DE68920080T2 - Polyimide und Polyimidfilme und Herstellungsverfahren. - Google Patents
Polyimide und Polyimidfilme und Herstellungsverfahren.Info
- Publication number
- DE68920080T2 DE68920080T2 DE68920080T DE68920080T DE68920080T2 DE 68920080 T2 DE68920080 T2 DE 68920080T2 DE 68920080 T DE68920080 T DE 68920080T DE 68920080 T DE68920080 T DE 68920080T DE 68920080 T2 DE68920080 T2 DE 68920080T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- polyimide
- polyimide film
- organic
- phosphorus compound
- polyamic acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 title claims description 108
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 title claims description 48
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 claims description 44
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 claims description 39
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 9
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims 1
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 33
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- -1 phosphorus compound Chemical class 0.000 description 15
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 12
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)(=O)OC1=CC=CC=C1 XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 5-phenylbenzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 3
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N bpda Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 3
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- SIGOIUCRXKUEIG-UHFFFAOYSA-N methyl 2-dimethoxyphosphorylacetate Chemical compound COC(=O)CP(=O)(OC)OC SIGOIUCRXKUEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 3
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 3
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 3
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HUWXDEQWWKGHRV-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dichlorobenzidine Chemical group C1=C(Cl)C(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C(Cl)=C1 HUWXDEQWWKGHRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethoxybenzidine Chemical group C1=C(N)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C(N)=CC=2)=C1 JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NURQLCJSMXZBPC-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC=C1C NURQLCJSMXZBPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HWWYDZCSSYKIAD-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CN=CC(C)=C1 HWWYDZCSSYKIAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AVCOFPOLGHKJQB-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxyphenyl)sulfonylphthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 AVCOFPOLGHKJQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 4-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC=C1 FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DRBBFCLWYRJSJZ-UHFFFAOYSA-N N-phosphocreatine Chemical compound OC(=O)CN(C)C(=N)NP(O)(O)=O DRBBFCLWYRJSJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical group C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N cadaverine Chemical compound NCCCCCN VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 2
- TYJOJLOWRIQYQM-UHFFFAOYSA-L disodium;phenyl phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OC1=CC=CC=C1 TYJOJLOWRIQYQM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- XUYJLQHKOGNDPB-UHFFFAOYSA-N phosphonoacetic acid Chemical compound OC(=O)CP(O)(O)=O XUYJLQHKOGNDPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XRBCRPZXSCBRTK-UHFFFAOYSA-N phosphonous acid Chemical compound OPO XRBCRPZXSCBRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N sulfonyldimethane Chemical compound CS(C)(=O)=O HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphite Chemical compound CCOP(OCC)OCC BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N trimethyl phosphate Chemical compound COP(=O)(OC)OC WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYTQBVOFDCPGCX-UHFFFAOYSA-N trimethyl phosphite Chemical compound COP(OC)OC CYTQBVOFDCPGCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTLBZVNBAKMVDP-UHFFFAOYSA-N tris(2-butoxyethyl) phosphate Chemical compound CCCCOCCOP(=O)(OCCOCCCC)OCCOCCCC WTLBZVNBAKMVDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DYBCXFJUMGEGBX-UHFFFAOYSA-M (4-butoxyphenyl)methyl-triphenylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC(OCCCC)=CC=C1C[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 DYBCXFJUMGEGBX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MZBKKJRCQNVENM-UHFFFAOYSA-M (4-ethoxyphenyl)methyl-triphenylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC(OCC)=CC=C1C[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MZBKKJRCQNVENM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 1,8-diaminooctane Chemical compound NCCCCCCCCN PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOSZCNKVJAVHJI-UHFFFAOYSA-N 1-[(4-fluorophenyl)methyl]piperazine Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1CN1CCNCC1 OOSZCNKVJAVHJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCPBESHYZRJICR-UHFFFAOYSA-N 1-dichlorophosphoryloxy-4-nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C(OP(Cl)(Cl)=O)C=C1 NCPBESHYZRJICR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZBOZNXACBQJHI-UHFFFAOYSA-N 1-dichlorophosphoryloxyethane Chemical compound CCOP(Cl)(Cl)=O YZBOZNXACBQJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOWIYNWMROWVDG-UHFFFAOYSA-N 1-dimethoxyphosphorylpropan-2-one Chemical compound COP(=O)(OC)CC(C)=O UOWIYNWMROWVDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXOXUHMFQZEAFR-UHFFFAOYSA-N 2,2',5,5'-Tetrachlorobenzidine Chemical group C1=C(Cl)C(N)=CC(Cl)=C1C1=CC(Cl)=C(N)C=C1Cl UXOXUHMFQZEAFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOGFHTGYPKWWRX-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethyloxan-4-one Chemical compound CC1(C)CC(=O)CC(C)(C)O1 NOGFHTGYPKWWRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 2-(bromomethyl)-1-iodo-4-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(I)C(CBr)=C1 YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJYCAYKHNVQCJW-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[4-(2-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC(OC=3C(=CC=CC=3)N)=CC=2)C=C1 FJYCAYKHNVQCJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDRNVPNSQJRIRN-UHFFFAOYSA-N 2-amino-5-[2-(4-amino-3-hydroxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenol Chemical compound C1=C(O)C(N)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(N)C(O)=C1 ZDRNVPNSQJRIRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDFAWEKPFLGRAK-UHFFFAOYSA-N 2-amino-5-[2-(4-amino-3-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=C(N)C(O)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(N)C(O)=C1 JDFAWEKPFLGRAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLBSQHGCGGFVJW-UHFFFAOYSA-N 2-carboxyethylphosphonic acid Chemical compound OC(=O)CCP(O)(O)=O NLBSQHGCGGFVJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWMBADTWRIGGGG-UHFFFAOYSA-N 2-diethoxyphosphorylacetonitrile Chemical compound CCOP(=O)(CC#N)OCC KWMBADTWRIGGGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUJWGDXCTRWVDC-UHFFFAOYSA-N 2-diethoxyphosphorylethyl acetate Chemical compound CCOP(=O)(OCC)CCOC(C)=O TUJWGDXCTRWVDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZLUPKIRNOCKJB-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-n,n-dimethylacetamide Chemical compound COCC(=O)N(C)C DZLUPKIRNOCKJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethylbenzidine Chemical group C1=C(N)C(C)=CC(C=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSTOKWSFWGCZMH-UHFFFAOYSA-N 3,3'-diaminobenzidine Chemical compound C1=C(N)C(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C(N)=C1 HSTOKWSFWGCZMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXJLFVRAWOOQDR-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenoxy)aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LXJLFVRAWOOQDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)sulfonylaniline Chemical compound NC1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYKLCAKICHXQNE-UHFFFAOYSA-N 3-[(2,3-dicarboxyphenyl)methyl]phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(CC=2C(=C(C(O)=O)C=CC=2)C(O)=O)=C1C(O)=O TYKLCAKICHXQNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAHZZOIHRHCHTH-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(2,3-dicarboxyphenyl)propan-2-yl]phthalic acid Chemical compound C=1C=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1C(O)=O PAHZZOIHRHCHTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(3-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(OC=3C=C(N)C=CC=3)C=CC=2)=C1 DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCXGOVYROJJXHA-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(=CC=2)S(=O)(=O)C=2C=CC(OC=3C=C(N)C=CC=3)=CC=2)=C1 WCXGOVYROJJXHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGBKJKDRMRAZKC-UHFFFAOYSA-N 3-aminobenzene-1,2-diol Chemical compound NC1=CC=CC(O)=C1O MGBKJKDRMRAZKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAHUZZUGJRPGKW-UHFFFAOYSA-M 3-bromopropyl(triphenyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(CCCBr)C1=CC=CC=C1 ZAHUZZUGJRPGKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WECDUOXQLAIPQW-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Methylene bis(2-methylaniline) Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(CC=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 WECDUOXQLAIPQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Thiodianiline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1SC1=CC=C(N)C=C1 ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBOFVQJTBBUKMU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-methylene-bis-(2-chloroaniline) Chemical compound C1=C(Cl)C(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C(Cl)=C1 IBOFVQJTBBUKMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQBIGPMJQUKYAH-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-diaminophenoxy)benzene-1,2-diamine Chemical compound C1=C(N)C(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C(N)=C1 RQBIGPMJQUKYAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWOLORXQTIGHFX-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-2,3,5,6-tetrafluorophenyl)-2,3,5,6-tetrafluoroaniline Chemical group FC1=C(F)C(N)=C(F)C(F)=C1C1=C(F)C(F)=C(N)C(F)=C1F FWOLORXQTIGHFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQWWWAQUMVHHQN-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-4-phenylcyclohexa-1,5-dien-1-yl)aniline Chemical group C1=CC(N)=CC=C1C1=CCC(N)(C=2C=CC=CC=2)C=C1 QQWWWAQUMVHHQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWXCYYWDGDDPAC-UHFFFAOYSA-N 4-[(3,4-dicarboxyphenyl)methyl]phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1CC1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 IWXCYYWDGDDPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBEVWPCAHIAUOD-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-amino-3-ethylphenyl)methyl]-2-ethylaniline Chemical compound C1=C(N)C(CC)=CC(CC=2C=C(CC)C(N)=CC=2)=C1 CBEVWPCAHIAUOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSGFBINRYVUILV-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminophenyl)-diethylsilyl]aniline Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1[Si](CC)(CC)C1=CC=C(N)C=C1 OSGFBINRYVUILV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLMSGSGJGUHKFW-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminophenyl)-diphenylsilyl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1[Si](C=1C=CC(N)=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BLMSGSGJGUHKFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJJNNSUCZDJDLP-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(3,4-dicarboxyphenyl)ethyl]phthalic acid Chemical compound C=1C=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=CC=1C(C)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 IJJNNSUCZDJDLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYAGBVEAJGCFB-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(3,4-dicarboxyphenyl)propan-2-yl]phthalic acid Chemical compound C=1C=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 GEYAGBVEAJGCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEKFRNOZJSYWKZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(N)C=C1 BEKFRNOZJSYWKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYEDGEXYGKWJPB-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)propan-2-yl]aniline Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(N)C=C1 ZYEDGEXYGKWJPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUPRYUDHUFLKFL-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(OC=2C=CC(N)=CC=2)=C1 WUPRYUDHUFLKFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBSMHWVGUPQNJJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-aminophenyl)phenyl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(C=2C=CC(N)=CC=2)C=C1 QBSMHWVGUPQNJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1 HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDFYRFKAYFZVNH-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenoxy]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 LDFYRFKAYFZVNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYDATEKARGDBKU-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]phenoxy]aniline Chemical group C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 HYDATEKARGDBKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTDAGHZGKXPRQI-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 UTDAGHZGKXPRQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBOLXXRVIFGDTI-UHFFFAOYSA-N 4-benzylpyridine Chemical compound C=1C=NC=CC=1CC1=CC=CC=C1 DBOLXXRVIFGDTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBNFPUAJWZYIOQ-UHFFFAOYSA-N 4-n-(4-aminophenyl)-4-n-methylbenzene-1,4-diamine Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1N(C)C1=CC=C(N)C=C1 LBNFPUAJWZYIOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFBMJEBQWQBRQJ-UHFFFAOYSA-N 4-n-(4-aminophenyl)-4-n-phenylbenzene-1,4-diamine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1N(C=1C=CC(N)=CC=1)C1=CC=CC=C1 YFBMJEBQWQBRQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRGXNJWEDDQLFH-UHFFFAOYSA-N 4-propan-2-ylpyridine Chemical compound CC(C)C1=CC=NC=C1 FRGXNJWEDDQLFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQGYZOYWNCKGEK-UHFFFAOYSA-N 5-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)oxy]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(OC=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 QQGYZOYWNCKGEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVOMOUWHDPKRLL-KQYNXXCUSA-N Cyclic adenosine monophosphate Chemical compound C([C@H]1O2)OP(O)(=O)O[C@H]1[C@@H](O)[C@@H]2N1C(N=CN=C2N)=C2N=C1 IVOMOUWHDPKRLL-KQYNXXCUSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-N Metaphosphoric acid Chemical compound OP(=O)=O UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNQHUWHQMJTWRA-UHFFFAOYSA-N NC1=CC=C(C=C1)C(C[PH2]=O)C1=CC=C(C=C1)N Chemical compound NC1=CC=C(C=C1)C(C[PH2]=O)C1=CC=C(C=C1)N HNQHUWHQMJTWRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N Phenylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQYJRMFWJJONBO-UHFFFAOYSA-N Tris(2,3-dibromopropyl) phosphate Chemical compound BrCC(Br)COP(=O)(OCC(Br)CBr)OCC(Br)CBr PQYJRMFWJJONBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTVWRXDRKAHEAD-UHFFFAOYSA-N Tris(2-ethylhexyl) phosphate Chemical compound CCCCC(CC)COP(=O)(OCC(CC)CCCC)OCC(CC)CCCC GTVWRXDRKAHEAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWJUYEHEBGNNAE-MCDZGGTQSA-N [(2r,3s,4r,5r)-5-(6-aminopurin-9-yl)-3,4-dihydroxyoxolan-2-yl]methyl dihydrogen phosphate;sodium Chemical compound [Na].C1=NC=2C(N)=NC=NC=2N1[C@@H]1O[C@H](COP(O)(O)=O)[C@@H](O)[C@H]1O JWJUYEHEBGNNAE-MCDZGGTQSA-N 0.000 description 1
- DZHMRSPXDUUJER-UHFFFAOYSA-N [amino(hydroxy)methylidene]azanium;dihydrogen phosphate Chemical compound NC(N)=O.OP(O)(O)=O DZHMRSPXDUUJER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N ammonium dihydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].OP(O)([O-])=O LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000387 ammonium dihydrogen phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000148 ammonium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- ZRIUUUJAJJNDSS-UHFFFAOYSA-N ammonium phosphates Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]P([O-])([O-])=O ZRIUUUJAJJNDSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAFYHPGYCIOBCG-UHFFFAOYSA-L barium(2+);(2-carboxy-2-hydroxyethyl) phosphate Chemical compound [Ba+2].OC(=O)C(O)COP([O-])([O-])=O IAFYHPGYCIOBCG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MRQIDZJGQMWVQR-UHFFFAOYSA-L barium(2+);2-cyanoethyl phosphate Chemical compound [Ba+2].[O-]P([O-])(=O)OCCC#N MRQIDZJGQMWVQR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GCAIEATUVJFSMC-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1C(O)=O GCAIEATUVJFSMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USFRYJRPHFMVBZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triphenyl)phosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 USFRYJRPHFMVBZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002529 biphenylenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C12)* 0.000 description 1
- OYNXPGGNQMSMTR-UHFFFAOYSA-N bis(2,3,4,5,6-pentafluorophenyl)-phenylphosphane Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1P(C=1C(=C(F)C(F)=C(F)C=1F)F)C1=CC=CC=C1 OYNXPGGNQMSMTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKWKJIWDLVYZIY-UHFFFAOYSA-M butyl(triphenyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(CCCC)C1=CC=CC=C1 IKWKJIWDLVYZIY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FUFJGUQYACFECW-UHFFFAOYSA-L calcium hydrogenphosphate Chemical compound [Ca+2].OP([O-])([O-])=O FUFJGUQYACFECW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 1
- JVZFFUQASIAXGE-UHFFFAOYSA-L calcium;bis(4-methylphenyl) phosphate Chemical compound [Ca+2].C1=CC(C)=CC=C1OP([O-])(=O)OC1=CC=C(C)C=C1.C1=CC(C)=CC=C1OP([O-])(=O)OC1=CC=C(C)C=C1 JVZFFUQASIAXGE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- SXYFAZGVNNYGJQ-UHFFFAOYSA-M chloromethyl(triphenyl)phosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(CCl)C1=CC=CC=C1 SXYFAZGVNNYGJQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- XMPWFKHMCNRJCL-UHFFFAOYSA-M cyclopropyl(triphenyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C1CC1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 XMPWFKHMCNRJCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCN YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEGLCEQVOFDUPX-UHFFFAOYSA-N di-(2-ethylhexyl)phosphoric acid Chemical compound CCCCC(CC)COP(O)(=O)OCC(CC)CCCC SEGLCEQVOFDUPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000388 diammonium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019838 diammonium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- IBDMRHDXAQZJAP-UHFFFAOYSA-N dichlorophosphorylbenzene Chemical compound ClP(Cl)(=O)C1=CC=CC=C1 IBDMRHDXAQZJAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXFOLHZMICYNRM-UHFFFAOYSA-N dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClP(Cl)(=O)OC1=CC=CC=C1 TXFOLHZMICYNRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHKDZFIPIJSOTR-UHFFFAOYSA-N didodecyl phenyl phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCCCOP(OCCCCCCCCCCCC)OC1=CC=CC=C1 UHKDZFIPIJSOTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASMQGLCHMVWBQR-UHFFFAOYSA-M diphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(=O)([O-])OC1=CC=CC=C1 ASMQGLCHMVWBQR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BEQVQKJCLJBTKZ-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphinic acid Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(=O)(O)C1=CC=CC=C1 BEQVQKJCLJBTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N diphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(O)=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000396 dipotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019797 dipotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VIYFPAMJCJLZKD-UHFFFAOYSA-L disodium;(4-nitrophenyl) phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][N+](=O)C1=CC=C(OP([O-])([O-])=O)C=C1 VIYFPAMJCJLZKD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 239000012772 electrical insulation material Substances 0.000 description 1
- CCGKOQOJPYTBIH-UHFFFAOYSA-N ethenone Chemical compound C=C=O CCGKOQOJPYTBIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRAYVWUMBAJVGH-UHFFFAOYSA-M ethenyl(triphenyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=C)C1=CC=CC=C1 VRAYVWUMBAJVGH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHYNXXDQQHTCHJ-UHFFFAOYSA-M ethyl(triphenyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(CC)C1=CC=CC=C1 JHYNXXDQQHTCHJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N heptane-1,7-diamine Chemical compound NCCCCCCCN PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001340 histamine Drugs 0.000 description 1
- ZHIBQGJKHVBLJJ-UHFFFAOYSA-N histamine phosphate Chemical compound OP(O)(O)=O.OP(O)(O)=O.NCCC1=CNC=N1 ZHIBQGJKHVBLJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVZISJTYELEYPI-UHFFFAOYSA-N hypodiphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)P(O)(O)=O TVZISJTYELEYPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012774 insulation material Substances 0.000 description 1
- 229940070023 iproniazide Drugs 0.000 description 1
- 229910001386 lithium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000158 manganese(II) phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- ZKCBQOQPFCSEFF-UHFFFAOYSA-H manganese(ii) phosphate Chemical compound [Mn+2].[Mn+2].[Mn+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O ZKCBQOQPFCSEFF-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- NTNUDYROPUKXNA-UHFFFAOYSA-N methyl 2-(triphenyl-$l^{5}-phosphanylidene)acetate Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)(=CC(=O)OC)C1=CC=CC=C1 NTNUDYROPUKXNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTSAXXHOGZNKJR-UHFFFAOYSA-N methyl 2-diethoxyphosphorylacetate Chemical compound CCOP(=O)(OCC)CC(=O)OC CTSAXXHOGZNKJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSEFCHWGJNHZNT-UHFFFAOYSA-M methyl(triphenyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C)C1=CC=CC=C1 LSEFCHWGJNHZNT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CUXQLKLUPGTTKL-UHFFFAOYSA-M microcosmic salt Chemical compound [NH4+].[Na+].OP([O-])([O-])=O CUXQLKLUPGTTKL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000019837 monoammonium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000402 monopotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019796 monopotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylacetamide Chemical compound CCN(CC)C(C)=O AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGGQWILNAAODRS-UHFFFAOYSA-N n-methyl-4-[4-(methylamino)phenyl]aniline Chemical compound C1=CC(NC)=CC=C1C1=CC=C(NC)C=C1 JGGQWILNAAODRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KADGVXXDDWDKBX-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,4,5-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C21 KADGVXXDDWDKBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDLRSIQOZFLEPK-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,5,8-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 HDLRSIQOZFLEPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-diamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1N KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N nonane-1,9-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCN SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical compound O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPDVTKJXVHYWFY-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;n'-propan-2-ylpyridine-4-carbohydrazide Chemical compound OP(O)(O)=O.CC(C)NNC(=O)C1=CC=NC=C1 YPDVTKJXVHYWFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJNZPQUBCPKICU-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;potassium Chemical compound [K].OP(O)(O)=O PJNZPQUBCPKICU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- CLYVDMAATCIVBF-UHFFFAOYSA-N pigment red 224 Chemical compound C=12C3=CC=C(C(OC4=O)=O)C2=C4C=CC=1C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C4=CC=C3C1=C42 CLYVDMAATCIVBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K potassium phosphate Substances [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- RZKYDQNMAUSEDZ-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CC=C RZKYDQNMAUSEDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRDBISOHUUQXHE-UHFFFAOYSA-N pyridine-2,3,5,6-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)N=C1C(O)=O JRDBISOHUUQXHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHNQIURBCCNWDN-UHFFFAOYSA-N pyridine-2,6-diamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=N1 VHNQIURBCCNWDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940005657 pyrophosphoric acid Drugs 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940074545 sodium dihydrogen phosphate dihydrate Drugs 0.000 description 1
- 229960002901 sodium glycerophosphate Drugs 0.000 description 1
- NQXGLOVMOABDLI-UHFFFAOYSA-N sodium oxido(oxo)phosphanium Chemical compound [Na+].[O-][PH+]=O NQXGLOVMOABDLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019830 sodium polyphosphate Nutrition 0.000 description 1
- REULQIKBNNDNDX-UHFFFAOYSA-M sodium;2,3-dihydroxypropyl hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].OCC(O)COP(O)([O-])=O REULQIKBNNDNDX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RHXAUZKAOCMANK-UHFFFAOYSA-M sodium;bis(4-methoxycarbonylphenyl) phosphate Chemical compound [Na+].C1=CC(C(=O)OC)=CC=C1OP([O-])(=O)OC1=CC=C(C(=O)OC)C=C1 RHXAUZKAOCMANK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NUNDGQKDNLVKNA-UHFFFAOYSA-M sodium;bis(4-methylphenyl) phosphate Chemical compound [Na+].C1=CC(C)=CC=C1OP([O-])(=O)OC1=CC=C(C)C=C1 NUNDGQKDNLVKNA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAWVAHJDHPLCQF-UHFFFAOYSA-N tert-butyl n-[[3-(bromomethyl)phenyl]methyl]carbamate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)NCC1=CC=CC(CBr)=C1 ZAWVAHJDHPLCQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WAGFXJQAIZNSEQ-UHFFFAOYSA-M tetraphenylphosphonium chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WAGFXJQAIZNSEQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- XTTGYFREQJCEML-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphite Chemical compound CCCCOP(OCCCC)OCCCC XTTGYFREQJCEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229940078499 tricalcium phosphate Drugs 0.000 description 1
- 229910000391 tricalcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019731 tricalcium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphate Chemical compound CCOP(=O)(OCC)OCC DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGUBFICZYGKNTD-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphonoacetate Chemical compound CCOC(=O)CP(=O)(OCC)OCC GGUBFICZYGKNTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWQULNDIKKJZPH-UHFFFAOYSA-K trilithium;phosphate Chemical compound [Li+].[Li+].[Li+].[O-]P([O-])([O-])=O TWQULNDIKKJZPH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- FIQMHBFVRAXMOP-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphane oxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)(=O)C1=CC=CC=C1 FIQMHBFVRAXMOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASLWPAWFJZFCKF-UHFFFAOYSA-N tris(1,3-dichloropropan-2-yl) phosphate Chemical compound ClCC(CCl)OP(=O)(OC(CCl)CCl)OC(CCl)CCl ASLWPAWFJZFCKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQUQLFOMPYWACS-UHFFFAOYSA-N tris(2-chloroethyl) phosphate Chemical compound ClCCOP(=O)(OCCCl)OCCCl HQUQLFOMPYWACS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LORSVOJSXMHDHF-UHFFFAOYSA-N tris(4-tert-butylphenyl) phosphate Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OP(=O)(OC=1C=CC(=CC=1)C(C)(C)C)OC1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 LORSVOJSXMHDHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQBLOZGVRHAYGT-UHFFFAOYSA-N tris-decyl phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCOP(OCCCCCCCCCC)OCCCCCCCCCC QQBLOZGVRHAYGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- LRXTYHSAJDENHV-UHFFFAOYSA-H zinc phosphate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O LRXTYHSAJDENHV-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229910000165 zinc phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/49—Phosphorus-containing compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/032—Organic insulating material consisting of one material
- H05K1/0346—Organic insulating material consisting of one material containing N
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2379/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C08J2361/00 - C08J2377/00
- C08J2379/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08J2379/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/0353—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
- H05K1/0373—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement containing additives, e.g. fillers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31721—Of polyimide
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Description
- Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein verbessertes Polyimid und einen daraus hergestellten Polyimidfilm sowie auf ein Herstellungsverfahren des Polyimidfilms.
- Polyimid ist bekannt für seine herausragende Wärmebeständigkeit, Beständigkeit bei tiefer Temperatur, Beständigkeit gegen Chemikalien, elektrische Isolierungseigenschaften und mechanische Festigkeit usw., und hat einen breiten Anwendungsbereich wie u.a. als elektrische Isolierungsmaterialien, Wärmeisolierungsmaterialien und Trägerfilme für flexible Leiterplatten (printed circuit boards, PCB). Wenn es als Material für flexible PCB verwendet wird, was eine wichtige Anwendung für einen Polyimidfilm ist, wird der hergestellte PCB oft während eines langen Zeitraums in einem verformten Zustand verwendet oder einer wiederholten Kontraktion oder Biegung ausgesetzt. Folglich sind auf diesem Anwendungsgebiet die mechanischen Eigenschaften eines Polyimidfilms sehr wichtig, insbesondere sind seine Zugfestigkeit und seine Biegebeständigkeit von kritischer Bedeutung.
- Es ist auch oft der Fall, daß ein Polyimidfilm wie bei der Herstellung von flexiblen PCB in einer Form verwendet wird, die mit einer Kupferfolie, einer Klebemittelschicht und dergleichen laminiert ist. In einem solchen Fall war das Problem, daß ein laminierter Film als solcher mit seiner erhöhten Dicke deutlich verschlechterte oder herabgesetzte physikalische Eigenschaften hatte, insbesondere was die Biegefestigkeit bei wiederholter Beanspruchung betrifft.
- Folglich war es sehr erwünscht, die mechanische Festigkeit insbesondere die Biegebruchfestigkeit, eines Polyimidfilms als Grundlage, erheblich zu verbessern, wenn er mit einer Kupferfolie und einer Klebemittelschicht laminiert verwendet werden sollte.
- Wie später beschrieben wird, besteht die vorliegende Erfindung darin, eine organische Phosphorverbindung dem Polyimid zuzumischen, aber soweit die Erfinder der vorliegenden Erfindung den Stand der Technik untersuchten, welcher die Verwendung einer Phosphorverbindung als Additiv zu einem wärmebeständigen synthetischen Hochpolymer mit einbezieht, fanden sie die japanische offengelegte Anmeldung Nr. 131249/'82 und die japanische offengelegte Anmeldung Nr. 221454/'85. Erstere bezieht sich auf eine thermoplastische Polyamidimidharzzusammensetzung, in welcher organisches Phosphonit mit aromatischem Polyamidimid vermischt ist, und letztere offenbart eine Methode, die sich auf ein thermoplastisches Polyetherimid bezieht, worin ein sterisch gehindertes Phenol in Polyetherimid, Arylphosphonit, organisches Phosphonit usw. eingearbeitet wird. Polyamidimid und Polyetherimid sind beides thermoplastische Harze und darüber hinaus haben beide Methoden das Ziel, die thermische Zersetzung von geschmolzenen Thermoplasten zu verhindern. Folglich wird das technische Konzept der vorliegenden Erfindung in den oben angegebenen Druckschriften des Standes der Technik weder offenbart noch in irgendeiner Weise nahegelegt.
- Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist, eine Polyimidqualität bereitzustellen, die einen Polyimidfilm ergibt, dessen mechanische Festigkeit verbessert ist.
- Eine andere Aufgabe dieser Erfindung ist, eine Polyimidfilmqualität mit verbesserter mechanischer Festigkeit bereitzustellen.
- Eine weitere Aufgabe dieser Erfindung ist, ein Verfahren zum Herstellen eines Polyimidfilms bereitzustellen, dessen mechanische Festigkeit verbessert ist.
- Noch weitere Aufgaben und Vorteile dieser Erfindung werden für den Durchschnittsfachmann durch die ausführliche Beschreibung im folgenden offensichtlich.
- Als Ergebnis ausführlicher und intensiver Studien zur Lösung der obenerwähnten Aufgaben haben die Erfinder der vorliegenden Erfindung entdeckt, daß bestimmte Verbindungen eine besondere Wirkung bezüglich der Steuerung des Verfahrens der Bildung von Polyimid haben, und nachdem sie die Möglichkeit ihrer Verwendung untersucht haben, um zur Verbesserung der mechanischen Festigkeit des Harzes beizutragen, ist es ihnen gelungen, die mechanische Festigkeit von Polyimid zu verbessern, ohne seine molekulare Struktur zu verändern.
- Das wesentliche Merkmal der verbesserten Polyimidqualität gemäß der vorliegenden Erfindung ist, daß eine organische Phosphorverbindung in das Polyimid eingearbeitet ist.
- Das wesentliche Merkmal des erfundenen Verfahrens zum Herstellen eines Polyimidfilms ist andererseits, daß eine organische Phosphorverbindung mindestens entweder in einem Polyimidvorläufer oder einem Dehydratisierungs-Cyclisierungsmittel oder in beiden vorhanden ist, bevor ein Film daraus gebildet wird.
- Als Polyimid können gemäß der vorliegenden Erfindung alle bekannten Polyimidqualitäten einbezogen werden, welche durch Dehydratisierung-Cyclisierung einer Lösung von Polyamidsäure als Vorläufer von Polyimid, welche durch Reaktion einer Lösung eines organischen Diamins in einem organischen Lösungsmittel mit einem Dianhydrid einer organischen Tetracarbonsäure erhalten werden kann, in einem organischen Lösungsmittel unter Erwärmen oder durch Verwendung eines Dehydratisierungs-Cyclisierungs-Mittels, hergestellt werden.
- Als organische Diamine können gemäß der vorliegenden Erfindung alle organischen Diamine einbezogen werden, die durch die allgemeine Formel (I) dargestellt sind
- H&sub2;N-R&sub1;-NH&sub2; (I)
- worin R&sub1; eine aliphatische Gruppe, eine Phenylengruppe, eine Naphthalingruppe, eine Biphenylengruppe, eine
- Gruppe oder eine zweiwertige organische Gruppe der allgemeinen Formel (II):
- ist
- [worin R&sub2; eine Alkylengruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen,
- ist
- (worin R&sub3; bis R&sub9; jeweils eine aliphatische oder aromatische Gruppe sind)] oder die Verbindungen davon. Spezifische Beispiele dafür sind meta-Phenylendiamin, para-Phenylendiamin, 3,3'-Dimethoxy-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-Dichlor-4,4'-diaminobiphenyl, 4,4'-Diaminoparaterphenyl, 4,4'-Bis(4-aminophenoxy)biphenyl, 4,4'-Diaminooctafluorbiphenyl, 4,4'-Diaminobiphenyl, 4,4'-Diaminodiphenylpropan, 2,2-Bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propan, 2,2-Bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]hexafluorpropan, 2,2-Bis(4-aminophenyl)propan, 2,2-Bis(4-aminophenyl)hexafluorpropan, 2,2-Bis(3-hydroxy-4-aminophenyl)propan, 2,2-Bis(3-hydroxy-4- aminophenyl)hexafluorpropan, 4,4'-Diaminodiphenylmethan, Bis(3-ethyl-4-aminophenyl)methan, Bis(3-methyl-4-aminophenyl)methan, Bis(3-chlor-4-aminophenyl)methan, Benzidin, 4,4'-Diaminodiphenylsulfon, 3,3'-Diaminodiphenylsulfon, Bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfon, Bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfon, Bis[4-(2-aminophenoxy)phenyl]sulfon, 1,4-Bis(4-aminophenoxy)benzol, 1,3-Bis(4-aminophenoxy)benzol, 1,3-Bis(3-aminophenoxy)benzol, 1,4-Bis(4- aminophenyl)benzol, 2,2',5,5'-Tetrachlor-4,4'-diaminobiphenyl, 4,4'-Diamino-diphenylsulfid, 3,3'-Diaminodiphenylether, 3,4'-Diaminobiphenylether, Bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]ether, 4,4'-Diaminodiphenylether, 2,6-Diaminopyridin, Bis(4-aminophenyl)diethylsilan, Bis(4-aminophenyl)diphenylsilan, 3,3'-Dichlorbenzidin, Bis(4-aminophenyl)ethylphosphinoxid, Bis(4-aminophenyl)-N-phenylamin, Bis(4-aminophenyl)-N-methylamin, 1,5-Diaminonaphthalin, 3,3'-Dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-Dimethoxybenzidin, 4,4'-Methylendianilin, Dimethylbenzidin, 2,4'-Diaminotoluol, Metaphenylendiamin, Ethylendiamin, Trimethylendiamin, Tetramethylendiamin, Pentamethylendiamin, Hexamethylendiamin, 1,7-Diaminoheptan, 1,8-Diaminooctan, 1,9-Diaminononan, 1,10-Diaminodecan, 9,9-Bis(4-aminophenyl)-10-hydroanthracen, Orthotridinsulfon usw. Diese können einzeln oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden. Ferner ist auch die teilweise Verwendung von mehrwertigen Aminverbindungen wie 3,3',4,4'-Biphenyltetraamin und 3,3',4,4'-Tetraaminodiphenylether möglich.
- Von diesen Verbindungen sind para-Phenylendiamin, 3,3'-Dimethyl-4,4'-diaminodiphenyl oder 4,4'-Diaminodiphenylether besonders bevorzugt.
- Das Dianhydrid einer organischen Tetracarbonsäure, welches für den Zweck dieser Erfindung eingesetzt wird, ist eine Verbindung, die durch die allgemeine Formel (III) dargestellt ist
- worin R&sub1;&sub0; eine aliphatische Gruppe,
- (worin R&sub1;&sub1; und R&sub1;&sub2; ein Wasserstoffatom bzw. eine Methylgruppe sind),
- oder ein Gemisch davon ist. Spezifische Beispiele für die Verbindungen sind Pyromellitsäuredianhydrid, 2,3,6,7-Naphthalintetracarbonsäuredianhydrid, 3,3',4,4'-Biphenyltetracarbonsäuredianhydrid, 3,3',4,4'-Benzophenontetracarbonsäuredianhydrid, Naphthalin-1,2,5,6-tetracarbonsäuredianhydrid, 2,2',3,3'-Diphenyltetracarbonsäuredianhydrid, 2,3,5,6-Pyridintetracarbonsäuredianhydrid, 2,2-Bis(3,4-dicarboxyphenyl)propandianhydrid, Bis(3,4-dicarboxyphenyl)sulfondianhydrid, 3,4,9,10-Perylentetracarbonsäuredianhydrid, Bis(3,4-dicarboxyphenyl)etherdianhydrid, 1,2,4,5-Naphthalintetracarbonsäuredianhydrid, 1,2,5,8-Naphthalintetracarbonsäuredianhydrid, 2,2-Bis(2,3-dicarboxyphenyl)propandianhydrid, 1,1-Bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethandianhydrid, 1,1-Bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethandianhydrid, Bis(2,3- dicarboxyphenyl)methandianhydrid, Bis(3,4-dicarboxyphenyl)methandianhydrid, Bis(3,4-dicarboxyphenyl)sulfondianhydrid, Benzol-1,2,3,4-tetracarbonsäuredianhydrid, 3,4,3',4'-Benzophenontetracarbonsäuredianhydrid usw.. Diese können einzeln oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden. Pyromellitsäuredianhydrid oder 3,3',4,4'-Biphenyltetracarbonsäuredianhydrid sind unter anderem besonders bevorzugt.
- Was das organische Lösungsmittel angeht, ist es möglich, z.B. N,N-Dimethylformamid, N,N-Dimethylacetamid, N,N-Diethylformamid, N,N-Diethylacetamid, N,N-Dimethylmethoxyacetamid, Dimethylsulfoxid, Hexamethylphosphorsäuretriamid, N-Methyl-2-pyrrolidon oder Dimethylsulfon oder ein Gemisch von zwei oder mehreren solchen Verbindungen, geeignete Mischungen eines jeden solchen Lösungsmittels mit Benzol, Toluol, Xylol, Benzonitril, Dioxan oder Cyclohexan zu verwenden. Es ist jedoch wichtig, ein Lösungsmittel zu verwenden, welches nicht nur für das organische Diamin, sondern auch für das Dianhydrid der organischen Tetracarbonsäure und die Polyamidsäure gut ist. Deshalb ist es bevorzugt, N,N-Dimethylformamid, N,N-Dimethylacetamid, Dimethylsulfoxid oder N-Methyl-2-pyrrolidon oder ein Gemisch davon zu verwenden.
- Die Polyamidsäure und das durch Umwandeln der Polyamidsäure erhaltene Polyimid können durch verschiedene Strukturformeln in Abhängigkeit von der Kombination des obenerwähnten organischen Diamins und des Dianhydrids der organischen Tetracarbonsäure, die alle in der vorliegenden Erfindung anwendbar sind, dargestellt werden. Insbesondere wird ein allgemein verwendetes Polyimid z.B. durch die allgemeine Formel (A)
- worin R&sub0;&sub1; eine 4-wertige organische Gruppe ist, oder durch die allgemeine Formel (B) dargestellt
- worin R&sub0;&sub2; eine 4-wertige organische Gruppe ist, R&sub0;&sub3; mindestens eines gewählt aus Wasserstoffatom, Halogengruppe, Hydroxylgruppe, Methylgruppe und Methoxygruppe ist und n 1, 2 oder 3 ist, und die vorliegende Erfindung kann gut auf ein Gemisch davon angewendet werden. Genauer gesagt ist ein Polyimid bevorzugt, welches 4,4'-Diaminodiphenylether und Pyromellitsäuredianhydrid als Hauptkomponenten umfaßt, um verschiedene Eigenschaften besser auszugleichen.
- In einem der Verfahren zum Erhalten einer verbesserten Polyimidqualität wird zuerst ein Dianhydrid einer organischen Tetracarbonsäure unter Rühren zu einer Lösung eines organischen Diamins in einem organischen Lösungsmittel zugegeben und eine Lösung von Polyamidsäure in einem organischen Lösungsmittel wird gebildet. Dann wird eine organische Phosphorverbindung zu der resultierenden Lösung der Polyamidsäure in einem organischen Lösungsmittel zugegeben und unter Rühren homogen vermischt. Ebensogut ist es möglich, die organische Phosphorverbindung vor der Zugabe in einem organischen Lösungsmittel aufzulösen, um eine schnellere und homogenere Vermischung zu erreichen. Die Lösung der Polyamidsäure in einem organischen Lösungsmittel, die mit der organischen Phosphorverbindung vermischt ist, wird z.B. durch Filmgießen auf ein Laufband und dann Umwandeln in ein Polyimid durch Dehydratisierung-Cyclisierung der Polyamidsäure durch Erwärmen in eine gewünschte Form gebracht, und dann wird ein Film aus Polyimid, das eine organische Phosphorverbindung enthält, gebildet.
- Die Phosphorverbindung ist im wesentlichen nichtreagierend mit Polyamidsäure und Polyimid, folglich besteht keine Wahrscheinlichkeit, daß die molekulare Struktur der letzteren geändert wird. Die Menge der zugegebenen organischen Phosphorverbindung ist so eingestellt, daß der Gehalt 0,5-5 Gew.-%, vorzugsweise 0,7-1,5 Gew.-%, bezogen auf Polyimid, beträgt. Wenn der Gehalt der organischen Phosphorverbindung weniger als 0,5 Gew.-% beträgt, ist die Wirkung der enthaltenen organischen Phosphorverbindung, d.h. die Wirkung der Verbesserung der mechanischen Festigkeit des Polyimids, kaum bemerkbar, wogegen, wenn der Gehalt der organischen Phosphorverbindung 5 Gew.-% überschreitet, sie eine Verfärbung des Polyimids hervorruft und auch den Nachteil einer deutlichen Erhöhung der Menge der zurückbleibenden flüchtigen Substanzen mit sich bringt.
- Als organische Phosphorverbindungen, die in der vorliegenden Erfindung verwendet werden, können unter anderen Triphenylphosphat, Methyldiethylphosphonoacetat, Triphenylphosphit, Phosphorsäuretri(2-ethylhexyl)ester, Tris-(2,3-dibrompropyl)phosphat, Tris(2-chlorethyl)phosphat, Tris(butoxyethyl)phosphat, Tri-n-butyl-phosphit, Ethyldiethylphosphonoacetat, Tris(1,3-dichlor-2-propyl)phosphat, Trimethylphosphit, Trimethylphosphat, Triethylphosphit, Hexamethyltriamidphosphat, Di(2-ethylhexyl)-phosphorsäure, Trimethylphosphonoacetat, Triethylphosphat, Bis(2-ethylhexyl)hydrogenphosphat, Dilaurylphenylphosphit, Phenylphosphonsäuredichlorid, Tridecylphosphit, Dinatriumphenylphosphat, (4-Ethoxybenzyl)triphenylphosphoniumbromid, Natriumglycerophosphat, Di-p-tolylphosphorsäure-Natriumsalz, Dinatriumphenylphosphat, Di-p-tolylphosphorsäure-Calciumsalz, Phenylphosphonsäure, Tris(4-tert-butylphenyl)phosphat, (4-Butoxybenzyl)triphenylphosphoniumbromid, Triphenylphosphin, Iproniazidphosphat, 3-Phosphoglycerinsäure-Bariumsalz, Methyl(triphenylphosphoranyliden)acetat, Triphenylphosphinoxid, Methyltriphenylphosphoniumbromid, Ethyltriphenylphosphoniumbromid, Butyltriphenylphosphoniumbromid, 2-Cyanoethylphosphat-Bariumsalz, Histamindiphosphat, Benzyltriphenylphosphoniumchlorid, Phosphonoessigsäure, p-Nitrophenylphosphat-Dinatriumsalz, 1-Naphthylphosphat-mononatriumsalz-monohydrat, Vinyltriphenylphosphoniumbromid, cyclisches Adenosin-3',5'-monophosphat, Adenosin-5'-monophosphat-Natriumsalz, Phenyldichlorphosphat, Creatinphosphat- Natriumsalz, Tricresylphosphat, Harnstofforthophosphat, Diphenylphosphinsäure, Bis[4-(methoxycarbonyl)phenyl]phosphorsäure-Natriumsalz, 2-Carboxyethylphosphonsäure, Diphenylphosphat, Tetraphenylphosphoniumchlorid, Diethylcyanomethylphosphonat, (3-Brompropyl)triphenylphosphoniumbromid, Cyclopropyltriphenylphosphoniumbromid, Bis(pentafluorphenyl)phenylphosphin, Dimethyl(2-oxopropyl)phosphonat, (Chlormethyl)triphenylphosphoniumchlorid, Tetra-n- butylphosphoniumbromid, Triethylphosphit, Ethyldichlorphosphat, p-Nitrophenyl-phosphorodichloridat, Tri-n-butylphosphin und Hexamethylphosphorsäuretriamid. Es ist auch möglich, andere Verbindungen mit diesen als Grundgerüst oder chemisch modifiziert zu verwenden.
- In der vorliegenden Erfindung können anorganische Phosphorverbindungen in kleiner Menge in Verbindung mit den vorstehenden organischen Phosphorverbindungen verwendet werden. Beispiele für die anorganische Phosphorverbindung sind hypophosphorige Säure, Lithiumphosphat, Diammoniumhydrogenphosphat, Ammoniumdihydrogenphosphat, einbasisches Mangan(II)phosphat, Dikaliumphosphat, Dinatriumhydrogenphosphat, Kaliumpyrophosphat, phosphorige Säure, Phosphorsäure, Pyrophosphorsäure, Metaphosphorsäure, Dibariumphosphat, Triammoniumphosphat, Kaliumdihydrogenphosphat, Monocalciumhydrogenphosphat, Natriumdihydrogenphosphatdihydrat, Natriumpolyphosphat, Natriumammoniumhydrogenphosphat, Natriumhydrophosphit, Tricalciumphosphat und Zinkphosphat.
- Eine Untersuchung des Polyimidfilms, der eine organische Phosphorverbindung in Verbindung mit der vorliegenden Erfindung enthielt, ergab, daß eine deutliche Verbesserung der mechanischen Eigenschaften bemerkbar war.
- Oben ist eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beschrieben, aber diese Erfindung kann auch in anderen Formen ausgeführt werden.
- Zum Beispiel werden die Polyamidsäuren, die eine organische Phosphorverbindung enthalten, dazu gebracht, durch Erwärmen zu dehydratisieren-cyclisieren, was zu der Umwandlung in das Polyimid führt, aber es ist auch möglich, ein Dehydratisierungs-Cyclisierungs-Mittel oder dieses zusammen mit einem Katalysator in einer Lösung von Polyamidsäure in einem organischen Lösungsmittel zu vermischen, um dadurch chemisch zu dehydratisieren-cyclisieren, und es kann auch gleichzeitig erwärmt werden.
- Als Dehydratisierungs-Cyclisierungs-Mittel können z.B. ein Anhydrid einer organischen Carbonsäure, N,N'-Dialkylcarbodiimide, Halogenide von niederen Fettsäuren, Halogenide von halogenierten niederen Fettsäuren, Anhydride von halogenierten niederen Fettsäuren, Allylphosphonsäuredihalogenid und dergleichen sowie Gemische davon verwendet werden. Von diesen ist besonders Essigsäureanhydrid bevorzugt und daneben gelten als bevorzugtes Dehydratisierungs-Cyclisierungs-Mittel Keten, Benzoesäureanhydrid usw..
- Als Katalysator sind z.B. Pydridin, Isochinolin und tertiäre Amine geeignet. Spezifische Beispiele sind 3,4-Lutidin, 3,5-Lutidin, 4-Methylpyridin, 4-Isopropylpyridin, N-Dimethylbenzylamin, 4-Benzylpyridin, 4-Dimethyldodecylamin, Picoline, Triethylamin und dergleichen. Von diesen ist Isochinolin besonders bevorzugt.
- In der vorstehenden Ausführungsform wird die organische Phosphorverbindung mit einer gebildeten Lösung von Polyamidsäure in einem organischen Lösungsmittel vermischt, aber es ist auch möglich, eine organische Phosphorverbindung in einer Lösung eines organischen Diamins oder eines Dianhydrids einer organischen Tetracarbonsäure in einem organischen Lösungsmittel zu vermischen, um dadurch Polyamidsäure zu bilden.
- Ferner ist es auch möglich, eine organische Phosphorverbindung mit einem Dehydratisierungs-Cyclisierungs-Mittel vorzuvermischen und dadurch das Dehydratisierungs-Cyclisierungs- Mittel und die organische Phosphorverbindung mit der Polyamidsäure zu vermischen.
- Folglich wird die Lösung von Polyamidsäure in einem organischen Lösungsmittel mit Zugabe einer organischen Phosphorverbindung in verschiedenen Formen, wie obenerwähnt, in Filmform extrudiert oder auf eine Gießtrommel oder ein Laufband als Film gegossen und auf der Trommel oder dem Band dehydratisiert-cyclisiert, um in Polyimid umgewandelt zu werden. Nachdem der Film ausgehärtet ist, um mindestens selbsttragend zu werden, wird er von der Trommel oder dem Band abgezogen und somit wird ein Polyimidfilm hergestellt.
- Die Dicke des Polyimidfilms, der eine organische Phosphorverbindung enthält, kann in geeigneter Weise so eingestellt werden, wie es erforderlich ist, und es gibt keine besonderen Beschränkungen. Bei dem Polyimidfilm der vorliegenden Erfindung, dessen mechanische Festigkeit verbessert ist, liegt jedoch seine Filmdicke wunschgemäß bei 12,5-150 um, mehr bevorzugt in einem Bereich von 75-130 um, zur Verbesserung der Flexibilität.
- Die vorliegende Erfindung wird ausführlicher durch Beispiele erläutert.
- Eine 15 Gew.-%ige Dimethylformamid(DMF)-Lösung, die Polyamidsäure enthielt, wurde in einem Eisbad durch Umsetzen von 4,4'-Diaminodiphenylether (ODA) als organisches Diamin und Pyromellitsäuredianhydrid (PMDA) als Dianhydrid einer organischen Tetracarbonsäure in ungefähr äquimolaren Mengen hergestellt. Zu der resultierenden Polyamidsäurelösung wurde Triphenylphosphat als organische Phosphorverbindung in einer Menge von 1,0 Gew.-% des Polyimids zugegeben. Ferner wurde Essigsäureanhydrid als Dehydratisierungs-Cyclisierungs-Mittel mit der zweifachen Molarität der Carboxylgruppe der Polyamidsäure und Isochinolin als Katalysator mit der halben Molarität der Carboxylgruppe der Polyamidsäure vermischt, dann wurde die resultierende gemischte Polyamidsäurelösung über eine glatte Oberfläche gegossen und dann wurde sie in eine Trockenkammer mit einer Innentemperatur von 100ºC gegeben und darin 10 Minuten lang gehalten.
- Nach dem Umwandeln der Polyamidsäure in Polyimid durch Dehydratisierung-Cyclisierung und gleichzeitige Verdampfung der flüchtigen Komponente, um dadurch einen selbsttragenden Polyimidfilm herzustellen, wurde der gebildete Polyimidfilm von der glatten Oberfläche abgezogen und eine Wärmebehandlung angewandt, wobei der resultierende Polyimidfilm mechanisch an vier Ecken befestigt war. Die Bedingungen der Wärmebehandlung waren 10 Minuten in einer Atmosphäre von 300ºC gefolgt von 3 Minuten langem Aufenthalt in einer Atmosphäre von 420ºC. Die Dicke des so erhaltenen Polyimidfilms betrug ungefähr 125 um.
- Von diesem Polyimidfilm wurden die Zugfestigkeit und Flexibilität als mechanische Eigenschaften gemessen. Das eingesetzte Meßverfahren war JIS-C2318 für die Zugfestigkeit und ASTMD-2176 für die Flexibilität. Auch das äußere Erscheinungsbild des Polyimidfilms wurde visuell geprüft, wobei der Farbton usw. berücksichtigt wurden. Das Ergebnis ist in Tabelle 1 gezeigt.
- Ein Polyimidfilm wurde unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel 1 hergestellt. Es wurde jedoch Triphenylphosphat zu der Polyamidsäurelösung in einer Menge von 2,0 Gew.-% des Polyimids zugegeben.
- Bei dem so erhaltenen Polyimidfilm war das Ergebnis der Messung und Untersuchung seiner Zugfestigkeit, Flexibilität und des äußeren Erscheinungsbildes wie in Tabelle 1 gezeigt.
- Ein Polyimidfilm wurde unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel 1 hergestellt. Es wurde jedoch Triphenylphosphat zu der Polyamidsäurelösung in einer Menge von 5,0 Gew.-% des Polyimids zugegeben.
- Bei dem so erhaltenen Polyimidfilm war das Ergebnis der Messung und Untersuchung seiner Zugfestigkeit, Flexibilität und des äußeren Erscheinungsbildes wie in Tabelle 1 gezeigt.
- Ein Polyimidfilm wurde unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel 1 hergestellt. Triphenylphosphat wurde jedoch nicht zu der Polyamidsäurelösung zugegeben und es wurde ein Polyimidfilm erhalten, der keine organische Phosphorverbindung enthielt.
- Bei dem so erhaltenen Polyimidfilm war das Ergebnis der Messung und Untersuchung seiner Zugfestigkeit, Flexibilität und des äußeren Erscheinungsbildes wie in Tabelle 1 gezeigt.
- Eine 15 Gew.-%ige Dimethylformamid(DMF)-Lösung, die Polyamidsäure enthielt, wurde in einem Eisbad durch Umsetzen von para-Phenylendiamin (P-PDA) als organisches Diamin und Biphenyltetracarbonsäuredianhydrid als Dianhydrid einer organischen Tetracarbonsäure in ungefähr äquimolaren Mengen hergestellt. Zu der resultierenden Polyamidsäurelösung wurde Triphenylphosphat zu seiner Polyamidsäurelösung in einer Menge von 1,0 Gew.-%, bezogen auf das Polyimid, zugegeben. Und ein Polyimidfilm wurde unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel 1 hergestellt.
- Bei dem so erhaltenen Polyimidfilm wurden die Zugfestigkeit, Flexibilität und das äußere Erscheinungsbild in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 beschrieben gemessen und untersucht, und das Ergebnis war wie in Tabelle 1 gezeigt.
- Eine 15 Gew.-%ige Dimethylformamid(DMF)-Lösung, die Polyamidsäure enthielt, wurde in einem Eisbad durch Umsetzen von 4,4'-Diaminodiphenylether (ODA) als organisches Diamin und Biphenyltetracarbonsäuredianhydrid als Dianhydrid einer organischen Tetracarbonsäure in ungefähr äquimolaren Mengen hergestellt. Zu dieser Polyamidsäurelösung wurde Triphenylphosphat in einer Menge von 1,0 Gew.-%, bezogen auf das Polyimid, zugegeben. Und ein Polyimidfilm wurde unter den ansonsten gleichen Bedingungen wie in Beispiel 1 hergestellt.
- Bei dem so erhaltenen Polyimidfilm wurden die Zugfestigkeit, Flexibilität und das äußere Erscheinungsbild in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 beschrieben gemessen und untersucht, und das Ergebnis war wie in Tabelle 1 gezeigt.
- Eine 15 Gew.-%ige Dimethylformamid(DMF)-Lösung, die Polyamidsäure enthielt, wurde in einem Eisbad durch Umsetzen eines 4:1-Gemisches, bezogen auf das Gewicht, von 4,4'-Diaminodiphenylether (ODA) und para-Phenylendiamin (P-PDA) als organisches Diamin und Pyromellitsäuredianhydrid (PMDA) als Dianhydrid einer organischen Tetracarbonsäure in solchen Mengen, daß die Aminogruppe und Säureanhydridgruppe ungefähr äquimolar sind, hergestellt. Zu dieser Polyamidsäurelösung wurde Triphenylphosphat in einer Menge von 1,0 Gew.-%, bezogen auf das Polyimid, zugegeben. Ein Polyimidfilm wurde unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel 1 hergestellt.
- Bei dem so erhaltenen Polyimidfilm wurde die Zugfestigkeit, Flexibilität und das äußere Erscheinungsbild in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 beschrieben gemessen und untersucht, und das Ergebnis war wie in Tabelle 1 gezeigt. Tabelle 1 Beispiel Polyamidsäurezusammensetzung zugegebene Menge (Gew.-%) Zugfestigkeit (kg/mm²) Flexibilität (Vielfaches) Erscheinungsbild normal leicht verändert ODA: 4,4'-Diaminodiphenylether PMDA: Pyromellitsäuredianhydrid P-PDA: para-Phenylendiamin BPDA: Biphenyltetracarbonsäuredianhydrid
- Eine 15 Gew.-%ige Dimethylformamid(DMF)-Lösung, die Polyamidsäure enthielt, wurde in einem Eisbad durch Umsetzen von 4,4'-Diaminodiphenylether (ODA) als organisches Diamin und Pyromellitsäuredianhydrid (PMDA) als Dianhydrid einer organischen Tetracarbonsäure in ungefähr äquimolaren Mengen hergestellt. Zu der resultierenden Polyamidsäurelösung wurde Triphenylphosphit als organische Phosphorverbindung in einer Menge von 2,0 Gew.-%, bezogen auf das Polyimid, zugegeben. Danach wurde ein Polyimidfilm in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 beschrieben hergestellt. Die Dicke des Polyimidfilms betrug ungefähr 125 um, wie in Beispiel 1.
- Bei dem so erhaltenen Polyimidfilm wurden die Zugfestigkeit, Flexibilität und das äußere Erscheinungsbild in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 beschrieben gemessen und untersucht, und das Ergebnis war wie in Tabelle 2 gezeigt.
- Zu der gleichen Polyamidsäurelösung, wie in Beispiel 7 beschrieben, wurde Trioctylphosphat als organische Phosphorverbindung in einer Menge von 2,0 Gew.-%, bezogen auf das Polyimid, zugegeben und ein Polyimidfilm wurde hergestellt.
- Bei dem so erhaltenen Polyimidfilm wurden die Zugfestigkeit, Flexibilität und das äußere Erscheinungsbild in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 beschrieben gemessen und untersucht, und das Ergebnis war wie in Tabelle 2 gezeigt.
- Zu der gleichen Polyamidsäurelösung, wie in Beispiel 7 beschrieben, wurde Tris(butoxyethyl)phosphat als organische Phosphorverbindung in einer Menge von 2,0 Gew.-%, bezogen auf das Polyimid, zugegeben.
- Bei dem so erhaltenen Polyimidfilm wurden die Zugfestigkeit, Flexibilität und das äußere Erscheinungsbild in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 beschrieben gemessen und untersucht und das Ergebnis war wie in Tabelle 2 gezeigt.
- Zu der gleichen Polyamidsäurelösung wie in Beispiel 7 beschrieben wurde Diethylphosphonoethylacetat als organische Phosphorverbindung in einer Menge von 2,0 Gew.-%, bezogen auf das Polyimid, zugegeben und ein Polyimidfilm wurde hergestellt.
- Bei dem so erhaltenen Polyimidfilm wurden die Zugfestigkeit, Flexibilität und das äußere Erscheinungsbild in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 beschrieben gemessen und untersucht, und das Ergebnis war wie in Tabelle 2 gezeigt.
- Zu der gleichen Polyamidsäurelösung wie in Beispiel 7 beschrieben wurde Trimethylphosphit als organische Phosphorverbindung in einer Menge von 2,0 Gew.-%, bezogen auf das Polyimid, zugegeben und ein Polyimidfilm wurde hergestellt.
- Bei dem so erhaltenen Polyimidfilm wurden die Zugfestigkeit, Flexibilität und das äußere Erscheinungsbild in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 beschrieben gemessen und untersucht, und das Ergebnis war wie in Tabelle 2 gezeigt.
- Zu der gleichen Polyamidsäurelösung wie in Beispiel 7 beschrieben wurde Trimethylphosphat als organische Phosphorverbindung in einer Menge von 2,0 Gew.-%, bezogen auf das Polyimid, zugegeben und ein Polyimidfilm wurde hergestellt.
- Bei dem so erhaltenen Polyimidfilm wurden die Zugfestigkeit, Flexibilität und das äußere Erscheinungsbild in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 beschrieben gemessen und untersucht, und das Ergebnis war wie in Tabelle 2 gezeigt.
- Zu der gleichen Polyamidsäurelösung, wie in Beispiel 7 beschrieben, wurde Hypophosphorsäure als organische Phosphorverbindung in einer Menge von 2,0 Gew.-%, bezogen auf das Polyimid, zugegeben und ein Polyimidfilm wurde hergestellt.
- Bei dem so erhaltenen Polyimidfilm wurden die Zugfestigkeit, Flexibilität und das äußere Erscheinungsbild in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 beschrieben gemessen und untersucht, und das Ergebnis war wie in Tabelle 2 gezeigt.
- Zu der gleichen Polyamidsäurelösung wie in Beispiel 7 beschrieben, wurde Ethylhypophosphit als organische Phosphorverbindung in einer Menge von 2,0 Gew.-%, bezogen auf das Polyimid, zugegeben und ein Polyimidfilm wurde hergestellt.
- Bei dem so erhaltenen Polyimidfilm wurden die Zugfestigkeit, Flexibilität und das äußere Erscheinungsbild in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 beschrieben gemessen und untersucht, und das Ergebnis war wie in Tabelle 2 gezeigt.
- Zu der gleichen Polyamidsäurelösung wie in Beispiel 7 beschrieben, wurde Trimethylphosphonoacetat als organische Phosphorverbindung in einer Menge von 2,0 Gew.-%, bezogen auf das Polyimid, zugegeben und ein Polyimidfilm wurde hergestellt.
- Bei dem so erhaltenen Polyimidfilm wurden die Zugfestigkeit, Flexibilität und das äußere Erscheinungsbild in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 beschrieben gemessen und untersucht, und das Ergebnis war wie in Tabelle 2 gezeigt. Tabelle 2 organische Phosphorverbindung zugegebene Menge (Gew.-%) Zugfestigkeit (kg/mm²) Flexibilität (vielfaches) Erscheinungsbild Triphenylphosphit Trioctylphosphat Tris(butoxyethyl)phosphat Diethylphosphonoethylacetat Trimethylphosphit Trimethylphosphat Hypophosphorige Säure Ethylphosphit Trimethylphosphonoacetat normal
- Die vorliegende Erfindung hat eine deutliche Verbesserung der mechanischen Eigenschaften von Polyimid durch die Einarbeitung einer vorbestimmten Menge der angegebenen organischen Phosphorverbindung in ein bekanntes Polyimid ermöglicht.
- Die vorliegende Erfindung hat herausragende Wirkungen derart, daß das Verfahren zum Herstellen eines Polyimidfilms, der die organische Phosphorverbindung enthält, keine komplizierte Handhabung oder Verarbeitung erfordert, und daß dadurch kostengünstig und rasch eine verbesserte Polyimidfilmqualität hergestellt werden kann.
Claims (7)
1. Polyimidfilm, enthaltend eine organische
Phosphorverbindung in einer Menge von 0,5-5 Gew.-%, bezogen auf das
Polyimid.
2. Polyimidfilm nach Anspruch 1, worin der Gehalt der
organischen Phosphorverbindung 0,7-1,5 Gew.-%, bezogen
auf das Polyimid, beträgt.
3. Polyimidfilm nach Anspruch 1, worin das Polyimid
mindestens eines, gewählt aus Polyimiden, die durch die
allgemeinen Formeln (A) und (B) dargestellt sind, ist:
worin R&sub1; eine 4-wertige organische Gruppe ist,
worin R&sub2; eine 4-wertige organische Gruppe ist, R&sub3;
mindestens ein Substituent, gewählt aus einem
Wasserstoffatom, einem Halogenatom, einer Hydroxylgruppe, einer
Methylgruppe und einer Methoxygruppe, ist, und n 1,2
oder 3 ist.
4. Polyimidfilm nach Anspruch 1 mit einer Filmdicke von
12,5-150 um.
5. Polyimidfilm nach Anspruch 4 mit einer Filmdicke von
75-130 um.
6. Verfahren zum Herstellen des Polyimidfilms nach einem
der Ansprüche 1 bis 5, umfassend das Vermischen von
0,5-5 Gew.-%, bezogen auf das Polyimid, einer
organischen Phosphorverbindung mit einer Lösung von
Polyamidsäure in einem organischen Lösungsmittel und das
Unterwerfen des Gemisches einer Dehydratisierung-Cyclisierung
und das Bilden eines Films.
7. Verfahren nach Anspruch 6, worin die organische
Phosphorverbindung mit einem
Dehydratisierungs-Cyclisierungs-Mittel vor dem Vermischen mit der Polyamidsäure
vorvermischt wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63177526A JP2673547B2 (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | 改良されたポリイミドフィルム及び該製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE68920080D1 DE68920080D1 (de) | 1995-02-02 |
DE68920080T2 true DE68920080T2 (de) | 1995-05-04 |
Family
ID=16032464
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE68920080T Expired - Fee Related DE68920080T2 (de) | 1988-07-15 | 1989-07-14 | Polyimide und Polyimidfilme und Herstellungsverfahren. |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5665802A (de) |
EP (1) | EP0350958B1 (de) |
JP (1) | JP2673547B2 (de) |
CA (1) | CA1340176C (de) |
DE (1) | DE68920080T2 (de) |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5858518A (en) * | 1996-02-13 | 1999-01-12 | Nitto Denko Corporation | Circuit substrate, circuit-formed suspension substrate, and production method thereof |
US5969087A (en) * | 1997-04-04 | 1999-10-19 | Nitto Denko Corporation | Polyimide, a method for manufacturing the same, a gas separation membrane using the polyimide and a method for manufacturing the same |
JPH1187867A (ja) | 1997-09-01 | 1999-03-30 | Nitto Denko Corp | 回路基板、回路付きサスペンション基板及びそれらの製造方法 |
JP2000187403A (ja) * | 1998-12-21 | 2000-07-04 | Nitto Denko Corp | 半導電性ベルト |
US20060019102A1 (en) * | 2004-07-26 | 2006-01-26 | Kuppsuamy Kanakarajan | Flame-retardant halogen-free polyimide films useful as thermal insulation in aircraft applications and methods relating thereto |
US20100331432A1 (en) * | 2007-07-11 | 2010-12-30 | Ube Industries, Ltd. | Process for producing polyimide foam and polyimide foam |
US8616266B2 (en) | 2008-09-12 | 2013-12-31 | Rockwell Collins, Inc. | Mechanically compliant thermal spreader with an embedded cooling loop for containing and circulating electrically-conductive liquid |
US8650886B2 (en) | 2008-09-12 | 2014-02-18 | Rockwell Collins, Inc. | Thermal spreader assembly with flexible liquid cooling loop having rigid tubing sections and flexible tubing sections |
US8221089B2 (en) * | 2008-09-12 | 2012-07-17 | Rockwell Collins, Inc. | Thin, solid-state mechanism for pumping electrically conductive liquids in a flexible thermal spreader |
US20120053272A1 (en) * | 2009-02-27 | 2012-03-01 | Robert Ray Burch | Polyimide resins for high temperature wear applications |
US8414815B2 (en) | 2010-08-25 | 2013-04-09 | Xerox Corporation | Seamless fuser member process |
US8886106B2 (en) * | 2011-03-02 | 2014-11-11 | Konica Minolta Business Technologies, Inc. | Intermediate transfer belt and method for producing the same |
JP6032202B2 (ja) | 2011-06-14 | 2016-11-24 | 宇部興産株式会社 | ポリイミド積層体の製造方法、およびポリイミド積層体 |
TWI573691B (zh) | 2011-06-14 | 2017-03-11 | 宇部興產股份有限公司 | 聚醯亞胺疊層體之製造方法及聚醯亞胺疊層體 |
JP6152688B2 (ja) * | 2013-04-22 | 2017-06-28 | 宇部興産株式会社 | ポリアミック酸溶液組成物、及びそれを用いたポリイミド膜の製造方法 |
KR20140139367A (ko) * | 2013-05-27 | 2014-12-05 | 삼성전자주식회사 | 광학 필름의 제조 방법, 및 상기 제조 방법에 의해 제조되는 광학 필름 |
KR102115561B1 (ko) | 2013-09-16 | 2020-05-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 폴리이미드 기판의 제조 방법 및 이를 이용하는 표시장치의 제조 방법 |
KR102276288B1 (ko) | 2013-11-25 | 2021-07-12 | 삼성전자주식회사 | 폴리이미드 제조용 조성물, 폴리이미드, 상기 폴리이미드를 포함하는 성형품, 및 상기 성형품을 포함하는 디스플레이 장치 |
KR102188483B1 (ko) * | 2013-11-27 | 2020-12-08 | 우베 고산 가부시키가이샤 | 폴리이미드 전구체 조성물, 폴리이미드의 제조 방법, 폴리이미드, 폴리이미드 필름, 및 기판 |
KR102180089B1 (ko) * | 2013-12-30 | 2020-11-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | 플렉서블 기판의 제조 방법 및 이를 이용하는 표시장치의 제조 방법 |
KR102167315B1 (ko) | 2014-04-30 | 2020-10-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기전계발광 표시장치 |
US9975997B2 (en) | 2015-03-27 | 2018-05-22 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Compositions, composites prepared therefrom, and films and electronic devices including the same |
KR102442188B1 (ko) | 2015-06-19 | 2022-09-13 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법 |
KR102415326B1 (ko) | 2015-10-29 | 2022-06-30 | 삼성디스플레이 주식회사 | 플렉서블 표시 장치 및 플렉서블 표시 장치의 제조 방법 |
CN109808245B (zh) * | 2017-05-24 | 2020-10-13 | 中国建筑材料科学研究总院有限公司 | 圆筒状工件内表面用隔热层及其制备方法 |
KR102317327B1 (ko) * | 2019-08-29 | 2021-10-27 | 피아이첨단소재 주식회사 | 폴리이미드 필름 및 그 제조방법 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2733226A (en) * | 1951-10-12 | 1956-01-31 | Triaryl phosphite stabilizers for | |
US3047608A (en) * | 1960-09-15 | 1962-07-31 | Weston Chemical Corp | Phosphites |
NL293724A (de) * | 1962-06-06 | |||
FR2000601A1 (de) * | 1968-01-23 | 1969-09-12 | Toyo Rayon Co Ltd | |
US3565847A (en) * | 1968-06-05 | 1971-02-23 | American Cyanamid Co | Composition of matter comprising a thermoplastic polyimide of 3,4-dicarboxy-1,2,3,4 - tetrahydro - 1 - naphthalene succinic dianhydride and a piprimary diamine containing certain quantities of triaryl phosphates |
US3551200A (en) * | 1968-09-18 | 1970-12-29 | Raychem Corp | Electrical component insulated by poly(1,12 dodecamethylene pyromellitimide) or poly(1,13 tridecamethylene pyromellitimide) |
US3607387A (en) * | 1968-09-18 | 1971-09-21 | Raychem Corp | Flame resistant polyimide-coated conductor having a linear polyimide layer covered by an aromatic polyamide |
US3714116A (en) * | 1970-04-08 | 1973-01-30 | Raychem Corp | Polyimide compositions |
JPS4719615U (de) * | 1971-01-18 | 1972-11-06 | ||
US3691136A (en) * | 1971-03-29 | 1972-09-12 | Standard Oil Co | Use of phosphorus compounds as stripping agents for polyamide-imide films |
JPS4822990U (de) * | 1971-07-22 | 1973-03-15 | ||
BE792330A (fr) * | 1971-12-07 | 1973-06-06 | Westinghouse Electric Corp | Procede pour empecher des resines d'adherer a un |
JPS5739926A (en) * | 1980-08-25 | 1982-03-05 | Nippon Carbide Ind Co Ltd | Polyimide film and its manufacture |
JPS58145419A (ja) * | 1982-02-23 | 1983-08-30 | Toray Ind Inc | 芳香族ポリイミドフイルムの製造方法 |
JPS58180532A (ja) * | 1982-04-16 | 1983-10-22 | Sumitomo Chem Co Ltd | 芳香族ポリアミドイミドの製造方法 |
US4508861A (en) * | 1983-12-29 | 1985-04-02 | General Electric Company | Thermally stabilized polyetherimides |
JPS60244507A (ja) * | 1984-05-18 | 1985-12-04 | Ube Ind Ltd | 芳香族ポリイミドフイルムの製造法 |
JPH0665708B2 (ja) * | 1985-11-29 | 1994-08-24 | 鐘淵化学工業株式会社 | 新規ポリイミドフィルム及びその製造法 |
JPS63199264A (ja) * | 1987-02-13 | 1988-08-17 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 耐熱性樹脂の製造方法 |
-
1988
- 1988-07-15 JP JP63177526A patent/JP2673547B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-07-10 CA CA000605187A patent/CA1340176C/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-07-14 EP EP89112981A patent/EP0350958B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-07-14 DE DE68920080T patent/DE68920080T2/de not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-09-09 US US08/711,072 patent/US5665802A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0350958A3 (en) | 1990-11-14 |
CA1340176C (en) | 1998-12-08 |
EP0350958B1 (de) | 1994-12-21 |
DE68920080D1 (de) | 1995-02-02 |
JP2673547B2 (ja) | 1997-11-05 |
US5665802A (en) | 1997-09-09 |
EP0350958A2 (de) | 1990-01-17 |
JPH0228257A (ja) | 1990-01-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE68920080T2 (de) | Polyimide und Polyimidfilme und Herstellungsverfahren. | |
DE68917952T2 (de) | Herstellung von Silicon enthaltendem Polyimid-Prepolymer und davon erhaltene gehärtete Polyimide. | |
DE3856099T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von wenig dielektrischen Polyimiden | |
DE3215944C2 (de) | ||
DE69026158T2 (de) | Gedruckte Schaltung auf flexibler Leiterplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE3855656T2 (de) | Schmelzformbares kristallines Polyimid | |
DE69124458T2 (de) | Polyimidharzfolie | |
DE68918576T2 (de) | Verfahren zur erniedrigung der dielektrizitätskonstante von polyimiden mit hilfe von diaminosäurezusätzen. | |
EP0048220B1 (de) | Verwendung von flexiblem Basismaterial zur Herstellung von gedruckten Schaltungen | |
DE3607584A1 (de) | Farbloser, transparenter polyimid-formkoerper und verfahren zu seiner herstellung | |
DE3200633A1 (de) | Verfahren zur herstellung von polyimiden | |
DE69123526T2 (de) | Polyimidfilm mit Zinnsalz-Einarbeitung zur Haftungsverbesserung | |
DE19824193A1 (de) | Flammfeste Harzzusammensetzungen und deren Verwendung zur Herstellung von Halbleiter-Versiegelungsmaterial | |
DE69733045T2 (de) | Antistatischer aromatischer Polyimid-Film | |
DE1202981B (de) | Verfahren zur Herstellung von Polyimidformkoerpern aus Polyamidsaeure | |
DE602004000671T2 (de) | Polyimidmassen für elektrische Isolation | |
DE60124321T2 (de) | Polyimidzusammensetzung mit verbessertem abschälwiderstand | |
DE3873844T2 (de) | Verfahren zur herstellung eines silicon enthaltenden polyimids sowie dessen vorstufe. | |
DE4209381C2 (de) | Polyimid-Zusammensetzung und ihre Verwendung | |
DE69026848T2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer biegsamen gedruckten Unterlage | |
DE1902875C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Imidreste enthaltenden Polykondensaten | |
DE102020104587A1 (de) | Polyimidfilme und elektronische vorrichtungen | |
DE3886152T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Polyimid-isoindochinazolindion und ihren Vorläufern. | |
DE1901292A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Amidsaeureoligomermassen | |
DE2523130A1 (de) | Monomeres ueberzugsmaterial, daraus hergestellte produkte, verfahren zu deren herstellung und mit ihnen beschichtete substrate |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |