DE2261383B2 - Verfahren zum Harten härtbarer Zusammensetzungen durch Bestrahlung mit nicht-ionisierender Strahlung - Google Patents
Verfahren zum Harten härtbarer Zusammensetzungen durch Bestrahlung mit nicht-ionisierender StrahlungInfo
- Publication number
- DE2261383B2 DE2261383B2 DE2261383A DE2261383A DE2261383B2 DE 2261383 B2 DE2261383 B2 DE 2261383B2 DE 2261383 A DE2261383 A DE 2261383A DE 2261383 A DE2261383 A DE 2261383A DE 2261383 B2 DE2261383 B2 DE 2261383B2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- light
- radiation
- ionizing
- intensity
- ultraviolet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 12
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 title claims description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title description 28
- 230000008569 process Effects 0.000 title description 4
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims description 22
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 67
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 14
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 13
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 13
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 13
- -1 antrachinone Chemical compound 0.000 description 13
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 13
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 12
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 12
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 7
- SZNYYWIUQFZLLT-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(2-methylpropoxy)propane Chemical class CC(C)COCC(C)C SZNYYWIUQFZLLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 6
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 6
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IHMJGECIBWVWIV-UHFFFAOYSA-N azet-2-yl(phenyl)methanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=NC=C1 IHMJGECIBWVWIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000006501 nitrophenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 description 3
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 208000027418 Wounds and injury Diseases 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 2
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 2
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- FSLIQFYZKKLQJI-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2-phenyl-1H-azet-2-yl)methanone Chemical compound C1(=CC=CC=C1)C1(NC=C1)C(=O)C1=CC=CC=C1 FSLIQFYZKKLQJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 235000012424 soybean oil Nutrition 0.000 description 2
- 239000003549 soybean oil Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N undecane Chemical compound CCCCCCCCCCC RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QRWAIZJYJNLOPG-UHFFFAOYSA-N (2-oxo-1,2-diphenylethyl) acetate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(=O)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 QRWAIZJYJNLOPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPLWKNRPZVNELG-UHFFFAOYSA-N (3-chlorophenyl)-phenylmethanone Chemical compound ClC1=CC=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1 CPLWKNRPZVNELG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRIKSZXJKCQQFT-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2-dimethylpropyl) prop-2-enoate Chemical compound OCC(C)(C)COC(=O)C=C MRIKSZXJKCQQFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMFJVWPCRCAWBS-UHFFFAOYSA-N (3-methoxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound COC1=CC=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1 VMFJVWPCRCAWBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URBLVRAVOIVZFJ-UHFFFAOYSA-N (3-methylphenyl)-phenylmethanone Chemical compound CC1=CC=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1 URBLVRAVOIVZFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRIPJJWYODJTLH-UHFFFAOYSA-N (4-benzylphenyl)-(4-chlorophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C(C=C1)=CC=C1CC1=CC=CC=C1 ZRIPJJWYODJTLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHHOYYQBILQYAI-UHFFFAOYSA-N (4-bromoazet-2-yl)-phenylmethanone Chemical compound BrC1=CC(=N1)C(=O)C1=CC=CC=C1 FHHOYYQBILQYAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWFHGTMLYIBPPA-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 SWFHGTMLYIBPPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXPWZZHELZEVPO-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 WXPWZZHELZEVPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKBBQSLSGRSQAJ-UHFFFAOYSA-N 1-(4-acetylphenyl)ethanone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(C(C)=O)C=C1 SKBBQSLSGRSQAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEUJIOLEGDAICX-UHFFFAOYSA-N 3-chloroxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=C(Cl)C=C3OC2=C1 LEUJIOLEGDAICX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGVRJVHOJNYEHR-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzophenone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 UGVRJVHOJNYEHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNMWIJISMHBJSD-UHFFFAOYSA-N 6-iodo-2-methoxyxanthen-9-one Chemical compound IC1=CC=C2C(=O)C3=CC(OC)=CC=C3OC2=C1 JNMWIJISMHBJSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000003351 Brassica cretica Nutrition 0.000 description 1
- 244000056139 Brassica cretica Species 0.000 description 1
- 235000003343 Brassica rupestris Nutrition 0.000 description 1
- RPVJQCHDGIASRZ-UHFFFAOYSA-N CC1=CC(=N1)C(=O)C1=CC=CC=C1 Chemical compound CC1=CC(=N1)C(=O)C1=CC=CC=C1 RPVJQCHDGIASRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKHKNGORZNNGJX-UHFFFAOYSA-N CCCCCC1=CC(C(C2=CC=CC=C2)=O)=N1 Chemical compound CCCCCC1=CC(C(C2=CC=CC=C2)=O)=N1 WKHKNGORZNNGJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSFVADRMHAHUPY-UHFFFAOYSA-N COC1=CC(=N1)C(=O)C1=CC=CC=C1 Chemical compound COC1=CC(=N1)C(=O)C1=CC=CC=C1 NSFVADRMHAHUPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010015911 Eye burns Diseases 0.000 description 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004157 Nitrosyl chloride Substances 0.000 description 1
- 206010042496 Sunburn Diseases 0.000 description 1
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001351 alkyl iodides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- QKSKPIVNLNLAAV-UHFFFAOYSA-N bis(2-chloroethyl) sulfide Chemical compound ClCCSCCCl QKSKPIVNLNLAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFVHVYKVRGKLNK-UHFFFAOYSA-N bis(4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(OC)C=C1 RFVHVYKVRGKLNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000000112 cooling gas Substances 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- ARUKYTASOALXFG-UHFFFAOYSA-N cycloheptylcycloheptane Chemical group C1CCCCCC1C1CCCCCC1 ARUKYTASOALXFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004188 dichlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 210000004072 lung Anatomy 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940086559 methyl benzoin Drugs 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 235000010460 mustard Nutrition 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- VPCDQGACGWYTMC-UHFFFAOYSA-N nitrosyl chloride Chemical compound ClN=O VPCDQGACGWYTMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019392 nitrosyl chloride Nutrition 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N propiophenone Chemical compound CCC(=O)C1=CC=CC=C1 KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002534 radiation-sensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 229920013730 reactive polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J3/00—Processes of treating or compounding macromolecular substances
- C08J3/28—Treatment by wave energy or particle radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
- C07C49/76—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
- C07C49/84—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing ether groups, groups, groups, or groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F283/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
- C08F283/01—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to unsaturated polyesters
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/124—Carbonyl compound containing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
worin R ein Alkyl mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen oder Aryl mit 6 Ringkohlenstoffatomen und R'
Wasserstoff, Alkyl mit 1 bis ä Kohlenstoffatomen, Aryl mit 6 bis 14 Kohlenstoffatomen oder Zykloalkyl
mit 5 bis 8 Ringkohlenstoffatomen bedeutet, verwendet wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß der IichtseE*ibilisator in der Zusammensetzung
in einer Konzentralion von etwa 0,01 bis 20 Gew.-% verwendet wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1-2, dadurch gekennzeichnet, daß als Lichtsensibilisator 2,2-Dimethoxy-lphenylazetophenon,
2£-Dimeihoxyazetophenon oder 2,2-r>iäthor«azetophenon verwendet
wird.
Es sind viele* Lichtsensibilisatoren (der Ausdruck »Lichtsensibilisatoren« wird hier allgemein für Strahlungssensibilisaloren
gebraucht) zum Härten bzw. Aushärten von Überzugszusammensetzungen durch Bestrahlung oder zur Polymerisation von Vinylmonomeren
bekannt Sie gehören zu vielen verschiedenen Klassen, und es fallen darunter Verbindungen wie:
3- oder 4-Pentylazetophenon,
3- oder 4-Methoxyazetophenon,
3- oder 4-Bromazetophenon,
3- oder 4- Allylazetophenon,
p-Diazetylbenzol,
3- oder 4-Methoxybenzophenon,
3- oder 4-Methylbenzophenon,
3- oder 4-Chlorbenzophenon,
4,4'-Dimethoxybenzophenon,
4-Chlor-4'-benzylbenzophenon,
3-ChIorxanthon, 3,9-Dichlorxanthon,
3-Jod-7-methoxyxanthon und dergleichen.
Es sind auch bestimmte Benzoinderivate bekannt, wie sie z.B. in der DE-AS 16 94 149 beschrieben worden sind. Wenn auch viele von diesen zufriedenstellend sind, so wäre eine Verbesserung dennoch erstrebenswert
Es sind auch bestimmte Benzoinderivate bekannt, wie sie z.B. in der DE-AS 16 94 149 beschrieben worden sind. Wenn auch viele von diesen zufriedenstellend sind, so wäre eine Verbesserung dennoch erstrebenswert
Gegenstand der Erfindung ist daher ein Verfahren zum Harten härtbarer Überzugszusammensetzungen
durch Bestrahlung mit nichtionisierender Strahlung, dadurch gekennzeichnet, daß als Lichtsensibilisator eine
O OR
worin R ein Alkyl mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen oder Aryl mit 6 Ringkohlenstoffatomen und R' Wasserstoff,
Alkyl mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, Aryl mit 6 bis 14 Kohlenstoffatomen oder Zykloalkyl mit 5 bis 8
Ringkohlenstoff atomen bedeutet, verwendet wird.
Durch das erfindungsgemäße Verfahren können alle Überzugszusammensetzungen, die durch nichtionisierende
Bestrahlung härtbar sind, gehärtet werden. Diese Zusammensetzungen sind dem Fachmann hinlänglich
bekannt, und ihre Herstellung, Anwendung sowie ihre Komponenten brauchen daher hier nicht im einzelnen
beschrieben zu werden. Die vorliegende Erfindung ist
nicht für spezifische Überzugszusammensetzungen bestimmt, sondern es handelt sich dabei um eine Klasse
von Azetophenon-Lichtsensibilisatoren, die in jeder durch Bestrahlung härtbaren Überzugszusammensetzung,
die durch nichtionisierende Bestrahlung gehärtet werden kann, verwendet werden können.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren werden der Überzugszusammensetzung Azetophenon-Lichtsensibilisatoren
zugegeben, und dann wird die Zusammensetzung gehärtet Die erfindungsgemäß verwendeten
Azetophenon-Lichtsensibilisatoren haben im einzelnen die folgende Struktur:
O OR
\^r— ι
OR
in welcher R Alkyl mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen
(z. B. Methyl, Äthyl, Propyl, lsopropyl,
2-Äthylhexyl)
oder Aryl mit 6 Ringkohlenstoffatomen
oder Aryl mit 6 Ringkohlenstoffatomen
(z.B. Phenyl, ToIyI, XyIyI,
und R' Wasserstoff, Alkyl mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, Aryl mit 6 bis 14 Kohlenstoffatomen
(z. B. Phenyl, Naphthyl, Anthracyl, ToIyI,
XyIyI, Methoxyphenyl, Nitrophenyl)
oder Cykloalkyl mit 5 bis 8 Ringkohlenstoffatomen
oder Cykloalkyl mit 5 bis 8 Ringkohlenstoffatomen
(z. B. Cyklopentyl, Methylcyklopentyl,
Cyklooktyl, Bicyklooktyl)
bedeutet
bedeutet
Beispiele dieser Azetophenon· Lichtsensibilisatoren sind:
2,2-Dimethoxyazetophenon,
212-Dimethoxy-2-phenylazetophenon,
2,2- Ditthoxyazetophenon,
2,2-Dibutoxytzetophenon,
2,2-Dihexoxyazetophenon,
2,2-Di(2-äthylhexoxy)azetophenon,
2,2- Diphenoxyazetophenon,
2,2-Ditolyloxyazetophenon,
2|2-Di(chlorphenyr)-azetophenon,
2,2-Di(nitrophenyl)azetophenon,
2^-Diphenoxy-2-phenyIazetophenon,
2i2-Dimethoxy-2-roethylazetophenoπ,
2^-Dipropoxy-2-hftxylazetophenon,
2^2-Diphenoxy-2-äAylazetophenon,
2,2-Dimethoxy-2-cyklopentylazetophenon,
2£-Dipentoxy-2-cyklohexylazetophenon,
2^-Di(2-äthylhexyl)-2-cyklopentylazetophenon,
2^-Diphenoxy-2-cyklopentylazetophenon,
2£-Di(nitropnenoxy)-2-cyklohexyl-
azetophenon.
Diese Azetophenon-Lichtsensibilisatoren können
durch bekannte Verfahren auf einfache Weise hergestellt werden. Das 2^-Dialkoxy- (oder DiaryIoxy-)-2-phenylazetophenon
kann hergestellt werden, indem man Benzil mit dem entsprechenden Alkyljodid oder
Aryljodid in Dimethylformamid und Bartunioxyd umsetzt Diese Umsetzung wird bei Zimmertemperatur
durchgeführt, wie von R. Kuhn und H. Tnschmann in
Chemische Berichte, Band 94, Seite 2258, beschrieben wurde. Das 2£-Dialkoxy-(oder Dtaryloxy)-azetophenon
kann durch Umsetzung von Azetophenon mit einem Alkohol in Anwesenheit von Nitrosylchlorid gemäß
Beschreibung in der US-Patentschrift 29 95 573 hergestellt werden.
Die Konzentration des Azetophenon-Lichtsensibilisators
in der Reaktionsmischung, die der Bestrahlung j0
ausgesetzt wird, kann zwischen etwa 0,01 und 20 Gew.-%, vorzugsweise zwischen etwa 0,1 und 5
Gew.-%, insbesondere zwischen etwa 1 und 3 Gew.-%, liegen Gegebenenfalls können auch noch andere
bekannte Lichtsensibilisatoren und/oder -aktivatoren π
anwesend sein.
Wenn oben angegeben wurde, daß jede durch nichtionisierende Bestrahlung härtbare Überzugszusammensctzung
verwendet werden kann, so ist damit gemeint, daß die Überzugszusammensetzung eine 4(l
Mischung des durch Bestrahlung härtbaren Überzugssystems und des oben beschriebenen Lichtsensibilisators
ist
Die Überzugszusammensetzung kann ein in einer reaktiven Monomeren-Lösung aufgelöstes oder dispergiertes
Polymeres, ein durch nichtionisierende Bestrahlung härtbares reaktives Polymeres allein, ein durch
nichtionisierende Bestahlung härtbares reaktives Monomeres allein oder jede dieser Gruppen in Mischung
mit einem inerten Lösungsmittel enthalten. Zusätzlich -)(,
zu den üben beschriebenen Azetophenon-Lichtsensibilisatoren
können sich in der Überzugszusammensetzung alle bisher auf diesem Gebiet verwendeten, bekannten
Lichtsensibilisatoren oder -aktivatoren befinden. Die Überzugszusammensetzung kann auch jedes der UbIi- -,<■,
chen Fallmittel, Pigmente, Vernetzungsmittel, Netzmittel, Mattierungsmittel und anderen, für Überzugszusammensetzungen
typischen Zusatzmittel enthalten. Viele dieser Zusatzmittel sind bekannt, und es ist daher nicht
notwendig, sie dem Fachmann hier einzeln aufzuzählen. M
Dem Fachmann sind auch die geeigneten Konzentrationen dieser Zusatzmittel gut bekannt Die die
Azetophenon-Lichtsensibilisatoren enthaltenden ÜberzugszusammeTibetzungen
werden durch Bestrahlung mit nichtionisierenden Strahlen gehärtet b-,
Als geeignete n. ,-htionisierende Strahlungsquelle
kann man jede Quel'.e verwenden, deren Strahlung zwischen etwa 2000 und 8000 Angström, vorzugsweise
zwischen etwa 2500 und 4500 A1 Hegt Geeignete
Strahlungsquellen sind Quecksilberlwgen, Kohlenbogen,
Wolframfadenlampen, Xenonbogen, Kryptonbogen, Sonnenlampen, Laser und dergleichen. Alle diese
Geräte und Strahlungsquellen sind bekannt und Fachleute auf dem Gebiet der Technologie wissen, auf
weiche Weise die Strahlung erzeugt wird und welche Vorsichtsmaßnahmen beim Gebrauch der einzelnen
Quellen notwendig sind.
Besonders geeignet zur Erzeugung der nichtionisierenden Lichtstrahlung sind die Ultraviolett-Quecksilberlampen
und die Wirbelstrom-Plasmabogen-Strahlungsiampen,
wie sie in der US-Patentschrift 33 64 387 beschrieben sind. Die zur Erzeugung der nichtionisierenden
Lichtstrahlung notwendigen Geräte oder Vorrichtungen sind nicht Gegenstand der vorliegenden
Erfindung, und es können alle Lichtquellen und Geräte, die zur Erzeugung von ultraviolettem und sichtbarem
Licht geeignet sind, verwendet »•..■■den. Die Plasmabogeniäiiipe
gibt nichüonisierendes, mxnintensives, überwiegend
kontinuierliches Licht mit ultravioletten, sichtbaren und infraroten Strahlen ab, das zum
Polymerisieren von Monomeren und zum Vernetzen von polymeren Zusammensetzungen in der Anfangsstufe
des erfindungsgemäßen Verfahrens verwendet werden kann. Durch geeignete Lichtfilter kann man
einen Anteil der abgegebenen Strahlung ausfiltern, so daß nur die erwünschten Wellenlängen das zu
behandelnde Material erreichen. Bekanntlich geben die Quecksilberlampen überwiegend ultraviolettes Licht ab.
Der Begriff »nichtionisierende, hochintensive, überwiegend kontinuierliche Lichtstrahlung« bedeutet eine
Kontinuumstrahlung mit einer Strahlungs- oder Quellenintensität von mindestens 350 W pro cm2 Steradiant
integriert über den gesamten Spektralbereich dieser kontinuierlichen Lichtstrahlung (etwa 1000 kW pro
square foot [ — 9,29 dm2] der von der Que'Je pr-?jizierten
Fläche), wovon nur ein geringer Anteil der Energie in Maxima von Bandbreiten von weniger als 100 A
• orhanden ist eine positive Menge bis etwa 30% des ausgestrahlten Lichts kürzerwellig als 4000 A und
mindestens 70%, jedoch weniger als die gesamte Strahlungsmenge, längerwellig als 4000 A ist Diese Art
von nichtionisierender, hochintensiver, überwiegend kontinuierlicher Lichtstrahlung wird von den Kurven in
F i g. 1 bis 3 dargestellt Diese Kurven veranschaulichen, daß es sich bei dieser Lichtstrahlung über den Bereich
einer Qüellenintensität von etwa 350W pro cm2 Steradiant bis etwa 5000 W pro cm2 Steradiant um
nichtionisierendes, hochintensives, überwiegend kontinuierliches
Licht handelt. Wie aus den Kurven der F i 5.1 bis 3 hervorgeht ist das ausgestrahlte Licht
überwiegend kontinuierliches Licht mit sehr geringen Lichtmengen, dh als Linien- oder Maxirnumstrahiung
(mit Bandbreiten von weiniger als 100 A) auftreten. Aus
F i g. 1 bis 3 ist außerdem ersichtlich, daß weniger als
etwa 30% des ausgestrahlten Lichts kürzerwellig ils 4000 A und mindestens 70% des Lichts längerwellig als
4000 A sind.
Diese Art der Lichtstrahlung erhält man von einer künstlichen Lichtquelle, weiche nichtionisierendes,
hochintensives, überwiegend kontinuierliches Licht mit einer Quellenintensität von mindestens etwa 350 W pro
cm2 Steradient, integriert über den gesamten Spektralbereich
dieser kontinuierlichen Lichtstrahlung, das wie folgt abgekürzt wird: Watt cm-2 Steradiant-' erzeugt;
von dieser nichtionisierenden, hochintensiven, überwiegend kontinuierlichen, künstlichen Lichtstrahlung sind
mindestens etwa 70% längerwellig als 4000 A und eine positive Menge von weniger als etwa 30% kürzerwellig
als 4000 Λ, im allgemeinen sind mindestens etwa 80% des ausgestrahlten Lichts längerwellig als 4000 A und
eine positive Menge bis etwa 20% kürzerwellig als 4000 A, und die Quellenintensität kann zwischen etwa
350W (etwa 1000 kW pro square foot der von der Quelle projizierten Fläche) und etwa 5000W (etwa
15 000 kW pro square foot der von der Quelle projizierten Fläche) oder mehr pro cm2 Steradiant,
integriert Ober den gesamten Spektralbereich, variieren. Eine geeignete Quelle zur Erzeugung von nichtionisierender,
hochintensiver, überwiegend kohfinuierlicher Lichtstrahlung ist das Wirbelstrom-Plasmabogen-Lichtstrahlungsgerät.
Diese Vorrichtung zum Erzeugen von nichtionisierender, hochintensiver, überwiegend kontinuierlicher
Lichtstrahlung ist bekannt und in vielen verschiedenen Ausführungsformen erhältlich, die in der
Literatur beschrieben worden sind.
Obwohl, wie bereits erwähnt, jede künstliche Quelle zum Erzeugen von nichtionisierender Lichtstrahlung
verwendet werden kann, ist das Wirbelstrom-Plasmabogen-Strahlungsgerät am besten geeignet. Deshalb wird
diese Quelle im erfindungsgemäßen Verfahren als Beispiel zur Erzeugung von nichtionisierender, hochintensiver,
überwiegend kontinuierlicher Lichtstrahlung benutzt. Es kann jedes Gerät, das nach den Prinzipien
der Wirbelstrom-Plasmabogen-Strahlungsquelle arbeitet, zur Erzeugung der erfindungsgemäß verwendeten
nichtionisierenden, hochintensiven, überwiegend kontinuierlichen Lichtstrahlung benutzt werden. Diese
Geräte werden oft anders bezeichnet, aber der Fachmann weiß, daß sie nichtionisierende, hochintensive,
überwiegend kontinuierliche Lichtstrahlung ausstrahlen. Die Strahlungsquelle in einer 50-kW-Wirbelstrom-Plasmabogen-Strahlungsquelle
ist ein Bogen, der nur etwa 102 mm lang und von einer Quarzhülle oder -lampe von etwa 38 mm Durchmesser umgeben ist
Diese Lampe oder Quarzhülle kann leicht entfernt und nachpoliert werden und hat eine ziemlich lange
Lebensdauer. Außerdem wäre ein 250-kW-Wirbelstrom-PIasmabogen-Strahlungsgerät
nur etwa zwei- bis dreimal so groß wie eine 50-kW-StrahlungsquelIe. Ein
weiterer Vorteil bei der Verwendung dieser Vorrichtung besteht darin, daß kein teurer Strahlenschutz
notwendig ist Die Vorsichtsmaßnahmen bei der Verwendung der künstlichen Lichtquellen bestehen z. B.
im Schützen der Augen vor dem ausgestrahlten intensiven Licht und im Schützen des Körpers vor den
anwesenden ultravioletten Strahlen, um eine Schädigung des unachtsamen Auges und einen Sonnenbrand
auf der Haut zu vermeiden.
Nichtionisierende, hochintensive, fiberwiegend kontinuierliche
Lichtstrahlung aus einer Wirbelstrom-Plasmabogen-Strahlungsquelle wird bekanntlich von einem
Bogen, der zwischen zwei axial angeordneten und in einem Quarzzylinder untergebrachten Elektroden erzeugt
wird, ausgestrahlt In einer Aueführungsform werden zwei konzentrische Quarzzylinder verwendet,
zwischen denen Kühlwasser oder Gas fließt Ein Edelgas, wie Argon, Krypton, Neon oder Xenon, das
durch an dem einen Ende des inneren Zylinders angebrachte Zufuhröffnungen tangential in den inneren
Zylinder eingeführt wird, erzeugt einen Wirbelstrom oder Wirbel, welcher den Bogen auf einen kleinen
Durchmesser beschränkt Ein quer zu den Elektroden angewendetes elektrisches Potential bewirkt, daß ein
Strom hoher Dichte durch das Gas fließt und ein aus
Elektronen, positiv geladenen Ionen und neutralen Atomen zusammengesetztes Plasma erzeugt. Das in den
obengenannten Gasen erzeugte Plasma erzeugt nichtionisierende, hochintensive, überwiegend kontinuierliehe
Lichtstrahlung mit gestreuten Maxima im Bereich von etwa 3300 bis 6000 A. Die Strahlungsquelle kann
auch mit Reflektoren oder optischen BrechungssySternen
verwendet werden, um die von dem Bogen ausgehende nichtionisierende, hochintensive, überwiegend
kontinuierliche Lichtstrahlung auf einen bestimmten Punkt, in eine bestimmte Richtung oder auf eine
bestimmte geometrische Fläche zu lenken.
Die von dem Plasmabogen erzeugte nichtionisierende, hochintensive, überwiegend kontinuierliche Lichtstrahlung
ist mehr eine Kontinuumstrahlung und weist weniger Linienstrahlungen oder Maxima auf. Wie aus
den Spektra der F i g. 1 bis 3 ersichtlich ist verläuft die
Strahlung kontinuierlich über den gesamten aufgezeichneten Spektralbereich. Bisher war es nicht möglich
gewesen, diese Art der kontinuierlichen Strahlung im ultravioletten Bereich durch bekannte, handelsübliche
Quecksilberbogen oder -lampen, die zum Erzeugen von ultraviolettem Licht verwendet werden, zu erhalten. Bei
der Erzeugung von ultraviolettem Licht nach den bisher bekannten Methoden erhielt man Licht mit einem
Linen- oder Maxima-Spektrum im ultravioletten Bereich, wie aus F i g. 4 hervorgeht; hier handelt es sich
nicht um ein kontinuierliches Spektrum im ultravioletten Bereich. In einem Liniensoektrum bildet jener
Bereich, in welchem die Linie oder Bande ein Maximum im Spektrum bildet, den Hauptbereich des verwendbaren
ultravioletten Lichts; um eine derartige Energie maximal auszunutzen, muß das mit der ultravioletten
Strahlung zu behandelnde Material oder die entsprechende Zusammensetzung fähig sein, in diesem
speziellen Wellenlängenbereich, in welchem das Maximum vorkommt zu absorbieren. Falls das Material oder
die Zusammensetzung nicht in diesem bestimmten Wellenlängenbereich absorbieren kann, findet nur
wenig oder keine Absorption oder Reaktion statt Falls also das zu behandelnde Material oder die Zusammensetzung
in einem bestimmten Wellenlängenbereich, die in einem Minimum der Spektralkurve liegt absorbiert,
wird nur eine geringe oder gar keine Reaktion stattfinden, da nur wenig oder keine ultraviolette
Energie vorhanden ist um das System ausreichend zu erregen. Bei einer nichtionisierenden, hochintensiven,
überwiegend kontinuierlichen Strahlung ist wie in F i g. 1 bis 3 gezeigt wird, eine hochintensive, üb»rwiegend
kontinuierliche Strahlung ultravioletter Energie quer über den gesamten ultravioletten Bereich des
gezeigten Spektrums vorhanden, und im allgemeinen wird dabei genügend ultraviolette Energie bei allen
nützlichen ultravioletten Wellenlängen erzeugt um auf ultraviolette Strahlung reagierende Reaktionen hervorzurufen,
ohne daß man dafür Verbindungen auswählen müßte, die nur bei Maximumweüenlängen absorbieren.
Bei Verwendung von nichtionisierender, hochintensiver, überwiegend kontinuierlicher Strahlung hat man nicht
das Problem, daß man Materialien oder Zusammensetzungen,
deren Absorptionsfähigkeit im Minimum der Spektralkurve liegt nicht reagieren lassen kann, da es
bei nichtionisierender, hochintensiver, überwiegend kontinuierlicher Strahlung bei sämtlichen Verwendungsarten
solche Minima nicht gibt, da es sich bei der hochintensiven Strahlungsenergie um ein im wesentlichen
kontinuierliches Licht handelt, das keine Maxima hat
Pig. 1 ist die Lichtstrahlungskurve einer 18-kW-Argon-Wirbelstrtm-Plasmabogen-Strahlungsquelle.
Die gemessene Quellenlichtintensität betrug 360 W pro cm2
Steradiant; etwa 8% des Lichts war kürzerwellig als 4000 A und etwa 92% des Lichts wer längerwellig als
4OST-A.
Fig.2 zeigt die Lichtstrahlung einer 60-kW-Argon-Wirbelstrom-Plasmabogen-Strahlungsquelle.
Die gemessene QuellenintensitSt betrug etwa 7100 W pro cm'
Steradiant; etwa 10% des Lichts war kürzerwellig als 4000 A und etwa 90% des Lichts längerwellig als
4000 A.
Fig.3 zeigt die Lichtstrahlung einer 71-kW-Argon-Wirbelstrom-Plasmabogen-Strahlungsquelle.
Die gemessene Quellenintensität betrug etwa 4860 W pro cm2 Steradiant; etwa 12% des Lichts war kürzerwellig als
4000 A und et«»a rr(V4>
Hp< Lieh»« länoerweüi«» ».!?
e Lieh er
4000 A. * "
Nichtionisierende, hochintensive, überwiegend kontinuierliche Lichtstrahlung, wie sie in Fig. 1 bis 3 gezeigt
wird, muß von der schwachen, ultravioletten Strahlung, die von handelsüblichen Niederdruck-, Mitteldruck- und
Hochdruck-Quecksilberbogen-Ultraviolettlampen erzeugt wird, unterschieden werden. Diese Quecksilberbogenlampen
erzeugen Licht, das hauptsächlich Linien oder Maxima aufweist und nicht kontinuierlich ist
F i g. 4 ist die typische Kurve für die Lichtstrahlung einer Quecksilberbogenlampe. Wie aus Fig.4 hervorgeht
trit* ein großer Teil des Lichts in Banden oder Maxima auf, die schmaler als 100 A sind, und viel weniger als
70% wird bei Wellenlängen über 4000 A ausgestrahlt Solch eine Linien- oder Maximumultraviolettlichtstrahlung
ist für das erfindungsgemäße Verfahren ebenfalls geeignet
Die Bestrahlung kann in Luft oder in einer inerten Gasatomsphäre, wie Stickstoff, Kohlendioxyd, Helium,
Neon, Argon usw., durchgeführt werden. Vorzugsweise wird sie in einem inerten Gas vorgenommen, da Luft
oder Sauerstoff dazu neigen, die Härtungsreaktion zu hemmen. Die Lichtsensibilisatoren können auch zum
Härten von Zusammensetzungen wie Filmen, Elastomeren, Preßstoffen, Schichtstoffen und dergleichen, welche
durch Bestrahlung härtbare Zusammensetzungen enthalten oder daraus hergestellt sind, verwendet werden.
Die folgenden Beispiele dienen zur näheren Erläuterung der Erfindung:
Aus 50 g eines handelsüblichen, innere ungesättigte Bindungen aufweisenden Polyesters, 30 g 2-Hydroxyäthylacrylat
und 20 g Neopentylgrykol-diacrylat wurde
eine Oberzugszusammensetzung hergestellt In Konzentrationen von 2 Gew.-% wurden verschiedene
Licbtsensibilisatoren gleichen Mengen verschiedener Proben der Zusammensetzung zugegeben, und diese
wurden dann auf Stahlplatten in einer Naßdicke von 0,05 mm aufgetragen. Die Oberzugsplatten wurden
dann in Luftatmosphäre 8 Sekunden lang der Ultraviolettstrahlung von zwei 2^-kW-QuecksiIberdampflampen
in einer Entfernung von etwa 25 cm ausgesetzt Die zwei Zusammensetzungen, die die erfindungsgemiBen
Lichtsensibilisatoren enthielten, wurden zu trockenen Oberzügen gehlrtet, während die ?ngnmnwnwtning»T\
die Benzoin oder eine Mischung des η-Butyl- und Isobutyläthers des Benzoins enthielten, klebrige Überzüge
ergaben. Die Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle aufgeführt:
Lichlsensibilisator | Harte | Azetonbeständig |
keit | ||
(Sward | Sekunden | |
hardness) | ||
Glas = 100 | ||
2,2-Dimethoxy- | 46 | 135 |
2-phenyl-ii/etophenon | ||
2,2-Dimethoxya/eto- | 26 | 1099 |
phenon | ||
Benzoin | klebrig | - |
Mischung aus n-Hutyl- | klebrig | - |
und Isobutyläther | ||
des Benzoins |
Es wurde beobachtet, daß die erhaltenen klebrigen Überzüge nach einer Bestrahlung von 12 Sekunden
trocken wurden. Dies erforderte eine um 50% längere Reaktionszeit. Auch bei 2,2-Diäthoxy-azetophenon
wurde eine Bestrahlung von 12 Sekunden benötigt, um einen trockenen Überzug zu erhalten, aber dieser hatte
insgesamt bessere Eigenschaften als die anderen Überzüge, die mit den Benzoinlichtsensibilisatoren nach
einer 12-Sekunden-Bestrahlung erhalten wurden.
Bei Bestrahlung derselben Überzugszusammensetzungen unter Stickstoffatmosphäre erhielt man in allen
Fällen nach 1,2 Sekunden trockene Überzüge. Die Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle aufgeführt:
Lichtsensibilisator | Härte (Sward) | 2 Sekunden |
1.2 Sekunden | 34 | |
2,2-Dimethoxy- | 42 | |
2-phenyl-azetophenon | 28 | |
2,2-Diäthoxyazeto- | 26 | |
phenon | 32 | |
2,2-Dimethoxyazeto- | 16 | |
phenon | 18 | |
Benzoin | 14 | 26 |
Mischung aus n-Butyl- | 24 | |
und Isobutyläther des | ||
Benzoins | ||
Diese Ergebnisse zeigen die allgemeine Verbesserung mit den Azetophenonen gegenüber den Benzoinen in
bezug auf die Härteeigenschaften der Oberzüge.
Durch Auflösen von 70 g des in Beispiel 1 verwendeten Polyesters in 30 g Styrol wurde eine
Oberzugszusammensetzung hergestellt Dann wurden 2 Gew.-% verschiedener Lichtsensibilisatoren gleichen
Teilen verschiedener Proben dieser Zusammensetzung zugegeben, und diese wurde dann auf Stahlplatten
aufgetragen. Die beschichteten Platten wurden, wie in
Beispiel 1 beschrieben, in Luft bestrahlt Aus den Ergebnissen geht deutlich der Vorteil von 2^-Dimethoxy-2-phenyiazetophenon
gegenüber den bekannten Lichtsensibilisatoren hervor. Wie die Tabelle zeigt,
erhielt man mit den Benzoinlichtsensibilisatoren klebrige
Überzüge, im Gegensatz zu den trockenen, vollkommen gehärteten Überzügen, die man bei
10
Verwendung von 2,2-Dimethoxy-2-phenylazetophenon erhielt
Lichtsensibü'jator | 4 Sek. Bestrahlung | Azeton | 8 Sek. Ik^ | lung |
Härte | beständigkeit | Härte | Azeton | |
(Sek.) | beständigkeit | |||
(Sward) | 224 | (Sward) | (Sek.) | |
2,2-Dimethoxy-2-phenylazetophenon | 22 | - | 44 | 519 |
Benzoin | klebrig | - | 26 | 232 |
Mischung aus n-Bulyl- und Isobutyläther | klebrig | 18 | 442 | |
des Benzoins |
Durch Auflösen von 50 g acryliertem, epoxydiertem Sojabohnenöl in 30 g 2-Hydroxyäthyl-acrylat und 20 g
Neopentylglykol-acrylat wurde eine Überzugszusammensetzung aus 100% Feststoffen hergestellt Zu
gleichen Teilen verschiedener Proben dieser Zusammensetzung wurden verschiedene Lichtsensibilisatoren
in 0,1 molarer Konzentration gegeben, und jede Probe wurde auf Stahlplatten in einer Naßdicke von etwa
0,05 mm aufgetragen. Die beschichteten Platten wurden dann 1,2 Sekunden lang dem in Beispiel 1 beschriebenen
ultravioletten Licht ausgesetzt. Die Angaben in der Tabelle zeigen die allgemeine Verbesserung, die durch
die Verwendung der erfindungsgemäßen Lichtsensibilisatoren erreicht wurde; es gehen daraus deutlich die
besonders hervorragenden Ergebnisse 2,2-Dimethoxy-2-phenylazetrophenon
hervor.
Lichtsensibilisator | Härte | Azetonbeständigkeit |
(Sward) | (Sekunden) | |
2,2-Dimethoxy- | 18 | 70 |
2-phenylazetophenon | ||
2,2-Dimethoxyazeto- | 16 | 55 |
phenon | ||
Benzoin | 12 | 50 |
Benzoinazetat | 0 | nicht gehärtet |
Die in Beispiel 3 beschriebene Überzugszusammensetzung wurde durch Bestrahlung mit nichtionisierendem,
hochintensivem, überwiegend kontinuierlichem Licht aus einer Argon-75-kW-Plasmabogen-Strahlungs-
quelle gehärtet Die Entfernung von der Lichtquelle 50 als alle Benzoinvergleichsproben.
betrug etwa 120 cm. Die Zusammensetzung mit dem
2,2-Dimethoxy-2-phenylazetrophenon-Lichtsensibilisator
zeigte innerhalb von 0.!2 Sekunden eine Härtung, die Vergleichsproben jedoch nicht; nach 0,25 Sekunden
Betrahlung zeigte sie immer noch eine bessere Härtung
Lichtsensibilisator | Bestrahlungszeit | 0,17 Sekunden | 0,25 Sekunden |
0,12 Sekunden | Härte Azeton; | Härte Azeton | |
Härte Azeton | beständigkeit | beständigkeit | |
beständigkeit | (Sward) (Sek.) | (Sward) (Sek.) | |
(Sward) (Sek.) | |||
2,2-Dimethoxy-2-phenylazetophenon
Benzoin
Benzoinazetat
Benzoin-n-butyläther
Benzoin-isobutyläther
Benzoinazetat
Benzoin-n-butyläther
Benzoin-isobutyläther
10
25
4 | 15 |
0 | 0 |
4 | 10 |
6 | 10 |
45
14 | 30 |
0 | 0 |
8 | 20 |
6 | 25 |
Dieses Beispiel zeigt die Verwendung der Lichtsensibilisatoren
bei der Polymerisation von Acrylyimonomeren. Bei dieser Verwendung ist die Klasse der
2,2-Dimethoxy-2-phenylazetophenonverbindungen den 2,2-Dialkoxyazetophenon überlegen, obwohl die letzteren
auch gut sind. Eine Lösung aus 5 g Methylmethacrylat in 5 ml Benzol, die 0,01 g des Lichtsensibilisators
enthielt, wurde in ein Reagensglas gegeben und verschlossen. Die Bestrahlung wurde durchgeführt,
indem man die verschlossenen Reagensgläser auf ein Drehges»ell setzte, welches in etwa 7,5 cm Abstand
innerhalb eines Kreises von 16 Rayonet-RPR-3500 Qecksilberlampen von je etwa 1,6 W angebracht
war. Der Kreis der Quecksilberlampen hatte einen Durchmesser von etwa 30 cm. Die Bestrahlung wurde
nuten ιαιικ
ι r.*ii_-«
uiigciuiiii
2,2-Dimethoxy-2-phenylazetophenon
2,2-Dimethoxyazetophenon
2,2-Diüthoxyazetophenon
2,2-Diüthoxyazetophenon
Ausbeute
g g
g g
4,40
3,25
3,08
3,08
88,0
65,0 60,1
bei Verbindungen B und C handelt es sich um die Homologen, die den in der Tabelle der DD-PS
aufgeführten Sensibilisatoren am nächsten stehen.
Die beschichteten Platten wurden dann gehärtet, indem man sie UV-Licht 0,6 Sekunden unter Stickstoff
unter Verwendung von drei 100 Watt pro 25-cm-Lampen mit einer Leistung (flux) von 500 Watt pro 930 cm2
UV-Bestrahlung. Es wurde die Sward-Härte und die Klebrigkeit bestimmt, wobei folgende Ergebnisse
erhalten wurden:
Dann wurde die Reaktionsmischung in 50 ml Hexan gegossen, und das Poly(methyl-methacrylat) wurde
abfiltriert, getrocknet und gewogen. Es war ein weißes Pulver. Die Ausbeuten sind in der folgenden Tabelle
aufgeführt:
Photnsensibilisator
A) Aus
1000 g acryliertem, epoxydiertem Sojabohnenöl
600 g 2-Hydroxyäthyl-acrylat und
400 g Neopentylglykol-diacrylat
600 g 2-Hydroxyäthyl-acrylat und
400 g Neopentylglykol-diacrylat
wurde eine Überzugskomposition hergestellt
Zu 99 g Anteilen dieser Mischung wurden je 1 g der weiter unten angegebenen 5 verschiedenen Photoinitiatoren
zugegeben. Die so erhaltenen Kompositionen wurden auf Stahlplatten unter Verwendung eines
drahtumwickelten Stabes aufgebracht Die so erhaltenen Überzüge setzt man einer UV-Bestrahlung aus und
bestimmte den Grad der erzielten Härte und die dafür benötigte Zeit Die getrockneten Überzüge wiesen eine
Dicke von etwa 0,05 mm auf. Bei den eingesetzten Photoinitiatoren handeltes es sich um:
A— Dimethoxyphenylacetophenon
B - «-Allylbenzoin-methyläther
C- Benzoin-isopropyläther
D - a-Methylbenzoin-methyläther
E— «-(2-CarboäthoxyäthyI)-benzoinäthyläther.
B - «-Allylbenzoin-methyläther
C- Benzoin-isopropyläther
D - a-Methylbenzoin-methyläther
E— «-(2-CarboäthoxyäthyI)-benzoinäthyläther.
Bei Verbindung A handelt es sich um eine Verbindung der vorliegenden Erfindung,
bei Verbindung C um eine aus der DE-AS 16 94 149
vorbekannte Verbindung und
bei den Verbindungen B, D und E um aus der DD-PS 75 637 vorbekannte Verbindungen, wobei Verbindungen
D und E in Tabelle 2 der DD-PS 75 637 aufgeführt sind,
Klebrigkcit
Λ
B
C
D
B
C
D
gering
sehr klebrig
sehr klebrig
sehr klebrig
sehr klebrig
sehr klebrig
Den Werten der Sward-Härte ist zu entnehmen, daß die Komposition mit dem Photosensibilisator A nach
der Härtung einen sehr viel härteren Film oder Überzug bildete, als die Kompositionen, die einen der vorbekannten
Photosensibilisatoren B bis E enthielten. Dieses Ergebnis wurde auch durch die Klebrigkeitseigenschaften,
die die einzelnen Überzüge zeigten, gestützt.
B) Bei einem anderen Versuch wurden zu 0,5 Mol Methyl-methacrylat in tertiärem Butanol je 0,01 Mol der
weiter oben angegebenen fünf Photoinitiatoren gegeben. Die erhaltenen Lösungen wurden durch Hindurchleiten
von Stickstoff von Sauerstoff befreit und dann bestrahlt, indem man sie UV-Licht von 2,537 Ä 3
Minuten aussetzte. Die bestrahlten Lösungen wurden dann gaschromatografisch analysiert, um die Menge
Methyl-methacrylat (MM \) zu bestimmen, die polymerisiert worden war. Hierbei wurden folgende Ergebnisse
erhalten:
Photoinitiator | :, MMA |
polymerisiert | |
A | 16.6 |
B | 5.1 |
C | 4,1 |
D | 1.1 |
F | 6.5 |
Die erhaltenen Ergebnisse zeigen, daß der gemäß Erfindung verwendete Photoinitiator A den vorbekannten
Photoinitiatoren B bis E in der Polymerisierungswirkung überlegen war.
Zu einer dritten Serie von Versuchen wurde eine Überzugskomposition folgender Zusammensetzung
verwendet:
8 g eines acrylierten Reaktionsproduktes von Polypropylenglykol mit einem durchschnittlichen
Molekulargewicht von 2025, Isophorondiisoeyanat und 2-Hydroxyäthyl-acrylat,
13-Hexandiol-diacryiat
2-Äthyihexyl-acrylat (EHA)
13-Hexandiol-diacryiat
2-Äthyihexyl-acrylat (EHA)
6g
6g . .
03 g Undecanund
0,2 g des Photoinitiators.
Bei den verwendeten Photoinitiatoren handelt es sich um die weiter oben angegebenen Verbindungen A bis E
Die so erhaltenen Überzugskompositionen wurden auf eine saubere Stehlplatte mit Hilfe eines drahtumwickelten
Stabes aufgebracht und dann der UV-Bestrahlung unter Stickstoff 1,2 Sekunden ausgesetzt, wobei die
oben angegebene UV-Bestrahlungsausrüstung benutzt wurde.
Die erhaltenen gehärteten Filmüberzüge wurden von den Stahlplatten abgezogen und bei Raumtemperatur
mit 20 ecm Tetrachlorkohlenstoff extrahiert. Der
Extrakt wurde auf nicht in Reaktion getretenes oder nicht polymerisiertes 2-Äthylhexyl-acrylat mittels der
Gaschromatografie analysiert Den erhaltenen Ergeb-
nissen ist zu entnehmen, daB der Gehalt an nicht in Reaktion getretenem Monomer in der Komposition mit
dem gemäB Erfindung verwendeten Photoinitiator sehr viel geringer war als in den anderen Kompositionen.
Photoinitiator | % Nicht-reagier- |
tes ΕΗΛ | |
A | 9,0 |
B | 38,3 |
C | 35,5 |
D | 47,3 |
E | 35,7 |
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
1. Verfahren zum Härten härtbarer Überzugszur-ammensetzungen
durch Bestrahlung mit nichtionisierender Strahlung, dadurch gekennzeichnet,
daß als Lichtsensibilisator eine Verbindung der Formel:
Verbindung der Formel:
O OR
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US20906671A | 1971-12-17 | 1971-12-17 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2261383A1 DE2261383A1 (de) | 1973-06-20 |
DE2261383B2 true DE2261383B2 (de) | 1980-02-07 |
DE2261383C3 DE2261383C3 (de) | 1980-10-09 |
Family
ID=22777184
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2261383A Expired DE2261383C3 (de) | 1971-12-17 | 1972-12-15 | Verfahren zum Härten härtbarer Zusammensetzungen durch Bestrahlung mit nicht-ionisierender Strahlung |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3715293A (de) |
JP (1) | JPS5029930B2 (de) |
DE (1) | DE2261383C3 (de) |
GB (1) | GB1406467A (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2625538A1 (de) * | 1976-06-05 | 1977-12-22 | Basf Ag | Photopolymerisierbare ueberzugsmassen |
DE3008411A1 (de) * | 1980-03-05 | 1981-09-10 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Neue aromatisch-aliphatische ketone, ihre verwendung als photoinitiatoren sowie photopolymerisierbare systeme enthaltend solche ketone |
Families Citing this family (66)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2232365C2 (de) * | 1972-07-01 | 1982-06-09 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Durch UV-Bestrahlung polymerisierbare Gemische |
US3860429A (en) * | 1973-03-16 | 1975-01-14 | Ici America Inc | Photopolymerization of ethylenically unsaturated organic compounds |
US4233130A (en) * | 1973-03-22 | 1980-11-11 | Union Carbide Corporation | Ink and coating compositions and method |
US3974052A (en) * | 1973-12-06 | 1976-08-10 | Imperial Chemical Industries Limited | Photopolymerizable compositions containing triketone/alcohol adducts as photosensitizers |
US4017652A (en) * | 1974-10-23 | 1977-04-12 | Ppg Industries, Inc. | Photocatalyst system and ultraviolet light curable coating compositions containing the same |
US4224369A (en) * | 1974-11-06 | 1980-09-23 | Union Carbide Corporation | Method for coating or printing using acrylated epoxidized soybean oil urethane compositions |
US4160794A (en) * | 1974-12-24 | 1979-07-10 | Ciba-Geigy Corporation | 1-Oxo-2,2-[dialkylphosphono(alkyl)alkyloxy]-1,2-diphenylethane |
US4215167A (en) * | 1975-05-22 | 1980-07-29 | Union Carbide Corporation | Ink and coating compositions and method |
CH598288A5 (de) * | 1975-12-23 | 1978-04-28 | Ciba Geigy Ag | |
US4207155A (en) * | 1976-01-19 | 1980-06-10 | Celanese Corporation | Diluents for ultraviolet coating compositions |
US4054683A (en) * | 1976-02-02 | 1977-10-18 | Ppg Industries, Inc. | Pigmented actinic light polymerizable coating compositions containing phenanthrenequinone |
US4144156A (en) * | 1976-04-14 | 1979-03-13 | Basf Aktiengesellschaft | Manufacture of unsymmetric monoacetals of aromatic 1,2-diketones employable as photoiniatiators |
US4287367A (en) * | 1976-04-14 | 1981-09-01 | Basf Aktiengesellschaft | Manufacture of symmetrical or unsymmetrical monoacetals of aromatic 1,2-diketones |
DE2616408A1 (de) * | 1976-04-14 | 1977-11-03 | Basf Ag | Durch uv-bestrahlung polymerisierbare gemische |
DE2730462A1 (de) * | 1976-07-15 | 1978-01-19 | Ciba Geigy Ag | Photoinitiatoren fuer uv-haertbare massen |
US4113895A (en) * | 1976-11-19 | 1978-09-12 | American Can Company | Method for producing multilayered coated substrate |
JPS53109703A (en) * | 1977-03-08 | 1978-09-25 | Teijin Ltd | Improved supporting plate |
DE2759766C2 (de) * | 1977-05-17 | 1988-04-14 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt, De | |
DE2722264C2 (de) | 1977-05-17 | 1984-06-28 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren |
US4318791A (en) * | 1977-12-22 | 1982-03-09 | Ciba-Geigy Corporation | Use of aromatic-aliphatic ketones as photo sensitizers |
EP0002707B1 (de) * | 1977-12-22 | 1982-04-07 | Ciba-Geigy Ag | Neue Aminoalkyl-benzilketale und ihre Verwendung als Initiatoren für die Photopolymerisation ungesättigter Verbindungen |
US4133723A (en) * | 1978-01-03 | 1979-01-09 | Lord Corporation | Actinic radiation-curable formulations from the reaction product of organic isocyanate, poly(alkylene oxide) polyol and an unsaturated addition-polymerizable monomeric compound having a single isocyanate-reactive hydrogen group |
DE2909992A1 (de) * | 1979-03-14 | 1980-10-02 | Basf Ag | Photopolymerisierbare aufzeichnungsmassen, insbesondere zur herstellung von druckplatten und reliefformen |
JPS5622364A (en) * | 1979-08-01 | 1981-03-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Coating composition |
US4250203A (en) * | 1979-08-30 | 1981-02-10 | American Can Company | Cationically polymerizable compositions containing sulfonium salt photoinitiators and odor suppressants and method of polymerization using same |
US4319811A (en) * | 1979-10-01 | 1982-03-16 | Gaf Corporation | Abrasion resistance radiation curable coating |
US4306953A (en) * | 1979-11-05 | 1981-12-22 | American Can Company | Cationically polymerizable compositions containing sulfonium salt photoinitiators and stable free radicals as odor suppressants and _method of polymerization using same |
US4254230A (en) * | 1979-12-10 | 1981-03-03 | Lord Corporation | Actinic radiation-curable formulations of unsaturated polyetherester urethane |
US4351708A (en) * | 1980-02-29 | 1982-09-28 | Ciba-Geigy Corporation | Photochemically or thermally polymerizable mixtures |
DE3034697A1 (de) * | 1980-09-15 | 1982-05-06 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Acylphosphinsulfidverbindungen, ihre herstellung und verwendung |
US4442198A (en) * | 1981-01-16 | 1984-04-10 | W. R. Grace & Co. | Polymer composition having terminal alkene and terminal carboxyl groups |
US4481281A (en) * | 1981-01-16 | 1984-11-06 | W. R. Grace & Co. | Polymer composition having terminal alkene and terminal carboxyl groups |
US4451636A (en) * | 1981-01-16 | 1984-05-29 | W. R. Grace & Co. | Polymer composition having terminal alkene and terminal carboxyl groups |
US4436806A (en) | 1981-01-16 | 1984-03-13 | W. R. Grace & Co. | Method and apparatus for making printed circuit boards |
US4422914A (en) * | 1981-01-16 | 1983-12-27 | W. R. Grace & Co. | Polymer composition having terminal alkene and terminal carboxyl groups |
US4523982A (en) * | 1981-03-05 | 1985-06-18 | The Dow Chemical Company | Electron rich aromatics as cure promoters for radiation curable compositions |
DE3133419A1 (de) * | 1981-08-24 | 1983-03-10 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Acylphosphinoxidverbindungen und ihre verwendung |
EP0097012B2 (de) * | 1982-06-10 | 1990-12-19 | Jotun Polymer (UK) LTD. | Photohärtbare Harze und ihre Verwendung |
US4483759A (en) * | 1982-07-02 | 1984-11-20 | Thermedics, Inc. | Actinic radiation cured polyurethane acrylic copolymer |
JPS5981574U (ja) * | 1982-11-22 | 1984-06-01 | 小池酸素工業株式会社 | ガス切断装置 |
DE3567880D1 (en) * | 1984-04-16 | 1989-03-02 | Loctite Corp | Siloxane polyphotoinitiators of the substituted acetophenone type |
NL8403706A (nl) * | 1984-12-06 | 1986-07-01 | Dsm Resins Bv | Fotopolymeriseerbare samenstelling en een fotoinitiatorsysteem. |
JPH0640221B2 (ja) * | 1985-03-29 | 1994-05-25 | インタ−ナショナル・ビジネス・マシ−ンズ・コ−ポレ−ション | ネガティブ・レジスト組成物を使用したリソグラフィ方法 |
US4640719A (en) * | 1985-07-01 | 1987-02-03 | Petroleum Fermentations N.V. | Method for printed circuit board and/or printed wiring board cleaning |
US4771078A (en) * | 1985-11-12 | 1988-09-13 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Method of producing a foam from a radiation-curable composition |
US4767793A (en) * | 1985-11-12 | 1988-08-30 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Method of producing a foam from a radiation-curable composition |
KR910000199B1 (ko) * | 1986-04-15 | 1991-01-23 | 시바-가이기 코오포레이숀 | 액체 광개시제 혼합물 |
US4950795A (en) * | 1987-08-27 | 1990-08-21 | Ciba-Geigy Corporation | Oligomeric benzil ketals and their use as photoinitiators |
US5095044A (en) * | 1987-08-27 | 1992-03-10 | Ciba-Geigy Corporation | Oligomeric benzil ketals and their use as photoinitiators |
US4987159A (en) * | 1990-04-11 | 1991-01-22 | Fratelli Lamberti S.P.A. | Carbonyl derivatives of 1-phenylindan suitable for use as polymerization photoinitiators, their preparation and use |
EP0487086B2 (de) * | 1990-11-22 | 2008-08-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Verfahren zum Herstellen von einem Volumen-Phasenhologram mit einem photoempfindlichen Aufzeichnungsmedium |
US5248760A (en) * | 1991-01-25 | 1993-09-28 | Unc At Charlotte | Chemically cured low temperature polyimides |
US5916427A (en) * | 1995-11-08 | 1999-06-29 | Kirkpatrick; Francis H | Methods and reagents for gel electrophoresis |
US6087134A (en) * | 1997-01-14 | 2000-07-11 | Applied Imaging Corporation | Method for analyzing DNA from a rare cell in a cell population |
EP1262473A1 (de) * | 2001-05-30 | 2002-12-04 | Givaudan SA | Vorläufer von Ketonen- und Aldehydriechstoffen |
AU2002359715A1 (en) * | 2001-12-19 | 2003-07-09 | The University Of Texas Health Science Center At San Antonio | Implant coatings |
US7622028B2 (en) * | 2003-05-09 | 2009-11-24 | Life Technologies Corporation | Solution phase electrophoresis device, components, and methods |
ITVA20030028A1 (it) | 2003-08-07 | 2005-02-08 | Lamberti Spa | Sistemi fotopolimerizzabili trasparenti per la preparazione di rivestimenti ad elevato spessore. |
WO2005029055A1 (en) * | 2003-09-19 | 2005-03-31 | Invitrogen Corporation | Composite compositions for electrophoresis |
EP1671112A4 (de) * | 2003-10-07 | 2011-03-23 | Life Technologies Corp | Verbesserte gele zur isoelektrischen fokussierung sowie verfahren zur verwendung davon |
JP5098397B2 (ja) * | 2007-03-29 | 2012-12-12 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | インクジェットインク、及びインクジェット記録方法 |
US11198795B2 (en) | 2015-02-17 | 2021-12-14 | The Walman Optical Company | Glycidyl ether based optical coating compositions |
US9856394B2 (en) | 2015-03-19 | 2018-01-02 | Mark Alan Litman | Dye-tintable, abrasion resistant coating for ophthalmic lenses and method of application |
US10106666B2 (en) * | 2016-03-02 | 2018-10-23 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Curable silicone resin composition containing inorganic oxide and optical member using same |
JP6587222B2 (ja) | 2018-03-27 | 2019-10-09 | Toto株式会社 | トイレ装置及び便座装置 |
JP6590052B2 (ja) | 2018-03-27 | 2019-10-16 | Toto株式会社 | トイレ装置及び便座装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1769576A1 (de) * | 1968-06-11 | 1971-09-30 | Bayer Ag | Durch UV-Bestrahlen haertbare Polyester-Form- und UEberzugsmassen |
US3657088A (en) * | 1969-12-17 | 1972-04-18 | Bayer Ag | Moulding and coating masses hardenable by uv irradiation |
-
1971
- 1971-12-17 US US00209066A patent/US3715293A/en not_active Expired - Lifetime
-
1972
- 1972-12-15 DE DE2261383A patent/DE2261383C3/de not_active Expired
- 1972-12-15 JP JP47125355A patent/JPS5029930B2/ja not_active Expired
- 1972-12-15 GB GB5809272A patent/GB1406467A/en not_active Expired
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2625538A1 (de) * | 1976-06-05 | 1977-12-22 | Basf Ag | Photopolymerisierbare ueberzugsmassen |
DE3008411A1 (de) * | 1980-03-05 | 1981-09-10 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Neue aromatisch-aliphatische ketone, ihre verwendung als photoinitiatoren sowie photopolymerisierbare systeme enthaltend solche ketone |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2261383C3 (de) | 1980-10-09 |
JPS5029930B2 (de) | 1975-09-27 |
GB1406467A (en) | 1975-09-17 |
US3715293A (en) | 1973-02-06 |
DE2261383A1 (de) | 1973-06-20 |
JPS4867378A (de) | 1973-09-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2261383C3 (de) | Verfahren zum Härten härtbarer Zusammensetzungen durch Bestrahlung mit nicht-ionisierender Strahlung | |
DE2639742C2 (de) | Verwendung bestimmter Glyoxalate als Initatoren der Photopolymerisation | |
DE69412888T2 (de) | Polymerisationsverfahren | |
EP0137452B1 (de) | Lichtempfindliche, Trichlormethylgruppen aufweisende Verbindungen, Verfahren zu ihrer Herstellung und diese Verbindungen enthaltendes lichtempfindliches Gemisch | |
DE2055157C3 (de) | Fotopolymerisierbares Gemisch | |
DE69501363T2 (de) | Strahlungshärtbare Zusammensetzungen | |
EP0036075B1 (de) | Neue Gemische auf Basis von aromatisch-aliphatischen Ketonen, ihre Verwendung als Photoinitiatoren sowie photopolymerisierbare Systeme enthaltend solche Gemische | |
EP0073413B1 (de) | Acylphosphinoxidverbindungen und ihre Verwendung | |
DE2722264C2 (de) | Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren | |
DE2909994A1 (de) | Acylphosphinoxidverbindungen, ihre herstellung und verwendung | |
DE2741452A1 (de) | Lichtempfindliche masse | |
DE2332142A1 (de) | Verfahren zum polymerisieren, haerten oder vernetzen von monomeren oder polymeren massen | |
CH634158A5 (en) | Radition-sensitive resist composition | |
DE2748577A1 (de) | Photographisches material sowie verfahren zur abriebfesten und kratzfesten ausruestung desselben | |
DE2522756A1 (de) | Photopolymerisierfaehige gemische | |
DE2232365C2 (de) | Durch UV-Bestrahlung polymerisierbare Gemische | |
DE2927838A1 (de) | Verfahren zur ausbildung eines negativen resistmusters | |
DE2612132B2 (de) | Durch Strahlung und Wärme härtbare Formmassen auf der Grundlage von Melaminverbindungen | |
DE2725477B2 (de) | Verfahren zur Hydrophylierung der Oberfläche eines hydrohoben Polymeren | |
CH634746A5 (en) | Photopolymerisable mixture | |
DE2404156A1 (de) | Polymerisations-coinitiatoren, mittels strahlung haertbare massen und verfahren zum polymerisieren aethylenisch ungesaettigter verbindungen | |
DE2911286C2 (de) | Photodepolymerisierbares Gemisch | |
DE2009748A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von wasser löslichen Polymerisaten | |
CH667461A5 (de) | Photopolymerisierbare zusammensetzung sowie photoinitiatorsystem. | |
DE2103996C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Formkörpern aus einer Acrylpolymerisat-Monomer-Mischung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: UNION CARBIDE CORP., 06817 DANBURY, CONN., US |
|
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: DANNENBERG, G., DIPL.-ING., 6000 FRANKFURT SCHMIED-KOWARZIK, V., DR. WEINHOLD, P., DIPL.-CHEM. DR.,8000 MUENCHEN GUDEL, D., DR.PHIL., PAT.-ANW., 6000 FRANKFURT |