DE69612867T3 - Hydrophilierter träger für flachdruckplatten und verfahren zu seiner herstellung - Google Patents
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- Diese Erfindung betrifft Flachdruck und stellt ein Verfahren zum Herstellen eines Substrats für ein Flachdruckbauteil, ein Substrat eines Flachdruckbauteils sowie ein Flachdruckbauteil per se bereit. Diese Erfindung betrifft insbesondere, wenngleich nicht ausschließlich, lithographisches Drucken.
- Lithographische Verfahren umfassen das Schaffen von Bild- (Druck-) und Nicht-Bild- (Nicht-Druck-) Bereichen auf einem Substrat, im wesentlichen auf einer gemeinsamen Ebene. Wenn solche Verfahren in der Druckindustrie angewandt werden, sind Nicht-Bildbereiche im allgemeinen hydrophil und Bildbereiche sind im allgemeinen oleophil. Folglich werden Druckfarben auf Öl-Basis von den Nicht-Bildbereichen abgestoßen, nachdem Wasser auf das Substrat aufgetragen wurde.
- Bild- und Nicht-Bildbereiche können durch Verfahren geschaffen werden, die den Schritt Bestrahlen einer Schicht eines Bildmaterials auf der Oberfläche des Substrats einschließen. Das Bestrahlen erzeugt Löslichkeitsunterschiede im Bildmaterial, die den Bild- und Nicht-Bildbereichen entsprechen. Während der Entwicklung werden die löslicheren Bereiche entfernt, wodurch auf dem Substrat ein Muster zurückbleibt, das dem Bild entspricht.
- Die Herstellung des Substrats zur Aufnahme einer Schicht des Bildmaterials muss sicherstellen, dass das Bildmaterial an das Substrat bindet. Jedoch muss sie das Loslösen des löslichen Bildmaterials während der Entwicklung ermöglichen.
- Eines der üblichsten Substrate, das beim lithographischen Drucken verwendet wird, umfasst eine Aluminiumgrundschicht, die behandelt ist, um sie zur Verwendung geeignet zu machen.
- Im allgemeinen umfasst die Aluminiumschicht Aluminium hoher Qualität, beispielsweise 1050 Legierung, die eine Reinheit von wenigstens 99,5% besitzt. Zur Herstellung eines Substrats wird das Aluminium aufgeraut, beispielsweise durch elektrolytisches Aufrauhen, anodisiert und anschließend chemisch konditioniert, beispielsweise durch Behandlung mit Wasser, einer Lösung eines Phosphat- oder Silikatsalzes oder einer Polycarbonsäure.
- Lithographische Druckplatten, bei denen elektrolytisch aufgerauhtes und/oder anodisiertes und/oder chemisch konditioniertes Aluminium verwendet wird, werden beispielsweise in der UK-Patentanmeldung Nr. 1 439 127, in den US-Patenten Nrn. 3 181 461, 3 963 594, 4 052 275, 4 072 589, 4 131 518, in der Europäischen Patentanmeldung Nr. 0 110 417 und der Japanischen Veröffentlichung Nr. 20/3956 beschrieben.
- Ein Problem der bekannten Verfahren ist, dass sie eine bedeutende Menge an elektrischer Energie in den elektrolytischen Aufrauhungs- und Anodisierschritten verbrauchen. Darüber hinaus entstehen in diesen Schritten Chemikalienabfälle, die entsorgt werden müssen. Zudem können die Verfahren im allgemeinen nur mit verhältnismäßig geringer Geschwindigkeit betrieben werden.
- Zahlreiche Lösungen wurden für die vorstehend beschriebenen Probleme vorgeschlagen; jedoch wurden wenige derartige Vorschläge kommerziell angewandt.
- Zum Beispiel offenbart die PCT-Veröffentlichung Nr. WO 91/12 140 eine lithographische Platte aus Aluminiummetall, die eine von Zirconiumdioxidsol stammende Oxidschicht trägt.
- US-Patent Nr. 4 457 971 offenbart eine lithographische Druckplatte, umfassend ein Aluminium- oder aluminisiertes Substrat, das eine keramische Schicht trägt, umfassend nicht metallische, anorganische Teilchen und eine wasserbeständige Phase oder Phasen eines Dehydratationsprodukts wenigstens eines einbasigen Phosphats.
- US-Patent Nr. 4 420 549 offenbart eine lithographische Druckplatte, umfassend ein Aluminium- oder aluminisiertes Substrat, das eine keramische Beschichtung trägt, umfassend eine polymere Form von Aluminiumphosphat oder von Gemischen von Aluminiumphosphaten, wobei die Beschichtung im wesentlichen von teilchenförmigen Stoffen frei ist.
- US-Patent Nr. 4 542 089 offenbart ein Verfahren zum Herstellen eines lichtempfindlichen Substrats, umfassend Bereitstellen einer hydrophilen Kerarmik auf einem Aluminiumsubstrat oder einer aluminisierten Oberfläche eines Substrats, indem, eine Aufschlämmung aus wenigstens einem einbasigen Phosphat und anorganischen, nicht metallischen Teilchen auf wenigstens eine Oberfläche des Aluminium- oder aluminisierten Substrats aufgetragen wird und die Aufschlämmung bei einer Temperatur von wenigstens 230°C für eine Dauer gebrannt wird, die ausreichend lang ist, um die im wesentlichen vollständige Dehydratation der keramischen Schicht zu einer hydrophilen keramischen Beschichtung sicherzustellen.
- Die Italienische Patentanmeldung Nr. MI94 A000448 beschreibt lithographische Platten, die durch Auftragen eines kolloidalen Gemischs, umfassend Fluorsilikat, Siliciumdioxid, Polyvinylidenfluorid und Titandioxid, auf einen Aluminiumträger hergestellt werden. Die Polymerisation des Fluorsilikats wird für 50 bis 180 Sekunden bei 225 bis 300°C durchgeführt.
- Ein Problem, das mit den vorstehend beschriebenen Verfahren verknüpft ist, resultiert aus der verhältnismäßig hohen Temperatur, die zum Härten und/oder Polymerisieren der Beschichtung auf dem Aluminium erforderlich ist. Für hohe Temperaturen wurde gefunden, dass sie den Aluminiumträger ausglühen und seine Zugfestigkeit absenken. Zudem können hohe Temperaturen die Platte verformen und bewirken, dass sie eine wellige Struktur besitzt. Beide Effekte können problematisch sein, wenn die Platten auf einer Druckerpresse betrieben werden.
- Eine andere Lösung des Problems des elektrolytischen Aufrauhens und/oder Ausglühens wird in der PCT-Patentanmeldung Nr. GB93/01 910 beschrieben. Das Dokument offenbart das Anfertigen einer lithographischen Druckplatte durch Plasmasprühen von Al2O3-Pulver auf ein Blech aus Aluminiumlegierung.
- Als Alternative zu Aluminium können Kunststoffinaterialien als Träger eingesetzt werden, beispielsweise Polyester. Wiederum gibt es zahlreiche Offenbarungen für Oberflächenbeschichtungen solcher Materialien.
- Zum Beispiel offenbart
US 4 330 605 einen lithographischen Photorezeptorbogen, auf dem durch ein Silbersalzdiffusionsübertragungsverfahren ein Bild erzeugt werden kann, umfassend Beschichten einer Polyethylenterephthalatfolie mit einem Gemisch aus kolloidalem Siliciumdioxid und trockenem Siliciumdioxidpulver. -
EP 0 619 524 ,EP 0 619 525 undEP 0 620 502 offenbaren ebenfalls verschiedene Beschichtungen für Polyethylenterephthalatfolie. -
US 3 470 013 offenbart ein Verfahren zur Herstellung eines Substrats für eine Flachdruckplatte, das Auftragen einer wässrigen Dispersion eines Alkalimetallsilikats, von Borsäure und Aluminium, Zink, Aluminiumoxid oder Aluminiumhydroxid über einen Träger einschließt. - Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die Probleme anzugehen, die mit den bekannten Flachdruckplatten, Teilen davon und deren Herstellungsverfahren verknüpft sind.
- Gemäß der Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung eines Substrats für ein Flachdruckbauteil nach Anspruch 1 bereitgestellt.
- Vorzugsweise ist das Flachdruckbauteil eine Druckplatte.
- Die Silikatlösung kann eine Lösung eines beliebigen, löslichen Silikats umfassen, einschließlich Verbindungen, die oft als Wasserglas, Metasilikate, Orthosilikate und Sesquisilikate bezeichnet werden. Die Silikatlösung kann eine Lösung eines modifizierten Silikats umfassen, beispielsweise ein Borosilikat oder Phosphosilikat.
- Die Silikatlösung kann ein oder mehrere, vorzugsweise nur ein Metall- oder Nicht-Metallsilikat umfassen. Ein Nicht-Metallsilikat kann ein quaternäres Ammoniumsilikat sein.
- Das Verhältnis der Molzahl an SiO2 zur Molzahl an M2O im Silikat kann weniger als 6, vorzugsweise weniger als 5 und stärker bevorzugt weniger als 4 betragen.
- Bevorzugte Alkalimetallsilikate schließen Lithium-, Natrium- und Kaliumsilikate ein, wobei Lithium- und/oder Natriumsilikat besonders bevorzugt werden. Eine Silikatlösung, die lediglich Natriumsilikat umfasst, wird am stärksten bevorzugt.
- Die Flüssigkeit kann 5 bis 20 Gew.-%, stärker bevorzugt 8 bis 16 Gew.-% der gelösten Alkalimetallsilikat-Feststoffe einschließen. Die Flüssigkeit kann unter Verwendung von 10 bis 60 Gew.-%, vorzugsweise 30 bis 50 Gew.-% und stärker bevorzugt 35 bis 45 Gew.-% einer Silikatlösung, die 30 bis 40 Gew.-% Silikat umfasst, hergestellt werden.
- Die Flüssigkeit kann 5 bis 60 Gew.-% an teilchenförmigem Material einschließen. Vorzugsweise schließt die Flüssigkeit 10 bis 50 Gew.-%, stärker bevorzugt 15 bis 45 Gew.-% und insbesondere 20 bis 40 Gew.-% des teilchenförmigen Materials ein.
- Das Verhältnis des Gewichts der gelösten Alkalimetallsilikat-Feststoffe zum Gewicht des teilchenförmigen Materials in der Flüssigkeit liegt vorzugsweise im Bereich von 0,1 bis 2 und stärker bevorzugt im Bereich von 0,1 bis 1. Besonders wird der Fall bevorzugt, in dem das Verhältnis im Bereich von 0,2 bis 0,6 liegt.
- Die Flüssigkeit kann mehr als 20 Gew.-%, vorzugsweise mehr als 30 Gew.-%, stärker bevorzugt mehr als 40 Gew.-% und insbesondere mehr als 45 Gew.-% Wasser einschließen (einschließlich Wasser, das in der Silikatlösung enthalten ist). Die Flüssigkeit kann weniger als 80 Gew.-%, vorzugsweise weniger als 70 Gew.-%, stärker bevorzugt weniger als 65 Gew.-% und insbesondere weniger als etwa 60 Gew.-% Wasser einschließen.
- Das teilchenfömige Material kann ein organisches oder ein anorganisches Material sein. Organische, teilchenförmige Materialien können durch Latizes bereitgestellt werden. Anorganische, teilchenförmige Materialien können aus Aluminiumoxid, Siliciumdioxid, Siliciumcarbid, Zinksulfid, Zirconiumdioxid, Bariumsulfat, Talken, Tonerden (z.B. Kaolin), Lithopon und Titanoxid ausgewählt werden.
- Das teilchenförmige Material kann ein erstes Material umfassen, das eine modifizierte Mohssche Härte von mehr als 8 (auf einer Skala von 0 bis 15), vorzugsweise mehr als 9 und stärker bevorzugt mehr als 10 besitzt.
- Das erste Material kann im allgemeinen kugelförmige Teilchen umfassen. In einer anderen Ausführungsform kann das Material abgeflachte Teilchen oder Plättchen umfassen.
- Das erste Material kann eine mittlere Teilchengröße von wenigstens 0,1 μm und vorzugsweise wenigstens 0,5 μm besitzen.
- Das erste Material kann eine mittlere Teilchengröße von weniger als 45 μm, vorzugsweise weniger als 20 μm und stärker bevorzugt weniger als 10 μm besitzen.
- Die Teilchengrößenverteilung für 95% der Teilchen des ersten Materials kann im Bereich von 0,01 bis 150 μm, vorzugsweise im Bereich von 0,05 bis 75 μm und stärker bevorzugt im Bereich von 0,05 bis 30 μm liegen.
- Das erste Material umfasst vorzugsweise ein anorganisches Material. Das erste Material umfasst vorzugsweise Aluminiumoxid, wobei dieser Begriff Al2O3 und dessen Hydrate, zum Beispiel Al2O3·3H2O, einschließt. Vorzugsweise ist das Material Al2O3.
- Das teilchenförmige Material in der Flüssigkeit kann wenigstens 20 Gew.-%, vorzugsweise wenigstens 30 Gew.-% und stärker bevorzugt wenigstens 40 Gew.-% des ersten Materials einschließen. Die Flüssigkeit kann 5 bis 40 Gew.-%, vorzugsweise 5 bis 30 Gew.-%, stärker bevorzugt 7 bis 25 Gew.-% und insbesondere 10 bis 20 Gew.-% des ersten Materials einschließen.
- Das teilchenförmige Material kann ein zweites Material umfassen. Das zweite Material kann eine mittlere Teilchengröße von wenigstens 0,001 um und vorzugsweise wenigstens 0,01 μm besitzen. Das zweite Material kann eine mittlere Teilchengröße von weniger als 10 μm, vorzugsweise weniger als 5 μm und stärker bevorzugt weniger als 1 μm besitzen.
- Die mittleren Teilchengrößen des ersten und des zweiten Materials beziehen sich geeigneterweise auf die primären Teilchengrößen der Materialien.
- Das teilchenförmige Material in der Flüssigkeit kann wenigstens 20 Gew.-%, vorzugsweise wenigstens 30 Gew.-% und stärker bevorzugt wenigstens 40 Gew.-% des zweiten Materials einschließen. Die Flüssigkeit kann 5 bis 40 Gew.-%, vorzugsweise 5 bis 30 Gew.-%, stärker bevorzugt 7 bis 25 Gew.-% und insbesondere 10 bis 20 Gew.-% des zweiten Materials einschließen.
- Das zweite Material ist vorzugsweise ein Pigment. Das zweite Material ist vorzugsweise anorganisch. Das zweite Material ist vorzugsweise Titandioxid.
- Das erste und das zweite Material definieren vorzugsweise eine multimodale, beispielsweise eine bimodale Teilchengrößenverteilung.
- Wenn die Flüssigkeit ein Silikat umfasst und das teilchenförmige Material, wie beschrieben, ein erstes Material und ein zweites Material umfasst, kann das Verhältnis der Gewichtsprozente des Silikats (z.B. gelöster Natriumsilikat-Feststoff) zu den Gewichtsprozenten des ersten Materials im Bereich von 0,25 bis 4, vorzugsweise im Bereich von 0,5 bis 1,5 und stärker bevorzugt bei etwa 1 liegen. In ähnlicher Weise kann das Verhältnis der Gewichtsprozente des Silikats zu den Gewichtsprozenten des zweiten Materials im Bereich von 0,25 bis 4, vorzugsweise im Bereich von 0,5 bis 1,5 und stärker bevorzugt bei etwa 1 liegen. Das Verhältnis der Gewichtsprozente des ersten Materials zu den Gewichtsprozenten des zweiten Materials kann im Bereich von 0,5 bis 2, vorzugsweise im Bereich von 0,75 bis 1,5 und stärker bevorzugt bei etwa 1 zu 1 liegen.
- Das teilchenförmige Material kann ein drittes Material einschließen, das vorzugsweise geeignet ist, um den pH-Wert der Silikatlösung abzusenken. Das dritte Material kann ein Kolloid sein, geeigneterweise kolloidales Siliciumdioxid oder ein anorganisches Salz, geeigneterweise ein Phosphat, wobei Aluminiumphosphat bevorzugt wird. Wenn ein drittes Material bereitgestellt wird, bestehen vorzugsweise weniger als 30 Gew.-%, stärker bevorzugt weniger als 20 Gew.-% und insbesondere weniger als 10 Gew.-% des teilchenförmigen Materials aus dem dritten Material.
- Der pH-Wert der Flüssigkeit ist vorzugsweise größer als 9,5 und stärker bevorzugt größer als 10,0. Insbesondere wird der Fall bevorzugt, in dem der pH-Wert größer als 10,5 ist. Der pH-Wert wird geeigneterweise so kontrolliert, dass das Silikat in Lösung verbleibt und kein Gel bildet. Ein Gel wird im allgemeinen erzeugt, wenn der pH-Wert einer Silikatlösung unterhalb von pH 9 fällt. Der pH-Wert der Flüssigkeit beträgt vorzugsweise weniger als 14 und stärker bevorzugt weniger als 13. Es ist klar, dass der pH-Wert der Flüssigkeit die Haftung der hydrophilen Schicht auf dem Träger beeinflusst. Es wurde gefunden, dass die Verwendung einer Flüssigkeit mit einem wie beschriebenen pH-Wert zu guter Haftung führen kann.
- Die Flüssigkeit kann weitere Verbindungen zum Einstellen ihrer Eigenschaften einschließen. Beispielsweise kann die Flüssigkeit eine oder mehrere oberflächenaktiven Substanzen einschließen. Die Flüssigkeit kann 0 bis 1 Gew.-% an oberflächenaktiver(n) Substanz(en) einschließen. Eine geeignete Klasse von oberflächenaktiven Substanzen umfasst anionische Sulfate oder Sulfonate. Die Flüssigkeit kann Viskositäts-Builder zum Einstellen der Viskosität der Flüssigkeit einschließen. Die Flüssigkeit kann 0 bis 10 Gew.-%, und vorzugsweise 0 bis 5 Gew.-% an Viskositäts-Builder(n) einschließen. Außerdem kann die Flüssigkeit Dispergiermittel zum Dispergieren des anorganischen teilchenförmigen Materials in der gesamten Flüssigkeit einschließen. Die Flüssigkeit kann 0 bis 2 Gew.-% an Dispergiermittel(n) einschließen. Ein geeignetes Dispergiermittel kann Natriumhexametaphosphat sein.
- Es wurden hydrophile Schichten der Flachdruckplatten vorgeschlagen, die organische Polymere, beispielsweise thermoplastische Polymere, zum Erhöhen der Festigkeit und/oder Härte der hydrophilen Schichten einschließen. Die im erfindungsgemäßen Verfahren verwendete Flüssigkeit schließt vorzugsweise kein thermoplastisches, organisches Polymermaterial, beispielsweise Polyvinylidenfluorid oder dergleichen, ein.
- Die Flüssigkeit kann eine Viskosität von weniger als 100 centipoise besitzen, gemessen bei 20°C und einer Scherrate von 200 s–1 mit einem Mettler Rheomat 180 Viscometer, das eine Doppelspaltmessgeometrie beinhaltet. Vorzugsweise beträgt die Viskosität weniger als 50 centipoise und stärker bevorzugt weniger als 30 centipoise, gemessen wie vorstehend erwähnt. Insbesondere wird der Fall bevorzugt, in dem die Viskosität weniger als 20 centipoise beträgt.
- Die Flüssigkeit kann durch eine beliebige, geeignete Maßnahme, die vorzugsweise nicht elektrochemisch ist, auf den Träger aufgetragen werden.
- Die Flüssigkeit kann auf beide Seiten des Trägers aufgetragen werden, um auf beiden Seiten eine hydrophile Schicht zu erzeugen. Ein Träger mit einer solchen Schicht auf beiden Seiten kann zur Herstellung einer doppelseitigen, lithographischen Platte verwendet werden. In einer anderen Ausführungsform kann, wenn ein derartiger Träger für eine einseitige Platte verwendet wird, die Seite der Platte, die keine Bildschicht trägt, durch die hydrophile Schicht geschützt werden. Die Flüssigkeit wird vorzugsweise auf nur eine Oberfläche des Trägers aufgetragen.
- Die Flüssigkeit kann auf den Träger aufgetragen werden, wodurch eine hydrophile Schicht mit einer durchschnittlichen Dicke nach dem Trocknen von weniger als 20 μm, vorzugsweise weniger als 10 μm und stärker bevorzugt weniger als 5 μm erzeugt wird. Insbesondere wird der Fall bevorzugt, in dem die durchschnittliche Dicke weniger als 3 μm beträgt.
- Die Dicke der hydrophilen Schicht kann größer als 0,1 μm, vorzugsweise größer als 0,3 μm und stärker bevorzugt größer als 0,5 μm sein.
- Das teilchenförmige Material definiert in der hydrophilen Schicht vorzugsweise Ausbuchtungen, welche die Schicht nicht planar machen und so angeordnet sind, dass, wenn eine Bildschicht über der hydrophilen Schicht aufgetragen wird, entsprechende Ausbuchtungen auf der Oberfläche der Bildschicht in ähnlicher Weise definiert, wie in der UK-Patentanmeldung Nr.
GB 2 277 282 - Das Verfahren schließt vorzugsweise die Schritte ein: Sorgen für geeignete Bedingungen zum Entfernen von Wasser aus der Flüssigkeit, nachdem sie auf den Träger aufgebracht wurde. Geeignete Bedingungen können passives oder aktives Entfernen von Wasser beinhalten und können umfassen, dass ein Luftstrom über den Träger strömt und/oder die Feuchtigkeit der Luft, die den Träger umgibt, eingestellt wird. Vorzugsweise schließt das Verfahren den Schritt des Anordnens des Trägers in einer erhitzten Umgebung ein. Der Träger kann in einer Umgebung so plaziert werden, dass seine Temperatur 230°C nicht übersteigt, vorzugsweise 200°C nicht übersteigt und stärker bevorzugt 175°C nicht übersteigt. Insbesondere wird der Fall bevorzugt, in dem die Trägertemperatur 150°C nicht übersteigt.
- Der Träger kann sich in der erhitzten Umgebung weniger als 180 Sekunden, vorzugsweise weniger als 120 Sekunden und stärker bevorzugt weniger als 100 Sekunden befinden.
- Der Träger kann Aluminium oder eine Legierung umfassen. Für diesen Fall wurde gefunden, dass es von Vorteil ist, wenn sich der Träger in einer Umgebung befindet, in der die Tempe ratur weniger als 230°C beträgt, wie vorstehend beschrieben, weil bei dieser Temperatur das Ausglühen des Trägers nicht wesentlich ist und deshalb die Zugfestigkeit des Trägers auf einem akzeptablen Niveau gehalten wird. Genauer gesagt kann die Zugfestigkeit des Aluminiums, die geeigneterweise mit einer Hounsfield-Zugprüfmaschine gemessen wird, wenigstens 100 MPa, vorzugsweise wenigstens 110 MPa und stärker bevorzugt wenigstens 120 MPa betragen. Insbesondere wird der Fall bevorzugt, in dem die Zugfestigkeit wenigstens 140 MPa beträgt.
- Hinsichtlich der Tatsache, dass die Flüssigkeit nur für eine kurze Zeit bei einer verhältnismäßig niedrigen Temperatur gehärtet zu werden braucht, kann die vorstehend beschriebene Flüssigkeit auch vorteilhaft auf einen Kunststoffträger, beispielsweise Polyester, aufgetragen werden, wodurch eine hydrophile Schicht auf einem Kunststoffträger bereitgestellt wird. Es ist klar, dass andererseits Härten für lange Dauer bei einer verhältnismäßig hohen Temperatur die Eigenschaften des Kunststoffmaterials nachteilig beeinflussen kann.
- Es wird angenommen, dass das Entfernen von Wasser aus der Flüssigkeit, die auf den Träger aufgetragen wurde, dazu führt, dass das Silikat polymerisiert und das anorganische, teilchenförmige Material in dieser Position bindet.
- Demzufolge ist klar, dass ein Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens sein kann, dass ein verhältnismäßig weiter Bereich von Trägermaterialien eingesetzt werden kann. Wenn beispielsweise das Trägermaterial Aluminium oder eine Legierung ist, kann ein Metall mit einer verhältnismäßig geringen Reinheit verwendet werden, verglichen mit der Reinheit des Metalls, das üblicherweise für lithographische Platten eingesetzt wird. Zudem und/oder alternativ kann ein Metall verwendet werden, das beispielsweise gegen Entwicklerchemikalien beständiger ist. Darüber hinaus kann das Verfahren angewandt werden, um eine hydrophile Schicht auf andere Typen von Trägermaterialien aufzutragen, zum Beispiel andere Metalle, mit Folie beschichtetes Papier und Kunststoffe.
- Ein Trägermaterial kann vor dem Auftragen der hydrophilen Schicht vorbehandelt werden. Wenn das Trägermaterial Aluminium oder eine Aluminiumlegierung ist, kann es durch ein oder mehrere herkömmliche Verfahren, die zur Oberflächenbehandlung von Aluminium ein gesetzt werden, vorbehandelt werden, beispielsweise kaustisches Ätzreinigen, Säurereinigen, Bürstenaufrauhen, mechanisches Aufrauhen, Aufrauhen mit Aufschlämmung, Sandstrahlen, Schleifreinigen, elektrolytisches Reinigen, Entfetten mit Lösungsmittel, Ultraschallreinigen, alkalisches nicht ätzendes Reinigen, Grundieren, grobes Schleuderstrahlen (grit/shot blasting) und elektrolytisches Aufrauhen. Einzelheiten solcher Verfahren werden bereitgestellt in: „The surface treatment and finishing of aluminium and its alloys" S. Wernick, R. Pinner und P.G. Sheasby, veröffentlicht von Finishing Publication Ltd., ASM International, 5. Aufl. (1987).
- Wenn das Trägermaterial vorbehandelt ist, sind bevorzugte Vorbehandlungen diejenigen, welche das Einstellen des Charakters der Oberfläche des Trägermaterials beinhalten, beispielsweise diejenigen, welche Reinigen, Aufrauhen oder dergleichen beinhalten. Wenn jedoch eine Oberflächenbeschichtung auf die Oberfläche des Trägermaterials aufgetragen wird, wird die Beschichtung vorzugsweise als eine Flüssigkeit aufgetragen.
- Vorzugsweise wird die Flüssigkeit, die eine wie vorstehend beschriebene Silikatlösung umfasst, auf eine im wesentlichen trockene Oberfläche auf dem Träger aufgetragen.
- Vorzugsweise wird die Flüssigkeit direkt auf das Trägermaterial des Trägers aufgetragen.
- Das Trägermaterial wird vorzugsweise, bevor es in Kontakt mit der Flüssigkeit gebracht wird, gereinigt und/oder geätzt. Reinigen und/oder Ätzen können mittels einer alkalischen Flüssigkeit, z.B. Natriumhydroxid, gegebenenfalls mit Zusatzstoffen, wie Natriumgluconat und/oder Sorbit, erreicht werden.
- Mit dem Trägermaterial kann auch eine Behandlung zur Entfernung von Belägen (desmutting), geeigneterweise unter Verwendung von Salpetersäure, durchgeführt werden. Nach dieser Behandlung wird das Trägermaterial, bevor es mit der Flüssigkeit in Kontakt gebracht wird, gespült und/oder getrocknet.
- Das Verfahren zur Herstellung eines Substrats schließt vorzugsweise den Schritt ein: Einstellen des pH-Werts der Oberfläche der hydrophilen Schicht, die auf dem Träger erzeugt wird, durch Inkontakbringen der Oberfläche mit Aluminiumsulfat, so dass die hydrophile Schicht mit einer Bildschicht kompatibel ist.
- Das Verfahren schließt vorzugsweise den Schritt ein: Schaffen einer Bildschicht, geeigneterweise direkt auf der hydrophilen Schicht, so dass sich die hydrophile Schicht zwischen der Bildschicht und dem Träger befindet.
- Der Begriff „Bildschicht" schließt eine Schicht ein, die nachfolgend teilweise entfernt werden kann, um Bereiche, die gedruckt werden sollen, zu definieren, und schließt eine Schicht ein, die schon Bereiche, die gedruckt werden sollen, definiert.
- Die Bildschicht kann auf der gesamten Oberfläche der hydrophilen Schicht bereitgestellt werden. Sie kann ein beliebiges, lichtempfindliches Material umfassen, gleichgültig ob sie so angeordnet ist, dass eine positive oder eine negative Platte erzeugt wird. Beispiele der lichtempfindlichen Materialien schließen Diazonium/Diazid-Materialien, Polymere, die eine Depolymerisation oder Additionsphotopolymerisation durchlaufen, und Silberhalogenidgelatinemassen ein. Beispiele geeigneter Materialien werden in
GB 1 592 281 GB 2 031 442 GB 2 069 164 GB 2 080 964 GB 2 109 573 EP 0 377 589 ,US 4 268 609 undUS 4 567 131 offenbart. Vorzugsweise ist das lichtempfindliche Material ein Chinondiazidmaterial. - In einer anderen Ausführungsform kann die Bildschicht in Form eines gewünschten Bildes zur Verwendung im Flachdruck auf der hydrophilen Schicht durch ein Abscheidungsverfahren, wie Tintenstrahl- oder Laserablationsübertragung, abgeschieden werden. Ein Beispiel für das letztgenannte Verfahren wird in
US 5 171 650 beschrieben. - Die Bildschicht ist vorzugsweise so über der hydrophilen Schicht angeordnet, dass auf der Oberfläche der Schicht aufgrund von Ausbuchtungen, die in der hydrophilen Schicht durch das teilchenförmige Material darin erzeugt werden, Ausbuchtungen definiert werden. Die Ausbuchtungen können geeigneterweise so angeordnet sein, dass sie Kanäle zwischen der lichtempfindlichen Schicht und einer Maske definieren, so dass Luft zwischen der Schicht und der Maske entweichen kann, um die Absinkzeit der Maske auf die Schicht vor dem Belichten der Druckplatte zu verringern.
- Die Erfindung erstreckt sich auf ein Substrat für ein Flachdruckbauteil, das durch das beschriebene Verfahren herstellbar ist.
- Es wurde gefunden, dass ein Substrat, das durch das Verfahren hergestellt wurde, eine hydrophile Schicht einschließt, die gut am Träger haftet. Es wird angenommen, dass dies, wenn der Träger Aluminium oder eine Legierung ist, auf die Erzeugung von Aluminiumsilikat (oder wenigstens Aluminosilikat-Bindungen) auf der Oberfläche des Trägers zurückzuführen ist. Demgemäß stellt die Erfindung geeigneterweise ein Substrat bereit, bei dem zwischen einem Trägermaterial und einer hydrophilen Schicht auf dem Trägermaterial chemische Bindungen erzeugt werden. Darüber hinaus wird für das Substrat gefunden, wenn es beim Drucken eingesetzt wird, dass es eine Abriebfestigkeit besitzt, die derjenigen von herkömmlichen, elektrolytisch aufgerauhten und anodisierten Substraten vergleichbar ist.
- Es wird angenommen, dass die im Verfahren eingesetzte Silikatlösung äußerst kleine dreidimensionale Silikatpolymerionen enthält, die eine negative Ladung tragen. Das Entfernen von Wasser aus dem System, wie vorstehend beschrieben, verursacht eine Kondensation der Silanolgruppen, wodurch eine polymere Struktur erzeugt wird, die -Si-O-Si-Einheiten einschließt. Demgemäß erstreckt sich die Erfindung auf ein Substrat für ein Flachdruckbauteil, umfassend einen Träger und eine hydrophile Schicht, die ein Bindemittelmaterial einschließt, das eine polymere Struktur besitzt, die -Si-O-Si-Einheiten einschließt, in denen ein teilchenförmiges Material angeordnet ist, wobei das Bindemittelmaterial von einem Alkalimetallsilikat stammt, bei dem das Verhältnis der Molzahl an SiO2 zur Molzahl an M2O im Alkalimetallsilikat wenigstens 2,5 beträgt, und wobei der Träger Aluminium umfasst.
- Das teilchenförmige Material kann so sein, wie es in jeder Erklärung hier beschrieben wurde.
- Vorzugsweise bestehen 30 bis 80 Gew.-%, stärker bevorzugt 40 bis 70 Gew.-% der hydrophilen Schicht aus dem teilchenförmigen Material.
- Das teilchenförmige Material schließt vorzugsweise ein erstes Material ein, wie es in jeder Erklärung hier beschrieben wurde.
- Das erste Material besitzt vorzugsweise eine modifizierte Mohssche Härte von mehr als 8 (auf einer Skala von 0 bis 15), vorzugsweise mehr als 9 und stärker bevorzugt mehr als 10.
- Das erste Material in der hydrophilen Schicht kann, wenn es in der Flüssigkeit vorhanden ist, eine mittlere Teilchengröße und/oder Teilchengrößenverteilung besitzen, wie sie vorstehend für das erste Material beschrieben wurde.
- Das teilchenförmige Material auf dem Substrat kann wenigstens 20 Gew.-%, vorzugsweise wenigstens 30 Gew.-% und stärker bevorzugt wenigstens 40 Gew.-% des ersten Materials einschließen.
- Das teilchenförmige Material schließt vorzugsweise ein zweites Material ein, wie es in jeder Erklärung hier beschrieben wurde.
- Das zweite Material in der hydrophilen Schicht kann, wenn es in der Flüssigkeit vorhanden ist, eine mittlere Teilchengröße und/oder Teilchengrößenverteilung besitzen, wie sie vorstehend für das zweite Material beschrieben wurde.
- Das teilchenförmige Material auf dem Substrat kann wenigstens 20 Gew.-%, vorzugsweise wenigstens 30 Gew.-% und stärker bevorzugt wenigstens 40 Gew.-% des zweiten Materials einschließen.
- In der Schicht kann das Verhältnis der Gewichtsprozente des ersten Materials zu den Gewichtsprozenten des zweiten Materials im Bereich von 0,5 bis 2, vorzugsweise im Bereich von 0,75 bis 1,5 und stärker bevorzugt bei etwa 1 zu 1 liegen.
- Das teilchenförmige Material kann ein drittes Material einschließen, wie es in jeder Erklärung hier beschrieben wurde.
- Die hydrophile Schicht schließt vorzugsweise kein thermoplastisches, organisches Polymermaterial, beispielsweise Polyvinylidenfluorid oder dergleichen, ein.
- Die hydrophile Schicht besitzt vorzugsweise eine durchschnittliche Dicke von weniger als 20 μm, vorzugsweise weniger als 10 μm und stärker bevorzugt weniger als 5 μm.
- Die hydrophile Schicht besitzt vorzugsweise eine durchschnittliche Dicke von mehr als 0,1 μm, vorzugsweise mehr als 0,3 μm und stärker bevorzugt mehr als 0,5 μm.
- Die hydrophile Schicht kann einen Ra-Wert, gemessen unter Verwendung eines Tastmessinstruments (ein Hommelmeter T2000) mit einem LV-50 Messkopf, im Bereich von 0,1 bis 2 μm, geeigneterweise im Bereich von 0,2 bis 2 μm, vorzugsweise im Bereich von 0,2 bis 1 μm, stärker bevorzugt im Bereich von 0,3 bis 0,8 μm und insbesondere im Bereich von 0,4 bis 0,8 μm besitzen.
- Die hydrophile Schicht kann 1 bis 20 g des Materials je Quadratmeter des Substrats einschließen. Vorzugsweise schließt die hydrophile Schicht 5 bis 15 g, stärker bevorzugt 8 bis 12 g des Materials je Quadratmeter des Substrats ein. Am stärksten bevorzugt schließt die Schicht etwa 10 g des Materials je Quadratmeter ein.
- Der Träger kann einen beliebigen Träger-Typ umfassen, der herkömmlicherweise für Druckbauteile verwendet wird. Beispielsweise kann er ein Metall, wie Aluminium, Stahl, Zinn oder deren Legierungen; Papier, das mit einem Metall, wie Aluminiumfolie, beschichtet ist; ein Kunststoffmaterial, wie Polyester; oder ein Kunststoffmaterial, das mit einem Metall beschichtet ist, umfassen. Vorzugsweise ist der Träger Aluminium oder eine Legierung.
- Das erfindungsgemäße Verfahren kann angewandt werden, um die Zugfestigkeit von Aluminium zu optimieren, indem Ausglühen des Metalls während des Härtens der hydrophilen Schicht verringert beseitigt wird. Demgemäß besitzt der erfindungsgemäße Träger vorzugsweise eine Zugfestigkeit von wenigstens 100 MPa, vorzugsweise wenigstens 110 MPa und stärker bevorzugt wenigstens 120 MPa. Insbesondere wird der Fall bevorzugt, in dem die Zugfestigkeit wenigstens 140 MPa beträgt.
- Zusätzlich kann das erfindungsgemäße Verfahren die Verformung des Trägermaterials während der Herstellung des Trägers minimieren. Beispielsweise wurde gefunden, dass mittels des für einen Aluminiumträger beschriebenen Verfahrens die maximale Wellenhöhe lediglich etwa 2 mm betragen kann und die maximale Anzahl an Wellen je Meter 3 sein kann.
- Die Erfindung erstreckt sich auf ein Flachdruckbauteil, umfassend ein wie vorstehend beschriebenes Substrat und eine Bildschicht über der hydrophilen Schicht des Substrats.
- Vorzugsweise ist das teilchenförmige Material in der hydrophilen Schicht zwischen der Oberfläche des Trägers und der Bildschicht so angeordnet, dass Ausbuchtungen auf der Oberfläche der Bildschicht als Folge des teilchenförmigen Materials unter der Schicht bereitgestellt werden.
- Die Bildschicht umfasst vorzugsweise ein lichtempfindliches Material, wobei ein Chinondiazidmaterial bevorzugt wird.
- Jedes Merkmal von jedem Gesichtspunkt einer hier beschriebenen Erfindung kann mit jedem Merkmal jeder anderen, hier beschriebenen Erfindung kombiniert werden.
- Die Erfindung wird nun beispielhaft beschrieben.
- Herstellung einer lithographischen Druckplatte
- Beispiel 1
- Schritt 1
- Herstellung von Aluminium
- Ein Aluminiumlegierungsblech der Bezeichnung AA1050 mit 0,3 mm Blechdicke wurde auf eine Größe von 230 mm auf 350 mm geschnitten, wobei die Körnung in Längsrichtung verlief. Das Blech wurde anschließend 60 Sekunden bei Zimmertemperatur mit der Vorderseite nach oben in eine Lösung von Natriumhydroxid, gelöst in destilliertem Wasser (100 g/l), getaucht und gründlich mit Wasser gespült.
- Schritt 2
- Herstellung der Beschichtungszubereitung
- Die folgenden Reagentien werden bei der Herstellung verwendet:
- – Natriumsilikatlösung mit einem SiO2:Na2O-Verhältnis im Bereich von 3,17 bis 3,45 (durchschnittlich etwa 3,3); eine Zusammensetzung aus 27,1 bis 28,1 Gew.-% SiO2, 8,4 bis 8,8 Gew.-% Na2O, wobei der Rest Wasser ist; und mit einer Dichte von etwa 75 Twaddel (°Tw), äquivalent zu 39,5 Baumé (°Bé), und einem spezifischen Gewicht von 1,375.
- – Deioniertes Wasser mit einem spezifischen Widerstand von 5 MOhm·cm.
- – Al2O3-Pulver, umfassend Aluminiumoxid (99,6%) in Gestalt von hexagonalen Plättchen. Die mittlere Teilchengröße beträgt 3 μm. Das Pulver besitzt eine Mohssche Härte von 9 (auf einer Härteskala von 0 bis 10).
- – Rutil-Titandioxid mit einer anorganischen Beschichtung von Al2O3, ZnO und ZnPO4. Die mittlere Kristallgröße beträgt 0,23 μm.
- Deionisiertes Wasser (48 g; 24 Gew.-%) und Natriumsilikatlösung (80 g; 40 Gew.-%) wurden in ein 250 ml Becherglas gegeben und die Lösung wurde unter Verwendung eines Silverson-Mischers mit starker Scherwirkung, der mit maximaler Geschwindigkeit betrieben wurde, schergemischt. Titandioxidpulver (36 g; 18 Gew.-%) wurde anschließend in Portionen von ungefähr 2 g alle zehn Sekunden hinzugefügt. Nach dem Ende der Zugabe wurde die Flüssigkeit weitere zwei Minuten schergemischt. Dann wurde Aluminiumoxidpulver (36 g; 18 Gew.-%) in Portionen von ungefähr 2 g alle zehn Sekunden hinzugefügt. Nach dem Ende der Zugabe wurde die Flüssigkeit weitere zwei Minuten schergemischt. Für die Viskosität der Flüssigkeit wurde ein Wert von etwa 10 centipoise gefunden, gemessen bei 20°C und einer Scherrate von 200 s–1 mit einem Mettler Rheomat 180 Viscometer, das eine Doppelspaltmessgeometrie beinhaltet.
- Schritt 3
- Auftragen der Beschichtungszubereitung
- Die in Schritt 2 hergestellte Beschichtungszubereitung wurde unter Verwendung eines rotierenden Meyer-Rakelbeschichters (Bezeichnung K303) auf das in Schritt 1 hergestellte Aluminiumblech aufgetragen, wodurch sich eine Nassfilmdicke von 6 μm ergab.
- Schritt 4
- Trocknen der Zubereitung
- Das in Schritt 3 hergestellte, beschichtete Blech wurde 80 Sekunden in einen Ofen mit 130°C gelegt. Die Platte wurde anschließend aus dem Ofen genommen und konnte auf Zimmertemperatur abkühlen.
- Schritt 5
- Behandlung nach dem Trocknen
- Das in Schritt 4 hergestellte, getrocknete Blech wurde 30 Sekunden in Aluminiumsulfat (0,1 M) getaucht. Das Blech wurde anschließend etwa 20 Sekunden mit Leitungswasser sprühgespült und mit einem Fön getrocknet.
- Schritt 6
- Auftragen einer lichtempfindlichen Beschichtung
- Eine Druckplatte wurde aus dem in Schritt 5 hergestellten Blech hergestellt, indem mittels einer Meyer-Rakel ein lichtempfindliches Material des Chinondiazid/Novolakharz-Typs mit einem Trockenbeschichtungsgewicht von 2 g/m2 aufgetragen wurde. Das lichtempfindliche Material wurde 80 Sekunden bei 130°C getrocknet.
- Für die in Schritt 6 hergestellte Druckplatte wurde gefunden, dass sie ein gegenüber kommerziellen Druckplatten vergleichbares Leistungsvermögen besitzt. Vorteilhafterweise kann sie jedoch bei geringeren Kosten hergestellt werden.
- Beispiel 2
- Die Vorgehensweise aus Beispiel 1 wurde im allgemeinen befolgt, ausgenommen, dass eine andere Beschichtungszubereitung in Schritt 2 eingesetzt wurde. Die Zubereitung wurde durch Mischen der folgenden Bestandteile mit deionisiertem Wasser (40 Gew.-%) in der angegebenen Reihenfolge hergestellt. Nach jeder Zugabe wurde die Zubereitung mit hoher Schwerwirkung gemischt.
- Für die hergestellte Druckplatte wurde gefunden, dass sie ein der in Beispiel 1 hergestellten Platte vergleichbares Leistungsvermögen hatte.
- Beispiel 3
- Die Vorgehensweise aus Beispiel 2 wurde befolgt, ausgenommen, dass die folgenden Bestandteile in Schritt 2 in der nachstehend angegebenen Reihenfolge gemischt wurden.
- Für die hergestellte Druckplatte wurde gefunden, dass sie ein der in Beispiel 1 hergestellten Platte vergleichbares Leistungsvermögen hatte.
- Beispiel 4
- Die Vorgehensweise aus Beispiel 2 wurde befolgt, wobei die folgenden Bestandteile in Schritt 2 in der nachstehend angegebenen Reihenfolge gemischt wurden.
- Für die hergestellte Druckplatte wurde gefunden, dass sie ein der in Beispiel 1 hergestellten Platte vergleichbares Leistungsvermögen hatte, ausgenommen von leichten Farbstoffflecken auf der hydrophilen Schicht.
- Beispiel 5
- Die Vorgehensweise aus Beispiel 2 wurde befolgt, wobei die folgenden Bestandteile in Schritt 2 in der nachstehend angegebenen Reihenfolge gemischt wurden.
- Für die hergestellte Druckplatte wurde gefunden, dass sie ein der in Beispiel 1 hergestellten Platte vergleichbares Leistungsvermögen hatte.
Claims (36)
- Verfahren zur Herstellung eines Substrats für ein Flachdruckbauteil, umfassend einen Schritt zum Erzeugen einer hydrophilen Schicht auf einem Träger durch Inkontaktbringen des Trägers mit einer Flüssigkeit, die eine Silikatlösung umfasst, in der teilchenförmiges Material dispergiert ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Silikatlösung Alkalimetallsilikat umfasst, wobei das Verhältnis der Molzahl an SiO2 zur Molzahl an M2O im Alkalimetallsilikat wenigstens 2,5 beträgt und wobei die Flüssigkeit 5 bis 20 Gew.-% gelöster Alkalimetallsilikat-Feststoffe einschließt und einen pH-Wert von größer als 9,0 aufweist.
- Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Verhältnis der Molzahl an SiO2 zur Molzahl an M2O im Alkalimetallsilikat weniger als 4 beträgt.
- Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei das Alkalimetallsilikat Natriumsilikat ist.
- Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Flüssigkeit 8 bis 16 Gew.-% gelöster Alkalimetallsilikat-Feststoffe einschließt.
- Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei das Verhältnis des Gewichts der gelösten Alkalimetallsilikat-Feststoffe zum Gewicht des teilchenförmigen Materials in der Flüssigkeit im Bereich von 0,1 bis 2 liegt.
- Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei das Verhältnis des Gewichts der gelösten Alkalimetallsilikat-Feststoffe zum Gewicht des teilchenförmigen Materials in der Flüssigkeit im Bereich von 0,2 bis 0,6 liegt.
- Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Flüssigkeit mehr als 45 Gew.-% Wasser einschließt.
- Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei das teilchenförmige Material ein erstes Material umfasst, das eine modifizierte Mohssche Härte von mehr als 8 besitzt (auf einer Skala von 0 bis 15).
- Verfahren nach Anspruch 8, wobei das erste Material eine mittlere Teilchengröße von wenigstens 0,5 μm und weniger als 10 μm besitzt.
- Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, wobei das teilchenförmige Material in der Flüssigkeit wenigstens 20 Gew.-% des ersten Materials einschließt.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 10, wobei das teilchenförmige Material in der Flüssigkeit wenigstens 40 Gew.-% des ersten Materials einschließt.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 11, wobei die Flüssigkeit 5 bis 40 Gew.-% des ersten Materials einschließt.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 12, wobei die Flüssigkeit 10 bis 20 Gew.-% des ersten Materials einschließt.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 13, wobei das erste Material Aluminiumoxid umfasst.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 14, wobei das Verhältnis der Gewichtsprozente der gelösten Alkalimetallsilikat-Feststoffe zu den Gewichtsprozenten des ersten Materials im Bereich von 0,5 bis 1,5 liegt.
- Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei das teilchenförmige Material ein zweites Material umfasst.
- Verfahren nach Anspruch 16, wobei das zweite Material eine mittlere Teilchengröße von wenigstens 0,001 μm und weniger als 10 μm besitzt.
- Verfahren nach Anspruch 16 oder 17, wobei das teilchenförmige Material in der Flüssigkeit wenigstens 20 Gew.-% des zweiten Materials einschließt.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 16 bis 18, wobei das teilchenförmige Material in der Flüssigkeit wenigstens 40 Gew.-% des zweiten Materials einschließt.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 16 bis 19, wobei die Flüssigkeit 5 bis 40 Gew.-% des zweiten Materials einschließt.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 16 bis 20, wobei dir Flüssigkeit 10 bis 20 Gew.-% des zweiten Materials einschließt.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 16 bis 21, wobei das zweite Material ein Pigment ist.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 16 bis 22, wobei das zweite Material Titandioxid ist.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 16 bis 23, wobei das Verhältnis der Gewichtsprozente der gelösten Alkalimetallsilikat-Feststoffe zu den Gewichtsprozenten des zweiten Materials im Bereich von 0,5 bis 1,5 liegt.
- Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Flüssigkeit eine Viskosität von weniger als 100 centipoise besitzt.
- Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Flüssigkeit Viskositäts-Builder, Dispergiermittel und/oder eine oder mehrere oberflächenaktive Substanzen einschließt.
- Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die hydrophile Schicht ein Bindemittelmaterial umfasst, das im wesentlichen von der Silikatlösung in der Flüssigkeit stammt.
- Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Flüssigkeit auf den Träger aufgetragen wird, wodurch eine hydrophile Schicht mit einer durchschnittlichen Dicke nach dem Trocknen von weniger als 20 μm erzeugt wird.
- Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei der Träger Aluminium oder eine Legierung oder ein Kunststoffmaterial umfasst.
- Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei der Träger Aluminium umfasst.
- Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei das Flachdruckbauteil eine Flachdruckplatte ist.
- Substrat für ein Flachdruckbauteil, umfassend einen Träger und eine hydrophile Schicht, die ein Bindemittelmaterial einschließt, das eine polymere Struktur besitzt, die im wesentlichen aus -Si-O-Si-Einheiten besteht, in denen ein teilchenförmiges Material angeordnet ist, wobei das Bindemittelmaterial von einem Alkalimetallsilikat stammt, bei dem das Verhältnis der Molzahl an SiO2 zur Molzahl an M2O im Alkalimetallsilikat wenigstens 2,5 beträgt und das Substrat Aluminium aufweist.
- Substrat nach Anspruch 32, wobei die hydrophile Schicht eine durchschnittliche Dicke von weniger als 20 μm besitzt.
- Substrat nach Anspruch 32 oder 33, wobei die hydrophile Schicht einen Ra-Wert im Bereich von 0,1 bis 2 μm besitzt.
- Substrat nach einem der Ansprüche 32 bis 34, wobei die hydrophile Schicht 1 bis 20g Material je Quadratmeter des Substrates einschließt.
- Substrat nach einem der Ansprüche 32 bis 35, wobei das Substrat für eine Flachdruckplatte ist.
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---|---|---|---|---|
CA2238475A1 (en) * | 1995-11-24 | 1997-06-05 | Horsell Graphic Industries Limited | Hydrophilized support for planographic printing plates and its preparation |
GB9624224D0 (en) * | 1996-11-21 | 1997-01-08 | Horsell Graphic Ind Ltd | Planographic printing |
GB9702568D0 (en) * | 1997-02-07 | 1997-03-26 | Horsell Graphic Ind Ltd | Planographic printing |
GB9710549D0 (en) * | 1997-05-23 | 1997-07-16 | Horsell Graphic Ind Ltd | Planographic printing |
GB9710552D0 (en) | 1997-05-23 | 1997-07-16 | Horsell Graphic Ind Ltd | Planographic printing |
GB9710553D0 (en) * | 1997-05-23 | 1997-07-16 | Horsell Graphic Ind Ltd | Planographic printing |
US6357351B1 (en) | 1997-05-23 | 2002-03-19 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Substrate for planographic printing |
GB9805686D0 (en) * | 1998-03-18 | 1998-05-13 | Horsell Graphic Ind Ltd | Treatment of metals |
DE19839454A1 (de) * | 1998-08-29 | 2000-03-02 | Agfa Gevaert Ag | Aufzeichnungsmaterial aus einem Träger und einer auf einer Oberfläche des Trägers aufgebrachten Keramikschicht |
US6295927B1 (en) * | 1998-10-26 | 2001-10-02 | Agfa-Gevaert | Lithographic base for use in non-impact printing |
US6397746B1 (en) * | 1999-08-09 | 2002-06-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Camera-ready copy sheet for lithographic printing plates |
US6293197B1 (en) | 1999-08-17 | 2001-09-25 | Kodak Polychrome Graphics | Hydrophilized substrate for planographic printing |
GB2357060B (en) * | 1999-12-08 | 2002-12-31 | Kodak Polychrome Graphics Co | Planographic printing |
JP2001270260A (ja) * | 2000-01-20 | 2001-10-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 直描型平版印刷版 |
US6376140B1 (en) | 2000-11-03 | 2002-04-23 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Electrostatically imaged printing plate and method of preparation |
US6715421B2 (en) * | 2001-03-01 | 2004-04-06 | Presstek, Inc. | Transfer imaging with metal-based receivers |
DE60213567T2 (de) * | 2001-03-12 | 2006-12-07 | Novelis, Inc., Toronto | Verfahren und vorrichtung zum texturieren von metallblechen oder metallbändern |
US6613494B2 (en) | 2001-03-13 | 2003-09-02 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imageable element having a protective overlayer |
JP4268345B2 (ja) * | 2001-04-20 | 2009-05-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用支持体 |
US7198882B2 (en) * | 2001-11-20 | 2007-04-03 | Eastman Kodak Company | Adhesion promoting polymeric materials and planographic printing elements containing them |
GB0127713D0 (en) | 2001-11-20 | 2002-01-09 | Eastman Kodak Co | Adhesion promoting polymeric materials and planographic printing elements containing them |
US6675710B2 (en) | 2001-12-21 | 2004-01-13 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Method of preparation of electrostatically imaged printing plates |
US6670084B2 (en) | 2002-02-05 | 2003-12-30 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imaged printing plate and method of preparation |
US7294391B2 (en) * | 2003-01-09 | 2007-11-13 | Kabushiki Kaisha Suzutora | Contamination resistant fiber sheet |
DE102004025368A1 (de) * | 2004-05-19 | 2005-12-08 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von strukturierten Oberflächen |
US7854984B2 (en) * | 2005-05-03 | 2010-12-21 | The Diller Corporation | Wear-resistant decorative laminates |
WO2010029341A2 (en) | 2008-09-12 | 2010-03-18 | J P Imaging Limited | Improvements in or relating to printing |
CN101723613B (zh) * | 2008-10-28 | 2013-04-24 | 武汉菲凡士建材有限公司 | 一种混凝土固化材料 |
US10603894B2 (en) | 2010-03-18 | 2020-03-31 | Shenzhen Zhong Chuang Green Plate Technology Co., Ltd. | Printing |
ES2662913T3 (es) * | 2014-03-27 | 2018-04-10 | Hydro Aluminium Rolled Products Gmbh | Procedimiento para procesar una banda de aluminio, banda de aluminio y su utilización |
ES2677257T3 (es) * | 2014-10-22 | 2018-07-31 | Hydro Aluminium Rolled Products Gmbh | Procedimiento para la cocción de placas de impresión revestidas |
Family Cites Families (56)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112615C (de) * | ||||
BE507657A (de) * | 1950-12-06 | |||
US2922715A (en) * | 1956-03-26 | 1960-01-26 | Polychrome Corp | Presensitized printing plate and method for preparing same |
US3181460A (en) * | 1960-02-05 | 1965-05-04 | Oxford Paper Co | Paper offset plate for photographic transfer and direct image printing |
US3181461A (en) * | 1963-05-23 | 1965-05-04 | Howard A Fromson | Photographic plate |
US3470013A (en) * | 1966-02-18 | 1969-09-30 | Hercules Inc | Coated plastic |
US3592137A (en) * | 1969-01-29 | 1971-07-13 | Columbia Ribbon & Carbon | Planographic printing plates |
US3640221A (en) * | 1970-02-11 | 1972-02-08 | Litton Business Systems Inc | Planographic printing plate |
GB1439127A (en) * | 1972-06-08 | 1976-06-09 | Alcan Res & Dev | Production of lithographic plates |
US3971660A (en) * | 1974-04-04 | 1976-07-27 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate comprising hydrophilic layer of polyvinylacetate crosslinked with tetraethylorthosilicate |
US3963594A (en) * | 1975-06-03 | 1976-06-15 | Aluminum Company Of America | Electrochemical treatment of aluminum surfaces with an aqueous solution of hydrochloric acid and gluconic acid |
US4065364A (en) * | 1976-01-21 | 1977-12-27 | Fromson H A | Process for anodizing aluminum |
US4052275A (en) * | 1976-12-02 | 1977-10-04 | Polychrome Corporation | Process for electrolytic graining of aluminum sheet |
JPS5928326B2 (ja) * | 1976-12-02 | 1984-07-12 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
US4072589A (en) * | 1977-04-13 | 1978-02-07 | Polychrome Corporation | Process for electrolytic graining of aluminum sheet |
SU704827A1 (ru) * | 1977-12-09 | 1979-12-25 | Украинский Полиграфический Институт Им. Ивана Федорова | Способ гидрофилизации поверхности фотополимерных печатных форм |
CA1119447A (en) * | 1978-09-06 | 1982-03-09 | John P. Vikesland | Positive-acting photoresist composition containing a crosslinked urethane resin, a cured epoxy resin and a photosensitizer |
US4268609A (en) * | 1979-07-16 | 1981-05-19 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Process for preparing photosensitive lithographic printing plate precursor |
JPS5662253A (en) * | 1979-10-25 | 1981-05-28 | Toray Ind Inc | Damping water nonrequiring lithographic master material |
JPS5684994A (en) * | 1979-12-11 | 1981-07-10 | Ricoh Co Ltd | Offset master |
JPS56111852A (en) * | 1980-02-08 | 1981-09-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | Plate making method |
AU544060B2 (en) * | 1980-07-28 | 1985-05-16 | Polychrome Corp. | Accelerated diazo sensitised |
JPS5785049A (en) * | 1980-11-18 | 1982-05-27 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photosensitive composition |
US4330605A (en) * | 1981-01-21 | 1982-05-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photolithographic receptor sheet |
US4542089A (en) * | 1981-09-08 | 1985-09-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Lithographic substrate and its process of manufacture |
US4457971A (en) * | 1981-09-08 | 1984-07-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Lithographic substrate and its process of manufacture |
US4420549A (en) * | 1981-09-08 | 1983-12-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Lithographic substrate and its process of manufacture |
DE3237775A1 (de) * | 1981-10-12 | 1983-04-28 | Daishin Kagaku Kogyo K.K., Niiza, Saitama | Material fuer eine plandruckplatte und verfahren zu dessen herstellung |
AU9012082A (en) * | 1981-11-06 | 1983-05-12 | Polychrome Corp. | Light sensitive composition |
JPS59101651A (ja) * | 1982-12-02 | 1984-06-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
JPS59214651A (ja) * | 1983-05-20 | 1984-12-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版を用いた製版方法 |
GB8318686D0 (en) * | 1983-07-11 | 1983-08-10 | Vickers Plc | Lithographic printing plates |
JPS61102650A (ja) * | 1984-10-25 | 1986-05-21 | Nippon Seihaku Kk | 平版印刷支持体層形成用組成物 |
JPS61123594A (ja) * | 1984-11-21 | 1986-06-11 | Ricoh Co Ltd | 直描平版印刷用原板 |
DE3717757A1 (de) * | 1986-05-26 | 1987-12-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | Verfahren zur herstellung eines traegers fuer die verwendung in der herstellung einer lithografischen druckplatte |
JPS63268543A (ja) * | 1987-04-24 | 1988-11-07 | Kawasaki Steel Corp | 中実または中空鋳片製造用連続鋳造機の注湯ノズル |
JPS63268642A (ja) * | 1987-04-28 | 1988-11-07 | Showa Alum Corp | 平版印刷用版材の製造方法 |
GB8720424D0 (en) * | 1987-08-28 | 1987-10-07 | Horsell Graphic Ind Ltd | Pre-sensitized lithographic printing plate production |
JPH023956A (ja) * | 1988-06-20 | 1990-01-09 | Nec Corp | 半導体装置の製造方法 |
US4974513A (en) * | 1988-09-01 | 1990-12-04 | Ricoh Company, Ltd. | Thermal direct master |
US5171650A (en) * | 1990-10-04 | 1992-12-15 | Graphics Technology International, Inc. | Ablation-transfer imaging/recording |
JP2512576B2 (ja) * | 1990-01-10 | 1996-07-03 | 株式会社クラレ | セメント組成物構造体 |
GB9003079D0 (en) * | 1990-02-12 | 1990-04-11 | Alcan Int Ltd | Lithographic plates |
JP2944296B2 (ja) * | 1992-04-06 | 1999-08-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版の製造方法 |
US5881645A (en) * | 1992-09-10 | 1999-03-16 | Lenney; John Richard | Method of thermally spraying a lithographic substrate with a particulate material |
GB2277383A (en) * | 1993-04-21 | 1994-10-26 | Horsell Plc | A light sensitive printing plate |
DE69308861T2 (de) * | 1992-09-10 | 1997-10-02 | Horsell Graphic Ind Ltd | Druckplatte und verfahren zur herstellung |
DE69324000T2 (de) * | 1993-04-05 | 1999-10-14 | Agfa-Gevaert N.V. | Lithographischer Träger und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform |
EP0619525B1 (de) * | 1993-04-05 | 1999-03-17 | Agfa-Gevaert N.V. | Lithographischer Träger und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform |
EP0619524B1 (de) * | 1993-04-05 | 1999-08-04 | Agfa-Gevaert N.V. | Lithographischer Träger und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform |
US5527213A (en) * | 1993-04-23 | 1996-06-18 | Jason, Inc. | Honing tool and method of making |
EP0653685A1 (de) * | 1993-11-16 | 1995-05-17 | Agfa-Gevaert N.V. | Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mittels eines, eine photopolymerisierbare Zusammensetzung enthaltendes Bildaufzeichnungselements |
IT231877Y1 (it) * | 1994-06-20 | 1999-08-09 | S U M Ltd | Struttura di contenitore per la raccolta di olii esausti |
CA2238475A1 (en) * | 1995-11-24 | 1997-06-05 | Horsell Graphic Industries Limited | Hydrophilized support for planographic printing plates and its preparation |
GB9624224D0 (en) * | 1996-11-21 | 1997-01-08 | Horsell Graphic Ind Ltd | Planographic printing |
DE60213567T2 (de) * | 2001-03-12 | 2006-12-07 | Novelis, Inc., Toronto | Verfahren und vorrichtung zum texturieren von metallblechen oder metallbändern |
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