EA004211B1 - Стекло с солнцезащитным покрытием - Google Patents

Стекло с солнцезащитным покрытием Download PDF

Info

Publication number
EA004211B1
EA004211B1 EA200101031A EA200101031A EA004211B1 EA 004211 B1 EA004211 B1 EA 004211B1 EA 200101031 A EA200101031 A EA 200101031A EA 200101031 A EA200101031 A EA 200101031A EA 004211 B1 EA004211 B1 EA 004211B1
Authority
EA
Eurasian Patent Office
Prior art keywords
layer
antimony
acid
low emissivity
tin oxide
Prior art date
Application number
EA200101031A
Other languages
English (en)
Other versions
EA200101031A1 (ru
Inventor
Дэвид Алан Руссо
Клем С. Маккоун
Кристоф Роджер
Джеффри Л. Страйкер
Original Assignee
Атофина Кемикалс, Инк.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Атофина Кемикалс, Инк. filed Critical Атофина Кемикалс, Инк.
Publication of EA200101031A1 publication Critical patent/EA200101031A1/ru
Publication of EA004211B1 publication Critical patent/EA004211B1/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
    • C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23—Oxides
    • C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
    • C03C17/2453—Coating containing SnO2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/211—SnO2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/24—Doped oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/24—Doped oxides
    • C03C2217/241—Doped oxides with halides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/24—Doped oxides
    • C03C2217/244—Doped oxides with Sb
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/90—Other aspects of coatings
    • C03C2217/91—Coatings containing at least one layer having a composition gradient through its thickness
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
    • C03C2218/1525—Deposition methods from the vapour phase by cvd by atmospheric CVD
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
    • Y10T428/264—Up to 3 mils
    • Y10T428/265—1 mil or less
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
    • Y10T428/31627—Next to aldehyde or ketone condensation product
    • Y10T428/3163—Next to acetal of polymerized unsaturated alcohol [e.g., formal butyral, etc.]

Abstract

Предлагается солнцезащитное стекло, которое обладает приемлемым пропусканием света в видимой области спектра, поглощает свет в ближней инфракрасной (БИК) области спектра и отражает свет в средней ИК области спектра (обладает низкой излучательной способностью в средней ИК области) и которое имеет заданный цвет в отраженном свете видимой области спектра. Также предлагается способ получения улучшенного солнцезащитного стекла с покрытием, имеющим пониженный уровень дымчатости. Улучшенное стекло имеет слой, поглощающий солнечную энергию (в БИК области), содержащий оксид олова, который содержит легирующую примесь, такую как сурьма, и слой с низкой излучательной способностью (низким ε), способный отражать излучение в средней ИК области спектра и содержащий оксид олова, который содержит легирующую примесь, фтор и/или фосфор. Отдельный слой, подавляющий иризирующий (радужный) цвет, какой описан в известных покрытиях, как правило, не требуется для достижения нейтрального (бесцветного) вида стекла с покрытием, однако слой, подавляющий иризацию или иные слои могут быть скомбинированы с двухслойной системой, предлагаемой в настоящем изобретении. Если необходимо, могут быть использованы многослойные солнцезащитные системы и/или многослойные системы с низкой излучательной способностью. БИК слой и слой с низкой излучательной способностью могут представлять собой отдельные участки одной пленки из оксида олова, так как оба слоя состоят из легированного оксида олова.

Description

Настоящее изобретение относится к стеклу с покрытием, которое применяется для окон жилых домов, в архитектуре, на транспорте и в разных случаях, когда требуется и противосолнечная защита, и свойство низкой излучательной способности. Покрытия для противосолнечной защиты, имеющие низкую излучательную способность, содержат оксид олова с различными легирующими примесями. Настоящее изобретение позволяет избежать использования подслоя, подавляющего иризацию. Изделия из стекла могут иметь любую форму, но в типичном случае они плоские или с криволинейной поверхностью. Состав стекла может широко варьироваться, но в типичном случае это силикатное стекло, получаемое термополировкой. Это может быть отожженное, термоупрочненное или закаленное стекло.
Предшествующий уровень техники
Солнцезащитные свойства - это термин, описывающий свойство регулирования количества солнечной тепловой энергии, которая может быть пропущена через стеклянное изделие внутрь какого-либо замкнутого пространства, такого как здание или салон автомобиля. Низкая излучательная способность - это термин, описывающий свойство поверхности изделия, у которой поглощение и испускание инфракрасного излучения в средней части ИК диапазона подавлено, что делает эту поверхность отражателем инфракрасного излучения для средней части ИК диапазона и, таким образом, снижает тепловой поток через указанное изделие за счет ослабления излучательной составляющей процесса теплопередачи в сторону поверхности и от поверхности с низкой излучательной способностью (иногда называемой поверхностью с низким ε). За счет подавления передачи солнечного тепла внутренние помещения зданий и салоны автомобилей поддерживаются более холодными, что позволяет снизить требования к кондиционированию воздуха и уменьшить затраты. Эффективные покрытия с низкой излучательной способностью повышают комфортность и в летний, и в зимний сезоны за счет улучшения теплоизоляционных характеристик окон.
Для изделий из стекла с покрытием, которые одновременно обладают солнцезащитными свойствами и низкой излучательной способностью и которые пригодны для промышленного производства, важным, несомненно, является экономичность процессов получения этих изделий и их долговечность, а также обеспечение сопутствующих свойств, таких как светопропускание, видимость, цвет, чистота и светоотражение.
Как будет описано ниже, чтобы выполнить требования для стекол с солнцезащитными свойствами и низкой излучательной способностью, использовалось множество технологий, однако, ни одна из систем не обеспечивала успешно все требуемые характеристики при выполнении условия экономичности.
Многие покрытия и системы покрытий вызывали появление на изделии иризирующих (радужных) цветов. Это может быть вызвано химическим составом покрытия, толщиной какого-либо индивидуального слоя или слоев или взаимодействием подложки и слоев в отношении падающего света. Такая иризация может быть в некоторых случаях сведена к минимуму или исключена путем нанесения противорадужного слоя между стеклянной подложкой и первым слоем покрытия. Использование интерференционного слоя между стеклом и последующим функциональным слоем или слоями для подавления радужности или цветового отражения было впервые продемонстрировано Гордоном (Коу О. Оогбоп) и явилось предметом патента США № 4187336, выданного 5 февраля 1980 г. Технология Гордона определяет уровень техники для солнцезащитных стекол с покрытием, что подтверждается недавно выданным патентом США № 5780149 (14.07.98 г.), согласно которому для получения солнцезащитных свойств наносят два слоя поверх интерференционного слоя гордоновского типа. Такой интерференционный слой часто содержит двуокись кремния. По сравнению с уровнем техники настоящее изобретение обеспечивает неожиданный и значительный прорыв, исключая необходимость нанесения подслоя гордоновского типа для контроля отраженного цвета.
Патент США № 3149989 раскрывает составы покрытий, полезных при производстве стекла, отражающего излучение (т.е. солнцезащитного стекла). В качестве первого слоя покрытия, который связывается со стеклянной подложкой, используются, по меньшей мере, два вида покрытия, состоящие из оксида олова, легированного сурьмой в относительно высокой концентрации. Второй слой покрытия также состоит из оксида олова, легированного сурьмой в относительно низкой концентрации. Эти две пленки могут быть наложены одна на другую или могут наноситься на противоположные стороны стеклянной подложки. В любом случае, эти солнцезащитные покрытия не дают стеклянному изделию значительного снижения излучательной способности.
Патент США № 4287009 описывает теплопоглощающее стекло, предназначенное для преобразования падающих солнечных лучей в тепловую энергию, которая передается рабочей жидкости с целью дальнейшего теплопереноса.
Соответственным образом покрытое стекло поглощает не менее 85% лучей в диапазоне солнечного излучения и имеет относительно низкую излучательную способность, составляющую менее 2%. Покрытия наносятся на наружную сторону стекла (т.е. на сторону, обращенную к Солнцу), тогда как текучая среда, используемая для переноса тепла, контактирует с внутренней стороной стекла. Покрытия включают в себя первое, нанесенное на гладкий слой стекла из оксидов металлов покрытие, выбираемых из олова, сурьмы, индия и железа, и второе покрытие из оксидов металлов той же группы, наносимое на первое покрытие. Полученные таким образом пленки будут иметь очень низкие пропускания в видимой области; при этом не дается никаких пояснений в отношении управления цветом отраженного излучения.
Патент США № 4601917 рекомендует составы жидкостей для получения высококачественных покрытий с высокими характеристиками из оксида олова, легированного фтором, методом химического осаждения из паровой фазы. Одним из применений таких покрытий является производство энергетически эффективных окон, известных в промышленности как окна с низким ε. Описаны также способы получения стекла с покрытием. В этом патенте не сообщается, как получить стеклянные изделия с покрытием, одновременно обладающие солнцезащитными свойствами и низкой излучательной способностью.
Патент США № 4504109, права на который переданы фирме КаЬи8Ык1 Ка18Йа Тоуо!а С1юи. описывает стекло с многослойным экранирующим ИК покрытием, состоящее из прозрачной для видимого света подложки и покрывающих слоев, включающих по меньшей мере один экранирующий ИК слой и по меньшей мере один интерференционный отражающий слой, с чередованием наложенные друг на друга... В качестве примера экранирующего ИК слоя использовался оксид индия, легированный оловом, а в качестве интерференционного экранирующего слоя использовался Т1О2. Чтобы уменьшить радужность, значение толщины экранирующего ИК слоя и интерференционного отражающего слоя должно составлять четверть длины волны (λ/4) с допустимым отклонением от 75 до 130% величины λ/4. Хотя в патенте раскрываются другие составы экранирующего ИК слоя и интерференционного отражающего слоя, такие как 8иО2 с легирующими примесями или без примесей (см. столбец 6, строки с 12 по 27), однако, конкретное сочетание слоев 8иО2 с легирующими примесями, соответствующее настоящему изобретению, которое выполняет солнцезащитные функции, обладает низкой излучательной способностью и противорадужностью и не имеет ограничения на толщину слоев λ/4, в упомянутом патенте не раскрывается и не приводится как пример для подавления радужности или цветовых отражений.
Патент США № 4583815, также принадлежащий фирме КаЬи8Ык1 Ка18Йа Тоуо1а С1ои, описывает многослойный экран волн теплового излучения, состоящий из двух покрывающих слоев из оксида индия-олова, содержащих различное количество олова. Также описаны антиотражающие слои, расположенные сверху и снизу слоев из оксида индия-олова. Раскрываются другие составы для экранирующего ИК слоя и интерференционного отражающего слоя, такие как 8иО2 с легирующей примесью, которая становится положительным ионом с валентностью +5, такой как 8Ь, Р, Аз, ИЬ, Та, А или Мо, или элементом, таким как Р, который легко становится отрицательным ионом с валентностью -1 (см. столбец 22, строки с 17 по 23). Однако, конкретное сочетание слоев 8иО2 с легирующими примесями, соответствующее настоящему изобретению, которое выполняет солнцезащитные функции, обладает низкой излучательной способностью и противорадужностью, не раскрывается и не приводится в качестве примера. В патентной формуле не предлагаются слои из оксида олова и в описании изобретения отсутствуют сообщения, описывающие состав таких слоев, например, концентрации легирующих примесей в оксиде олова. Также следует отметить, что содержание патента приводит к использованию той же самой легирующей примеси в обоих слоях (оксида индия-олова), в то время как согласно настоящему изобретению один слой должен содержать легирующую примесь, отличную от примеси другого слоя.
Патент США № 4828880, принадлежащий фирме Р11кшд1оп РЬС, описывает барьерные слои, препятствующие миграции ионов щелочных металлов с поверхности стекла и/или действующие как подстилающие слои цветового подавления для наносимых сверху слоев, отражающих ИК излучение или электропроводящих слоев. Некоторые из этих слоев цветового подавления применяются в конструкциях солнцезащитных стекол или стекол с низкой излучательной способностью.
Патент США № 4900634, принадлежащий фирме О1ауетЬе1, предлагает пиролитическое покрытие из оксида олова, включающее в себя смесь легирующих примесей фтора и сурьмы. Покрытие наносится на стекло и придает ему низкую излучательную способность и специфическое свойство снижения уровня дымчатости (мутности) примерно в полтора раза.
Патент США № 5168003, принадлежащий фирме Ротб Мо1ог Сотрапу, описывает изделие для остекления окон, имеющее существенно прозрачное покрытие, состоящее из оптически функционального слоя (который может быть слоем с низкой излучательной способностью или солнцезащитным) и более тонкого противорадужного слоя, который представляет собой многослойное, градиентное, ступенчатое покрытие. Оксид олова, легированный сурьмой, упоминается как возможная альтернатива или возможный компонент слоя с низкой излучательной способностью, который приведен в качестве примера.
Патент США № 5780149, принадлежащий фирме ЫЬЬеу-О^епк-Еотб, описывает солнцезащитное стекло с покрытием, в котором присутствуют по меньшей мере три слоя, первый и второй - прозрачные покрытия - и противорадужный слой, лежащий между стеклянной подложкой и упомянутыми прозрачными верхними слоями. Изобретение основано на этих прозрачных слоях, у которых разница коэффициентов преломления для ближней ИК (БИК) области спектра больше, чем разница коэффициентов преломления для видимой области спектра. Эта разница заставляет солнечное тепловое излучение в БИК области не поглощаться, а отражаться. Легированные оксиды металлов, которые имеют низкую излучательную способность, такие как оксид олова, легированный фтором, используются в качестве первого прозрачного слоя. Оксиды металлов, такие как нелегированный оксид олова, используются в качестве второго слоя. В патенте не описаны никакие сочетания, поглощающие в БИК области.
Европейский патент № 0546302В1 выдан 16 июля 1997 г. и принадлежит фирме АкаЫ 01акк Со. В этом патенте описана система покрытий для солнцезащитного, термообработанного (закаленного или гнутого) стекла, включающая защитный слой на основе нитрида металла. Защитный слой или слои наносятся поверх солнцезащитного слоя (чтобы предотвратить его окисление при термообработке). Приведено много примеров солнцезащитных слоев, включая оксид олова, легированный сурьмой или фтором. Однако конкретное сочетание слоев 8пО2 с легирующими примесями, соответствующее настоящему изобретению, которое выполняет солнцезащитные функции, обладает низкой излучательной способностью и противорадужностью и не следует идеям Гордона, в патенте не раскрывается и не приводится в качестве примера.
Заявка на европейский патент № 0735009А1, которая была опубликована в феврале 1996 г. и принадлежит фирме Сеп1та1 01ак5 Со. В этой заявке описано теплоотражающее оконное стекло, имеющее многослойное покрытие и содержащее лист из стекла и два слоя. Первый слой представляет собой оксид металла, Сг, Мп, Ее, Со, N1 или Си, с высоким коэффициентом преломления, а второй слой - пленку с низким коэффициентом преломления на основе оксида металла, такого как оксид олова. В заявке на патент не раскрывается наличие легированных слоев и сочетаний слоев с низкой излучательной способностью или слоев, поглощающих в БИК области спектра,
В международной заявке 98/11031, опубликованной в марте 1998 г. и принадлежащей фирме РПкшдоп РЬС, описано солнцезащитное стекло с высокими характеристиками, состоящее из стеклянной подложки с покрытием, состоящим из теплопоглощающего слоя и слоя с низкой излучательной способностью из оксида металла. Теплопоглощающий слой может являться слоем оксида металла. Этот слой может представлять собой легированный оксид вольфрама, кобальта, хрома, железа, молибдена, ниобия или ванадия или их смесь. Слой с низкой излучательной способностью может быть легированным оксидом олова. В соответствии с предпочтительным вариантом осуществления изобретения, противорадужный слой или слои встраиваются под покрытие, содержащее теплопоглощающий слой и слой с низкой излучательной способностью. В этой заявке не раскрывается и не предлагается конкретное сочетание слоев 8пО2 с легирующими примесями, соответствующее настоящему изобретению, которое выполняет солнцезащитные функции, обладает низкой излучательной способностью и противорадужностью и не требует нанесения подслоя «гордоновского» типа для подавления радужности и цветового отражения.
Патент Канады № 2193158 раскрывает состав слоя из оксида олова, легированного сурьмой, нанесенного на стекло, с молярным отношением содержания олова к сурьме от 1:0,2 до 1:0,5, который уменьшает светопропускание стекла.
В статье Иорап! ЕГГеей ш 8ртауеб Тт Ох1бе ЕПтк, Ьу Е.8йап1Ы, А.Ваперее апб К.Ь.Сйорга, ТЫп 8оНб Ебтк, νοί. 88,1981, рр. 93-100, обсуждается влияние легирующих примесей сурьмы, фтора и сочетания сурьмы-фтора на электрические свойства пленок из оксида олова. В статье не раскрываются ни оптические свойства пленок, содержащих сурьму-фтор, ни их влияние на цвет в проходящем и отраженном свете.
Заявка на патент Великобритании № 2302101А, принадлежащая фирме 0^етЬе1, описывает стеклянное изделие, покрытое пленкой из сурьмы/оксида олова, толщиной по меньшей мере 400 нм, с молярным отношением содержания сурьмы к олову 8Ь/8п от 0,05 до 0,5, с пропусканием в видимой области спектра менее чем 35%. Пленки наносятся методом химического осаждения из паровой фазы с водяным распылением и предназначены для применения в тонированных стеклах. Сообщается о покрытиях, снижающих дымчатость, а также о толстых слоях с низким отношением 8Ь/8п, которые обладают низкой излучательной способностью при высоком поглощении солнечного излучения. В заявке также сообщается, что возможно нанести один или более дополнительных слоев покрытия, чтобы добиться определенных желаемых оптических свойств. Но ни одно из этих свойств, кроме дымчатости, не упоминается. В заявке ничего не сообщается о более тонких слоях, об использовании более чем одной легирующей примеси и об управлении цветом пленки.
Ί
Заявка на патент Великобритании № 2302102А, также принадлежащая фирме О1ауегЬе1, описывает стеклянную подложку, покрытую слоем оксида 8и/8Ь, содержащим олово и сурьму в молярном отношении от 0,01 до 0,5 и полученным методом химического осаждения из паровой фазы, при этом такая подложка с покрытием имеет коэффициент солнцезащиты (коэффициент передачи солнечного теплового потока) менее чем 0,7. Покрытия предназначены для использования в окнах и имеют коэффициенты пропускания от 40 до 65% и толщины в диапазоне от 100 до 500 нм. Заявляются также подстилающие покрытия, снижающие дымчатость, а свойство низкой излучательной способности считается возможным придавать покрытиям путем рационального выбора отношения 8Ь/8и. Как и в предыдущей заявке, в данной заявке сообщается о возможности нанесения одного или более дополнительных слоев покрытия с целью получения определенных, желаемых оптических свойств. Кроме того, поверх слоев 8Ь/8и можно осаждать слои с низкой излучательной способностью из оксида олова, легированного фтором, либо фторсодержащие компоненты могут добавляться к реагентам 8Ь/8и, чтобы дать пленки с низкой излучательной способностью, которые содержат Р, 8Ь и 8и. Два последних способа не были одобрены из-за дополнительного времени и затрат, связанных с нанесением третьего слоя и тем фактом, что было отмечено увеличение коэффициента излучения пленок 8Ь/Р, а не его снижение. В заявке отсутствует упоминание об управлении цветом или нейтральностью цвета.
В патенте Великобритании № 2200139 фирмы О1ауегЬе1 сообщается о способе осаждения покрытия путем нанесения методом распыления растворов, включающих исходные вещества для олова, фторсодержащие соединения и по меньшей мере одну другую легирующую примесь из группы: сурьма, мышьяк, ванадий, кобальт, цинк, кадмий, вольфрам, теллур или марганец.
Ранее производители стекла контролировали теплопередачу через окна путем использования поглощающих и/или отражающих покрытий, путем окрашивания стекла и путем последующего нанесения пленок. Большинство этих покрытий и пленок рассчитаны на ослабление только в одном участке спектра теплового солнечного излучения, либо в БИК области спектра, т.е. области электромагнитного излучения с длинами волн в диапазоне 750-2500 нм, либо в средней ИК области спектра электромагнитного излучения с длинами волн в диапазоне 2,5-25 мкм. Было сконструировано покрытие для поглощения во всей области спектра теплового излучения, однако, многослойная структура из напыленных металлических/диэлектрических пленок, будучи эффективной, имеет ограниченную долговечность и должна быть защищена и герметично закрыта в средней секции теплоизоляционного стеклопакета. Необходимо иметь пленку, обеспечивающую полную защиту от солнечного излучения, или сочетание пленок, которые могут легко наноситься методом пиролитического осаждения в процессе производства стекла, что позволит получать изделия, имеющие приемлемый коэффициент пропускания в видимой области спектра, отражающие или поглощающие в БИК области, отражающие в средней ИК области спектра и имеющие нейтральный или близкий к нейтральному цвет.
В вышеприведенных ссылочных материалах, взятых по отдельности или в сочетании, не сообщается и не предлагается конкретного сочетания слоев 8иО2 с легирующими примесями, соответствующего настоящему изобретению, которое выполняет солнцезащитные функции, обладает низкой излучательной способностью и противорадужностью и не требует нанесения подслоя «гордоновского» типа.
Сущность изобретения
Согласно настоящему изобретению предлагается улучшенное солнцезащитное стекло, которое имеет приемлемый коэффициент пропускания в видимой области спектра, поглощает излучение в БИК области спектра и отражает излучение в средней ИК области спектра (имеет низкую излучательную способность, или низкий ε), обладая заданным цветом в видимой области спектра в отраженном свете, причем этим цветом можно управлять с целью получения конкретного цвета или получения, по существу, бесцветного стекла (в дальнейшем «нейтрального»). Предлагается также способ получения улучшенного, солнцезащитного стекла с покрытием.
Улучшенное покрытие стекла представляет собой покрытие из оксида олова с различными легирующими добавками и модификаторами дымчатости, содержащимися в соответствующих слоях покрытия. Одним из них является слой, поглощающий солнечное излучение (в БИК области), содержащий оксид олова с легирующей добавкой, такой как сурьма. Другой слой в этом покрытии на основе оксида олова представляет собой слой для придания низкой излучательной способности, способный отражать излучение в средней ИК области спектра, и состоящий из оксида олова с легирующей примесью в виде фтора и/или фосфора. Если требуется, чтобы стекло с покрытием имело в отраженном свете нейтральный (бесцветный) вид, отдельный слой для подавления иризирующего цвета, как это описывалось применительно к известным решениям, такой, например, как слой Гордона, как правило, не нужен. Однако противорадужный слой или другие слои могут наноситься в сочетании с многослойным покрытием на основе оксида олова, предлагаемым согласно настоящему изобретению. Если требуется, то могут быть использованы многослой9 ные солнцезащитные покрытия и/или многослойные покрытия с низкой излучательной способностью. Слой, поглощающий в БИК области спектра (БИК слой), и слой с низкой излучательной способностью могут являться различными частями одной пленки из оксида олова, так как оба слоя состоят из легированного оксида олова. В изобретении предлагается также способ получения солнцезащитного стекла с покрытием. Кроме того, в настоящем изобретении предлагается способ влияния на цвет или изменения цвета пропущенного света посредством введения цветообразующих добавок в БИК слой. Неожиданно обнаружено, что легирующий фтор, который дает бесцветную пленку оксида олова, действует, как цветообразующая добавка, если он добавляется в качестве дополнительного легирующего компонента в БИК слой, и модифицирует цвет света, проходящего через пленку, поглощающую в БИК области спектра (БИК пленку). Кроме того, в конкретных слоях покрытия на основе оксида олова предусматриваются легирующие добавки, снижающие дымчатость.
Задачей настоящего изобретения является получение прозрачного изделия с заданным отраженным цветом (включая нейтральный цвет, в соответствии с приведенным здесь определением), которое будет поглощать солнечное излучение в БИК области спектра и отражать тепловое излучение в средней ИК области спектра (иметь низкую излучательную способность). Изделие по изобретению содержит стекло с нанесенным на него покрытием на основе оксида олова, состоящим из двух слоев тонких пленок, содержащих легированный §иО2 с легирующими добавками для снижения дымчатости по меньшей мере в одном из слоев. Другой задачей является нанесение слоев способом химического осаждения из паровой фазы при атмосферном давлении или иными методами, такими как распыление растворов или испарение/возгонка растворов/твердых веществ. Предпочтительным способом нанесения покрытий, в соответствии с настоящим изобретением, является химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении с испарением жидких исходных веществ. Другой задачей изобретения является получение многослойного покрытия с солнцезащитными свойствами и/или с низкой излучательной способностью, вместе с другими слоями в сочетании с солнцезащитным слоем или со слоем с низкой излучательной способностью. Следующей задачей является получение солнцезащитной пленки или комбинации пленок, которые могли бы легко наноситься способом пиролитического осаждения в процессе производства стекла, что давало бы возможность получать изделия, имеющие приемлемое пропускание в видимой области спектра, отражающие или поглощающие в БИК области спектра, отражающие в средней ИК области (низкое значе ние ε), имеющие нейтральный или близкий к нейтральному цвет, производство которых является задачей настоящего изобретения. Другой задачей настоящего изобретения является управление цветом в проходящем свете, независимо от цвета в отраженном свете, посредством введения цветообразующих добавок в БИК слой.
Перечень чертежей
Фиг. с 1 по 4 и с 8 по 14 изображают поперечное сечение стекла с покрытием, имеющего различное число слоев или пленок, нанесенных в различной последовательности на слой оксида олова, находящийся на стеклянной подложке;
фиг. 5 и 6 графически изображают степень защиты от солнечного излучения, достигнутую на пленках, легированных сурьмой, при различных концентрациях легирующей примеси и различных толщинах пленок на оконных стеклах, т. е. на одиночных листах стекла, и на теплоизоляционных стеклопакетах (ТСП), которые представляют собой сборку по меньшей мере из двух стекол;
фиг. 7 изображает спектр цветов в терминах, принятых Международной комиссией по освещению (МКО; Сот188юп 1п1етайопа1е бе Б'ЕхсЫгаде - С.БЕ.), в виде координат х и у, и конкретный цвет, который можно получить за счет различной толщины пленки и концентрации легирующей примеси. Английский перевод С.1.Е - 1п1етпа1юпа1 Сотт188юп оп Шитшайоп;
на фиг. 15 приведены характеристики снижения дымчатости для покрытий на основе оксида олова по настоящему изобретению с добавками, снижающими дымчатость, в БИК слое, и без этих добавок;
на фиг. 16-19 в графической форме иллюстрируются данные, приводимые в примерах осуществления изобретения.
Сведения, подтверждающие возможность осуществления изобретения
Солнцезащитное стекло с низкой излучательной способностью получается методом осаждения на нагретую прозрачную подложку по меньшей мере двух слоев: слоя с низкой излучательной способностью, состоящего из пленки §пО2, содержащей легирующую примесь в виде фтора и/или фосфора, и БИК слоя, состоящего из пленки §пО2, содержащей легирующую примесь в виде сурьмы, вольфрама, ванадия, железа, хрома, молибдена, ниобия, кобальта, никеля или их смеси. Было обнаружено, что такое сочетание позволяет эффективно влиять на области электромагнитного спектра солнечного и теплового излучения таким образом, что свойства окна, покрытого этими пленками, будут значительно улучшены.
Свойство изделия влиять на поток солнечного излучения обычно описывается коэффициентом передачи солнечного теплового потока (КПСТП) и величиной и. КПСТП является мерой полного солнечного теплового потока, про11 шедшего через систему окна, отнесенного к падающему потоку солнечного излучения, в то время как величина и представляет собой полный коэффициент теплопередачи окна. КПСТП стекла с покрытием в основном зависит от толщины пленки, поглощающей в БИК области, и от содержания сурьмы в этой пленке (см. фиг. 5 и 6), в то время как величина и в основном зависит от коэффициента излучения пленки и от конструкции окна. КПСТП, измеренный в центре стекла, может варьировать приблизительно от 0,40 до 0,80, в то время как величины и, измеренные в центре стекла, могут меняться приблизительно от 0,7 до 1,2 для одиночного стекла, покрытого пленками, соответствующими предпочтительному варианту осуществления изобретения. В теплоизоляционном стеклопакете значения КПСТП снижаются до примерно 0,30, при величине и, равной примерно 0,28.
Согласно настоящему изобретению цветом стекла с покрытием в отраженном и проходящем свете можно управлять. Кроме того, количеством света видимой области спектра, пропускаемым через стекло с покрытием, можно управлять в диапазоне 25-80% путем изменения толщины пленки, отвечающей за БИК область, и пленки с низкой излучательной способностью, а также путем изменения концентрации легирующей примеси в БИК пленке. Цветом в проходящем свете, т.е. цветом света, прошедшего через стекло с покрытием, можно управлять независимо от цвета в отраженном свете путем введения эффективного количества цветообразующей добавки в БИК слой покрытия. Отраженный цвет может изменяться от почти нейтрального до красного, желтого, синего или зеленого, и им можно управлять посредством изменения толщины пленок и содержания легирующих примесей в слоях. Кажется неожиданным, что можно добиться почти нейтрального отраженного цвета, и при этом не потребуется никакого противорадужного слоя. Хотя коэффициенты преломления слоя, отвечающего за БИК область, и слоя с низкой излучательной способностью различны, отраженный цвет не зависит от классического явления интерференции, что первоначально было обнаружено Гордоном (патент США № 41887336). Неожиданно оказалось, что наблюдаемым отраженным цветом можно управлять посредством сочетания коэффициентов поглощения и отражения, которые получены в БИК слое (поглощение), и посредством коэффициента отражения, который получен в слое или слоях с низкой излучательной способностью. Коэффициентом поглощения БИК слоя можно управлять путем изменения толщины его пленки 8иО2 и концентрации легирующей примеси этого слоя, обычно, сурьмы. Коэффициентом отражения слоя с низкой излучательной способностью можно управлять путем изменения толщины его пленки 8иО2 и концентрации легирующей примеси этого слоя, обычно фтора. Слой с низкой излучательной способностью, состоящий из 8иО2, легированного фтором или фосфором, иногда в данном описании обозначается аббревиатурой ТОР или ТОР, в то время как БИК слой из 8иО2, когда он содержит легирующую примесь в виде сурьмы, иногда обозначается аббревиатурой ТО8Ь.
В предпочтительном варианте осуществления настоящего изобретения используется покрытие из оксида олова, в котором имеется слой оксида олова, легированного фтором (ТОР), в качестве слоя с низкой излучательной способностью, слой из оксида олова, легированного сурьмой (ТО8Ь) в качестве БИК слоя, а также добавка, снижающая дымчатость, содержащаяся по меньшей мере в одном из слоев, предпочтительно в слое, нанесенном непосредственно на стекло.
Пленки ТОР и процессы их осаждения на стекло известны и отработаны, а сами пленки известны как пленки с низкой излучательной способностью. Пленка, поглощающая в БИК области спектра, также представляет собой пленку из 8иО2, но содержит легирующую примесь, отличающуюся от слоя с низкой излучательной способностью. Предпочтительной легирующей примесью для БИК слоя является сурьма, хотя в качестве этой примеси может служить элемент, выбранный из группы, в которую входит сурьма, вольфрам, ванадий, железо, хром, молибден, ниобий, кобальт, никель и их смеси. Смесь из одной или большего числа легирующих примесей может быть использована в БИК слое, однако, слой с низкой излучательной способностью должен содержать примесь с низким коэффициентом излучения, которая придает слою значительную электропроводность, такую как фтор или фосфор, хотя в сочетании с примесью с низким коэффициентом излучения могут использоваться и другие легирующие примеси. Так как в настоящем изобретении и слой с низкой излучательной способностью, и БИК слой используют 8иО2 в качестве матрицы из оксида металла, содержащей легирующую примесь, оба указанных слоя предпочтительно являются частью одной пленки, имеющей градиент концентрации легирующей примеси, или слоями, имеющими различные легирующие примеси.
Одиночная пленка, в которой создан градиент концентрации примеси, обозначена, как 16 на фиг. 3. В пленке 16 имеется градиент концентрации примеси, при котором легирующая примесь, контролирующая ближнюю ИК область спектра (БИК примесь), имеет большую концентрацию, чем другая (-ие) примесь (-и) на одной поверхности пленки, на поверхности 18 или 22, а примесь, обеспечивающая низкую излучательную способность, имеет большую концентрацию, чем другие примеси, на другой поверхности пленки. Это приводит к изменению, или градиенту концентраций БИК примеси и примеси с низким коэффициентом излучения от поверхности 18 к поверхности 22. В некоторой промежуточной точке 20, между поверхностью 18 и поверхностью 22, концентрация БИК примеси изменяется от максимального значения с одной стороны от точки 22 таким образом, что она уже не является максимальной с другой стороны от точки 22. На фиг. 8 показана пленка 10 с низким ε, нанесенная поверх БИК пленки 12. БИК пленка 12, показанная на фиг. 8, имеет градиент концентрации БИК примеси в пленке из оксида олова такой, что более низкая концентрация примеси находится ближе к пленке 10 с низким ε. Стекло с покрытием на фиг. 9 по структуре подобно показанному на фиг. 8, за исключением того, что концентрация БИК примеси, обычно сурьмы, выше вблизи пленки 10 с низким ε, и ниже вблизи подложки. Пленка 12 отличается от пленки 16, показанной на фиг. 3, тем, что пленка 12 является БИК пленкой, в то время как пленка 16 одновременно контролирует ближнюю ИК область и обладает низкой излучательной способностью и содержит и примесь с низкой ε, и БИК примесь, при этом создан градиент концентрации примеси с низкой ε и градиент концентрации БИК примеси. На фиг. 10, 11, 12 и 13 показан БИК слой в виде двух отдельных пленок 28 и 30. Пленка 28 показана более толстой, чем пленка 30, а общая толщина БИК слоя представляет собой сумму толщин пленок 28 и 30, и она должна находиться в диапазоне толщин, который был ранее определен для БИК слоя, и предпочтительно составлять от 80 до 300 нм. На фиг. 10 и 11 пленки 28 и 30 располагаются рядом друг с другом, в то время как на фиг. 12 и 13 пленки 28 и 30 располагаются на противоположных сторонах пленки 10 с низкой излучательной способностью. Предпочтительно, чтобы концентрация легирующей примеси в пленке 28 отличалась от концентрации примеси в пленке 30.
На фиг. 14 показана двухслойная пленка из оксида олова, нанесенная непосредственно на стеклянную подложку 14 с нижним слоем 32, состоящим из части 34, имеющим добавку для снижения дымчатости, и из второй части 36, не содержащей подобной добавки, тогда как верхний слой 10 представляет собой слой с низкой излучательной способностью, такой, например, как слой оксида олова, легированный фтором.
На фиг. 15 приведены характеристики снижения дымчатости для покрытий из оксида олова в соответствии с настоящим изобретением, содержащих и не содержащих добавок для снижения дымчатости в БИК слое 32. Показаны четыре стеклянных подложки, на каждую из которых нанесен БИК слой 32 из оксида олова, легированного сурьмой, с толщиной около 240 нм, расположенный под слоем 10 с низкой излучательной способностью (ε), легированным фтором и имеющим толщину около 300 нм. Для первого стекла с покрытием (слева) дымчатость составляла 1,13% по сравнению с дымчатостью 0,72% для случая добавления к БИК слою трифторуксусной кислоты (ТФК) (второй образец слева). Для следующего образца (второго справа) дымчатость в двухслойном покрытии 32, 10 составляет 0,84%. В этом случае при нанесении первой части БИК слоя (толщиной примерно 55 нм) было исключено попадание воды. Для двухслойного покрытия на крайнем правом образце при нанесении первой части БИК слоя толщиной около 55 нм в состав исходных материалов была включена ТФК, но не вода. Уровень дымчатости для этого образца составил 0,70%.
В предпочтительном варианте осуществления настоящего изобретения в качестве БИК пленки используется пленка, легированная сурьмой. Осаждение такой пленки может быть произведено рядом способов, включая распыление с пиролизом, физическое осаждение из паровой фазы (ФОПФ) и химическое осаждение из паровой фазы (ХОПФ). Способ распыления с пиролизом известен и раскрыт в патентах, например, в патенте Канады № 2193158. Методы ХОПФ для осаждения пленок 8иО2 с легирующей примесью или без примеси и исходные химические вещества для образования пленок 8иО2, содержащих легирующие примеси, хорошо известны и раскрыты в патентах США № 4601917 и № 4285974. Предпочтительным является ХОПФ-осаждение слоев 8иО2, содержащих примеси, в соответствии с известными методами непосредственно на производственной линии получения термополированного листового стекла, снаружи или внутри камеры термополировки, с использованием стандартной технологии осаждения на потоке и исходных химических веществ, как это предложено в патенте США № 4853257. Однако пленки 8иО2, содержащие легирующие примеси, можно наносить в виде слоев на стекло, используя другие процессы, такие как распыление растворов или испарение/возгонка растворов/твердых солей при атмосферном давлении.
В случае использования метода распыления растворов те же самые исходные вещества для 8иО2 и легирующих добавок растворяют в подходящем нереактивном растворителе и наносят с использованием известной технологии распыления на ленту горячего стекла при атмосферном давлении. Подходящие растворители для распыления растворов включают, как это описано в канадской патентной заявке № 2193158, спирты, такие как этанол и изопропанол, кетоны, такие как ацетон и 2-бутанон, а также эфиры, такие как этилацетат и бутилацетат. Предпочтительным способом нанесения покрытий, согласно настоящему изобретению, является ХОПФ при атмосферном давлении, с испарением жидких исходных веществ. Этот процесс очень хорошо подходит к существующим промышленным системам поточного осаж15 дения. Исходные вещества, используемые в предпочтительном варианте осуществления, экономичны в применении, обеспечивают долгий срок службы покрытия, позволяют реже проводить очистку системы и, с небольшой модификацией или без нее, могут быть использованы в существующем оборудовании для нанесения покрытий на линиях изготовления термополированного стекла.
Работа покрытий основана на сочетании отражения и поглощения света. Пленка с низкой излучательной способностью отражает тепловой поток в средней ИК области спектра, в диапазоне 2,5-25 мк, в то время как пленка, поглощающая в ближней ИК области, поглощает тепло, в основном, в диапазоне 750-2500 нм. Не будучи единственным обоснованием, теория, которой в данном описании объясняется этот эффект, состоит в том, что переходная длина волны (РЬ - длина волны, при которой пленка с низкой излучательной способностью из пропускающей световой поток превращается в отражающую) для пленки с низкой излучательной способностью приходится на ближнюю ИК область спектра. В области вокруг РЬ поглощение волн ближней ИК области спектра у пленки с низкой излучательной способностью максимально, и, когда она комбинируется с БИК пленкой, то имеет место усиление поглощения. БИК пленки в предпочтительных вариантах осуществления настоящего изобретения также представляют собой легированные полупроводники и, следовательно, в средней ИК области спектра обладают отражающими свойствами. Эта их отражающая способность, в совокупности с характеристиками отражения пленки с низкой излучательной способностью, дает общее повышенное тепловое отражение в средней ИК области спектра.
Предпочтительно, чтобы 8иО2 пиролитически осаждался на стекло из исходного вещества для олова, в частности из органического оловосодержащего соединения, такого как монобутилтрихлорид олова, диметилдихлорид олова, дибутилдиацетат олова, метилтрихлорид олова или любого из известных исходных веществ для осаждения 8иО2 методом ХОПФ, таких, какие раскрыты в патенте США № 4601917, который включен в настоящее описание посредством ссылки на него. Часто такие оловосодержащие органические соединения, используемые для пиролитического осаждения 8иО2, содержат стабилизаторы, такие как этанол. Желательно, чтобы концентрация стабилизаторов была менее 1%, чтобы снизить риск возгорания при контакте горячего стекла с такими веществами в присутствии кислорода. Желательно, чтобы исходными веществами для легирующих примесей в БИК слое (сурьмы, вольфрама, ванадия, железа, хрома, молибдена, ниобия, кобальта и никеля) являлись галогениды, такие как трихлорид сурьмы, однако, также могут использоваться алкоксиды, сложные эфиры, ацетилацетонаты и карбонилы. Специалистам известны и другие подходящие исходные вещества для легирующих примесей и для 8иО2. Подходящие исходные вещества и данные количественного содержания легирующей примеси фтора в слое 8иО2 с низкой излучательной способностью раскрыты в патенте США № 4601917 и включают в себя трифторуксусную кислоту, этилтрифторацетат, фторид аммония и фтористоводородную кислоту. Концентрация легирующей примеси, обеспечивающей низкую излучательную способность, обычно составляет менее 30%, при этом оптимальная концентрация такой примеси составляет от 1 до 15 вес.% исходного вещества легирующей примеси, если считать от суммы веса исходного вещества, содержащего примесь, и веса исходного вещества для олова. Это, в общем, соотносится с концентрацией легирующей примеси в пленке с низкой ε от 1 до 5 вес.% оксида олова в этой пленке. В предпочтительном варианте осуществления свойства зависят от толщины слоя с низкой излучательной способностью и поглощающего слоя, а также от содержания сурьмы в пленке поглощающего (БИК) слоя. Толщина пленки с низкой излучательной способностью может составлять 200-450 нм, при этом толщина от 280 до 320 нм является самой предпочтительной. Пленки, поглощающие в ближней ИК области, предпочтительно получать осаждением, подобно пленкам с низкой излучательной способностью, используя такие же способы, какие раскрыты в патенте США № 4601917. Исходные оловосодержащие органические вещества для 8иО2 можно испарять в воздухе или в среде других газов-носителей, содержащих источник О2, при молярной концентрации исходного вещества 0,25-4,0% (концентрация 0,5-3,0% более предпочтительна). Концентрация исходного вещества для 8иО2 выражена здесь в процентах от суммы молей исходного вещества и молей несущего газа. Предпочтительная концентрация исходного вещества для легирующей примеси БИК слоя составляет от 1 до примерно 20% (значения от 2,5 до 7,5% более предпочтительны, а от 3 до 6% наиболее оптимальны) и вычисляется от суммы веса исходного вещества легирующей примеси и веса исходного вещества для 8иО2. В качестве легирующей примеси наиболее желательно использовать сурьму, при этом в качестве исходного вещества желательно использовать трихлорид сурьмы с весовой концентрацией приблизительно от 2 до 8%, причем весовая концентрация 4% наиболее предпочтительна. Это соотносится с аналогичным массовым процентным содержанием сурьмы в БИК пленке из оксида олова.
Стекло с покрытием, предлагаемое согласно настоящему изобретению, иллюстрируется на фигурах чертежа. На фиг. 1 показаны поперечные сечения пленок. Толщина пленок может варьировать от 200 до 450 нм для пленки 10 с низкой излучательной способностью и от 80 до 300 нм для БИК пленки 12. Самая предпочтительная толщина составляет 280-320 нм для пленки с низким ε и 220-260 нм для БИК пленки. Если использовать пленки, соответствующие предпочтительным вариантам осуществления, то можно получить солнцезащитное стекло с покрытием синевато-серого цвета, которое в настоящем описании определяется, как стекло с покрытием, отражающее свет преимущественно в области координат цветности МКО х от 0,285 до 0,310, у - от 0,295 до 0,325. Это определение синевато-серого цвета показано на фиг. 7 в виде прямоугольной области с пометкой «Синеватосерый цвет». Как показывают данные примеров 15, 20 и 22 на фиг. 7, можно целенаправленно получить отраженный цвет, близкий к серому (нейтральному) со слегка красноватым оттенком (с величиной х до 0,325, и величиной у - до 0,33), но такие, по существу, нейтральные с красноватым оттенком отраженные цвета не привлекательны для потребителей. На фиг. 2 показаны две пленки или два слоя, нанесенные в обратной последовательности по сравнению с показанными на фиг. 1. На фиг. 2 пленка с низкой излучательной способностью расположена ближе к стеклу 14, чем БИК пленка 12. На фиг. 3 показан БИК слой и слой с низкой излучательной способностью, встроенные в одну пленку 16 из 8иО2, с градиентом концентрации примесей. Пленка 16 имеет преобладание концентрации одной примеси (например, примеси, формирующей низкую излучательную способность - фтора) на верхней поверхности 18, удаленной от стекла 14, и преобладание концентрации другой примеси (например, БИК примеси, такой как сурьма) на поверхности 22 пленки, ближайшей к стеклу. Концентрация примеси меняется от поверхности 18 к поверхности 22 таким образом, что ее значение для одной примеси изменяется от более чем 50% на поверхности 18 до приблизительно 0% на поверхности 22. В промежуточной точке 20, лежащей ниже верхней поверхности 18, происходит смена доминирующей примеси от той, которая преобладает на поверхности 18, к той, которая преобладает на поверхности 22. На поверхности 18 может доминировать или БИК примесь, или примесь, обеспечивающая низкую излучательную способность (фтор), при этом на поверхности 22 будет преобладать другая примесь. На фиг. 4 изображено стекло с покрытием, имеющее, кроме слоя 10с низкой излучательной способностью и БИК слоя 12, дополнительные слои 24 и 26. Дополнительные слои 24 и 26 могут представлять собой слои с низкой излучательной способностью и/или БИК слои, или иные слои, стандартно используемые для покрытия стекла, такие как окрашивающий слой. Например, слой 12 может быть БИК слоем (т.е. оловом, легированным сурьмой), слой 10 - слоем с низкой из лучательной способностью (т. е. оловом, легированным фтором), а слой 24 - еще одним БИК слоем. Слой 26 может быть еще одним слоем с низкой излучательной способностью или какимто иным стандартным слоем. Если используется более чем один слой с низкой излучательной способностью, то концентрация легирующей примеси может быть той же самой или отличающейся, и толщина каждого из слоев может также быть той же самой или отличаться.
Аналогично, когда используется более одного БИК слоя, концентрация легирующей примеси и тип легирующего элемента (сурьма, вольфрам, ванадий, железо, хром, молибден, ниобий, кобальт и никель) могут быть теми же самыми или другими, и толщина каждого БИК слоя может быть той же самой или отличаться. Хотя при обсуждении легирующей примеси БИК слоев здесь чаще всего упоминалась сурьма, следует понимать, что легирующие элементы для БИК слоя можно выбирать из группы, состоящей из сурьмы, вольфрама, ванадия, железа, хрома, молибдена, ниобия, кобальта, никеля и их смесей. Аналогично, в варианте осуществления настоящего изобретения с градиентным слоем, как показано на фиг. 3, преобладающая примесь на БИК поверхности (на поверхности 18 или 22) может быть выбрана из группы, состоящей из сурьмы, вольфрама, ванадия, железа, хрома, молибдена, ниобия, кобальта, никеля и их смесей, при этом существенным является только то, что примесь, обеспечивающая низкий ε, например, фтор, должна быть доминирующей примесью на противоположной поверхности. Градиентный слой может существовать в сочетании с одним или большим числом БИК слоев или слоев с низкой излучательной способностью, таких как слои 10 и 12 на фиг. 1-3 и/или с другими стандартными слоями.
Согласно патенту США № 4590096, для ускорения осаждения пленки 8иО2 на стекло предпочтительно использовать воду в молярной концентрации от примерно 0,75 до 12,0% Н2О от массы газовой смеси.
Еще один вариант осуществления настоящего изобретения относится к снижению дымчатости пленки. Дымчатость обусловлена рассеянием света при его падении на поверхность. Она может быть обусловлена шероховатостью поверхности, вызванной большими размерами кристаллитов, широким диапазоном варьирования размеров кристаллитов и/или частицами, внедренными в поверхность пленки. Она также может вызываться наличием пустот (отверстий) в пленке в связи с испарением промежуточных побочных продуктов, таких как ЫаС1. Пленки, наносимые в соответствии с настоящим изобретением, обладают дымчатостью, которая преимущественно обусловлена шероховатостью поверхности. Снижение дымчатости достигается продуманным включением в процесс нанесения покрытия или исключением из него опреде19 ленных добавок на границе стекло-пленка или на границе между слоями двухслойной пленки. За счет контроля описанным методом шероховатости в пределах слоев пленки достигается уменьшение шероховатости и, следовательно, дымчатости в верхнем слое двухслойного покрытия из оксида олова.
Тем самым достигается преимущество перед известными способами, в которых снижение дымчатости обеспечивается введением дополнительного слоя, наносимого поверх функционального слоя. Единственное назначение вспомогательного слоя в известных способах состоит в выравнивании шероховатой поверхности функционального слоя путем заполнения зон между пиками, образованными кристаллитами, и впадинами.
Одной из добавок для снижения дымчатости является фтор как в неорганической форме типа НЕ, так и в органической форме, например, в виде трифторуксусной кислоты (ТФК) или трифторацетата. Другими источниками фтора, пригодными для снижения дымчатости, являют ся дифторуксусная кислота, монофторуксусная кислота, три- и пентафторид сурьмы, а также этилтрифторацетат. Когда фтор присутствует во всей или в части нижней пленки Т08Ь (оксид олова, легированный сурьмой), размеры кристаллитов существенно снижаются, с соответствующим снижением общей дымчатости. Микрофотографии, сделанные с помощью сканирующего электронного микроскопа (СЭМ), показывают, что на размеры кристаллитов в верхнем слое влияет уменьшение размеров кристаллитов в нижнем слое. Другими добавками, которые оказались эффективными в отношении снижения дымчатости, являются кислоты, в том числе уксусная, муравьиная, пропионовая кислоты, метансульфокислота, масляная кислота и ее изомеры, а также азотная и азотистая кислоты. Снижение дымчатости может быть также достигнуто устранением определенных добавок, например, воды. В отсутствие воды при нанесении первых нескольких десятков нанометров нижнего слоя покрытия имеет место общее снижение размеров кристаллитов.
Дымчатость может быть уменьшена и комбинированием одного или более рассмотренных вариантов. Если ТФК используется в процессе нанесения покрытия с исключением из него воды, достигается снижение уровня дымчатости пленки в целом. Например, когда вода исключена из нанесения первых 50-60 нм слоя Т08Ь, структурность пленки в целом уменьшается и достигаются уровни дымчатости около 0,8%. В случае добавления ТФК и исключения воды при нанесении первых 50-60 нм слоя Т08Ь отмечаются аналогичный структурный эффект и значения дымчатости около 0,8%.
Фтор при добавлении его в пленку оксида олова в качестве легирующей примеси уменьшает излучательную способность и повышает проводимость пленки. Однако в контексте настоящего изобретения он, в случае его введения в покрытие из оксида олова, легированного сурьмой, не функционирует как традиционная легирующая примесь. В слое, легированном сурьмой, он действует в качестве модификатора размеров кристаллитов оксида олова, легированного сурьмой, что подтверждается снижением уровня дымчатости в целом (по данным измерений на мутномере и электронным микрофотографиям). Рост сопротивления стеклянного листа, сопровождаемый ростом излучательной способности, отраженный в результатах, приведенных в табл. 3, подтверждает функцию добавленного фтора в отношении слоя Т08Ь (оксида олова, легированного сурьмой). Когда фтор присутствует в слое Т08Ь, результирующая излучательная способность комбинированного слоя возрастает, а не уменьшается, чего можно было бы ожидать, если бы фтор действовал в качестве легирующей добавки. Хотя приводимое объяснение не должно рассматриваться, как каким-либо образом ограничивающее объем изобретения, предполагается, что фтор может предпочтительно связывать узлы решетки, занимаемые сурьмой, и тем самым выводить оба вещества из числа легирующих добавок в пленке. Как следствие, общая излучательная способность пленки будет возрастать.
Другой вариант осуществления изобретения дает возможность изменять цвет стекла с покрытием в проходящем свете. Термин цвет в проходящем свете относится к цвету, который воспринимается наблюдателем со стороны стекла, противоположной источнику света, в то время, как цвет в отраженном свете - это цвет, воспринимаемый наблюдателем со стороны источника света. Оказывать влияние на проходящий свет можно путем добавления дополнительных легирующих примесей в БИК пленку. Как уже ранее объяснялось, БИК слой содержит примесь, выбранную из группы, состоящей из сурьмы, вольфрама, ванадия, железа, хрома, молибдена, ниобия, кобальта и никеля. Цвет света, проходящего через БИК слой, можно изменить, введя в БИК слой дополнительную примесь, отличающуюся от первоначальной примеси БИК слоя, и выбранную из группы, состоящей из вольфрама, ванадия, железа, хрома, молибдена, ниобия, кобальта, никеля и фтора, или состоящую из комбинации более, чем одной дополнительной примеси. Фтор, добавляемый для снижения дымчатости, также может влиять на цвет на пропускание. Как показано в примерах 40-43, добавление фторсодержащего исходного вещества, такого как трифторуксусная кислота, к исходному раствору для нанесения БИК пленки, такому как 8ЬС13/монобутилтрихлорид олова (8ЬС13/МБТХ), дает пленку, цвет которой на пропускание является серым, а не синим, свойственным слою оксида олова, легированному сурьмой и не содержаще21 му добавки фтора. Дополнительная легирующая примесь оказывает слабое влияние или не оказывает никакого влияния на отраженный свет, и, в соответствии с этим, может быть получено стекло с покрытием, имеющее цвет в отраженном свете, отличающийся от цвета в проходящем свете.
Примеси, вводимые в БИК слой, такие как ванадий, никель, хром, и нестандартные цветообразующие добавки, такие как трифторуксусная кислота, могут быть добавлены к исходным веществам Т08Ь в весовой концентрации 1-5% (от суммарного веса исходных веществ и добавки) с целью изменения цвета пленки в проходящем свете на конечной стадии ее изготовления, при этом не влияя значительно на нейтральность цвета в отраженном свете.
Предпочтительные варианты осуществления настоящего изобретения будут описаны на последующих примерах. Для специалистов в данной области будет понятно, что в форму и детали осуществления изобретения могут быть внесены изменения, не выходящие за границы идеи и объема изобретения.
Наиболее предпочтительные варианты осуществления изобретения с точки зрения получения стекла с покрытием из оксида олова со свойствами низкого ε и низкого поглощения в БИК области, с нейтральным отраженным цветом, при помощи только двух нанесенных на стекло пленок, вне зависимости от уровня дымчатости описаны в примерах 1-30. Один слой покрытия представляет собой пленку Т0Б (оксид олова, легированный фтором) толщиной около 300 нм в сочетании с пленкой Т08Ь толщиной около 240 нм, нанесенную на стекло. Толщина пленки для слоя ТОР может варьировать в диапазоне примерно 280-320 нм и, тем не менее, обеспечивать неожиданный результат: в отраженном свете давать нейтральный цвет. Концентрация атомов фтора может составлять 1-5%. Толщина пленки Т08Ь может варьировать в диапазоне около 220-260 нм при концентрации сурьмы примерно 3-8% и тем не менее в отраженном свете также давать стеклу с покрытием нейтральный цвет. В рамках диапазонов предпочтительных толщин и концентраций легирующей примеси, в соответствии с настоящим изобретением, может быть получено солнцезащитное стекло с покрытием, включающим БИК слой и слой с низким ε, имеющее в отраженном свете синевато-серый цвет, т. е. стекло с покрытием, имеющее в отраженном свете доминирующие значения координат цветности МКО х от 0,285 до 0,310 и у - от 0,295 до 0,325, что показано на фиг. 7 в виде прямоугольной области с надписью Синевато-серый цвет.
Все значения КПСТП и величин и в таблицах были определены с применением однополосного приближения ИРИС программы XV ίηбоу 4.1. Использование более точного, многополосного приближения (при этом необходим файл спектральных данных) улучшает точность определения значений КПСТП примерно на
14%.
Значения цветовых компонент МКО для изделий с покрытием, в отраженном и проходящем свете могут быть вычислены в соответствии со стандартом Е308 А8ТМ, с использованием источника типа С в качестве стандартного источника света. По стандарту Е308 А8ТМ цвет объекта может быть определен по одной из нескольких различных шкал. Шкала, используемая для изделий с покрытиями в настоящем изобретении, - это система координат цветности х и у, МКО 1931 г. Значения х и у можно легко перевести в значения шкалы цветовых различий, Ь*, а*, Ь*, МКО 1976 г., путем использования следующих уравнений:
х = Χ/(Χ+Υ+Ζ) у = Υ/(Χ+Υ+Ζ) Ь* = 116(Υ/Υη)1/3-16 а* = 500[(Χ/Χη)1/3-(Υ/Υη)1/3] Ь* = 200[(Υ/Υη)1/3-(Ζ/Ζη)1/3], где Χ, Υ и Ζ - значения трех координат цвета МКО для изделия с покрытием, а Χη, Υη и Ζη равны, соответственно, 98,074, 100,00 и 118,232 для стандартного источника света С. Исходя из значений Ь*, а*, Ь*, можно вычислить коэффициент насыщенности с* из уравнения с* = [(а*)2 + (Ь*)2]1/2 Цвет с коэффициентом насыщенности 12 или менее считается бледным.
Определение синевато-серого цвета для отраженного света, т. е. для стекла с покрытием, дающим преобладающий отраженный свет со значениями координат цветности МКО по х от 0,285 до 0,310, и по у от 0,295 до 0,325, которые показаны на фиг. 7 прямоугольником с надписью синевато-серый цвет, соотносится со значениями Ь*, а*, Ь*, МКО 1976 г., составляющими 37,85, -1,25, -5,9 и 39,62, -2,25, 1,5. Ниже приведен пример преобразования значений:
Пример 40 (табл. 3)
5,5% 8ЬС13
300/240 (Р/8Ь/Стекло) х = 9,797
Υ = 9,404
Ζ = 12,438
Х = 0,310 у = 0,297 Ь* = 36,751 а* = 4,624 Ь* = -3,466 с* = 5,778
Оценка солнцезащитных свойств окон из стекла и определение их категории производились Управлением по охране окружающей среды США по нормам оценок Епсщу 81ат. Нормативы Епсгду 81ат требуют, чтобы для центрального региона США номинальное значение величины и было не более 0,40, а КПСТП - не более 0,55. По нормативам Епсгду 81ат для южного региона США номинальное значение величины и должно быть не более 0,75, а КПСТП - не более 0,40. Стекло с покрытием, имеющее БИК слои и слои с низкой излучательной способностью, соответствующие настоящему изобретению, будучи установленным в окна стандартной конструкции, отвечает нормативам Епсгду 8(аг для центрального и/или южного регионов США. Например, вертикальное раздвижное окно шириной 3 фута и высотой 4 фута, рама которого обладает, по оценке Национального совета по устройству окон (ИЕКС), коэффициентом поглощения 0,5 и которое оснащено солнцезащитным стеклом, согласно настоящему изобретению, имеющим БИК пленку и пленку с низким ε с предпочтительными параметрами для получения синевато-серого цвета, достигает КПСТП менее 0,40 и и - менее 0,64 для конструкции с монолитным стеклом и величиной и для рамы не более 0,7, и достигает КПСТП менее 0,38 и и - менее 0,48 для конструкции с теплоизоляционным стеклопакетом, состоящим из 2,5 мм стекла без покрытия, воздушного промежутка в 12,7 мм и наружного стекла с БИК покрытием и покрытием с низким ε, нанесенными на его поверхности #2, при величине и для рамы не более 1,0.
Приводимые далее примеры доказывают, что при помощи минимум двух слоев 8пО2 с легирующей примесью можно получить превосходное солнцезащитное стекло с покрытием, имеющее заданный цвет в отраженном свете. В табл. 1, 2 и 3 представлены данные, а на фиг. 5 и 6 показано графически, как солнцезащитные свойства стекла с покрытием изменяются с изменением концентраций легирующих примесей и толщины пленок, в основном, БИК пленки. На фиг. 7 построены координаты цветности МКО представительной выборки стекла с покрытием для примеров с 1 по 39. Как видно из фиг. 7, определенные сочетания толщин пленок БИК слоя и слоя с низкой излучательной способностью и определенные концентрации примеси(ей) могут быть использованы для получения солнцезащитного стекла с покрытием, с любым желаемым цветом в отраженном от покрытия свете, таким как красный, зеленый, желтый, синий и их оттенки или синевато-серый. Особенно любопытно то, что синевато-серый цвет может быть получен при помощи БИК слоя и слоя с низкой излучательной способностью без использования противорадужного слоя, такого, какой рекомендован Гордоном.
Хотя отличительные особенностей настоящего изобретения могут быть реализованы при использовании всего двух слоев, БИК слоя и слоя с низкой излучательной способностью, многослойные варианты осуществления также укладываются в границы идеи и объема изобретения. Многослойные покрытия могут содержать дополнительные БИК слои, и/или слои с низкой излучательной способностью, или иные функциональные или декоративные слои. Многослойные варианты осуществления включают в себя системы ТО8Ь/ТОЕ/ТО8Ь/Стекло или ТО/ТОЕ/ТО8Ь/Стекло или ТО/ТО8Ь/ТОЕ/Стекло, где ТО является просто пленкой оксида олова. Когда используется несколько БИК слоев или слоев с низкой излучательной способностью, то концентрации и типы примесей в отдельных БИК пленках или пленках с низкой излучательной способностью не обязательно должны быть одинаковыми. Например, когда используются два БИК слоя в сочетании по меньшей мере с одним слоем с низкой излучательной способностью, один БИК слой может иметь низкий уровень легирования сурьмой (например, 2,5%), чтобы дать ощутимое отражение в средней ИК области спектра, а другой слой может иметь более высокий уровень легирования (>5%), чтобы обеспечить поглощение в ближней ИК области. Термины «слой» и «пленка», как правило, здесь используются взаимозаменяемо, кроме как при обсуждении градиентной пленки, изображенной на фиг. 3, в котором об участке пленки говорится, как о слое, имеющем концентрацию примеси, отличающуюся от концентрации примеси в другом слое пленки.
В способе изготовления стекла с покрытием, в соответствии с настоящим изобретением, который продемонстрирован в примерах, стекло последовательно вступает в контакт с газомносителем, содержащим исходные вещества. В соответствии с этим, стекло уже может иметь на себе покрытие, когда оно во второй раз вступает в контакт с газом-носителем, содержащим исходные вещества. Поэтому, термин вступая в контакт со стеклом означает либо непосредственный контакт, либо контакт с одним или более покрытиями, ранее осажденными на стекло. Наилучшие варианты реализации аспектов настоящего изобретения, связанных со снижением дымчатости, описаны в примерах 40-43 и 48-61. Соответствующие результаты сгруппированы в табл. 3, 4 и 5.
Примеры с 1 по 30.
Стеклянную (силикатное стекло) подложку толщиной 2,2 мм в виде квадрата со стороной 5 см разогрели на нагревательном блоке до 605625°С. Подложку установили под центром вертикальной коаксиальной покрывающей форсунки, на расстоянии 25 мм. Газ-носитель в виде сухого воздуха, который поступал с расходом 15 л/мин, нагревали до 160°С и пропускали через вертикальный испаритель с горячей стенкой. Жидкий раствор для покрытия, содержащий около 95 вес.% монобутилтрихлорида олова и около 5 вес.% трихлорида сурьмы, подавали в испаритель посредством шприцевого насоса с таким объемным расходом, чтобы создать молярную концентрацию органического оловосодержащего соединения в газовой смеси 0,5%. В испаритель также подавали некоторое количество воды с таким расходом, чтобы создать мо лярную концентрацию водяного пара в газовой смеси около 1,5%. Газовой смеси дали возможность соударяться со стеклянной подложкой в течение примерно 6,1 с со скоростью у поверхности 0,9 м/с, что привело к осаждению пленки оксида олова, легированного сурьмой толщиной около 240 нм. Сразу же после этого использовали вторую газовую смесь, состоявшую из исходных компонентов: 95 вес.% монобутилтрихлорида олова и 5 вес.% трифторуксусной кислоты вместе с водой в той же самой концентрации и газом-носителем, какие прежде использовались при осаждении слоя 8пО2, легированного сурьмой. Этой второй газовой смеси дали возможность соударяться со стеклянной подложкой с покрытием в течение около 6,7 с. При этом произошло осаждение пленки оксида олова, легированного фтором, толщиной около 280 нм. Полученная двухслойная пленка имела бледно-голубой цвет в проходящем и отраженном свете. Оптические свойства измеряли спектрофотометром для УВИ и ближней ИК области спектра, а поверхностное сопротивление слоя на стандартной четырехзондовой измерительной установке. Коэффициент передачи солнечного теплового потока, величину и и пропускание в видимой области спектра для центра стекла рассчитывали при помощи программы XV шбо\г 4.1, разработанной в Ьа^гепсе Вегк1еу ΝαΙίοηαΙ ЬаЬога1огу, νίηάονδ апб ИауйдЫ Огоир, ВиПб1пд Тес1шо1още5 Ргодгат, Епегду апб Εηνίгоптеп!а1 ИМыоп. Координаты цветности МКО, х и у, рассчитывали, используя А8ТМ Е308-96, на основе данных отражения в видимой области спектра 380-770 нм и значений цветовых компонент источника света типа С. Результаты анализа для такой пленки приведены в табл. 1 под номером 19. Процедуру, описанную в данном примере, провели дополнительно еще 29 раз, при этом варьировались концентрации исходных химических веществ и времена осаждения, чтобы получить образцы стекла с покрытием, имеющие различную толщину БИК слоя и слоя с низкой излучательной способностью и различные концентрации легирующих примесей. Результаты представлены в табл. 1.
Примеры с 31 по 38.
Повторили операции, описанные в примере 1, за исключением того, что очередность подачи пара изменили на обратную. Сначала в течение примерно 8 с осаждали пленку из оксида олова, легированного фтором, после чего в течение примерно 6 с - пленку из оксида олова, легированного сурьмой. Окончательно пленка имела толщину около 540 нм и состояла из слоя с низкой излучательной способностью (ТОЕ) толщиной около 300 нм и БИК слоя (ТО8Ь) толщиной около 240 нм и имела похожий вид и цвет в отраженном свете (синевато-серый), как и пленка в примере 19. Результаты анализа приведены в табл. 2, под номером 31. Процедуру, описанную в этом примере, повторили еще 7 раз, при этом варьировались концентрации исходных химических веществ и времена осаждения, чтобы получить образцы стекла с покрытием, имеющие различную толщину БИК слоя и слоя с низкой излучательной способностью и различные концентрации легирующих примесей. Результаты представлены в табл. 2.
Пример 39.
Повторили операции, описанные в примере 1, но с использованием трех смесей исходных веществ. Состав третьей смеси был: 90 вес.% монобутилтрихлорида олова, 5 вес.% трифторуксусной кислоты и 5 вес.% трихлорида сурьмы. Выполнили осаждение градиентной пленки, сначала осаждая только исходное вещество для получения оксида олова, легированного сурьмой, как в примере 1, в течение 70% времени, необходимого для осаждения 240 нм. Затем начали подачу смеси исходных веществ с примесями сурьмы/фтора. Осаждение обеих смесей вели в течение 20% суммарного времени осаждения, а затем отключили подачу смеси с сурьмой. Осаждение смеси с примесями сурьмы/фтора продолжали в течение оставшихся 10% суммарного времени, необходимого для осаждения пленки с примесью сурьмы толщиной 240 нм. В этот момент включили подачу исходного вещества для получения пленки оксида олова, легированного фтором. Продолжали подавать обе смеси в течение 20% суммарного времени, необходимого для осаждения 300 нм оксида олова, легированного фтором. Отключили подачу смеси исходных веществ с примесями сурьмы/фтора, а подачу исходного вещества для получения пленки оксида олова, легированного фтором, продолжали в течение оставшегося времени осаждения пленки, легированной фтором. Полученный слой градиентного покрытия имел бледно-голубой цвет в проходящем и отраженном свете (х = 0,292, у = 0,316), КПСТП = 0,50, величину и = 0,6, а пропускание в видимой области спектра около 45%. Как показано на фиг. 3, на поверхности 22 градиентной пленки 16 концентрация примеси сурьмы составила по существу 100%, в то время как на поверхности 18 концентрация примеси фтора по существу составила 100%, при этом между поверхностями 18 и 22, во всей толщине пленки 8пО2, имел место градиент концентрации легирующих примесей.
Примеры с 40 по 43.
Операции, описанные в примере 1, использовали в примерах с 40 по 43. Покрывающий состав для БИК слоя в примерах 41 и 43 составили из исходного вещества, содержащего фтор, сурьму и олово, которое было получено путем добавления 8ЬС13 и трифторуксусной кислоты к монобутилтрихлориду олова. Указанное исходное вещество содержало 0-5 вес.% трифторуксусной кислоты, 5,2-5,5 вес.% 8ЬС13, остальное монобутилтрихлорид олова, и его подавали вме27 сте с водой во второй испаритель. В качестве газа-носителя для второго испарителя использовали сухой воздух с расходом 15 л/мин. Исходное вещество, содержащее фтор/сурьму/олово, подавали в молярной концентрации 0,5% от суммарного расхода газа-носителя, воду - в молярной концентрации 1,5% от суммарного расхода газа-носителя, а температуру испарителя поддерживали равной 160°С. Квадратную подложку из силикатного стекла со стороной 5 см и толщиной 2,2 мм предварительно разогрели на нагревательном блоке до 605-625°С. Затем нагревательный блок и подложку передвинули прямо под вертикальную покрывающую форсунку так, что подложка оказалась в 25 мм снизу от форсунки. Затем на эту стеклянную подложку направили пары Р/8Ь/8и/Н2О от второго испарителя, осаждая подстилающий слой оксида олова, легированного сурьмой и фтором, в соответствии с примерами 41 и 43. Скорость газа-носителя была 0,9 м/с, а толщина пленки оксида олова, легированного сурьмой и фтором, составила около 240 нм. Побочные продукты реакции и пары исходных веществ, не вступивших в реакцию, отводили от подложки с расходом 18 л/мин. По окончании осаждения подстилающего покрытия оксида олова, легированного сурьмой и фтором, кран покрывающей форсунки переключили с подачи от второго испарителя на подачу от первого испарителя. Затем на подложку направили пары монобутилтрихлорида олова/трифторуксусной кислоты/Н2О от второго испарителя, осаждая слой оксида олова, легированного фтором, непосредственно поверх подстилающего покрытия из оксида олова, легированного сурьмой/фтором. Скорость газаносителя была 0,9 м/с, а толщина пленки оксида олова, легированного фтором, составила около 300 нм. Двухслойные пленки в примерах 41 и 43 (содержащие в подстилающем БИК покрытии и фтор, и сурьму) имели в проходящем свете светло-серый цвет, а в отраженном - нейтральный. Примеры 40 и 42, по существу, воспроизводят, соответственно, примеры 41 и 43, но без примеси фтора в подстилающем БИК слое. Свойства покрытий были измерены, а результаты представлены в табл. 3. Результаты показывают, как фтор, будучи дополнительной примесью в БИК слое, работает как модификатор цвета в отраженном и проходящем свете. Передаваемые цвета, Τνΐ8, х и у, пленок, изготовленных при помощи трифторуксусной кислоты с примесями 8Ь в БИК слое в примерах 41 и 43 являются более нейтральными в отраженном свете и более серыми в проходящем свете, чем у пленок, которые в примерах 40 и 42 в БИК слое оксида олова, легированного сурьмой, в качестве примеси содержали только сурьму. Более того, БИК слой, легированный сурьмой, содержащий примесь фтора в количестве, влияющем на цвет, имеет большее пропускание в видимой области спектра (возрастание Τνΐ8 от 54,5 до 58,5 в примере 41 по сравнению с примером 42, с некоторым содержанием примеси сурьмы).
Примеры с 44 по 47 демонстрируют осаждение пленок следующего состава: ТОР/ТО8Ь (с низкой концентр. 8Ь)/ТО8Ь (с высокой концентр. 8Ь)/Стекло, ТОР/ТО8Ь (с высокой концентр. 8Ь)ТО8Ь (с низкой концентр. 8Ь)/Стекло, ТО8Ь (с низкой концентр. 8Ь)/ ТОР/ ТО8Ь (с высокой концентр. 8Ь)/Стекло, ТО8Ь (с высокой концентр. 8Ь)/ ТОР/ ТО8Ь (с низкой концентр. 8Ь)/Стекло.
Пример 44.
Повторили операции, описанные в примере 1, за исключением того, что температура стекла была около 610°С, а молярная концентрация реагентов составила около 0,63% в воздухе, подававшемся с расходом 20 л/мин. Сначала осадили около 40 нм оксида олова, легированного сурьмой из раствора жидкости, состоявшего из приблизительно 10 вес.% трихлорида сурьмы и около 90 вес.% монобутилтрихлорида олова. Сразу же после этого из раствора жидкости, содержавшего 3,25% трихлорида сурьмы и 96,75% монобутилтрихлорида олова, осадили второй слой оксида олова, легированного сурьмой, толщиной около 200 нм. Третий слой оксида олова, легированного фтором, толщиной около 300 нм, осадили из раствора, содержавшего 5 вес.% трифторуксусной кислоты и 95 вес.% монобутилтрихлорида олова. Полученная пленка имела бледный зеленовато-синий цвет в отраженном свете и бледно-голубой цвет в проходящем свете. Свойства пленки измеряли, как описано в примере 1. Пропускание в видимой области спектра составило 64%, а вычисленное значение КПСТП составило 0,56. Координаты цветности, х и у, в отраженном свете были равны, соответственно, 0,304 и 0,299, что в цветовом пространстве МКО соответствует области синевато-серых цветов, как это было определено ранее.
Пример 45.
Повторили операции, описанные в примере 44, но в этот раз слои ТО8Ь осаждали в обратном порядке (этот вариант иногда обозначается как обратная схема). Полученная пленка в отраженном свете имела синевато-красный цвет с цветовыми координатами (х) 0,330 и (у) 0,293 соответственно. Было получено пропускание в видимой области спектра 59% и КПСТП 0,54. Для специалистов в данной области будет понятно, что слои ТО8Ь могут иметь толщины и концентрации, отличающиеся от здесь приведенных и при этом не выходящие за границы идеи и объема изобретения.
Пример 46.
Повторили операции, описанные в примере 44, но в этом примере очередность осаждения слоя оксида олова, легированного фтором, и слоя, полученного из 3,25% раствора трихлорида сурьмы, изменили на обратную. Полученная пленка имела пропускание в видимой области спектра около 62%, КПСТП - 0,55 и, в отраженном свете, неопределенный коричневатый цвет, характеризуемый цветовыми координатами (х) 0,311 и (у) 0,311.
Пример 47.
Повторили операции, описанные в примере 45, но в этом примере очередность осаждения слоя оксида олова, легированного фтором и слоя, полученного из 10,0% раствора трихлорида сурьмы, изменили на обратную. Полученная пленка имела пропускание в видимой области спектра около 57%, КПСТП - 0,53, и, в отраженном свете, бледно-зеленый цвет, характеризуемый цветовыми координатами (х) 0,308 и (у) 0,341. Для специалистов в данной области будет понятно, что слои Т08Ь могут иметь толщины и концентрации, отличающиеся от здесь приведенных и при этом не выходящие за границы идеи и объема изобретения.
Пример 48.
Повторили операции, описанные в примере 41, со следующими изменениями. Исходная композиция для нанесения БИК слоя состояла из 5 вес.% ТФК, 4,35 вес.% 8ЬС13 и МБТХ (остальное). В качестве газа-носителя при испарении использовали сухой воздух с расходом 20 л/мин. Исходное вещество, содержащее фтор/сурьму/олово, подавали в молярной концентрации 1,5% от суммарного расхода газаносителя, воду - в молярной концентрации 7,5% от суммарного расхода газа-носителя, а температуру испарителя поддерживали равной 160°С. Квадратную подложку из силикатного стекла со стороной 5 см и толщиной 2,2 мм предварительно разогрели на нагревательном блоке до 640°С. Пары исходного вещества направляли на стеклянную подложку со скоростью около 1,2 м/с, причем осаждение пленки оксида олова с добавками фтора и сурьмы толщиной около 240 нм производили со скоростью около 120 нм/с. Сразу же по окончании этого осаждения произвели с той же скоростью осаждение слоя оксида олова, легированного фтором, толщиной около 300 нм из композиции паров, содержащей 1,5 мол.% ТФК/МБТХ (5 вес.% ТФК и 95 вес.% МБТХ), 7,5 мол.% водяного пара и воздух (остальное). Двухслойная пленка была синезеленой в отраженном свете и имела значение дымчатости, составляющее 1,20% по данным измерений на приборе Гарднера.
Пример 49.
Повторили процедуру, описанную в примере 40, но с удалением воды из водяного пара при нанесении первых 30-60 нм первого слоя оксида олова с добавками сурьмы и фтора. Полученная пленка, по данным измерения, имела дымчатость 0,97%, что соответствовало снижению уровня по сравнению с предыдущим примером на 20%.
Сравнительный пример 50.
Процедуру, описанную в примере 40, повторили со следующими изменениями. Исходная композиция для нанесения БИК слоя состояла из 6,75 вес.% 8ЬС13 и МБТХ (остальное). В качестве газа-носителя при испарении использовали сухой воздух с расходом 20 л/мин. Исходное вещество, содержащее сурьму/олово, подавали в молярной концентрации 1,5% от суммарного расхода газа-носителя, воду добавляли в молярной концентрации 7,5% от суммарного расхода газа-носителя, а температуру испарителя поддерживали равной 160°С. Квадратную подложку из силикатного стекла со стороной 5 см и толщиной 2,2 мм предварительно разогрели на нагревательном блоке до 648°С. Пары исходного вещества направляли на стеклянную подложку со скоростью около 1,2 м/с, причем осаждение пленки оксида олова с добавкой сурьмы толщиной около 240 нм производили со скоростью около 120 нм/с. Сразу же по окончании этого осаждения произвели с той же скоростью осаждение слоя оксида олова, легированного фтором, толщиной около 300 нм из композиции паров, содержащей 1,5 мол.% ТФК/МБТХ (5 вес.% ТФК и 95 вес.% МБТХ), 7,5 мол.% водяного пара и воздух (остальное). Двухслойная пленка была сине-зеленой в отраженном свете и имела значение дымчатости, составляющее 1,34% по данным измерений на приборе Гарднера.
Пример 51.
Повторили процедуру, описанную в примере 50, но с удалением воды из потока пара при нанесении первых 30-60 нм первого слоя оксида олова с добавкой сурьмы.
Полученная пленка, по данным измерения, имела дымчатость 0,90%, что соответствовало снижению уровня на 33% по сравнению с предыдущим примером.
Пример 52.
Повторили процедуру, описанную в примере 51, но с удалением воды из потока пара при нанесении первых 30-60 нм первого слоя оксида олова с добавкой сурьмы. Полученная пленка, по данным измерения, имела дымчатость 0,83%, что соответствовало снижению уровня дымчатости на 38% по сравнению с примером 50.
Пример 53.
Повторили процедуру, описанную в примере 50, но при нанесении первых 30-60 нм первого слоя оксида олова с добавкой сурьмы к исходному веществу добавили 5 вес.% ТФК. Полученная двухслойная пленка, по данным измерения, имела дымчатость 1,17%.
Пример 54.
Повторили операции, описанные в примере 40, со следующими изменениями. Исходная композиция для нанесения БИК слоя состояла из 6,75 вес.% 8ЬС13 и МБТХ (остальное). В качестве газа-носителя при испарении использовали сухой воздух с расходом 20 л/мин. Исходное вещество, содержащее сурьму/олово, подавали в молярной концентрации 1,5% от суммар31 ного расхода газа-носителя, воду - в молярной концентрации 1,5% от суммарного расхода газаносителя, а температуру испарителя поддерживали равной 160°С. Квадратную подложку из силикатного стекла со стороной 5 см и толщиной 2,2 мм предварительно разогрели на нагревательном блоке до 663°С. Пары исходного вещества направляли на стеклянную подложку со скоростью около 1,2 м/с, причем осаждение пленки оксида олова с добавкой сурьмы толщиной около 240 нм производили со скоростью около 105 нм/с. Сразу же по окончании этого осаждения произвели с той же скоростью осаждение слоя оксида олова, легированного фтором, толщиной около 300 нм из композиции паров, содержащей 1,5 мол.% ТФК/МБТХ (5 вес.% ТФК и 95 вес.% МБТХ), 1,5 мол.% водяного пара и воздух (остальное). Двухслойная пленка была сине-зеленой в отраженном свете и имела значение дымчатости, составляющее 1,13% по данным измерений на приборе Гарднера.
Пример 55.
Повторили процедуру, описанную в примере 54, но с удалением воды из потока пара при нанесении первых 30-60 нм первого слоя оксида олова с добавкой сурьмы.
Полученная пленка, по данным измерения, имела дымчатость 0,90%, что соответствовало снижению уровня по сравнению с предыдущим примером на 20%.
Пример 56.
Повторили процедуру, описанную в примере 55, но при нанесении первых 30-60 нм первого слоя оксида олова с добавкой сурьмы к исходному веществу добавили 5 вес.% ТФК. Полученная пленка, по данным измерения, имела дымчатость 0,70%, что соответствовало снижению уровня по сравнению с предыдущим примером на 23%.
Пример 57.
Повторили процедуру, описанную в примере 54, но к исходному раствору, используемому при нанесении первого слоя оксида олова с добавкой сурьмы, добавили 5 вес.% ТФК. Полученная двухслойная пленка, по данным измерения, имела дымчатость 0,72%, что соответствовало снижению уровня дымчатости на 36% по сравнению с примером 54.
Нижеследующие примеры характеризуют дымчатость, полученную, когда двухслойная пленка наносится по обратной схеме.
Пример 58.
Повторили операции, описанные в примере 31, со следующими изменениями. Исходная композиция для нанесения нижнего слоя состояла из 5 вес.% ТФК и 95 вес.% МБТХ. В качестве газа-носителя при испарении использовали сухой воздух с расходом 20 л/мин. Исходный раствор подавали в молярной концентрации 1,5% от суммарного расхода газа-носителя, воду - в молярной концентрации 1,5% от суммарного расхода газа-носителя, а температуру испарителя поддерживали равной 160°С. Квадратную подложку из силикатного стекла со стороной 5 см и толщиной 2,2 мм предварительно разогрели на нагревательном блоке до 663 °С. Пары исходного вещества направляли на стеклянную подложку со скоростью около 1,2 м/с, причем осаждение пленки оксида олова с добавкой сурьмы толщиной около 300 нм производили со скоростью около 105 нм/с. Сразу же по окончании этого осаждения произвели с той же скоростью осаждение слоя оксида олова, легированного сурьмой, толщиной около 240 нм из композиции паров, содержащей 1,5 мол.% 8ЬС13/МБТХ (6,75 вес.% 8ЬС13 и 93,25 вес.% МБТХ), 1,5 мол.% водяного пара и воздух (остальное). Полученная двухслойная пленка была нейтрального синего цвета в отраженном свете и имела значение дымчатости, составляющее 0,68% по данным измерений на приборе Гарднера.
Пример 59.
Повторили процедуру, описанную в примере 58, но при нанесении первого слоя оксида олова с добавкой сурьмы к исходному веществу добавили 5 вес.% ТФК. Полученная двухслойная пленка нейтрального синего цвета в отраженном свете имела значение дымчатости, составляющее 0,67%.
Пример 60.
Повторили процедуру, описанную в примере 54, но при нанесении первого слоя оксида олова с добавкой сурьмы к исходному раствору, содержащему 5,75 вес.% 8ЬС13/МБТХ добавили 2,9 вес.% уксусной кислоты. Полученная двухслойная пленка была нейтрального синего цвета в отраженном свете и имела значение дымчатости, составляющее 0,95%.
Сравнительный пример 61.
Повторили процедуру, описанную в примере 60, но без добавления уксусной кислоты к исходному раствору. Полученная двухслойная пленка была нейтрального синего цвета в отраженном свете и имела значение дымчатости 1,37%.
Результаты, полученные в примерах 48-61, сведены в табл. 4 и 5.
В качестве добавки для снижения дымчатости, вводимой в БИК слой из оксида олова, прилежащий к стеклу, может быть использован также и диоксид кремния, особенно для введения в верхнюю часть БИК слоя перед нанесением на него слоя с низкой излучательной способностью. Предпочтительным исходным веществом применительно к диоксиду кремния является тетраметилциклотетрасилоксан (ТМЦТС). В случае использования ТМЦТС при нанесении верхней части нижнего слоя (примерно 60 нм) было достигнуто снижение дымчатости на 33%. Примеры 62 и 63, а также их результаты, приводимые в табл. 6, иллюстрируют влияние диок сида кремния в качестве добавки в слой оксида олова, легированного сурьмой.
Пример 62.
Процедуру, описанную в примере 1, повторили со следующими изменениями. Исходная композиция для нанесения БИК слоя состояла из двух растворов: раствора, содержащего 5,75 вес.% 8ЬС13 (остальное - МБТХ), который подавали к обоим испарителям, и раствора тетраметилциклотетрасилоксана (ТМЦТС), который подавали только ко второму испарителю. В качестве газа-носителя при испарении использовали сухой воздух с расходом 15 л/мин. Исходное вещество для сурьмы/олова добавляли в количестве 0,5 мол.% от суммарного потока газа-носителя. Воду добавляли до поступления потока воздуха в смесительную секцию; температуру испарителя поддерживали равной 160°С. В случае использования ТМЦТС он подавался на уровне 0,5 мол.%. Квадратную подложку из силикатного стекла со стороной 5 см и толщиной 2,2 мм предварительно разогрели на нагревательном блоке до 663 °С. Пары исходного вещества для БИК слоя направляли на стеклянную подложку со скоростью около 0,88 м/с, а осаждение пленки оксида олова с добавкой сурьмы толщиной около 185 нм производили со скоростью около 55 нм/с. Сразу же по окончании этого осаждения произвели осаждение слоя оксида олова, содержащего диоксид кремния, из второго испарителя с той же скоростью до толщины примерно 61 нм. После этого с той же скоростью нанесли, из первого испарителя, слой оксида олова, легированного фтором, толщиной около 298 нм с использованием композиции паров, содержащей 0,5 мол.% ТФК/МБТХ (5 вес.% ТФК и 95 вес.% МБТХ), 1,5 мол.% водяного пара и воздух (остальное). Полученная двухслойная пленка была нейтрального синего цвета в отраженном свете и имела значение дымчатости 0,81% по данным измерений на приборе Гарднера.
Сравнительный пример 63.
Повторили процедуру, описанную в примере 62, за исключением того, что слой оксида олова, легированный сурьмой, имел толщину 223 нм, слой, содержащий диоксид кремния, не наносился, а слой ТОР имел толщину 291 нм. Полученная пленка имела значение дымчатости 1,20% по данным измерений на приборе Гарднера.
Таблица 1
Сводные данные свойств двухслойных пленок ТОР/ТО8Ь
# 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15
Состав Е/ЗЬ/6 Е/8Ь/6 Е/8Ь/6 Е/ЗЬ/6 Е/ЗЬ/6 Е/ЗЬ/6 Е/ЗЬ/6 Е/ЗЬ/6 Е/ЗЬ/6 Е/ЗЬ/6 Е/ЗЬ/6 Е/ЗЬ/6 Е/ЗЬ/6 Е/ЗЬ/6 Р/ЗЬ/6
%ЗЬ 2,5 2,5 2,5 2,5 2,5 5,6 5,6 5,6 5,6 5,6 5,6 5,6 5,6 5,6 5,6
Толщ.нм 300/240 300/160 300/80 400/240 400/80 300/240 300/240 300/160 300/80 300/240 300/252 300/232 300/225 300/240 400/240
%Азо1 16,1 12,7 9,7 17,0 11,0 40,8 39,2 31,1 20,7 39,2 41,5 39,0 37,1 40,1 40,3
%Тзо1 72,0 74,6 76,4 72,0 76,9 50,0 51,1 58,2 67,5 51,6 49,2 52,2 53,9 51,0 50,6
%Кзо1,1 11,8 12,7 13,9 11,0 12,1 9,2 9,6 10,7 11,8 9,2 9,3 8,9 9,1 8,9 9,1
%ΚδθΙ,2 10,9 11,7 128 10,3 11,5 8,2 9,2 9,4 10,8 8,5 8,5 8,4 8,6 8,4 8,2
%ΤνΪ8 78,0 80,5 80,0 77,7 82,0 57,4 58,5 65,5 72,7 57,6 54,8 58,0 59,8 56,8 56,5
%Κνί8,1 12,0 12,1 14,6 11,2 11,9 9,2 9,8 10,1 14,0 8,9 9,0 8,4 8,4 8,6 8,6
%Κνϊδ,2 10,9 11,3 13,4 10,5 11,6 8,3 9,3 8,6 11,3 8,6 8,5 8,3 8,2 8,2 8,3
%Τιιν 52,3 52,9 55,2 51,1 53,6 41,2 41,5 45,3 50,6 43,1 42,6 44,3 44,9 424 42,1
8.Ρ. 12,4 13,2 16,0 10,4 13,3 11,2 11,8 13,3 15,6 12,2 12,5 13,4 13,8 13,1 97
Ет13-са1 0,12 0,13 0,15 0,10 0:13 0,11 0,11 0,13 0,15 0,12 0,12 0,13 0,13 0,13 0,10
КПСТПц 0,74 0,77 0,78 0,75 0,79 0,57 0,58 0,63 0,71 0,58 0,56 0,59 06 0,58 0,57
“СтПак 0,67 0,70 0,71 0,67 0,71 0,49 0,5 0,56 0,63 0,51 0,48 0,51 0,52 0,5 0,49
иц 0,72 0,72 0,74 0,71 0,73 0,71 0,72 0,72 0,74 0,72 0,72 0,73 0,73 0,73 0,71
“СтПак 0,27 0,28 0,28 0,27 0,28 0,27 0,27 0,28 0,28 0,27 0,27 0,28 0,28 0,28 0,27
Τνΐδ-ц 0,78 0,81 0,80 0,78 0,82 0,57 0,58 0,66 0,73 0,58 0,55 0,58 0,6 0,57 0,56
“СтПак 0,71 0,73 0,73 0,71 0,74 0,52 0,53 0,59 0,66 0,52 0,5 053 0,54 0,52 0,51
X 0,291 0,329 0,295 0,326 0,323 0,293 0,292 0,331 0,318 0,288 0,291 0,294 0,302 0,294 0,322
У 0,336 0,289 0,377 0,317 0,282 0,303 0,309 0,280 0,364 0,300 0,300 0,309 0315 0,306 0,318
%ΚνΪ8 12,0 12,1 14,7 11,2 11,9 9,2 9,8 10,1 13,9 9,0 9,0 8,4 8,4 8,6 8,6
Цвет, отраж. Синевато -зелен. Нейтр. Зеленый Зеленовато-синий Нейтр. Синий Синий Нейтр. Зеленовато-желт. Синий Синий Синий Синий Синий Красный
# 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30
Состав Р/8Ь/С Р/8Ь/С Р/ЗЬ/С Р/ЗЬ/6 Р/8Ь/С Р/8Ь/6 Р/8Ь/С Р/8Ь/С Р/8Р/С Р/8Ь/С Е/8Ь/С Р/ЗЬ/С Е/8Ь/С Е/8Ь/С Р/ЗЬ/С
%ЗЬ 5,6 5,6 5,6 5,6 5,6 6,5 10,0 10,0 10,0 10,0 10,0 10,0 14,6 14,6 14,6
Толщ.нм 370/240 338/240 300/240 280/240 262/240 300/24 300/240 300/160 300/80 300/300 400/240 400/80 300/240 300/160 300/80
%А8О1 45,0 40,2 40,3 43,2 39,4 29,6 54,5 41,8 25,9Л 62,5 55,4 24,8 59,9 47,8 29,9
%Т8О1 45,4 50,7 50,6 46,6 51,2 46,4 37,0 47,8 62,4 29,7 35,9 63,6 31,9 42,9 57,5
%Кзо1,1 9,6 9,1 9,1 10,2 9,4 9,9 8,5 10,4 11,7 7,8 8,7 11,6 8,2 9,3 12,6
%Ε?5οΙ,2 8,0 8,4 8,5 8,4 8,5 8,4 7,8 9,1 11,2 7,5 7,5 10,7 7,7 8,6 11,2
%ΤνΪ8 51,0 56,5 56,5 51,6 57,0 51,2 36,4 48,6 64,0 28,5 34,8 68,3 28,3 41,3 58,1
%Κνΐδ,1 8,8 8,8 8,9 10,0 9,0 9,9 8,5 10,0 13,3 7,7 7,6 10,1 8,9 7,8 14,7
%Ηνίδ,2 8,3 8,7 8,3 7,9 8,0 8,5 7,2 7,8 9,6 6,9 7,6 10,0 7,1 7,2 9,9
%Тиу 39,8 43,0 42,8 41:6 44,8 40,7 35,1 41,0 48,8 30,4 33,2 48,9 27,5 34,9 44,4
8.К. 11,5 11,3 13,6 13,7 15 12,9 15,4 17,7 18,8 15 12,8 15,4 15,1 15,7 18,6
Ет18-са1 0,11 0,11 0,13 0,13 6,14 0,12 0,15 0,16 0,17 0,14 0,12 0,14 0,14 0,15 0,17
КПСТПц 0,53 0,57 0,57 0,54 0,58 0,54 0,47 0,55 0,67 0,41 0,45 0,68 0,42 0,51 0,63
“СтПак 0,45 0,49 0,49 0,46 0,5 0,46 0,38 0,47 0,59 0,32 0,39 0,60 0,34 0,43 0,55
иц 0,72 0,71 0,73 0,73 0,73 0,72 0,74 0,74 0,75 0,73 0,72 0,73 0,73 0,74 0,75
“СтПак 0,27 0,27 0,28 0,28 0,28 0,28 0,29 0,29 0,29 0,28 0,27 0,28 0,28 0,28 0,29
Τνϊδ-ц 0,51 0,56 0,56 0,52 0,57 0,51 0,36 0,49 0,64 0,28 0,35 0,68 0,28 0,41 0,58
“СтПак 0,46 0,51 0,51 0,47 0,52 0,46 0,33 0,44 0,58 0,26 0,32 0,62 0,26 0,37 0,53
X 0,306 0,296 0,298 0,303 0,318 0,297 0,320 0,353 0,324 0,343 0,299 0,299 0,331 0,344 0,335
У 0,320 0,308 0,312 0,321 0,324 0,305 0,327 0,294 0,378 0,306 0,322 0,312 0,329 0,305 0,393
%Κνί8 9,0 8,8 8,9 10,0 9,0 9,9 8,5 9,9 13,2 7,7 7,6 10,1 8,8 7,8 14,6
Цвет, отраж. Синевато -зелен. Синий Синий Синевато -зелен. Желтовато -зелен. Синий Желтовато-серый Красный Желтовато -зелен. Нейтр. Синеватозелен. Синий Желтовато-зелен. Нейтр. Желтовато-зелен.
Таблица 2
Сводные данные свойств двухслойных пленок ТО8Ь/ТОР
# 31 32 33 34 35 36 37 38
Состав 8Ь/Е/С ЗЬ/Ε/Θ 8Ь/Е/С 8Ь/Е/0 8Ь/Е/С ЗЬ/Ε/Θ 8Ь/Е/6 ЗЬ/Ε/Θ
%8Ь 5,6 5,6 5,6 5,6 5,6 5,6 5,6 5,6
Толщ.нм 240/300 160/300 138/300 120/300 110/300 80/300 120/332 120/262
%Аэо( 47,9 36,1 29,2 27,2 25,6 23,5 28,5 26,8
%Тзо1 45,9 55,5 61,1 63,3 64,3 65,8 62,5 63,4
%ΗδοΙ,1 6,1 8,3 9,7 9,6 10,2 10,7 9,0 9,8
%ΚδοΙ,2 8,2 9,3 10,1 9,5 9,2 9,2 9,2 9,6
%Τνίδ 53,2 63,2 67,2 69,0 69,5 71,8 69,0 68,1
%Κνΐδ,1 6,1 7,6 9,3 9,1 10,1 10,9 7,8 9,9
%Κνϊδ,2 7,6 8,9 10,7 10,4 10,5 10,9 8,9 11,6
%Τιιν 38,5 43,4 47,0 48,7 49,2 49,1 47,7 49,6
8.Κ. 14,7 15,9 16,5 17,4 18,8 17,3 15 21,1
Ет1б-са1 0,14 0,15 0,15 0,16 0,17 0,16 0,14 0,19
КПСТПц 0,54 0,61 0,66 0,68 0,69 0,7 0,67 0,68
“СтПак 0,45 0,53 0,58 0,6 0,61 0,62 0,59 0,6
иц 0,73 0,74 0,74 0,74 0,75 0,74 0,73 0,76
“СтПак 0,28 0,28 0,29 0,29 0,29 0,29 0,28 0,3
Τνίδ-ц 0,53 0,63 0,67 0,69 0,69 0,72 0,69 0,68
“СтПак 0,48 0,57 0,61 0,63 0,63 0,65 0,63 0,62
X 0,289 0,309 0,310 0,311 0,313 0,302 0,306 0,292
У 0,300 0,283 0,274 0,275 0,306 0,364 0,281 0,349
%Κνΐδ 6,2 7,7 9,3 9,1 10,1 10,9 7,8 9,9
Цвет, отраж. Синий Синеватосерый Синеватозелен. Синеватозелен. Нейтр. Зеленый Синеватосерый Зеленый
8Ь/Р/О=Оксид олова, легированный сурьмой/Оксид олова, легированный фтором/Стекло %8Ь - %8ЬС13 (трихлорида сурьмы) по весу в монобутилтрихлориде олова
Толщ., нм - Результат измерения профилометром отдельно пленки ТО:Р (оксид
Пояснения к табл. 1 и 2:
Состав - Р/8Ь/О=Оксид олова, легированный фтором/Оксид олова, легированный сурьмой/Стекло олова, легированный фтором) и пленки ТО:8Ь (оксид олова, легированный сурьмой) %Аво1 - % коэффициент поглощения солнечного излучения (нормировано к функции спектральной плотности излучения солнца (А8ТМ Е891-87), с использованием данных спектральных измерений, полученных на спектрофотометре Р-Е ЬатЬба 9 с интегрирующей сферой 150 мм) при освещении со стороны пленки (=100(%Т8о1+%К8о1,1)) - 300-2500 нм %Тво1 - % коэффициент пропускания солнечного излучения (нормировано к функции спектральной плотности излучения солнца (А8ТМ Е891-87), с использованием данных спектральных измерений, полученных на спектрофотометре Р-Е ЬатЬба 9 с интегрирующей сферой 150 мм) при освещении со стороны пленки - 300-2500 нм %К.во1.1 - % коэффициент отражения солнечного излучения (нормировано к функции спектральной плотности излучения солнца (А8ТМ Е891-87), с использованием данных спектральных измерений, полученных на спектрофотометре Р-Е ЬатЬба 9 с интегрирующей сферой 150 мм) при освещении со стороны пленки - 300-2500 нм %К.во1,2 - % коэффициент отражения солнечного излучения (нормировано к функции спектральной плотности излучения солнца (А8ТМ Е891-87), с использованием данных спектральных измерений, полученных на спектрофотометре Р-Е ЬатЬба 9 с интегрирующей сферой 150 мм) при освещении со стороны подложки - 3002500 нм %Ту15 - % коэффициент пропускания (нормировано к функции спектральной плотности излучения солнца (А8ТМ Е891-87), с использованием данных спектральных измерений, полученных на спектрофотометре Р-Е ЬатЬба 9 с интегрирующей сферой 150 мм) в видимой области спектра при освещении со стороны пленки 380-780 нм
8.Я. - Поверхностное сопротивление при измерении на 4-зондовой установке А1е881
ЕшБ.саГ - Коэффициент излучения, вычисленный на основе поверхностного сопротивления [=1-(1+0,0053-8.Я.) (вычислено с использованием программы \Утбо\\' 4.1, \Утбо\\ъ аиб
ЬауНдЫтд Сгоир, Ьа^гепсе Вегк1еу Ыабопа1 ЬаЬогаГогу)]
КПСТПц - Коэффициент передачи солнечного теплового потока (вычислено с использованием программы \Утбо\\'
4.1, \Утбо\\ъ апб ЬауНдЫтд Сгоир, Ьа^гепсе Вегк1еу Мабопа1 ЬаЬога1огу) в центре стекла/для монолитного стекла
СтПак - Коэффициент передачи солнечного теплового потока (вычислено с использованием программы \Утбо\\·
4.1, \Утбо\\ъ апб ЬауНдЫтд Сгоир, Ьа^гепсе Вегк1еу Мабопа1 ЬаЬога1огу) в центре стекла в теплоизоляционном стеклопакете иц - Полный коэффициент теплопередачи (вычислено с использованием программы \Утбо\у 4.1, \Утбо\\'5 апб ЬауНдЫтд Сгоир, Ьа^гепсе Вегк1еу Νιбопа1 ЬаЬогаГогу) в центре стекла/для монолитного стекла
СтПак - Полный коэффициент теплопередачи (вычислено с использованием программы \Утбо\у 4.1, \Утбо\\ъ апб ЬауНдЫтд Сгоир, Ьа^гепсе Вегк1еу Ыабопа1 ЬаЬогаГогу) в центре стекла в теплоизоляционном стеклопакете (в теплоизоляционном стеклопакете используется стекло 2,2 мм с покрытием (на поверхности #2) и 2,5 мм стекло без покрытия с промежутком в 12,7 мм между ними, который заполнен аргоном)
Ту18-ц - Коэффициент пропускания (нормировано к функции спектральной плотности излучения солнца (А8ТМ Е89187), с использованием данных спектральных измерений, полученных на спектрофотометре Р-Е ЬатЬба 9 с интегрирующей сферой 150 мм) в видимой области спектра в центре стекла/для монолитного стекла 380-780 нм
СтПак - Коэффициент пропускания (нормировано к функции спектральной плотности излучения солнца (А8ТМ Е891-87), с использованием данных спектральных измерений, полученных на спектрофотометре Р-Е ЬатЬба 9 с интегрирующей сферой 150 мм) в видимой области спектра в центре стекла в теплоизоляционном стеклопакете (в теплоизоляционном стеклопакете используется стекло 2,2 мм с покрытием (на поверхности #2) и 2,5 мм стекло без покрытия с промежутком в 12,7 мм между ними, который заполнен аргоном) - 380780 нм х, у - Координаты цветности, вычисленные из %Кл'18 в соответствии с А8ТМ Е30839
96, для источника С, наблюдатель МКО1931г, интервал 10 нм (таблица 5.5) - 380-770 нм %ΒνΪ8 - % коэффициент отражения (нормировано к функции спектральной плотности излучения солнца (А8ТМ Е89187), с использованием данных спектральных измерений, полученных на спектрофотометре Р-Е ЬатМа 9 с интегрирующей сферой 150 мм) в видимой области спектра при освещении со стороны пленки - 380-770 нм
Таблица 3
Сводные данные свойств двухслойных пленок ТО8Ь/ТОЕ
Пример № 40 41 42 43
Состав Е/ЗЬ/6 Е/ЗЬ-Е/Θ Е/ЗЬ/С Е/ЗЬ-Е/Θ
%8ЬС13 5,5 5,2 5,2 5,36
% примеси 0ТФК 5 ТФК ОТФК 2,5 ТФК
Толщина, нм 300/240 300/240 300/240 300/240
%Азо1 45,5 35,7 41,8 39,1
%Тзо1 45,0 54,2 48,2 50,6
%ΚδθΙ,1 9,5 10,1 10,0 10,3
%Κ5οΙ,2 8,0 8,9 8,4 8,7
%Τνΐδ 50,9 58,5 54,5 55,6
%ΚνΪ5,1 9,4 10,1 10,4 10,3
%Κνϊδ,2 8,0 9,0 8,5 9,0
%Τιιν 40,1 41,1 41,6 39,8
δ.κ. 11,9 13,7 11,8 12,5
Ет15-са1 0,12 0,13 0,11 0,12
КПСТПц 0,53 0,60 0,55 0,57
“СтПак 0,45 0,52 0,47 0,49
иц 0,72 0,73 0,72 0,72
“СтПак 0,27 0,28 0,27 0,27
Τνίδ-ц 0,51 0,59 0,55 0,56
“СтПак 0,46 0,53 0,50 0,51
К1 х 0,310 0,297 0,302 0,303
К1 у 0,297 0,313 0,299 0,307
%Κνΐδ 9,4 10,1 10,4 10,3
Τνΐδχ 0,294 0,308 0,297 0,304
Τνϊδγ 0,308 0,315 0,310 0,314
Дымчатость, % 2,22±0,18 1,60±0,29 2,34±0,19 1,72+0,26
Таблица 4
Влияние ТФК и/или Н2О на дымчатость двухслойных пленок
# 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 | 59
Состав* 2 2 1 1 2 2 1 2 2 3 4
%5ЬС1з 4,35 4,35 6,75 6,75 6,75 6,75 6,75 6,75 6,75 6,75 6,75 6,75
%ТФК 5 5 0 0 5 5 0 0 5 5 0 5
Перв. 30-60 нм Да Да Нет Нет Да Да Нет Нет Да Да Нет Да
Остальн. Да Да Нет Нет Нет Да Нет Нет Нет Да Нет Да
Н2О/Зп 5 5 5 5 5 5 1 1 1 1
Перв. 30-60 нм Да Нет Да Нет Нет Да Да Нет Нет Да Да Да
Остальн. Да Да Да Да Да Да Да Да Да Да Да Да
Скорость, нм/с 120 120 120 120 120 120 105 105 105 105 105 105
Температура, °С 640 640 648 648 648 648 663 663 663 663 663 663
Дымчатость, % 1,20 0,97 1,34 0,90 0,83 1,17 1,13 0,90 0,70 0,72 0,68 0,67
Состав: 1 = 300 нм ТОР/240 нм ТО8Б/6, 2 = 300 нм ТОР/240 нм Т08Ь Р/С, 3 = 240 нм Т08Ь Р/300 нм ТОР/С, 4 = 240 нм Т08Ь /300 нм ТОР/С
Таблица 5
Влияние уксусной кислоты на дымчатость двухслойных пленок
Пример № 60 61
Состав* 2 2
8ЪС13, % 5,75 5,75
Уксусная кислота, % 2,9 0
первые 30-60 нм Да Нет
остальн. Да Нет
Н2О/8п 1 1
первые 30-60 нм Да Нет
остальн. Да Да
Скорость, нм/с около 105 около 105
Температура,°С 663 663
Дымчатость, % 1,37 0,95
*Структура: 1 = 300 нм ТОР/240 нм ТО8Ъ/О = 300 нм ТОР/240 нм ТО8Ъ Р/О = 240 нм ТО8Ъ Р/300 нм ТОР/О = 240 нм ТО8Ъ /300 нм ТОР/О
Таблица 6
Влияние ТМЦТС на дымчатость двухслойных пленок
Пример № 62 63
Структура* ТОГ/ТО8Ъ- 81/ТО8Ъ/О ТО17ТО8Ь/(г
8ЪС13, % 5,75 5,75
мол. % ТМЦТС/мол.%8п ОД 0
ТО8Ъ-81, нм 61 0
ТОГ, нм 298 291
Скорость, нм/с около 55 около 55
Температура, °С 663 663
Дымчатость, % 0,81 1,20
слой, поглощающий солнечное излучение в ближней ИК области спектра, и слой с низкой излучательной способностью, содержащее стеклянную подложку и покрытие из легированного оксида олова, которое состоит по меньшей мере из двух слоев, один из которых является слоем, поглощающим солнечное излучение и содержащим 8иО2 с легирующей примесью, выбранной из группы, состоящей из сурьмы, вольфрама, ванадия, железа, хрома, молибдена, ниобия, кобальта, никеля и их смесей, а другой слой является слоем с низкой излучательной способностью, содержащим 8иО2 с легирующей примесью, выбранной из группы, состоящей из фтора и фосфора, причем часть указанного слоя, поглощающего излучение, имеет шероховатость, обеспечивающую достижение низкого уровня дымчатости в указанном покрытии из оксида олова.
2. Стекло с покрытием по п.1, отличающееся тем, что толщина слоя, поглощающего солнечное излучение, составляет от 200 до 320 нм, толщина слоя с низкой излучательной способностью составляет от 200 до 450 нм, а указанная часть указанного поглощающего слоя, придающая пониженную шероховатость, содержит добавку для снижения дымчатости в эффективном количестве, причем указанная добавка выбрана из группы, состоящей из фтора, продукта пиролитического разложения тетраметилциклотетрасилоксана, НЕ, дифторуксусной кислоты, монофторуксусной кислоты, трифторида сурьмы, пентафторида сурьмы, этилтрифторацетата, муравьиной кислоты, пропионовой кислоты, метансульфокислоты, масляной кислоты и ее изомеров, азотной или азотистой кислоты.

Claims (17)

  1. ФОРМУЛА ИЗОБРЕТЕНИЯ
    1. Солнцезащитное стекло с покрытием из оксида олова, имеющим уровень дымчатости, не превышающий примерно
  2. 2,0%, и включающим
  3. 3. Стекло с покрытием по п.1, отличающееся тем, что толщина слоя, поглощающего солнечное излучение в ближней ИК области спектра, составляет от 200 до 320 нм, толщина слоя с низкой излучательной способностью составляет от 200 до 450 нм, а часть указанного поглощающего слоя, имеющая пониженную шероховатость, содержит продукт пиролитического разложения безводной (сухой) смеси, содержащей соединение олова, способное при пиролитическом разложении в присутствии источника кислорода образовывать оксид олова, и соединение сурьмы, способное при пиролитическом разложении образовывать легирующую примесь сурьмы.
  4. 4. Стекло с покрытием по п.1, отличающееся тем, что толщина слоя, поглощающего солнечное излучение в ближней ИК области спектра, составляет от 200 до 320 нм, толщина слоя с низкой излучательной способностью составляет от 200 до 450 нм, а часть указанного поглощающего слоя, придающая пониженную шероховатость, включает в себя часть, имеющую толщину от 30 до 60 нм и расположенную смежно с границей между слоем, поглощающим солнечное излучение, и слоем с низкой излучательной способностью, или ту часть, которая примыкает к стеклянной подложке.
  5. 5. Стекло с покрытием по п.2, отличающееся тем, что толщина слоя, поглощающего солнечное излучение в ближней ИК области спектра, составляет от 200 до 320 нм, толщина слоя с низкой излучательной способностью составляет от 200 до 450 нм, а часть указанного поглощающего слоя, имеющая пониженную шероховатость, включает в себя часть указанного поглощающего слоя, имеющую толщину от 30 до 60 нм.
  6. 6. Стекло с покрытием по п.1, отличающееся тем, что указанный слой, поглощающий солнечное излучение, расположен ближе к стеклянной подложке, чем слой с низкой излучательной способностью.
  7. 7. Стекло с покрытием по п.1, отличающееся тем, что слой, поглощающий солнечное излучение, имеет толщину от 220 до 260 нм, а весовая концентрация легирующей примесисурьмы в указанном слое, поглощающем солнечное излучение, составляет от 2,5 до 7% от веса 8иО2 указанного слоя, поглощающего солнечное излучение, слой с низкой излучательной способностью имеет толщину от 280 до 320 нм, а весовая концентрация легирующего фтора в указанном слое с низкой излучательной способностью составляет от 1 до 5% от веса 8иО2 указанного слоя с низкой излучательной способностью.
  8. 8. Стекло с покрытием по п.1, отличающееся тем, что слой, поглощающий солнечное излучение, нанесен непосредственно на стекло, а слой с низкой излучательной способностью нанесен поверх слоя, поглощающего солнечное излучение.
  9. 9. Стекло с покрытием по п.1, отличающееся тем, что слой, поглощающий солнечное излучение, выполнен из 8иО2 с легирующей примесью сурьмы с весовой концентрацией от 3 до 6% от веса 8иО2 слоя, поглощающего солнечное излучение, слой с низкой излучательной способностью выполнен из 8иО2 с легирующей примесью фтора с весовой концентрацией от 1 до 3% от веса 8иО2 слоя с низкой излучательной способностью, а указанная часть слоя, поглощающего солнечное излучение, придающая пониженную шероховатость, содержит фтор в количестве, достаточном для того, чтобы повысить проводимость указанной части слоя, поглощающего солнечное излучение.
  10. 10. Солнцезащитное стекло с покрытием из оксида олова, имеющим низкий уровень дымчатости и имеющим слой, поглощающий солнечное излучение в ближней ИК области спектра, и слой с низкой излучательной способностью, содержащее стеклянную подложку и покрытие из легированного оксида олова, которое состоит по меньшей мере из двух слоев, один из которых является слоем, поглощающим солнечное излучение и содержащим 8иО2 с легирующей примесью сурьмы, а другой слой является слоем с низкой излучательной способностью, содержащим 8иО2 с легирующей примесью, выбранной из группы, состоящей из фтора и фосфора, тогда как часть указанного слоя, поглощающего излучение, является продуктом пиролитического разложения соединения олова, способного при пиролитическом разложении в присутствии источника кислорода образовывать оксид олова, соединения сурьмы, способного при пиролитическом разложении образовывать легирующую примесь сурьмы, и добавки для снижения дымчатости в эффективном количестве, причем указанная добавка выбрана из группы, состоящей из фтора и продукта пиролитического разложения тетраметилциклотетрасилоксана, НЕ, дифторуксусной кислоты, монофторуксусной кислоты, трифторида сурьмы, пентафторида сурьмы, этилтрифторацетата, муравьиной кислоты, пропионовой кислоты, метансульфокислоты, масляной кислоты и ее изомеров, азотной или азотистой кислоты.
  11. 11. Стекло с покрытием по п.3, отличающееся тем, что слой, поглощающий солнечное излучение, имеет толщину от 220 до 260 нм, а весовая концентрация легирующей примеси в указанном слое, поглощающем солнечное излучение, составляет от 2,5 до 7% от веса 8иО2 указанного слоя, поглощающего солнечное излучение, слой с низкой излучательной способностью имеет толщину от 200 до 450 нм, а весовая концентрация легирующего фтора в указанном слое с низкой излучательной способностью составляет от 1 до 5% от веса 8иО2 указанного слоя с низкой излучательной способностью.
  12. 12. Стекло с покрытием по п.1, отличающееся тем, что слой, поглощающий солнечное излучение, нанесен непосредственно на стекло, а слой с низкой излучательной способностью нанесен поверх слоя, поглощающего солнечное излучение.
  13. 13. Стекло с покрытием по п.1, отличающееся тем, что содержит дополнительною пленку, покрывающую стекло и расположенную между стеклянной подложкой и покрытием из оксида олова или над покрытием из оксида олова.
  14. 14. Пленка из оксида олова, легированного сурьмой, содержащая добавку для снижения дымчатости, в эффективном количестве, причем указанная добавка выбрана из группы, состоящей из фтора и продукта пиролитического разложения тетраметилциклотетрасилоксана, НЕ, дифторуксусной кислоты, монофторуксусной кислоты, трифторида сурьмы, пентафторида сурьмы, этилтрифторацетата, муравьиной кислоты, пропионовой кислоты, метансульфокислоты, масляной кислоты и ее изомеров, азотной или азотистой кислоты.
  15. 15. Пленка с низким уровнем дымчатости из оксида олова, легированного сурьмой, содержащая продукт пиролитического разложения безводной (сухой) смеси, включающей в себя соединение олова, способное при пиролитическом разложении в присутствии источника кислорода образовывать оксид олова, соединение сурьмы, способное при пиролитическом разложении образовывать легирующую примесь сурьмы, и источник кислорода.
  16. 16. Многослойная пленка с низким уровнем дымчатости из оксида олова, легированного сурьмой, первый слой которой содержит про- дукт пиролитического разложения безводной (сухой) смеси, включающей в себя соединение олова, способное при пиролитическом разложении в присутствии источника кислорода образовывать оксид олова, соединение сурьмы, способное при пиролитическом разложении образовывать легирующую примесь сурьмы, и источник кислорода, а второй слой представляет собой продукт пиролитического разложения смеси, включающей в себя соединение олова, способное при пиролитическом разложении в присутствии источника кислорода образовывать оксид олова, воду и источник кислорода.
  17. 17. Пленка с низким уровнем дымчатости из оксида олова, легированного сурьмой, полученная в результате пиролитического разложения смеси, включающей в себя соединение олова, способное при пиролитическом разложении в присутствии источника кислорода образовывать оксид олова, соединение сурьмы, способное при пиролитическом разложении образовывать легирующую примесь сурьмы, источник кислорода и добавку для снижения дымчатости, в эффективном количестве, причем указанная добавка выбрана из группы, состоящей из фтора, соединения фосфора, способного при пиролитическом разложении образовывать примесь фосфора, и продукта пиролитического разложения тетраметилциклотетрасилоксана, НЕ, дифторуксусной кислоты, монофторуксусной кислоты, трифторида сурьмы, пентафторида сурьмы, этилтрифторацетата, уксусной кислоты, муравьиной кислоты, пропионовой кислоты, метансульфокислоты, масляной кислоты и ее изомеров, азотной или азотистой кислоты.
EA200101031A 2000-10-30 2001-10-29 Стекло с солнцезащитным покрытием EA004211B1 (ru)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/699,681 US6596398B1 (en) 1998-08-21 2000-10-30 Solar control coated glass

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EA200101031A1 EA200101031A1 (ru) 2002-06-27
EA004211B1 true EA004211B1 (ru) 2004-02-26

Family

ID=24810424

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EA200101031A EA004211B1 (ru) 2000-10-30 2001-10-29 Стекло с солнцезащитным покрытием

Country Status (27)

Country Link
US (3) US6596398B1 (ru)
EP (1) EP1201616A3 (ru)
JP (1) JP4498648B2 (ru)
KR (1) KR20020033579A (ru)
CN (1) CN1350990A (ru)
AR (1) AR031278A1 (ru)
AU (1) AU779141B2 (ru)
BR (1) BR0106856A (ru)
CZ (1) CZ20013899A3 (ru)
DZ (1) DZ3130A1 (ru)
EA (1) EA004211B1 (ru)
EG (1) EG23121A (ru)
HK (1) HK1044143A1 (ru)
HU (1) HUP0104596A3 (ru)
IL (1) IL146145A (ru)
MX (1) MXPA01011068A (ru)
MY (1) MY127102A (ru)
NZ (1) NZ515014A (ru)
PE (1) PE20020702A1 (ru)
PL (1) PL350382A1 (ru)
SA (1) SA02220665B1 (ru)
SG (1) SG108284A1 (ru)
SK (1) SK15592001A3 (ru)
TW (1) TWI228108B (ru)
UA (1) UA75574C2 (ru)
UY (1) UY26994A1 (ru)
ZA (1) ZA200108848B (ru)

Families Citing this family (250)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4272534B2 (ja) * 2002-01-28 2009-06-03 日本板硝子株式会社 透明導電膜を備えたガラス基板の製造方法、透明導電膜を備えたガラス基板、およびそれを用いた光電変換装置
JP4468894B2 (ja) * 2003-06-17 2010-05-26 日本板硝子株式会社 透明導電性基板とその製造方法、および光電変換素子
EP3521015B1 (en) 2003-07-11 2023-09-06 Pilkington Group Limited Solar control glazing
NL1024437C2 (nl) * 2003-10-02 2005-04-05 Tno Coating welke is aangebracht op een substraat, een zonnecel, en werkwijze voor het aanbrengen van de coating op het substraat.
US20050196623A1 (en) * 2004-03-03 2005-09-08 Mckown Clem S.Jr. Solar control coated glass composition
GB0423085D0 (en) 2004-10-18 2004-11-17 Pilkington Automotive Ltd Solar control glazing
US20060141265A1 (en) * 2004-12-28 2006-06-29 Russo David A Solar control coated glass composition with reduced haze
GB0505074D0 (en) * 2005-03-14 2005-04-20 Pilkington Plc Coatings
JP2008539154A (ja) * 2005-04-29 2008-11-13 エージーシー フラット グラス ユーロップ エスエー 被覆された支持体及びその製造方法
WO2007058118A1 (ja) * 2005-11-17 2007-05-24 Asahi Glass Company, Limited 太陽電池用透明導電性基板およびその製造方法
CN101024742B (zh) * 2006-02-21 2010-05-12 中国科学院化学研究所 具有光致变色和阳光控制性能的纳米涂料及其制法和用途
US7452488B2 (en) * 2006-10-31 2008-11-18 H.C. Starck Inc. Tin oxide-based sputtering target, low resistivity, transparent conductive film, method for producing such film and composition for use therein
US20080160321A1 (en) * 2007-01-03 2008-07-03 3M Innovative Properties Company Single pane glazing laminates
US7914857B2 (en) * 2007-01-29 2011-03-29 Guardian Industries Corp. Method of making heat treated coated article using diamond-like carbon (DLC) coating and protective film with oxygen content of protective film based on bending characteristics of coated article
EP2181087B1 (en) 2007-08-16 2015-10-14 Solvay Sa Process for the preparation of esters of 4-fluorosubstituted 3-oxo-alcanoic acids
CN102378682A (zh) * 2009-03-18 2012-03-14 北美Agc平板玻璃公司 薄膜涂层及其制备方法
US20110030290A1 (en) * 2009-08-07 2011-02-10 Slovak Steven M Energy efficient fenestration product with suspended particle device
US8425978B2 (en) * 2009-09-21 2013-04-23 Alliance For Sustainable Energy, Llc Fluorine compounds for doping conductive oxide thin films
US8270060B2 (en) 2009-09-25 2012-09-18 Samsung Sdi Co., Ltd. Infrared ray transmittance controlling panel including color modifying layer
US8563853B2 (en) * 2009-10-20 2013-10-22 Industrial Technology Research Institute Solar cell device
US8558106B2 (en) * 2009-10-20 2013-10-15 Industrial Technology Research Institute Solar cell device and method for fabricating the same
KR101127607B1 (ko) 2009-11-20 2012-03-22 삼성에스디아이 주식회사 전기 전도층이 포함된 써모크로믹 유리
NL2004024C2 (en) * 2009-12-29 2011-06-30 Omt Solutions Beheer B V A coated translucent substrate for a greenhouse and a freezer door.
US10060180B2 (en) 2010-01-16 2018-08-28 Cardinal Cg Company Flash-treated indium tin oxide coatings, production methods, and insulating glass unit transparent conductive coating technology
US10000411B2 (en) 2010-01-16 2018-06-19 Cardinal Cg Company Insulating glass unit transparent conductivity and low emissivity coating technology
US11155493B2 (en) 2010-01-16 2021-10-26 Cardinal Cg Company Alloy oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods
US9862640B2 (en) 2010-01-16 2018-01-09 Cardinal Cg Company Tin oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods
US8658262B2 (en) * 2010-01-16 2014-02-25 Cardinal Cg Company High quality emission control coatings, emission control glazings, and production methods
US10000965B2 (en) 2010-01-16 2018-06-19 Cardinal Cg Company Insulating glass unit transparent conductive coating technology
US8551609B2 (en) 2010-04-27 2013-10-08 Ppg Industries Ohio, Inc. Method of depositing niobium doped titania film on a substrate and the coated substrate made thereby
CN101898872B (zh) * 2010-07-21 2012-07-04 陕西科技大学 一种NiO2无机复合有机电致变色薄膜的制备方法
CN101891403B (zh) * 2010-07-21 2012-07-04 陕西科技大学 一种有机无机复合电致变色薄膜的制备方法
CN101891402B (zh) * 2010-07-21 2012-07-04 陕西科技大学 一种有机无机电致变色膜的制备方法
JP6138052B2 (ja) 2010-12-22 2017-05-31 バクスアルタ ゲーエムベーハー 水溶性脂肪酸誘導体をタンパク質に抱合させるための材料および方法
FR2973366A1 (fr) * 2011-04-04 2012-10-05 Saint Gobain Substrat verrier a couche faiblement rugueuse
GB201106553D0 (en) * 2011-04-19 2011-06-01 Pilkington Glass Ltd Mthod for coating substrates
US20130023129A1 (en) 2011-07-20 2013-01-24 Asm America, Inc. Pressure transmitter for a semiconductor processing environment
US9052456B2 (en) * 2013-03-12 2015-06-09 Intermolecular, Inc. Low-E glazing performance by seed structure optimization
CN104081231B (zh) * 2012-01-11 2016-06-01 柯尼卡美能达株式会社 红外遮蔽膜及具有该红外遮蔽膜的夹层玻璃
JP5326058B2 (ja) * 2012-01-11 2013-10-30 三菱マテリアル株式会社 赤外線カット材、赤外線カット材の分散液、赤外線カット膜形成用組成物、および赤外線カット膜
CN102603206A (zh) * 2012-03-21 2012-07-25 浙江大学 一种多层氧化锡掺氟镀膜玻璃及其制备方法
US10714315B2 (en) 2012-10-12 2020-07-14 Asm Ip Holdings B.V. Semiconductor reaction chamber showerhead
US20140170422A1 (en) * 2012-12-14 2014-06-19 Intermolecular Inc. Low emissivity coating with optimal base layer material and layer stack
US20160376700A1 (en) 2013-02-01 2016-12-29 Asm Ip Holding B.V. System for treatment of deposition reactor
DE102013103679A1 (de) * 2013-04-11 2014-10-30 Heraeus Materials Technology Gmbh & Co. Kg Licht absorbierende Schicht und die Schicht enthaltendes Schichtsystem, Verfahren zur dessen Herstellung und dafür geeignetes Sputtertarget
FR3010074B1 (fr) * 2013-09-05 2019-08-02 Saint-Gobain Glass France Procede de fabrication d'un materiau comprenant un substrat muni d'une couche fonctionnelle a base d'oxyde d'etain et d'indium
CN103539365B (zh) * 2013-10-09 2016-08-17 河源旗滨硅业有限公司 一种反射性阳光控制低辐射镀膜玻璃及其制备方法
CN103693862B (zh) * 2013-12-19 2016-03-30 海南中航特玻材料有限公司 具有防紫外线和红外线双重功能的在线镀膜玻璃及制备方法
CN103864315B (zh) * 2014-03-12 2016-03-02 江苏汇景薄膜科技有限公司 一种银钛复合功能层低辐射节能玻璃及其制备方法
CN104098276B (zh) * 2014-07-15 2016-08-24 江阴沐祥节能装饰工程有限公司 一种高平整度的低辐射镀膜玻璃制品及其制备方法
US10941490B2 (en) 2014-10-07 2021-03-09 Asm Ip Holding B.V. Multiple temperature range susceptor, assembly, reactor and system including the susceptor, and methods of using the same
CN104628264A (zh) * 2015-02-02 2015-05-20 海南中航特玻科技有限公司 在线cvd法阳光控制膜用镀膜液及镀膜玻璃的制备
US10276355B2 (en) 2015-03-12 2019-04-30 Asm Ip Holding B.V. Multi-zone reactor, system including the reactor, and method of using the same
US9818888B2 (en) * 2015-03-12 2017-11-14 Vitro, S.A.B. De C.V. Article with buffer layer and method of making the same
CN104944797A (zh) * 2015-06-24 2015-09-30 芜湖市晨曦新型建材科技有限公司 一种阳光控制低辐射镀膜玻璃及其在线制备方法
US10458018B2 (en) 2015-06-26 2019-10-29 Asm Ip Holding B.V. Structures including metal carbide material, devices including the structures, and methods of forming same
KR101795142B1 (ko) 2015-07-31 2017-11-07 현대자동차주식회사 눈부심 방지 다층코팅을 구비한 투명기판
US10211308B2 (en) 2015-10-21 2019-02-19 Asm Ip Holding B.V. NbMC layers
US20170114225A1 (en) 2015-10-27 2017-04-27 Schott Gemtron Corp. Coating compositions for glass substrates
US10591652B2 (en) * 2015-11-20 2020-03-17 Schott Gemtron Corp. Multi-layer coated glass substrate
US11139308B2 (en) 2015-12-29 2021-10-05 Asm Ip Holding B.V. Atomic layer deposition of III-V compounds to form V-NAND devices
US10845665B1 (en) 2016-02-01 2020-11-24 Apple Inc. Devices with guest-host liquid crystal modulators
US10529554B2 (en) 2016-02-19 2020-01-07 Asm Ip Holding B.V. Method for forming silicon nitride film selectively on sidewalls or flat surfaces of trenches
CN106116171B (zh) * 2016-05-23 2019-09-24 漳州旗滨玻璃有限公司 一种淡蓝色低反射阳光控制镀膜玻璃制备工艺
US11453943B2 (en) 2016-05-25 2022-09-27 Asm Ip Holding B.V. Method for forming carbon-containing silicon/metal oxide or nitride film by ALD using silicon precursor and hydrocarbon precursor
WO2017212214A1 (en) * 2016-06-09 2017-12-14 Pilkington Group Limited Coated glass article and window for a vehicle including the same
CN106116160A (zh) * 2016-06-20 2016-11-16 东莞市银建玻璃工程有限公司 一种可钢化的离线金色单银low‑e玻璃及其制备方法
US9859151B1 (en) 2016-07-08 2018-01-02 Asm Ip Holding B.V. Selective film deposition method to form air gaps
US10612137B2 (en) 2016-07-08 2020-04-07 Asm Ip Holdings B.V. Organic reactants for atomic layer deposition
US9812320B1 (en) 2016-07-28 2017-11-07 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
US9887082B1 (en) 2016-07-28 2018-02-06 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
WO2018027034A1 (en) 2016-08-03 2018-02-08 Schott Gemtron Corp. Oven having a dielectrically coated glass substrate that absorbs electromagnetic radiation and emits heat radiation
US11532757B2 (en) 2016-10-27 2022-12-20 Asm Ip Holding B.V. Deposition of charge trapping layers
US10714350B2 (en) 2016-11-01 2020-07-14 ASM IP Holdings, B.V. Methods for forming a transition metal niobium nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures
KR102546317B1 (ko) 2016-11-15 2023-06-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기체 공급 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
KR20180068582A (ko) 2016-12-14 2018-06-22 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US11581186B2 (en) 2016-12-15 2023-02-14 Asm Ip Holding B.V. Sequential infiltration synthesis apparatus
US11447861B2 (en) 2016-12-15 2022-09-20 Asm Ip Holding B.V. Sequential infiltration synthesis apparatus and a method of forming a patterned structure
CN106761236A (zh) * 2016-12-19 2017-05-31 重庆华瑞玻璃有限公司 一种双层遮阳玻璃门窗
US10269558B2 (en) 2016-12-22 2019-04-23 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a structure on a substrate
US11390950B2 (en) 2017-01-10 2022-07-19 Asm Ip Holding B.V. Reactor system and method to reduce residue buildup during a film deposition process
US10468261B2 (en) 2017-02-15 2019-11-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a metallic film on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures
US11345630B2 (en) * 2017-04-06 2022-05-31 Pilkington Group Limited Coated glass article
US10770286B2 (en) 2017-05-08 2020-09-08 Asm Ip Holdings B.V. Methods for selectively forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures
US11306395B2 (en) 2017-06-28 2022-04-19 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related deposition apparatus
KR20190009245A (ko) 2017-07-18 2019-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반도체 소자 구조물 형성 방법 및 관련된 반도체 소자 구조물
US11374112B2 (en) 2017-07-19 2022-06-28 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US10590535B2 (en) 2017-07-26 2020-03-17 Asm Ip Holdings B.V. Chemical treatment, deposition and/or infiltration apparatus and method for using the same
US10770336B2 (en) 2017-08-08 2020-09-08 Asm Ip Holding B.V. Substrate lift mechanism and reactor including same
US10692741B2 (en) 2017-08-08 2020-06-23 Asm Ip Holdings B.V. Radiation shield
US11769682B2 (en) 2017-08-09 2023-09-26 Asm Ip Holding B.V. Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith
US11830730B2 (en) 2017-08-29 2023-11-28 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method and apparatus
US11295980B2 (en) 2017-08-30 2022-04-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a molybdenum metal film over a dielectric surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures
US11747532B2 (en) 2017-09-15 2023-09-05 Southwall Technologies Inc. Laminated optical products and methods of making them
US10658205B2 (en) 2017-09-28 2020-05-19 Asm Ip Holdings B.V. Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber
CN111316417B (zh) 2017-11-27 2023-12-22 阿斯莫Ip控股公司 与批式炉偕同使用的用于储存晶圆匣的储存装置
TWI791689B (zh) 2017-11-27 2023-02-11 荷蘭商Ａｓｍ智慧財產控股私人有限公司 包括潔淨迷你環境之裝置
US10872771B2 (en) 2018-01-16 2020-12-22 Asm Ip Holding B. V. Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures
TWI799494B (zh) 2018-01-19 2023-04-21 荷蘭商Ａｓｍ 智慧財產控股公司 沈積方法
KR20200108016A (ko) 2018-01-19 2020-09-16 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 플라즈마 보조 증착에 의해 갭 충진 층을 증착하는 방법
US11081345B2 (en) 2018-02-06 2021-08-03 Asm Ip Holding B.V. Method of post-deposition treatment for silicon oxide film
US10896820B2 (en) 2018-02-14 2021-01-19 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process
EP3737779A1 (en) 2018-02-14 2020-11-18 ASM IP Holding B.V. A method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process
KR102636427B1 (ko) 2018-02-20 2024-02-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법 및 장치
US10975470B2 (en) 2018-02-23 2021-04-13 Asm Ip Holding B.V. Apparatus for detecting or monitoring for a chemical precursor in a high temperature environment
US11473195B2 (en) 2018-03-01 2022-10-18 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor processing apparatus and a method for processing a substrate
US11629406B2 (en) 2018-03-09 2023-04-18 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor processing apparatus comprising one or more pyrometers for measuring a temperature of a substrate during transfer of the substrate
KR102646467B1 (ko) 2018-03-27 2024-03-11 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 상에 전극을 형성하는 방법 및 전극을 포함하는 반도체 소자 구조
US11230766B2 (en) 2018-03-29 2022-01-25 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
US10627555B2 (en) * 2018-04-09 2020-04-21 Southwall Technologies Inc. Selective light-blocking optical products having a neutral reflection
US10613261B2 (en) * 2018-04-09 2020-04-07 Southwall Technologies Inc. Selective light-blocking optical products having a neutral reflection
KR20190128558A (ko) 2018-05-08 2019-11-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 상에 산화물 막을 주기적 증착 공정에 의해 증착하기 위한 방법 및 관련 소자 구조
KR102596988B1 (ko) 2018-05-28 2023-10-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법 및 그에 의해 제조된 장치
US11270899B2 (en) 2018-06-04 2022-03-08 Asm Ip Holding B.V. Wafer handling chamber with moisture reduction
US11718913B2 (en) 2018-06-04 2023-08-08 Asm Ip Holding B.V. Gas distribution system and reactor system including same
US11286562B2 (en) 2018-06-08 2022-03-29 Asm Ip Holding B.V. Gas-phase chemical reactor and method of using same
KR102568797B1 (ko) 2018-06-21 2023-08-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 시스템
US10797133B2 (en) 2018-06-21 2020-10-06 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a phosphorus doped silicon arsenide film and related semiconductor device structures
JP2021529254A (ja) 2018-06-27 2021-10-28 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 金属含有材料ならびに金属含有材料を含む膜および構造体を形成するための周期的堆積方法
WO2020003000A1 (en) 2018-06-27 2020-01-02 Asm Ip Holding B.V. Cyclic deposition methods for forming metal-containing material and films and structures including the metal-containing material
US10612136B2 (en) 2018-06-29 2020-04-07 ASM IP Holding, B.V. Temperature-controlled flange and reactor system including same
US10755922B2 (en) 2018-07-03 2020-08-25 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition
US10388513B1 (en) 2018-07-03 2019-08-20 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition
US11430674B2 (en) 2018-08-22 2022-08-30 Asm Ip Holding B.V. Sensor array, apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods
KR20200030162A (ko) 2018-09-11 2020-03-20 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 증착 방법
US11024523B2 (en) 2018-09-11 2021-06-01 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
CN110970344A (zh) 2018-10-01 2020-04-07 Asm Ip控股有限公司 衬底保持设备、包含所述设备的系统及其使用方法
US11232963B2 (en) 2018-10-03 2022-01-25 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
KR102592699B1 (ko) 2018-10-08 2023-10-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 박막 증착 장치와 기판 처리 장치
KR102605121B1 (ko) 2018-10-19 2023-11-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
KR102546322B1 (ko) 2018-10-19 2023-06-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
US11087997B2 (en) 2018-10-31 2021-08-10 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus for processing substrates
US11028012B2 (en) 2018-10-31 2021-06-08 Cardinal Cg Company Low solar heat gain coatings, laminated glass assemblies, and methods of producing same
KR20200051105A (ko) 2018-11-02 2020-05-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
US11572620B2 (en) 2018-11-06 2023-02-07 Asm Ip Holding B.V. Methods for selectively depositing an amorphous silicon film on a substrate
US10818758B2 (en) 2018-11-16 2020-10-27 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures
US11217444B2 (en) * 2018-11-30 2022-01-04 Asm Ip Holding B.V. Method for forming an ultraviolet radiation responsive metal oxide-containing film
KR102636428B1 (ko) 2018-12-04 2024-02-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치를 세정하는 방법
US11158513B2 (en) 2018-12-13 2021-10-26 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a rhenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures
JP2020096183A (ja) 2018-12-14 2020-06-18 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 窒化ガリウムの選択的堆積を用いてデバイス構造体を形成する方法及びそのためのシステム
TWI819180B (zh) 2019-01-17 2023-10-21 荷蘭商Ａｓｍ 智慧財產控股公司 藉由循環沈積製程於基板上形成含過渡金屬膜之方法
KR20200091543A (ko) 2019-01-22 2020-07-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
KR102626263B1 (ko) 2019-02-20 2024-01-16 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 처리 단계를 포함하는 주기적 증착 방법 및 이를 위한 장치
TW202104632A (zh) 2019-02-20 2021-02-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 用來填充形成於基材表面內之凹部的循環沉積方法及設備
US11482533B2 (en) 2019-02-20 2022-10-25 Asm Ip Holding B.V. Apparatus and methods for plug fill deposition in 3-D NAND applications
TW202044325A (zh) 2019-02-20 2020-12-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 填充一基板之一表面內所形成的一凹槽的方法、根據其所形成之半導體結構、及半導體處理設備
TW202100794A (zh) 2019-02-22 2021-01-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 基材處理設備及處理基材之方法
US11742198B2 (en) 2019-03-08 2023-08-29 Asm Ip Holding B.V. Structure including SiOCN layer and method of forming same
KR20200108242A (ko) 2019-03-08 2020-09-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 질화물 층을 선택적으로 증착하는 방법, 및 선택적으로 증착된 실리콘 질화물 층을 포함하는 구조체
KR20200116033A (ko) 2019-03-28 2020-10-08 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 도어 개방기 및 이를 구비한 기판 처리 장치
KR20200116855A (ko) 2019-04-01 2020-10-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반도체 소자를 제조하는 방법
US11447864B2 (en) 2019-04-19 2022-09-20 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method and apparatus
KR20200125453A (ko) 2019-04-24 2020-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기상 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법
KR20200130118A (ko) 2019-05-07 2020-11-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 비정질 탄소 중합체 막을 개질하는 방법
KR20200130121A (ko) 2019-05-07 2020-11-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 딥 튜브가 있는 화학물질 공급원 용기
KR20200130652A (ko) 2019-05-10 2020-11-19 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 표면 상에 재료를 증착하는 방법 및 본 방법에 따라 형성된 구조
JP2020188255A (ja) 2019-05-16 2020-11-19 エーエスエム アイピー ホールディング ビー．ブイ． ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法
USD947913S1 (en) 2019-05-17 2022-04-05 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
USD975665S1 (en) 2019-05-17 2023-01-17 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
KR20200141003A (ko) 2019-06-06 2020-12-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 가스 감지기를 포함하는 기상 반응기 시스템
KR20200143254A (ko) 2019-06-11 2020-12-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 개질 가스를 사용하여 전자 구조를 형성하는 방법, 상기 방법을 수행하기 위한 시스템, 및 상기 방법을 사용하여 형성되는 구조
USD944946S1 (en) 2019-06-14 2022-03-01 Asm Ip Holding B.V. Shower plate
KR20210005515A (ko) 2019-07-03 2021-01-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치용 온도 제어 조립체 및 이를 사용하는 방법
JP2021015791A (ja) 2019-07-09 2021-02-12 エーエスエム アイピー ホールディング ビー．ブイ． 同軸導波管を用いたプラズマ装置、基板処理方法
CN112216646A (zh) 2019-07-10 2021-01-12 Asm Ip私人控股有限公司 基板支撑组件及包括其的基板处理装置
KR20210010307A (ko) 2019-07-16 2021-01-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
KR20210010820A (ko) 2019-07-17 2021-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 게르마늄 구조를 형성하는 방법
KR20210010816A (ko) 2019-07-17 2021-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 라디칼 보조 점화 플라즈마 시스템 및 방법
US11643724B2 (en) 2019-07-18 2023-05-09 Asm Ip Holding B.V. Method of forming structures using a neutral beam
CN112242296A (zh) 2019-07-19 2021-01-19 Asm Ip私人控股有限公司 形成拓扑受控的无定形碳聚合物膜的方法
CN112309843A (zh) 2019-07-29 2021-02-02 Asm Ip私人控股有限公司 实现高掺杂剂掺入的选择性沉积方法
CN112309900A (zh) 2019-07-30 2021-02-02 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
CN112309899A (zh) 2019-07-30 2021-02-02 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
US11587814B2 (en) 2019-07-31 2023-02-21 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
US11587815B2 (en) 2019-07-31 2023-02-21 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
US11227782B2 (en) 2019-07-31 2022-01-18 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
CN112323048B (zh) 2019-08-05 2024-02-09 Asm Ip私人控股有限公司 用于化学源容器的液位传感器
USD965524S1 (en) 2019-08-19 2022-10-04 Asm Ip Holding B.V. Susceptor support
USD965044S1 (en) 2019-08-19 2022-09-27 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
JP2021031769A (ja) 2019-08-21 2021-03-01 エーエスエム アイピー ホールディング ビー．ブイ． 成膜原料混合ガス生成装置及び成膜装置
USD940837S1 (en) 2019-08-22 2022-01-11 Asm Ip Holding B.V. Electrode
USD979506S1 (en) 2019-08-22 2023-02-28 Asm Ip Holding B.V. Insulator
KR20210024423A (ko) 2019-08-22 2021-03-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 홀을 구비한 구조체를 형성하기 위한 방법
USD949319S1 (en) 2019-08-22 2022-04-19 Asm Ip Holding B.V. Exhaust duct
US11286558B2 (en) 2019-08-23 2022-03-29 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a molybdenum nitride film on a surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures including a molybdenum nitride film
KR20210024420A (ko) 2019-08-23 2021-03-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 비스(디에틸아미노)실란을 사용하여 peald에 의해 개선된 품질을 갖는 실리콘 산화물 막을 증착하기 위한 방법
KR20210029090A (ko) 2019-09-04 2021-03-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 희생 캡핑 층을 이용한 선택적 증착 방법
KR20210029663A (ko) 2019-09-05 2021-03-16 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US11562901B2 (en) 2019-09-25 2023-01-24 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing method
CN112593212B (zh) 2019-10-02 2023-12-22 Asm Ip私人控股有限公司 通过循环等离子体增强沉积工艺形成拓扑选择性氧化硅膜的方法
TW202129060A (zh) 2019-10-08 2021-08-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ控股公司 基板處理裝置、及基板處理方法
TW202115273A (zh) 2019-10-10 2021-04-16 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 形成光阻底層之方法及包括光阻底層之結構
KR20210045930A (ko) 2019-10-16 2021-04-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 산화물의 토폴로지-선택적 막의 형성 방법
US11637014B2 (en) 2019-10-17 2023-04-25 Asm Ip Holding B.V. Methods for selective deposition of doped semiconductor material
KR20210047808A (ko) 2019-10-21 2021-04-30 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 막을 선택적으로 에칭하기 위한 장치 및 방법
US11646205B2 (en) 2019-10-29 2023-05-09 Asm Ip Holding B.V. Methods of selectively forming n-type doped material on a surface, systems for selectively forming n-type doped material, and structures formed using same
KR20210054983A (ko) 2019-11-05 2021-05-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 도핑된 반도체 층을 갖는 구조체 및 이를 형성하기 위한 방법 및 시스템
US11501968B2 (en) 2019-11-15 2022-11-15 Asm Ip Holding B.V. Method for providing a semiconductor device with silicon filled gaps
KR20210062561A (ko) 2019-11-20 2021-05-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판의 표면 상에 탄소 함유 물질을 증착하는 방법, 상기 방법을 사용하여 형성된 구조물, 및 상기 구조물을 형성하기 위한 시스템
KR20210065848A (ko) 2019-11-26 2021-06-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 제1 유전체 표면과 제2 금속성 표면을 포함한 기판 상에 타겟 막을 선택적으로 형성하기 위한 방법
CN112951697A (zh) 2019-11-26 2021-06-11 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
CN112885693A (zh) 2019-11-29 2021-06-01 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
CN112885692A (zh) 2019-11-29 2021-06-01 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
JP2021090042A (ja) 2019-12-02 2021-06-10 エーエスエム アイピー ホールディング ビー．ブイ． 基板処理装置、基板処理方法
KR20210070898A (ko) 2019-12-04 2021-06-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
CN112992667A (zh) 2019-12-17 2021-06-18 Asm Ip私人控股有限公司 形成氮化钒层的方法和包括氮化钒层的结构
KR20210080214A (ko) 2019-12-19 2021-06-30 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 상의 갭 피처를 충진하는 방법 및 이와 관련된 반도체 소자 구조
TW202140135A (zh) 2020-01-06 2021-11-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 氣體供應總成以及閥板總成
KR20210095050A (ko) 2020-01-20 2021-07-30 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 형성 방법 및 박막 표면 개질 방법
TW202130846A (zh) 2020-02-03 2021-08-16 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 形成包括釩或銦層的結構之方法
TW202146882A (zh) 2020-02-04 2021-12-16 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 驗證一物品之方法、用於驗證一物品之設備、及用於驗證一反應室之系統
US11776846B2 (en) 2020-02-07 2023-10-03 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing gap filling fluids and related systems and devices
US11781243B2 (en) 2020-02-17 2023-10-10 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing low temperature phosphorous-doped silicon
KR20210116240A (ko) 2020-03-11 2021-09-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 조절성 접합부를 갖는 기판 핸들링 장치
US11876356B2 (en) 2020-03-11 2024-01-16 Asm Ip Holding B.V. Lockout tagout assembly and system and method of using same
KR20210117157A (ko) 2020-03-12 2021-09-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 타겟 토폴로지 프로파일을 갖는 층 구조를 제조하기 위한 방법
KR20210124042A (ko) 2020-04-02 2021-10-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 형성 방법
TW202146689A (zh) 2020-04-03 2021-12-16 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ控股公司 阻障層形成方法及半導體裝置的製造方法
TW202145344A (zh) 2020-04-08 2021-12-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 用於選擇性蝕刻氧化矽膜之設備及方法
US11821078B2 (en) 2020-04-15 2023-11-21 Asm Ip Holding B.V. Method for forming precoat film and method for forming silicon-containing film
KR20210132600A (ko) 2020-04-24 2021-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 바나듐, 질소 및 추가 원소를 포함한 층을 증착하기 위한 방법 및 시스템
KR20210132576A (ko) 2020-04-24 2021-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 바나듐 나이트라이드 함유 층을 형성하는 방법 및 이를 포함하는 구조
KR20210132605A (ko) 2020-04-24 2021-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 냉각 가스 공급부를 포함한 수직형 배치 퍼니스 어셈블리
KR20210134226A (ko) 2020-04-29 2021-11-09 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 고체 소스 전구체 용기
KR20210134869A (ko) 2020-05-01 2021-11-11 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Foup 핸들러를 이용한 foup의 빠른 교환
KR20210141379A (ko) 2020-05-13 2021-11-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반응기 시스템용 레이저 정렬 고정구
TW202147383A (zh) 2020-05-19 2021-12-16 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 基材處理設備
KR20210145078A (ko) 2020-05-21 2021-12-01 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 다수의 탄소 층을 포함한 구조체 및 이를 형성하고 사용하는 방법
TW202201602A (zh) 2020-05-29 2022-01-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 基板處理方法
TW202218133A (zh) 2020-06-24 2022-05-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 形成含矽層之方法
TW202217953A (zh) 2020-06-30 2022-05-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 基板處理方法
KR20220010438A (ko) 2020-07-17 2022-01-25 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 포토리소그래피에 사용하기 위한 구조체 및 방법
TW202204662A (zh) 2020-07-20 2022-02-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 用於沉積鉬層之方法及系統
TW202212623A (zh) 2020-08-26 2022-04-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 形成金屬氧化矽層及金屬氮氧化矽層的方法、半導體結構、及系統
USD990534S1 (en) 2020-09-11 2023-06-27 Asm Ip Holding B.V. Weighted lift pin
USD1012873S1 (en) 2020-09-24 2024-01-30 Asm Ip Holding B.V. Electrode for semiconductor processing apparatus
TW202229613A (zh) 2020-10-14 2022-08-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 於階梯式結構上沉積材料的方法
KR20220053482A (ko) 2020-10-22 2022-04-29 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 바나듐 금속을 증착하는 방법, 구조체, 소자 및 증착 어셈블리
TW202223136A (zh) 2020-10-28 2022-06-16 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 用於在基板上形成層之方法、及半導體處理系統
KR20220076343A (ko) 2020-11-30 2022-06-08 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치의 반응 챔버 내에 배열되도록 구성된 인젝터
US11946137B2 (en) 2020-12-16 2024-04-02 Asm Ip Holding B.V. Runout and wobble measurement fixtures
TW202231903A (zh) 2020-12-22 2022-08-16 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 過渡金屬沉積方法、過渡金屬層、用於沉積過渡金屬於基板上的沉積總成
USD981973S1 (en) 2021-05-11 2023-03-28 Asm Ip Holding B.V. Reactor wall for substrate processing apparatus
USD1023959S1 (en) 2021-05-11 2024-04-23 Asm Ip Holding B.V. Electrode for substrate processing apparatus
USD980814S1 (en) 2021-05-11 2023-03-14 Asm Ip Holding B.V. Gas distributor for substrate processing apparatus
USD980813S1 (en) 2021-05-11 2023-03-14 Asm Ip Holding B.V. Gas flow control plate for substrate processing apparatus
WO2022255199A1 (ja) * 2021-05-31 2022-12-08 Ａｇｃ株式会社 積層膜付き基材
USD990441S1 (en) 2021-09-07 2023-06-27 Asm Ip Holding B.V. Gas flow control plate
CN115196884A (zh) * 2022-06-30 2022-10-18 深圳市楠轩光电科技有限公司 一种光学玻璃镀膜方法
CN117266423B (zh) * 2023-11-21 2024-02-09 天津包钢稀土研究院有限责任公司 一种用于被动房和绿色建筑的保温隔热节能玻璃幕墙

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3149989A (en) 1961-12-01 1964-09-22 Corning Glass Works Radiation-reflecting medium
US4265974A (en) 1976-11-01 1981-05-05 Gordon Roy G Electrically conductive, infrared reflective, transparent coatings of stannic oxide
US4187336A (en) 1977-04-04 1980-02-05 Gordon Roy G Non-iridescent glass structures
US4287009A (en) 1979-11-08 1981-09-01 Bethlehem Steel Corporation Method of producing an aluminum-zinc alloy coated ferrous product to improve corrosion resistance
JPS5890604A (ja) 1981-11-25 1983-05-30 Toyota Central Res & Dev Lab Inc 赤外線遮蔽積層体
JPS597043A (ja) 1982-07-06 1984-01-14 株式会社豊田中央研究所 熱線遮蔽積層体
US4601917A (en) 1985-02-26 1986-07-22 M&T Chemicals Inc. Liquid coating composition for producing high quality, high performance fluorine-doped tin oxide coatings
US4743506A (en) * 1984-12-28 1988-05-10 M&T Chemicals Inc. Tin oxide coated article
US4590096A (en) 1984-12-28 1986-05-20 M&T Chemicals Inc. Water vapor, reaction rate and deposition rate control of tin oxide film by CVD on glass
GB8630791D0 (en) * 1986-12-23 1987-02-04 Glaverbel Coating glass
GB8630918D0 (en) 1986-12-24 1987-02-04 Pilkington Brothers Plc Coatings on glass
US4853257A (en) 1987-09-30 1989-08-01 Ppg Industries, Inc. Chemical vapor deposition of tin oxide on float glass in the tin bath
US5168003A (en) 1991-06-24 1992-12-01 Ford Motor Company Step gradient anti-iridescent coatings
US5254392A (en) * 1991-06-24 1993-10-19 Ford Motor Company Anti-iridescence coatings
SG45418A1 (en) 1991-10-30 1998-01-16 Asahi Glass Co Ltd Method of making a heat treated coated glass
JPH06150741A (ja) 1992-10-30 1994-05-31 Central Glass Co Ltd 透明導電膜の形成方法
JPH0794044A (ja) 1993-09-22 1995-04-07 Central Glass Co Ltd 透明導電膜の形成方法
JPH08268732A (ja) 1995-03-30 1996-10-15 Central Glass Co Ltd 熱線反射ガラス
GB2302102B (en) 1995-06-09 1999-03-10 Glaverbel A glazing panel having solar screening properties and a process for making such a panel
GB2302101B (en) 1995-06-09 1999-03-10 Glaverbel A glazing panel having solar screening properties
US6231971B1 (en) 1995-06-09 2001-05-15 Glaverbel Glazing panel having solar screening properties
JPH09169545A (ja) 1995-12-21 1997-06-30 Th Goldschmidt Ag 酸化アンチモンドープした酸化スズからなる透過率を低下する層をガラスおよびガラスセラミックに熱分解的に製造する方法、およびそのための配合物
US5780149A (en) 1996-09-13 1998-07-14 Libbey-Ownes-Ford Co. Glass article having a solar control coating
GB9619134D0 (en) 1996-09-13 1996-10-23 Pilkington Plc Improvements in or related to coated glass
US6124026A (en) 1997-07-07 2000-09-26 Libbey-Owens-Ford Co. Anti-reflective, reduced visible light transmitting coated glass article
US6218018B1 (en) * 1998-08-21 2001-04-17 Atofina Chemicals, Inc. Solar control coated glass
GB9822338D0 (en) * 1998-10-13 1998-12-09 Glaverbel Solar control coated glass
US6797388B1 (en) 1999-03-18 2004-09-28 Ppg Industries Ohio, Inc. Methods of making low haze coatings and the coatings and coated articles made thereby

Also Published As

Publication number Publication date
DZ3130A1 (fr) 2004-09-25
UA75574C2 (en) 2006-05-15
TWI228108B (en) 2005-02-21
SG108284A1 (en) 2005-01-28
SA02220665B1 (ar) 2007-08-13
IL146145A (en) 2005-08-31
AU779141B2 (en) 2005-01-06
BR0106856A (pt) 2002-06-04
HUP0104596A2 (en) 2002-08-28
SK15592001A3 (sk) 2003-06-03
JP4498648B2 (ja) 2010-07-07
US20030152781A1 (en) 2003-08-14
EA200101031A1 (ru) 2002-06-27
US6656523B2 (en) 2003-12-02
MXPA01011068A (es) 2004-08-12
EG23121A (en) 2004-04-28
IL146145A0 (en) 2002-07-25
PE20020702A1 (es) 2002-08-16
AU8150201A (en) 2002-05-02
CZ20013899A3 (cs) 2002-06-12
HU0104596D0 (en) 2002-01-28
KR20020033579A (ko) 2002-05-07
US6596398B1 (en) 2003-07-22
HUP0104596A3 (en) 2003-01-28
UY26994A1 (es) 2002-07-31
CN1350990A (zh) 2002-05-29
MY127102A (en) 2006-11-30
AR031278A1 (es) 2003-09-17
ZA200108848B (en) 2002-05-22
EP1201616A3 (en) 2002-05-08
US20030162037A1 (en) 2003-08-28
PL350382A1 (en) 2002-05-06
HK1044143A1 (zh) 2002-10-11
NZ515014A (en) 2003-07-25
EP1201616A2 (en) 2002-05-02
JP2002193640A (ja) 2002-07-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EA004211B1 (ru) Стекло с солнцезащитным покрытием
EA001886B1 (ru) Стекло с солнцезащитным покрытием
JP5425859B2 (ja) 反射型日照調整コーティングされたガラス物
JP3961583B2 (ja) 少なくとも１枚の薄いフィルムを備えた窓ガラス及びその製造方法
MXPA02001348A (es) Articulo de vidrio que tiene un revestimiento de control solar.
US20070281168A1 (en) Glass article having a zinc oxide coating and method for making same
RU2447032C2 (ru) Стеклоизделие с покрытием из оксида цинка и способ его изготовления
JPH04265253A (ja) 被覆ガラス及びその製造法
AU759899B2 (en) Solar control coated glass
KR20010029503A (ko) 피복 유리
MXPA99007735A (en) Glass coated for so control
NZ505140A (en) A near infrared (NIR) wavelength film containing a tin oxide with a NIR dopant
UA65556C2 (en) A coated glass (variants), a method for making the same and coating absorbing radiation of the spectral region adjacent to that infrared

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s)

Designated state(s): AM AZ BY KZ KG MD TJ TM RU