CN115196884A - 一种光学玻璃镀膜方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及玻璃镀膜技术领域，具体涉及一种光学玻璃镀膜方法。所述方法采用激光诱导化学气相沉积法在光学玻璃的表面沉积氧化锡锑薄膜，包括以下步骤：1）光学玻璃的处理；2）采用光解激光诱导化学气相沉积法反应装置在步骤1）处理后的光学玻璃基板表面沉积氧化锡锑薄膜：光解激光诱导化学气相沉积法反应装置的激光光源采用紫外超短脉冲激光；以单丁基三氯化锡和SbCl₃作为反应物；镀膜过程中混合后单丁基三氯化锡的浓度为1‑3mol/L，SbCl₃的浓度为0.5‑0.8mol/L；混合完成后混合溶液以4‑5mL/min的供液速度进入反应室；基板温度设定为200‑300℃。本发明的光学玻璃镀膜方法得到的镀有氧化锡锑薄膜光学玻璃光透过率高、电阻率低，光电性能好。

Description

一种光学玻璃镀膜方法

技术领域

本发明涉及玻璃镀膜技术领域，具体涉及一种光学玻璃镀膜方法。

背景技术

光学玻璃是指能改变光的传播方向，并能改变紫外、可见或红外光的相对光谱分布的玻璃，包括无色光学玻璃、有色光学玻璃、激光玻璃、石英光学玻璃、抗辐射玻璃、紫外红外光学玻璃、纤维光学玻璃、声光玻璃、磁光玻璃和光变色玻璃等。光学玻璃可用于制造光学仪器中的透镜、棱镜、反射镜及窗口等。

氧化锡薄膜是一种高导电性、在可见光波段有良好的透光性、较高的红外叹射率和紫外吸收性的薄膜材料，主要用作显示器、电阻器、光电元件、太阳能电池、场致发光元件、红外反射透光玻璃等。在玻璃镀膜工业中，氧化锡薄膜可以通过不同的方法沉积于玻璃表面，如真空蒸镀、热解沉积、粉末沉积、化学气相沉积和溅射法等。利用二氧化锡薄膜在玻璃表面上的电性能，可制造电导发光显示器、特殊照明器材、除冰玻璃、安全报警用玻璃、电敏仪和抗静电盖罩玻璃等。氧化锡锑薄膜是锑掺杂制备的氧化锡结晶薄膜，锑掺杂可以填补薄膜中的晶格氧化离子空位，改善氧化锡薄膜的电学和光学性能。

现有技术中有人采用常压化学气相沉积方法或者激光沉积法制备氧化锡锑薄膜，发明人发现现在技术中的氧化锡锑薄膜玻璃镀膜的制备方法制备的薄膜往往存在电阻率较高、可见光透过率低的问题，影响其电学和光学性能；或者对设备的要求太高，对薄膜大面积的生产有限制。

发明内容

针对现有技术中存在的问题，本发明提供了一种光学玻璃镀膜方法，本发明采用激光诱导化学气相沉积法在光学玻璃的表面沉积氧化锡锑薄膜，得到的氧化锡锑薄膜可见光透过率，电阻率低，提高氧化锡锑薄膜的电学和光学性能。

本发明的第一方面，提供一种光学玻璃镀膜方法，所述方法采用激光诱导化学气相沉积法在光学玻璃的表面沉积氧化锡锑薄膜，包括以下步骤：

1）光学玻璃的处理：将光学玻璃切割成玻璃块；将切割后的玻璃进行超声清洗；将上述处理过的玻璃进行真空干燥，备用；

2）将步骤1）处理后的光学玻璃装入光解激光诱导化学气相沉积法反应装置的反应炉中，在光学玻璃表面沉积氧化锡锑薄膜：光解激光诱导化学气相沉积法反应装置的激光光源采用紫外超短脉冲激光；以单丁基三氯化锡C₄H₄SnCl₃和SbCl₃作为反应物，将反应物混合；分别将反应物和水加热至预定温度后，以N₂为载气通入反应物，以O₂为载气通入水，将反应物和水在混合器混合，混合后单丁基三氯化锡的浓度为1-3mol/L，SbCl₃的浓度为0.5-0.8mol/L；混合完成后混合溶液以4-5mL/min的供液速度进入反应室紫外光波长选择193nm的紫外激光（6.4eV）；镀膜过程中紫外激光平行于光学玻璃衬底进行水平辐照；镀膜过程中保持气体总流量为1-2L/min，基板温度设定为200-300℃。

化学气相沉积CVD是指利用流经衬底表面的气态物料的化学反应生成固态物质，在衬底表面不断沉积从而形成薄膜的方法，该方法的特点是设备投入少、易调控，产品成本低、化学稳定性好，可进行热加工，是更有发展前途的生产方法之一。

激光诱导化学气相沉积法是在常规化学气相沉积法设备的基础上，增加了激光器、光路系统以及激光功率测量装置，利用激光光束能量来激发/促进前驱气体反应，可在衬底上实现选区或大面积薄膜沉积。本发明中应用的光解激光诱导化学气相沉积法使用具有高光子能量的短波长脉冲激光作为光源。与热解激光诱导化学气相沉积法相比，光解激光诱导化学气相沉积法更有利于降低沉积温度，制备的薄膜的热应力小，在沉积过程中，不易发生熔解与再结晶，所制备的薄膜均匀性好，得到的氧化锡锑薄膜的光学性能和电学性能更好也更稳定。

在本发明的一种或多种实施方式中，步骤1）中，切割玻璃呈长方形。优选地，光学玻璃切割成尺寸为40mm×80mm的长方形玻璃块。

优选地，步骤1）中进行超声清洗的具体步骤为：将切割后的玻璃放入含有洗涤剂的去离子水中超声清洗1-2 h；然后依次在无水乙醇、丙酮水溶液中超声清洗10 -20min后用去离子水冲洗干净；

优选地，步骤1）中真空干燥的温度为60-80℃。

本发明中在镀膜之前通过对光学玻璃表面的清洁可以除去光学玻璃表面的污渍，避免玻璃表面的污渍对后续镀膜效果的影响。

在本发明的一种或多种实施方式中，所述Sb的掺杂量为2-8%；Sb掺杂量为SbCl₃占两种反应物的质量百分比；

优选地，所述Sb的掺杂量为3%，4%，5%，6%，7%或8%或任意两个点值间的范围；最优选地，所述Sb的掺杂量为4%，5%或两个点值间的范围。

申请人意外地发现，在本发明创造中Sb的掺杂量控制在2-8%的镀膜具有较好的透光率和低电阻率。特别是将Sb的掺杂量控制在4-5%范围内能使得其相较于在4-5%范围外的Sb的掺杂量得到的镀膜的均匀度更好，透光率更高、低电阻率更低。

在本发明的一种或多种实施方式中，镀膜时间设定为2-4min；优选地，镀膜时间设定为2min，3min或4min或任意两个点值间的范围；在该镀膜时间段下薄膜厚度较好，得到的镀膜的均匀性以及透光率和电阻性能优异。

在本发明的一种或多种实施方式中，将反应物和水分别加热至预定温度180-200℃和50-60℃；

优选地，反应物加热至预定温度180℃，190℃或200℃；水加热至预定温度50℃，55℃或60℃。

优选地，混合后单丁基三氯化锡的浓度为1.0、1.5、1.8、2.0、2.5、3.0L/min或任意两个点值间的范围；SbCl₃的浓度为SbCl₃的浓度为0.5、0.6、0.7、0.8mol/L或任意两个点值间的范围；混合完成后混合溶液以4、4.2、4.4、4.6、4.8、5mL/min或任意两个点值间的范围的供液速度进入反应室；反应物浓度以及供液速度会影响镀膜的厚度以及均匀程度，进而对镀膜透光性能和电阻率产生影响；本发明中选取的反应物浓度以及供液速度能够得到均匀度好，镀膜透光性能高以及电阻率的薄膜。

优选地，光学玻璃基板温度设定为200、210、220、230、240、250、270、300℃或任意两个点值间的范围；在该温度范围内，沉积温度适宜，薄膜的热应力小，薄膜均匀性好，本发明控制基板温度增加了薄膜的透光率和降低了电阻率。

第二方面，本发明提供一种第一方面所述光学玻璃镀膜方法制备得到的镀膜光学玻璃。本发明制备的镀膜光学玻璃，得到的氧化锡锑薄膜可见光透过率高，电阻率低，电学和光学性能更好，适用于在光电领域中应用。

第三方面，本发明提供一种第二方面所述镀膜光学玻璃在光电领域的应用，具体地，提供所述镀膜光学玻璃在电阻器、光电元件、太阳能电池、场致发光元件或显示器等领域中地应用。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

本发明中采用光解激光诱导化学气相沉积法在光学玻璃表面制备氧化锡锑薄膜，相较于热解激光诱导化学气相沉积法和其他形式的化学气相沉积法，本发明使用具有高光子能量的短波长脉冲激光-紫外超短脉冲激光-作为光源，更有利于降低沉积温度，制备的薄膜的热应力小，在沉积过程中，不易发生熔解与再结晶，所制备的薄膜均匀性好，得到的氧化锡锑薄膜的光学性能和电学性能更好也更稳定。

本发明创造性地选择反应物的浓度和供液速度、基板温度、Sb掺量以及镀膜时间，制备出厚度适当的镀膜，得到的镀有氧化锡锑薄膜光学玻璃光透过率高电阻率低，适用于在光电领域中应用。

具体实施方式

下文将结合具体实施方式和实施例，具体阐述本发明，本发明的优点和各种效果将由此更加清楚地呈现。本领域技术人员应理解，这些具体实施方式和实施例是用于说明本发明，而非限制本发明。

在整个说明书中，除非另有特别说明，本文使用的术语应理解为如本领域中通常所使用的含义。因此，除非另有定义，本文使用的所有技术和科学术语具有与本发明所属领域技术人员的一般理解相同的含义。若存在矛盾，本说明书优先。

除非另有特别说明，本发明中用到的各种原材料、试剂、仪器和设备等，均可通过市场购买得到或者可通过现有方法制备得到。

实施例1

采用激光诱导化学气相沉积法在光学玻璃的表面沉积氧化锡锑薄膜，包括以下步骤：

1）光学玻璃的处理：将光学玻璃切割成尺寸为40mm×80mm的长方形玻璃块；然后将切割后的玻璃块放入含有洗涤剂的去离子水中超声清洗1 h；然后依次在无水乙醇、丙酮水溶液中超声清洗10 min后用去离子水冲洗干净；最后在80℃下真空干燥，备用；

2）将步骤1）处理后的光学玻璃装入光解激光诱导化学气相沉积法反应装置的反应炉中，在光学玻璃表面沉积氧化锡锑薄膜，具体步骤为：装光学玻璃基板，打开N₂载气开关，吹走炉内空气，打开基板加热装置，调节温度，待基板温度升至设定温度；打开N₂和O₂的载气开关并调节至设定流量，将反应物接入开始镀膜，同时控制镀膜时间；其中，解激光诱导化学气相沉积法反应装置的激光光源采用紫外超短脉冲激光，紫外光波长选择193 nm的紫外激光（6.4 eV）；以单丁基三氯化锡C₄H₄SnCl₃和SbCl₃作为反应物，Sb的掺杂量为3%，将反应物加热至180℃，将水加热至50℃；以N₂为载气通入反应物，以O₂为载气通入水；将反应物和水在混合器混合，混合后单丁基三氯化锡的浓度为1mol/L，SbCl₃的浓度为0.5mol/L；混合完成后混合溶液以4mL/min的供液速度进入反应室；镀膜过程中保持载气N₂和O₂的气体总流量为1L/min；镀膜过程中紫外激光平行于光学玻璃基板进行水平辐照；光学玻璃基板温度设定为200℃；镀膜时间设定为2min。本实施例得到的氧化锡锑薄膜的厚度为311 nm。

实施例2

采用激光诱导化学气相沉积法在光学玻璃的表面沉积氧化锡锑薄膜，包括以下步骤：

1）光学玻璃的处理：将光学玻璃切割成尺寸为40mm×80mm的长方形玻璃块；然后将切割好的玻璃块放入含有洗涤剂的去离子水中超声清洗1.5h；然后依次在无水乙醇、丙酮水溶液中超声清洗15min后用去离子水冲洗干净；最后在70℃下真空干燥，备用；

2）将步骤1）处理后的光学玻璃装入光解激光诱导化学气相沉积法反应装置的反应炉中，在光学玻璃表面沉积氧化锡锑薄膜，具体步骤为：装光学玻璃基板，打开N₂载气开关，吹走炉内空气，打开基板加热装置，调节温度，待基板温度升至设定温度；打开N₂和O₂的载气开关并调节至设定流量，将反应物接入开始镀膜，同时控制镀膜时间；其中，光解激光诱导化学气相沉积法反应装置的激光光源采用紫外超短脉冲激光，紫外光波长选择193 nm的紫外激光（6.4 eV）；以单丁基三氯化锡C₄H₄SnCl₃和SbCl₃作为反应物，Sb的掺杂量为4%，将反应物加热至185℃，将水加热至55℃；以N₂为载气通入反应物，以O₂为载气通入水；将反应物和水在混合器混合，混合后单丁基三氯化锡的浓度为2mol/L，SbCl₃的浓度为0.6mol/L；混合完成后混合溶液以4.2mL/min的供液速度进入反应室；镀膜过程中保持载气N₂和O₂的气体总流量为1.2L/min；镀膜过程中紫外激光平行于光学玻璃衬底进行水平辐照；光学玻璃基板温度设定为230℃；镀膜时间设定为2.5min。本实施例得到的氧化锡锑薄膜的厚度为350 nm。

实施例3

采用激光诱导化学气相沉积法在光学玻璃的表面沉积氧化锡锑薄膜，包括以下步骤：

1）光学玻璃的处理：将光学玻璃切割成尺寸为40mm×80mm的长方形玻璃块；然后将切割好的玻璃放入含有洗涤剂的去离子水中超声清洗1.5 h；然后依次在无水乙醇、丙酮水溶液中超声清洗18min后用去离子水冲洗干净；最后在75℃下真空干燥，备用；

2）将步骤1）处理后的光学玻璃装入光解激光诱导化学气相沉积法反应装置的反应炉中，在光学玻璃表面沉积氧化锡锑薄膜，具体步骤为：装光学玻璃基板，打开N₂载气开关，吹走炉内空气，打开基板加热装置，调节温度，待基板温度升至设定温度；打开N₂和O₂的载气开关并调节至设定流量，将反应物接入开始镀膜，同时控制镀膜时间；其中，光解激光诱导化学气相沉积法反应装置的激光光源采用紫外超短脉冲激光，紫外光波长选择193 nm的紫外激光（6.4 eV）；以单丁基三氯化锡C₄H₄SnCl₃和SbCl₃作为反应物，Sb的掺杂量为5%，将反应物加热至190℃，将水加热至55℃；以N₂为载气通入反应物，以O₂为载气通入水；将反应物和水在混合器混合，混合后单丁基三氯化锡的浓度为2.5mol/L，SbCl₃的浓度为0.7mol/L；混合完成后混合溶液以4.5mL/min的供液速度进入反应室；镀膜过程中保持载气N₂和O₂的气体总流量为1.5L/min；镀膜过程中紫外激光平行于光学玻璃衬底进行水平辐照；光学玻璃基板温度设定为250℃；镀膜时间设定为3min。本实施例得到的氧化锡锑薄膜的厚度为354 nm。

实施例4

采用激光诱导化学气相沉积法在光学玻璃的表面沉积氧化锡锑薄膜，包括以下步骤：

1）光学玻璃的处理：将光学玻璃切割成尺寸为40mm×80mm的长方形玻璃块；然后将切割好的玻璃放入含有洗涤剂的去离子水中超声清洗2 h；然后依次在无水乙醇、丙酮水溶液中超声清洗20 min后用去离子水冲洗干净；最后在80℃下真空干燥；

2）将步骤1）处理后的光学玻璃装入光解激光诱导化学气相沉积法反应装置的反应炉中，在光学玻璃表面沉积氧化锡锑薄膜，具体步骤为：装光学玻璃基板，打开N₂载气开关，吹走炉内空气，打开基板加热装置，调节温度，待基板温度升至设定温度；打开N₂和O₂的载气开关并调节至设定流量，将反应物接入开始镀膜，同时控制镀膜时间；其中，光解激光诱导化学气相沉积法反应装置的激光光源采用紫外超短脉冲激光，紫外光波长选择193 nm的紫外激光（6.4 eV）；以单丁基三氯化锡C₄H₄SnCl₃和SbCl₃作为反应物，Sb的掺杂量为8%，将反应物加热至200℃，将水加热至60℃；以N₂为载气通入反应物，以O₂为载气通入水；将反应物和水在混合器混合，混合后单丁基三氯化锡的浓度为3mol/L，SbCl₃的浓度为0.8mol/L；混合完成后混合溶液以5mL/min的供液速度进入反应室；镀膜过程中保持载气N₂和O₂的气体总流量为2L/min；镀膜过程中紫外激光平行于光学玻璃衬底进行水平辐照；光学玻璃基板温度设定为300℃；镀膜时间设定为4min。本实施例得到的氧化锡锑薄膜的厚度为367nm。

对比例1：与实施例1不同之处仅在于使用热解激光诱导化学气相沉积法进行镀膜，即使用Nd:YAG 激光器进行激光诱导。

对比例2：与实施例1不同之处在仅使用常压化学气相沉积法进行镀膜，即省略使用紫外超短脉冲激光进行激光诱导的条件。

对比例3：与实施例1不同之处仅在于设置光学玻璃基板温度为500℃。

对比例4：与实施例1不同之处仅在于设置单丁基三氯化锡的浓度为4mol/L，SbCl₃的浓度为1mol/L；混合完成后混合溶液以2mL/min的供液速度进入反应室。

实施例和对比例性能测试：

1）可见光透过率测试：将实施例和对比例制备的镀有氧化锡锑薄膜的光学玻璃样品通过紫外可见分光光度仪，对400 nm-760 nm 的可见光的范围进行吸光度的测试。测试样品吸光度，取光学玻璃的透过率为基准100 %，测试不同样品的吸光度的差异，得到各个波段的吸光度，通过吸光度求出薄膜的透光率，通过非线性拟合，可以判断不同样品透光率的区别。

测试结果如表1所示：

	可见光透过率/%
		实施例1	95.0
实施例2	95.5
		实施例3	95.3
实施例4	94.8
		对比例1	86.5
对比例2	88.2
		对比例3	91.2
对比例4	92.0

从上述测试结果可以看出，本发明实施例1-4采用光解激光诱导化学气相沉积法制备的镀有氧化锡锑薄膜的光学玻璃样品在400 nm-760 nm 的可见光的范围的可见光透过率高，能够达到95%以上。对比例1和对比例2分别采用热解激光诱导化学气相沉积法和常压化学气相沉积法进行镀膜制备的镀有氧化锡锑薄膜的光学玻璃样品在400 nm-760 nm的可见光的范围的可见光透过率不到90%，低于本发明实施例透光率；本发明实施例1与对比例1-2中光学玻璃基板温度均设定为200℃，在同一基板温度设定情况下，本发明实施例1使用得到具有高光子能量的短波长脉冲激光-紫外超短脉冲激光-作为光源的镀膜光学玻璃（实施例1）相较于热解激光诱导化学气相沉积法（对比例1）和其他形式的化学气相沉积法（对比例2）具有更高的透光率，本发明光解激光诱导化学气相沉积法更有利于降低沉积温度，制备的薄膜的热应力小，在沉积过程中，不易发生熔解与再结晶，所制备的薄膜均匀性好，得到的氧化锡锑薄膜的光学性能透光性更好。对比例3和4改变了光解激光诱导化学气相沉积法中基板的温度以及反应物的浓度和供液速度，得到的镀有氧化锡锑薄膜的光学玻璃样品的可见光的范围的可见光透过率明显低于实施例1-4。通过实施例1-4和对比例1-4的比较可知，本发明中的镀膜方法选择的光解激光诱导化学气相沉积法采用紫外超短脉冲激光配合本发明的工艺，使得本发明产品的透光率相较于其他方法具有更好的效果；并且本发明通过选择合适的基板温度和反应物的浓度和供液速度这些工艺参数能够制备出相对于现有技术可见光透过率更高的镀有氧化锡锑薄膜的光学玻璃。

（2）电学性能测试：

采用固定薄膜厚度，测试薄膜方块电阻的方式来表征镀有氧化锡锑薄膜的光学玻璃样品的电学性能，并且计算其电阻率，电阻率＝薄膜厚度×方块电阻，采用SX1944四探针测试仪测量氧化锡锑薄膜的方块电阻。以0.5mm尖端半径，1mm空隙在薄膜上均匀的区域进行测试。

测试结果如表2所示：

	电阻率/Ω．cm
		实施例1	2.73×10<sup>-4</sup>
实施例2	2.41×10<sup>-4</sup>
		实施例3	2.30×10<sup>-4</sup>
实施例4	2.58×10<sup>-4</sup>
		对比例1	1.62×10<sup>-3</sup>
对比例2	1.95×10<sup>-3</sup>
		对比例3	4.91×10<sup>-4</sup>
对比例4	4.76×10<sup>-4</sup>

通过上述表中的测试结果可知，本发明实施例1-4采用光解激光诱导化学气相沉积法制备的镀有氧化锡锑薄膜的光学玻璃样品的电阻率较低；对比例1和对比例2分别采用热解激光诱导化学气相沉积法和常压化学气相沉积法进行镀膜制备的镀有氧化锡锑薄膜的光学玻璃样品的电阻率相较于本发明实施例的高；本发明实施例1与对比例1-2中光学玻璃基板温度均设定为200℃，在同一基板温度设定情况下，本发明实施例1使用得到具有高光子能量的短波长脉冲激光-紫外超短脉冲激光-作为光源的镀膜光学玻璃（实施例1）相较于热解激光诱导化学气相沉积法（对比例1）和其他形式的化学气相沉积法（对比例2）具有更低的电阻率，本发明光解激光诱导化学气相沉积法更有利于降低沉积温度，制备的薄膜的热应力小，在沉积过程中，不易发生熔解与再结晶，所制备的薄膜均匀性好，得到的氧化锡锑薄膜的电学性能更好，电阻率更低。对比例3和4改变了光解激光诱导化学气相沉积法中基板温度以及反应物的浓度和供液速度，得到的镀有氧化锡锑薄膜的光学玻璃样品的可见光的范围的电阻率明显高于实施例1-4。通过实施例1-4和对比例1-4的比较可知，本发明中的镀膜方法选择的光解激光诱导化学气相沉积法采用紫外超短脉冲激光，并且通过选择合适的基板温度和反应物的浓度和供液速度等参数能够制备出相对于现有技术电阻率更低的镀有氧化锡锑薄膜的光学玻璃。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“示例”、“具体示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上公开的本发明优选实施例只是用于帮助阐述本发明。优选实施例并没有详尽叙述所有的细节，也不限制该发明仅为所述的具体实施方式。显然，根据本说明书的内容，可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例，是为了更好地解释本发明的原理和实际应用，从而使所属技术领域技术人员能很好地理解和利用本发明。本发明仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。

Claims (10)

1.一种光学玻璃镀膜方法，其特征在于：所述方法为采用激光诱导化学气相沉积法在光学玻璃的表面沉积氧化锡锑薄膜，所述方法包括以下步骤：

1）光学玻璃的处理：将光学玻璃切割成玻璃块；将切割后的玻璃块进行超声清洗；将清洗后的玻璃块进行真空干燥，待用；

2）将步骤1）处理后的光学玻璃装入光解激光诱导化学气相沉积法反应装置的反应炉中，在光学玻璃表面沉积氧化锡锑薄膜：

光解激光诱导化学气相沉积法反应装置的激光光源采用紫外超短脉冲激光；以单丁基三氯化锡和SbCl₃作为反应物，将反应物混合；分别将反应物和水加热至预定温度后，以N₂为载气通入反应物，以O₂为载气通入水，将反应物和水在混合器混合，混合后单丁基三氯化锡的浓度为1-3mol/L，SbCl₃的浓度为0.5-0.8mol/L；混合完成后混合溶液以4-5mL/min的供液速度进入反应室；紫外光波长选择193 nm的紫外激光（6.4 eV）；镀膜过程中紫外激光平行于光学玻璃衬底进行水平辐照；镀膜过程中保持载气N₂和O₂的气体总流量为1-2 L/min，基板温度设定为200-300℃。

2.如权利要求1所述的光学玻璃镀膜方法，其特征在于：所述步骤1）中，光学玻璃切割成尺寸为40mm×80mm的长方形玻璃块，真空干燥的温度为60-80℃。

3.如权利要求1所述的光学玻璃镀膜方法，其特征在于：所述步骤1）中进行超声清洗为：将切割后的玻璃放入含有洗涤剂的去离子水中超声清洗1-2h；然后依次在无水乙醇、丙酮水溶液中超声清洗10 -20min后用去离子水冲洗干净。

4.如权利要求1所述的光学玻璃镀膜方法，其特征在于：所述Sb的掺杂量以SbCl₃占C₄H₄SnCl₃和SbCl₃两种反应物的质量百分比计，为2-8%。

5.如权利要求4所述的光学玻璃镀膜方法，其特征在于：所述Sb的掺杂量为3%，4%，5%，6%，7%或8%。

6.如权利要求1所述的光学玻璃镀膜方法，其特征在于：所述镀膜时间设定为2-4min。

7.如权利要求1所述的光学玻璃镀膜方法，其特征在于：将所述反应物加热至180-200℃；将所述水加热至50-60℃。

8.如权利要求7所述的光学玻璃镀膜方法，其特征在于：所述反应物加热至180℃，190℃或200℃；所述水加热至50℃，55℃或60℃。

9.一种如权利要求1-8任一项所述光学玻璃镀膜方法制备得到的镀膜光学玻璃。

10.一种权利要求9所述镀膜光学玻璃在光学领域的应用，所述应用包括所述镀膜光学玻璃在电阻器、光电元件、太阳能电池、场致发光元件或显示器领域中的应用。