KR101012277B1

KR101012277B1 - 감열성 평판 인쇄판용 판면 처리액 및 감열성 평판 인쇄판의 인쇄 방법

Info

Publication number: KR101012277B1
Application number: KR1020080115047A
Authority: KR
Inventors: 유지 다까가미; 요시히또 오하시; 고이찌 아가따
Original assignee: 미쓰비시 세이시 가부시키가이샤
Priority date: 2008-11-19
Filing date: 2008-11-19
Publication date: 2011-02-07
Also published as: KR20100056070A

Abstract

본 발명은 서멀 헤드에 의한 직접 묘화 방법에 대응하여, 폐액의 발생이 없고 명실하에서의 작업성이 매우 우수한 감열성 평판 인쇄판의 인쇄시에, 인출시의 오염이나 망점 쉐도우부의 오염성이 개선되고, 또한 화상부 인출시의 잉크의 인자(印字)에 지장을 주지 않는 것을 가능하게 하는 감열성 평판 인쇄판용 판면 처리액을 제공한다.

또한, 지지체 상에 친수성 수지와 열용융성 미립자를 함유하는 층을 최표층으로서 설치하여 이루어지는 감열성 평판 인쇄판을 화상 모양으로 가열함으로써 화상부로 하고, 비화상부를 제거하지 않고 오프셋 인쇄를 행하는 감열성 평판 인쇄판의 판면에 인쇄 개시전에 부여하는 판면 처리액이며, SiO₂로서 0.1 내지 10 질량％의 콜로이달 실리카를 함유하는 것을 특징으로 하는 감열성 평판 인쇄판용 판면 처리액에 관한 것이다.

감열성 평판 인쇄판용 판면 처리액, 오프셋 인쇄, 콜로이달 실리카, 오염성, 인자성

Description

감열성 평판 인쇄판용 판면 처리액 및 감열성 평판 인쇄판의 인쇄 방법 {LITHOGRAPHIC SURFACE PROCESSING SOLUTION FOR HEAT-SENSITIVE LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND PRINTING METHOD OF HEAT-SENSITIVE LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE}

본 발명은 높은 해상성을 갖는 화상을 얻는 것이 가능하고, 또한 명실하에서의 취급이 가능하며, 제판에 관해서 처리액을 필요로 하지 않고 그대로 인쇄를 제공할 수 있는 감열성 평판 인쇄판용의 판면 처리액, 및 그의 감열성 평판 인쇄판의 인쇄 방법에 관한 것이다.

컴퓨터 정보로부터의 디지털 신호에 기초하여, 평판 인쇄판을 제판하는 CTP(컴퓨터 투 플레이트; computer to plate) 인쇄판은 레이저를 이용하여 직접 감광 재료를 노광하고, 현상액을 이용하여 현상 처리를 행하는 것이 일반적으로 행해지고 있다. 그러나, 현상 처리에 따라 발생하는 폐액의 처리가 환경 부하로 된다. 최근에는 지구 환경 보호를 중시하는 시장의 요망이 강하고, 인쇄판 제판 시스템에 대해서도 개선이 강하게 요망되고 있다.

따라서, 현상 처리 등에서 처리액을 사용하지 않고 평판 인쇄판을 제판하는 방법이 다수 제안되어 있다. 이들은 액체를 이용한 현상 처리를 행하지 않음으로써 무처리(processless) 인쇄판으로 불리고 있고, 이 타입의 인쇄판으로서는 레이저광을 이용한 어블레이션(ablation)에 의해 화상부 또는 비화상부를 제거하는 타입이나, 잉크젯 방식으로 화상부를 형성하는 타입, 열용융성이나 열가소성의 미립자를 이용하여 화상부를 형성하는 타입 등이 제안되어 있다. 그러나, 어블레이션을 이용한 타입으로서는 어블레이션된 표층의 비산물에 의한 노광 장치 내부의 오염이 문제로 되어 있다. 잉크젯 방식에 의한 타입으로서는 잉크 수리층을 최외측 표면에 갖는 인쇄판 표면에 화상 형성 물질, 즉 소수성 물질을 액상으로서 토출하여, 잉크 수리층에 잉크 착탄 후, 고화, 또는 광 또는 열에 의해 경화시킨다. 따라서, 토출 노즐 출구에서의 고화 또는 경화가 발생하기 쉽고 노즐의 막힘에 의한 제판 불안정성의 문제가 있다.

열용융성의 미립자를 이용하는 타입으로 특히 열에 의해 화상 형성된 후에 인쇄기 상에서 비화상부를 박리하는 타입으로서는, 인쇄기 상에서 비화상부가 박리되기 때문에, 잉크 롤러 등으로의 박리물의 퇴적이 문제가 된다.

한편, 비화상부를 제거하지 않고 그대로 인쇄 가능한 타입도 제안되어 있고, 예를 들면 특허 문헌 1에 기재된 감열성의 평판 인쇄판 등이 있다. 이와 같은 감열성 평판 인쇄판은 지지체 상에 친수성 수지와 열용융성 미립자를 함유하는 층을 최표층으로서 갖고 있고, 현상에 기인하는 폐액도 없으며 또한 레이저 묘화 장치에 비교하여 염가인 서멀 헤드를 이용할 수 있기 때문에 간편한 인쇄판 시스템으로서 유효하다. 그러나, 상기 감열성 평판 인쇄판은 친수성인 감열층을 화상 모양으로 가열하여, 그 가열 부분을 잉크 수리성을 갖는 화상부로서 이용하는 한편, 미가열부를 친수성의 비화상부로서 이용하기 때문에, 비화상부에도 잉크 수리성이 되는 물질이 그대로 잔존하고 있다. 이 때문에 인쇄 조건에 따라서는 인쇄 오염이 발생하기 쉽다는 문제가 있었다.

특히, 상기 감열성 평판 인쇄판을 서멀 헤드를 이용한 직접 감열 방식으로 사용하는 경우에는 비인자부(비화상부)도 서멀 헤드와 접촉하기 때문에, 미약하지만 흐림이 발생하고, 인쇄 조건에 따라서는 인쇄 개시(인출시)의 판면 오염이나, 망점 쉐도우부의 오염성이 다른 타입의 평판 인쇄판에 비교하여 떨어지는 등의 인쇄성에서의 문제점이 생기는 경우가 있었다. 또한, 예를 들면, 일반적으로 오염성이 개선된다고 하는 급습액(특허 문헌 2)을 적용하더라도, 판면에 공급하는 급습액을 과잉으로 공급하지 않으면 오염성의 개선이 얻어지지 않고, 또한 동시에 화상부의 잉크의 인자(印字)가 악화되는 경향이 강해져, 적정한 인쇄물을 얻을 수 있을 때까지 다량의 손지(損紙)가 발생한다는 문제가 있었다.

<특허 문헌 1> 일본 특허 공개 제2001-180144호 공보

<특허 문헌 2> 일본 특허 공개 (평)5-301481호 공보

상기 문제를 감안하여 본 발명의 과제는 폐액의 발생이 없고 명실하에서의 작업성이 매우 우수한 감열성 평판 인쇄판의 인쇄시에, 인쇄성, 특히 인출시의 오염이나 망점 쉐도우부의 오염성이 개선되고, 또한 화상부 인출시의 잉크의 인자에 지장을 주지 않는 것을 가능하게 하는 감열성 평판 인쇄판용 판면 처리액 및 감열성 평판 인쇄판의 인쇄 방법을 제공하는 데에 있다.

본 발명의 상기 목적은 이하에 기재된 감열성 평판 인쇄판용 판면 처리액 및 감열성 평판 인쇄판의 인쇄 방법에 의해서 달성할 수 있음을 발견하였다.

·지지체 상에 친수성 수지와 열용융성 미립자를 함유하는 층을 최표층으로서 설치하여 이루어지는 감열성 평판 인쇄판을 화상 모양으로 가열함으로써 화상부로 하고, 비화상부를 제거하지 않고 오프셋 인쇄를 행하는 감열성 평판 인쇄판의 판면에 인쇄 개시전에 부여하는 판면 처리액이며, SiO₂로서 0.1 내지 10 질량％의 콜로이달 실리카를 함유하는 것을 특징으로 하는 감열성 평판 인쇄판용 판면 처리액.

·지지체 상에 친수성 수지와 열용융성 미립자를 함유하는 층을 최표층으로서 설치하여 이루어지는 감열성 평판 인쇄판을 화상 모양으로 가열함으로써 화상부로 하고, 비화상부를 제거하지 않고 오프셋 인쇄를 행하는 감열성 평판 인쇄판의 인쇄 방법이며, 인쇄 개시전에 SiO₂로서 0.1 내지 10 질량％의 콜로이달 실리카를 함유하는 판면 처리액을 판면에 부여하고, 그 후에 인쇄를 개시하는 것을 특징으로 하는 감열성 평판 인쇄판의 인쇄 방법.

본 발명에 따르면, 폐액의 발생이 없고 명실하에서의 작업성이 매우 우수하 며, 특히 인출시의 오염이나 망점 쉐도우부의 오염에 대하여 우수하고, 또한 화상부 인출시의 잉크의 인자에 지장을 주지 않는 것을 가능하게 하는 감열성 평판 인쇄판용 판면 처리액 및 감열성 평판 인쇄판의 인쇄 방법을 제공할 수 있다.

본 발명에 이용되는 감열성 평판 인쇄판은 지지체 상에 폴리비닐알코올이나 젤라틴 등의 친수성 수지를 결합제로서 이용하고, 라텍스 등의 열용융성의 미립자를 함유하는 층을 최표층으로서 갖는다. 또한, 최표층이나 필요에 따라서 설치되는 다른 층에 화상부 시인성을 위해 감열성 발색 소재(감열성 색소, 현색제)나 광열 변환제를 함유할 수 있다. 이와 같은 감열성 평판 인쇄판의 최표층은 열이 가해지지 않는 경우(비화상부)에는 친수성을 유지하지만, 열이 가해지면 그 부위는 포함되는 열용융성의 미립자가 서로 또한 결합제와도 용융하여, 가열된 부분이 전체로서 소수성으로 변환하도록 되어있다. 따라서, 본 발명에 관계되는 감열성 평판 인쇄판에서는 열이 가해진 부분이 소수성으로 변환하기 위해서 인쇄시에 잉크를 수리하는 것이 가능해진다. 그러나, 열이 가해지고 있지 않은 비화상부에서도, 소수성의 열용융성의 미립자가 존재하고 있어, 층 전체로서의 친수성은 저하되게 된다. 이 때문에 인쇄 개시전에, 보수성이 높은 콜로이달 실리카를 함유하는 판면 처리액을 사전에 친수성층에 포함시켜 놓음으로써 인쇄 오염의 발생을 억제할 수 있다. 그러나, 콜로이달 실리카를 지나치게 포함시키면, 반대로 잉크의 인자를 저해하여 인쇄에 악영향을 초래할 우려가 있다. 특히, 콜로이달 실리카의 농도가 높으면 점성이 상승하여 유동성이 저하되기 때문에, 화상부에 콜로이달 실리카가 부 착되어 잉크의 유화가 진행되거나, 친수성층에 균일하게 부여할 수 없고, 안정된 인쇄를 하기 어려운 등의 문제점이 생길 우려가 있다. 이 때문에 콜로이달 실리카의 함유 농도를 적절하게 할 필요가 있다. 콜로이달 실리카의 함유 농도에 대해서는 후술하는 바와 같다. 또한, 감열성 평판 인쇄판의 판면으로의 판면 처리액의 부여량으로서는, 적절한 범위로서 1 내지 10 g/㎡, 보다 바람직하게는 1 내지 5 g/㎡의 범위이다.

본 발명에 이용되는 판면 처리액에 대해서 설명한다. 본 발명에 이용하는 판면 처리액이 함유하는 콜로이달 실리카는, 특히 물에 분산 안정되기 쉬운 0.1 ㎛ 이하의 입경을 갖는 것이 바람직하다. 이와 같은 콜로이달 실리카로서는, 예를 들면 닛산 가가꾸 고교 가부시끼가이샤로부터 스노텍스의 상품명으로 각종 콜로이달 실리카가 제안되어 있고, 스노텍스 XS, 스노텍스 XL, 스노텍스 YL, 스노텍스 ZL, 스노텍스 MP-2040, 스노텍스 C 등이 바람직하게 사용될 수 있다. 함유 농도는 농도가 높으면 화상부의 잉크의 인자가 저해되어, 인출시의 손지가 많아지고, 농도가 낮으면 친수성 부여의 효과를 얻기 어렵게 되기 때문에, 비화상부의 오염이나 망점 쉐도우부의 막힘이 발생하여, 결과로서 손지가 증대한다. 따라서, 본 발명에 이용하는 판면 처리액은 Si0₂로서 0.1 내지 10 질량％의 콜로이달 실리카를 함유한다. 바람직하게는 0.3 내지 3 질량％의 범위이다.

본 발명에 이용되는 판면 처리액은 물을 주체로서 상술한 콜로이달 실리카를 함유하지만, 그 외에 포함될 수 있는 성분(함유물)으로서는 최표층으로의 부여성을 고려하여 표면 장력을 조정하기 위한 계면활성제, 비화상부의 불감지화를 촉진하는 친수성 조성물, pH 완충제, 습윤제, 보존제, 착색제 등을 들 수 있다. 이들 함유물의 구체예로서는, 계면활성제로서는 음이온성, 양이온성 또는 비이온성의 계면활성제류, 친수성 조성물로서는 아라비아 고무, 카르복시메틸셀룰로오스, 알긴산나트륨, 폴리비닐피롤리돈, 폴리비닐이미다졸, 폴리비닐메틸에테르와 무수 말레산 공중합물, 카르복시메틸스타치, 알긴산암모늄, 알긴산옥시다이도셀룰로오스, 메틸셀룰로오스 등의 유기물, 실리카, 알루미나, 산화티탄 등의 무기 미립자류를 들 수 있다. 또한, pH 완충제로서는, 예를 들면 황산나트륨, 황산암모늄 등의 황산염, 인산, 질산, 아질산, 탄닌산 및 이들의 염을 들 수 있다. 습윤제로서는 히드록실기를 2개 이상 갖는 폴리올 화합물(폴리에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 글리세롤, 디에틸렌글리콜, 헥실렌글리콜 등)을 들 수 있다. 그 외에 복합적인 성분으로서, 유기의 약산(시트르산, 숙신산, 타르타르산, 아디프산, 아스코르빈산, 프로피온산 등), 폴리아크릴산, 중크롬산 암모늄, 크롬명반, 알긴산프로필렌글리콜에스테르, 아미노폴리카르복실산염(에틸렌디아민사아세트산나트륨염 등), 일본 특허 공개 (소)64-38292호 공보에 기재되어 있는 바와 같은 중합체, 이미노2아세트산, 에틸렌디아민사아세트산 등의 킬레이트제 등을 들 수 있다.

본 발명의 인쇄 방법에 있어서는 상술한 판면 처리액을 인쇄 개시전에 판면에 부여하지만, 이 방법으로서는 탈지면 등에 판면 처리액을 함침시켜 핸드 에칭을 행하는 방법, 일정량의 판면 처리액을 바코터로 도포하는 방법, 판면 처리액을 저류시킨 액욕에 침지시켜 롤쌍에 의해 잉여의 판면 처리액을 교액하는 바와 같은 에 칭 컨버터를 이용하는 방법 등을 적용할 수 있다. 판면 처리액을 부여하는 타이밍은 인쇄판을 인쇄기에 장착(판 걸기)하고 나서, 인쇄를 개시하기까지의 사이, 또는 판을 걸기 직전이 바람직하다. 일단 부여한 판면 처리액이 건조하면 본 발명의 효과가 희박해질 경우가 있기 때문에, 판면에 부여한 판면 처리액이 건조하기 전에 인쇄를 개시하는 것이 바람직하다. 따라서, 실제의 인쇄 공정에 있어서 바람직하게는 인쇄기에 인쇄판을 장착하고 나서 부여하는 것이고, 보다 효과가 명확해진다.

다음으로 본 발명에 관계되는 감열성 평판 인쇄판에 대해서 상세히 설명한다. 본 발명에 관계되는 감열성 평판 인쇄판은 친수성 수지와 열용융성 미립자를 함유하는 층을 최표층으로서 설치하여 이루어진다. 물론 상기 층만 단층으로의 구성이라도 상관없고, 하층으로서 시인성을 얻기 위한 감열 발색층이나 친수성의 무기 미립자 등을 포함하는 친수성 향상을 위한 층이나 후술하는 지지체와의 접착성을 향상시키기 위한 층 등을 도설하더라도 상관없다.

본 발명의 최표층이 함유하는 친수성 수지에 대해서 설명한다. 이 친수성 수지로서는 인쇄 중에 물을 유지하고, 또한 층으로서 존재할 수 있는 결합제적 요소를 갖는 것이면 유효하게 사용할 수 있다. 구체적으로는 하기와 같은 예를 들 수 있다.

천연물로서는 전분류, 해초만난, 한천 및 알긴산나트륨 등의 해초류로부터 얻어지는 것, 만난, 펙틴, 트래거캔스검, 카라야검, 크산틴껌, 구아빈검, 로커스트빈검, 아라비아검 등의 식물성 점물질, 덱스트란, 굴칸, 크산탄검, 및 레반 등의 호모 다당류, 숙시노글루칸, 플루란, 커들란, 및 잔탄검 등의 헤테로 다당 등의 미 생물 점질물, 아교, 젤라틴, 카제인 및 콜라겐 등의 단백질, 키틴 및 그의 유도체 등을 들 수 있다.

또한, 반천연물(반합성물)류로서는 셀룰로오스 유도체, 카르복시메틸구아검 등의 변성검, 및 덱스트린 등의 배소 전분류, 산화 전분류, 에스테르화 전분류 등의 가공 전분 등을 들 수 있다.

합성품에는 폴리비닐알코올, 부분 아세탈화폴리비닐알코올, 알릴변성폴리비닐알코올 등의 변성폴리비닐알코올류, 폴리비닐메틸에테르, 폴리비닐에틸에테르, 폴리비닐이소부틸에테르 등의 변성폴리비닐에테르류, 폴리아크릴산염, 폴리아크릴산에스테르 부분 검화물, 폴리메타크릴산염, 및 폴리아크릴아마이드 등의 폴리아크릴산 유도체 및 폴리메타크릴산 유도체, 폴리에틸렌글리콜, 폴리에틸렌옥시드, 폴리비닐피롤리돈, 비닐피롤리돈/아세트산비닐 공중합물, 카르복시비닐 중합물, 스티렌/말레산 공중합물, 스티렌/크로톤산 공중합물, 일본 특허 공개 제2006-247937호 공보에 기재된 P 1 내지 P 24로서 예시되는 수용성 중합체 등을 들 수 있다.

이들은 단독이거나 복수의 조합으로도 유효하게 사용할 수 있다. 또한, 내인쇄성을 향상시킬 목적으로 적절하게 가교제를 이용할 수도 있다. 이들 친수성 수지 중에서도, 젤라틴, 변성 또는 미변성의 폴리비닐알코올, 및 셀룰로오스 유도체가 유리하게 사용될 수 있다. 특히, 젤라틴을 이용하는 것은 보수성과 강도의 균형이 우수하기 때문에 바람직하다.

본 발명에 관계되는 감열성 평판 인쇄판에 이용하는 젤라틴으로서는 동물의 콜라겐을 원료로 한 젤라틴이면 전부 사용할 수 있지만, 돼지가죽, 쇠가죽 및 소골 로부터 얻어지는 콜라겐을 원료로 한 젤라틴이 바람직하다. 또한, 젤라틴의 종류도 특별히 제한은 없지만, 석회처리 젤라틴 및 산처리 젤라틴 외에, 일본 특허 공고 (소)38-4854호 공보, 일본 특허 공고 (소)39-5514호 공보, 일본 특허 공고 (소)40-12237호 공보 및 일본 특허 공고 (소)42-26345호 공보, 미국 특허 제2,525,753호 명세서, 미국 특허 제2,594,293호 명세서, 미국 특허 제2,614,928호 명세서, 미국 특허 제2,763,639호 명세서, 미국 특허 제3,118,766호 명세서, 미국 특허 제3,132,945호 명세서, 미국 특허 제3,186,846호 명세서, 미국 특허 제3,312,553호 명세서, 영국 특허 제1,033,189호 명세서 등에 기재된 젤라틴 유도체 등을 들 수 있고, 이들은 1종 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.

특히, 젤라틴을 이용하는 경우에는 젤라틴 경막제로 경화하는 것이 바람직하다. 젤라틴 경막제로서는, 예를 들면 크롬명반과 같은 무기 화합물, 포르말린, 글리옥살, 말레알데히드, 글루타르알데히드와 같은 알데히드류, 요소나 에틸렌요소 등의 N-메틸올 화합물, 무코 클로르산, 2,3-디히드록시-1,4-디옥산과 같은 알데히드류 연화합물, 2,4-디클로로-6-히드록시-S-트리아진염이나, 2,4-디히드록시-6-클로로-S-트리아진염과 같은 활성 할로겐을 갖는 화합물, 디비닐술폰, 디비닐케톤이나 N,N,N-트리아크릴로일헥사히드로트리아진, 활성인 삼원환인 에틸렌이미노기나 에폭시기를 분자 중에 2개 이상 갖는 화합물류, 고분자 경막제로서의 디알데히드 전분 등의 다양한 화합물의 1종 또는 2종 이상을 이용할 수 있다.

본 발명의 최표층이 함유하는 열용융성 미립자에 대해서 설명한다. 본 발명에 관계되는 열용융성 미립자란, 가열함으로써 용융 또는 서로 융착하는 것으로, 미립자상 형태로부터 변화하고 일체화하는 것이다. 구체적으로는 열가소성 수지류의 미립자화된 것으로, 고체 또는 수 분산된 것이면 사용할 수 있다. 예로서는 수계 용매에 분산 가능한 중합체 라텍스 등을 들 수 있다. 이들 분산 상태의 예로서는 수불용인 소수성 중합체의 미립자가 분산하고 있는 것이나, 중합체 분자가 분자 상태 또는 미셀을 형성하여 분산하고 있는 것 등을 가리키지만 모두 바람직하다. 이들 평균 입경은 1 내지 50000 nm가 바람직하고, 5 내지 1000 nm가 보다 바람직하다. 중합체 라텍스의 입경 분포에 관해서는 특별히 제한은 없고, 넓은 입경 분포를 갖는 것이거나, 단분산의 입경 분포를 갖는 것일 수도 있다.

보다 구체적으로는, 예를 들면 폴리프로필렌, 폴리부타디엔, 폴리이소프렌, 폴리스티렌, 에틸렌-부타디엔 공중합체 등의 디엔(공)중합체류, 스티렌-부타디엔 공중합체, 메틸메타크릴레이트-부타디엔 공중합체, 아크릴로니트릴-부타디엔 공중합체 등의 합성 고무류, 폴리메틸메타크릴레이트, 메틸메타크릴레이트-메타크릴산 공중합체, 메틸아크릴레이트-(N-메틸올아크릴아미드) 공중합체, 폴리아크릴로니트릴 등의 (메트)아크릴산에스테르, (메트)아크릴산 공중합체, 폴리아세트산비닐, 아세트산비닐-프로피온산비닐 공중합체, 아세트산비닐-에틸렌 공중합체 등의 비닐에스테르(공)중합체, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리스티렌 등 및 이들의 공중합체, 파라핀류나 왁스류를 들 수 있다. 이들 열용융성 미립자류는 필요에 따라서 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있고, 또한 복수의 층일 수도 있다. 또한, 열이 가해졌을 때에 자기 가교하는 수지가 특히 바람직하다. 본 발명에 관계되는 감열성 평판 인판의 최표층에 함유되는 양으로서는, 이용되는 친수성 수지와의 균형, 원하는 감도에 따라 최적화되지만, 0.01 내지 10 g/㎡의 범위일 수 있고, 바람직하게는 0.1 내지 5 g/㎡이다. 보다 바람직하게는 0.5 내지 2 g/㎡이다.

본 발명에 관계되는 감열성 평판 인쇄판의 최표층은 상술한 열용융성 미립자와 친수성 수지의 균형으로서는 질량비로 1:1 내지 10:1의 범위일 수 있다. 상세하게는 이용하는 재료에 따라, 잉크의 인자성이나 보수성의 균형을 인쇄 시험으로 최적화하는 것이 바람직하다.

본 발명에 관계되는 감열성 평판 인쇄판의 최표층에는 인쇄 바탕 오염성을 방지할 목적으로 산화티탄, 이산화규소, 산화알루미늄 등의 무기물을 함유시킬 수 있다. 함유시키는 비율은 인쇄에 이용하는 인쇄 잉크나 습한 물 등이나 인쇄 속도나 인쇄압 등 각종 조건에 의해 적절하게 원하는 범위에서 결정된다.

또한, 최표층을 도설하기 위해서, 보조제로서 음이온계, 양이온계 또는 비이온계 계면활성제의 1종 이상을 사용할 수도 있고, 매트제, 증점제, 대전 방지제, 감열 발색제, 착색제 등을 이용할 수도 있다.

본 발명에 관계되는 감열성 평판 인쇄판의 지지체로서는 수지 피복지, 합성지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 합성 또는 반합성 고분자 필름, 알루미늄이나 철 등의 금속판으로, 평판 인쇄에 견디는 것일 수 있다. 또한, 이들 지지체의 표면은 상층으로서 도설되는 층과의 접착을 좋게 하기 위해서 표면 처리를 행하는 것이나, 시인성 향상을 위해 염색 처리를 하는 것도 가능하다. 본 발명에 있어서, 바람직한 지지체는 수지 피복지, 합성지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등이다.

본 발명의 감열성 평판 인쇄판의 인쇄 방법에 있어서, 열에 의해 화상을 형 성하는 방법으로서는, 예를 들면 라인식 또는 직렬식의 서멀 헤드에 의한 접촉식 가열 방법에 유효하지만, 서멀 레이저를 이용한 비접촉식 가열 방법에도 적용할 수 있다. 물론 서멀 레이저를 이용하는 경우에는 그의 파장에 따른 광열 변환 색소를 층 내에 가질 필요가 있음은 물론이다.

이하, 본 발명을 실시예로 상세히 설명한다. 또한, 기재 중, 「부」 및 「％」는 특별히 나타내지 않는 한 질량 기준이다.

<실시예>

두께 150 ㎛의 양면 폴리에틸렌 수지 피복지의 화상 형성층 도공면을 코로나 방전 가공한 후, 하기 처방을 포함하는 화상 형성층 도공액을 도공, 건조하여, 건조막 두께 3 ㎛의 화상 형성층(최표층)을 갖는 감열성 평판 인쇄판을 제조하였다.

[화상 형성층 도공액]

·친수성 수지; 젤라틴(12％ 수용액) 80부

(가부시끼가이샤 닛삐 제조 IK 3000)

·열용융성의 미립자; 카르복시변성스티렌부타디엔 공중합체(고형분 45％) 30부

(DIC 가부시끼가이샤 제조 래크스타 7132-C)

·1,2-비스(3-메틸페녹시)에탄분산액(30％ 분산액) 30부

(산코 가부시끼가이샤 제조 KS-232)

·현색제; 4-히드록시-4'-이소프로폭시디페닐술폰분산액(30％ 수분산액)

30부 (닛본소다 가부시끼가이샤 제조 D-8)

·발색제; 3-디부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란분산액(30％ 수분산액) 9부

(야마모토카세이 가부시끼가이샤 제조 ODB2)

·경막제; 디비닐술폰 1.2부

상기한 방법으로 제조된 감열성 평판 인쇄판을 표 1에 나타내는 실시예와 비교예에 이용하는 매수 준비하여, 각 인쇄판에 다이렉트 서멀 프린터(도시바 텍크 가부시끼가이샤 제조 바코드 프린터 B-433 라인형 서멀 헤드 300 dpi)의 테스트 인자 모드(인쇄 속도 2 인치/초, 인가 에너지 18.6 mJ/㎟)로 화상을 기록하였다.

다음으로, 각 인쇄판에 대하여 각 판면 처리액을 포함시킨 탈지면에 의해 판 전체 면을 균일해지도록 판면 처리액을 표 1에 나타내는 부여량에 따라서 1회부터 복수회 부여하였다. 부여량은 각 인쇄판으로의 판면 처리액 부여 전후의 질량 변화에 의해 측정하였다. 각 판면 처리액에는 시판의 콜로이달 실리카(닛산 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 스노텍스 C; SiO₂ 농도 20 질량％, 입경 10 내지 20 nm)를 적절하게 순수로, 표 1 기재의 콜로이달 실리카 첨가량이 되도록 희석하여 이용하고, 최표층의 부여성을 고려하여 습윤성 향상을 위해 비이온성 계면활성제(닛신 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 서피놀 440)를 판면 처리액량에 대하여 2 질량％, 최표층에 부여한 후의 판면 처리액의 조기 건조를 예방하기 위한 습윤제로서 에틸렌글리콜을 판면 처리액량에 대하여 5 질량％를 각 판면 처리액에 첨가하여 제 조하였다. 비교예 1에서는 판면 처리액 부여를 행하지 않고, 비교예 2 내지 4에서는 판면 처리액량에 대하여 2 질량％의 비이온성 계면활성제와 판면 처리액량에 대하여 5 질량％의 에틸렌글리콜을 순수에 첨가한 것을 판면 처리액으로 하였다. 표 1과 같이 콜로이달 실리카 첨가량 및 판면 처리액 부여량을 변화시킨 각각의 인쇄판을 판면 처리액의 부여 후 즉시 판에 걸고, 판에 건 후 즉시 하기의 인쇄 조건으로 인쇄를 개시하여 5000매 인쇄를 행하고, 인쇄물의 품질에 대해서 평가를 행하였다. 인쇄 개시시에, 판면에 부여한 판면 처리액은 건조되어 있지 않았다.

인쇄기는 오프셋 인쇄기 HAMADA H234(하마다 인사쯔 기까이 가부시끼가이샤 제조), 잉크는 수퍼 TEKPLUS 묵(墨) L(가부시끼가이샤 티앤케이 토오카 제조), 급습액은 아스트로마크 3(가부시끼가이샤 니켄 가가꾸 겐큐쇼 제조)을 사용하여 인쇄를 행하였다.

인쇄물의 품질에 대해서의 평가는 하기의 기준으로 행하여, 결과를 표 1에 통합하였다.

·인쇄 개시시 오염: 인쇄를 개시한 직후에서 인쇄기로부터 배출되는 인쇄물이 양지가 되는 매수에 대해서, 1 내지 10매째이면 ○(양호), 11 내지 30매째이면 △(실용가), 31매째 이상이면 ×(불량)으로 하였다.

·인쇄 개시시 적정 농도 도달 매수: 인쇄를 개시한 직후에서 인쇄기로부터 배출되는 인쇄물이 적정한 화상 농도가 되는 매수를 카운트하여, 이것을 감열성 평판 인쇄판의 화상부에서의 잉크 수리성(잉크 인자성)의 지표로 하였다. 10매 이하이면 양호하다. 31매 이상이면 실용상 문제가 있다.

·망점 쉐도우부의 오염: 인쇄를 개시하여, 인쇄물이 적정 농도가 된 상태로 망점부 80％ 이상의 쉐도우부의 재현성(도트간의 막힘)을 관찰하여, 적정하면 ○(양호), 약간 재현성이 나쁘면 △(실용가)로 하였다. 전혀 재현되어 있지 않은 (완전히 막혀 있는 상태)경우에는 ×(불량)으로 하였다.

상기한 결과로부터 분명한 바와 같이, 본 발명의 감열성 평판 인쇄판용 판면 처리액 및 감열성 평판 인쇄판의 인쇄 방법을 이용하면, 특히 서멀 헤드를 이용한 직접 감열 방식으로 사용하는 경우에 있어서도 인쇄 개시(인출시)의 판면 오염이나, 망점 쉐도우부의 오염성이 개선되고, 또한 화상부 인출시의 잉크의 인자에 지장을 주지 않기 때문에, 손지의 발생이 적고 양호한 인쇄물을 얻는 것이 가능해진다. 또한, 명실하에서도 작업이 행해지고, 또한 현상액을 사용하는 경우가 없기 때문에 환경에도 매우 양호하다.

Claims

지지체 상에 친수성 수지와 열용융성 미립자를 함유하는 층을 최표층으로서 설치하여 이루어지는 감열성 평판 인쇄판을 화상 모양으로 가열함으로써 화상부로 하고, 비화상부를 제거하지 않고 오프셋 인쇄를 행하는 감열성 평판 인쇄판의 판면에 인쇄 개시전에 부여하는 판면 처리액이며, SiO₂로서 0.1 내지 10 질량％의 콜로이달 실리카를 함유하는 것을 특징으로 하는 감열성 평판 인쇄판용 판면 처리액.
청구항 2은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.

제1항에 있어서, 상기 판면 처리액의 콜로이달 실리카의 함유량이 SiO₂로서 0.3 내지 3 질량％인 것을 특징으로 하는 감열성 평판 인쇄판용 판면 처리액.
지지체 상에 친수성 수지와 열용융성 미립자를 함유하는 층을 최표층으로서 설치하여 이루어지는 감열성 평판 인쇄판을 화상 모양으로 가열함으로써 화상부로 하고, 비화상부를 제거하지 않고 오프셋 인쇄를 행하는 감열성 평판 인쇄판의 인쇄 방법이며, 인쇄 개시전에 SiO₂로서 0.1 내지 10 질량％의 콜로이달 실리카를 함유하는 판면 처리액을 감열성 평판 인쇄판의 판면에 부여하고, 그 후에 인쇄를 개시하는 것을 특징으로 하는 감열성 평판 인쇄판의 인쇄 방법.
청구항 4은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.

제3항에 있어서, 상기 판면 처리액의 콜로이달 실리카의 함유량이 SiO₂로서 0.3 내지 3 질량％인 것을 특징으로 하는 감열성 평판 인쇄판의 인쇄 방법.
제3항에 있어서, 감열성 평판 인쇄판의 판면으로의 상기 판면 처리액의 부여량이 1 내지 10 g/㎡인 것을 특징으로 하는 감열성 평판 인쇄판의 인쇄 방법.
청구항 6은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.

제5항에 있어서, 감열성 평판 인쇄판의 판면으로의 상기 판면 처리액의 부여량이 1 내지 5 g/㎡인 것을 특징으로 하는 감열성 평판 인쇄판의 인쇄 방법.
제3항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 감열성 평판 인쇄판의 판면에 부여한 판면 처리액이 건조되기 전에 인쇄를 개시하는 것을 특징으로 하는 감열성 평판 인쇄판의 인쇄 방법.