JP2001525747A - 平板印刷 - Google Patents

平板印刷

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JP2001525747A
JP2001525747A JP55015098A JP55015098A JP2001525747A JP 2001525747 A JP2001525747 A JP 2001525747A JP 55015098 A JP55015098 A JP 55015098A JP 55015098 A JP55015098 A JP 55015098A JP 2001525747 A JP2001525747 A JP 2001525747A
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シンフ バーンブラ,ハージット
マイケル オーガン,ロバート
ディキンソン,ケルヴィン
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コダック ポリクローム グラフィックス カンパニー リミテッド
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    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41NPRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N3/00Preparing for use and conserving printing surfaces
    • B41N3/08Damping; Neutralising or similar differentiation treatments for lithographic printing formes; Gumming or finishing solutions, fountain solutions, correction or deletion fluids, or on-press development

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Abstract

(57)【要約】 支持体、粒子材料が分散されたケイ酸塩液体から誘導された親水性層、および画像層を含有するタイプの印刷部材の選択されたインク受容領域を非インク受容性にする方法であって、該方法が、親水性化手段、適切には、酸および/またはアルカリおよび/または酸化製剤から選択された親水性化手段で、該領域を非インク受容性にするように処理すること、または、該領域を、非インク受容性製剤で被覆することによって、非インク受容性にすることを含有する、方法が記載されている。

Description

【発明の詳細な説明】 平板印刷 本発明は、平板印刷、特にリトグラフ印刷に関し、特に、限定するわけではな いが、インク受容領域を非インク受容性にすることによる、たとえば印刷プレー トなどの、印刷部材上の誤りや他の欠点を正すことに関する。 係続中の我々による特許出願、PCT/GB96/02883は、親水性層上の画 像層と、粒子材料が分散された、Si−O結合を有する材料をベースとしたバイン ダーを含む親水性層とが設けられた支持体を含む印刷プレートを開示している。 本出願人は、このような親水性層はより優位には、種々の支持体材料、たとえば 、金属、たとえばアルミニウム、プラスチック、たとえばポリエステル、さらに は紙等の広範囲にわたって適用可能であることを示した。上記のような親水性層 を含有する印刷プレートは、印刷特性に優れている。しかしながら、問題は、印 刷プレート上の誤りや他の欠点を正す必要に応じて、インク受容領域を非インク 受容性にすることにあることに着目した。 印刷産業においては、ブラシ、ペン、またはその他の手段を用いて、除去すべ き領域に適用可能な削除流体を用いて、所望しない画像材料を除去または削除す ることが公知である。ネガディブプレート用の公知の削除流体は一般的には、有 機溶媒と他の添加剤を組み合わせた、フッ化水素溶液を使用している。フッ化水 素ベースの削除流体は一般的には、非常に良好に画像材料を除去するものである 。しかしながら、出願人は、上記タイプの親水性層を含有するプラスチックプレ ートに関しては、多くのまたは全ての所望しない画像領域に公知の削除流体を適 用すると、非インク受容性になるが、しばしば、非インク受容性であるべきなの にインク受容性になっている、所望しない画像領域に近い、および/または前記 画像領域と関連した領域があることに気付いた。 上記のようなタイプの親水性層に関して、フッ化水素ベースの削除流体の不適 切性は、出願人の知る限り、これまで知られておらず、さらに、フッ化水素ベー スの削除流体を用いて所望しない画像領域を不適切に削除する理由についても研 究されていなかった。 本発明は、商業的に入手可能なフッ化水素ベースの削除流体に伴う問題点の評 価に基づいて、さらには、該問題点の理由の発見に基づいている。特に、商業的 に入手可能なフッ化水素ベースの削除流体は、画像層を攻撃する速度よりも速く 、前記親水性層を攻撃し、したがって、親水性層が削除流体と接触した局在領域 において除去されてしまうことを見い出した。このような局在領域は、(これら が欠けた親水性層を含むため)美的に所望されず、また、これらがほとんど親水 性ではなく、および/または、プレートの他の領域と比較して異なるインク−水 バランスを有し、および/または、これらがより摩損しがちになるため、性能性 の点からも所望しないものである。 本発明よれば、支持体、Si−O結合を有する材料を含む親水性層、および画像 層を含有するタイプの印刷部材の選択されたインク受容領域を非インク受容性に する方法であって、前記方法が、前記親水性層を除去可能な速度よりもより速い 速度で前記領域を非インク受容性にする手段(以後、”前記親水性化手段”)と 、前記領域を、接触させることを含む方法が提供される。 前記親水性層は、前記親水性化手段によって、0.15μm.s-1よりも小さい 速度で、より適切には0.1μm.s-1よりも小さい速度で、好ましくは0.05 μm.s-1よりも、さらに好ましくは0.02μm.s-1よりも小さい速度で、除去 可能である。 前記インク受容領域は、前記親水性化手段との最初の接触から、3分以内に、 適切には2分以内、好ましくは1.5分以内、より好ましくは1分以内、特に好 ましくは30秒以下で、非インク受容性にされることが可能である。 前記インク受容領域を非インク受容性にする速度は、前記親水性層の除去速度 の、少なくとも5倍、好ましくは少なくとも10倍、さらに好ましくは少なくと も20倍、特には少なくとも30倍であることが可能である。 第1実施態様においては、前記親水性化手段との接触で、前記インク受容領域 を除去することによって、前記インク受容領域を非インク受容性にする。 前記インク受容領域は、0.005gm-2s-1よりも大きい、好ましくは0.0 1gm-2s-1よりも大きい、さらに好ましくは0.05gm-2s-1よりも大きい 速度で除去されることが可能である。 前記インク受容領域の厚さは、少なくとも0.4μm、好ましくは少なくとも 0.8μm、さらに好ましくは少なくとも約1μmである。前記インク受容領域の 厚さは、10μmよりも小さく、適切には8μmよりも小さく、好ましくは6μm よりも小さく、さらに好ましくは4μmよりも小さく、特に好ましくは2μm以下 でもよい。 好ましくは、上記方法において、実質的に前記インク受容領域の全厚さが除去 され、したがって、非インク受容性であって、前記親水性層に適切である、下に ある層が表われるものである。 前記親水性化手段は、1以上の酸、および/または、アルカリ、および/また は、酸化製剤を含有可能である。 好ましい酸としては、強酸、たとえば無機酸、たとえば硫酸、硝酸;弱無機酸 、たとえばホスホ酸、たとえばオルトリン酸;および有機酸、たとえばカルボン 酸、たとえば酢酸およびアクリル酸が挙げられる。60%より多い、好ましくは 70%、より好ましくは80%、さらには90%よりも多い前記酸を含有する溶 液が使用可能である。 特に好ましい酸は、硫酸である。 好ましいアルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、およびケイ 酸塩、たとえばケイ酸ナトリウムが挙げられる。 好ましい酸化製剤としては、亜硝酸塩、たとえば亜硝酸ナトリウム;硝酸塩、 たとえば硝酸アルミニウムまたは硝酸カリウム;ハロゲンベースの酸化剤、たと えば過酸、たとえば過塩素酸、ペルハラート、たとえばペルイオダートおよびペ ルクロラート;過酸化水素;遷移金属酸化剤、たとえば過マンガン酸カリウム、 塩化鉄、および酸化クロムVIが挙げられる。 前記親水性化手段は、前記親水性層を柔軟化する手段を含有してもよい。 前記親水性化手段は、1以上の溶媒を含有可能である。適切な溶媒としては、 1以上の水;酸、上記のタイプの適切な酸;および有機溶媒、特にアルコール、 たとえばC1-3アルコールおよび/またはアルコキシアルコール、たとえば2−ブ トキシエタノール、シクロヘキサノン、N−メチルピロリドン、γ−ブチロ ラクトン、DMSO、およびベンジルアルコールが挙げられる。 前記親水性化手段は、増粘剤を含有してもよい。 前記親水性化手段の成分は、共に適用されても、1つが適用された後に他のも のが適用されてもよい。 特に好ましい親水性化手段としては、1以上の硫酸、過酸化水素、硝酸塩、遷 移金属酸化剤、水酸化カリウム、およびケイ酸塩、特にケイ酸ナトリウムが挙げ られる。 第2の実施態様においては、前記親水性化手段との接触で、前記インク受容領 域が該領域を被覆することによって、非インク受容性とされる。この場合、前記 親水性化手段は、前記画像層に結合可能であって、インク受容性である種々の材 料を含有可能である。前記親水性化手段は、直接的に前記インク受容領域に適用 される第1材料と、前記第1材料の上に配される第2材料とを含有可能である。 たとえば、前記第1材料は、前記第2材料を前記インク受容領域に接着するのを 促進するために提供されるものである。 前記第2実施態様の前記親水性化手段は、ケイ酸塩材料;シリコーンベースの 材料;親水性重合性材料、特に有機材料、たとえばゼラチン、PVA、またはPVP; またはゾルまたはゲル材料から選択された1以上の材料を含有可能である。前記 親水性化手段は、以後、集合的に、”結合手段”として称される。 前記親水性化手段は好ましくは、前記領域と接触した後、非流動状態に変換さ れる流体を含有する。たとえば、前記流体は、接触後、フィルムに変換される。 前記親水性化手段は、単層または複数の材料層を含有可能である。 Si−O結合を有する前記印刷プレートの前記親水性層は、100μmよりも小さ い、適切には50μmよりも小さい、好ましくは20μmよりも小さい、より好ま しくは10μmよりも小さい、特には5μmよりも小さい、平均厚さを有していて もよい。いくつかの場合には、前記親水性層は、3μmよりも小さい平均厚さを 有していてもよい。前記親水性層は、0.1μmよりも大きい、適切には0.3 μmよりも大きい、好ましくは0.5μmよりも大きい、より好ましくは1μmよ りも大きい、平均厚さを有していてもよい。 前記親水性層のRaは、英国のレスターにある、”Rank Taylor Hobson Inc.” から提供されている、112/2564−430ヘッドを装備した”Talysurf P lus”を用いて測定可能である。Raは、少なくとも0.2μm、適切には少なくと も0.25μm、好ましくは少なくとも0.3μm、より好ましくは少なくとも0 .35μm、特には少なくとも0.4μmであってもよい。Raは、1.5μmより も小さく、適切には1μmよりも小さく、好ましくは0.8μmよりも小さく、よ り好ましくは0.7μmよりも小さく、特には0.6μmよりも小さく、最も好ま しくは0.5μmよりも小さくてもよい。 前記親水性層は、基板の平方メートルあたり、1から20gの材料を含有可能 である。好ましくは前記層は、基板の平方メートルあたり、3から20gの材料 、好ましくは5から18gの材料を含有可能である。最も好ましくは、前記層は 、基板の平方メートルあたり、8から16gの材料を含有する。 前記親水性層は、結合材料を含有可能である。前記結合材料は好ましくは前記 Si−O結合を有する材料を含有する。前記結合材料は、Si−O結合を有する重合性 材料の成分であってもよい。前記重合性材料は、−Si−O−Si−、特に−Si−O− Si−O−部位を含有可能である。 前記結合材料の少なくとも50重量%、適切には少なくとも60重量%、好ま しくは少なくとも70重量%、さらに好ましくは少なくとも80重量%、特には 少なくとも90重量%が、上記Si−O結合を有する重合性材料から形成されてい る。好ましくは、前記結合材料は、本質的には、上記Si−O結合を有する重合性 材料からなるものである。 前記結合材料は、少なくとも5重量%、好ましくは少なくとも10重量%、さ らに好ましくは少なくとも15重量%、特には少なくとも20重量%の、前記親 水性層からなるものであってもよい。前記結合材料は、50重量%よりも少ない 、好ましくは40重量%よりも少ない、さらに好ましくは30重量%よりも少な い、特には25重量%よりも少ない、前記親水性層からなるものであってもよい 。 前記結合材料は、ケイ酸塩材料、たとえぱ水ガラス、メタケイ酸塩、オルトケ イ酸塩、セスキケイ酸塩、および変性ケイ酸塩、たとえばホウケイ酸塩およびリ ンケイ酸塩から誘導可能であるかまたは誘導されてもよい。前記結合材料は好ま しくは、ケイ酸塩溶液から誘導されるか、誘導可能なものである。 前記結合材料は好ましくは、有機材料、たとえば重合性有機材料を、10重量 %よりも少ない、好ましくは5重量%よりも少ない、さらに好ましくは1重量% よりも少ない量で含有し、特には実質的に含有しないものである。 好ましくは、粒子材料が、前記親水性層中に、その結合材料中に分散させるこ とによって、提供されている。前記親水性層の、適切には30から85重量%、 好ましくは40から80重量%、さらに好ましくは50から80重量%、特には 60から80重量%が、前記粒子材料からなるものである。 前記粒子材料は、有機でも無機でもよい。有機粒子材料は、ラテックスによっ て提供可能である。無機粒子材料は、アルミナ、シリカ、シリコンカーバイド、 硫化亜鉛、ジルコニア、硫酸バリウム、タルク、クレー(たとえばカオリン)、 リトポンおよび酸化チタンから選択可能である。 前記粒子材料は、第1粒子材料を含有可能である。前記第1粒子材料は、8修 飾モース(Modified Mohs)(0から15のスケールで)よりも大きい、好まし くは9修飾モースよりも大きい、より好ましくは10修飾モースよりも大きい硬 度を有するものであってもよい。前記第1材料は、一般的には、球体粒子からな るものであってもよい。または、前記材料は、平板化粒子または板状物であって もよい。前記第1材料は、少なくとも0.1μm、好ましくは少なくとも0.5 μm、さらに好ましくは少なくとも1.0μmの平均粒子径を有していてもよい。 前記第1材料は、200μmよりも小さい、適切には100μmよりも小さい、好 ましくは45μmよりも小さい、さらに好ましく20μmよりも小さい、特には1 0μmよりも小さい、最も好ましく5μmよりも小さい、平均粒子径を有していて もよい。前記第1材料の粒子の95%の粒子径分布は、0.01から150μm の範囲、好ましくは0.05から75μmの範囲、さらに好ましくは0.05か ら30μmの範囲であってもよい。前記第1材料は好ましくは、A12O3 -およびそ の水酸化物を含むアルミナ、たとえば、Al2O3・3H2Oを含有する。好ましくは前 記材料はAl2O3である。 前記親水性層は、少なくとも10重量%、適切には少なくとも20重量%、好 ましくは少なくとも25重量%、さらに好ましくは少なくとも30重量%、特に は少なくとも35重量%の前記第1粒子材料を含有してもよい。前記親水性層は 、 80重量%よりも少ない、適切には70重量%よりも少ない、好ましくは60重 量%よりも少ない、さらに好ましくは50重量%よりも少ない、特には40重量 %よりも少ない、前記第1粒子材料を含有してもよい。 前記第1粒子材料の、結合材料に対する重量%比率は、0.5から2の範囲、 好ましくは1から2の範囲、さらに好ましくは1.4から1.8の範囲であって もよい。 前記粒子材料は、第2粒子材料を含有してもよい。第2粒子材料は、少なくと も0.001μm、適切には0.005μm、好ましくは少なくとも0.01μm 、さらに好ましくは少なくとも0.05μm、特には少なくとも0.1μmの平均 粒子径を有していてもよい。前記第2材料は、200μmよりも小さい、適切に は100μmよりも小さい、好ましくは50μmよりも小さい、さらに好ましく1 0μmよりも小さい、特には1μmよりも小さい、最も好ましくは0.5μmより も小さい平均粒子径を有していてもよい。前記第2材料は好ましくはピグメント である。前記第2材料は好ましくは無機物である。前記第2材料は好ましくは二 酸化チタンである。 前記第1及び第2粒子材料は好ましくは、マルチモード、たとえばバイモード 粒子径分布を有する。 前記第1粒子材料の、前記第2粒子材料に対する重量%比率は、0.3から3 の範囲、好ましくは0.5から2の範囲、さらに好ましくは0.75から1.3 3の範囲、特には、約1:1であってもよい。 前記親水性層は、少なくとも10重量%、適切には少なくとも20重量%、好 ましくは少なくとも25重量%、さらに好ましくは少なくとも30重量%、特に は少なくとも35重量%の前記第2粒子材料を含有してもよい。前記親水性層は 、80重量%よりも少ない、適切には70重量%よりも少ない、好ましくは60 重量%よりも少ない、さらに好ましくは50重量%よりも少ない、特には40重 量%よりも少ない、前記第2粒子材料を含有してもよい。 前記第2粒子材料の結合材料に対する重量%比率は、0.5から2の範囲、好 ましくは1から2の範囲、さらに好ましくは1.4から1.8の範囲であっても よい。 前記親水性層は、支持体、特にプラスチック支持体への付着性を改善するなめ の、1以上の添加材料を含有可能である。好ましい添加材料は、有機性であり、 好ましくは重合性である。樹脂が好ましい。 前記第2実施態様の親水性化手段は、その特性を調節するための添加剤を含有 可能である。たとえば、付着および/または摩耗耐性を促進するため、および/ または選択されたインク受容領域のマスキングを促進するため、および/または 結合手段の乾燥または硬化を促進するための材料を含有してもよい。前記親水性 化手段は、ここに記載した種々のものであってもよい、第1および/まなは第2 粒子材料を含有してもよい。 好ましくは、前記親水性層の前記結合材料と前記親水性化手段の前記結合手段 は、そのいくつかまたは全てが同じ成分を含有するものである。好ましい実施態 様においては、前記親水性層の前記結合材料は、ケイ酸塩材料から誘導され、前 記親水性化手段の前記結合手段もまた、同じケイ酸塩材科から誘導される。親水 性層の組成物の少なくとも50重量%、適切には少なくとも60重量%、好まし くは少なくとも70重量%、さらに好ましくは少なくとも80重量%、特には好 ましくは少なくとも90重量%が、親水性化手段のそれと同様である。 前記支持体は、金属層からなるものであってもよい。好ましい金属としては、 アルミニウム、亜鉛、チタンが挙げられ、アルミニウムが特に好ましい。前記支 持体は前記金属の合金からなるものであってもよい。使用可能な他の合金として は、シンチュウ、スチール、たとえばステンレススチールが挙げられる。 前記支持体は、非金属層からなるものであってもよい。好ましい非金属層とし ては、プラスチックの層、紙等が挙げられる。好ましいプラスチックとしては、 ポリエステル、特にポリエチレンテレフタレートが挙げられる。 前記支持体は、1または複数の層を含有してもよい。支持体が複数の層からな る場合には、支持体はプラスチック、紙、または織物の層、および他の層からな るものであってもよい。前記他の層としては、金属層、適切には、上記のタイプ のものが挙げられる。この場合、前記支持体は、金属がプラスチックまたは紙ラ ミネートに適用されたものであってもよく;金属は、プラスチックまたは紙に他 の手段によって、たとえばスパッタリング等によって、適用可能である。 画像層は、ポジティブまたはネガティブプレートを形成するためにアレンジさ れた種々の公知の感光材料からなるものであってもよい。感光材料の例しては、 ジアゾニウム材料、解重合または添加光重合をおこすポリマー、およびハロゲン 化銀ゼラチンアセンブリが挙げられる。適切な材料の例は、GB 1592281 、GB 2031442、GB 2069164、GB 2080964、GB 210 9573、EP 0377589、US 4268609、およびUS 456713 1に記載されている。前記画像層は好ましくはネガティブプレートを形成するた めにアレンジされるものである。 本発明の第2の主題によれば、印刷用印刷部材の調製方法であって、前記方法 が、部材の選択されたインク受容領域を非インク受容性にすることを含む方法が 提供される。 該方法は好ましくは、たとえば、露光(exposed)していない印刷部材を情報 通りに露光して、前記部材を前記選択されたインク受容領域を非インク受容性に することを定めるように点検することによって、印刷可能な情報を基板に関連さ せる工程を含む。 前記印刷部材は好ましくは、粒子材料が分散したケイ酸塩液体を含有する流体 と支持体とを接触させることによって調製された親水性層を含有する。 前記ケイ酸塩液体は、水ガラス、メタケイ酸塩、オルトケイ酸塩、セスキケイ 酸塩としばしば称される化合物を含有する、種々の溶解性ケイ酸塩の溶液を含有 してもよい。前記ケイ酸塩液体は、変性ケイ酸塩、たとえばホウケイ酸塩および リンケイ酸塩の溶液を含有してもよい。 前記ケイ酸塩液体は、1つの、より好ましくは唯一の、ケイ酸金属または非金 属塩を含有してもよい。ケイ酸金属塩は、ケイ酸アルカリ金属塩であってもよい 。ケイ酸非金属塩は、ケイ酸4級アンモニウム塩であってもよい。 前記ケイ酸塩液体は、Si種、たとえばSiO2のモル数の、カチオンたとえば金属 種のモル数に対する比率が、0.25から10の範囲、好ましくは0.25から 約6の範囲、より好ましくは0.5から4の範囲である、ケイ酸塩から形成可能 である。 前記ケイ酸塩液体は、好ましくはケイ酸アルカリ金属塩である。この場合、Si O2のモル数の前記ケイ酸塩中のM2O(ここで、Mはアルカリ金属を示す)のモル数 に対する比率は、少なくとも0.25、適切には少なくとも0.5、好ましくは 少なくとも1、より好ましくは少なくとも1.5である。特に好ましいのは、前 記比率が少なくとも2.5である場合である。前記比率は、6よりも小さい、好 ましくは5よりも小さい、より好ましくは4よりも小さいものであってもよい。 好ましいケイ酸アルカリ金属塩は、ケイ酸リチウム、ナトリウム、およびカリ ウム塩であり、特にケイ酸リチウムおよび/またはナトリウムが好ましい。ケイ 酸ナトリウムのみを含有するケイ酸塩液体が最も好ましい。 前記流体は、ケイ酸塩を、2から30重量%(たとえば溶解したケイ酸ナトリ ウム固体)、好ましくは5から20重量%、さらに好ましくは8から16重量% 含有してもよい。前記液体は、好ましくは、30から40重量%のケイ酸塩を含 有するケイ酸塩溶液を10から60重量%、好ましくは30から50重量%、さ らに好ましくは、35から45重量%用いて調製可能である。 前記流体は、5から60重量%の粒子材料を含有してもよい。好ましくは、流 体は、粒子材料、10から50重量%、好ましくは15から45重量%、特には 20から40重量%含有可能である。 流体中の粒子材料の重量に対するケイ酸塩の重量の比率は、好ましくは0.1 から2の範囲、より好ましくは0.1から1の範囲である。特に好ましいのは、 前記比率が0.2から0.6の範囲のものである。 前記流体は、20重量%よりも多い、好ましくは30重量%よりも多い、さら に好ましくは40重量%よりも多い、特には45重量%よりも多い水(前記ケイ 酸塩液体中に含有される水を含む)を含有可能である。前記流体は、80重量% よりも少ない、好ましくは70重量%よりも少ない、より好ましくは65重量% よりも少ない、特には約60重量%よりも少ない水を含有可能である。 流体がケイ酸塩を含有し、前記粒子材料が上記第1材料および第2材料を含有 する場合、ケイ酸塩の重量%(たとえば溶解したケイ酸ナトリウム固体)の、前 記第1材料の重量%に対する比率は、0.25から4の範囲、好ましくは0.5 から1.5の範囲、さらに好ましくは約1であってもよい。同様に、ケイ酸塩の 重量%の、前記第2材料の重量%に対する比率は、0.25から4の範囲、好ま しくは0.5から1.5の範囲、さらに好ましくは約1であってもよい。第1材 料の重量%の、前記第2材料の重量%に対する比率は、0.5から2の範囲、好 ましくは0.75から1.5の範囲、さらに好ましくは約1:1であってもよい 。 前記粒子材料は、好ましくは流体のpHを下げるための第3材料を含有してもよ い。前記第3材料は、コロイド、適切にはコロイド状シリカまたは無機塩、適切 にはリン酸塩であってもよく、特にリン酸アルミニウムが好ましい。前記流体中 の全粒子材料の、好ましくは30重量%よりも少ない、より好ましくは20重量 %よりも少ない、特には10重量%よりも少ない量が、前記第3材料によって形 成されてもよい。 前記流体のpHは、9.0よりも大きくてもよく、好ましくは9.5よりも大き く、より好ましくは10.0よりも大きい。特に好ましいのは、pHが10.5よ りも大きいものである。pHは、適切に、ケイ酸塩が溶液中に残存し、ゲルを形成 しないように制御されるものである。ゲルは一般的には、ケイ酸塩のpHが9.0 よりも低くなると形成されるものである。前記流体のpHは、好ましくは、14よ りも小さく、より好ましくは13よりも小さい。 前記流体は、その特性を調整するための他の化合物を含有可能である。たとえ ば、流体は、1以上の界面活性剤を含有可能である。前記流体は、0から1重量 %の界面活性剤を含有してもよい。界面活性剤の適切な例としては、アニオン性 硫酸塩またはスルホン酸塩が挙げられる。流体は液体の粘度を調整するための粘 度ビルダーを含有可能である。前記流体は、0から10重量%の、好ましくは0 から5重量%の粘度ビルダーを含有可能である。また、流体は、流体全体に無機 粒子材料を分散させるための分散剤を含有可能である。前記流体は、0から2重 量%の分散剤を含有可能である。適切な分散剤は、ヘキサメタリン酸ナトリウム であってもよい。 前記流体は、ダブルギャップ測定配置を組み入れた”Mettler Rheomat 180 Vi scometer”を用いて、200s-1のせん断速度で20℃で測定した場合、100 センチポアズよりも小さい粘度を有するものであってもよい。好ましくは、前記 のように測定した場合、前記粘度は、50センチポアズよりも小さい、より好ま しくは30センチポアズよりも小さい。特に好ましいのは、粘度が20センチポ ア ズよりも小さい場合である。 前記流体は、好ましくは非電気化学的である種々の適切な手段によって前記支 持体に適用可能である。 前記流体は、両側に親水性層を形成するために、前記支持体の両側に適用可能 である。両側にこのような層を設けた支持体は、両側リトグラフプレートを調製 するのに使用可能である。または、このような支持体が片側プレート用に使用さ れる場合には、画像層を有していないプレート側は、親水性層によって保護され ていてもよい。前記流体は、好ましくは、前記支持体の1表面のみに適用される ものである。 前記方法においては、水は適切に、適用後、流体から除去される。ケイ酸塩液 体が使用される場合には、これは、ケイ酸塩重合することとなり、したがって、 前記粒子材料と結合するものである。 本発明の第3の主題によれば、前記第1の主題にしたがって調製された非イン ク受容領域を合有する印刷部材が提供される。 本発明の第4の主題によれば、それ自体、印刷部材の選択されたインク受容領 域を非インク受容性にするための新規な、種々の親水性化手段が提供される。 本発明の第5の主題によれば、印刷部材の選択されたインク受容領域を非イン ク受容性にするための、上記親水性化手段の使用が提供される。 本発明の第6の主題によれば、上記印刷部材を用いた印刷方法が提供される。 本発明の第7の主題によれば、印刷部材の選択されたインク受容領域を非イン ク受容性にする方法であって、前記方法が、前記領域を被覆することによって、 前記領域を非インク受容性にする手段(以後、”前記親水性化手段”)と、前記 領域を、接触させることを含む方法が提供される。 ここに記載した発明のあらゆる態様のあらゆる特徴を、ここに記載した発明 のあらゆる態様のあらゆる特徴と組み合わせることができる。 ここに、本発明を実施例によって説明する。 A.リトグラフ印刷プレートの作成 実施例1 工程1 アルミニウムの作成 呼称”AA1050”の0.2mmゲージアルミニウム合金シートを大きさ459mmx5 25mmに切断した。シートを蒸留水に溶解した水酸化ナトリウム溶液(100g/l) 中に常温で60秒、表面を上にして浸漬してから水で完全に洗浄した。 工程2 コーティング調合剤の調製 調製に次の試薬を用いた。 − SiO2:Na2O比の範囲が3.17-3.45(平均約3.3)であるケイ酸ナトリウム溶液 、組成:SiO2;27.1-28.1重量%、Na2O;8.4-8.8重量%、残りは水;密度:約75 トワドル(°Tw)、39.5ボイメ(°Be)相当、比重:1.375。 − 抵抗率が5Mohm・cmの脱イオン水。 − 六角板状Al2O3粉(アルミナ99.6%)。平均粒子径:3μm。粉末の硬度:9Mo h(硬度スケール0-10で)。 − アナターゼ酸化チタン:平均1次粒子径0.2μm。 脱イオン水(150g、40重量%)を250mlビーカーに入れ、”Silverson”高速ミ キサを用いてせん断した。次にせん断を継続しながら二酸化チタン粉末(53.29g 、14.21重量%)を分割して4分間で加えた。次に、せん断を継続しながらアルミ ナ粉末(53.29g、14.21重量%)を分割して4分間で加えた。添加の完了後にケイ 酸ナトリウム溶液(118.43g、31.58重量%)をさらに3分間せん断しながら加え た。溶液の粘度は20℃で測定した時に約10センチポアズ、せん断速度は両空隙測 定配置を組み込んだ”Mettler Rheomat 180”粘度計で測定して200s-1であった 。 工程3 コーティング調合剤の適用 工程2で調合したコーティング剤を工程1で作成したアルミニウムシート上にMe yer回転塗布バー(呼称”K303”)を用いて塗布し、湿りフィルムの厚みを12μm とした。 工程4 調合剤の乾燥 工程3で作成した塗布シートを130℃で80秒オーブンに入れた。プレートをオー ブンから取り出し常温まで冷却させた。 シートのRaは、”LV−50”測定ヘッドを有する”Hommelmeter T2000”を用 いて測定すると0.45μmであった。 工程5 乾燥後の処理 工程4で作成した乾燥シートを硫酸アルミニウム(0.1M)に30秒間浸漬した。 次にシートを水道水と扇風機を使って約20秒噴霧洗浄した。 工程6 光感受性コーティングの塗付 印刷プレートを、工程5で作成したシートから、マイヤーバーを使って、主成 分として”Ronacoat RO300”フォトポリマー(89重量%)および”Ronacoat RO301”センシタイザー(9重量%)を有するネガティブ光感受性材料を乾燥 時塗布重量で1gm-2塗付して印刷プレートを製作した。光感受性材料を100℃で60 秒間乾燥した。 B リトグラフプレートの露光と現像 実施例2 実施例1、工程6のプレートを190露光単位(80mJcm-1と当量)に露光し て、”Horsell Anitec”社から”GOLDSTAR”の商品名で販売されている主活性成 分としてメタケイ酸ナトリウムを含有する現像剤を用いて現像した。 C 削除流体を用いた所望しない画像領域の現像後削除 以下に示す実施例3から10と比較例C1およびC2の流体の種々の流体の、実 施例2に記載したように調製したプレートからの小さい(1.5cmX1.5cm)画像領 域を除去(または削除)する能力が、流体を削除すべき画像領域に適切な手段を 用いて適用し、任意に上記領域を撹拌し、脱脂綿で上記領域を拭き、上記領域 を水道水で濯ぎ、上記領域を評価して、湿らせた脱脂綿を用いて適用した”RAPI DINK”(商品名)を用いて、上記領域にインクを付け、特に流体が画像領域を除 去したか否かを示すために、領域にインクが付いたか否かを目視的に評価するこ とによって、評価された。 実施例3 SiO2(27重量%)と酸化ナトリウム(14重量%)を含有する12.5重量 %のケイ酸ナトリウム溶液を、メタノール中の水酸化カリウム(25重量%)を 含有するアルコール性水酸化カリウムと混合した。前記溶液の3、4滴を削除す べきプレートの領域に適用し、次いで、プレートを80秒間、130℃のオーブ ンに置いた。オーブンから出して、前記プレートを水で濯いだ。 実施例4 水/2−ブトキシエタノール(50/50)を含有する溶媒の薄層を、画像領 域の表面上に刷き、画像領域が柔軟化するように浸透させた。その後、濃硫酸( 98%)を2、3滴、ピペットを用いて適用し、ピペットで混合した。60秒後 、上記領域を上記のように洗浄した。 実施例5 濃硫酸(98%)中に過マンガン酸カリウム(5重量%)を含有する溶液(緑 色)を、薄層として適用した。 実施例7 過酸化水素(30%w/v)を画像領域に適用し、濃硫酸(98%)を滴下した 。 実施例8 濃硫酸(98%)中の硝酸アンモニウム(5重量%)を上記領域に適用した。 実施例9 メタノール中のフッ化アンモニウム(5重量%)を上記領域に適用した。次い で、濃硫酸(98%)を混合しながら滴下した。 実施例10 約70℃の温度で、過酸化水素を上記領域に適用した。 比較例C1 ネガティブプレート用の商業的に入手可能な削除流体を上記領域に適用した。 上記流体は、40%フッ化水素酸(23.5重量%)、PVP増粘剤(15.2重 量%)、および水(28.3重量%)と溶媒としてテトラヒドロフラン(33重 量%)を含有するものである。 比較例C2 ネガティブプレート用の商業的に入手可能な削除流体を上記領域に適用した。 上記流体は、40%フッ化水素酸(8.8重量%)、PVP増粘剤(44.5重量 %)、染料および水(2.2重量%)と溶媒としてシクロヘキサノン(44.5 重量%)を含有するものである。 結果 各例に対して、流体を適用した後でインクを付ける前の画像領域の目視評価; 流体を適用した後の画像領域周辺の領域の目視評価;および流体を適用した後で 雨像領域にインクが付いたか否かの結果を、以下の表1に挙げる。検討 実施例3から10および比較例C1とC2の各々は、画像領域を多かれ少なかれ インク受容性でなくすることが可能であるが、比較例C1およびC2の流体は、除 去されたために、画像領域周辺の基板の親水層もかなり攻撃した。これは、美的 に所望しない、および/または、インク受容性である、および/または、プレー トの残りのところとは相違したインク−水バランスを有する、および/または、 摩耗耐性が減少したと予想される、裸のアルミニウムの露光の結果である。 したがって、比較例C1およびC2の流体は、上記タイプの親水性層を有するプ レートからの削除用には使用不可能である。 D 所望しない画像領域の現像後被覆 実施例11 実施例1、工程2に記載した被覆製剤を、ブラシを用いて、実施例2に記載し たように調製したプレート上の小さい(1.5cmX1.5cm)画像領域に適用した。1 つの実施例では、被覆製剤は80秒間、130℃でオーブン中で硬化させた;も う1つの実施例では、被覆は50℃で50秒間、ファンによる乾燥でおこなった 。 結果 被覆製剤が画像領域を被覆し、画像領域を非インク受容性にした。 本出願に関連する本明細書に先願または併願するすべての文章および書類、本 明細書とともに公衆の便覧に公開されたすべての文書および書類に対して留意さ れ、かかる文書および書類はすべて参照して本明細書の一部をなすものとする。 本明細書(請求の範囲、アブストラクトおよび図面を含めて)に開示されたす べての特徴および/または開示されたプロセスまたは方法のすべての工程は、か かる特徴および/または工程の少なくとも一部が相互に相容れない組合せを例外 として、いかなる組合せの中にも組み合わせることができる。 本明細書に開示されたそれぞれの特徴(請求の範囲、アブストラクトおよび図 面を含めて)は、特に明示の断わりがない限り、目的が同じ、等価なまたは類似 な別の特徴で置き換えることができる。このように特に明示的な断わりのない限 り、開示されたそれぞれの特徴は等価な或いは類似な包括的一連の特徴の一例に 過ぎない。 本発明は上述した実施例の詳細を制限するものでない。本発明は本明細書(請 求の範囲、アブストラクトおよび図面を含めて)に開示されたいかなる新規な特 徴またはその新規な組合せ、或いは開示されたいかなる方法またはプロセスの新 規な工程またはその新規な組合せにも拡張されるものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR, NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,KE,L S,MW,SD,SZ,UG,ZW),EA(AM,AZ ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM),AL ,AM,AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BR, BY,CA,CH,CN,CU,CZ,DE,DK,E E,ES,FI,GB,GE,GH,GM,GW,HU ,ID,IL,IS,JP,KE,KG,KP,KR, KZ,LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV,M D,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,PL ,PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK, SL,TJ,TM,TR,TT,UA,UG,US,U Z,VN,YU,ZW (72)発明者 ディキンソン,ケルヴィン イギリス国 バトリー WF17 9JR バーストル オックスフォード ロード 23

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 支持体、Si−O結合を有する材料を含む親水性層、および画像層を含有す るタイプの印刷部材の選択されたインク受容領域を非インク受容性にする方法で あって、前記方法が、前記親水性層を除去可能な速度よりもより速い速度で前記 領域を非インク受容性にする手段(以後、”前記親水性化手段”)と、前記領域 を、接触させることを含む方法。 2. 前記親水性層が、前記親水性化手段によって、0.15μm.s-1よりも小 さい速度で除去される、請求項1記載の方法。 3. 前記インク受容領域が3分以内に非インク受容性になる、請求項1または 2記載の方法。 4. 前記インク受容領域を非インク受容性にする速度が、前記親水性層の除去 速度の少なくとも5倍である、請求項1ないし3のいずれか1項に記載の方法。 5. 前記親水性化手段との接触によって、前記インク受容領域を0.005gm-2 s-1よりも大きい速度で除去することにより、前記インク受容領域が、非イン ク受容性になる、請求項1ないし4のいずれか1項に記載の方法。 6. 前記親水性化手段が、酸、アルカリ、および酸化製剤の1以上から選択さ れる、請求項1ないし5のいずれか1項に記載の方法。 7. 前記親水性化手段が、強無機酸、弱無機酸、有機酸、水酸化物、ケイ酸塩 、亜硝酸塩、硝酸塩、過酸、ペルハラート、過酸化水素、および遷移金属酸化剤 から選択される、請求項1ないし6のいずれか1項に記載の方法。 8. 前記親水性化手段が、前記親水性層を柔軟にする手段を含有する、請求項 1ないし7のいずれか1項に記載の方法。 9. 前記親水性化手段が、1以上の溶媒を含有する、請求項1ないし8のいず れか1項に記載の方法。 10. 前記親水性化手段との接触によって、前記インク受容領域を被覆するこ とにより、前記インク受容領域を非インク受容性にする、請求項1ないし4のい ずれか1項に記載の方法。 11. 前記Si−O結合を有する材料が、重合性である結合材料の成分である、 請求項1ないし10のいずれか1項に記載の方法。 12. 前記結合材料が少なくとも5重量%の前記親水性層をなす、請求項11 に記載の方法。 13. 前記結合材料がケイ酸塩材料から誘導されたまたは誘導可能なものであ る、請求項11または12に記載の方法。 14. 粒子材料が前記親水性層中に提供されている、請求項1ないし13のい ずれか1項に記載の方法。 15. 前記粒子材料が、少なくとも0.1μmで200μmよりも小さい平均粒 子径を有する第1粒子材料と、少なくとも0.001μmで200μmよりも小さ い平均粒子径を有する第2粒子材料とを含有する、請求項14に記載の方法。 16. 印刷用印刷部材の調製方法であって、印刷部材が好ましくは、粒子材料 が分散したケイ酸塩液体を含有する流体と支持体を接触させることによって調製 された親水性層を含有し、前記方法が、前記部材の選択されたインク受容領域を 非インク受容性にすることを含む、方法。 17. 請求項1ないし15のいずれか1項により調製された非インク受容領域 を含む印刷部材。 18. 支持体、Si−O結合を有する材料を含む親水性層、および画像層を含有 するタイプの印刷部材の選択されたインク受容領域を非インク受容性にするため の、新規な親水性化手段。 19. 印刷部材の選択されたインク受容領域を非インク受容性にするための、 請求項1ないし15のいずれか1項に記載の親水性化手段の使用。 20. 請求項1ないし16のいずれか1項に記載の印刷部材を使用する、印刷 方法。 21. 印刷部材の選択されたインク受容領域を非インク受容性にする方法であ って、前記方法が、前記領域を被覆することによって、前記領域を非インク受容 性にする手段(以後、”前記親水性化手段”)と、前記選択された領域を、接触 させることを含む方法。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6701843B2 (en) * 2000-09-18 2004-03-09 Agfa-Gevaert Method of lithographic printing with a reusable substrate
US6893798B2 (en) * 2000-11-21 2005-05-17 Agfa-Gevaert Method of lithographic printing with a reusable substrate
WO2002087882A1 (fr) * 2001-04-26 2002-11-07 Mitsubishi Chemical Corporation Methode et dispositif de traitement et d'impression regeneratifs
US20040025729A1 (en) * 2002-08-06 2004-02-12 Howard Fromson Method and apparatus for imaging a lithographic printing plate
EP2194429A1 (en) * 2008-12-02 2010-06-09 Eastman Kodak Company Gumming compositions with nano-particles for improving scratch sensitivity in image and non-image areas of lithographic printing plates

Family Cites Families (54)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE112615C (ja)
BE507657A (ja) * 1950-12-06
US3181460A (en) 1960-02-05 1965-05-04 Oxford Paper Co Paper offset plate for photographic transfer and direct image printing
FR1349278A (fr) * 1961-11-18 1964-01-17 Kalle Ag Agent de correction et procédé de retouche pour les formes d'impression
NL285250A (ja) 1961-11-18
US3181461A (en) 1963-05-23 1965-05-04 Howard A Fromson Photographic plate
US3470013A (en) * 1966-02-18 1969-09-30 Hercules Inc Coated plastic
NL6918761A (ja) 1968-12-30 1970-07-02
US3592137A (en) 1969-01-29 1971-07-13 Columbia Ribbon & Carbon Planographic printing plates
US3640221A (en) 1970-02-11 1972-02-08 Litton Business Systems Inc Planographic printing plate
GB1439127A (en) 1972-06-08 1976-06-09 Alcan Res & Dev Production of lithographic plates
DE2263957C3 (de) * 1972-12-29 1979-06-21 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Korrekturmittel für auf photomechanischem Wege hergestellte Druckformen
US3971660A (en) 1974-04-04 1976-07-27 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate comprising hydrophilic layer of polyvinylacetate crosslinked with tetraethylorthosilicate
US3963594A (en) 1975-06-03 1976-06-15 Aluminum Company Of America Electrochemical treatment of aluminum surfaces with an aqueous solution of hydrochloric acid and gluconic acid
US4065364A (en) 1976-01-21 1977-12-27 Fromson H A Process for anodizing aluminum
US4052275A (en) 1976-12-02 1977-10-04 Polychrome Corporation Process for electrolytic graining of aluminum sheet
JPS5928326B2 (ja) 1976-12-02 1984-07-12 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
US4072589A (en) 1977-04-13 1978-02-07 Polychrome Corporation Process for electrolytic graining of aluminum sheet
DE2808928A1 (de) * 1978-03-02 1979-09-06 Hoechst Ag Korrekturmittel fuer lichtgehaertete kopierschichten
CA1119447A (en) 1978-09-06 1982-03-09 John P. Vikesland Positive-acting photoresist composition containing a crosslinked urethane resin, a cured epoxy resin and a photosensitizer
JPS55121447A (en) * 1979-03-15 1980-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd Lithographic printing plate correcting agent
US4268609A (en) 1979-07-16 1981-05-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Process for preparing photosensitive lithographic printing plate precursor
JPS5662253A (en) 1979-10-25 1981-05-28 Toray Ind Inc Damping water nonrequiring lithographic master material
JPS5684994A (en) 1979-12-11 1981-07-10 Ricoh Co Ltd Offset master
JPS56111852A (en) 1980-02-08 1981-09-03 Fuji Photo Film Co Ltd Plate making method
AU544060B2 (en) 1980-07-28 1985-05-16 Polychrome Corp. Accelerated diazo sensitised
US4330605A (en) 1981-01-21 1982-05-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photolithographic receptor sheet
US4420549A (en) 1981-09-08 1983-12-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Lithographic substrate and its process of manufacture
US4457971A (en) 1981-09-08 1984-07-03 Minnesota Mining And Manufacturing Company Lithographic substrate and its process of manufacture
US4542089A (en) 1981-09-08 1985-09-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Lithographic substrate and its process of manufacture
AU9012082A (en) 1981-11-06 1983-05-12 Polychrome Corp. Light sensitive composition
JPS59101651A (ja) 1982-12-02 1984-06-12 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
GB8318686D0 (en) 1983-07-11 1983-08-10 Vickers Plc Lithographic printing plates
JPS61102650A (ja) * 1984-10-25 1986-05-21 Nippon Seihaku Kk 平版印刷支持体層形成用組成物
JPS63268642A (ja) 1987-04-28 1988-11-07 Showa Alum Corp 平版印刷用版材の製造方法
US4778616A (en) * 1987-06-01 1988-10-18 Hoechst Celanese Corporation Scratch corrector for lithographic printing plates
GB8720424D0 (en) 1987-08-28 1987-10-07 Horsell Graphic Ind Ltd Pre-sensitized lithographic printing plate production
US4974513A (en) 1988-09-01 1990-12-04 Ricoh Company, Ltd. Thermal direct master
JP2799583B2 (ja) * 1989-03-23 1998-09-17 株式会社日研化学研究所 オフセット印刷用電子写真版の画線部消去修正液
US5171650A (en) 1990-10-04 1992-12-15 Graphics Technology International, Inc. Ablation-transfer imaging/recording
GB9003079D0 (en) 1990-02-12 1990-04-11 Alcan Int Ltd Lithographic plates
EP0517960B1 (en) * 1991-06-10 1995-09-13 Agfa-Gevaert N.V. Correction fluid for a diazo-based lithographic printing plate
JP2944296B2 (ja) * 1992-04-06 1999-08-30 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版の製造方法
AU4977693A (en) 1992-09-10 1994-03-29 Horsell Graphic Industries Ltd Printing plate
US5881645A (en) 1992-09-10 1999-03-16 Lenney; John Richard Method of thermally spraying a lithographic substrate with a particulate material
US5342435A (en) * 1992-09-25 1994-08-30 Eastman Kodak Company Scratch remover and desensitizer composition for use with lithographic printing plates
EP0619524B1 (en) 1993-04-05 1999-08-04 Agfa-Gevaert N.V. A lithographic base and a method for making a lithographic printing plate therewith
EP0619525B1 (en) 1993-04-05 1999-03-17 Agfa-Gevaert N.V. A lithographic base and a method for making a lithographic printing plate therewith
DE69324000T2 (de) 1993-04-05 1999-10-14 Agfa-Gevaert N.V. Lithographischer Träger und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform
EP0653685A1 (en) 1993-11-16 1995-05-17 Agfa-Gevaert N.V. Methods for producing lithographic plates with imaging elements comprising a photopolymerizable composition
US5736256A (en) * 1995-05-31 1998-04-07 Howard A. Fromson Lithographic printing plate treated with organo-phosphonic acid chelating compounds and processes relating thereto
RU2161091C2 (ru) * 1995-11-24 2000-12-27 Хорселл Грэфик Индастриз Лимитед Гидрофилизованная основа печатных форм для плоской печати и ее получение
US5945262A (en) * 1995-12-14 1999-08-31 Agfa-Gevaert, N.B. Correcting liquid for a silver imaged lithographic printing plate
GB9624224D0 (en) * 1996-11-21 1997-01-08 Horsell Graphic Ind Ltd Planographic printing

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