356号の明細
書に於て導電率を与え得る塩として提案されてはいるが
、その使用例又はその利点については何ら提案されてい
ない。
書に於て導電率を与え得る塩として提案されてはいるが
、その使用例又はその利点については何ら提案されてい
ない。
硫酸カリウムを用いた場合には、その浴の効率が改良さ
れることが解った。
れることが解った。
しかしながら、メッキは硫酸ナトリウムの浴を用いた場
合よりも相当に高い電流密度で可能であるが、硫酸ナト
リウムの浴を用いた場合の様に低い電流密度では不可能
であることも観察された。
合よりも相当に高い電流密度で可能であるが、硫酸ナト
リウムの浴を用いた場合の様に低い電流密度では不可能
であることも観察された。
所与の電解質のための電流密度とメッキ電圧とは直接関
係しているので、より高い最小電流密度を必要とするこ
とはより高い最小メッキ電圧を必要とする。
係しているので、より高い最小電流密度を必要とするこ
とはより高い最小メッキ電圧を必要とする。
従って、本発明は、チオシアン酸クロム(III)錯体
の平衡状態にされた水溶液をクロム源として含み、メッ
キ処理のための導電率を与えるために充分な濃度を有す
る硫酸ナトリウムと硫酸カリウムとの混合物より本質的
に成る支持電解質を含んでいる、クロム電気メツキ液を
提供する。
の平衡状態にされた水溶液をクロム源として含み、メッ
キ処理のための導電率を与えるために充分な濃度を有す
る硫酸ナトリウムと硫酸カリウムとの混合物より本質的
に成る支持電解質を含んでいる、クロム電気メツキ液を
提供する。
それらの2つの塩の混合物を支持電解質として用いるこ
とによって、高いメッキ電圧を必要とせずに、高い効率
及び広いメッキ範囲の両方が達成され得る。
とによって、高いメッキ電圧を必要とせずに、高い効率
及び広いメッキ範囲の両方が達成され得る。
好実施例に於ては、9.5%迄の効率(60mAcm−
2,60℃、及びpH3,5に於て)及び1−0乃至1
000mA100Oのメッキ範囲が達成された。
2,60℃、及びpH3,5に於て)及び1−0乃至1
000mA100Oのメッキ範囲が達成された。
硫酸カリウムが効率及びメッキ範囲に於て有利な効果を
与える1つの理由は、カリウムが溶液中の硫酸イオンと
選択的にイオン結合し、従ってチオシアン酸クロム(■
)錯体の移動度に大きな影響を与えないためであると考
えられる。
与える1つの理由は、カリウムが溶液中の硫酸イオンと
選択的にイオン結合し、従ってチオシアン酸クロム(■
)錯体の移動度に大きな影響を与えないためであると考
えられる。
その効果を最大限にするためには、硫酸カリウムが飽和
濃度で存在することが好ましい。
濃度で存在することが好ましい。
又、硫酸すトリウムの濃度は1M以下又はIMであるこ
とが好ましい。
とが好ましい。
硫酸ナトリウムがこれよりも高い比率で用いられた場合
には、効率が低下し始める。
には、効率が低下し始める。
硫酸すトリウムの最適濃度は約0.5Mあると考えられ
る。
る。
陽極液と陰極液とが陽イオン交換膜により分離されてい
る3価のクロムとチオシアン酸塩との浴に於て、その様
な隔膜を用いる基本的な理由は、陽極に於て浴の構成成
分が陽極酸化されることを防ぐためである。
る3価のクロムとチオシアン酸塩との浴に於て、その様
な隔膜を用いる基本的な理由は、陽極に於て浴の構成成
分が陽極酸化されることを防ぐためである。
隔膜によってチオシアン酸の陰イオンを遮蔽する結果、
その代りに水が陽極で酸化されて、陽極液に水素イオン
が絶えず供給される。
その代りに水が陽極で酸化されて、陽極液に水素イオン
が絶えず供給される。
隔膜を経て陰極液中に侵透するそれらの水素イオンの束
(flux)は、陽極液の酸性度を維持する点で重要で
あり、それらが存在しない場合には陰極に於て絶えず水
素が発生されるために陽極液の酸性度が低下する。
(flux)は、陽極液の酸性度を維持する点で重要で
あり、それらが存在しない場合には陰極に於て絶えず水
素が発生されるために陽極液の酸性度が低下する。
従って、上記隔膜はpHを安定化させる様に働く。
塩素イオンが陽極液でなく陰極液中に存在することは、
その陰極液に与えるpn安定化効果を成る程度減少させ
ると考えられる。
その陰極液に与えるpn安定化効果を成る程度減少させ
ると考えられる。
その理由は完全に明らかではないが、隔膜の両側に於け
る塩化物の濃度差に関連し得る。
る塩化物の濃度差に関連し得る。
前述の如く、これは陽極液への塩素イオンの内方への束
を生せしめる。
を生せしめる。
その塩素イオンの束は、陽極液から陰極液への水素イオ
ンの外方の束を減少させる様に働くことが可能である。
ンの外方の束を減少させる様に働くことが可能である。
又、水の電解により陽極液中に水素イオンが生じる速度
が、塩素イオンの選択的酸化により低下する。
が、塩素イオンの選択的酸化により低下する。
この問題は、本発明のもう1つの特徴に従って、陽イオ
ン交換膜により分離されている陽極液と陰極液とより成
り、上記陰極液は塩化物を含まずそしてチオシアン酸ク
ロム(In)錯体の平衡状態にされた水溶液と、メッキ
処理のための導電率を与えるために充分な濃度を有する
硫酸カリウムを少くとも含んでいる支持電解質とより成
り、上記陽極液は同様に塩化物を含まずそして水溶液中
の硫酸イオンより成る、クロム電気メッキ浴を設けるこ
とにより、浴の効率に著しい影響を与えることなく解決
され得る。
ン交換膜により分離されている陽極液と陰極液とより成
り、上記陰極液は塩化物を含まずそしてチオシアン酸ク
ロム(In)錯体の平衡状態にされた水溶液と、メッキ
処理のための導電率を与えるために充分な濃度を有する
硫酸カリウムを少くとも含んでいる支持電解質とより成
り、上記陽極液は同様に塩化物を含まずそして水溶液中
の硫酸イオンより成る、クロム電気メッキ浴を設けるこ
とにより、浴の効率に著しい影響を与えることなく解決
され得る。
全部が硫酸カリウムより成る陰極液のメッキ範囲は不適
当な場合があり、その場合には効率を許容し得ない程度
迄低下させずにメッキ範囲を増すために光分な量の硫酸
ナトリウムが加えられることが好ましい。
当な場合があり、その場合には効率を許容し得ない程度
迄低下させずにメッキ範囲を増すために光分な量の硫酸
ナトリウムが加えられることが好ましい。
陽極液中の硫酸イオンは硫酸の水溶液として供給される
ことが好ましい。
ことが好ましい。
塩化物を含んでいない浴に於ける更にもう1つの重要な
点は、その陽極が白金で被覆されたチタンでなく鉛から
成り得ることである。
点は、その陽極が白金で被覆されたチタンでなく鉛から
成り得ることである。
ハル・セル中で行われたメッキの実験から定fA的結果
が得られた。
が得られた。
錯化剤としてチオシアン酸塩及びアスパラギン酸と、導
電率を与える塩と、pH緩衝剤として硼酸とを含む、0
.012Mのクロム濃度の電解質が用いられた。
電率を与える塩と、pH緩衝剤として硼酸とを含む、0
.012Mのクロム濃度の電解質が用いられた。
ハル・セルによる実験に加えて、より大きな浴が数ケ月
に至る期間の開動作された。
に至る期間の開動作された。
それらの浴に於ては、導電率を与える塩として硫酸カリ
ウムのみ、そして硫酸カリウムと硫酸ナトリウムとの混
合物の両方が用いられた。
ウムのみ、そして硫酸カリウムと硫酸ナトリウムとの混
合物の両方が用いられた。
それらのより大きな浴は、陽イオン交換膜により分離さ
れた陽極液と陰極液とを有した。
れた陽極液と陰極液とを有した。
それらの浴を″クロメタン″(chrometan−水
酸化硫酸クロム)及びチオシアン酸の陰イオンを用いて
トッピング(jopping)することにより、浴の本
質的組成を変えずに減損されたクロムが取換えられる。
酸化硫酸クロム)及びチオシアン酸の陰イオンを用いて
トッピング(jopping)することにより、浴の本
質的組成を変えずに減損されたクロムが取換えられる。
必要ならば、pHの調節は、導電率を与える塩の混合物
と同一の比率の水酸化カリウムと水酸化ナトリウムとの
混合物を用いて行われ得る。
と同一の比率の水酸化カリウムと水酸化ナトリウムとの
混合物を用いて行われ得る。
次に、比較例及び実施例を参照して、本発明について更
に詳細に説明する。
に詳細に説明する。
比較例 ■
始めに、濃縮されたクロム電気メツキ液が次の様にして
形成された。
形成された。
(a)60′?の硼酸(H3BD3)が750m1の脱
イオン水に加えられ、それから加熱及び攪拌されて硼酸
が溶解された。
イオン水に加えられ、それから加熱及び攪拌されて硼酸
が溶解された。
(b) 33.1.2 ?の硫酸クロム(cr2(s
o4)3.15H2o)及び1621グのチオシアン酸
ナトリウム(NaNC8)が上記溶液に加えられ、それ
から略70’Cに於て約30分間加熱及び攪拌された。
o4)3.15H2o)及び1621グのチオシアン酸
ナトリウム(NaNC8)が上記溶液に加えられ、それ
から略70’Cに於て約30分間加熱及び攪拌された。
(c) 16.625gのDLアスノぐラギン酸(N
H2CH2CH(COOH)2)が上記溶液に加えられ
、それから略75℃に於て約3時間の間部熱及び攪拌さ
れた。
H2CH2CH(COOH)2)が上記溶液に加えられ
、それから略75℃に於て約3時間の間部熱及び攪拌さ
れた。
その間、10重量%の水酸化すトリウム溶液を用いてp
Hが極めてゆつくつとpH1,5からpH3,0に調節
された。
Hが極めてゆつくつとpH1,5からpH3,0に調節
された。
pH3,0に達した後、平衡状態にされる間ずつと、そ
の値が維持された。
の値が維持された。
(d) 略1Mの濃度にするために充分な量の塩化ナ
トリウムが上記溶液に加えられそして又0.1gのFe
12(商品名−3M社製の湿潤剤)が加えられて、更に
30分間加熱及び攪拌された。
トリウムが上記溶液に加えられそして又0.1gのFe
12(商品名−3M社製の湿潤剤)が加えられて、更に
30分間加熱及び攪拌された。
(e) 再び、上記溶液が水酸化ナトリウム溶液を用
いてpH3,0に調節される。
いてpH3,0に調節される。
(f) 10容量%の塩酸を用いてpH3,0に調節さ
れた上記溶液が脱イオン水を用いて11にされた。
れた上記溶液が脱イオン水を用いて11にされた。
その結果形成され濃縮されたクロム電気メツキ液は次の
組成を有する。
組成を有する。
平衡状態にされた結果得られた最終的なりロム電気メツ
キ液はクロムと、チオシアン酸塩と、アスパラギン酸と
の錯体であると考えられる。
キ液はクロムと、チオシアン酸塩と、アスパラギン酸と
の錯体であると考えられる。
120m1の上記溶液が60g/lの硼酸及び60g/
lの塩化ナトリウムを含む溶液を用いて11にされた。
lの塩化ナトリウムを含む溶液を用いて11にされた。
その最終的なりロム電気メツキ液(湿潤剤を除く)は次
の組成を有した。
の組成を有した。
上記溶液が、陰極として接続されている標準的す真鍮の
ハル・セル・テスト・パネル及び白金で被覆されたチタ
ンの陽極を有するハル・セル中に導入された。
ハル・セル・テスト・パネル及び白金で被覆されたチタ
ンの陽極を有するハル・セル中に導入された。
60℃の温度及びpH3,5に調節された溶液を用いて
、10Aの全電流がハル・セル中に流され、その結果テ
スト・パネル上に輝くクロムの付着物が形成された。
、10Aの全電流がハル・セル中に流され、その結果テ
スト・パネル上に輝くクロムの付着物が形成された。
必要なメッキ電流を維持するために、10.6Vの電圧
がハル・セルに加えられた。
がハル・セルに加えられた。
そのハル・セル・テスト・パネルを調べた結果、10乃
至700mAcm−2の電流密度範囲内で許容され得る
程度の輝くメッキが得られた。
至700mAcm−2の電流密度範囲内で許容され得る
程度の輝くメッキが得られた。
効率の測定が、陽極の袋を用いそして上記組成のメッキ
液を陰極液として含む別のセル中で行われた。
液を陰極液として含む別のセル中で行われた。
その陽極の袋は、2容量%の濃度の硫酸の水溶液から成
る陽極液から陰極液を分離している、過弗素化された陽
イオン交換膜であった。
る陽極液から陰極液を分離している、過弗素化された陽
イオン交換膜であった。
この溶液のメッキ効率は、これらの別の実験結果から、
4アンペア時/lのメッキの後に8%から6%に低下す
ることが算出された。
4アンペア時/lのメッキの後に8%から6%に低下す
ることが算出された。
その効率は75mACrIL−2の電流密度、60℃の
温度、及びpH3,5に於て測定された。
温度、及びpH3,5に於て測定された。
上記隔膜が存在しているにも拘らず、略0.5M迄の濃
度の塩素イオンが陽極液中に検出されて、陽極に於て塩
素が発生し、更に浴のpHが急速に増加し始めて、頻繁
に調節されねばならなかった。
度の塩素イオンが陽極液中に検出されて、陽極に於て塩
素が発生し、更に浴のpHが急速に増加し始めて、頻繁
に調節されねばならなかった。
比較例 ■
導電率を与える塩として塩化ナトリウムの代りに硫酸ナ
トリウム(Na2so4)が用いられた以外は、比較例
■の場合と全く同様にして、2つのメッキ液が形成され
た。
トリウム(Na2so4)が用いられた以外は、比較例
■の場合と全く同様にして、2つのメッキ液が形成され
た。
その一方のメッキ液はIMの濃度の硫酸ナトリウムを有
し、他方のメッキ液は2Mの濃度の硫酸ナトリウムを有
した。
し、他方のメッキ液は2Mの濃度の硫酸ナトリウムを有
した。
比較例■の場合と同じ陽極を有する・・ル・セル中に、
それらのメッキ液が電解液として導入された。
それらのメッキ液が電解液として導入された。
テスト・パネルが1.OAの全電流がメッキされて、輝
くクロムの付着物が形成された。
くクロムの付着物が形成された。
すべての実験に於て、60℃の温度が用いられ、メッキ
液がpH3,5に調節された。
液がpH3,5に調節された。
1Mの硫酸ナトリウムの電解液に於ては、上記電流を維
持するためにセルの両端に1.5.2Vが必要とされた
。
持するためにセルの両端に1.5.2Vが必要とされた
。
ハル・セル中に於けるその電流密度のメッキ範囲は20
乃至600mAcm−2であった。
乃至600mAcm−2であった。
2Mの硫酸ナトリウムの電解液に於ては、10Aの電流
を維持するために1.3.2Vが必要とされた。
を維持するために1.3.2Vが必要とされた。
そのメッキ範囲は、導電率を与える塩として塩化物を用
いた場合よりも狭く、10乃至500mAcm−2迄減
少した。
いた場合よりも狭く、10乃至500mAcm−2迄減
少した。
更に実験が行われ、比較例■の場合と同一の陽極の隔膜
及び陽極液を有しそして陰極液として1M及び2Mの硫
酸ナトリウムのメッキ液を用いている別個のセル中に於
て効率が測定された。
及び陽極液を有しそして陰極液として1M及び2Mの硫
酸ナトリウムのメッキ液を用いている別個のセル中に於
て効率が測定された。
1Mの硫酸ナトリウムの陰極液に於ては、50乃至55
mAcm−2の電流密度、60℃の温度、及びpH3,
5に於て測定された、その溶液の初期の効率は7.0%
であった。
mAcm−2の電流密度、60℃の温度、及びpH3,
5に於て測定された、その溶液の初期の効率は7.0%
であった。
2Mの硫酸ナトリウムの陰極液に於ては、上記の場合と
同一条件の下で別個に測定された初期の効率は7.5%
であったが、急速に45%の維持された効率迄低下した
。
同一条件の下で別個に測定された初期の効率は7.5%
であったが、急速に45%の維持された効率迄低下した
。
何ら塩化物が用いられていないので、陽極に於て塩素が
発生されない。
発生されない。
しかしながら、硫酸ナトリウムの浴の維持された効率及
びメッキ範囲は塩化物の浴の場合よりも減少した。
びメッキ範囲は塩化物の浴の場合よりも減少した。
比較例 ■
導電率を与える塩として塩化ナトリウムの代りに硫酸カ
リウム(K2SO4)が用いられ、水酸化ナトリウムの
代りに水酸化カリウノ・が用いられ、そしてチオシアン
酸ナトリウムの代りにチオシアン酸カリウムが用いられ
た以外は比較例■の場合と同様にして、メッキ液が形成
された。
リウム(K2SO4)が用いられ、水酸化ナトリウムの
代りに水酸化カリウノ・が用いられ、そしてチオシアン
酸ナトリウムの代りにチオシアン酸カリウムが用いられ
た以外は比較例■の場合と同様にして、メッキ液が形成
された。
硫酸カリウムは飽和濃度で含まれ、硫酸水素カリウムか
ら形成された。
ら形成された。
このメッキ液は、前述の比較例の場合と同一の陽極、陰
極液、及び隔膜の配置を有するセル中に、陰極液として
導入された。
極液、及び隔膜の配置を有するセル中に、陰極液として
導入された。
効率の測定が、50乃糸55mAcm−2の電流密度、
60゛Cの温度、及びpH3,5に於て行われた。
60゛Cの温度、及びpH3,5に於て行われた。
その溶液の初期の効率は9%であり、長時間の後も僅か
8.5%迄しか低下しなかった。
8.5%迄しか低下しなかった。
従って、導電率を与えるために硫酸カリウムを用いてい
る浴は硫酸すトリウムを用いた浴(比較例■を参照)の
場合よりも相当に良好な電流効率を有した。
る浴は硫酸すトリウムを用いた浴(比較例■を参照)の
場合よりも相当に良好な電流効率を有した。
又、この浴のpHの安定性も比較例■の浴より良好であ
った。
った。
この溶液のpHは、40アンペア時/lの電荷が通され
た後に、僅かに3.5から4.0迄しか増加しなかった
。
た後に、僅かに3.5から4.0迄しか増加しなかった
。
それから、硫酸を用いて再び3.5に調節された。
隔膜は、陰極液の構成成分との間に選択的に生じる他の
反応によってではなく陽極に於て水の電解を可能にする
ことによって、pHを安定させる様に働く。
反応によってではなく陽極に於て水の電解を可能にする
ことによって、pHを安定させる様に働く。
加水分解は水素イオンを生じ、それらは隔膜を通過しそ
して陰極に於ける水素の発生により失われた水素イオン
に置換わり得る。
して陰極に於ける水素の発生により失われた水素イオン
に置換わり得る。
硫酸塩は隔膜を通過しないので、水素イオンの束は陰極
液中の塩化物の場合よりも大きい。
液中の塩化物の場合よりも大きい。
又、硫酸塩は、塩化物の場合と異なって、陽極に於て選
択的に酸化せず、従って最大数の水素イオンを生せしめ
得る。
択的に酸化せず、従って最大数の水素イオンを生せしめ
得る。
メッキ範囲及び最小メッキ電圧を決定するために、本実
施例のメッキ液がハル・セル中に電解質として導入され
た。
施例のメッキ液がハル・セル中に電解質として導入され
た。
テスト・パネルが10Aの全電流でメッキされて、輝く
クロムの付着物が形成された。
クロムの付着物が形成された。
そのメッキ液の温度は60℃であり、そのpHは3.5
に調節された。
に調節された。
そのメッキ電流を維持するために、11.9Vの電圧を
要した。
要した。
そのハル・セルに於けるメッキ範囲は25乃至略100
0mA100Oであった。
0mA100Oであった。
テスト・パネルがその先端迄正しくメッキされたので、
そのメッキ範囲の上限は正確には決定されなかった。
そのメッキ範囲の上限は正確には決定されなかった。
導電率を与えるために硫酸ナトリウムを用いた浴と比べ
て、硫酸カリウムを用いた浴はより高い上限のメッキ電
流密度を有したが、より低いメッキのための値も増加し
た。
て、硫酸カリウムを用いた浴はより高い上限のメッキ電
流密度を有したが、より低いメッキのための値も増加し
た。
従って、硫酸カリウムは、特に隔膜を有する浴に於て、
導電率を与える塩として用いられるために有利である。
導電率を与える塩として用いられるために有利である。
しかしながら、硫酸カリウムは、メッキ範囲の下限が比
較的高<25mAcm二2であるという欠点を有する。
較的高<25mAcm二2であるという欠点を有する。
既に述べた如く、このより高い最小電流密度を必要とす
ることは、他の場合に必要とされるよりも高い最小メッ
キ電圧が必要とされることを意味する。
ることは、他の場合に必要とされるよりも高い最小メッ
キ電圧が必要とされることを意味する。
これは、用いられ得る供給電圧が限定されている動作環
境に於ては不利である。
境に於ては不利である。
実施例 ■
比較例■の場合と同様にしてメッキ液が形成されたが、
この場合には1Mの濃度(はぼ飽和濃度)の硫酸カリウ
ムに加えて、更に0.5Mの濃度の硫酸ナトリウムが加
えられた。
この場合には1Mの濃度(はぼ飽和濃度)の硫酸カリウ
ムに加えて、更に0.5Mの濃度の硫酸ナトリウムが加
えられた。
導電率を与える塩として混合物を用いている上記メッキ
液が前述の比較例の場合と同一の陽極、陽極液、及び隔
膜の配置を有する電気メッキ・セル中に陰極液として導
入された。
液が前述の比較例の場合と同一の陽極、陽極液、及び隔
膜の配置を有する電気メッキ・セル中に陰極液として導
入された。
その初期のメッキ効率は、比較例■の場合と同一の条件
の下で測定されて、8%であった。
の下で測定されて、8%であった。
別の実験に於て、同一のメッキ液が比較例■の場合と同
一条件の下でハル・セル中に電解質として導入された。
一条件の下でハル・セル中に電解質として導入された。
テスト・パネルが10Aの全電流でメッキされて、輝く
クロムの付着物が形成された。
クロムの付着物が形成された。
その電流を維持するために、11.2Vの電圧を要した
。
。
そのハル・セルに於けるメッキ範囲は10乃至略100
0mA100Oであった。
0mA100Oであった。
これは、比較例■〜■の場合よりも広い。
これは、浴に於て満足すべきメッキを達成するために、
カリウムのみの浴の場合に要したよりも相当に低い最小
電圧しか必要としないことを意味する。
カリウムのみの浴の場合に要したよりも相当に低い最小
電圧しか必要としないことを意味する。
従って、導電率を与える塩として硫酸ナトリウムと硫酸
カリウムとの混合物を用いている浴は、導電率を与える
ために塩化物を用いた場合の欠点を克服して、高い効率
及び良好なメッキ範囲の両方を有する。
カリウムとの混合物を用いている浴は、導電率を与える
ために塩化物を用いた場合の欠点を克服して、高い効率
及び良好なメッキ範囲の両方を有する。
実施例 ■
異なる濃度の硫酸ナトリウムを有する幾つかのメッキ液
が実施例■の場合と同様にして形成された。
が実施例■の場合と同様にして形成された。
メッキの実験が実施例■の場合と同様にして行われた。
各々の場合に於て、10A電流を維持するために要する
電圧及び電流密度のメッキ範囲がハル・セルに於て決定
された。
電圧及び電流密度のメッキ範囲がハル・セルに於て決定
された。
初期のメッキ効率が、比較例■の場合と同一条件の下で
、陽極の隔膜を用いた別のセルに於て決定された。
、陽極の隔膜を用いた別のセルに於て決定された。
維持された効率は決定されなかった。
次に示す結果が得られた。
実施例 ■
チオシアン酸カリウムでな(チオシアン酸ナトリウムが
同一モル濃度(0,012M)の硫酸クロム中に用いら
れそして硼酸の濃度が60 ?/l:から75 ?/l
:に増加された以外は実施例■の場合と同様にして、メ
ッキ液が形成された。
同一モル濃度(0,012M)の硫酸クロム中に用いら
れそして硼酸の濃度が60 ?/l:から75 ?/l
:に増加された以外は実施例■の場合と同様にして、メ
ッキ液が形成された。
そのメッキ液の組成は次に示す始めの構成部分によって
示されろ。
示されろ。
硫酸クロム 0.012Mチオシアン酸
ナトリウム 0.012Mアスパラギン酸
0.015M硼酸 75g/l 硫酸ナトリウム 0,5M 硫酸カリウム 1.0M ハル・セルによる実験は60℃の温度に於てpH3,5
に調節されたメッキ液を用いて行われた。
ナトリウム 0.012Mアスパラギン酸
0.015M硼酸 75g/l 硫酸ナトリウム 0,5M 硫酸カリウム 1.0M ハル・セルによる実験は60℃の温度に於てpH3,5
に調節されたメッキ液を用いて行われた。
そのメッキ範囲は10乃至略1000mA100Oであ
った。
った。
その支持電解質は実施例■の場合と同一であるので、こ
れは10Aの全電流を維持するために実施例Iの場合と
同様なメッキ電圧を要することを意味するが、その電圧
は実際には測定されなかった。
れは10Aの全電流を維持するために実施例Iの場合と
同様なメッキ電圧を要することを意味するが、その電圧
は実際には測定されなかった。
しかしながら、実施例■の場合と同様にして別個に測定
された初期の効率は95%に増加した。
された初期の効率は95%に増加した。
この場合も60℃の温度及びpH3,5のメッキ液が用
いられたが、電流密度は60mAcm−2であった。
いられたが、電流密度は60mAcm−2であった。
又、これらの実験に於て形成された輝くクロムの付着物
は実施例■に於て形成されたものよりもより明るい色を
有することが観察された。
は実施例■に於て形成されたものよりもより明るい色を
有することが観察された。
Claims (1)
- 1 チオシアン酸クロム(■)錯体の平衡状態にされた
水溶液をクロム源として含み、更に導電性塩を含むクロ
ム電気メツキ液において、前記メッキ液が塩化物を含ま
ず、前記導電性塩が飽和濃度の硫酸カリウムとIM以下
の濃度の硫酸ナトリウムとの混合物から成っていること
を特徴とするクロム電気メツキ液。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8008034A GB2071151B (en) | 1980-03-10 | 1980-03-10 | Trivalent chromium electroplating |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS56139690A JPS56139690A (en) | 1981-10-31 |
JPS5815552B2 true JPS5815552B2 (ja) | 1983-03-26 |
Family
ID=10511969
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56033282A Expired JPS5815552B2 (ja) | 1980-03-10 | 1981-03-10 | クロム電気メツキ液 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
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EP (1) | EP0035667B1 (ja) |
JP (1) | JPS5815552B2 (ja) |
CA (1) | CA1195646A (ja) |
DE (1) | DE3163806D1 (ja) |
GB (1) | GB2071151B (ja) |
Families Citing this family (14)
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---|---|---|---|---|
GB2109817B (en) * | 1981-11-18 | 1985-07-03 | Ibm | Electrodeposition of chromium |
GB2110242B (en) * | 1981-11-18 | 1985-06-12 | Ibm | Electroplating chromium |
GB2109816B (en) * | 1981-11-18 | 1985-01-23 | Ibm | Electrodeposition of chromium |
GB2109815B (en) * | 1981-11-18 | 1985-09-04 | Ibm | Electrodepositing chromium |
EP0085771B1 (en) * | 1982-02-09 | 1988-04-20 | International Business Machines Corporation | Electrodeposition of chromium and its alloys |
US7585398B2 (en) * | 1999-04-13 | 2009-09-08 | Semitool, Inc. | Chambers, systems, and methods for electrochemically processing microfeature workpieces |
US6368475B1 (en) * | 2000-03-21 | 2002-04-09 | Semitool, Inc. | Apparatus for electrochemically processing a microelectronic workpiece |
US7780840B2 (en) * | 2008-10-30 | 2010-08-24 | Trevor Pearson | Process for plating chromium from a trivalent chromium plating bath |
US9765437B2 (en) * | 2009-03-24 | 2017-09-19 | Roderick D. Herdman | Chromium alloy coating with enhanced resistance to corrosion in calcium chloride environments |
US8512541B2 (en) | 2010-11-16 | 2013-08-20 | Trevor Pearson | Electrolytic dissolution of chromium from chromium electrodes |
RS59292B1 (sr) * | 2014-05-21 | 2019-10-31 | Tata Steel Ijmuiden Bv | Postupak za proizvodnju supstrata obloženih hromom-hrom oksidom |
EP3147388A1 (en) * | 2015-09-25 | 2017-03-29 | Enthone, Incorporated | Flexible color adjustment for dark cr(iii)-platings |
DE102018212862A1 (de) | 2017-08-02 | 2019-02-07 | Robert Bosch Gmbh | Bremsscheibe und Verfahren zur Herstellung einer Bremsscheibe |
KR20200052588A (ko) | 2018-11-07 | 2020-05-15 | 윤종오 | 3가 크롬 합금 도금액, Cr-Ti-Au 합금 도금액, Cr-Ti-Ni 합금 도금액, Cr-Ti-Co 합금 도금액 및 도금 제품 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB301478A (en) * | 1927-12-01 | 1929-02-21 | Langbein Pfanhauser Werke Ag | Process for the electrolytic deposition of chromium |
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AU2348470A (en) * | 1969-12-29 | 1972-07-06 | International Lead Zinc Research Organization | Aqueous chromium plating baths |
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GB1431639A (en) * | 1974-12-11 | 1976-04-14 | Ibm Uk | Electroplating chromium and its alloys |
GB1498532A (en) * | 1975-03-26 | 1978-01-18 | Bnf Metals Tech Centre | Trivalent chromium plating baths |
GB1498533A (en) * | 1975-03-26 | 1978-01-18 | Bnf Metals Tech Centre | Trivalent chromium plating baths |
GB1562188A (en) * | 1975-08-27 | 1980-03-05 | Albright & Wilson | Chromium electroplating baths |
DE2550615A1 (de) * | 1975-11-11 | 1977-05-18 | Int Lead Zinc Res | Waessriges verchromungsbad und verfahren zu seiner herstellung |
US4141803A (en) * | 1975-12-03 | 1979-02-27 | International Business Machines Corporation | Method and composition for electroplating chromium and its alloys and the method of manufacture of the composition |
US4161432A (en) * | 1975-12-03 | 1979-07-17 | International Business Machines Corporation | Electroplating chromium and its alloys |
GB1544833A (en) * | 1975-12-18 | 1979-04-25 | Albright & Wilson | Chromium electroplating |
GB1591051A (en) * | 1977-01-26 | 1981-06-10 | Ibm | Electroplating chromium and its alloys |
GB1552263A (en) * | 1977-03-04 | 1979-09-12 | Bnf Metals Tech Centre | Trivalent chromium plating baths |
-
1980
- 1980-03-10 GB GB8008034A patent/GB2071151B/en not_active Expired
-
1981
- 1981-02-16 EP EP81101075A patent/EP0035667B1/en not_active Expired
- 1981-02-16 DE DE8181101075T patent/DE3163806D1/de not_active Expired
- 1981-03-03 US US06/239,919 patent/US4374007A/en not_active Expired - Lifetime
- 1981-03-05 CA CA000372416A patent/CA1195646A/en not_active Expired
- 1981-03-10 JP JP56033282A patent/JPS5815552B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0035667A1 (en) | 1981-09-16 |
EP0035667B1 (en) | 1984-05-30 |
JPS56139690A (en) | 1981-10-31 |
GB2071151A (en) | 1981-09-16 |
GB2071151B (en) | 1983-04-07 |
US4374007A (en) | 1983-02-15 |
DE3163806D1 (en) | 1984-07-05 |
CA1195646A (en) | 1985-10-22 |
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