DE69124458T2 - Polyimidharzfolie - Google Patents
PolyimidharzfolieInfo
- Publication number
- DE69124458T2 DE69124458T2 DE69124458T DE69124458T DE69124458T2 DE 69124458 T2 DE69124458 T2 DE 69124458T2 DE 69124458 T DE69124458 T DE 69124458T DE 69124458 T DE69124458 T DE 69124458T DE 69124458 T2 DE69124458 T2 DE 69124458T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- film
- linear expansion
- expansion coefficient
- polyimide
- fpc
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 title claims description 44
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 title claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 12
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 12
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 2
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 26
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical group [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 17
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 16
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 15
- -1 Aromatic tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 11
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 10
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 5
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 5
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N bpda Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 3
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 3
- NGULVTOQNLILMZ-UHFFFAOYSA-N 2-bromobenzene-1,4-diamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C(Br)=C1 NGULVTOQNLILMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MGLZGLAFFOMWPB-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C(Cl)=C1 MGLZGLAFFOMWPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXFTWEVIIHVHDS-UHFFFAOYSA-N 2-fluorobenzene-1,4-diamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C(F)=C1 FXFTWEVIIHVHDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OBCSAIDCZQSFQH-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1,4-phenylenediamine Chemical compound CC1=CC(N)=CC=C1N OBCSAIDCZQSFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 2
- 238000006358 imidation reaction Methods 0.000 description 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPDXQVDLHJYANP-UHFFFAOYSA-N 2,3-dibromobenzene-1,4-diamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C(Br)=C1Br WPDXQVDLHJYANP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWWTUQATBGTZFD-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichlorobenzene-1,4-diamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C(Cl)=C1Cl CWWTUQATBGTZFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRFSJAVIFPITPG-UHFFFAOYSA-N 2,3-difluorobenzene-1,4-diamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C(F)=C1F WRFSJAVIFPITPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZVVXXLYQIFVCA-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CC1=C(C)C(N)=CC=C1N GZVVXXLYQIFVCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MJFBGMMDLNKGNC-UHFFFAOYSA-N 2,5-dibromobenzene-1,4-diamine Chemical compound NC1=CC(Br)=C(N)C=C1Br MJFBGMMDLNKGNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAYVHDDEMLNVMO-UHFFFAOYSA-N 2,5-dichlorobenzene-1,4-diamine Chemical compound NC1=CC(Cl)=C(N)C=C1Cl QAYVHDDEMLNVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKTNFNZZMROBEB-UHFFFAOYSA-N 2,5-difluorobenzene-1,4-diamine Chemical compound NC1=CC(F)=C(N)C=C1F ZKTNFNZZMROBEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWAPJIHJXDYDPW-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethyl-p-phenylenediamine Chemical compound CC1=CC(N)=C(C)C=C1N BWAPJIHJXDYDPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQCHAOKWWKLXQH-UHFFFAOYSA-N 2,6-Dichloro-para-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC(Cl)=C(N)C(Cl)=C1 HQCHAOKWWKLXQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXNGYGWQMXMCA-UHFFFAOYSA-N 2,6-dibromobenzene-1,4-diamine Chemical compound NC1=CC(Br)=C(N)C(Br)=C1 NIXNGYGWQMXMCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFWCWQUDUPQGKG-UHFFFAOYSA-N 2,6-difluorobenzene-1,4-diamine Chemical compound NC1=CC(F)=C(N)C(F)=C1 XFWCWQUDUPQGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MJAVQHPPPBDYAN-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CC1=CC(N)=CC(C)=C1N MJAVQHPPPBDYAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJYCAYKHNVQCJW-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[4-(2-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC(OC=3C(=CC=CC=3)N)=CC=2)C=C1 FJYCAYKHNVQCJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDRNVPNSQJRIRN-UHFFFAOYSA-N 2-amino-5-[2-(4-amino-3-hydroxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenol Chemical compound C1=C(O)C(N)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(N)C(O)=C1 ZDRNVPNSQJRIRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDFAWEKPFLGRAK-UHFFFAOYSA-N 2-amino-5-[2-(4-amino-3-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=C(N)C(O)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(N)C(O)=C1 JDFAWEKPFLGRAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUWXDEQWWKGHRV-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dichlorobenzidine Chemical group C1=C(Cl)C(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C(Cl)=C1 HUWXDEQWWKGHRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethoxybenzidine Chemical group C1=C(N)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C(N)=CC=2)=C1 JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethylbenzidine Chemical group C1=C(N)C(C)=CC(C=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSTOKWSFWGCZMH-UHFFFAOYSA-N 3,3'-diaminobenzidine Chemical compound C1=C(N)C(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C(N)=C1 HSTOKWSFWGCZMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWHLJVMSZRKEAQ-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dicarboxyphenyl)phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C=2C(=C(C(O)=O)C=CC=2)C(O)=O)=C1C(O)=O GWHLJVMSZRKEAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBAUUNCGSMAPFM-UHFFFAOYSA-N 3-(3,4-dicarboxyphenyl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=CC(C(O)=O)=C1C(O)=O NBAUUNCGSMAPFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXJLFVRAWOOQDR-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenoxy)aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LXJLFVRAWOOQDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)sulfonylaniline Chemical compound NC1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBMISJGHVWNWTE-UHFFFAOYSA-N 3-(4-aminophenoxy)aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(N)=C1 ZBMISJGHVWNWTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(3-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(OC=3C=C(N)C=CC=3)C=CC=2)=C1 DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCXGOVYROJJXHA-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(=CC=2)S(=O)(=O)C=2C=CC(OC=3C=C(N)C=CC=3)=CC=2)=C1 WCXGOVYROJJXHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQBIGPMJQUKYAH-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-diaminophenoxy)benzene-1,2-diamine Chemical compound C1=C(N)C(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C(N)=C1 RQBIGPMJQUKYAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxybenzoyl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFBALUPVVFCEPA-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxyphenyl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 LFBALUPVVFCEPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWOLORXQTIGHFX-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-2,3,5,6-tetrafluorophenyl)-2,3,5,6-tetrafluoroaniline Chemical group FC1=C(F)C(N)=C(F)C(F)=C1C1=C(F)C(F)=C(N)C(F)=C1F FWOLORXQTIGHFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBEVWPCAHIAUOD-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-amino-3-ethylphenyl)methyl]-2-ethylaniline Chemical compound C1=C(N)C(CC)=CC(CC=2C=C(CC)C(N)=CC=2)=C1 CBEVWPCAHIAUOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEKFRNOZJSYWKZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(N)C=C1 BEKFRNOZJSYWKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYEDGEXYGKWJPB-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)propan-2-yl]aniline Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(N)C=C1 ZYEDGEXYGKWJPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUPRYUDHUFLKFL-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(OC=2C=CC(N)=CC=2)=C1 WUPRYUDHUFLKFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBSMHWVGUPQNJJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-aminophenyl)phenyl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(C=2C=CC(N)=CC=2)C=C1 QBSMHWVGUPQNJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1 HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDFYRFKAYFZVNH-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenoxy]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 LDFYRFKAYFZVNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTDAGHZGKXPRQI-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 UTDAGHZGKXPRQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQMIJLIXKMKFQW-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbenzene-1,2,3,5-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C1C1=CC=CC=C1 CQMIJLIXKMKFQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical group C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- CCAFPWNGIUBUSD-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfoxide Chemical compound CCS(=O)CC CCAFPWNGIUBUSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylacetamide Chemical compound CCN(CC)C(C)=O AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRATVSDPPHMXIR-UHFFFAOYSA-N n-chloro-3-[[3-(chloroamino)phenyl]methyl]aniline Chemical compound ClNC1=CC=CC(CC=2C=C(NCl)C=CC=2)=C1 KRATVSDPPHMXIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 125000002256 xylenyl group Chemical class C1(C(C=CC=C1)C)(C)* 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/14—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers
- B32B37/144—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers using layers with different mechanical or chemical conditions or properties, e.g. layers with different thermal shrinkage, layers under tension during bonding
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C55/00—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor
- B29C55/02—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets
- B29C55/10—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets multiaxial
- B29C55/12—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets multiaxial biaxial
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1067—Wholly aromatic polyimides, i.e. having both tetracarboxylic and diamino moieties aromatically bound
- C08G73/1071—Wholly aromatic polyimides containing oxygen in the form of ether bonds in the main chain
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/032—Organic insulating material consisting of one material
- H05K1/0346—Organic insulating material consisting of one material containing N
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2079/00—Use of polymers having nitrogen, with or without oxygen or carbon only, in the main chain, not provided for in groups B29K2061/00 - B29K2077/00, as moulding material
- B29K2079/08—PI, i.e. polyimides or derivatives thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2031/00—Other particular articles
- B29L2031/34—Electrical apparatus, e.g. sparking plugs or parts thereof
- B29L2031/3425—Printed circuits
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2379/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C08J2361/00 - C08J2377/00
- C08J2379/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08J2379/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S264/00—Plastic and nonmetallic article shaping or treating: processes
- Y10S264/73—Processes of stretching
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/91—Product with molecular orientation
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31721—Of polyimide
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Description
- Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf einen Harzfilm und ein Verfahren zur Herstellung des Films, und besonders auf einen Polyimidfilm mit guter Dimensionsstabilität und Eignung für die Verwendung als Basisfilm für flexible Schaltkreisleiterplatten und auf ein Verfahren zur Herstellung des Films.
- Im Elektronikbereich wächst das Bedürfnis nach Packung mit hoher Dichte stark an, und dementsprechend wird in denjenigen technischen Bereichen, in denen flexible Schaltkreisleiterplatten (nachstehend als FPC bezeichnet) eingesetzt werden, das Bedürfnis nach Packung mit hoher Dichte ebenfalls größer werden. Beim Verfahren zur FPC-Herstellung unterliegen die Filmdimensionen bemerkenswerten Veränderungen beim Schritt der Verätzung, bei dem die auf den Basisfilm geklebte Kupferfolie gemäß dem erforderlichen Huster verätzt wird, und/oder bei einem angrenzenden Schritt. Daher ist es erforderlich, daß dimensionale Änderungen vor und nach einem solchen Schritt minimiert werden, um eine Packung mit hoher Dichte zu ermöglichen.
- Bisher wurden Polyimidfilme als Basisfum für eine FPC verwendet. Von diesen Filmen haben Polyimidfilme mit guter Handhabungseigenschaft und Flexibilität einen kleineren Elastizitätsmodul und einen größeren linearen Ausdehnungskoeffizienten. So konnten diese Polyimidfilme nicht befriedigend genug die Bedürfnisse nach einer Packung mit hoher Dichte erfüllen. Ein Polyimid mit einem kleineren linearen Ausdehnungskoeffizienten und einem größeren Elastizitätsmodul kann synthetisiert werden, doch ein solcher Polyimidfilm ist weitaus weniger flexibel und kann kaum als FPC verwendet werden. Ein Polyimidfilm, der eine gute Dimensionsstabilität aufweist (mit geringer thermischer Schrumpfung und kleinem linearen Ausdehnungskoeffizienten) wird durch Strecken des Films hergestellt. Das ist in der japanischen Offenlegungsschrift Nr. 61-296034 offenbart, doch dieser Polyimidfilm wies noch keine mechanische Eigenschaften wie eine ausreichende Dehnung auf. Andere Polyimidfilme sind in US-A-4725484 und JP-A-63175027 offenbart.
- Die FPC-Fabrikation wird auf einer Walze-zu-Walze-Basis so durchgeführt, daß der FPC-Basisfilm und die Kupferfolie, die beide um entsprechende Walzen gewunden sind, jeweils abgespult und zur zusammenlaminierung erhitzt werden. Aufgrund dessen sind sowohl der Basisfilm als auch die Kupferfolie einer Spannung in Richtung der zuführung von den jeweiligen Walzen, das heißt in der mechanischen zuführungsrichtung (nachstehend als MD-Richtung bezeichnet) unterworfen, und unter solchen Bedingungen wurde die FPC hergestellt.
- Dann wird der Basisfilm betrachtet. In HD-Richtung ist er sowohl einer vorstehend erwähnten Dehnung unter Spannung als auch einer Dehnung aufgrund thermischer Ausdehnung unter der während des Laminierungsschritts angelegten Hitze unterworfen. Auf der anderen Seite tritt ein pHänomen auf, daß der Film in einer Richtung senkrecht zur mechanischen Zuführungsrichtung um einen Betrag schrumpft, welcher dem Betrag seiner Dehnung in der MD-Richtung aufgrund der Spannung entspricht. Dementsprechend erleidet der Film in TD-Richtung eine Schrumpfung.
- Die Kupferfolie ist einer geringen Deformation unter der im normalen Verfahren der FPC-Herstellung angelegten Spannung unterworfen, da die Kupferfolie einen sehr großen Elastizitätsmodul besitzt. Nur durch thermische Ausdehnung unter der während des Laminierungsschritts angelegten Hitze wird die Kupferfolie deformiert. So erleidet die Kupferfolie aufgrund von thermischer Ausdehnung sowohl in den MD- als auch in den TD-Richtungen eine Dehnung.
- Daher heben sich, wenn die Summe der Dehnung des Films aufgrund der Spannung und der Dehnung des Films aufgrund von thermischer Ausdehnung in MD-Richtung gleich der Dehnung der Kupferfolie aufgrund von thermischer Ausdehnung ist, die Verformungen gegeneinander auf. Ebenso heben sich in der TD- Richtung, wenn die Summe der Schrumpfung des Films in TD- Richtung aufgrund der Dehnung des Films unter Spannung in MD- Richtung und der Dehnung des Films in TD-Richtung aufgrund von thermischer Ausdehnung gleich der Dehnung der Kupferfolie aufgrund von thermischer Ausdehnung ist, die Verformungen gegeneinander auf.
- Jedoch verbleibt eine FPC, bei der söwohl der Basisfilm als auch die Kupferfolie laminiert sind, aufgrund der isotropen Herstellung des Basisfilms und der Kupferfolie in der TD- Richtung beträchtlich verformt, wenn der Basisfilm am Kupferfilm befestigt ist. Daher wird bei Entfernung der Kupferfolie durch Verätzung zur Musterbildung die eingeschlossene Spannung freigesetzt, und dementsprechend werden beträchtliche dimensionale Veränderungen vor und nach dem Verätzungsschritt auftreten, welche ernsthaft die Packung mit hoher Dichte behindern können.
- Daher wurden die Untersuchungsanstrengungen auf die Entwicklung eines Harzfilms, insbesondere eines Polyimidfilms, der nur wenig dimensionalen Veränderungen vor und nach dem Verätzungschritt im FPC-Fabrikationsverfahren unterliegt, und auf ein Verfahren zur Herstellung desselben gerichtet. Als Ergebnis wurde die Erfindung erhalten.
- Der Polyimid-Harzfilm gemäß der Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis (a/b) des linearen Ausdehnungskoeffizienten (a) des Films in Richtung seiner mechanischen zuführung zum linearen Ausdehnungskoeffizienten (b) in einer Richtung senkrecht zur Richtung der mechanischen Zuführung mehr als 0,2, aber weniger als 1,0 beträgt, und daß der lineare Ausdehnungskoeffizient in Richtung der mechanischen Zuführung 0,4 - 2,0 x 10&supmin;&sup5; ºC&supmin;¹ beträgt, wie in den Anspüchen definiert.
- Der Polyimid-Harzfilm ist weiterhin dadurch gekennzeichnet, daß er mehr als 90% an einer sich wiederholenden Einheit enthält, die durch die allgemeine Formel dargestellt wird:
- (wobei R1
- oder
- darstellt;
- R&sub2; ein Wasserstoffatom oder einen einwertigen Substituenten darstellt,; und m, n ganze Zahlen darstellen, wobei min einen Wert von 0,1 bis 100 annimmt).
- Ein Verfahren zur Herstellung des vorstehend beschriebenen Harzfilms oder insbesondere des Polyimidfilms ist dadurch gekennzeichnet, daß der Film um einen Faktor von 1,0 bis 1,5 in Richtung seiner mechanischen zuführung und auch um einen Faktor von 0,5 bis 0,99 in eine Richtung senkrecht zur Richtung der mechanischen Zuführung gestreckt wird.
- Fig. 1 ist eine perspektivische Ansicht, welche das Verfahren der Herstellung eines Harzfilms nach der Erfindung veranschaulicht; und
- Fig. 2 ist eine erläuternde Ansicht zur Veranschaulichung der Art, auf welche der Harzfilm im Verfahren zur Herstellung des Harzfilms nach der Erfindung gestreckt wird.
- Die Erfindung wird nun im Detail beschrieben. Bei der folgenden Beschreibung wird das vorstehend Festgestellte ausgelassen.
- Vor und nach dem Verätzungsschritt im FPC-(flexible Schaltkreisleiterplatte)-Fabrikationsverfahren ist es zur Minimierung einer möglichen dimensionaler Veränderung der FPC wesentlich, daß der Harzfilm als Basisfilm so hergestellt werden soll, daß er die folgenden Bedingungen erfüllt.
- Wie Fig.1 zeigt ist in MD-Richtung die Summe der Streckung des Films 1 durch Spannung und der Dehnung des Films 1 durch thermische Ausdehnung gleich der Dehnung der Kupferfolie 2 durch thermische Ausdehnung, und in TD-Richtung ist die Summe der Schrumpfung des Films 1 durch Zug unter Spannung in MD- Richtung und der Dehnung des Films 1 durch thermische Ausdehnung gleich der Dehnung der Kupferfolie 2 durch thermische Ausdehnung. Mit anderen Worten ist es notwendig, daß die folgenden Gleichungen erfüllt sind.
- MD-Richtung: (Streckung des Films durch Spannung)
- + (Dehnung des Films durch thermische Ausdehnung)
- = (Dehnung der Kupferfolie durch thermische Ausdehnung)
- TD-Richtung: (Schrumpfung des Films durch Zug in MD-Richtung)
- + (Dehnung des Films durch thermische Ausdehnung)
- = (Dehnung der Kupferfolie durch thermische Ausdehnung)
- Um diese Bedingungen zu erfüllen, ist es erwünscht, daß der lineare Ausdehnungskoeffizient des Films 1 in MD-Richtung kleiner und in TD-Richtung größer ist, so daß das Verhältnis (a/b) des linearen Ausdehnungskoeffizienten (a) in MD-Richtung zum linearen Ausdehnungskoeffizienten (b) in TD-Richtung mehr als 0,2, aber weniger als 1,0 beträgt. Vorzugsweise beträgt es mehr als 0,2, aber weniger als 0,8, und noch bevorzugter beträgt es mehr als 0,25, aber weniger als 0,6. Übrigens ist es vorstellbar, daß das Verhältnis (alb) kleiner als 0,2 sein kann, obwohl dies nicht beansprucht ist. Tatsächlich ist es jedoch schwierig, einen Film 1 mit einer derartigen Anisotropie herzustellen. Der hier verwendete Begriff "linearer Ausdehnungskoeffizient" bezieht sich auf einen linearen Ausdehnungskoeffizienten bei 100-200ºC.
- Es ist erwünscht, daß der lineare Ausdehnungskoeffizient (a) in MD-Richtung kleiner sein kann als der lineare Ausdehnungskoeffizient von Kupfer (etwa 1,68 x 10&supmin;&sup5; ºC&supmin;¹). Vorzugsweise ist er größer als 0,5 x 10&supmin;&sup5; ºC&supmin;¹, aber kleiner als 2,0 x 10&supmin;&sup5; ºC&supmin;¹, bevorzugter größer als 0,5 x 10&supmin;&sup5; ºC&supmin;¹, aber kleiner als 1,8 x 10&supmin;&sup5; ºC&supmin;¹, und noch bevorzugter größer als 0,6 x 10&supmin;&sup5; ºC&supmin;¹, aber kleiner als 1,4 x 10&supmin;&sup5; ºC&supmin;¹. Der lineare Ausdehnungskoeffizient (a) in MD-Richtung kann kleiner als 0,5 x 10&supmin;&sup5; ºC&supmin;¹ sein, doch im allgemeinen ist ein Polyimid- Harzfilm 1 mit einem kleineren linearen Ausdehnungskoeffizient nicht so erwünscht, da er einen größeren Elastizitäts modul und eine geringere Dehnung bei Spannung besitzt, so daß die Summe aus der Streckung des Films 1 unter Spannung und der Dehnung des Films 1 unter thermischer Ausdehnung beträchtlich kleiner ist als die Dehnung der Kupferfolie 2 unter thermischer Ausdehnung.
- Eine derartige Anisotropie des Films 1 bezüglich seiner linearen Ausdehnungskoeffizienten in MD- und TD-Richtung kann durch die Festlegung erhalten werden, daß beim Verfahren der Filmherstellung Film 1 in MD-Richtung mit einem Faktor von 1,0 bis 1,5, vorzugsweise von 1,1 bis 1,4, noch bevorzugter von 1,1, bis 1,3, gestreckt wird, und ebenfalls in TD-Richtung mit einem Faktor von 0,5 bis 0,99, vorzugsweise von 0,6 bis 0,9, und noch bevorzugter von 0,6 bis 0,8 gestreckt wird.
- Das Verfahren zur Herstellung von Film 1 wird genau erklärt. Ein Polyimid-Harzfilm vom Reaktionshärtungstyp wird durch Gießen oder Beschichten einer Vorstufe auf einem Endlosgürtel oder einer Gießtrommel gebildet und reaktionsgehärtet, bis er mindestens freitragend ist, dann wird er von dem Gürtel oder der Trommel abgetrennt. Dann wird, wie Fig. 2 zeigt, der abgetrennte freitragende Film 11 weiter reaktionsgehärtet, wobei seine Enden in Position gehalten und währenddessen jeglicher Reaktionsprodukt-Lösungsmittelrückstand durch Ver dampfung entfernt wird. Während dieses Vorgangs wird der Film nicht nur in Richtung der Filmdicke kontrahiert, sondern auch in den MD- und TD-Richtungen (bei einer durch die zweifach punktierte Linien in Fig. 2 dargestellten Bedingung). Daher wird der Film mit jedem der vorbestimmten Faktoren gegen die ursprünglichen Filmdimension 11 gestreckt.
- Der durch ein solches Verfahren hergestellte Film 1 besitzt verschiedene Werte bezüglich seiner linearen Ausdehnungskoeffizienten jeweils in der MD-Richtung und der TD-Richtung, welche im allgemeinen die vorangehenden Gleichungen erfüllen. Daher weist eine unter Verwendung eines solchen Films hergestellte FPC ein geringe dimensionale Veränderung vor und nach dem Verätzungsschritt auf, was bedeutet, daß die FPC die Packung mit höherer Dichte bereitstellt.
- Der Polyimidfilm nach der Erfindung enthält mehr als 90% an einer sich wiederholenden Einheit, die durch die allgemeine Formel ausgedrückt wird:
- (wobei R&sub1;
- oder
- darstellt;
- R&sub2; ein Wasserstoffatom oder einen einwertigen Substituenten darstellt, und m, n ganze Zahlen darstellen, wobei m/n einen Wert von 0,1 bis 100 annimmt).
- Bei der Ausführung der Erfindung verwendbare aromatische Tetracarbonsäuren sind: Pyromellitsäure oder deren Säuredianhydrid; 3,3',4,4'-Biphenyltetracarbonsäure oder deren Säuredianhydrid, und 3,3',4,4'-Benzophenontetracarbonsäure oder deren Säuredianhydrid. Es ist jedoch ebenfalls erlaubt, daß 2,3,3',4'-Biphenyltetracarbonsäure oder deren Säureanhydrid; 2,2',3,3'-Biphenyltetracarbonsäure oder deren Säuredianhydrid; Naphthalin-1,2,5,6-tetracarbonsäure oder deren Säuredianhydrid; Naphtalin-2,3,6,7-tetracarbonsäure oder deren Säuredianhydrid; 2,3,3'4'-Benzophenontetracarbonsäure oder deren Säuredianhydrid oder Säurederivate wie Ester und Säurechloride dieser Säuren teilweise verwendet werden können.
- Verfahren zur Herstellung einer Lösung eines Polyamidsäure Copolymers als Vorstufe eines Polyimid-Copolymers werden nachstehend exemplarisch dargestellt. Andere Polyimid-Copolymere können verwendet werden, aber die nachstehend genannten Polyimid-Copolymere sind aufgrund ihrer vorteilhaften Eigenschaften vorzuziehen.
- (1) Ein aromatisches Tetracarbonsäuredianhydrid (a) und aromatische Diamine (b), (c) werden miteinander in einem polaren Lösungsmittel so umgesetzt, daß die Summe von (a), (b) und (c) im wesentlichen äquimolar ist. Durch dieses Verfahren ist es möglich, ein statistisches Copolymer zu erhalten.
- (2) Ein aromatisches Diamin (b) wird in ein polares Lösungsmittel gegeben, dann wird ein Überschuß an aromatischem Tetracarbonsäuredianhydrid (a) portionsweise unter Kühlung zugegeben, wodurch ein Vorpolymer mit Säureanhydrid-Radikalen an beiden Enden erhalten wird. Dann wird ein aromatisches Diamin (c) mit einer zu ((a)-(b)) Mol äquivalenten Menge zugegeben. Durch dieses Verfahren ist es möglich, ein solches Copolymer zu erhalten, dessen sich wiederholende Einheiten innerhalb des Copolymer-Moleküls konstant sind.
- Andere Verfahren können eingesetzt werden, um eine Polyamidsäure zu erhalten, oder verschiedene Arten von Polyamidsäuren können zum Mischen verwendet werden. Es ist jedoch vorzuziehen, daß das nach dem vorstehenden Verfahren (2) erhaltene Polyimid-Copolymer in Anbetracht physikalischer Eigenschaften verwendet wird.
- Als aromatische Diamin-Komponenten werden 4,4'-Diaminodiphenylether und ein aromatisches Diamin verwendet, ausgedrückt durch die allgemeine Formel:
- (R&sub2;: entspricht dem früher Beschriebenen)
- Für durch diese allgemeine Formel ausgedrückte aromatische Diamine können die folgenden aufgezählt werden: Paraphenylendiamin, 1,4-Diamino-2-fluorbenzol, 1,4-Diamino-2-chlorbenzol, 1,4-Diamino-2-brombenzol, 1,4-Diamino-2-methylbenzol, 1,4-Diamino-3-fluorbenzol, 1,4-Diamino-3-chlorbenzol, 1,4-Diamino- 3-brombenzol, 1,4-Diamino-3-methylbenzol, 1,4-Diamino-2,6-difluorbenzol, 1,4-Diamino-2,6-dichlorbenzol, 1,4-Diamino-2,6- dibrombenzol, 1,4-Diamino-2,6-dimethylbenzol, 1,4-Diamino- 2,5-difluorbenzol, 1,4-Diamino-2,5-dichlorbenzol, 1,4-Diamino-2,5-dibrombenzol, 1,4-Diamino-2,5-dimethylbenzol, 1,4- Diamino-2,3-difluorbenzol, 1,4-Diamino-2,3-dichlorbenzol, 1,4-Diamino-2,3-dibrombenzol und 1,4-Diamino-2,3-dimethylbenzol. Von diesen aromatischen Diaminen ist Paraphenylendiamin aufgrund physikalischer Eigenschaften besonders bevorzugt.
- Es ist jedoch zu bemerken, daß für aromatische Diamin-Verbindungen, ausgedrückt durch die allgemeine Formel:
- H&sub2;N - R - NH&sub2;
- (wobei R ein zweiwertiges organisches Radikal bezeichnet), beispielsweise einige verschiedene polyvalente Amino-Verbindungen teilweise verwendet werden können, einschließend: 3,3'-Dimethoxy-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-Dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-Dichlor-4,4'-diaminobiphenyl, 4,4''-Diaminoparataphenyl-4,4'-bis(4-aminophenoxy)-biphenyl, 4,4'- diaminodiphenylsulfon, 3,3'-Diaminodiphenylsulfon, Bis-[4-(4- aminophenoxy)phenyl]sulfon, Bis-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfon, Bis-[4-(2-aminophenoxy)phenyl)sulfon, 1,4-Bis-(4- aminophenoxy)benzol, 1,3-Bis-(4-aminophenoxy)benzol, 1,3-Bis- (3-aminophenoxy)benzol, 1,4-Bis-(4-aminophenyl)benzol, Bis[4- (4-aminophenoxy)phenyl]ether, 4,4'-Diaminodiphenylmethan, Bis-(3-ethyl-4-aminophenyl)methan, Bis-(3-methal-4-aminophenyl)-methan, Bis-(3-chloraminophenyl)-methan, 2,2',5,5'- Tetrachlor-4,4,-diaminobiphenyl, 4,4,-Diaminodiphenylsulfid, 3,3'-Diaminodiphenylether, 3,4'-Diaminodiphenylether, 4,4'- Diaminodiphenylmethan, 4,4'-Diaminobiphenyl, 4,4'-Diaminooctafluorbiphenyl, 2,4'-Diaminotoluol, Metaphenylendiamin, 2,2-Bis-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propan, 2,2-Bis-[4-(4- aminophenoxy)phenyl]hexafluorpropan, 2,2-Bis-(4-aminophenyl)propan, 2,2-Bis-(4-aminophenyl)hexafluorpropan, 2,2-Bis-(3- Hydroxy-4-aminophenyl)-propan, 2,2-Bis-(3-Hydroxy-4-aminophenyl)hexafluorpropan, 9,9-Bis-(4-aminophenyl)-10-hydroanthracen, Orthotolidinsulfon, 3,3',4,4'-Biphenyltetraamin und 3,3',4,4'-Tetraaminodiphenylether.
- Für organische polare Lösungsmittel, die bei der Durchführung der notwendigen Polymerisationsreaktion verwendet werden, welche eines der Verfahren zur Herstellung eines aromatischen Polyimids der Erfindung darstellt, können wir einige Beispiele nennen wie Sulfoxid-Lösungsmittel, wie Dimethylsulfoxid und Diethylsulfoxid, Formamid-Lösungsmittel, wie N,N-Dimethylformamid und N,N-Diethylformamid, Acetamid-Lösungsmittel, wie N,N-Dimethylacetamid und N,N-Diethylacetamid, Pyrrolidon- Lösungsmittel, wie N-Methyl-2-pyrrolidon und N-Vinyl-2-pyrrolidon, phenolische Lösungsmittel, wie Phenol, o-, m- oder p- Kresol, Xylenol, Phenolhalogenid und Katechol, und Hexamethylsulfonamid, γ-Butyrolacton usw. Diese werden vorzugsweise allein oder als Gemisch verwendet. Aromatische Kohlenwasserstoffe wie Xylol und Toluol können ebenfalls verwendet werden. Von einem Standpunkt der einfachen Handhabung gesehen ist es günstig, 5 bis 40 Gew.-%, vorzugsweise 10 bis 30 Gew.-% des Polyamidsäure-Copolymers im vorstehend genannten organischen polaren Lösungsmittel zu lösen.
- Das aromatische Polyimid gemäß der Erfindung wird auf eine solche Art verwendet, daß seine Vorstufe (eine aromatische Polyamidsäure) in einem organischen polaren Lösungsmittel unter Bildung einer Lösung (Lack) gelöst wird, diese Lösung auf ein Substrat, beispielsweise ein Endlosgürtel oder ein Trägerfilm, gegossen wird, dann die gegossene Lösung bei etwa 50 bis 150ºC für etwa 1 bis 60 Minuten zur Entfernung des Lösungsmittels getrocknet wird. Ein freitragender Polyamidsäurefilm wird so erhalten.
- Bevor der Lack auf ein Substrat, endloser Gürtel, gegossen wird, kann der Lack mit mehr als der stöchiometrischen Menge an einem dehydratisierenden Agens und einer katalytischen Menge an einem tertiären Amin vermischt werden, um die Imidierung zu beschleunigen. Die Imidierung kann aber auch nur durch Erhitzen bewirkt werden. Das vorhergehende Verfahren der chemischen Dehydratisierung durch Zugabe des dehydratisierenden Agens und einer katalytischen Menge an einem tertiären Amin wird vom Standpunkt der Betrachtung der physikalischen Eigenschaft bevorzugt. Für in diesem Zusammenhang zu verwendende dehydratisierende Agenzien können beispielsweise aliphatische Anhydride, wie Acetanhydrid und aromatische Anhydride erwähnt werden. Geeignete Katalysatoren schließen beispielsweise aliphatische tertiäre Amine, wie Triethylamin, aromatische tertiäre Amine, wie Dimethylanilin und heterocyclische tertiäre Amine, wie Pyridin, Picolin, Isochinolin und Chinolin ein.
- Nach der Abtrennung vom Substrat wird der freitragende Polyamidsäurefilm an seinen Enden durch Stifte oder dergleichen befestigt und um einen Faktor von 1,0 bis 1,5 in MD-Richtung und um einen Faktor von 0,5 bis 0,99 in TD-Richtung gestreckt, während er einer Hitzebehandlung bei Temperaturen von 50 bis 550ºC unterworfen wird.
- Danach wird der freitragende Polyamidsäurefilm durch schrittweises Erhitzen in einem Temperaturbereich von etwa 100 bis 550ºC imidiert, abgekühlt, und dann werden die, die Filmenden sichernden Stifte entfernt. So wird ein aromatischer Polyimid-Copolymerfilm nach der Erfindung erhalten.
- Nach der Beschreibung bevorzugter Ausführungsformen der Erfindung wird es als offensichtlich angesehen, daß verschiedene Verbesserungen, Veränderungen und Modifizierungen im Licht der vorstehenden Lehre möglich sind, ohne vom Geist und Umfang der Erfindung abzuweichen, der vollständig von den beigefügten Ansprüchen der Erfindung eingeschlossen wird.
- Eine vorbestimmte Menge an DMF (Dimethylformamid) und 0,36 mol ODA (4,4'-Diaminodiphenylether) wurden in einen separierbaren 21-Kolben gegeben und dann bei Raumtemperatur gerührt, bis das ODA vollständig gelöst war. 0,6 mol PMDA (Pyromellitanhydrid) wurden schrittweise zur Lösung gegeben, wobei ein Anstieg der Temperatur der Lösung unterbunden wurde, und ein Vorpolymer wurde erhalten. Der Anteil an DMF wurde so eingestellt, daß eine Monomer-Ausgangskonzentration von 18 Gew.-% bezüglich einer Diamino-Verbindung und einer aromatischen Tetracarbonsäure-Verbindung erhalten wurde. 20 Gew.-% einer Lösung von 0,24 mol P-PDA (Paraphenylendiamin), gelöst in DMF, wurden schrittweise zugegeben, um eine Polyamidsäure Lösung zu erhalten.
- Die Polyamidsäure-Lösung wurde mit mehr als einer stöchiometrischen Menge Acetanhydrid und einer katalytischen Menge an einem tertiären Amin gemischt, und dann wurde das Gemisch auf eine Platte durch Gießen beschichtet und bei etwa 80ºC für etwa 90 s zur Bildung eines Polyamidsäurefilms getrocknet. Der Polyamidsäurefilm wurde dann von der Glasplatte abgetrennt. Der abgetrennte Film wurde dann an einem Trägerrahmen befestigt und für etwa 90 s auf etwa 100 ºC erhitzt. Danach wurde der Film um einen Faktor von 1,3 in MD-Richtung und um einen Faktor von 0,6 in TD-Richtung gestreckt.
- Nachfolgend wurde der gestreckte Film etwa 30 5 bei etwa 250ºC, etwa 30 5 bei etwa 300ºC, etwa 30 s bei etwa 400 ºC, etwa 30 s bei etwa 450ºC und schließlich etwa 3 min bei etwa 500ºC erhitzt. Als Ergebnis wurde ein Polyimid-Copolymerfilm von etwa 25 µm (Mikron) erhalten.
- Eine flexible Schaltkreisleiterplatte (FPC) wurde unter Verwendung des erhaltenen Polyimid-Copolymerfilms hergestellt, und zwischenzeitlich wurde die FPC bezüglich ihrer dimensionalen Veränderungen vor und nach dem Verätzungsschritt untersucht. Die Untersuchungsergebnisse und linearen Ausdehnungskoeffizienten des Polyimid-Copolymerfilms in MD- und TD-Richtungen sind in Tabelle 1 dargestellt.
- Dimensionale Veränderungen der FPC vor und nach dem Verätzen wurden gemäß dem Verfahren von IPC-FC-241A gemessen. Für die Messung der linearen Ausdehnungskoeffizienten wurde eine thermomechanische Analyseapparatur, Modell TAS-100, hergestellt von Rigaku Denki Kabushiki Kaisha, unter den folgenden Bedingungen eingesetzt: Geschwindigkeit des Temperaturanstiegs, 10ºC/min; und Temperaturbereich, 100 bis 200ºC. Die Berechnung erfolgte nach der folgenden Gleichung.
- Linearer Ausdehnungskoeffizient =
- Längenzunahme aufgrund von Ausdehnung / Länge bei 23ºC x 100 TABELLE 1
- ODA ; 4,4'-Diaminodiphenylether
- p-PDA ; Paraphenylendiamin
- PMDA ; Pyromellitdianhydrid
- BPDA ; 3,3'4,4'-Biphenyltetracarbonsäuredianhydrid
- DMF ;' Dimethylformamid
- Ein Polyimid-Copolymerfilm wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 hergestellt mit der Ausnahme, daß der von der Glasplatte abgetrennte Polyamidsäurefilm um einen Faktor von 1,2 in MD-Richtung und um einen Faktor von 0,8 in TD-Richtung gestreckt wurde.
- Eine flexible Schaltkreisleiterplatte (FPC) wurde unter Verwendung des erhaltenen Polyimid-Copolymerfilms hergestellt, und zwischenzeitlich wurde die FPC bezüglich ihrer dimensionalen Veränderungen vor und nach dem Verätzungsschritt untersucht. Die Untersuchungsergebnisse und linearen Ausdehnungskoeffizienten des Polyimid-Copolymerfilms in MD- und TD-Richtungen sind in Tabelle 1 dargestellt.
- Ein Polyimid-Copolymerfilm wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 hergestellt mit der Ausnahme, daß der von der Glasplatte abgetrennte Polyamidsäurefilm um einen Faktor von 1,0 in MD-Richtung und um einen Faktor von 0,9 in TD-Richtung gestreckt wurde.
- Eine flexible Schaltkreisleiterplatte (FPC) wurde unter Verwendung des erhaltenen Polyimid-Copolymerfilms hergestellt, und die FPC wurde bezüglich ihrer dimensionalen Veränderungen vor und nach dem Verätzungsschritt untersucht. Die Untersuchungsergebnisse und linearen Ausdehnungskoeffizienten des Polyimid-Copolymerfilms in MD- und TD-Richtungen sind in Tabelle 1 dargestellt.
- Ein Polyimid-Copolymerfilm wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 hergestellt mit der Ausnahme, daß der Film sowohl in MD-Richtung als auch in TD-Richtung in seinen ursprünglichen Dimensionen beibehalten wurde.
- Auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 wurde eine flexible Schaltkreisleiterplatte (FPC) unter Verwendung des erhaltenen Polyimid-Copolymerfilms hergestellt, und zwischenzeitlich wurde die FPC bezüglich ihrer dimensionalen Veränderungen vor und nach dem Verätzungsschritt untersucht. Die Untersuchungsergebnisse und linearen Ausdehnungskoeffizienten des Polyimid-Copolymerfilms in MD- und TD-Richtungen sind in Tabelle 1 dargestellt.
- DMF (Dimethylformamid) wurde in einen separierbaren 21-Kolben gegeben, und ODA (4,4'-Diaminodiphenylether) und p-PDA (Paraphenylendiamin) wurden so zugegeben, daß sie in einem molaren Verhältnis von 25:75 vorlagen. Das Gemisch wurde bei Raumtemperatur gerührt, bis die Diamino-Verbindung vollständig gelöst war. Die Lösung wurde mit BPDA (3,3',4,4'-Biphenyltetracarbonsäuredianhydrid) polymerisiert, und so wurde eine 18 Gew-%ige Polyamid-Copolymer-Lösung erhalten. Ein Polyimid- Copolymerfilm von etwa 25 µm (Mikron) wurde unter Verwendung der Polyamid-Copolymer-Lösung auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 erhalten.
- Auf ähnliche Weise wurde eine flexible Schaltkreisleiter platte (FPC) unter Verwendung des erhaltenen Polyimid-Copolymerfilms hergestellt, und zwischenzeitlich wurde die FPC bezüglich ihrer dimensionalen Veränderungen vor und nach dem Verätzen untersucht. Die Untersuchungsergebnisse und linearen Ausdehnungskoeffizienten des Polyimid-Copolymerfilms in MD und TD-Richtungen sind in Tabelle 1 dargestellt.
- ODA und PMDA werden in DMF auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 copolymerisiert, und als Ergebnis wurde eine Lösung von 18 Gew.-% Polyamidsäure erhalten. Ein Polyimid-Copolymerfilm von etwa 25 µm (Mikron) wurde unter Verwendung der Polyamidsäure-Lösung auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 erhalten.
- Auf ähnliche Weise wurde eine flexible Schaltkreisleiterplatte (FPC) unter Verwendung des erhaltenen Polyimid-Copolymerfilms hergestellt, und zwischenzeitlich wurde die FPC bezüglich ihrer dimensionalen Veränderungen am Ende des Verätzens im Vergleich zu den Dimensionen vor dem Verätzen untersucht. Die Untersuchungsergebnisse und linearen Ausdehnungskoeffizienten des Polyimid-Copolymerfilms in MD- und TD- Richtungen sind in Tabelle 1 dargestellt.
- Der Harzfilm, und insbesondere der Polyimidfilm, gemäß der Erfindung ist derart, daß der lineare Ausdehnungskoeffizient des Films in Richtung der mechanischen Zuführung und derjenige in einer Richtung senkrecht zur Richtung der mechanischen Zuführung innerhalb eines vorbestimmten Bereichs verschieden sind. Daher unterliegt der Film bei dem Verfahren zur Herstellung einer flexiblen Schaltkreisleiterplatte (FPC) weniger einer dimensionalen Veränderung beim Verätzungsschritt. Entsprechend kann der Harzfilm der Erfindung vorteilhafterweise als Basisfilm für flexible Schaltkreisleiterplatten zur Packung mit höherer Dichte verwendet werden.
- Das Verfahren der Erfindung ist derart, daß der Film mit jeweils unterschiedlichen Faktoren in zwei zueinander senkrecht stehende Richtungen gestreckt wird, so daß ein Harzfilm verschiedene lineare Ausdehnungskoeffizienten in allen Richtungen hat. Gemäß der Erfindung kann ein hochqualitativer Harzfilm bei geringeren Kosten erhalten werden.
Claims (2)
1. Polyimid-Harzfilm, enthaltend mehr als 90% an einer sich
wiederholenden Einheit, ausgedrückt durch die allgemeine
Formel:
wobei R&sub1;
oder
darstellt;
R&sub2; ein Wasserstoffatom oder einen einwertigen Substituenten
darstellt; und m, n ganze Zahlen darstellen, wobei min einen
Wert von 0,1 bis 100 annimmt, wobei der Film ein Verhältnis
(a/b) des linearen Ausdehnungskoeffizienten (a) des Films in
der Maschinenrichtung zum linearen Ausdehnungskoeffizienten
(b) in der Querrichtung von mehr als 0,2, aber weniger als
1,0 hat, und der lineare Ausdehnungskoeffizient in der
Maschinenrichtung 0,4 x 10&supmin;&sup5; - 2,0 x 10&supmin;&sup5; ºC&supmin;¹ beträgt, wobei der
lineare Ausdehnungskoeffizient mit einer thermomechanischen
Analyseapparatur, Modell TAS-100, hergestellt von Rigaku
Denki Kabushiki Kaisha, unter den folgenden Bedingungen bestimmt
wird: Geschwindigkeit des Temperaturanstiegs, 10 ºC/min; und
Temperaturbereich: 100 bis 200ºC; und nach der folgenden
Gleichung berechnet wird:
Linearer Ausdehnungskoeffizient
= Längenzunahme aufgrund von Ausdehnung / Länge bei 23ºC x 100
2. Verfahren zur Herstellung eines Harzfilms nach Anspruch
1, wobei der Film um einen Faktor von 1,0 bis 1,5 in der
Maschinenrichtung und auch um einen Faktor von 0,5 bis 0,99 in
der Querrichtung gestreckt wird.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13206890A JP2926509B2 (ja) | 1990-05-21 | 1990-05-21 | 樹脂フィルム及びその製造方法 |
PCT/JP1991/000673 WO1991017880A1 (fr) | 1990-05-21 | 1991-05-20 | Film resineux et procede de fabrication associe |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69124458D1 DE69124458D1 (de) | 1997-03-13 |
DE69124458T2 true DE69124458T2 (de) | 1997-06-26 |
Family
ID=15072766
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69124458T Expired - Fee Related DE69124458T2 (de) | 1990-05-21 | 1991-05-20 | Polyimidharzfolie |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5300619A (de) |
EP (1) | EP0483376B1 (de) |
JP (1) | JP2926509B2 (de) |
DE (1) | DE69124458T2 (de) |
WO (1) | WO1991017880A1 (de) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5460890A (en) * | 1991-10-30 | 1995-10-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Biaxially stretched isotropic polyimide film having specific properties |
DE69321460T2 (de) * | 1992-02-26 | 1999-04-29 | Du Pont | Verfahren zur herstellung eines isotropen polyimidfilms |
DE4425498C2 (de) * | 1994-07-19 | 1998-06-10 | Brueckner Maschbau | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines zumindest zweischichtigen bahn- oder plattenförmigen Körpers |
US5719253A (en) * | 1994-10-07 | 1998-02-17 | Unitika Ltd. | Poly(amic acid) solution and polyimide film or polymide-coated material obtained therefrom |
GB9520389D0 (en) * | 1995-10-06 | 1995-12-06 | Johnson Electric Sa | Brush gear for an electronic motor |
US6031068A (en) * | 1997-10-23 | 2000-02-29 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Polyimide composition and base tape for TAB carrier tape and flexible printed circuit board made from said composition |
US6133408A (en) * | 1999-01-15 | 2000-10-17 | Wirex Corporation | Polyimide resin for cast on copper laminate and laminate produced therefrom |
KR100767982B1 (ko) * | 2000-04-20 | 2007-10-18 | 데이진 가부시키가이샤 | 폴리이미드 필름 및 이의 제조방법 |
JP2003008157A (ja) * | 2001-06-26 | 2003-01-10 | Nitto Denko Corp | 配線回路基板用基材および配線回路基板 |
US6808818B2 (en) * | 2001-10-11 | 2004-10-26 | Ube Industries, Ltd. | Fusible polyimide and composite polyimide film |
US6949296B2 (en) * | 2002-12-31 | 2005-09-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polyimide substrates having enhanced flatness, isotropy and thermal dimensional stability, and methods and compositions relating thereto |
JP4785340B2 (ja) * | 2003-11-13 | 2011-10-05 | 三井化学株式会社 | ポリイミド金属積層板 |
JP4032353B2 (ja) * | 2003-12-26 | 2008-01-16 | セイコーエプソン株式会社 | 回路基板の製造方法、回路基板、電子機器、および電気光学装置 |
JP4510685B2 (ja) * | 2004-04-26 | 2010-07-28 | 株式会社リコー | エンドレス状の電子写真画像形成用中間転写ベルト、該中間転写ベルトを有する画像形成装置、及び該中間転写ベルトを用いる画像形成方法 |
TWI253455B (en) * | 2004-11-12 | 2006-04-21 | Chang Chun Plastics Co Ltd | New process for preparing polyimide |
CN101146850B (zh) * | 2005-04-12 | 2011-11-16 | 株式会社钟化 | 聚酰亚胺薄膜 |
DE102005018339A1 (de) * | 2005-04-20 | 2006-10-26 | Siemens Ag | Anordnung mit einem Kondensatormodul und Verfahren zu dessen Betrieb |
US7829794B2 (en) * | 2007-09-13 | 2010-11-09 | 3M Innovative Properties Company | Partially rigid flexible circuits and method of making same |
US20090093608A1 (en) * | 2007-10-04 | 2009-04-09 | Saint-Gobain Performance Plastics Corporation | Polyimide material with improved thermal and mechanical properties |
JP5573006B2 (ja) * | 2008-06-02 | 2014-08-20 | 宇部興産株式会社 | ポリイミドフィルムの製造法 |
TW201107117A (en) | 2009-08-21 | 2011-03-01 | Toray Du Pont Kk | Polyimide film |
US8445099B2 (en) | 2009-11-30 | 2013-05-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polyimide film |
JP2011167906A (ja) * | 2010-02-18 | 2011-09-01 | Du Pont-Toray Co Ltd | ポリイミドシート |
JP6148556B2 (ja) | 2013-07-22 | 2017-06-14 | 東レ・デュポン株式会社 | ポリイミドフィルム |
JP6370609B2 (ja) | 2014-05-29 | 2018-08-08 | 東レ・デュポン株式会社 | ポリイミドフィルム |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56118421A (en) * | 1980-02-25 | 1981-09-17 | Nitto Electric Ind Co Ltd | Heat-shrinkable polyimide film and production thereof |
JPS61264028A (ja) * | 1985-05-17 | 1986-11-21 | Ube Ind Ltd | 寸法安定なポリイミドフイルム及びその製法 |
US4725484A (en) * | 1985-05-17 | 1988-02-16 | Ube Industries, Ltd. | Dimensionally stable polyimide film and process for preparation thereof |
JP2603927B2 (ja) * | 1987-01-14 | 1997-04-23 | 鐘淵化学工業株式会社 | 新規なポリイミド樹脂の製造方法 |
JPS63230320A (ja) * | 1987-03-18 | 1988-09-26 | Mitsubishi Kasei Corp | 延伸フイルムの製造方法 |
JPH0393024A (ja) * | 1989-09-04 | 1991-04-18 | Hitachi Maxell Ltd | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
US5202411A (en) * | 1990-04-06 | 1993-04-13 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Tri-component polyimide composition and preparation thereof |
US5196500A (en) * | 1990-12-17 | 1993-03-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Tetrapolyimide film containing benzophenone tetracarboxylic dianhydride |
-
1990
- 1990-05-21 JP JP13206890A patent/JP2926509B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-05-20 US US07/820,864 patent/US5300619A/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-05-20 WO PCT/JP1991/000673 patent/WO1991017880A1/ja active IP Right Grant
- 1991-05-20 DE DE69124458T patent/DE69124458T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-05-20 EP EP19910909143 patent/EP0483376B1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0483376B1 (de) | 1997-01-29 |
WO1991017880A1 (fr) | 1991-11-28 |
US5300619A (en) | 1994-04-05 |
JP2926509B2 (ja) | 1999-07-28 |
EP0483376A1 (de) | 1992-05-06 |
JPH0425434A (ja) | 1992-01-29 |
DE69124458D1 (de) | 1997-03-13 |
EP0483376A4 (en) | 1993-04-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69124458T2 (de) | Polyimidharzfolie | |
DE3789296T2 (de) | Polyimid mit Formstabilität beim Erhitzen. | |
DE3586948T2 (de) | Polyamidsaeure-loesung und daraus hergestellter film. | |
DE3215944C2 (de) | ||
DE69120464T2 (de) | Opischer Wellenleiter aus Polyimid | |
DE69121348T2 (de) | Polyimidcopolymervorläufer | |
DE3486131T2 (de) | Harzmaterial mit geringer thermischer Ausdehnung für Verdrahtungsisolationsfolie. | |
DE3855656T2 (de) | Schmelzformbares kristallines Polyimid | |
DE69107245T2 (de) | Polyimidosiloxan-Harz, Zusammensetzung daraus und Methode zur Anwendung. | |
DE3607584A1 (de) | Farbloser, transparenter polyimid-formkoerper und verfahren zu seiner herstellung | |
DE69026158T2 (de) | Gedruckte Schaltung auf flexibler Leiterplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE3856099T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von wenig dielektrischen Polyimiden | |
DE60100329T2 (de) | Polyimidfilm sowie Verfahren zu dessen Herstellung und dessen Verwendung als Substrat für Metallverbindungsplatten | |
DE10048132A1 (de) | Aromatisches Polyimidlaminat | |
DE19946682A1 (de) | Flexible Verbundfolien aus einem aromatischen Polyimidfilm und einem Metallfilm | |
DE69120379T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von einer mit einer Deckschicht überzogenen biegsamen Leiterplatte | |
DE68918576T2 (de) | Verfahren zur erniedrigung der dielektrizitätskonstante von polyimiden mit hilfe von diaminosäurezusätzen. | |
DE102005030391A1 (de) | Folien | |
DE3850147T2 (de) | Polyimid-Filme. | |
DE69123526T2 (de) | Polyimidfilm mit Zinnsalz-Einarbeitung zur Haftungsverbesserung | |
DE3782140T2 (de) | Kumulierte phenylensulfid-einheiten enthaltende kristalline polyimide. | |
DE60127110T2 (de) | Polyimidfilm und verfahren zu dessen herstellung | |
DE60124321T2 (de) | Polyimidzusammensetzung mit verbessertem abschälwiderstand | |
DE602004000671T2 (de) | Polyimidmassen für elektrische Isolation | |
DE69211354T2 (de) | Polyimide mit niedrigem waermeausdehnungskoeffizienten und verbesserter dehnung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |