CN1207707A - 平版印刷版亲水底板和它的制备 - Google Patents

Abstract

制备平版印刷版基底的方法,包括使例如铝或塑料的底板与pH9或大于9含有硅酸盐溶液(例如硅酸钠溶液)的液体相接触,此液体中还分散有颗粒物,如氧化铝或氧化钛。固化时,此液体在底板上产生了亲水层。还叙述了基底本身和印刷版。

Description

平版印刷版亲水底板和它的制备

本发明涉及平版印刷，并提供了制备平版印刷元件基底和平版印刷元件本身的方法。本发明特别涉及平版印刷，但也不排除其它。

亲水法包括在基底上，实质上在一个普通的平面上，建立图象(着墨)区和非图象(非着墨)区。当印刷工业使用这样的方法时，非图象区一般是亲水的，图象区一般是亲油的。因此，在水施加到基底上之后，油基性墨与非图象区相排斥。

多种方法可以产生图象区和非图象区，这些方法包括使基底表面上一层图象物质受到射线辐照的步骤。射线的辐照作用将在对应于图象区和非图象区的图象物质上产生溶解度差。在显影期间，除去易溶区，在基底上留下对应于图象的图案。

制备接受一层图象物质的基底必须保证图象物与基底相粘结。可是，在显影期间，必须要让可溶的图象物质释放出来。

平版印刷最常用的一种基底包含一个铝基层，对铝基层进行处理，以使它适宜于使用。通常铝层含有高质量的铝，例如1050合金，1050合金的纯度至少是99.5％。为了制备基底，铝例如用电起纹(electrograining)，粗糙化阳极氧化，然后用化学法调整，例如用水，磷酸盐溶液或硅酸盐溶液，或多羧酸进行处理。

例如英国专利申请1 439 127号，美国专利3,181,461；3,963,594；4,052,275；4,072,589；4,131,518号和欧洲专利申请0110417号和日本专利公开20/3956叙述了使用电起纹的和/或阳极氧化的和/或化学调整的铝的平版印刷版。

已知方法的一个问题是，这些方法在电起纹和阳极氧化步骤中要消耗大量的电能。而且这些步骤将产生必须要处置的化学废物。此外这些方法一般只能以较低的速度进行。

对于上述问题已经提出了许多解决办法；但是没有什么是可用于产业上的建议。

例如，国际申请WO 91/12140公开了金属铝的平版印刷版，这种板载有来自氧化锆溶胶产生的氧化物层。

美国专利4,457,971公开了平版印刷版，这种平版印刷版包括铝或铝化基底，基底具有陶瓷层，陶瓷层含有非金属无机颗粒和耐水相或至少一种一碱价磷酸盐脱水产物相。

美国专利4,420,549公开了包括有铝或铝化基底的平版印刷版，基底有陶瓷涂层，陶瓷涂层含有聚合态的磷酸铝或磷酸铝的混合物，其中涂层基本上不含粒状物。

美国专利4,542,089公开了制备光敏基底的方法，该方法应用至少一种一碱价磷酸盐的淤浆在铝基底或基底的铝化表面提供亲水陶瓷，在铝或铝化基底的至少一表面上提供无机非金属颗粒，使淤浆在至少230℃的温度下进行焙烧足够长的时间，保证陶瓷层基本完全的脱水，以形成亲水陶瓷涂层。

意大利专利申请MI 94 A 000 448叙述了对铝底板涂复含有氟硅酸盐、二氧化硅、聚偏氟乙烯和二氧化钛的胶体混合物来制备亲水印刷版。氟硅酸盐的聚合是在225～300℃的温度下进行的，聚合时间达50～180秒。

与上述方法有关的一个问题是由在铝上固化和/或聚合涂层所需要的较高的温度引起的。发现高温能使铝底板退火，并使铝底板的抗拉强度降低。另外，高温能使印刷版变形，使它具有波状结构。当印刷版在印刷压力机上运行时，这两个效应可能会有问题的。

PCT专利申请GB 93/01910叙述了电起纹和/或退火问题的另一种解决方案。该文公开了利用Al₂O₃粉末在铝合金片上进行等离子体喷涂制造平版印刷版的情况。

作为铝的替代物，可以使用塑料例如聚酯作为底板。此外，这样一些塑料材料的表面涂层已有大量公开。

例如，美国专利4,330,605公开了能够利用银盐扩散迁移法作成图象的照相平版接受板，扩散迁移法包括使聚对苯二甲酸乙酯薄膜与胶态二氧化硅和干二氧化硅粉进行涂复。

欧洲专利0 619 524，0 619 525和620 502也公开了聚对苯二甲酸乙酯薄膜的各种涂层。

本发明的一个目的就是为解决与已知的平版印刷版、印刷版的部件以及它们的生产方法有关的问题。

根据本发明，提供一种制备平版印刷元件基底的方法，该方法包括通过使底板与含有硅酸盐溶液的液体相接触在底板上形成亲水层的步骤，在硅酸盐溶液中分散有颗粒状物质。

所述的平版印刷元件优选地是一种印刷版。

所述硅酸盐溶液可以包括任何一种可溶性的硅酸盐溶液，包括常常称作水玻璃、正硅酸盐、原硅酸盐和倍半硅酸盐的化合物。所述硅酸盐溶液可以包括改性的硅酸盐例如硼硅酸盐或磷硅酸盐的溶液。

所述硅酸盐溶液可以包括一种或多种，优选地只有一种，金属或非金属的硅酸盐。金属硅酸盐可以是碱金属硅酸盐。非金属硅酸盐可以是硅酸季铵盐。

所述硅酸盐溶液可以由硅酸盐形成，其中硅(例如二氧化硅)与阳离子(例如金属离子)的摩尔比在0.25-10的范围内，优选地在0.25-6的范围内，更优选地在0.5-4的范围内。

所述硅酸盐优选地是碱金属硅酸盐。在此种情况下，在所述硅酸盐中SiO₂与M₂O的摩尔比至少可以是0.25，合适地至少0.5，优选地至少1，更优选地至少1.5，其中M代表了碱金属。所述比值至少是2.5的情况是特别优选的。所述比可以小于6，优选地小于5，更优选地小于4。

优选的碱金属硅酸盐包括锂、钠和钾的硅酸盐，锂和/或钠的硅酸盐是特别优选的。仅含有硅酸钠的硅酸盐溶液是最优选的。

所述的液体可以含有2～30％(重量)的硅酸盐(例如溶解的硅酸钠固体)，优选地5-20％(重量)，更优选地8-16％(重量)。此种液体可以使用10-60％(重量)，优选地30-50％(重量)，更优选地35-45％(重量)的硅酸盐溶液制备，这种硅酸盐溶液含有30-40％(重量)的硅酸盐。

所述液体可包含5-60％(重量)的颗粒物。此种液体优选包含10-50％(重量)，更优选地15-45％(重量)，特别优选地20-40％(重量)的颗粒物。

此液体中硅酸盐(重量)与颗粒物(重量)之比优选地在0.1-2的范围内，更优选地在0.1-1的范围内。重量比在0.2-0.6的范围内是特别优选的。

所述液体可以包含多于20％(重量)，优选地多于30％(重量)，更优选地多于40％(重量)，特别优选地多于45％(重量)的水(包括所述硅酸盐溶液包含的水)。所述液体可以包括少于80％(重量)，优选地少于70％(重量)，更优选地少于65％(重量)，特别优选地少于约60％(重量)的水。

所述颗粒物可以是有机物或无机物。有机颗粒物可以以乳胶提供。无机颗粒物可以选自氧化铝、二氧化硅、碳化硅、硫化锌、氧化锆、硫酸钡、滑石、粘土(例如高岭土)，锌钡白(lithopone)和二氧化钛。

所述的颗粒物可以包括第一物质，这种物质的硬度大于8改进的莫氏硬度(按0-15莫式的标度)，优选地大于9，更优选地大于10。

所述第一物质一般包括球形颗粒。或者，所述物质可以包括扁平颗粒或片状体。

所述第一物质可以具有至少0.1微米，优选地至少0.5微米的平均粒度。

所述的第一物质可以具有小于45微米，优选地小于20微米，更优选地小于10微米的平均粒度。

第一物质的95％颗粒的粒度分布可以在0.01-150微米的范围内，优选地在0.05-75微米的范围内，更优选地在0.05-30微米的范围内。

所述第一物质优选地包括无机物。所述第一物质优选地包括氧化铝，氧化铝包括Al₂O₃和它的水化物，例如Al₂O₃·3H₂O。所述物质优选地是Al₂O₃。

在所述液体中的所述颗粒物可以至少包括20％(重量)，优选地至少30％(重量)，更优选地至少40％(重量)的所述第一物质。所述液体可以包括5-40％(重量)，优选地5-30％(重量)，更优选地7-25％(重量)，特别优选地10-20％(重量)的所述第一物质。

所述颗粒物可以包括第二物质。所述第二物质可以具有至少0.001微米，优选地至少0.01微米的平均粒度。所述第二物质可以具有小于10微米，优选地小于5微米，更优选地小于1微米的平均粒度。

所述第一物质和第二物质的平均粒度适宜地称之为所述物质的主粒度。

所述液体中所述颗粒物至少可以包括20％(重量)，优选地至少30％(重量)和更优选地至少40％(重量)的所述第二物质。所述液体可以包括5-40％(重量)，优选地5-30％(重量)，更优选地7-25％(重量)，特别优选地10-20％(重量)的所述第二物质。

所述第二物质优选的是一种颜料。所述第二物质优选地是无机的。所述第二物质优选地是二氧化钛。

所述的第一和第二物质优选地限定多峰(例如双峰)的粒度分布。

当液体包括硅酸盐，所述颗粒物包括所述第一物质和第二物质时，硅酸盐(例如溶解的硅酸钠固体)的％(重量)与所述第一物质的％(重量)之比可以在0.25-4的范围内，优选地在0.5-1.5的范围内，更优选地约为1。与此类似，硅酸盐的％(重量)与所述第二物质的％(重量)之比可以在0.25-4的范围内，优选地在0.5-1.5的范围内，更优选地约为1。第一物质的％(重量)与第二物质的％(重量)之比可以在0.5-2的范围内，优选地在0.75-1.5的范围内，更优选地约为1∶1。

所述的颗粒物可以包括第三物质，第三物质优选地适合于降低硅酸盐溶液的pH值。所述第三物质可以是胶体，合适地是胶态二氧化硅或无机盐，适合地是磷酸盐，磷酸盐中磷酸铝是优选的。在提供第三物质时，所述的第三物质应包含优选地小于30％(重量)，更优选地小于20％(重量)，特别优选地小于10％(重量)的所述颗粒物。

所述液体的pH可以大于9.0，优选地大于9.5，更优选地大于10.0。其中pH大于10.5是特别优选的。适宜地控制pH值，因此硅酸盐留在溶液中，而不会形成凝胶。当硅酸盐溶液的pH下降到9以下时，通常就会形成凝胶。所述液体的pH优选地小于14，更优选地小于13。应理解液体的pH将会影响亲水层在底板上的附着。已发现，使用具有所述pH的液体能够得到更好的附着。

为调节液体的特性，它还可以包含其它的化合物。例如，液体可以包含一种或多种的表面活性剂。所述液体可以包含0-1％(重量)的表面活性剂。合适的一类表面活性剂包括阴离子硫酸盐或阴离子磺酸盐。液体可以包含调节液体粘度的粘度增效剂。所述液体可以包含0-10％(重量)，优选地0-5％(重量)的粘度增效剂。另外，此液体可以包含将无机颗粒物在整个液体内分散的分散剂。所述液体可以包含0-2％(重量)的分散剂。适合的分散剂可以是六偏磷酸钠。

已提出了一些平版印刷版的亲水层，这种亲水层包括能增加亲水层强度和/或硬度的有机聚合物，例如热塑性聚合物。本发明的方法所使用的所述液体优选地不包含热塑性有机聚合物，例如聚偏氟乙烯等等。

当在20℃和剪切速度200/秒时使用Mettler Rheomat 180粘度计与双间隙测量几何学相结合进行测量时，所述液体具有小于100厘泊的粘度。当照上述情况进行测量时，所述粘度优选地小于50厘泊，更优选地小于30厘泊。粘度小于20厘泊是特别优选的。

可用任何适合的方法，将所述液体涂复于所述的底板上，这些方法中，非电化学方法是优选的。

为了在底板的两边形成亲水层，所述液体可以涂复于所述底板的两边。在底板两侧具有这样的亲水层的底板可以用于制备双面平版印刷版。另一方面，如果使用这样的底板于单面印刷版，则不载带图象层的印刷版的这一面可以利用亲水层加以保护。所述液体优选地只涂复用于所述底板的一面。

可以涂复所述液体于所述底板上，以形成干燥后具有小于20微米，优选地小于10微米，更优选地小于5微米的平均厚度。平均厚度小于3微米是特别优选的。

亲水层的厚度可以大于0.1微米，优选地大于0.3微米，更优选地大于0.5微米。

所述的颗粒物限定在所述亲水层的形成，优选地这种形成使所述的亲水层成为非平面的，并以这样的方式排列，当所述的亲水层上涂复图象层时，相应的形成就以类似于英国专利申请GB 2 277 282所叙述的方式限定在图象层的表面上。该篇英国专利申请的内容并入本文作为参考文献。

该方法优选地包括在将液体涂复于底板后提供将水从液体中除去的合适条件的步骤。合适的条件可以包括消极除水或积极除水，并包含使空气流流过底板的上方和/或调节底板周围空气的湿度。该方法还优选地包括在受热的环境中配置底板的步骤。底板放置在环境中，应使它的温度不超过230℃，优选地不超过200℃，更优选地不超过175℃。底板的温度不超过150℃是特别优选的。

可以使底板配置在热的环境中不超过180秒，优选地不超过120秒，更优选地不超过100秒。

底板可以包括铝或合金。在这种情况下，发现将底板配置如上所述在温度低于230℃的环境中是有利的，因为在这个温度下，底板的退火不显著，因此，底板的抗拉强度可维持在可接受的水平下。尤其是，使用Hounsfield张力试验机合适地测得的铝的抗拉强度至少可以是100MPa，优选地至少110MPa，更优选地至少是120MPa。抗拉强度至少是140MPa是特别优选的。

从液体只需要在较低温度下在短时间内就可以固化的事实来看，为了在底板上提供亲水层，上述液体也可以有利地应用于塑料底板，例如聚酯底板。正如所认识到的那样，长期较高温度下固化相反会有害地影响到塑料的特性。

据信从涂复于底板的液体中除去水会引起硅酸盐聚合，并使无机颗粒物在该位点粘结。

因此，应当懂得，本发明方法的一个优点在于可以使用范围相当广泛的底板。例如，当底板是铝或合金时，与通常平版印刷版所使用的金属品级相比较，可以使用较低品级的金属。此外和/或者另一种方案是，可以使用更耐例如更耐显影化学试剂的金属。此外，可以使用本方法将亲水层涂敷于其它类型的底板，例如其它的金属，涂箔的纸和塑料。

在涂复所述亲水层之前，可以预处理底板。当底板是铝或铝合金时，它可以用铝表面处理时所使用的一种或多种常规方法进行预处理，例如碱蚀清洗、酸清洗、刷搓、机械搓、膏剂搓、喷砂、研磨清洗、电清洗、溶剂除油、超声波清洗、碱非侵蚀清洗、涂底漆、喷粗砂/喷钢球和电起纹。Finishing Publication Ltd发表的，美国金属学会国际部，1987年第5版S.Wernick，R.Pinner和P.G.Sheasby著的“铝及其合金表面处理和精加工”的文章提供了这些方法的详细细节。

预处理底板时，包括调节底板表面特性的预处理步骤，例如包括清洗、擦搓等等预处理步骤是优选的。可是如果在底板的表面涂敷表面涂层，则涂层优选地应以液体的形式进行涂敷。

优选地将含有上述硅酸盐溶液的液体涂敷到所述底板的充分干燥的表面上。

优选地将所述液体直接涂复到所述底板的所述底板材料上。

在与所述液体接触之前，底板材料优选地进行清洗和/或侵蚀。使用碱溶液，例如氢氧化钠溶液，任选地加有葡糖酸钠和/或山梨醇添加剂，可以实现清洗和/或侵蚀。

底板材料也可以经受清除附着物的预处理，合适地使用硝酸进行处理。在此种处理后，在与所述液体接触之前，底板材料应该进行冲洗和/或干燥。

制备基底的方法优选地包括调节所述底板上形成的亲水层表面的pH的步骤，使该表面与硫酸铝接触，以使所述亲水层能与图象层相容。

方法优选地包括在所述亲水层上合适地直接产生图象层的步骤，以使亲水层位于图象层和底板之间。

“图象层”术语的含义包括为限定待要着墨区可以随后部分除去的层和包括已经限定的待要着墨区的层。

可以在所述亲水层的整个表面上提供图象层。不论准备形成正极还是负极，图象层可以含有任何的感光材料。感光材料的实例包括重氮/二叠氮材料，可以进行解聚或加成光聚的聚合物和卤化银明胶系。英国专利GB 1 592 281，GB 2 031 442，GB 2 069 164，GB 2 080 964，GB 2 109 573，以及EP 0 377 589，US 4,268,609和US 4,567,131公开了合适材料的实例。二叠氮化醌(quinone diazide)是优选的光敏材料。

另外，以供平版印刷使用的所需图象形式的所述图象层可以在所述亲水层上进行沉积，方法是例如用喷油墨或激光烧蚀上墨沉积法。激光烧蚀上墨的实例在US 5,171,650专利中有叙述。

所述图象层优选地配置在所述亲水层上方，这样由于亲水层中的颗粒物在所述亲水层中所形成的形成物，该形成物就被限定在图象层的表面上。可以合适地配置形成物，以限定感光层和蒙板之间的气孔，因此空气能够从感光层和蒙板之间逸出，以便在印刷版曝光前可以减少蒙板在感光层上的刮涂时间。

本发明可扩展到利用所述方法制备的平版印刷元件的基底。

已经发现，本发明方法制备的基底包括能很好地附着于底板的亲水层。当底板是铝或合金时，据信这种很好的附着作用是由于在底板的表面上形成了硅酸铝(或者至少铝硅酸盐的粘合体)。因此，本发明适合地提供了基底，其中在底板和底板材料上的亲水层之间形成了化学粘合体。此外，当使用于印刷版时，发现基底具有抗磨损作用，这种抗磨损作用可与常规的电起纹基底和阳极氧化基底的抗磨损作用相匹敌。

平版印刷版的基底包含了一种底板和一种亲水层，这种亲水层包括由硅酸盐溶液和颗粒物产生的或可以产生的粘结物。

所述硅酸盐溶液可以是本文任何论述中所叙述的硅酸盐溶液。

据信由所述类型的硅酸盐溶液所产生的粘结物可以含有极少量的带负电的三维硅酸盐聚合物离子。从上述体系中除去水将引起硅烷醇的缩合，结果形成了包含-Si-O-Si-单元部分的聚合结构。因此，本发明扩展到包括底板和亲水层的平版印刷元件的基底，亲水层包括粘结物，粘结物包含聚合结构，这种聚合结构包含了排列着颗粒物的-Si-O-Si-单元部分。

所述颗粒物可以是本文任何论述所叙述的颗粒物。

所述亲水层优选地30-80％(重量)，更优选地40-70％(重量)是由所述颗粒物组成的。

所述颗粒物优选地包括本文任何论述所述的第一物质。

所述第一物质优选地具有大于8改进的莫氏硬度(按0-15的硬度标度)，优选地大于9改进的莫氏硬度，更优选地大于10改进的莫氏硬度。

所述亲水层中的所述第一物质可以具有如上对所述液体中所述第一物质所说的平均粒度和/或粒度分布。

上述基底上的所述颗粒物可以包括至少20％(重量)，优选地至少30％(重量)，更优选地至少40％(重量)的所述的第一物质。

所述颗粒物优选地包括如本文任何论述中所述的第二物质。

所述亲水层中所述第二物质可以具有如上对所述液体中所述第二物质所述的平均粒度和/或粒度分布。

所述基底上的所述颗粒物可以至少包括20％(重量)，优选地至少30％(重量)，更优选地至少40％(重量)的所述第二物质。

在亲水层中，第一物质的％(重量)与第二物质的％(重量)之比可以在0.5-2的范围内，优选地在0.75-1.5的范围内，更优选地约是1∶1。

所述颗粒物可以包括如在本文任何论述中所述的第三物质。

所述亲水层优选地不包括热塑性有机聚合物，例如聚偏氟乙烯等等。

所述亲水层优选地具有低于20微米，更优选低于10微米和最优选低于5微米的平均厚度。

所述亲水层优选地具有大于0.1微米，更优选地大于0.3微米，最优选地大于0.5微米的平均厚度。

所述的亲水层可以具有Ra值，是使用带有LV-50测量头的触针测量仪(Hommel计T2000)测得的，Ra的范围在0.1-2微米，更适合为0.2-2微米，优选为0.2-1微米，更优选为0.3-0.8微米，特别优选为0.4-0.8微米。

所述亲水层可以包括1-20克物质/米²基底。所述亲水层优选地包括5-15克，更优选地8-12克物质/米²基底。所述亲水层最优选地包括10克物质/米²基底。

所述底板可以含有通常用于印刷元件的任何类型的底板。例如，它可以包括金属，例如铝、钢、锡或它们的合金；镀金属的纸例如铝箔；塑料例如聚酯；或镀有金属的塑料。底板优选地是铝或合金。

本发明的方法能用于使铝的抗张强度处于最优化，其方法是减少或排除亲水层处理期间金属的退火。因此，本发明的底板优选地具有至少100MPa的抗张强度，优选地至少110MPa，更优选地至少120MPa。抗张强度至少是140MPa特别优选的。

另外，本发明的方法可以使底板材料在制备期间的变形最小。例如，已发现，如使用所述方法于铝底板，则最大的波高可能仅仅是约2毫米，每米最大波数可能是3。

本发明扩展到包括上述基底和基底的亲水层之上的图象层的平版印刷元件。

亲水层中的颗粒物优选地排列在底板表面和图象层之间，由于颗粒物在图象层下，在图象层表面上就提供了形成物。

所述图象层优选地含有感光材料，二叠氮化醌是优选的。

本文所述某一发明的任何方面的任何特征可以与本文所述的任何其它发明的任何特征相结合。

现在将通过实例来叙述本发明。

平版印刷版的制备

实例1

步骤1

铝的制备

0.3毫米规格的牌号为AA 1050的铝合金板切割成230毫米×350毫米，其上带有纵长颗粒。然后板面朝上浸入室温下溶于蒸馏水中的氢氧化钠溶液(100g/l)中达60秒钟，然后彻底用水进行漂洗。

步骤2

涂复形成物的制备

制备时使用下列试剂：

-硅酸钠溶液，SiO₂∶Na₂O的比在3.17-3.45的范围内(平均约为3.3)；SiO₂的(重量)百分组成为27.1-28.1，Na₂O的(重量)百分组成8.4-8.8，余量是水；密度约为75 Twaddel标度(°TW)，相当于39.5 Baume度(°Be)，比重1.375。

-去离子水具有5姆欧·厘米的比电阻。

-Al₂O₃粉含有氧化铝(99.6％)，呈六方晶系片晶形。平均粒度是3微米。粉末具有9莫氏硬度(按0-10硬度标尺)。

-金红石二氧化钛，并提供有Al₂O₃、ZnO和ZnPO₄的无机涂料。

平均结晶粒度是0.23微米。

将去离子水(48克；24％(重量))和硅酸钠溶液(80克；40％(重量))加入到250毫升的烧杯中，溶液使用最高速度运行的高速涡轮剪切混合机进行剪切。然后加入二氧化钛粉(36g；18％(重量))，每10秒钟加入1份，每份约2克。加完后，液体再剪切2分钟。然后加入氧化铝粉(36克；18％(重量))，每10秒加入一份。每份约2克。加完后，液体再剪切2分钟。在20℃和剪切速度200/秒时使用装有双间隙测量几何学的Mettler Rheomat 180粘度计进行测量，发现液体的粘度约是10厘泊。

步骤3

涂复涂料配方

使用旋转的Meyer线棒涂布机(牌号K303)将步骤2制备的涂料配方涂复在步骤1制备的铝板上，以给出厚度6微米的湿薄膜。

步骤4

干燥该配方

将步骤3制备的已涂复板放在温度130℃的烘箱中达80秒钟。然后此板从烘箱中移出，让其在室温下冷却。

步骤5

干燥后的处理

将步骤4制备的干板浸入硫酸铝(0.1M)溶液中30秒钟。然后使用来自水对干板进行喷淋冲洗约20秒钟，使用风扇进行干燥。

步骤6

涂复感光涂料

使用Meyer线棒涂布机，以2克/米²的干涂料重量涂复二叠氮化醌/酚醛树脂型感光材料，由步骤5制备的干板生产印刷版。感光材料在130℃的温度下干燥80秒钟。

发现步骤6制备的印刷版具有与市售的印刷版可比较的性能。但有利的是本印刷版能够以较低的成本进行生产。

实例2

除了在步骤2中使用了不同的涂料配方之外，一般均按照实例1的步骤。以给定的顺序将下列的组分加入到去离子水(40％重量)中，以制备该配方。在每次加入后，配方进行高切变混合。

组分	％(重量)
		Hombitan LW(商标)-锐钛矿TiO2(平均初级粒度0.2微米)	14.2
Microgrit C3(商标)氧化铝粉(平均初级粒度3微米)	14.2
		图1所示的硅酸钠溶液	31.2

发现所制备的印刷版具有与实例1制备的印刷可比较的性能。

实例3

除了在步骤2中以下列给定的顺序混合下列组分外，一般按照实例2的步骤。

组分	％(重量)
		去离子水	21.51
图2所示的Hombitan LW(商标)	14.15
		图2所示的氧化铝粉	14.15
聚硅酸钠溶液-SiO2∶Na2O的比为5.2∶1和含有22.78％的固体	50.19

发现所制备的印刷版具有与可与实例1制备的印刷版可比较的性能。

实例4

按照实例2的步骤，以下列给定的顺序混合步骤2中下列的组分。

组分	％(重量)
		去离子水	33.29
图2所示的Hombitan LW(商标)	11.83
		图2所示的氧化铝粉	11.83
Bindzil 15/500(商标)-具有平均粒度7纳米的胶体二氧化硅	1.1
		图3所示的聚硅酸钠	41.95

除了亲水层稍有染色斑之外，发现所制备的印刷版具有与实例1所的制备的印刷版可比较的性能。

实例5

一般按照实例2的步骤，以下列给定的顺序混合步骤2中下列的组分。

组分	％(重量)
		去离子水	40
图2所示的Hombitan LW	14.23
		图2所示的氧化铝粉	13.23
Fabutit 748(商标)-磷酸铝	1.0
		实例1的聚硅酸钠	31.5

发现所制备的印刷版具有与实例1所制备的印刷版可比较的性能。

请读者注意所有的论文和文件是与本申请有关的说明书同时提交的，它们对于公众调查本说明书是公开的，所有这些论文和文件的内容均并入本文作为参考文献。

本说明书所公开的所有特点(包括所附的权利要求书，摘要和附图)和/或所公开的任何方法或工艺的所有步骤都可以以任何组合的方式进行组合，但这些特征和/或步骤如至少有一些是相互排斥的组合除外。

本说明书中所公开的每一特征(包括任何所附的权利要求书，摘要和附图)都可以由用于相同、等同或类似目的的另外的特征所替代，除非另作明确说明。因此，除非另作明确说明，每一个公开的特征通常仅是上位系列的等同或类似特征的一个实例。

本发明并不局限于上述实施方案的细节部分。本发明可扩展到本说明书(包括在所附的权利要求书、摘要和附图)所公开的特征的任何新的特征，或这些特征的任何新的组合或者延伸到所公开的任何方法或工艺的步骤的任何新的步骤，或者这些步骤的任何的新的组合。

Claims (22)

1.制备平版印刷元件基底的方法，该方法包括使底板与含有硅酸盐溶液的液体接触从而在底板上形成亲水层的步骤，在硅酸盐溶液中分散有颗粒物。

2.根据权利要求1的方法，其中所述硅酸盐溶液是由硅酸盐形成的，其中硅的摩尔数与阳离子物质摩尔数之比在约0.25-6的范围内。

3.根据权利要求1或2的方法，其中所述硅酸盐溶液是碱金属硅酸盐。

4.根据前述任一权利要求的方法，其中硅酸盐重量与液体中颗粒物重量之比在0.1-2的范围内。

5.根据前述任一权利要求的方法，其中所述颗粒物含有第一物质，第一物质的硬度大于8改性莫氏硬度(硬度标尺0-15)。

6.根据权利要求5的方法，其中所述第一物质的平均粒度至少为0.1微米。

7.根据权利要求5或6的方法，其中所述第一物质包括氧化铝。

8.根据前述任一权利要求的方法，其中所述颗粒包括第二物质。

9.根据权利要求8的方法，其中所述第二物质的平均粒度至少为0.001微米。

10.根据权利要求8或9的方法，其中所述第二物质是一种颜料。

11.根据前述任一权利要求的方法，其中所述颗粒物包括第三物质。

12.根据前述任一权利要求的方法，其中所述液体的pH大于9。

13.根据前述任一权利要求的方法，其中所述液体的粘度小于100厘泊。

14.根据前述任一权利要求的方法，其中所述液体涂复于所述底板上，以形成干燥后具有小于20微米的平均厚度的亲水层。

15.根据前述任一权利要求的方法，其中所述底板包括铝或合金或塑料。

16.根据权利要求1-15的任一权利要求的方法制备的平版印刷元件的基底。

17.包括底板和亲水层的平版印刷元件的基底，包括由硅酸盐溶液和颗粒物得到的或可得到的粘结料。

18.包括底板和亲水层的平版印刷版的基底，包括含有聚合物结构的粘结料，聚合物结构包括-Si-O-Si-部分，其中排列着颗粒物。

19.根据权利要求17或18的基底，包含权利要求1-16中的任一权利要求所述的颗粒物。

20.根据权利要求17-19的任一权利要求的基底，其中所述亲水层的平均厚度小于20微米。

21.根据权利要求17-20的任一权利要求的基底，其中所述亲水层的Ra值在0.1-2微米范围内。

22.根据权利要求17-21的任一权利要求的基底，其中所述亲水层包括1克-20克物质/米²基底。