DE2722264A1 - Hydroxyalkylphenone und ihre verwendung als photosensibilisatoren - Google Patents
Hydroxyalkylphenone und ihre verwendung als photosensibilisatorenInfo
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Description
Merck Patent Gesellschaft 16. Mai 1977
mit beschränkter Haftung
Darmstadt
Darmstadt
Hydroxyalkylphenone und ihre Verwendung als Photosensibilisatoren
Viele Reaktionen in der organischen Chemie werden durch Bestrahlung mit sichtbarem Licht oder ultravioletter
Strahlung (UV) beschleunigt oder überhaupt erst ermöglicht. Hierzu gehören beispielsweise Spaltungsreaktionen,
z.B. in der Vitamiri-D-Reihe, Umlagerungsreaktionen, z.B.
cis-trans-Isomerisierungen, und Additionsreaktionen, z.B. von Maleinsäureanhydrid an Benzol. Die technisch wichtigsten derartigen Additionsreaktionen sind jedoch die
photochemisch initiierten Polymerisationsreaktionen.
Bei allen dieser Reaktionen ist es erforderlich, daß mindestens ein Bestandteil des Reaktionsgemisches dazu befähigt ist, das eingestrahlte Licht oder UV zu absorbie-
ren. Wenn dieser Bestandteil einer der Reaktionspartner ist, können die Reaktionen.ohne weitere Zusätze einfach
durch Bestrahlung des Reaktionsgemisches mit Licht oder UV durchgeführt werden. Häufig ist jedoch kein Reaktionspartner dazu in der Lage, die photochemisch wirksame
Strahlung in ausreichendem MaBe zu absorbieren. In diesen Fällen werden vielfach Photosensibilisatoren genannte Substanzen zugesetzt, die zwar an der gewünschten Reaktion
nicht teilnehmen, aber in der Lage sind, eingestrahltes Licht oder UV zu absorbieren und die dabei aufgenommene
Wesentliche Kriterien für die Auswahl solcher Sensibilisatoren sind unter anderem die Art der durchzuführenden
Reaktion, das Verhältnis des Absorptionsspektrums des Sensibilisator zur spektralen Energieverteilung der ver
fügbaren Strahlenquelle, die Löslichkeit des Sensibili-
sators in der Reaktionsmischung sowie die Beeinflussung
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-
des Endprodukts durch darin verbliebene Reste des Sensibilisators und/oder der daraus während der photochemischen
Reaktion entstandenen Produkte.
Als Sensibilisatoren für die Photopolymerisation ungesättigter Verbindungen sind bisher hauptsächlich Benzophe-
nonderivate, Benzoinäther, Benzilmonoacetale undoC-Halogenacetophenonderivate eingesetzt worden. Diese Substanzen besitzen jedoch verschiedene Nachteile, durch die
ihre technische Anwendbarkeit deutlich eingeschränkt wird.
Hierzu gehört insbesondere die Eigenschaft von mit Verbindungen aus diesen Gruppen versetzten Monomeren oder
Prepolymeren, bereits ohne Bestrahlung - im Dunkeln - zu polymerisieren, d.h. viele Reaktionsgemische mit derartigen
Sensibilisatoren besitzen nur eine geringe Dunkelstabili
tat. Andere Verbindungen aus diesen Klassen besitzen nur
eine geringe chemische Stabilität; so werden beispielsweise manche Benzilmonoacetale schon von sehr geringen
Wassermengen, z.B. durch die Luftfeuchtigkeit, in Benzil und Alkohol gespalten. Andere dieser bekannten Sensibili
satoren bewirken schließlich eine Vergilbung der mit ihnen
hergestellten Polymerisate, die besonders bei gewöhlich farblosen Kunststoffen oder insbesondere bei UV-gehärteten
Druckfarben höchst unerwünscht ist. Für dieses zuletzt genannte Anwendungsgebiet spielt auch die oft geringe Lös-
lichkeit der bekannten Sensibilisatoren in den Monomeren oder Prepolymeren eine wichtige Rolle. Da Druckfarben in
der Regel beträchtliche Mengen farbiger Pigmente enthalten, die einen großen Teil der eingestrahlten Energie absorbieren,
ohne daß er photochemisch wirksam wird, muß hier eine grö
ßere Menge Sensibilisator zugesetzt werden. Sie beträgt hier
häufig 5 bis 10 Gewichtsprozent des Reaktionsgemisches, d.h. der Druckfarbe, während sonst in der KunststoffIndustrie in
Abwesenheit färbender Zusätze oft 1 bis 2 Gewichtsprozent völlig ausreichend sind. Diese Konzentration läßt sich
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-A -fr
läßt sich zumeist auch mit den wenig löslichen bekannten Sensibilisatoren noch erreichen. Bei den in Druckfarben
erforderlichen Konzentrationen kristallisieren die bekannten Sensibilisatoren häufig teilweise aus; abgesehen davon(daß die auskristallisierten Anteile nicht
mehr sensibilisierend wirksam werden, beschädigen die entstandenen Kristallite auch noch nach einiger Zeit
die aus relativ weichen Materialien bestehenden Druckplatten .
Aufgabe der Erfindung war die Bereitstellung von Photosensibilisatoren, insbesondere für die Photopolymerisation ungesättigter Verbindungen, die im Gemisch mit
den anderen Reaktionspartnern dunkellagerstabil sind,
die selbst und durch ihre Folgeprodukte keine Vergil
bung der Reaktionsprodukte verursachen und die in den
üblicherweise einer Photopolymerisation unterworfenen Monomeren oder Prepolymeren eine möglichst hohe Löslichkeit besitzen. Darüberhinaus sollen sie im Wellenlängenbereich von 250 bis 500 nm, vorzugsweise zwischen
300 und 400 nm eine größtmögliche photosensibilisierende Wirksamkeit besitzen.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch die Bereitstellung von Verbindungen der allgemeinen Formel (I) zur
Verwendung als Photosensibilisatoren gelöst,
-CO-C-R
Rr
809847/0368
-A -
worin
R1 Wasserstoff, Phenyl, Dialkylamino mit 2-4 C-Atomen
oder Alkyl oder Alkoxy mit jeweils bis zu 18 C-Atomen, R- Wasserstoff, Chlor, Brom, Alkyl oder Alkoxy mit jeweils
bis zu 4 C-Atomen
R- und R., die gleich oder verschieden sein können.
Wasserstoff oder Alkyl mit bis zu 6 C-Atomen R- Wasserstoff, Alkyl oder Alkanoyl mit jeweils bis zu
4 C-Atomen, und
Rf Wasserstoff oder Methyl bedeuten, wobei jedoch nicht
ο
alle Reste R- bis Rg gleichzeitig Wasserstoffatome sind.
Es wurde gefunden, daß die Verbindungen der allgemeinen Formel (I) eine gute photosensibilisierende Wirksamkeil:
für Strahlung des Wellenlängenbereichs von 250 bis 500 um besitzen und in den meisten für Photopolymerisationen eingesetzten
Monomeren bzw. Prepolymeren, z.B. auf der Basis von ungesättigten Estern wie Acrylsäureestern, Methacrylsäureestern
oder Maleinsäureestern, oder Styrol deutlich besser löslich sind als die meisten bisher verwendeten
Sensibilisatoren. Die Lösungen der Photosensibilisatoren der allgemeinen Formel (I) in diesen Monomeren und Prepoly
meren besitzen darüberhinaus in der Regel eine bessere Dunkellagerstabilität als beispielsweise analoge Lösungen
von Benzoinäthern. Schließlich wird bei Photopolymerisationen mit den Sensibilisatoren der allgemeinen Formel (I)
Vergilbung der Polymerisate nicht oder nur in wesentlich geringem Ausmaß als mit den bisher gebräuchlichen Sensibilisatoren
beobachtet.
Gegenstand der Erfindung ist somit die Verwendung der Verbindungen
der allgemeinen Formel (I) als Photosensibili satoren, insbesondere für Photopolymerisationen ungesättig
ter Verbindungen sowie für die UV-Härtung von Druckfarben.
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Gegenstand der Erfindung sind ferner die neuen Verbindungen der allgemeinen Formel (II) ,
R3
CO-C-R4 (II)
worin
R1 Hasserstoff, Phenyl, Dialkylamino mit 2-4 C-Atomen
oder Alkyl oder Alkoxy mit jeweils bis zu 18 C-Atomen,
R. Wasserstoff, Chlor, Brom, Alkyl oder Alkoxy mit jeweils bis zu 4 C-Atomen
R5 Wasserstoff, Alkyl oder Alkanoyl mit jeweils bis zu
4 C-Atomen bedeuten, mit der Maßgabe, daß nicht R1
und R. sowie R3 und R4 gleichzeitig Wasserstoffatome
sind, daß nicht R. Methyl, Methoxy oder Phenyl ist, wenn R3 Wasserstoff sowie R3 und R4 Wasserstoff und/
oder Methyl sind, und daß nicht R2 Methyl ist, wenn
R1 Wasserstoff sowie R3 und R4 Wasserstoff und/oder
Methyl sind.
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Angesichts der gemeinsamen Strukturmerkmale der bisher gebräuchlichen Photosensibilisatoren, die in der Regel zwei
gegebenenfalls substituierte Phenylkerne enthalten, deren aromatische Systeme über ein oder zwei Kohlenstoffatome
kreuzkonjugiert sind, ist es überraschend, daß die erfindungsgemäß zu verwendenden Hydroxyarylketone mit nur
einem aromatischen Ring eine so gute Photosensibilisatorwirkung besitzen. Zwar sind auch Acetophenon und Derivate
des Acetophenons bereits als Photosensibilisatoren, insbe
sondere für photochemische Cycloadditionen, vorgeschlagen
und verwendet worden. Die mit Verbindungen aus dieser Klasse erhaltenen Ergebnisse, insbesondere die Quantenausbeuten der damit sensibilisierten photochemischen Reaktionen waren jedoch meistens deutlich schlechter als die
zum Beispiel mit Benzophenon erhaltenen Resultate.
In der allgemeinen Formel (I) bedeutet der Rest R- vorzugsweise Alkyl oder Alkoxy mit bis zu 18 C-Atomen,
Dialkylamino mit 2-4 C-Atomen oder Phenyl. Besonders bevorzugte Reste R1 sind Alkylgruppen mit bis zu 12
auch ein Chlor- oder Bromatom oder eine Methyl- oder Methoxy
gruppe sein, die sich in der 2-Steilung, vorzugsweise
ι jedoch in der 3-Stellung des Phenylkerns befindet.
809847/0368
Von den Resten R. und R. ist vorzugsweise nicht mehr
als einer im Wasserstoffatom. Besonders bevorzugt sind Verbindungen, in denen beide Reste R3 und R4 Alkylgruppen
sind, die zusammen 2 bis 10, vorzugsweise 2 bis 8 C-Atome enthalten.
Der Rest R5 ist vorzugsweise Wasserstoff; wenn er ein Alkyl-
oder Alkanoylrest ist, sind von diesen Methyl, Äthyl und Acetyl bevorzugt.
Der Rest Rg schließlich ist bevorzugt Wasserstoff; er ist
nur dann eine Methylgruppe, wenn R1 Wasserstoff und Rj
eine 2-Methylgruppe sind.
Dementsprechend werden erfindungsgemäß insbesondere diejenigen
Verbindungen der allgemeinen Formel (I) als Photosensibilisatoren verwendet, in denen mindestens
einer der Reste R1 bis Rg eine der vorstehend genannten
bevorzugten Bedeutungen hat. Einige bevorzugt erfindungsgemäß zu verwendende Gruppen von Verbindungen können
durch die folgenden Teilformeln (Ia) bis (In) ausgedrückt werden, die der allgemeinen Formel (I) entsprechen und
worin die nicht näher bezeichneten Reste die bei der allgemeinen Formel (I) angegebene Bedeutung besitzen, worin
jedoch
in (Ia) R1 Alkyl mit 1-12 C-Atomen bedeutet;
in (Ib) R1 Alkyl mit 3-12 C-Atomen bedeutet;
in (Ic) R1 Dimethylamine bedeutet;
in (Id) R2 Wasserstoff bedeutet;
in (Ie) R2 3-Chlor-, 3-Brom-, 3-Methyl oder
3-Methoxy- bedeutet;
in (If) R1 Alkyl mit 1-4 C-Atomen bedeutet und
R2 eine der in (Ie) angegebenen Bedeutungen
besitzt;
in (Ig) R3 und R4 Methylgruppen sind;
in (Ih) R3 Äthyl und R4 η-Butyl bedeutet;
in (Ii) R3 Methyl und R4 Äthyl bedeutet;
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2856
2856
- η -
AA
in | (Ij) |
in | (Ik) |
in | (ID |
5 in | (Im) |
in | (In) |
in | (lo) |
10 in | (Ip) |
Rr Wasserstoff bedeutet; R5 Methyl, Äthyl oder Acetyl bedeutet;
R1 Alkyl mit 3-12 C-Atomen und R- und Rr Wasserstoff bedeuten;
R1 Alkyl mit 3-12 C-Atomen, R, Wasserstoff und R- und R4 Methyl bedeuten;
R1 Alkyl mit 1-12 C-Atomen, R2 Wasserstoff, R3 Äthyl und R4 η-Butyl bedeuten;
Rc Wasserstoff bedeutet; R1 Wasserstoff, R2 2-Methyl und Rg Methyl
bedeuten.
Die Herstellung einiger der erfindungsgemäß zu verwendenden Verbindungen der allgemeinen Formel (I) ist in
Bull.Soc.Chim.France 1967, 1047-1052, J.Amer.Chem.Soc.
75 (1953), 5975-5978 und Zh.Obshch.Khim 34 (1964), 24-28 bekannt. Ihre hervorragende photosensibilisierende Wirksamkeit ist in diesen Literaturstellen jedoch weder beschrieben noch wird sie dadurch nahegelegt. Die neuen
Verbindungen der allgemeinen Formel (I) können analog zu
den in den erwähnten Literaturstellen beschriebenen nach
Standardverfahren der organischen Chemie hergestellt werden.
In einem bevorzugten Herstellungsverfahren wird ein Benzolderivat der allgemeinen Formel (III)
R6
R1
R2
worin R-J1R2 und R6 die vorstenen<3 angegebene Bedeutung besitzen, in Gegenwart einer Lewis-Säure, zum Beispiel Aluminiumchlorid, mit einemOC-Halogencarbonsäurechlorid der
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42.
allgemeinen Formel (IV)
(IV) al
O-R4
Hal
worin R3 und R4 die vorstehend angegebene Bedeutung besitzen und Hai ein Halogenatom, vorzugsweise Chlor oder
Brom bedeutet, umgesetzt, und das so erhaltene <K-Halogenketon der allgemeinen Formel ( V)
v6
Hai
worin R., R-» R3* R4» Rg und Hai die vorstehend angegebene
Bedeutung besitzen, in an sich üblicher Weise zum Hydroxyalkylphenon der allgemeinen Formel (I) (R5=H) verseift. Wenn R- und R4 Alkylgruppen sind, gelingt diese
Verseifung durch einfaches Erwärmen des oC-Halogenketons
(V) mit einer konzentrierten Lösung eines Alkalihydroxids in einem mit Wasser mischbaren Lösungsmittel wie zum Beispiel Methanol, Äthanol, Isopropanol, Aceton oder Dimethylsu1foxid. Sind einer oder beide der Reste R3 und R.
Wasserstoff, so ist es in der Regel zweckmäßig, das oC-Halogenketon (V)
809847/0368
zunächst durch Reaktion mit einem Carbonsäuresalz, zum Beispiel Natriumacetat, in einem wasserfreien organischen
Lösungsmittel in ein Alkanoyloxyalkylphenon der allgemeinen Formel (I) (R,.=Alkanoyl) umzuwandeln und dieses
gewünschtenfalls durch Hydrolyse in Gegenwart einer schwach basischen Verbindung, zum Beispiel Natriumhydrogencarbonat,
in das Hydroxyalkylphenon (I, R5=H) zu überführen.
Alkar.oyloxyalkylphenone der allgemeinen Formel (I) (R5"
Alkanoyl) können auch durch Acylierung der Hydroxyalkylphenone (I, R5=H) mit geeigneten Carbonsäurederivaten,
beispielsweise Carbonsäureanhydriden oder -halogeniden hergestellt werden.
Die Alkoxyalkylphenone der allgemeinen Formel (I) (R5=
Alkyl) können beispielsweise durch Umsetzung dercX*-Halogenketone
(V) mit einem Alkoholat, zum Beispiel llatriumäthylat, in einem wasserfreien organischen Lösungsmittel
wie zum Beispiel Äthanol hergestellt werden.
Außer durch die Friedel-Crafts-Reaktion von (III) mit
(IV) können diedL-Halogenketone (V) auch durch Halogenierung,
vorzugsweise Chlorierung oder Bromierung eines Phenons der allgemeinen Formel (VI)
worin R1, R-, R3, R4 und Rg die vorstehend angegebene Bedeutung
besitzen, in an sich üblicher Weise hergestellt werden,
809847/0368 2859
-VO-4H
Dieses Verfahren wird bevorzugt dann angewendet, wenn das Phenon (VI) leicht zugänglich ist und bei der Halogenierung
keine Nebenreaktionen, z.B. Halogenierung benzylständiger Kohlenstoffatome in R-, R- und/oder Rß auftreten.
Weiterhin können die Hydroxyalkylphenone der allgemeinen Formel (I) hergestellt werden, indem eine Grignard-Verbindung
der allgemeinen Formel (VII)
\6
R1 -V \-Mg-Hal (VII)
R2
worin R-, R2# Rg und Hai die vorstehend angegebene Bedeutung
besitzen, mit einem am Sauerstoff geschützten Cyanhydrln der allgemeinen Formel (VIII)
R3
Sch-0 ^R, (VIII)
worin Sch-O- eine gegen Grignard-Verbindungen beständige
geschützte Hydroxylgruppe, zum Beispiel eine Tetrahydropyranyläthergruppe
bedeutet und R. und R. die vorstehend angegebene Bedeutung besitzen, umsetzt und anschließend
das Reaktionsgemisch in an sich üblicher Weise in Gegenwart einer Säure hydrolysiert. Dieses Herstellungsverfahren
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272226Λ
wird bevorzugt für die Synthese der Verbindungen der allgemeinen Formel (I) angewandt, in denen R- eine Dialkylaminogruppe
ist.
Die Verwendung der erfindungsgemäßen Photosensibilisatoren
erfolgt in für derartige Produkte üblicher Weise. Zum Beispiel werden für die Photopolymerisation ungesättigter
Verbindungen in diesen Materialien, deren Prepolymeren oder Pre-Copolymeren 0,05 bis 15 Gew.%, vorzugsweise
0,1 bis 12 Gew.% einer oder mehrer Verbindungen der allgemeinen Formel (I), gegebenenfalls zusammen mit
anderen, bereits bekannten Photosensibilisatoren gelöst und diese Lösungen mit Licht oder UV-Strahlung des
Wellenlängenbereichs von 250 bis 500 nm, vorzugsweise 300 bis 400 nm bestrahlt. Als ungesättigte Verbindungen,
die mit den erfindungsgemäßen Sensibilisatoren photopolymerisiert
werden können, kommen alle diejenigen infrage, deren C=C-Doppelbindungen durch zum Beispiel
Halogenatome, Carbonyl-, Cyano-, Carboxy-, Ester-, Amid-, Äther- oder Arylgruppen oder durch konjugierte weitere
Doppel- oder Dreifachbindungen aktiviert sind. Beispiele für solche Verbindungen sind Vinylchlorid, Vinylidenchlorid,
Acrylsäuremethylester, Acrylnitril, Hydroxyäthylacrylat, Cyclohexylacrylat,
Hydroxypropylacrylat, Hydroxyäthylmethacrylat, Benzylacrylat, 2-Xthylhexylacrylat, Phenyloxyäthylacrylat,
niederes Alkoxyäthoxyacrylat, Tetrahydrofurfurylacrylat,
N-Vinylpyrrolidon, N-Vinylcarbazol, Vinylace
tat, Styrol, Divinylbenzol, und substituierte Styrole. Auch mehrfach ungesättigte Verbindungen wie Trimethylolpropandiacrylat,
propoxyliertes Bisphenol-A-diacrylat und -dimethacrylat
und 1,6-Hexandiol-diacrylat und Pentaerythrittriacrylat
können mit den Sensibilisatoren nach der Erfindung photopolymerisiert werden. Als Prepolymere und Pre-Copolymere
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kommen beispielsweise ungesättigte Polyester, Acrylmaterialien, Epoxymaterialien, Urethane, Silikone, Aminpolyamid-Harze und insbeondere acrylierte Harze wie acryliertes
Silikonöl, acrylierter Polyester, acrylierte Urethane, acrylierte Polyamide, acryliertes Sojabohnenöl, acryliertes
Epoxyharz und acryliertes Acrylharz infrage.
Die photopolymerisierbaren Verbindungen oder Gemische können durch den Zusatz bekannter Inhibitoren in den üblichen Mengen stabilisiert sein, ohne daß dadurch die Sensi-
bilisatorwirkung der erfindungsgemäßen Photosensibilisatoren nennenwert beeinträchtigt wird. Weiterhin können sie
Pigmente oder Farbstoffe, wie sie in photochemisch aushärtenden Druckfarben gebräuchlich sind, enthalten. In
diesem Fall wird die Sensibilisatormenge höher gewählt,
beispielsweise 6 bis 12 Gew.%, während für farblose photopolymerisierbare Produkte 0,1 bis 3 Gew.% in den meisten
Fällen voll ausreichen. Als gegebenenfalls zusammen mit den'erfindungsgemäßen Sensibilisatoren verwendbare bekannte Photosensibilisatoren kommen beispielsweise
4,4'-Bis(diäthylamino)benzophenon, p-Dimethylaminobenzaldehyd, 4,4'-Bis(dimethylamine)benzil, p-Dimethylaminobenzophenon, p-Dimethylaminobenzoin, p-Dimethylaminobenzil, N-substituierte 9-Acridanone, die in der
US-PS 36 61 588 beschriebenen Amino-(oder Phenyl-)carbonylverbindungen, die in der US-PS 35 52 973 beschriebenen
p-Aminophenylcarbonylverbindungen, Acetophenon, Propiophenon, Xanthon, Benzaldehyd, Benzophenon, p-Chlorbenzophenon, Biacetyl, Benzil, Fluorenon, 3-Nitro-4-chlor-
benzophenon-2-carbonsäure, Phenanthrenchinon, Benzoin
und Alkylather des Benzoins, 2-Chlorthioxanthon, 10-Thioxanthenon, 1-Phenyl-1,2-propandionoxim und die Ester und
Äther desselben, Isatin, Anthron, Hydroxypropylbenzoat,
809847/0368
- ys -
272226A
Benzoylbenzoatacrylat, 2,4-Dimethylbenzophenon, Benzoylbiphenyl, Acenaphthenochinon oder Dibenzosuberon infrage. Als Strahlenquellen für die Durchführung der Photopolymerisation können Sonnenlicht oder künstliche Strahler
verwendet werden. Vorteilhaft sind Quecksilberdampf-Hochoder Niederdrucklampen, Xenon- und Wolframlampen; Laser-Lichtquellen können jedoch ebenfalls eingesetzt werden.
Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung erläutern,
ohne sie zu beschränken. In diesen Beispielen sind Temperaturen in Grad Celsius angegeben; Konzentrations- und
Prozentangaben sind, soweit nichts Anderes angegeben ist, auf das Gewicht bezogen; Druckangaben bei Siedepunkten
sind in Torr.
Beispiele 1 bis 6 betreffen die Herstellung der erfindungsgemäß zu verwendenden Verbindungen der allgemeinen
Formel (I):
8098A7/03B8
Al
In eine Suspension von 665 g Aluminiumchlorid in 20OO ml 1,2-Dichloräthan werden bei 0° 740 g -Chlorisobutyrylchlorid (hergestellt durch Chlorierung von Isobutyrylchlorid in Gegenwart Katalytischer Mengen Chlorsulfonsäure
und Cloranil) eingetragen. Zu diesem Gemisch werden unter kräftigem Rühren bei 0 bis 5° 1230 g handelsübliches tech-
(R)
nisches Dodecylbenzol (Marlican der Chemischen Werke
Hüls AG, Mari) getropft. Nach beendetem Zutropfen wird das
Reaktionsgemisch bei dieser Temperatur noch 45 Minuten gerührt und anschließend in ein Gemisch von 10OO g Eis und
400 ml konzentrierter Salzsäure eingerührt. Die organische Schicht wird abgetrennt, zweimal mit je 3OO ml verdünnter
Salzsäure gewaschen, über Calciumchlorid getrocknet und einge
dampft. Das zurückbleibende 1-(4'-Dodecylphenyl)-2-chlor-
2-methyl-propanon-(1) wird unter Rühren und leichtem Erwärmen in 2000 ml Isopropylalkohol gelöst. Diese Lösung
wird mit 550 ml 32%iger wässriger Natronlauge unter Rühren 1 1/2 Stunden zum Sieden erhitzt und anschließend
in 2000 ml Wasser gegossen. Das wässrige Reaktionsgemisch wird mit 1000 ml Toluol extrahiert, der Extrakt
mit 1O0O ml 10%iger wässriger Natriumchloridlösung gewaschen, über Natriumsulfat getrocknet und eingedampft.
* Das zurückbleibende 1-(4'-Dodecylphenyl)-2-hydroxy-2-
methyl-propanon-d) wird unter vermindertem Druck destil
liert; Kp.0 01 180 - 183°.
1-(4'-Hexylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1),
1 - (4 ' -Octylphenyl) -^-hydroxy^-methyl-propanon- (1) ,
1-(4'-Nonylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1),
1 - (4 ' -Hexadecylphenyl) ^-hydroxy^-methyl-propanon- (1) ,
1-(4'-Octadecy!phenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1),
809847/0368 2864
- ve -
1-(4'-Hexyloxyphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1),
1-(4'-Octyloxyphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1),
1-(4'-Dodecylphenyl)-2-hydroxy-2-äthyl-hexanon-(1),
1-(4'-Dodecy!phenyl)-2-hydroxy-2-methyl-butanon-(1).
Analog Beispiel 1 wird mit 133 g Aluminiumchlorid in 500 ml Dichloräthan aus 141 g oC-Chlorisobutyrylchlorid
und 92 g Toluol 1-(4'-Methylphenyl)-2-chlor-2-methylpropanon-d)
hergestellt und das Rohprodukt in 500 ml wasserfreiem Methanol gelöst. Unter Rühren wird eine
Lösung von 54 g Natriummethylat in 1500 ml Methanol zugetropft, das Reaktionsgemisch auf 60° erwärmt und dann
16 Stunden stehengelassen. Anschließend wird das ausgefallene Natriumchlorid abfiltriert und das Filtrat eingedampft.
Das zurückbleibende 1-(4'-Methylphenyl)-2-methoxy-2-methyl-propanon
wird unter vermindertem Druck destilliert; es werden 98,4 g mit Kp. Q Q3 75 - 77° erhalten.
Analog werden hergestellt:
1-(4'-Methylphenyl)-2-äthoxy-2-methyl-propanon-(1),
1- (4 ' -Methylphenyl) ^-butoxy^-methyl-propanon- (1) ,
1- (4' -Isopropylphenyl) ^-äthoxy^-methyl-propanon- (1) ,
1- (4' -Pentylphenyl) ^-methoxy^-methyl-propanon- (1) ,
1- (4' -Methylphenyl) ^-methoxy^-äthyl-hexanon- (1) ,
1-(4'-Dodecylphenyl)-2-äthoxy-2-methyl-propanon-(1).
809847/0368 2865
- ve -SO
Analog Beispiel 1 werden mit 335 g Aluminiuxnchlorid in 1000 ml Dichloräthan aus 300 g Toluol und 455 g oC-Chlorpropionylchlorid 550 g 1-(4'-Methylphenyl)-2-chlorpropanon-(1) hergestellt. Das Rohmaterial wird in 3000 ml
Äthanol gelöst und mit 392 g wasserfreiem Kaliumacetat 15 Stunden zum Sieden erhitzt. Anschließend wird das
Reaktionsgemisch unter vermindertem Druck eingedampft, der Rückstand in 2500 ml Diäthylather aufgenommen und
filtriert. Das FiItrat wird eingedampft und das zurückbleibende 1-(4'-Methylpheny1)-2-acetoxy-propanon-(1)
unter vermindertem Druck destilliert; Ausbeute: 364 g, Κρ.Λ , 115 - 122°.
4-tert.Butyl-cC-acetoxy-acetophenon, Kp.Q 3 140 - 143°;
1- (4'-tert.Butylpheny 1) -^-acetoxy-^-methyl-propanon-(1),
Kp.o 3 144 - 148°.
* Eine Lösung von 371 g 1-(4'-Methylphenyl)-2-acetoxypropanon-(i) in 3000 ml Isopropylalkohql wird mit einer
Lösung von 151 g Natriumhydrogencarbonat in 1200 ml
Wasser versetzt und die Mischung 15 Stunden unter Rühren zum Sieden erhitzt. Anschließend wird das Lösungsmittel
unter vermindertem Druck abdestilliert, der Rückstand in 5OO ml Wasser aufgenommen und dreimal mit je 300 ml
Diäthyläther extrahiert. Die vereinigten Ätherextrakte werden über Natriumsulfat getrocknet und eingedampft.
809847/0368
- XH -
Das zurückbleibende 1-(4'-Methylphenyl)-2-hydroxypropanon-d)
wird unter vermindertem Druck destilliert; Ausbeute: 224 g, Kp.Λ ., 85 - 90°.
υ, j
Analog werden hergestellt:
1-(31,4'-Dimethylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1),
Kp.o 6 88 - 90°; 1- (4' -Methoxyphenyl) ^-hydroxy-^-methyl-propanon- (1),
Kp.01 125 - 129°;
1-(4'-Biphenylyl)^-hydroxy^-methyl-propanon- (1),
F. 85°; 1-(4'-Isopropylphenyl)-2-hydroxy-butanon-(1),
1-(4'-Isopropylphenyl)-2-hydroxy-propanon-(1),
1-(4'-tert.Butylphenyl)-2-hydroxy-propanon-(1),
1-(4 *-Nonylphenyl)-2-hydroxy-hexanon-(1).
Zu einer Lösung von 0,1 Mol Acetoncyanhydrin-tetrahydropyranyläther
in 50 ml wasserfreiem Tetrahydrofuran wird im Lauf von 40 Minuten unter Rühren eine Lö3ung von
0,075 Mol 4-Dimethyl-aminophenyl-magnesiumbromid in 100 ml
wasserfreiem Tetrahydrofuran getropft und das Reaktionsgemisch noch 1,5 Stunden zum Sieden erhitzt. Anschließend
werden 100 ml 10%ige wässrige Schwefelsäure zugesetzt, das Gemisch noch einmal kurz zum Sieden erhitzt und dann
mit 10%iger wässriger Natronlauge auf einen pH-Wert von etwa 10 eingestellt. Das schwach alkalische Reaktionsgemisch
wird dreimal mit je 150 ml Diäthyläther ausgeschüttelt, die vereinigten Ätherextrakte werden mit 100 ml
Wasser ausgewaschen, filtriert und über Natriumsulfat getrocknet. Nach Abdestillieren des Xthers bleiben 12 g
809847/0368 2867
- tfl -
-(4'-Dimethylaminophenyl) ^-hydroxy^-methyl-propanon- (1) ,
die aus Äthanol umkristallisiert werden; P. 115°.
1- (4'-Diäthylaminophenyl) -^-hydroxy^-methyl-propanon- (1),
1-(4'-Xthoxyphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1),
1-(4'-Butyloxyphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1),
1-(4'-Dimethylaminophenyl)-2-hydroxy-2-methyl-butanon-(1),
1-(4'-Dimethylaminophenyl)^-hydroxy^-äthyl-butanon-(1) .
a) Zu einer Suspension von 1038 wasserfreiem Aluminiumchlorid in 3000 ml Dichloräthan werden bei 6-10° unter Eiskühlung zunächst 75Og Isobutyrylchlorid und
danach 900 g tert.Butylbenzol getropft. Das Reaktionsgemisch wird noch 1 Stunde bei 6° und dann 15 Stunden
bei Raumtemperatur stehengelassen. Anschließend wird langsam in eine Lösung von 6OO ml konzentrierter Salzsäure in 2400 ml Eiswasser eingerührt, die organische
Phase abgetrennt und die wässrige Lösung mit 6OO ml Dichloräthan einmal ausgewaschen. Die vereinigten
'20 organischen Phasen werden je einmal mit je 500 ml
5%iger Salzsäure und Wasser gewaschen, über Calciumchlorid getrocknet und eingedampft. Das zurückbleibende 1-(4'-tert.Butylphenyl)-2-methyl-propanon-(1)
wird unter vermindertem Druck destilliert; Ausbeute: 1085 g, Kp. Q 1 98 - 102°.
b) In eine Lösung von 1007 g 1-(4'-tert.Butylphenyl)-2-methyl-propanon-(1) in 3000 ml Methanol werden in Gegenwart von 2 ml konzentrierter Salzsäure und 2 g
Jod bei 50° unter Rühren im Lauf von 1,5 Stunden
809847/0368
- 19 -
550 g Chlor eingeleitet. Anschließend wird das Reaktionsgemisch noch 30 Minuten bei 50° gerührt und
dann das Lösungsmittel abdestilliert. Der Rückstand wird in 1000 ml Toluol aufgenommen und mit wässriger
Natriumhydrogencarbonatlösung und wässriger Natriumthiosulfatlösung neutral und chlorfrei gewaschen.
Anschließend wird das Toluol abdestilliert und das zurückbleibende rohe 1-(4'-tert.Butylphenyl)-2-chlor-2-methyl-propanon-(1)
in 2000 ml Isopropylalkohol gelöst. Zu dieser Lösung werden 420 ml 32%ige wässrige
Natronlauge gegeben und das Reaktionsgemisch 1,5 Stunden zum Sieden erhitzt. Nach dem Abkühlen wird das
Reaktionsgemisch mit 1000 ml Toluol ausgeschüttelt, der Toluolextrakt mit 1000 ml 10%iger wässriger
Natriumchloridlösung gewaschen, über Calciumchlorid getrocknet und eingedampft. Das zurückbleibende
1- (4 ' -tert.Butylphenyl) ^-hydroxy^-methylpropanon- (1)
wird unter vermindertem Druck destilliert; Ausbeute: 839 g, Kp.0 1 132 - 135°.
Analog werden hergestellt:
1-(4'-Methylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1),
Kp.0 5 120 - 122°; , 1 - (4' -Äthylphenyl) ^-hydroxy-^-methyl-propanon- (1) ,
- (4' -Isopropylphenyl) ^-hydroxy-^-methyl-propanon- (1),
KP*0,4 108 ~ 1O9°;
- (3' -Chlor-4' -methoxyphenyl) -^-hydroxy-^-methyl-
propanon-d) , . F. 92 - 93°;
1-(3·-Brom-4'-methoxyphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropanon-(1),
F. 104 - 106°;
1 -(3' -Chlor-4 '-methy !phenyl) -^-hydroxy-^-methyl-
propanon-d) , Kp. Q η 13Ο - 135°;
1-(2·,5·-Dimethy!phenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1);
809847/0368 2869
- 20 -
1 - (2',4 ' -Dimethylphenyl) -2-hydroxy-2-lnethyl-propanon- (1) ,
1-(4·-Methylphenyl)^-hydroxy^-äthyl-hexanon-(1),
Kp.0 3 155 - 158°;
1-(4'-tert.Butylphenyl)-2-hydroxy-2-äthyl-hexanon-(1),
Kp.0 2 162 - 166°;
1 - (4 ' -Isopentylphenyl) ^-hydroxy^-methyl-propanon- (I),
1-(4'-Methylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-butanon-(1),
1-(4·-Isopropylphenyl)-2-hydroxa-2-methyl-butanon-(1),
1 - (4'-tert. Butylphenyl) ^-hydroxy^-methyl-butanon- (1),
1-(3', 4·-Dimethylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-butanon-(1).
Θ098Α7/0368
- 21 -
Die folgenden Beispiele 7 bis 12'betreffen die Verwendung
der erfindungsgemäßen Photosensibilisatoren bei der Photopolymerisation ungesättigter Verbindungen.
Je 20 g eines handelsüblichen Gießharzes auf der Basis von teilweise polymerisieren» Methylmethacrylat und Allylmethacrylat
(Plexitv ' MU 51 der Firma Röhm GmbH, Darmstadt)
werden mit jeweils 0,4 g eines erfindungsgemäßen Sensibilisators
bzw. eines handelsüblichen Vergleichsprodukts versetzt. Nach vollständiger Auflösung des Sensibilisators
und gleichmäßiger Durchmischung werden die Proben in verschlossenen Glasflaschen bei 60° im Dunkeln gelagert. In
regelmäßigen Zeitabständen werden die Proben auf beginnende Gelierung geprüft. Die in der folgenden Tabelle zusammengestellten
Ergebnisse sind ein Maß für die Dunkellagerstabilität von photopolymerisierbaren Mischungen unter
Verwendung der verschiedenen Sensibilisatoren.
/ersuch
*r. |
Sensibilisator | DunkellagerStabi lität /"Tage 7 |
1 | 1,2-Diphenyl-2,2- dimethoxy-äthanon- (D |
4 |
2 | Benzoinbutylather | 0,5 |
3 | 1-(4'-Dodecylphe- nyl)-2-hydroxy-2-me- thyl-propanon-(1) |
5 |
Die Ergebnisse zeigen, daß photopolymerisierbare Mischungen
mit dem erfindungsgemäßen Sensibilisator (Versuch 3) eine deutlich bessere Dunkellagerstabilität besitzen als die
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- at -
Mischungen mit den bekannten Sensibilisatoren (Versuche 1 und 2) .
Analog Beispiel 7 wird die Dunkellagerstabilität photopolymerisierbarer Mischungen aus je 20 g eines handelsüblichen Gießharzes auf der Basis von ungesättigten Polyestern und Styrol (Palatal P 70 der Fa. BASF AG, Ludwigshafen) und je 0,4 g eines erfindungsgemäßen und zweier
bekannter Sensibilisatoren bestimmt. Die Ergebnisse sind in Tabelle B 8 zusammengestellt:
/ersuch
*r. |
Sensibilisator |
DunkellagerSta
bilität ^~Tage_7 |
1 |
1,2-Diphenyl-2,2-dimethoxy-
äthanon-(1) |
7 |
2 | Benzoinbutylather | 8 |
3 |
1 —(4'-Dodecylphenyl)-2-
hydroxy-2-methyl-propanon-(1) |
12 |
Auch die Ergebnisse beweisen die überlegenen Eigenschaften des erfindungsgemäßen Sensibilisators.
Je 50 g eines handelsüblichen Gießharzes auf der Basis von teilweise polymerisiertem Methylmethacrylat und Allylmethacrylat (Plexit*R) MU 51 der Firma Röhm GmbH, Darmstadt) werden mit jeweils 1,25 g 1-(4'-tert. Butylphenyl) -2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1) bzw. Benzoinbutyläther als Sensibili-
809847/0368
sator versetzt und auf Glasplatten zu 250 #um dicken Schichten ausgestrichen. Sofort nach dem Ausstreichen werden die
Schichten aus 11 cm Entfernung mit einer Quecksilberdampflampe 30 Sekunden lang bestrahlt. Aus beiden Materialien
wird eine harte Schicht mit nicht klebriger Oberfläche gebildet, die bei Verwendung des erfindungsgemäßen Sensibilisators farblos klar ist, bei Verwendung des bekannten Benzoinäthers dagegen eine deutlich gelbliche Färbung besitzt.
Eine Lösung von 0,2 g 1-(4'-Methylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropanon-(1) in 10 g Trimethylolpropantriacrylat wird auf
einer Glasplatte zu einer 50 yUm dicken Schicht ausgestrichen und wie in Beispiel 9 bestrahlt. Es wird ein harter, farbloser, glasklarer und hochglänzender Überzug er-
halten.
Eine Lösung von O,1 g 1-(2', 5'-Dimethylphenyl)-2-methoxy-2-methylpropanon-(1) und 0,1 g Benzoinbutyläther in 10 g
Trimethylolpropantriacrylat wird mit einer Gummiwalze etwa 100 ,um dick auf weißes Zeichenpapier aufgetragen.
Af
Nach Bestrahlung wie in Beispiel 9 entsteht eine farblose, glänzende Beschichtung.
In einer Lösung von 0,8 g 1-(4'-tert. Butylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropanon-(1) und 0,8 g 1-(4 '-IsopropylphenyD-
2-hydroxy-2-methylpropanon-(1) in 16,4 g Pentaerythritoltriacrylat werden 2,0 g blaues Kupfer-phthalocynanin-pigment gleichmäßig dispergiert. Mit dieser Dispersion wird ein
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- 24 '-
gerastertes Klischee eingefärbt und weißes Papier damit bedruckt. Die nach dem Druckvorgang klebrige Druckoberfläche
wird anschließend 20 Sekunden lang aus 11 cm Entfernung mit einer Quecksilberdampflampe bestrahlt. Es
wird ein klebfreier, wischfester Druck erhalten.
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Claims (1)
1. Verwendung eines substituierten Hydroxyalkylphenons
der allgemeinen
Formel (I)
Formel (I)
(D
worin
R1 Wasserstoff, Phenyl, Dialkylamino mit 2-4
C-Atomen oder Alkyl oder Alkoxy mit jeweils
bis zu 18 C-Atomen,
R, Wasserstoff, Chlor, Brom, Alkyl oder Alkoxy
R, Wasserstoff, Chlor, Brom, Alkyl oder Alkoxy
mit jeweils bis zu 4 C-Atomen R3 und R4, die gleich oder verschieden sein können,
Wasserstoff oder Alkyl mit bis zu 6 C-Atomen, R5 Wasserstoff, Alkyl oder Alkanoyl mit jeweils
bis zu 4 C-Atomen, und
Rc Wasserstoff oder Methyl bedeuten, ο
mit der Maßgabe, daß nicht alle Reste R1 bis Rg
gleichzeitig Wasserstoff bedeuten, als Photosensibilisator.
Verwendung eines substituierten Hydroxyalkylphenons nach Anspruch 1 als Sensibilisator für die Photopolymerisation
ungesättigter Verbindungen. Verwendung eines substituierten Hydroxyalkylphenons nach Anspruch 1 als UV-Härter für Druckfarben.
Verwendung eines substituierten Hydroxyalkylphenons nach Anspruch 1 im Gemisch mit mindestens einem
weiteren substituierten Hydroxyalkylphenon der allgemeinen Formel (I) und/oder einer bekannten photosensibilisierenden
Verbindung als Sensibilisator für Photopolymerisation ungesättigter Verbindungen.
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. 5.) Eine Verbindung der allgemeinen Formel (II) 272226A
(ID
worin
R. Wasserstoff, Phenyl, Dialkylamino mit
2-4 C-Atomen oder Alkyl oder Alkoxy mit jeweils bis zu 18 C-Atomen,
R, Wasserstoff, Chlor, Brom, Alkyl oder Alkoxy
mit jeweils bis zu 4 C-Atomen
R3 und R. Alkyl mit bis zu 6 C-Atomen oder einer
dieser Reste auch Wasserstoff, und
R5 Wasserstoff, Alkyl oder Alkanoyl mit jeweils
bis zu 4 C-Atomen bedeuten, mit der Maßgabe, daß nicht R1 und R2 sowie R3 und R. gleichzeitig
Wasserstoffatome sind, daß nicht R. Methyl, Methoxy
oder Phenyl ist, wenn R2 Wasserstoff sowie R3 und R,
Wasserstoff und/oder Methyl sind, und daß nicht R. Methyl ist, wenn R. Wasserstoff sowie R3 und
R4 Wasserstoff und/oder Methyl sind.
6. Eine Verbindung nach Anspruch 5 aus der Gruppe:
1-(4'-Isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1);
1-(4'-tert.Butylphenyl) -2-hydroxy-2-methyl-'propanon-(1) t
1 - (4'-Dodecylphenyl) ^-hydroxy^-methyl-propanon- (1);
1 - (4' -Dimethylaminopheny 1) ^-hydroxy^-methyl-propanon-(1) ;
1-(4l-Methylphenyl)-2-hydroxy-2-äthyl-hexanon-(1);
•1- (4' -tert.Butylphenyl) -2-hydroxy-2-äthyl-hexanon-(1).
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Eine Verbindung nach Anspruch 5 aus der Gruppe:
1 - (3',4' -Dimethylphenyl) ^-hydroxy^-methyl-propa
non-(1);
1 - (3 · -Chlor-4' -methylphenyl) ^-hydroxy^-methyl
propanon-(1);
1- (3' -Chlor-4 · -me thoxypheny 1) ^-hydroxy^-methyl
propanon-(1);
1 - (3' -Brom-4 * -methoxypheny 1) ^-hydroxy^-raethyl
propanon-(1);
1-(2',4'-Dimethylphenyl)^-hydroxy^-methyl-propa
non-(1);
1-(4'-tert. Butylphenyl)-2-acetoxy-propanon-(1);
1-(4'-Dodecy!phenyl)-2-acetoxy-propanon-(1).
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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DE2722264A DE2722264C2 (de) | 1977-05-17 | 1977-05-17 | Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren |
DE19782808459 DE2808459A1 (de) | 1977-05-17 | 1978-02-28 | Hydroxyalkylphenone und ihre verwendung als photosensibilisatoren |
GB3923/80A GB1598593A (en) | 1977-05-17 | 1978-05-11 | Process for carrying out reactions using substituted hydroxy-alkylphenones as photosensitisers |
GB18937/78A GB1598592A (en) | 1977-05-17 | 1978-05-11 | Substituted alkylphenones |
FR7814247A FR2391183A1 (fr) | 1977-05-17 | 1978-05-12 | Hydroxyalkylphenones et leur application comme photosensibilisateurs |
IT49364/78A IT1102750B (it) | 1977-05-17 | 1978-05-15 | Idrossialchil fenoni utili come fotosensibilizzanti |
DK214978A DK152737C (da) | 1977-05-17 | 1978-05-16 | Anvendelse af substituerede hydroxyalkylphenoner som fotosensibilisatorer |
ES469892A ES469892A1 (es) | 1977-05-17 | 1978-05-16 | Procedimiento para realizar reacciones fotoquimicas para la obtencion de polimeros organicos |
AT0353078A AT368170B (de) | 1977-05-17 | 1978-05-16 | Sensibilisator fuer die photopolymerisation |
SE7805579A SE443788B (sv) | 1977-05-17 | 1978-05-16 | Anvendning av en substituerad hydroxialkylfenon som fotosensibilisator |
CA000303400A CA1233931A (en) | 1977-05-17 | 1978-05-16 | Photosensitive hydroxyalkylphenones |
CH531078A CH644772A5 (de) | 1977-05-17 | 1978-05-16 | Hydroxyalkylphenone und ihre verwendung als photosensibilisatoren. |
BR7803068A BR7803068A (pt) | 1977-05-17 | 1978-05-16 | Aplicacao de uma hidroxialquilfenona substituida,e composto |
JP53057725A JPS6026403B2 (ja) | 1977-05-17 | 1978-05-17 | 不飽和化合物の光重合用光増感剤 |
NLAANVRAGE7805346,A NL187684C (nl) | 1977-05-17 | 1978-05-17 | Werkwijze voor het fotosensibiliseren met een gesubstitueerd hydroxyalkylfenon als fotosensibilisator, alsmede fotosensibilisatorverbinding. |
BE2056979A BE867137A (nl) | 1977-05-17 | 1978-05-17 | Hydroxyalkylfenonen en hun toepassing als fotosensibilisatoren |
US06/099,792 US4347111A (en) | 1977-05-17 | 1979-11-26 | Photosensitive hydroxyalkylphenones |
US06/408,576 US4477681A (en) | 1977-05-17 | 1982-08-16 | Photosensitive hydroxyalkylphenones |
US06/646,285 US4721734A (en) | 1977-05-17 | 1984-08-31 | Photosensitive hydroxylalkylphenones |
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---|---|---|---|
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---|---|
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---|---|---|---|
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NL (1) | NL187684C (de) |
SE (1) | SE443788B (de) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4315807A (en) | 1977-12-22 | 1982-02-16 | Ciba-Geigy Corporation | Sensitizers for photopolymerization |
US4351708A (en) | 1980-02-29 | 1982-09-28 | Ciba-Geigy Corporation | Photochemically or thermally polymerizable mixtures |
US4390453A (en) | 1980-03-15 | 1983-06-28 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Mixtures of aromatic-aliphatic ketones as photoinitiators and photopolymerizable systems containing them |
EP0094347A1 (de) * | 1982-05-07 | 1983-11-16 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur Herstellung von 1-Hydroxyketonen |
EP0107198A1 (de) * | 1977-12-22 | 1984-05-02 | Ciba-Geigy Ag | Verwendung von 2-Hydroxy-2-methyl(p-chlorpropiophenon) als Photoinitiator |
EP0354458A2 (de) * | 1988-08-09 | 1990-02-14 | MERCK PATENT GmbH | Fotoinitiatoren kombinierter Struktur |
WO2002048202A1 (en) * | 2000-12-13 | 2002-06-20 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Surface-active photoinitiators |
US7250204B2 (en) | 2002-10-15 | 2007-07-31 | Goldschmidt Ag | Use of hydroxyalkylphenone-type photoinitiators in radiation-curable organopolysiloxanes for producing abhesive coatings |
US7534880B2 (en) | 2003-08-07 | 2009-05-19 | Lamberti Spa | Clear photopolymerizable systems for the preparation of high thickness coatings |
EP3395793A1 (de) | 2017-04-24 | 2018-10-31 | IGM Group B.V. | Verfahren zur herstellung von alpha-funktionalisierten ketonen |
EP3395806A1 (de) | 2017-04-24 | 2018-10-31 | IGM Group B.V. | Einfache oxidative funktionalisierung von alkylarylketonen |
Families Citing this family (226)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2722264C2 (de) * | 1977-05-17 | 1984-06-28 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren |
JPS5810525A (ja) * | 1981-06-15 | 1983-01-21 | Sagami Chem Res Center | 光学活性な1−芳香族基置換−1−アルカノン類の製造方法 |
DE3203096A1 (de) * | 1982-01-30 | 1983-08-04 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Verwendung von hydroxyalkylphenonen als initiatoren fuer die strahlungshaertung waessriger prepolymerdispersionen |
DE3367033D1 (en) * | 1982-06-15 | 1986-11-20 | Ciba Geigy Ag | Process for the photopolymerisation of unsaturated compounds |
DE3471486D1 (de) * | 1983-08-15 | 1988-06-30 | Ciba Geigy Ag | Photocurable compositions |
US5169879A (en) * | 1983-10-26 | 1992-12-08 | Dow Corning Corporation | Fast ultraviolet radiation curing silicone composition |
US5162389A (en) * | 1983-10-26 | 1992-11-10 | Dow Corning Corporation | Fast ultraviolet radiation curing silicone composition having a high refractive index |
US5124212A (en) * | 1983-10-26 | 1992-06-23 | Dow Corning Corporation | Articles prepared from fast ultraviolet radiation curing silicone composition |
US4946874A (en) * | 1983-10-26 | 1990-08-07 | Dow Corning Corporation | Fast ultraviolet radiation curing silicone composition containing two vinyl polymers |
US4780486A (en) * | 1983-10-26 | 1988-10-25 | Dow Corning Corporation | Fast ultraviolet radiation curing silicone composition |
IT1176018B (it) * | 1984-04-12 | 1987-08-12 | Lamberti Flli Spa | Chetoni aromatico alifatici polimerici o polimerizzabili adatti all'impiego come fotoiniziatori di polimerizzazione |
DE3512179A1 (de) * | 1985-04-03 | 1986-12-04 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Fotoinitiatoren fuer die fotopolymerisation in waessrigen systemen |
US4906675A (en) * | 1986-02-12 | 1990-03-06 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Active energy ray-curable composition |
FI863015A (fi) * | 1986-07-22 | 1988-01-23 | Petri Porras | Akrylat/uretan uv-torkningssystem. |
EP0269573B1 (de) * | 1986-11-26 | 1991-03-27 | Ciba-Geigy Ag | Flüssige Photoinitiatorgemische |
US4902724A (en) * | 1986-12-22 | 1990-02-20 | General Electric Company | Photocurable acrylic coating composition |
US4902725A (en) * | 1986-12-22 | 1990-02-20 | General Electric Company | Photocurable acrylic coating composition |
MX169697B (es) * | 1987-12-28 | 1993-07-19 | Ppg Industries Inc | Mejoras a composiciones fraguables por radiacion basadas sobre poliesteres insaturados y compuestos teniendo por lo menos dos grupos de vinil eter |
US5334456A (en) * | 1988-08-12 | 1994-08-02 | Stamicarbon B.V. | Free-radical curable compositions |
US5334455A (en) * | 1988-08-12 | 1994-08-02 | Stamicarbon B.V. | Free-radical curable compositions |
US5340653A (en) * | 1988-08-12 | 1994-08-23 | Stamicarbon B.V. | Free-radical curable compositions comprising vinyl ether and urethane malenate compounds |
WO1990001512A1 (en) * | 1988-08-12 | 1990-02-22 | Desoto, Inc. | Photo-curable vinyl ether compositions |
JPH0281805A (ja) * | 1988-09-19 | 1990-03-22 | Nisshin Kogyo Kk | 貯溜排出装置の排出口開閉装置 |
AU641152B2 (en) * | 1989-03-07 | 1993-09-16 | Dsm N.V. | Free-radical curable compositions |
WO1990010662A1 (en) * | 1989-03-07 | 1990-09-20 | Desoto, Inc. | Free-radical curable compositions |
EP0462204B1 (de) * | 1989-03-07 | 1998-01-28 | Dsm N.V. | Frei radikal vernetzbare zusammensetzungen |
US4943600A (en) * | 1989-03-10 | 1990-07-24 | Desoto, Inc. | Photocurable polyamine-ene compositions having improved cure speed |
US4987159A (en) * | 1990-04-11 | 1991-01-22 | Fratelli Lamberti S.P.A. | Carbonyl derivatives of 1-phenylindan suitable for use as polymerization photoinitiators, their preparation and use |
US5202359A (en) * | 1990-05-17 | 1993-04-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photoinitiators that are soluble in highly fluorinated monomers |
DE4022234A1 (de) * | 1990-07-12 | 1992-01-16 | Herberts Gmbh | Verfahren zur herstellung von schutz-, hilfs- und isoliermaterialien auf faserbasis, fuer elektrische zwecke und optische leiter unter verwendung von durch energiereiche strahlung haertbaren impraegniermassen |
US6376569B1 (en) * | 1990-12-13 | 2002-04-23 | 3M Innovative Properties Company | Hydrosilation reaction utilizing a (cyclopentadiene)(sigma-aliphatic) platinum complex and a free radical photoinitiator |
US6046250A (en) * | 1990-12-13 | 2000-04-04 | 3M Innovative Properties Company | Hydrosilation reaction utilizing a free radical photoinitiator |
US5559163A (en) * | 1991-01-28 | 1996-09-24 | The Sherwin-Williams Company | UV curable coatings having improved weatherability |
WO1992020719A1 (en) * | 1991-05-15 | 1992-11-26 | Sokol Andrew A | Finishing composition which is curable by uv light and method of using same |
US5773487A (en) * | 1991-05-15 | 1998-06-30 | Uv Coatings, Inc. | Finishing composition which is curable by UV light and method of using same |
CA2089996C (en) * | 1992-04-13 | 2004-04-27 | Brent R. Boldt | Ultraviolet radiation curable gasket coating |
US5667227A (en) * | 1992-04-13 | 1997-09-16 | Dana Corporation | Ultraviolet radiation cured gasket coating |
WO1994007958A1 (en) * | 1992-09-30 | 1994-04-14 | Ppg Industries, Inc. | Pigmented compositions and methods for producing radiation curable coatings of very low gloss |
DE4302123A1 (de) * | 1993-01-27 | 1994-07-28 | Herberts Gmbh | Verfahren zum Bedrucken von Glashohlkörpern |
US5631049A (en) * | 1993-07-27 | 1997-05-20 | Boldt; Brent R. | Process of curing a gasket coating |
US5721287A (en) | 1993-08-05 | 1998-02-24 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of mutating a colorant by irradiation |
US6017471A (en) | 1993-08-05 | 2000-01-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants and colorant modifiers |
US5773182A (en) | 1993-08-05 | 1998-06-30 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of light stabilizing a colorant |
US6211383B1 (en) | 1993-08-05 | 2001-04-03 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Nohr-McDonald elimination reaction |
US5681380A (en) | 1995-06-05 | 1997-10-28 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Ink for ink jet printers |
US6017661A (en) | 1994-11-09 | 2000-01-25 | Kimberly-Clark Corporation | Temporary marking using photoerasable colorants |
US5700850A (en) | 1993-08-05 | 1997-12-23 | Kimberly-Clark Worldwide | Colorant compositions and colorant stabilizers |
US5733693A (en) | 1993-08-05 | 1998-03-31 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method for improving the readability of data processing forms |
US5645964A (en) | 1993-08-05 | 1997-07-08 | Kimberly-Clark Corporation | Digital information recording media and method of using same |
US5865471A (en) | 1993-08-05 | 1999-02-02 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photo-erasable data processing forms |
CA2120838A1 (en) | 1993-08-05 | 1995-02-06 | Ronald Sinclair Nohr | Solid colored composition mutable by ultraviolet radiation |
US5643356A (en) | 1993-08-05 | 1997-07-01 | Kimberly-Clark Corporation | Ink for ink jet printers |
US5685754A (en) | 1994-06-30 | 1997-11-11 | Kimberly-Clark Corporation | Method of generating a reactive species and polymer coating applications therefor |
US6242057B1 (en) | 1994-06-30 | 2001-06-05 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition and applications therefor |
US6071979A (en) | 1994-06-30 | 2000-06-06 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition method of generating a reactive species and applications therefor |
US5739175A (en) | 1995-06-05 | 1998-04-14 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition containing an arylketoalkene wavelength-specific sensitizer |
US6008268A (en) | 1994-10-21 | 1999-12-28 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition, method of generating a reactive species, and applications therefor |
US5811199A (en) | 1995-06-05 | 1998-09-22 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Adhesive compositions containing a photoreactor composition |
RU2170943C2 (ru) | 1995-06-05 | 2001-07-20 | Кимберли-Кларк Уорлдвайд, Инк. | Новые прекрасители |
US5849411A (en) | 1995-06-05 | 1998-12-15 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Polymer film, nonwoven web and fibers containing a photoreactor composition |
US5798015A (en) | 1995-06-05 | 1998-08-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of laminating a structure with adhesive containing a photoreactor composition |
US5786132A (en) | 1995-06-05 | 1998-07-28 | Kimberly-Clark Corporation | Pre-dyes, mutable dye compositions, and methods of developing a color |
US5747550A (en) | 1995-06-05 | 1998-05-05 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of generating a reactive species and polymerizing an unsaturated polymerizable material |
JP2000506550A (ja) | 1995-06-28 | 2000-05-30 | キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド | 新規な着色剤および着色剤用改質剤 |
AU7374296A (en) * | 1995-09-26 | 1998-01-05 | Andrew A. Sokol | Finishing composition which is curable by uv light and method of using same |
US5855655A (en) | 1996-03-29 | 1999-01-05 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
US5782963A (en) | 1996-03-29 | 1998-07-21 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
US6099628A (en) | 1996-03-29 | 2000-08-08 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
CA2210480A1 (en) | 1995-11-28 | 1997-06-05 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Improved colorant stabilizers |
DE19546899C1 (de) | 1995-12-15 | 1997-01-09 | Herberts Gmbh | Überzugsmittel und Verwendung des Überzugsmittels |
US5891229A (en) | 1996-03-29 | 1999-04-06 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
SG53043A1 (en) * | 1996-08-28 | 1998-09-28 | Ciba Geigy Ag | Molecular complex compounds as photoinitiators |
DE19635447C1 (de) * | 1996-08-31 | 1997-11-20 | Herberts Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer Reparaturlackierung |
BR9807702A (pt) * | 1997-02-19 | 2000-05-02 | Ciba Sc Holding Ag | (co) polìmeros por fotopolimerização |
US6524379B2 (en) | 1997-08-15 | 2003-02-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same |
BR9906513A (pt) | 1998-06-03 | 2001-10-30 | Kimberly Clark Co | Fotoiniciadores novos e aplicações para osmesmos |
EP1062285A2 (de) | 1998-06-03 | 2000-12-27 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Neonanoplaste hergestellt durch mikroemulsionstechnologie sowie tinten für den tintenstrahldruck |
US6228157B1 (en) | 1998-07-20 | 2001-05-08 | Ronald S. Nohr | Ink jet ink compositions |
DE69930948T2 (de) | 1998-09-28 | 2006-09-07 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc., Neenah | Chelate mit chinoiden gruppen als photoinitiatoren |
DK1140761T3 (da) | 1999-01-12 | 2004-01-26 | Clariant Finance Bvi Ltd | Benzophenoner og anvendelse deraf som fotoinitiatorer |
ATE238393T1 (de) | 1999-01-19 | 2003-05-15 | Kimberly Clark Co | Farbstoffe, farbstoffstabilisatoren, tintenzusammensetzungen und verfahren zu deren herstellung |
US6331056B1 (en) | 1999-02-25 | 2001-12-18 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Printing apparatus and applications therefor |
US6294698B1 (en) | 1999-04-16 | 2001-09-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoinitiators and applications therefor |
US6368395B1 (en) | 1999-05-24 | 2002-04-09 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Subphthalocyanine colorants, ink compositions, and method of making the same |
SE9903748D0 (sv) * | 1999-10-19 | 1999-10-19 | Amersham Pharm Biotech Ab | Method and kit for the manufacture of separation gels |
MXPA02012011A (es) | 2000-06-19 | 2003-04-22 | Kimberly Clark Co | Fotoiniciaodres novedosos y aplicaciones para los mismos. |
US6350792B1 (en) | 2000-07-13 | 2002-02-26 | Suncolor Corporation | Radiation-curable compositions and cured articles |
ITVA20010011A1 (it) * | 2001-04-24 | 2002-10-24 | Lamberti Spa | Miscele solide di derivati alfa-idrossicarbonilici di oligomeri dell'alfa-metilstirene e loro uso. |
TWI312786B (en) * | 2001-11-08 | 2009-08-01 | Ciba Sc Holding Ag | Novel difunctional photoinitiators |
CA2418294A1 (en) * | 2002-03-08 | 2003-09-08 | Heidelberger Druckmaschinen Aktiengesellschaft | Imaging method for printing forms |
EP1613706A1 (de) * | 2003-04-16 | 2006-01-11 | Ciba SC Holding AG | Strahlenhärtbare tintenstrahldrucktinte mit alpha-hydroxyketon als photoinitiator |
JP4291638B2 (ja) | 2003-07-29 | 2009-07-08 | 富士フイルム株式会社 | アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版 |
DE10359764A1 (de) * | 2003-12-19 | 2005-07-14 | Goldschmidt Ag | Polysiloxane mit über SiOC-Gruppen gebundenen (Meth)acrylsäureestergruppen, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung als strahlenhärtbare abhäsive Beschichtung |
US20050170101A1 (en) * | 2004-02-04 | 2005-08-04 | Ecology Coatings, Inc. | Environmentally friendly assemblages, facilities, and processes for applying an opaque,100% solids, actinic radiation curable coating to objects |
US7192992B2 (en) * | 2004-02-04 | 2007-03-20 | Ecology Coating, Inc. | Environmentally friendly, 100% solids, actinic radiation curable coating compositions for coating thermally sensitive surfaces and/or rusted surfaces and methods, processes and assemblages for coating thereof |
US7425586B2 (en) * | 2004-02-04 | 2008-09-16 | Ecology Coatings, Inc. | Environmentally friendly, 100% solids, actinic radiation curable coating compositions and coated surfaces and coated articles thereof |
US7151123B2 (en) * | 2004-02-04 | 2006-12-19 | Ecology Coating, Inc. | Environmentally friendly, 100% solids, actinic radiation curable coating compositions and coated surfaces and coated articles thereof |
US20050170100A1 (en) * | 2004-02-04 | 2005-08-04 | Weine Ramsey Sally J. | Process for applying an opaque, corrosion resistant, 100% solids, UV curable finish to parts for underhood use in motor vehicles |
CA2558425A1 (en) * | 2004-03-08 | 2005-09-22 | Ecology Coating, Inc. | Environmentally friendly coating compositions for coating metal objects, coated objects therefrom, and methods, processes and assemblages for coating thereof |
US7498362B2 (en) * | 2004-03-08 | 2009-03-03 | Ecology Coatings, Inc. | Environmentally friendly coating compositions for coating metal objects, coated objects therefrom and methods, processes and assemblages for coating thereof |
US20050203205A1 (en) * | 2004-03-13 | 2005-09-15 | Weine Ramsey Sally J. | Composition of matter comprising UV curable materials incorporating nanotechnology for the coating of fiberglass |
US7323248B2 (en) * | 2004-03-13 | 2008-01-29 | Ecology Coatings, Inc. | Environmentally friendly coating compositions for coating composites, coated composites therefrom, and methods, processes and assemblages for coating thereof |
JP4544913B2 (ja) * | 2004-03-24 | 2010-09-15 | 富士フイルム株式会社 | 表面グラフト形成方法、導電性膜の形成方法、金属パターン形成方法、多層配線板の形成方法、表面グラフト材料、及び導電性材料 |
US20050234152A1 (en) * | 2004-04-16 | 2005-10-20 | Ecology Coatings, Inc. | Enviromentally friendly, 100% solids, actinic radiation curable coating compositions for coating surfaces of wooden objects and methods, processes and assemblages for coating thereof |
JP5089866B2 (ja) | 2004-09-10 | 2012-12-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷方法 |
JP4967378B2 (ja) * | 2005-03-29 | 2012-07-04 | セイコーエプソン株式会社 | インク組成物 |
JP4474317B2 (ja) | 2005-03-31 | 2010-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
JP2006335826A (ja) | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Fujifilm Holdings Corp | インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法 |
JP5276264B2 (ja) | 2006-07-03 | 2013-08-28 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法 |
EP1927633A1 (de) | 2006-11-30 | 2008-06-04 | Seiko Epson Corporation | Tintenzusammensetzung, Tintenzusammensetzungssatz mit zwei Packungen sowie Aufzeichnungsverfahren und Aufzeichnungsmaterial damit |
JP5472670B2 (ja) | 2007-01-29 | 2014-04-16 | セイコーエプソン株式会社 | インクセット、インクジェット記録方法及び記録物 |
DE102007005508A1 (de) | 2007-02-03 | 2008-08-07 | Evonik Goldschmidt Gmbh | Verfahren zur Reduktion des Trennwert-Anstiegs bei der Herstellung von No-Label-Look-Etiketten |
EP1955858B1 (de) | 2007-02-06 | 2014-06-18 | FUJIFILM Corporation | Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und Vorrichtung |
US8240808B2 (en) | 2007-02-07 | 2012-08-14 | Fujifilm Corporation | Ink-jet head maintenance device, ink-jet recording device and ink-jet head maintenance method |
JP5227521B2 (ja) | 2007-02-26 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット |
US8894197B2 (en) | 2007-03-01 | 2014-11-25 | Seiko Epson Corporation | Ink set, ink-jet recording method, and recorded material |
JP5224699B2 (ja) | 2007-03-01 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版 |
JP5306681B2 (ja) | 2007-03-30 | 2013-10-02 | 富士フイルム株式会社 | 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法 |
JP5243072B2 (ja) | 2007-03-30 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物 |
EP2129659B1 (de) * | 2007-04-04 | 2013-05-29 | Basf Se | Alpha-hydroxyketone |
JP4816976B2 (ja) * | 2007-08-09 | 2011-11-16 | セイコーエプソン株式会社 | 光硬化型インク組成物 |
EP2028241A1 (de) * | 2007-08-09 | 2009-02-25 | Seiko Epson Corporation | Lichthärtbare Tintenzusammensetzung, Tintenpatrone, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und aufgezeichnetes Material |
JP4766281B2 (ja) * | 2007-09-18 | 2011-09-07 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット記録用非水系インク組成物、インクジェット記録方法および記録物 |
JP5265165B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-08-14 | 富士フイルム株式会社 | 塗布装置及びこれを用いるインクジェット記録装置 |
JP4898618B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-03-21 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法 |
JP5227560B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法 |
JP5254632B2 (ja) | 2008-02-07 | 2013-08-07 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物 |
US20090214797A1 (en) | 2008-02-25 | 2009-08-27 | Fujifilm Corporation | Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same |
JP2009269397A (ja) | 2008-02-29 | 2009-11-19 | Seiko Epson Corp | 不透明層の形成方法、記録方法、インクセット、インクカートリッジ、記録装置 |
JP5583329B2 (ja) | 2008-03-11 | 2014-09-03 | 富士フイルム株式会社 | 顔料組成物、インク組成物、印刷物、インクジェット記録方法、及びポリアリルアミン誘導体 |
JP4914862B2 (ja) | 2008-03-26 | 2012-04-11 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置 |
JP5414367B2 (ja) | 2008-06-02 | 2014-02-12 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散物及びそれを用いたインク組成物 |
JP5383133B2 (ja) | 2008-09-19 | 2014-01-08 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法 |
JP2010077228A (ja) | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Fujifilm Corp | インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物 |
US8507726B2 (en) | 2008-11-03 | 2013-08-13 | Basf Se | Photoinitiator mixtures |
JP2010180330A (ja) | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Fujifilm Corp | 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物 |
JP5350827B2 (ja) | 2009-02-09 | 2013-11-27 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
JP5374403B2 (ja) | 2009-02-13 | 2013-12-25 | 三菱製紙株式会社 | 感光性平版印刷版材料 |
JP2010209183A (ja) | 2009-03-09 | 2010-09-24 | Fujifilm Corp | インク組成物及びインクジェット記録方法 |
JP5349095B2 (ja) | 2009-03-17 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
JP5349097B2 (ja) | 2009-03-19 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法 |
JP5383289B2 (ja) | 2009-03-31 | 2014-01-08 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物 |
JP5572026B2 (ja) | 2009-09-18 | 2014-08-13 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
JP5530141B2 (ja) | 2009-09-29 | 2014-06-25 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びインクジェット記録方法 |
JP5692490B2 (ja) * | 2010-01-28 | 2015-04-01 | セイコーエプソン株式会社 | 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物 |
JP2011152747A (ja) * | 2010-01-28 | 2011-08-11 | Seiko Epson Corp | 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物 |
JP5554114B2 (ja) | 2010-03-29 | 2014-07-23 | 富士フイルム株式会社 | 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物の製造方法、印刷物成形体、及び印刷物成形体の製造方法 |
EP2371912B1 (de) | 2010-03-31 | 2014-04-30 | Fujifilm Corporation | Aktive strahlungshärtbare Tintenzusammensetzung, Tintenzusammensetzung zur Tintenstrahlaufzeichnung, Druckmaterial und Verfahren zum Herstellen eines geformten Artikels aus Druckmaterial |
CN102336081A (zh) | 2010-05-19 | 2012-02-01 | 富士胶片株式会社 | 印刷方法、套印物的制作方法、层压加工方法、发光二极管固化性涂布组合物及墨液组合物 |
JP5606817B2 (ja) | 2010-07-27 | 2014-10-15 | 富士フイルム株式会社 | 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物成形体、及び印刷物の製造方法 |
EP2423277A3 (de) | 2010-08-27 | 2012-05-09 | Fujifilm Corporation | Tintenzusammensetzung zur Tintenstrahlaufzeichnung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und gedruckter Tintenstrahlartikel |
US20120208914A1 (en) | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Deepak Shukla | Photoinitiator compositions and uses |
US8816211B2 (en) | 2011-02-14 | 2014-08-26 | Eastman Kodak Company | Articles with photocurable and photocured compositions |
US20120207935A1 (en) | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Deepak Shukla | Photocurable inks and methods of use |
EP2682438B1 (de) | 2011-02-28 | 2017-04-05 | FUJIFILM Corporation | Tintenzusammensetzung und bildformungsverfahren |
JP2012201874A (ja) | 2011-03-28 | 2012-10-22 | Fujifilm Corp | インク組成物、及び画像形成方法 |
JP5300904B2 (ja) | 2011-03-31 | 2013-09-25 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及び画像形成方法 |
DE102011106816B9 (de) * | 2011-05-30 | 2018-05-30 | Kulzer Gmbh | Nach Härtung bruchresistentes Prothesenbasismaterial, erhalten aus autopolymerisierenden oder kaltpolymerisierenden Zusammensetzungen |
JP5764416B2 (ja) | 2011-07-08 | 2015-08-19 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及び画像形成方法 |
EP2760947B1 (de) | 2011-09-29 | 2015-11-04 | FUJIFILM Corporation | Tintenstrahltintenzusammensetzung und tintenstrahlaufzeichnungsverfahren |
JP5770765B2 (ja) | 2012-03-09 | 2015-08-26 | 富士フイルム株式会社 | 放射線硬化型インクジェットインクセット及びインクジェット記録方法 |
EP2644664B1 (de) | 2012-03-29 | 2015-07-29 | Fujifilm Corporation | Durch aktinische Strahlung härtbare Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren, Dekorfolie, Dekorfolienformprodukt, Verfahren zur Herstellung eines In-Mold-Formartikels sowie In-Mold-Formartikel |
JP5606567B2 (ja) | 2012-04-19 | 2014-10-15 | 富士フイルム株式会社 | 活性光線硬化型インク組成物、インクジェット記録方法、加飾シート、加飾シート成形物、インモールド成形品の製造方法及びインモールド成形品 |
EP2896636B1 (de) | 2012-09-14 | 2017-09-27 | FUJIFILM Corporation | Härtbare zusammensetzung und bilderzeugungsverfahren |
WO2014050993A1 (ja) | 2012-09-28 | 2014-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 高分子機能性膜及びその製造方法 |
ES2655681T3 (es) | 2012-09-28 | 2018-02-21 | Fujifilm Corporation | Membrana polimérica funcional y método para su producción |
JP6126498B2 (ja) | 2013-02-15 | 2017-05-10 | 富士フイルム株式会社 | 高分子機能性膜及びその製造方法 |
JP5980702B2 (ja) | 2013-03-07 | 2016-08-31 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法 |
WO2014136697A1 (ja) | 2013-03-07 | 2014-09-12 | 富士フイルム株式会社 | 高分子機能性膜、その製造方法、高分子機能性膜を具備したイオン交換膜およびプロトン伝導膜、およびイオン交換装置 |
JP6004971B2 (ja) | 2013-03-12 | 2016-10-12 | 富士フイルム株式会社 | 加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクジェットインク組成物、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクジェット記録方法、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクセット、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用加飾シート、加飾シート成形物、及び、インモールド成形品の製造方法 |
JP6525269B2 (ja) * | 2013-06-24 | 2019-06-05 | 東洋合成工業株式会社 | 化学増幅型レジスト組成物および装置の製造方法 |
CN104250207A (zh) * | 2013-06-30 | 2014-12-31 | 江苏英力科技发展有限公司 | 一种制备2-甲基-1-[4-(叔丁基)苯基]-1-丙酮的方法 |
CN107266328B (zh) * | 2013-08-12 | 2019-11-19 | 太阳化学公司 | 低聚氨基酮及其作为光敏引发剂的用途 |
JP5939644B2 (ja) | 2013-08-30 | 2016-06-22 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット |
WO2015045857A1 (ja) * | 2013-09-30 | 2015-04-02 | 富士フイルム株式会社 | α-ハロゲノアセトフェノン化合物の製造方法、及びα-ブロモアセトフェノン化合物 |
JP6066960B2 (ja) | 2014-05-30 | 2017-01-25 | 富士フイルム株式会社 | 成形加工用活性光線硬化型インク組成物、インクセット、インクジェット記録方法、成形加工用加飾シート、加飾シート成形物及びインモールド成形品の製造方法 |
CN105152898B (zh) * | 2015-06-23 | 2017-04-26 | 杭华油墨股份有限公司 | 苯基丁酮衍生物与其作为光引发剂的应用 |
CN107922553B (zh) | 2015-08-27 | 2020-09-15 | 富士胶片株式会社 | 感光性组合物、图像形成方法、膜形成方法、树脂、图像以及膜 |
CN108602931B (zh) | 2016-02-05 | 2021-03-09 | 富士胶片株式会社 | 水分散物及其制造方法、以及图像形成方法 |
JP6537637B2 (ja) | 2016-02-05 | 2019-07-03 | 富士フイルム株式会社 | 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
AU2017214830B2 (en) | 2016-02-05 | 2019-08-29 | Fujifilm Corporation | Aqueous dispersion, method for manufacturing the same, and image forming method |
EP3415332B1 (de) | 2016-02-10 | 2021-09-22 | FUJIFILM Corporation | Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren |
CN110168027A (zh) | 2017-01-30 | 2019-08-23 | 富士胶片株式会社 | 活性光线固化型油墨组合物及喷墨记录方法 |
CN110366585B (zh) | 2017-02-24 | 2022-04-29 | 富士胶片株式会社 | 光固化性油墨组合物及图像形成方法 |
CN110366584B (zh) | 2017-02-24 | 2022-08-23 | 富士胶片株式会社 | 光固化性油墨组合物及图像形成方法 |
WO2018179947A1 (ja) | 2017-03-30 | 2018-10-04 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物及び画像形成方法 |
CN110475830B (zh) | 2017-04-03 | 2022-03-25 | 富士胶片株式会社 | 油墨组合物及其制造方法、以及图像形成方法 |
WO2018186225A1 (ja) | 2017-04-03 | 2018-10-11 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
CN110573582B (zh) | 2017-04-26 | 2022-04-19 | 富士胶片株式会社 | 光固化性油墨组合物及图像形成方法 |
CN110753731B (zh) | 2017-06-20 | 2022-10-28 | 富士胶片株式会社 | 光固化性油墨组合物及图像形成方法 |
JP7048616B2 (ja) | 2017-07-26 | 2022-04-05 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
WO2019044511A1 (ja) | 2017-08-29 | 2019-03-07 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
CN111133060A (zh) | 2017-09-27 | 2020-05-08 | 富士胶片株式会社 | 活性能量射线固化型喷墨油墨、遮光膜及遮光膜的制造方法 |
EP3778791A4 (de) | 2018-03-27 | 2021-05-19 | FUJIFILM Corporation | Lichthärtbare tintenzusammensetzung und bilderzeugungsverfahren |
WO2019188481A1 (ja) | 2018-03-27 | 2019-10-03 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物及び画像形成方法 |
GB201815407D0 (en) | 2018-09-21 | 2018-11-07 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules and metal-ions |
GB201815405D0 (en) | 2018-09-21 | 2018-11-07 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules |
JP7256592B2 (ja) | 2019-03-06 | 2023-04-12 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、画像記録方法及び画像記録物 |
WO2020202628A1 (ja) | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物及び画像記録方法 |
GB201904581D0 (en) | 2019-04-02 | 2019-05-15 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes and processes for their preparation |
GB201917710D0 (en) | 2019-12-04 | 2020-01-15 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use |
GB201917711D0 (en) | 2019-12-04 | 2020-01-15 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use |
CN115803400B (zh) | 2020-07-15 | 2023-10-20 | 富士胶片株式会社 | 防伪图像记录用油墨组、防伪图像记录方法及防伪图像记录物 |
GB202013838D0 (en) | 2020-09-03 | 2020-10-21 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Composite membrane |
GB202015379D0 (en) | 2020-09-29 | 2020-11-11 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
GB202015546D0 (en) | 2020-09-30 | 2020-11-11 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
GB202015440D0 (en) | 2020-09-30 | 2020-11-11 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Compounds, compositions and polymer films |
GB202015436D0 (en) | 2020-09-30 | 2020-11-11 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Compositions and polymer films |
GB202019478D0 (en) | 2020-12-10 | 2021-01-27 | Fujifilm Corp | Purifying polar liquids |
GB202101153D0 (en) | 2021-01-28 | 2021-03-17 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Polymer films |
GB202104408D0 (en) | 2021-03-29 | 2021-05-12 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Cationically charged membranes |
GB202104403D0 (en) | 2021-03-29 | 2021-05-12 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Polymer Film |
GB202113996D0 (en) | 2021-09-30 | 2021-11-17 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Films and their uses |
GB202113997D0 (en) | 2021-09-30 | 2021-11-17 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
GB202113999D0 (en) | 2021-09-30 | 2021-11-17 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
GB202114000D0 (en) | 2021-09-30 | 2021-11-17 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
GB202201759D0 (en) | 2022-02-11 | 2022-03-30 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
GB202204625D0 (en) | 2022-03-31 | 2022-05-18 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Bipolar membranes |
GB202204631D0 (en) | 2022-03-31 | 2022-05-18 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
GB202204633D0 (en) | 2022-03-31 | 2022-05-18 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Bipolar membranes |
GB202207568D0 (en) | 2022-05-24 | 2022-07-06 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
WO2024068595A1 (en) | 2022-09-29 | 2024-04-04 | Fujifilm Manufacturing Europe Bv | Membranes |
WO2024068601A1 (en) | 2022-09-29 | 2024-04-04 | Fujifilm Manufacturing Europe Bv | Membranes |
WO2024068598A1 (en) | 2022-09-29 | 2024-04-04 | Fujifilm Manufacturing Europe Bv | Membranes |
WO2024132498A1 (en) | 2022-12-22 | 2024-06-27 | Fujifilm Manufacturing Europe Bv | Membranes |
WO2024132502A1 (en) | 2022-12-22 | 2024-06-27 | Fujifilm Manufacturing Europe Bv | Membranes |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1769854U (de) | 1958-05-03 | 1958-07-10 | Schloemann Ag | Blockvorstoss an oefen mit stirnseitiger ausstossoeffnung. |
DE2160692A1 (de) | 1970-12-07 | 1972-08-10 | Kansai Paint Co Ltd | Photopolymerisierbare Massen |
US3715293A (en) | 1971-12-17 | 1973-02-06 | Union Carbide Corp | Acetophenone-type photosensitizers for radiation curable coatings |
DE2432563A1 (de) * | 1973-07-06 | 1975-02-27 | Union Carbide Corp | Verfahren zur herstellung von aryldialkoxymethylketonen |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2647080A (en) * | 1950-06-30 | 1953-07-28 | Du Pont | Light-stabilized photopolymerization of acrylic esters |
US2892865A (en) * | 1957-09-20 | 1959-06-30 | Erba Carlo Spa | Process for the preparation of tertiary esters of benzoylcarbinol |
NL125868C (de) * | 1964-01-29 | |||
DE1668734A1 (de) * | 1967-10-17 | 1971-10-07 | Takeda Chemical Industries Ltd | Alkylbenzoylcarbinolester und Verfahren zu ihrer Herstellung |
US3660542A (en) * | 1969-12-11 | 1972-05-02 | Takeda Chemical Industries Ltd | Alkylbenzoylcarbinol phosphate esters |
GB1408265A (en) * | 1971-10-18 | 1975-10-01 | Ici Ltd | Photopolymerisable composition |
FR2156486A1 (en) | 1971-10-22 | 1973-06-01 | Roussel Uclaf | Oxazolyl oxy or thio acetic acids - analgesics antipyretics and anti-inflammatories |
US3801329A (en) * | 1971-12-17 | 1974-04-02 | Union Carbide Corp | Radiation curable coating compositions |
US3933682A (en) * | 1973-01-31 | 1976-01-20 | Sun Chemical Corporation | Photopolymerization co-initiator systems |
DE2343362A1 (de) | 1973-08-28 | 1975-03-13 | Merck & Co Inc | Verfahren zum fotolyitschen abbau von propylketon oder aethylesterverbindungen unter ergaenzung von aethylen zur verwendung als bioregelung oder herbizid |
GB1494191A (en) * | 1973-12-17 | 1977-12-07 | Lilly Industries Ltd | Preparation of alpha-acyloxy aldehydes and ketones |
JPS5831433B2 (ja) * | 1974-06-27 | 1983-07-06 | 東洋紡績株式会社 | ポリエステルセンイセイヒンノ ナツセンホウホウ |
US4017652A (en) * | 1974-10-23 | 1977-04-12 | Ppg Industries, Inc. | Photocatalyst system and ultraviolet light curable coating compositions containing the same |
US4054719A (en) * | 1976-11-23 | 1977-10-18 | American Cyanamid Company | Phenacyl ester photosensitizers for radiation-curable coatings |
DE2722264C2 (de) * | 1977-05-17 | 1984-06-28 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren |
US4142054A (en) * | 1977-06-16 | 1979-02-27 | The Upjohn Company | Process for preparing arylalkanoic acid derivatives |
US4318791A (en) * | 1977-12-22 | 1982-03-09 | Ciba-Geigy Corporation | Use of aromatic-aliphatic ketones as photo sensitizers |
DE2962442D1 (de) * | 1978-07-13 | 1982-05-19 | Ciba Geigy Ag | Compositions photodurcissables |
-
1977
- 1977-05-17 DE DE2722264A patent/DE2722264C2/de not_active Expired
-
1978
- 1978-05-11 GB GB18937/78A patent/GB1598592A/en not_active Expired
- 1978-05-11 GB GB3923/80A patent/GB1598593A/en not_active Expired
- 1978-05-12 FR FR7814247A patent/FR2391183A1/fr active Granted
- 1978-05-15 IT IT49364/78A patent/IT1102750B/it active
- 1978-05-16 BR BR7803068A patent/BR7803068A/pt unknown
- 1978-05-16 CH CH531078A patent/CH644772A5/de not_active IP Right Cessation
- 1978-05-16 AT AT0353078A patent/AT368170B/de not_active IP Right Cessation
- 1978-05-16 ES ES469892A patent/ES469892A1/es not_active Expired
- 1978-05-16 CA CA000303400A patent/CA1233931A/en not_active Expired
- 1978-05-16 DK DK214978A patent/DK152737C/da not_active IP Right Cessation
- 1978-05-16 SE SE7805579A patent/SE443788B/sv not_active IP Right Cessation
- 1978-05-17 JP JP53057725A patent/JPS6026403B2/ja not_active Expired
- 1978-05-17 NL NLAANVRAGE7805346,A patent/NL187684C/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-05-17 BE BE2056979A patent/BE867137A/xx not_active IP Right Cessation
-
1979
- 1979-11-26 US US06/099,792 patent/US4347111A/en not_active Expired - Lifetime
-
1982
- 1982-08-16 US US06/408,576 patent/US4477681A/en not_active Expired - Lifetime
-
1984
- 1984-08-31 US US06/646,285 patent/US4721734A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1769854U (de) | 1958-05-03 | 1958-07-10 | Schloemann Ag | Blockvorstoss an oefen mit stirnseitiger ausstossoeffnung. |
DE2160692A1 (de) | 1970-12-07 | 1972-08-10 | Kansai Paint Co Ltd | Photopolymerisierbare Massen |
US3715293A (en) | 1971-12-17 | 1973-02-06 | Union Carbide Corp | Acetophenone-type photosensitizers for radiation curable coatings |
DE2432563A1 (de) * | 1973-07-06 | 1975-02-27 | Union Carbide Corp | Verfahren zur herstellung von aryldialkoxymethylketonen |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
JP-OS 51-017802, Derwent-Central Patents Index, Basic Abstracts Journal A-Plasdoc, 1976, X13, Ref. 393 |
JP-PS 51/017802 (als Referat aus Central Patents Index, Derwent Publications, Basic Abstracts Journal A-Plasdoc, 1976, Ref. 393) * |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4315807A (en) | 1977-12-22 | 1982-02-16 | Ciba-Geigy Corporation | Sensitizers for photopolymerization |
US4318791A (en) | 1977-12-22 | 1982-03-09 | Ciba-Geigy Corporation | Use of aromatic-aliphatic ketones as photo sensitizers |
EP0107198A1 (de) * | 1977-12-22 | 1984-05-02 | Ciba-Geigy Ag | Verwendung von 2-Hydroxy-2-methyl(p-chlorpropiophenon) als Photoinitiator |
US4351708A (en) | 1980-02-29 | 1982-09-28 | Ciba-Geigy Corporation | Photochemically or thermally polymerizable mixtures |
US4390453A (en) | 1980-03-15 | 1983-06-28 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Mixtures of aromatic-aliphatic ketones as photoinitiators and photopolymerizable systems containing them |
EP0094347A1 (de) * | 1982-05-07 | 1983-11-16 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur Herstellung von 1-Hydroxyketonen |
US5047556A (en) * | 1988-08-09 | 1991-09-10 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Photoinitiators having a combined structure |
EP0354458A3 (de) * | 1988-08-09 | 1990-10-10 | MERCK PATENT GmbH | Fotoinitiatoren kombinierter Struktur |
EP0354458A2 (de) * | 1988-08-09 | 1990-02-14 | MERCK PATENT GmbH | Fotoinitiatoren kombinierter Struktur |
WO2002048202A1 (en) * | 2000-12-13 | 2002-06-20 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Surface-active photoinitiators |
US7001644B2 (en) | 2000-12-13 | 2006-02-21 | Ciba Specialty Chemicals Corp. | Surface-active photoinitiators |
US7250204B2 (en) | 2002-10-15 | 2007-07-31 | Goldschmidt Ag | Use of hydroxyalkylphenone-type photoinitiators in radiation-curable organopolysiloxanes for producing abhesive coatings |
US7534880B2 (en) | 2003-08-07 | 2009-05-19 | Lamberti Spa | Clear photopolymerizable systems for the preparation of high thickness coatings |
EP3395793A1 (de) | 2017-04-24 | 2018-10-31 | IGM Group B.V. | Verfahren zur herstellung von alpha-funktionalisierten ketonen |
EP3395806A1 (de) | 2017-04-24 | 2018-10-31 | IGM Group B.V. | Einfache oxidative funktionalisierung von alkylarylketonen |
WO2018197325A1 (en) | 2017-04-24 | 2018-11-01 | Igm Group B.V. | Process for the preparation of alpha-functionalized ketones |
WO2018197324A1 (en) | 2017-04-24 | 2018-11-01 | Igm Group B.V. | Simple oxidative functionalization of alkyl aryl ketones |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AT368170B (de) | 1982-09-27 |
CA1233931A (en) | 1988-03-08 |
US4347111A (en) | 1982-08-31 |
US4477681A (en) | 1984-10-16 |
DK152737B (da) | 1988-05-02 |
ATA353078A (de) | 1982-01-15 |
NL187684C (nl) | 1991-12-16 |
ES469892A1 (es) | 1979-10-01 |
BR7803068A (pt) | 1979-01-02 |
BE867137A (nl) | 1978-11-17 |
SE443788B (sv) | 1986-03-10 |
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GB1598592A (en) | 1981-09-23 |
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