DE112012004296T5

DE112012004296T5 - Drahtgitter-Polarisationsplatte und projektionsartigeBildanzeigevorrichtung

Info

Publication number: DE112012004296T5
Application number: DE112012004296.4T
Authority: DE
Inventors: Yasuyuki Kawazu; Takashi Ono; Masaru Sugiyama; Masaharu Sugimura
Original assignee: Asahi Kasei E Materials Corp
Current assignee: Asahi Kasei Corp
Priority date: 2011-10-14
Filing date: 2012-10-12
Publication date: 2014-07-10
Anticipated expiration: 2032-10-13
Also published as: TWI499812B; JP6446497B2; CN103842862B; JPWO2013054900A1; KR101867192B1; KR20140067067A; DE112012004296B4; US20140293142A1; JP2016027418A; TW201329536A; JP6063386B2; WO2013054900A1; US9726929B2; KR101622056B1; KR20160042146A; CN103842862A; JP2017173832A

Abstract

Eine Drahtgitter-Polarisationsplatte (10) weist ein Substrat (11) mit einer konkav-konvexen Struktur auf, die sich in einer bestimmten Richtung an dessen Oberfläche erstreckt, und ein leitfähiges Material (12), das an einer Seitenoberfläche (11b) eines konvexen Abschnitts (11a) der konkav-konvexen Struktur verteilt bereitgestellt ist. In der Drahtgitter-Polarisationsplatte (10) wird ferner, in einer Querschnittsansicht in der senkrechten Richtung zu der Erstreckungsrichtung der konkav-konvexen Struktur ein Abstand P1, wobei es sich um einen Abstand zwischen zwei benachbarten konvexen Abschnitten (11a) handelt, auf 120 nm oder weniger eingestellt, und eine Höhe des konvexen Abschnitts (H), wobei es sich um eine Differenz in der Höhe zwischen einem höchsten Abschnitt (11c) des konvexen Abschnitts (11a) und einem niedrigsten Abschnitt (11e) eines konkaven Abschnitts (11d) handelt, wird auf 0,8 mal bis 1,3 mal den Abstand P1 eingestellt. Unter Verwendung der Drahtgitter-Polarisationsplatte (10) in einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung ist es möglich, die Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung mit einer hohen Bildqualität bereit zu stellen.

Description

Technisches Gebiet
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Drahtgitter-Polarisationsplatte und eine projektionsartige Bildanzeigevorrichtung.
Stand der Technik
In den vergangenen Jahren wird verstärkt ein Reflektionspolarisator in einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung verwendet. Der Reflektionspolarisator reflektiert Licht einer bestimmten linearen Polarisationskomponente, und lässt Licht einer Komponente hindurch bzw. transmittiert Licht einer Komponente, die orthogonal zu der bestimmten linearen Polarisationskomponente ist. Als Reflektionspolarisator gibt es zum Beispiel einen Polarisator mit einem beschichteten Produkt eines doppel-brechenden Harzes, und einen Drahtgitter-artigen Polarisator, bei dem eine Vielzahl leitfähiger Materialien (dünne Metalldrähte) sich parallel an einem transparenten Substrat erstrecken. Als Polarisator, der Licht einer bestimmten zirkularen Polarisationskomponente anstelle Licht einer linearen Polarisationskomponente reflektiert oder durchlässt bzw. transmittiert, gibt es ferner einen Polarisator mit einem cholesterischen Phasenflüssigkristall. Unter den Polarisatoren erreicht der Drahtgitter-artige Polarisator eine Aufmerksamkeit, als ein Reflektionspolarisator, der eine hohe Polarisationsdurchlässigkeit aufweist, so dass Licht einer gewünschten linearen Polarisationskomponente erhalten werden kann, und der ermöglicht, dass Licht einer linearen Polarisationskomponente orthogonal zu der gewünschten linearen Polarisationskomponente eine geringe Polarisationsdurchlässigkeit (hoher Polarisationsreflektionsgrad) aufweist. Das Verhältnis der optischen Durchlässigkeit (engl. transmittance) zwischen Licht an zwei gegenseitig orthogonalen linearen Polarisationskomponenten wird ferner als ein Extinktionsverhältnis transmittierten Lichts bezeichnet.
Für den Fall, dass ein Abstand dünner Metalldrähte ausreichend kleiner als eine Wellenlänge des einfallenden Lichts ist, unter dem einfallenden Licht, weist der Drahtgitter-artige Polarisator im Allgemeinen die Eigenschaft auf, Licht einer linearen Polarisationskomponente durchzulassen, die einen elektrischen Feldvektor aufweist, der orthogonal zu einer Erstreckungsrichtung der dünnen Metalldrähte ist, während Licht einer linearen Polarisationskomponente reflektiert wird, die einen elektrischen Feldvektor in der Erstreckungsrichtung der dünnen Metalldrähte aufweist.
Als ein Verfahren zur Anfertigung des Drahtgitter-artigen Polarisators ist ein Verfahren bekannt, bei dem ein dünner Film, der aus einem leitfähigen Material besteht, an einer Substratoberfläche angefertigt wird, eine Polymerschicht an dem dünnen Film ausgebildet wird, dann ein Muster an der Polymerschicht ausgebildet wird, unter Verwendung einer Form (engl. mold), die ein Muster aufweist, das durch ein Interferenz-Exposure-Verfahren, Elektronenstrahl-Lithographie-Verfahren oder dergleichen angefertigt wird, und wobei dünne Metalldrähte durch ein trockenes Ätzverfahren oder dergleichen angefertigt werden, an dem dünnen Film, der aus dem leitfähigen Material besteht, unter Verwendung des Musters an der Polymerschicht (Patentdokument 1). Ferner ist ein Verfahren bekannt, bei dem ein leitfähiges Material an der Seitenoberfläche eines konvexen Abschnitts eines Substrats an einem konkav-konvex geformten Substrat abgeschieden wird, unter Verwendung eines geneigten Depositionsverfahrens (Patentdokument 2). Das oben stehende Verfahren bedarf einer teuren Herstellungsvorrichtung, die erforderlich ist, für die Interferenz-Exposure, Elektronenstrahl-Lithographie, trockenes Ätzen und dergleichen und weist das Problem einer geringen Produktivität auf. Das zuletzt genannte Herstellungsverfahren kann den Prozess vereinfachen, wodurch eine hohe Produktivität bereitgestellt wird, und wodurch die Kontaktfläche des leitfähigen Materials und des konvexen Abschnitts des Substrats groß gemacht wird, da das leitfähige Material an der Seitenoberfläche des konvexen Abschnitts des Substrats abgeschieden wird, und Verluste des leitfähigen Materials aufgrund externer Kräfte oder dergleichen verringert wird. Ein derartiger Drahtgitter-artiger Polarisator wird im Folgenden als eine Drahtgitter-Polarisationsplatte bezeichnet.
Die Drahtgitter-Polarisationsplatte ist ein Reflektionspolarisator, der einen hohen Polarisationsreflektionsgrad ermöglicht, wodurch eine hohe Helligkeit durch einen Lichtrücklauf erhalten werden kann, auch in Bezug auf eine geringe Wärmeerzeugung, die aus der Absorption von Licht erzeugt wird, und ist für Flüssigkristall-Anzeigevorrichtungen geeignet.
Dokumente im Stand der Technik

Patentdokument 1: Japanisches ungeprüftes Patent mit der Veröffentlichungsnummer 2006-084776
Patentdokument 2: Japanisches ungeprüftes Patent mit der Veröffentlichungsnummer 2001-330728

Offenbarung der Erfindung
Durch die Erfindung zu lösende Probleme
Mit der Verbreiterung von Übertragungstechniken und Bildtechniken ist in einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung in den letzten Jahren eine höhere Bildqualität erforderlich. Die Drahtgitter-Polarisationsplatte muss daher ebenso zu einer höheren Bildqualität beitragen.
Die vorliegende Erfindung wurde diesbezüglich durchgeführt, und es ist eine Aufgabe der Erfindung, eine Drahtgitter-Polarisationsplatte und eine projektionsartige Bildanzeigevorrichtung bereitzustellen, die die Bereitstellung einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung mit hoher Bildqualität ermöglicht.
Mittel zum Lösen des Problems
Eine Drahtgitter-Polarisationsplatte der vorliegenden Erfindung ist eine Drahtgitter-Polarisationsplatte mit einem Substrat, das eine konkav-konvexe Struktur aufweist, die sich in einer bestimmten Richtung an einer diesbezüglichen Oberfläche erstreckt und ein leitfähiges Material, das an einer Seitenoberfläche eines konvexen Abschnitts der konkav-konvexen Struktur verteilt bereitgestellt ist, und ist dadurch gekennzeichnet, dass eine Differenz in einer parallelen optischen Durchlässigkeit (Tp) zwischen Einfallswinkeln von –45 Grad und +45 Grad von Licht mit einer Wellenlänge von 555 nm 4% oder weniger ist, wenn eine senkrechte Richtung der Drahtgitter-Polarisationsplatte bei Null Grad eingestellt ist.
Eine Drahtgitter-Polarisationsplatte der Erfindung ist eine Drahtgitter-Polarisationsplatte mit einem Substrat, das eine konkav-konvexe Struktur aufweist, die sich in einer bestimmten Richtung an einer diesbezüglichen Oberfläche erstreckt, und umfasst ein leitfähiges Material, das an einer Seitenoberfläche eines konvexen Abschnitts der konkav-konvexen Struktur verteilt bereitgestellt ist, und ist dadurch gekennzeichnet, dass ein Abstand P1, wobei es sich um einen Abstand zwischen zwei benachbarten konvexen Abschnitten handelt, 120 nm oder weniger ist, und das eine Höhe des konvexen Abschnitts H, wobei es sich um eine Differenz in der Höhe zwischen einem höchsten Abschnitt des konvexen Abschnitts und einem niedrigsten Abschnitt eines konkaven Abschnitts handelt, in einem Bereich von 0,8 mal bis 1,3 mal der Abstand P1 in einem Querschnitt liegt (im Folgenden auch als eine Querschnittsansicht bezeichnet), die senkrecht zu einer Erstreckungsrichtung des leitfähigen Materials oder der konkav-konvexen Struktur ist.
Eine projektionsartige Bildanzeigevorrichtung der Erfindung ist eine projektionsartige Bildanzeigevorrichtung mit der Drahtgitter-Polarisationsplatte wie oben beschrieben, einer Lichtquelle, und einer Reflektions-Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung, und ist dadurch gekennzeichnet, dass Licht, das von der Lichtquelle ausgegeben wird, durch die Drahtgitter-Polarisationsplatte hindurch tritt oder reflektiert wird, um in die Reflektions-Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung einzutreten, und darin, dass Licht, das durch die Reflektions-Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung moduliert wird, durch die Drahtgitter-Polarisationsplatte reflektiert wird oder hindurch tritt, um ein Bild zu projizieren.
Vorteilhafte Effekte der Erfindung
Gemäß der vorliegenden Erfindung ist es möglich, eine Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung mit einer höheren Bildqualität bereitzustellen.
Kurze Beschreibung der Zeichnungen
1 ist eine schematische Querschnittsansicht zur Darstellung eines Beispiels einer Drahtgitter-Polarisationsplatte gemäß dieser Ausführungsform;
2 ist ein konzeptionelles Diagramm zur Darstellung eines Beispiels einer projektionsartigen Bildanzeigevorrichtung gemäß dieser Ausführungsform;
3 ist eine SEM-Fotographie in einer Querschnittsansicht der Drahtgitter-Polarisationsplatte gemäß einer Ausführungsform der Erfindung; und
4 ist ein Diagramm zur Darstellung der Beziehung zwischen paralleler Durchlässigkeit und orthogonaler Durchlässigkeit der Drahtgitter-Polarisationsplatte gemäß der Ausführungsform der Erfindung.
Bester Modus zum Ausführen der Erfindung
Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden im Folgenden erläutert.
Beziehung zwischen optischer Symmetrie und Bildqualität einer Drahtgitter-Polarisationsplatte
Als ein Ergebnis ernsthafter Studien zum Lösen des oben erwähnten Problems haben die Erfinder der vorliegenden Erfindung herausgefunden, dass eine Drahtgitter-Polarisationsplatte eine hohe optische Asymmetrie zeigt, die durch eine Asymmetrie einer Struktur verursacht wird, die leitfähige Materialien und konvexe Substratabschnitte in einer Querschnittsansicht umfasst, und da die Asymmetrie eine Änderung des Bildzustands in Abhängigkeit von dem visuellen Betrachtungswinkel verursacht, und eine Möglichkeit aufweist, einen nachteiligen Effekt bezüglich Verbesserungen in der Bildqualität einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung unter Verwendung der Drahtgitter-Polarisationsplatte aufzuweisen, und haben die vorliegende Erfindung abgeschlossen. Die Erfindung ist, mit anderen Worten, wie im Folgenden erläutert.
Eine Drahtgitter-Polarisationsplatte der vorliegenden Erfindung ist eine Drahtgitter-Polarisationsplatte, die ein Substrat aufweist, das eine konkav-konvexe Struktur aufweist, die sich in einer besonderen Richtung an einer diesbezüglichen Oberfläche erstreckt, sowie ein leitfähiges Material, das bereitgestellt ist, um an einer Seitenoberfläche eines konvexen Abschnitts der konkaven-konvexen Struktur verteilt zu werden, und ist dadurch gekennzeichnet, dass eine Differenz in einer parallelen Transmittanz bzw. Lichtdurchlässigkeit (Tp) zwischen Einfallswinkeln von minus 45 Grad und plus 45 Grad von Licht mit einer Wellenlänge von 555 nm gleich 4% oder weniger ist, wenn eine senkrechte Richtung der Drahtgitter-Polarisationsplatte auf Null Grad eingestellt ist. In dem Fall, dass die Differenz in einer parallelen Lichtdurchlässigkeit 4% übersteigt, ist ein Betrachter in der Lage, eine Änderung in dem Bildzustand zu erkennen bzw. wahrzunehmen, und insbesondere hängt die Helligkeit von dem visuellen Betrachtungswinkel ab, weshalb ein derartiger Fall nicht geeignet ist.
Gemäß einer derartigen Konfiguration ist es möglich, die Drahtgitter-Polarisationsplatte der Erfindung geeignet in einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung zu verwenden, die in verschiedenen Richtungen betrachtet wird.
Bei der Identifizierung einer bestimmten Struktur der Drahtgitter-Polarisationsplatte der Erfindung, welche die oben erwähnten Eigenschaften bzw. Charakteristika aufweist, ist die Polarisationsplatte ferner zum Beispiel eine Drahtgitter-Polarisationsplatte, die ein Substrat aufweist, das eine konkav-konvexe Struktur aufweist, die sich in einer bestimmten Richtung an einer diesbezüglichen Oberfläche erstreckt, und ein leitfähiges Material, das bereitgestellt wird, um an einer Seitenoberfläche eines konvexen Abschnitts der konkav-konvexen Struktur verteilt zu werden, und ist dadurch gekennzeichnet, dass ein Abstand P1, wobei es sich um einen Abstand zwischen zwei benachbarten konvexen Abschnitten handelt, 120 nm oder weniger ist, und dass eine konvexe Abschnittshöhe H, wobei es sich um eine Differenz in der Höhe zwischen einem höchsten Abschnitt des konvexen Abschnitts und einem niedrigsten Abschnitt eines konkaven Abschnitts handelt, in einem Bereich von 0,8 mal bis 1,3 mal den Abstand P1 liegt, in einer Querschnittsansicht in der senkrechten Richtung zu der Erstreckungsrichtung der konkav-konvexen Struktur.
Als Bildanzeigevorrichtungen, für die die Drahtgitter-Polarisationsplatte der Erfindung anwendbar ist, gibt es zum Beispiel Flüssigkristall-Anzeigevorrichtungen und projektionsartige Bildanzeigevorrichtungen, wobei es sich um Transmissions-Flüssigkristall-Projektoren, Reflektions-Flüssigkristall-Projektoren und dergleichen handelt.
Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden im Folgenden mit Bezug auf die begleitenden Zeichnungen erläutert.
Drahtgitter-Polarisationsplatte
1 ist eine schematische Querschnittsansicht einer Drahtgitter-Polarisationsplatte gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Darüber hinaus zeigt 1 eine schematische Ansicht in dem senkrechten Querschnitt zu der Erstreckungsrichtung (Tiefenrichtung der Papieroberfläche in 1, in der sich konvexe Abschnitte und konkave Abschnitte erstrecken) einer konkav-konvexen Struktur eines Substrats 11 einer Drahtgitter-Polarisationsplatte 10.
Wie in 1 gezeigt, weist die Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 gemäß dieser Ausführungsform das Substrat 11 auf, das die konkav-konvexe Struktur aufweist, die sich in eine bestimmte Richtung an dessen Oberfläche erstreckt, sowie leitfähige Materialien 12, die bereitgestellt sind, um an einer Seite von Seitenoberflächen 11b eines konvexen Abschnitts 11a an der Oberfläche des Substrats 11 verteilt zu sein. Die konkav-konvexe Struktur des Substrats 11 ist durch eine Vielzahl von konvexen Abschnitten 11a und eine Vielzahl von konkaven Abständen 11d konfiguriert, die sich wiederholen.
Wenn ein Abstand der leitfähigen Materialien 12 ausreichend geringer als eine Wellenlänge des einfallenden Lichts ist, unter dem einfallenden Licht, weist die drahtgitterartige Polarisationsplatte 10 eine Eigenschaft bezüglich der Lichtdurchlässigkeit auf, wonach eine lineare Polarisationskomponente einen elektrischen Feldvektor aufweist, der orthogonal zu der Erstreckungsrichtung der leitfähigen Materialien 12 ist, während reflektierendes Licht einer linearen Polarisationskomponente einen elektrischen Feldvektor in der Erstreckungsrichtung der leitfähigen Materialien 12 aufweist. Darüber hinaus wird die optische Durchlässigkeit von Licht bzw. Transmission von Licht der linearen Polarisationskomponente, die den elektrischen Feldvektor orthogonal zu der Erstreckungsrichtung der leitfähigen Materialien 12 aufweist, als parallele Lichtdurchlässigkeit bzw. parallele Transmittanz bzw. Transmission bezeichnet, und eine Lichtdurchlässigkeit der linearen Polarisationskomponente, die den elektrischen Feldvektor in der Erstreckungsrichtung der leitfähigen Materialien 12 aufweist, wird als orthogonale Durchlässigkeit bzw. orthogonale Transmittanz bezeichnet. Um ein Extinktionsverhältnis des durchgelassenen Lichts zu erhöhen, das ausgedrückt ist als ein Verhältnis der parallelen Lichtdurchlässigkeit zur orthogonalen Lichtdurchlässigkeit, ist es wichtig, die parallele Lichtdurchlässigkeit zu erhöhen, während die orthogonale Lichtdurchlässigkeit verringert wird.
Eine Konfiguration der konkav-konvexen Struktur der Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 gemäß dieser Ausführungsform wird insbesondere im Folgenden erläutert. In der folgenden Beschreibung wird zusätzlich in einer Querschnittsansicht der Oberfläche des Substrats 11 angenommen, dass ein Abstand zwischen zwei benachbarten konvexen Abschnitten 11a ein Abstand P1 ist, und dass ein Abstand zwischen leitfähigen Materialien 12, die an einer Seite (im Folgenden als eine „einseitige Oberfläche” beschrieben wird) der Seitenoberfläche 11b des konvexen Abschnitts 11a verteilt ist, ein Abstand P2 ist. Ferner wird angenommen, dass eine Differenz in einer höhe zwischen einem höchsten Abschnitt 11c des konvexen Abschnitts 11a und eines niedrigsten Abschnitts 11e des konkaven Abschnitts 11d eine Höhe des konvexen Abschnitts H ist, und dass eine Halbwertsbreite (vollständige Breite beim halben Maximum) des konvexen Abschnitts 11a der konkav-konvexen Struktur gleich W ist.
In der Querschnittsansicht weist die Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 gemäß dieser Ausführungsform das Substrat 11 auf, das die konkav-konvexe Struktur aufweist, die sich in der besonderen Richtung an dessen Oberfläche erstreckt, sowie leitfähige Materialien 12, die an einer Seitenoberfläche des konvexen Abschnitts 11a der konkav-konvexen Struktur verteilt ist, und ist derart konfiguriert, dass der Abstand P1, wobei es sich um einen Abstand zwischen zwei benachbarten konvexen Abschnitten 11a handelt, 120 nm oder geringer ist, und dass die Höhe des konvexen Abschnitts H, wobei es sich um eine Differenz in der Höhe zwischen dem höchsten Abschnitt 11c des konvexen Abschnitts 11a und dem niedrigsten Abschnitt 11e des konkaven Abschnitts 11d handelt, in einem Bereich von 0,8 mal bis 1,3 mal den Abstand P1 ist. Im Fall der Bereitstellung des leitfähigen Materials 12, das an einer Seitenoberfläche 11b des konvexen Abschnitts 11a der konkav-konvexen Struktur verteilt ist, ermöglicht die Tatsache, dass dieses nicht an der anderen Seitenoberfläche des gleichen konvexen Bereichs bereitgestellt wird, dass die parallele Lichtdurchlässigkeit verbessert wird, und wird bevorzugt.
In der Querschnittsansicht werden die leitfähigen Materialien 12 der Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 der vorliegenden Erfindung derart bereitgestellt, dass diese an einer Seitenoberfläche 11b des konvexen Abschnitts 11a verteilt werden, wobei es sich um eine nicht-gegenüberliegende Oberfläche der zwei benachbarten konvexen Abschnitte 11a handelt, und daher ist der Abstand P1 der konvexen Abschnitte 11a und der Abstand P2 der leitfähigen Materialien 12 mit einem im Wesentlichen gleichen Abstand angeordnet. In den leitfähigen Materialien 12, die mit dem geringen Abstand P2 angeordnet sind, der in der Größenordnung von Nanometern liegt, werden, bei Verringerung des Abstands P2, exzellentere Polarisationseigenschaften in einem breiten Bereich von Wellenlängen erzielt. Da in der Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 gemäß dieser Ausführungsform die leitfähigen Materialien 12 mit Luft (Brechungsindex 1,0) in Kontakt sind, wird durch die Einstellung des Abstands P2 der leitfähigen Materialien 12 auf 1/4 bis 1/3 des einfallenden Lichts (sichtbares Licht) es möglich, praktisch ausreichende Polarisationseigenschaften zu erzielen. Unter Berücksichtigung der optischen Symmetrie ist der Abstand P1 darüber hinaus bevorzugt auf 120 nm oder weniger eingestellt, und es wird noch mehr bevorzugt, dass dieser auf 100 nm oder weniger eingestellt ist. Vom Standpunkt der Form der leitfähigen Materialien 12 ist der Abstand P1 unterdessen bevorzugt auf 80 nm oder mehr eingestellt. Auf diese Art und Weise werden die leitfähigen Materialien 12 derart bereitgestellt, dass sie sich von dem im Wesentlichen niedrigsten Abschnitt zu dem höchsten Abschnitt der konkav-konvexen Struktur erstrecken, und es wird ferner mit Leichtigkeit erreicht, dass diese höher als der obere Abschnitt des konvexen Abschnitts 11a des Substrats 11 vorhanden sind.
In der Querschnittsansicht ist es durch die Einstellung der Höhe des konvexen Abschnitts H auf 0,8 mal bis 1,3 mal den Abstand P1 ferner möglich, die Reparation der Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 zu unterstützen, die die leitfähigen Materialien 12 aufweist, die sich in der senkrechten Richtung (Richtung des konvexen Abschnitts) erstrecken, und die mit der Höhe bereitgestellt werden, die das ausreichend hohe Extinktionsverhältnis ergibt, und eine derartige Einstellung wird daher bevorzugt. Im Fall der Ausbildung der leitfähigen Materialien 12 unter Verwendung des geneigten bzw. schiefen Depositionsverfahrens, ist, in Abhängigkeit von dem Abschirmungseffekt der konvexen Abschnitte 11a die Wachstumsrichtung des leitfähigen Materials 12 eine geneigte Richtung in der Querschnittsansicht, und kann mit dem benachbarten anderen leitfähigen Material 12 gekoppelt sein. Die Kopplung der leitfähigen Materialien 12 bei der Ausbildung der leitfähigen Materialien 12 führt zu einer Verringerung in der parallelen optischen Durchlässigkeit. Wenn insbesondere der Abstand P1 gleich 120 nm oder geringer ist, bewirkt ein verringerter Abstand der zwei benachbarten konvexen Abschnitte 11a, dass die leitfähigen Materialien 12 leicht zum Zeitpunkt der Ausbildung des leitfähigen Materials 12 gekoppelt werden, und es ist daher wichtig, den Abschirmeffekt der konvexen Abschnitte 11a zu steuern.
Durch die Einstellung der Höhe des konvexen Abschnitts H auf 1,3 mal den Abstand P1 oder geringer, ist es somit möglich, den Abschirmeffekt zum Zeitpunkt der Ausbildung der leitfähigen Materialien 12 durch das geneigte bzw. schräge Depositionsverfahren moderat zu halten, und es ist möglich, die leitfähigen Materialien 12 in der senkrechten Richtung zu wachsen. Auf diese Art und Weise sind die leitfähigen Materialien 12 in einer Form, die sich in der senkrechten Richtung in der Querschnittsansicht erstreckt, und es ist damit möglich, zu verhindern, dass sich die optische Durchlässigkeit (engl. Transmittance) aufgrund der Kopplung benachbarter leitfähiger Materialien 12 verringert. Da ferner die Fläche der konvexen Abschnitte 11a, die zwischen benachbarten leitfähigen Materialien 12 belegt wird, ausreichend gering ist, ist die Form des leitfähigen Materials 12 in der Querschnittsansicht angenähert zweiseitig symmetrisch, und die optische Symmetrie ist hoch. Es wird ferner ein Effekt erzeugt, wonach die Verringerung in der Fläche des konvexen Abschnitts 11a, der zwischen benachbarten leitfähigen Materialien 12 eingenommen wird, assoziiert mit der Einstellung der Höhe des konvexen Bereichs H auf 1,3 mal den Abstand P1 oder geringer, zu Verbesserungen in dem Extinktionsverhältnis des reflektierten Lichts beiträgt.
Wenn darüber hinaus die Höhe des konvexen Abschnitts H exzessiv verringert wird, ist das Verhältnis, so dass die Höhe der leitfähigen Materialien 12 relativ zu der Depositionsmenge hoch ist, gering. Die Höhe der leitfähigen Materialien 12 beeinflusst das Extinktionsverhältnis des reflektierten Lichts, und zur Präparation der Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 derart, dass die Höhe der leitfähigen Materialien 12 mit einer Effizienz ausreichend hoch ist, wird bevorzugt, die Höhe des konvexen Abschnitts H auf 0,8 mal den Abstand P1 oder mehr einzustellen. In der Querschnittsansicht ist es, mit anderen Worten, durch die Einstellung der Höhe des konvexen Abschnitts H auf 0,8 mal bis 1,3 mal dem Abstand P1 möglich, die Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 mit einer hohen optischen Symmetrie und einem hohen Extinktionsverhältnis des durchgelassenen Lichts anzufertigen.
Bezüglich der Höhe des konvexen Abschnitts H, wobei es sich um eine Differenz in der Höhe zwischen dem höchsten Abschnitt des konvexen Abschnitts 11a und dem niedrigsten Abschnitt des konkaven Abschnitts 11d handelt, wird ferner, in der Querschnittsansicht, wenn angenommen wird, dass eine Position von im Wesentlichen 9/10H eine erste Höhenposition (T1) ist, und dass eine Position von im Wesentlichen 1/10H eine zweite Höhenposition (T2) ist, bevorzugt, dass die Breite des konvexen Abschnitts 11a in der ersten Höhenposition (T1) in einem Bereich von 0,5 mal bis 1,0 mal die Breite des konvexen Abschnitts 11a in der zweiten Höhenposition (T2) liegt. Die Höhenposition ist darüber hinaus mit Bezug auf den unteren Rand des konkaven Abschnitts 11d eingestellt. Der Wert einer halben Breite des konvexen Abschnitts 11a der konkav-konvexen Struktur weist ferner bevorzugt einen Bereich von 0,05 mal bis 0,5 mal den Abstand P1 auf.
Durch die Einstellung der Breite des konvexen Abschnitts 11a in der ersten Höhenposition (T1) auf 0,5 mal bis 1,0 mal die Breite des konvexen Abschnitts 11a in der zweiten Höhenposition (T2) und die Einstellung des Werts einer halben Breite des konvexen Abschnitts 11a auf 0,05 mal bis 0,5 mal den Abstand P1, erstreckt sich der konvexe Abschnitt 11a im Wesentlichen in der senkrechten Richtung von der Unterseite zur Oberseite, und ist verglichen mit dem Abstand P1 ausreichend dünn. Auf diese Art und Weise ist es in der Querschnittsansicht möglich, die Fläche des konvexen Abschnitts effektiv zu verringern, die zwischen benachbarten leitfähigen Materialien 12 eingenommen wird, und es ist daher möglich, die Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 mit einer hohen optischen Symmetrie zu erhalten.
Es wird ferner bevorzugt, dass sich das leitfähige Material 12 von dem im Wesentlichen geringsten Abschnitt 11e zu dem höchsten Abschnitt 11c der konkav-konvexen Struktur erstreckt, und dass ein diesbezüglicher Teilabschnitt höher als der höchste Abschnitt 11c des konvexen Abschnitts 11a der konkav-konvexen Struktur bereitgestellt ist. Auf diese Art und Weise ist es möglich, die Höhe des leitfähigen Materials 12 zu erhöhen, und die Querschnittsfläche des leitfähigen Materials 12 in der Querschnittsansicht zu erhöhen. Mit der Vergrößerung der Querschnittsfläche des leitfähigen Materials 12 in der Querschnittsansicht wird, mit anderen Worten, die Fläche des konvexen Abschnitts 11a, der zwischen benachbarten leitfähigen Materialien 12 eingenommen wird, relativ verringert, was nicht nur zu Verbesserungen der optischen Symmetrie beiträgt, sondern es ist ferner möglich, die Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 mit einem hohen Extinktionsverhältnis des reflektierten Lichts herzustellen. Da es darüber hinaus möglich ist, die Kontaktfläche des konvexen Abschnitts 11a und des leitfähigen Materials 12 zu erhöhen, ist es möglich, ein Ablösen (engl. removal peeling) des leitfähigen Materials 12 zu reduzieren. Es wird, mit anderen Worten, ein Effekt erzeugt, wonach es möglich ist, Verluste der leitfähigen Materialien 12 aufgrund externer Kräfte und dergleichen zu reduzieren.
In der Querschnittsansicht wird ferner bevorzugt, dass die Querschnittsform des konvexen Abschnitts 11a der konkav-konvexen Struktur im Wesentlichen die Form eines Rechtecks ist. Auf diese Art und Weise ist es möglich, die Fläche des konvexen Abschnitts 11a zu reduzieren, die zwischen benachbarten leitfähigen Materialien 12 eingenommen wird.
In der Querschnittsansicht wird ferner bevorzugt, dass die Höhe von dem höchsten Abschnitt 11c des konvexen Abschnitts 11a zu dem höchsten Abschnitt des leitfähigen Materials 12 bei 50 nm oder mehr liegt. Auf diese Art und Weise ist es möglich, das Extinktionsverhältnis von durchgelassenem bzw. transmittiertem Licht der Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 zu erhöhen.
In der Querschnittsansicht wird darüber hinaus ferner bevorzugt, dass die Dicke in der horizontalen Richtung des leitfähigen Materials 12 bei 20 nm oder mehr zwischen der ersten Höhenposition (T1) und dem im Wesentlichen höchsten Abschnitt 11c des konvexen Abschnitts 11a liegt. Auf diese Art und Weise ist es möglich, die Extinktionsverhältnisse des transmittierten Lichts und des reflektierten Lichts der Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 zu erhöhen.
Es wird ferner bevorzugt, dass die Breite in der Position (erste Höhenposition (T1)) von im Wesentlichen 9/10H des konvexen Abschnitts 11a bei 15 nm oder mehr liegt. Um eine hohe parallele Lichtdurchlässigkeit und eine hohe orthogonale Reflektion zu realisieren, die als ein Reflektionspolarisator geeignet ist, wird bevorzugt, die Dicke in der horizontalen Richtung des im Wesentlichen höchsten Abschnitts 11c des leitfähigen Materials 12 zu erhöhen. Im Fall der Ausbildung der leitfähigen Materialien 12 durch das schräge Depositionsverfahren, das eine exzellente Massenproduktivität aufweist, liegt eine Tendenz vor, wonach die Querschnittsform des leitfähigen Materials 12, das höher als der höchste Abschnitt 11c des konvexen Abschnitts 11a ist, und die Querschnittsform des oberen Abschnitts des konvexen Abschnitts 11a vergleichbare Formen aufweisen, und es wird bevorzugt, die Dicken in der horizontalen Richtung des oberen Abschnitts des konvexen Abschnitts 11a zu erhöhen.
Substrat
Für das Substrat 11 ist es zum Beispiel möglich, anorganische Materialien, wie zum Beispiel Glas und Harzmaterialien zu verwenden. Unter den Materialien hat die Ausbildung des Substrats 11 unter Verwendung des Harzmaterials Vorzüge, wie zum Beispiel, dass ein Rollprozess durchgeführt werden kann und die Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 mit einer Elastizität (Biegeeigenschaft) bereitgestellt werden kann, und wird daher bevorzugt. Beispiele der Harze, die für das Substrat 11 verwendet werden können, sind amorphe thermoplastische Harze, wie zum Beispiel ein Polymethylmethacrylat-Harz, Polycarbonat-Harz, Polystyren-Harz, Cycloolefin-Harz (COP), Cross-linked-Polyethylen-Harz, Polyvinylchlorid-Harz, Polyacrylat-Harz, Polyphenylenether-Harz, modifiziertes Polyphenylenether-Harz, Polyeterimid-Harz, Polyethersulfon-Harz, Polysulfon-Harz und Polyetherketon-Harz, kristalline thermoplastische Harze, wie zum Beispiel Polyethylen-Terephthalat-(PET)Harz, Polyethylen-Naphthalat-Harz, Polyethylen-Harz, Polypropylen-Harz, Polybutylen-Terephthalat-Harz, aromatisches Polyester-Harz, Polyacetal-Harz und Polyamid-Harz, ultraviolette (UV) härtende Harze eines Acrylsytems, Epoxidsystems, Urethansystems und dergleichen, und Wärme aushärtendes Harz. Ferner ist es möglich, dass UV-härtende Harz und Wärme aushärtendes Harz, anorganisches Substrat aus Glas oder dergleichen, das oben erwähnte thermoplastische Harz und Triacetat-Harz zu kombinieren, oder allein zu verwenden, und das Substrat 11 auszubilden. Ferner ist es möglich, die Oberfläche des Substrats 11 mit einem dünnen Film bereitzustellen, um eine Adhäsion zwischen dem Substrat 11 und dem leitfähigen Material 12 zu verbessern.
In der Querschnittsansicht ist die konkav-konvexe Struktur an der Oberfläche des Substrats 11 bevorzugt eine rechteckige Form. Die rechteckige Form besteht aus einer Wiederholung des konkaven Abschnitts 11d und konvexen Abschnitts 11a, und enthält die Form eines Trapezes, die Form eines Rechtecks und die Form eines Quadrats. Ferner ist auch ein gekrümmter Abschnitt möglich, so dass die Krümmung allmählich wie eine Parabel vor und nach dem Wendepunkt geändert wird, im Fall der Betrachtung der Kontur der konkav-konvexen Struktur in der Querschnittsansicht als eine Funktion, und es ist ebenfalls möglich, dass der konvexe Abschnitt 11a die Form einer Verendung bzw. Einschnürung aufweist. Durch die Form der konkav-konvexen Struktur ist es leicht möglich, sukzessive leitfähige Materialien 12 auszubilden, durch das schräge Depositionsverfahren, und zwar an Seitenoberflächen 11b des konvexen Abschnitts 11a und der Unterseite der konkaven Abschnitte 11d der konkav-konvexen Form, die an der Oberfläche des Substrats 11 existiert.
Ferner ist es nur wesentlich, dass das Substrat 11 im Wesentlichen transparent in einem beabsichtigten Wellenlängenbereich ist. Bezüglich der Erstreckung in einer vorbestimmten Richtung ist es darüber hinaus nur wesentlich, dass die konkav-konvexe Struktur sich im Wesentlichen in die vorbestimmte Richtung erstreckt, und es ist nicht erforderlich, dass jeder konkave Abschnitt 11d und jeder konvexe Abschnitt 11a der konkav-konvexen Struktur sich genau parallel erstreckt. Der Abstand P1 der konkav-konvexen Struktur ist ferner bevorzugt 120 nm oder geringer, und gleiche Abstände werden bevorzugt. Bezüglich gleicher Abstände ist es darüber hinaus nur wesentlich, dass die Abstände im Wesentlichen gleiche Abstände sind, und es ist möglich, Variationen innerhalb von ca. +/–10% zu erlauben. Auf die gleiche Art und Weise, wie Variationen in dem Abstand P1 der konkav-konvexen Struktur in einem vorbestimmten Bereich erlaubt sind, ist die Höhe des konvexen Abschnitts H, die Breite des konvexen Abschnitts 11a und dergleichen in der Querschnittsansicht ebenfalls in vorbestimmten Bereichen (zum Beispiel bis zu Variationen innerhalb von ca. +/–10%) möglich.
Ein Verfahren zur Herstellung des Substrats 11, das die konkav-konvexe Struktur an der Oberfläche aufweist, ist nicht besonders eingeschränkt. Es ist zum Beispiel möglich, ein Herstellungsverfahren zu erwähnen, das in dem japanischen Patent mit der Veröffentlichungsnummer 4147247 erläutert ist, das durch den Anmelder der vorliegenden Anmeldung eingereicht wurde. Gemäß dem japanischen Patent mit der Nummer 4147247 wird unter Verwendung eines Metallstempels, der eine konkav-konvexe Struktur aufweist, die durch ein Interferenz-Exposure-Verfahren angefertigt wird, die konkav-konvexe Struktur thermisch auf ein thermoplastisches Harz transferiert, und ein freihändiges uniaxiales Zeichnen (engl. free-hand uniaxial drawing) wird in einer Richtung angewendet, die parallel zu der Erstreckungsrichtung der konkav-konvexen Struktur des thermoplastischen Harzes ist, das mit der konkav-konvexen Struktur bereitgestellt wird. Als ein Ergebnis wird der Abstand der auf das thermoplastische Harz transferierten konkav-konvexen Struktur reduziert, und es ist möglich, einen Harzblock zu erhalten, der gezeichnet bzw. ausgestaltet wird, der eine feine konkav-konvexe Struktur aufweist. Aus dem Harzblock (der ausgebildet wird) ist es unter Verwendung eines elektrolytischen Beschichtungsverfahrens oder dergleichen möglich, einen Metallstempel anzufertigen, der die feine konkav-konvexe Struktur aufweist. Unter Verwendung dieses Metallstempels wird die feine konkav-konvexe Struktur transferiert und auf der Oberfläche des Substrats 11 ausgebildet, und es ist daher möglich, das Substrat 11 zu erhalten, das die konkav-konvexe Struktur aufweist.
Als Verfahren zur Herstellung des Substrats 11 unter Verwendung eines Metallstempels gibt es darüber hinaus Verfahren unter Verwendung eines Silizium-basierten Substrats mit einer feinen konkav-konvexen Struktur, das angefertigt wird durch die Anwendung von Fotolithographie-Techniken der Halbleiterherstellung und dergleichen. Ein Harzblock, der eine feine konkav-konvexe Struktur an dessen Oberfläche aufweist, wird unter Verwendung des Silizium-basierten Substrats angefertigt, das die feiner konkav-konvexe Struktur aufweist, und zwar als eine Gussform. Aus dem erhaltenen Harzblock, der die feine konkav-konvexe Struktur an dessen Oberfläche aufweist, ist es ebenso möglich, einen Metallstempel zu präparieren bzw. anzufertigen, der die feine konkav-konvexe Struktur aufweist, unter Verwendung eines elektrolytischen Beschichtungsverfahrens oder dergleichen.
Es gibt hier den Fall, dass Variationen beobachtet werden, bei der Anwendung von sichtbarem Licht auf das Silizium-basierte Substrat mit der feinen konkav-konvexen Struktur, das durch Anwendung von Fotolithographie-Techniken der Halbleiterherstellung oder dergleichen ausgefertigt wird. Als ein Ausfertigungs- bzw. Präparationsverfahren der konkav-konvexen Struktur an der Oberfläche des oben erwähnten Silizium-basierten Substrats oder dergleichen kann ein Verfahren zum sequentiellen Transferieren (Ausführen) erwähnt werden, so dass ein Muster einer Vielmarkierung (engl. reticle) ohne einen Abstand angrenzt, und Variationen (im Folgenden auch als Exposure-Variationen bezeichnet) an der Oberfläche des Silizium-basierten Substrats oder dergleichen, das durch die oben erwähnten Techniken angefertigt wird, manchmal an der Peripherie der Grenze (Anschluss) von benachbarten Exposure-Bereichen beobachtet werden. Es liegt eine Tendenz vor, dass die Variationen insbesondere bei der Anfertigung einer konkav-konvexen Struktur auftreten, bei der die konkav-konvexe Struktur in einer besonderen Richtung ausgerichtet ist, und der Abstand zwischen benachbarten konvexen Abschnitten 11a bei 150 nm oder weniger liegt. Um die Exposure-Variationen zu beseitigen, ist es wichtig, die Exposure-Position mit einer hohen Genauigkeit zu steuern, und es ist ebenfalls möglich, diese zu reduzieren oder zu beseitigen, indem zum Beispiel eine Oberflächenbehandlung angewendet wird, wie zum Beispiel ein reaktives Ionen-Ätzen an einer Oberfläche eines Silizium-basierten Substrats, oder einer Oberfläche mit der konkav-konvexen Struktur, die durch einen Transfer der konkav-konvexen Struktur des Silizium-basierten Substrats erhalten wird.
Der oben erläuterte Metallstempel bzw. Metallstanzer (engl. metal stamper) ist nicht in dessen äußerer Form beschränkt, solange es möglich ist, eine feine konkav-konvexe Struktur auf die Oberfläche des Substrats 11 zu transferieren und auszubilden, und es möglich ist, die Form einer Platte, die Form eines Zylinders oder eine andere Form anzunehmen. Unter Berücksichtigung der Massenproduktivität wird die Form eines Zylinders bevorzugt, und auf diese Art und Weise ist ein Rollprozess zum sukzessiven Ausbilden der konkav-konvexen Form möglich, indem eine Blockwalze bzw. Blocktrommel (engl. block barrel) mit dem Metallstempel in der Form eines Zylinders als ein Blockmaterial bereitgestellt wird.
Als ein Verfahren zur Anfertigung eines zylindrischen Metallstempels ist es zum Beispiel möglich, Techniken zum Abrunden eines glatten, geformten Metallstempels in der Form eines Zylinders und zum Verbinden von Endbereichen zu erwähnen. Wenn hier die Oberfläche des Verbindungsbereichs bzw. Verbindungsabschnitts uneben ist, in der Substratoberfläche mit einer konkav-konvexen Form, die durch einen Rollprozess ausgebildet ist, ist der Abschnitt mit der Verbindungsabschnittoberfläche, die darauf transferiert wurde, eine raue Oberfläche. Das Substrat mit der ausgebildeten konkav-konvexen Form wird gebunden, um in der Form einer Rolle zu sein, und das Substrat an der inneren Seite der Aufwicklung und an der äußeren Seite der Aufwicklung, wo der unebene Abschnitt überlappt, wird lokal stark gepresst. Darüber hinaus bedeutet dies, dass ein Zustand vorliegt, bei dem ein Aufrollen, eine Konkavität und Konvexität, und/oder ein Schritt existiert, wonach die Oberfläche des Verbindungsabschnitts uneben bzw. rau ist, wie hier erläutert, und in dem Fall einer visuellen Überprüfung bedeutet dies einen Zustand, bei dem eine Reflektion uneben ist (nicht die einer Spiegeloberfläche ist) (aufgrund der Rauigkeit der Oberfläche).
Da die konkav-konvexe Struktur der Drahtgitter-Polarisationsplatte gemäß der vorliegenden Erfindung den Abstand P1 von 120 nm oder weniger aufweist, und daher extrem fein ist, wird dann, wenn das Substrat, in dem der raue Oberflächenabschnitt überlappt, lokal stark gepresst wird, die konkav-konvexe Struktur deformiert, was zu Defekten bzw. Fehlstellen führen kann. Um einen derartigen Nachteil zu verhindern, ist es möglich, eine Anpassung des Aufwicklungsdrucks einer Rolle zu erwähnen, die Verwendung eines Interleave- oder Zwischenschichtmaterials, die Anpassung der Härte des Substrats und dergleichen, und es wird insbesondere bevorzugt, die Oberfläche des Verbindungsabschnitts des Metallstempels in der Form eines Zylinders zu polieren. Durch die Glättung der Oberfläche des Verbindungsabschnitts, so dass dieser eine Spiegeloberfläche wird, kann die Deformation der konkav-konvexen Struktur verhindert werden, und da ferner eine Adhäsion zwischen dem Substrat und dem Metallstempel die Ausbildung der konkav-konvexen Struktur verbessert, ist es möglich, das Auftreten von Defekten bzw. Fehlstellen zu verringern.
Leitfähiges Material
Die leitfähigen Materialien 12 werden an der Oberfläche der konkav-konvexen Struktur des Substrats 11 bereitgestellt. Wie oben erläutert, wird bevorzugt, dass das leitfähige Material 12 eine Seitenoberfläche 11b des konvexen Abschnitts 11a kontaktiert, und dieses ist bereitgestellt, um sich von dem im Wesentlichen niedrigsten Abschnitt 11e bis zu dem höchsten Abschnitt 11d der konkav-konvexen Struktur zu erstrecken, und es wird ferner bevorzugt, dass zumindest ein Teil des leitfähigen Materials 12 höher als der höchste Abschnitt 11c des konvexen Abschnitts 11a der konkav-konvexen Struktur bereitgestellt ist.
Die leitfähigen Materialien 12 werden linear mit dem Abstand P2 im Wesentlichen parallel zu den konvexen Abschnitten 11a der konkav-konvexen Struktur an der Oberfläche des sich in der vorbestimmten Richtung erstreckenden Substrats 11 ausgebildet, und sind, wenn die Periode der linearen leitfähigen Materialien 12 kleiner als die Wellenlänge von sichtbarem Licht sind, Polarisationsseparations-Elemente zum Reflektieren einer Polarisationskomponente, die in der parallelen Richtung zu den leitfähigen Materialien 12 schwingt, während eine Polarisationskomponente durchgelassen wird, die in die senkrechte Richtung schwingt. Für die leitfähigen Materialien 12 kann Aluminium, Silber, Kupfer, Platin, Gold oder eine Legierung verwendet werden, die eines dieser Metalle als Hauptkomponente aufweist, und diese können durch ein schräges bzw. geneigtes Sputter-Verfahren oder geneigtes Depositionsverfahren ausgebildet werden. Die Ausbildung der leitfähigen Materialien 12 unter Verwendung von Aluminium oder Silber ermöglicht insbesondere, dass Absorptionsverluste von Licht im sichtbaren Bereich verringert werden, und wird daher bevorzugt.
Ausbildungsverfahren für das leitfähige Material Als Verfahren zum Ausbilden der leitfähigen Materialien 12 wird, unter Berücksichtigung der Produktivität, der optischen Eigenschaften und dergleichen bevorzugt, ein schräges bzw. geneigtes Depositionsverfahren zum Durchführen einer Deposition bzw. Ablagerung von einer geneigten Richtung bezüglich der senkrechten Richtung der Oberfläche des Substrats 11 zu verwenden, das die konkav-konvexe Struktur aufweist. Das geneigte Depositionsverfahren ist ein Verfahren zum Ablagern und Aufschichten von Metall mit einer Depositionsquelle, die einen vorbestimmten Neigewinkel bezüglich der senkrechten Richtung der Oberfläche des Substrats 11 in einer Querschnittsansicht des Substrats 11 aufweist. Der bevorzugte Bereich des Neigewinkels ist aus der Querschnittsform der konvexen Abschnitte 11a der konkav-konvexen Struktur und der anzufertigenden leitfähigen Materialien 12 bestimmt. Es wird im Allgemeinen der Bereich von 5 Grad bis 45 Grad bevorzugt, und der Bereich von 5 Grad bis 35 Grad ist noch mehr zu bevorzugen. Um die Querschnittsform, wie zum Beispiel die Höhe der leitfähigen Materialien 12 zu steuern, ist es ferner angemessen, den Neigewinkel allmählich bzw. graduell zu verringern oder zu erhöhen, unter Berücksichtigung eines Projektionseffekts des aufgeschichteten Metalls während der Deposition. Wenn darüber hinaus die Oberfläche des Substrats 11 gekrümmt ist, kann die Deposition von einer geneigten Richtung bezüglich der normalen Richtung der Oberfläche des Substrats 11 durchgeführt werden.
Das Zentrum der Depositionsquelle ist insbesondere in der Richtung bereitgestellt, die 5 Grad oder mehr weniger als 45 Grad bezüglich der senkrechten Richtung in dem Zentrum des Depositionszielbereichs der Oberfläche des Substrats 11 ausbildet, das, an dessen Oberfläche, die konkav-konvexe Struktur aufweist, welche sich in einer im Wesentlichen parallelen Richtung mit dem vorbestimmten Abstand P1 in einer bestimmten Richtung erstreckt, und die leitfähigen Materialien 12 werden an der konkav-konvexen Struktur ausgebildet. Es wird noch stärker bevorzugt, dass das Zentrum der Depositionsquelle in der Winkelrichtung bereitgestellt ist, die 5 Grad oder mehr geringer als 45 Grad bezüglich der senkrechten Richtung in dem Zentrum des Depositionszielbereichs der Oberfläche des Substrats 11 ausbildet. Auf diese Art und Weise ist es möglich, das leitfähige Material 12 selektiv an einer von Seitenoberflächen 11b des konvexen Abschnitts 11a der konkav-konvexen Struktur an der Oberfläche des Substrats 11 bereitzustellen. Im Fall der Deposition bzw. Ablagerung während des Transports des Substrats 11 kann die Deposition darüber hinaus derart durchgeführt werden, dass das Zentrum des Depositionszielbereichs in einigen Augenblicken und das Zentrum der Depositionsquelle der oben erwähnten Bedingung unterliegen.
Im Fall der Verwendung des geneigten bzw. schrägen Depositionsverfahrens (engl. oblique deposition method), wie oben erläutert, sind die Erstreckungsrichtungen der konvexen Abstände 11a und der leitfähigen Materialien 12 der konkav-konvexen Struktur gleich. Eine Metalldepositionsmenge zum Erreichen der Form der leitfähigen Materialien 12 der Drahtgitter-Polarisationsplatte in dieser Ausführungsform wird durch die Form der konvexen Abschnitte 11a der konkav-konvexen Struktur bestimmt, und eine durchschnittliche Depositionsdicke weist im Allgemeinen einen Bereich von ca. 50 nm bis 200 nm auf. Die hier beschriebene durchschnittliche Dicke verweist auf eine Dicke der abgelagerten Substanz zum Zeitpunkt der Annahme, dass die Substanz an einem glatten Glassubstrat abgelagert wird, von der senkrechten Richtung zur Glasoberfläche, und als ein Index der Metalldepositionsmenge verwendet wird.
Aus dem Blickwinkel der optischen Eigenschaften wird ferner bevorzugt, unnötige leitfähige Materialien 12 durch Ätzen zu entfernen. Das Ätzverfahren ist nicht besonders eingeschränkt, solange das Verfahren ein Ätzverfahren ist, das keinen nachteiligen Effekt an dem Substrat 11 und einer später erläuterten dielektrischen Schicht aufweist, und das ermöglicht, dass Abschnitte bzw. Bereiche der leitfähigen Materialien 12 selektiv entfernt werden können. Aus dem Blickwinkel der Produktivität und dem Blickwinkel der Formsteuerung bzw. Formkontrolle der leitfähigen Materialien 12 wird ein isotropes Ätzen bevorzugt, und es wird zum Beispiel ein Ätzverfahren bevorzugt, bei dem ein Eintauchen in eine alkalische wässrige Lösung durchgeführt wird. Im Fall der Verwendung eines isotropen Ätzens ist es ferner möglich, äußerliche Defekte bzw. Störstellen zu reduzieren oder aufzulösen, die durch Exposure-Variationen der Drahtgitter-Polarisationsplatte verursacht werden, die aus einem Silizium-basierten Substrat angefertigt wird, das die Exposure-Variationen aufweist. Da der Abstand P2 Drahtgitter-Polarisationsplatte in dieser Ausführungsform klein ist, liegt eine Tendenz vor, dass das Problem der Exposure-Variationen wie oben erläutert in dem Fall der Verwendung eines Silizium-basierten Substrats auftritt, und es ist daher äußerst angemessen, ein isotropes Ätzen zu verwenden, das die durch Exposure-Variationen verursachten Defekte reduzieren oder auflösen kann.
Dielektrikum
In der in dieser Ausführungsform gezeigten Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 ist es zur Verbesserung der Adhäsion zwischen Materialien, die das Substrat 11 und die leitfähigen Materialien 12 ausbilden, möglich, eine dielektrische Schicht, einschließlich einem dielektrischen Material mit hoher Adhäsion, geeignet zu verwenden, mit beiden Materialien dazwischen, so dass diese umfasst sind. Es ist daher möglich, Oxide aus Silizium (Si) zu verwenden, wie zum Beispiel Siliziumdioxid, sowie Nitride, Halide, Carbide allein oder in einer diesbezüglichen Kombination (das Dielektrikum wird durch Mischen eines anderen Elements, einer einzelnen Substanz oder einem Stoff in eine einzelne Substanz eines Dielektrikums erhalten), und Oxide, Nitride, Halide und Carbide eines Metalls, wie zum Beispiel Aluminium (Al), Chrom (Cr), Ytrium (Y), Zirkonium (Zr), Tantal (Ta), Titan (Ti), Barium (Ba), Indium (In), Zinn (Sn), Zink (Zn), Magnesium (Mg), Calcium (Ca), Cer (Ce) und Kupfer (Cu) allein oder in einer diesbezüglichen Kombination. Als dielektrische Materialien ist es nicht nur entscheidend, dass die Materialien im Wesentlichen transparent in einem Wellenlängenbereich sind, um ein transparentes Polarisationsverhalten zu erhalten. Ein Schichtverfahren dielektrischer Materialien ist nicht sonderlich eingeschränkt, und es ist zum Beispiel möglich, ein physikalisches Aufdampfverfahren geeignet zu verwenden, wie zum Beispiel ein Vakuumdepositionsverfahren, ein Sputter-Verfahren und ein Ionen-Plattierungsverfahren.
Trägersubstrat
Als eine Substanz zum Halten bzw. Tragen des Substrats 11 mit der konkav-konvexen Struktur ist es ebenfalls möglich, ein Trägersubstrat zu verwenden. Für das Trägersubstrat ist es möglich, anorganische Materialien, wie zum Beispiel Glas und Harzmaterialien zu verwenden, und es wird bevorzugt, Platten-geformte Harzmaterialien zu verwenden, die es ermöglichen, dass die Drahtgitter-Polarisationsplatte durch einen Rollprozess hergestellt werden kann und das eine leichte Adhäsion mit anderen optischen Elementen ermöglicht. Ein Verfahren zum Halten des Substrats 11 durch das Trägersubstrat ist ferner nicht besonders eingeschränkt, und es ist daher möglich, die Verwendung einer adhäsiven Substanz, das Verschmelzen durch Erhitzen und dergleichen zu erwähnen.
Als Harzmaterialien sind diesbezügliche Beispiele Polymethylmethacrylat-Harz (PMMA), Polycarbonat-Harz, Polystyren-Harz, Cycloolefin-Harz (COP), Cross-Linked-Polyethylen-Harz, Polyvinylchlorid-Harz, Polyacrylat-Harz, Polyvenylenether-Harz, modifiziertes Polyphenylenether-Harz, Polyetherimid-Harz, Polyethersulfon-Harz, Polysulfon-Harz, Polyetherketon-Harz, Polyethylenterephthalat-Harz (PET), Polyethylennaphthalat-Harz, Polyethylen-Harz, Polypropylen-Harz, Polybutylenterephthalat-Harz, aromatisches Polyester-Harz, Polyacetal-Harz, Polyamid-Harz, Triacetylzellulose-Harz (TAC), ultraviolett (UV) aushärtende Harze vom Acryl-System, Epoxid-System, Urethan-System und dergleichen und thermisch aushärtende Harze. Ferner ist es möglich, die UV-aushärtenden Harze und thermisch aushärtenden Harze, anorganische Substrate aus Glas oder dergleichen, thermoplastische Harze und dergleichen zu kombinieren oder allein zu verwenden.
Um eine Reduzierung des Polarisationsgrads zu vermeiden, als eine Phasendifferenz in der Ebene des Trägersubstrats, wird bevorzugt, den Phasendifferenzwert in der Ebene bei einer vorbestimmten Wellenlänge zu verringern und es wird zum Beispiel, unter Berücksichtigung der Verwendung von sichtbarem Licht, bevorzugt, einen Phasendifferenzwert auf eine Wellenlänge von 550 nm bei 30 nm oder weniger einzustellen. Es wird ferner bevorzugt, dass der Wert gleich 15 nm oder weniger ist. Um das Auftreten der Variationen in der Ebene des Polarisationsgrads der Polarisation zu verhindern, die durch die Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 gegeben wird, ist es notwendig, den Phasendifferenzwert an zwei willkürlichen Punkten in der Oberfläche des Trägersubstrats zu regeln, und der Phasendifferenzwert in der Ebene bei einer Wellenlänge von 550 nm ist zum Beispiel, unter Berücksichtigung der Verwendung von sichtbarem Licht, bevorzugt bei 10 nm oder weniger, und bevorzugter bei 5 nm oder weniger. Als Trägersubstrate, die eine derartige Eigenschaft aufweisen, gibt es Triacetylzellulose-Harz (TAC), Cycloolefin-Polymer-Harz (COP), Polycarbonat-Harz (PC), Polymethylmethacrylat-Harz (PMMA) und dergleichen, und es wird bevorzugt, diese Harzmaterialien zu verwenden.
Schutzfilm
Es ist möglich, einen Schutzfilm zu verbinden, um einen Verlust und dergleichen der leitfähigen Materialien aufgrund externer Kräfte beim Transport der Oberfläche zu verhindern, welche die leitfähigen Materialien 12 der Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 dieser Ausführungsform aufweist. Der Schutzfilm umfasst eine adhäsive Schicht, die Adhäsionseigenschaften aufweist, sowie ein Basissubstrat. Die Adhäsionsschicht ist nicht eingeschränkt, und es kann zum Beispiel die Adhäsion eines Acrylsystems, Silikonsystems, Urethansystems oder dergleichen verwendet werden. Das Basissubstrat ist ebenfalls nicht eingeschränkt, und es kann zum Beispiel ein PET-Film oder dergleichen verwendet werden. Es wird bevorzugt, dass die Adhäsionsschicht und das Basissubstrat beide optisch transparent sind. Eine optische Transparenz bedeutet hier, dass eine optische Durchlässigkeit bzw. Transmittanz zumindest in dem sichtbaren Sichtwellenlängenbereich hoch ist, und dadurch wird ein Zustand der verbundenen Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 leicht beobachtet.
Durch ein Verdünnen der Dicke der Adhäsionsschicht des Schutzfilms ist es hier möglich, Reduktionen in polarisationsseparaten Eigenschaften zu verhindern, wie zum Beispiel eine Verringerung in der parallelen Lichtdurchlässigkeit und eine Erhöhung der orthogonalen Lichtdurchlässigkeit der Drahtgitter-Polarisationsplatte 10. Wenn die Dicke der Adhäsionsschicht des Schutzfilms verdünnt ist, ist eine Elastizität der Adhäsionsschicht relativ gering, ist eine Adhäsion mit den leitfähigen Materialien schlecht, und daher kann verhindert werden, dass die Adhäsionsschichtkomponente zu den leitfähigen Materialien verschoben wird, was zu einer Verringerung der Polarisationsseparationseigenschaften führt. Da dann, wenn die Adhäsionsschicht des Schutzfilms extrem verdünnt wird, die Adhäsionskraft zwischen den leitfähigen Materialien 12 der Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 und der Adhäsionsschicht exzessiv verringert wird, liegt die Dicke der Adhäsionsschicht daher bevorzugt in einem Bereich von 2 μm bis 10 μm.
Reflektions-Flüssigkristall-Projektor
Eine projektionsartige Bildanzeigevorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird im Folgenden erläutert. Als Projektor, bei dem es sich um die projektionsartige Bildanzeigevorrichtung gemäß dieser Ausführungsform handelt, gibt es einen Reflektor-Flüssigkristall-Projektor, der eine Reflektions-Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung verwendet, und als einen Polarisationsstrahlteiler des Reflektions-Flüssigkristall-Projektors ist es möglich, die Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 gemäß dieser Ausführungsform, wie oben erläutert, geeignet zu verwenden.
Die projektionsartige Bildanzeigevorrichtung, die die Drahtgitter-Polarisationsplatte gemäß dieser Ausführungsform, wie oben erläutert, verwendet, wird mit Bezug auf 2 erläutert. 2 ist ein konzeptionelles Diagramm eines Reflektions-Flüssigkristall-Projektors, wobei es sich um ein Beispiel der projektionsartigen Bildanzeigevorrichtung gemäß dieser Ausführungsform handelt. Wie in 2 gezeigt, ist ein Reflektions-Flüssigkristall-Projektor 20 gemäß dieser Ausführungsform mit einer Lichtquelle 21, wie zum Beispiel einer LED, einer Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 als Polarisationsstrahlteiler, und einer Reflektions-Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung 22 bereitgestellt, die ein Lichtquellen-Licht mit einer Bildinformation bereitstellt. Bei Bedarf kann der Projektor mit einer Projektionslinse 23 bereitgestellt werden, die das Bildlicht, das mit der Bildinformation bereitgestellt ist, vergrößert und projiziert.
Das Licht der Lichtquelle, das von der Lichtquelle 21 angewendet wird, wird in die Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 eingegeben, wobei es sich um einen Polarisationsstrahlteiler handelt. Der Lichtquellentyp ist nicht besonders eingeschränkt, und es ist zum Beispiel möglich, eine LED, eine Hochdruck-Quecksilberdampf-Lampe, einen Laser und dergleichen geeignet zu verwenden. Das polarisierte Licht, das der Polarisationsseparation unterworfen wird und durch die Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 reflektiert wird, wird in die Reflektions-Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung 22 eingegeben, um moduliert zu werden. Das ausgegebene Licht (Bildlicht), das von der Reflektions-Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung 22 ausgegeben wird, wird durch die Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 hindurch geführt, durch die Projektionslinse 23 vergrößert, und dann auf einen Bildschirm projiziert.
Die Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 ist bevorzugt derart angeordnet, dass die Strukturoberfläche des leitfähigen Materials mit den ausgebildeten leitfähigen Materialien der Reflektions-Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung 22 gegenüber steht. Dies ist der Fall, da die Oberfläche an der gegenüberliegenden Seite zu der Strukturoberfläche des leitfähigen Materials der Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 eine relativ geringe Reflektion aufweist, und daher Reduzierungen in einem unnötigen reflektierten Licht, d. h. Reduzierungen im Streulicht ermöglicht, und es ist daher möglich, die Qualität des projizierten Bildlichts zu verbessern.
In den vergangenen Jahren hat sich die Miniaturisierung in dem Reflektions-Flüssigkristall-Projektor fortgesetzt, und es ist daher nicht möglich, eine optische Weglänge zwischen der Lichtquelle und dem Polarisationsstrahlteiler zu verlängern, und es treten vermehrt Fälle auf, bei denen das Licht der Lichtquelle in den Polarisationsstrahlteiler eingegeben wird, während es sich um Streulicht handelt. Bei einem optischen System des Reflektions-Flüssigkristall-Projektors wird manchmal eine Vorabpolarisationsplatte zwischen der Lichtquelle und dem Polarisationsstrahlteiler angeordnet, wobei die Transmissionsachsenrichtungen des Polarisationsstrahlteilers und die Vorabpolarisationsplatte orthogonal angeordnet sind. In dem Fall, dass das Licht der Lichtquelle Streulicht ist, sind, abhängig von der Einfallsrichtung und dem Einfallswinkel des gestreuten Lichts der Lichtquelle die Transmissionsachsenrichtungen offensichtlich nicht orthogonal und kreuzen sich in einem stumpfen Winkel. Obwohl hier die Bildqualität verringert ist, wenn das Extinktionsverhältnis des reflektierten Lichts des Polarisationsstrahlteilers gering ist, ermöglicht die Drahtgitter-Polarisationsplatte der vorliegenden Erfindung, dass das Extinktionsverhältnis des reflektierten Lichts vergrößert wird, und ist daher in der Lage, geeignet verwendet zu werden. Das Extinktionsverhältnis des reflektierten Lichts, wiedergegeben als das Verhältnis des orthogonalen Reflektionsgrads zu dem parallelen Reflektionsgrad ist bevorzugt 50 oder mehr, und es wird noch stärker bevorzugt, dass dieses 90 oder mehr ist. Unter Verwendung der Drahtgitter-Polarisationsplatte mit einem hohen Extinktionsverhältnis des reflektierten Lichts als ein Polarisationsstrahlteiler, ist es möglich, den Reflektions-Flüssigkristall-Projektor hoher Bildqualität bereitzustellen.
Als Extinktionsverhältnis des transmittierten bzw. durchgelassenen Lichts, wiedergegeben als das Verhältnis der parallelen Durchlässigkeit zur orthogonalen Durchlässigkeit ist das Verhältnis, vom Blickwinkel der Kontrastwiedergabe eines Bilds, bei einer Wellenlänge von 555 nm, bei der optischen Durchlässigkeit von 85%, bevorzugt 3000 oder mehr, und es wird noch stärker bevorzugt, dass dies bei 4000 oder mehr ist. Bei der optischen Durchlässigkeit von 88%, ist das Verhältnis ferner bevorzugt 800 oder mehr, und es wird noch stärker bevorzugt, dass dieses bei 1000 oder mehr ist.
Die Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 gemäß dieser Ausführungsform kann verwendet werden, während diese mit einer glatten flachen Glasplatte verbunden ist, oder gebogen ist. Im Fall der Verbindung mit einer glatten flachen Glasplatte ist es dadurch, dass die Größe der flachen Glasplatte größer als die der Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 zur Verbindung ist, möglich, das verbundene Material der Drahtgitter-Polarisationsplatte 10, das mit der gatten flachen Glasplatte verbunden ist, ohne den Endabschnitt der Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 zu kontaktieren. Im Fall der Verwendung als ein Polarisationsstrahlteiler ist unterdessen unter Berücksichtigung des Effekts der Abbe-Zahl die Verwendung der Platte 10 mit einer hohen Abbe-Zahl bevorzugt, und die Verwendung der Platte mit einer geringen Dicke wird bevorzugt. Darüber hinaus ist es ebenfalls möglich, die Oberfläche an der Seite gegenüber der Strukturoberfläche des leitfähigen Materials mit einer AR-(engl. anti-reflection)Behandlung oder einer Moth-Eye-Behandlung bereitzustellen.
Darüber hinaus kann die Drahtgitter-Polarisationsplatte 10 gemäß dieser Ausführungsform in dem Bereich sichtbaren Lichts, nahe infrarotem Licht und infraroten Licht ohne einem Verlust der optischen Eigenschaften verwendet werden, und wird daher bevorzugt in einer Bildanzeigeanwendung verwendet, die den Bereich verwendet, wie zum Beispiel eine Pickup-Anwendung, Sensor-Anwendung und dergleichen. Die Platte 10 ist darüber hinaus nicht auf diese oben erläuterte Ausführungsform beschränkt, und kann in der Praxis mit verschiedenen diesbezüglichen Modifikationen verwirklicht werden. Die Materialien, die Anzahl und dergleichen in der oben erläuterten Ausführungsform sind ferner ein Beispiel, und können bei Bedarf modifiziert werden. Die Platte 10 kann ferner innerhalb des Umfangs geeignet in der Praxis verwirklicht werden, ohne von der technischen Idee der vorliegenden Erfindung abzuweichen.
Beispiele
Im Folgenden wird die vorliegende Erfindung unter Verwendung von Beispielen speziell erläutert, jedoch ist die Erfindung nicht auf diese Beispiele beschränkt. Zuerst werden Messverfahren von Messwerten in den Beispielen beschrieben.
Messung der optischen Durchlässigkeit
Bei der Messung der optischen Durchlässigkeit (engl. transmittance) wurde RETS-100 verwendet, hergestellt durch Otsuka Electronics Co., Ltd. oder VAP-7070, hergestellt durch JASCO Corporation. RETS-100 ist mit einem Polarisator (im Folgenden auch als ein Messpolarisator bezeichnet) bereitgestellt, in der Nähe einer Lichtquelle und einem Analysator (im Folgenden auch als ein Messanalysator bezeichnet) in der Nähe eines Foto-Detektors, ein Messprobe-Objekttisch zum Halten einer Messprobe weist eine uniaxiale Betriebsrotationsachse auf, und alle Elemente können entsprechend dem Zweck einer Messung bewegt werden. VAP-7070 ist mit einem Messpolarisator in der Nähe einer Lichtquelle bereitgestellt, und man kann eine Spektrometrie durchführen, während Messlicht aus linear polarisiertem Licht auf eine Messprobe angewendet wird.
Messung der optischen Durchlässigkeit und des Reflektionsgrads
Bei der Messung der optischen Durchlässigkeit und des Reflektionsgrads wurde U-4100 verwendet, hergestellt durch Hitachi High-Technologies Corporation. U-4100 ist mit einem Messpolarisator in der Nähe einer Lichtquelle bereitgestellt, einem Messproben-Objekttisch zum Halten einer Messprobe und einem Foto-Detektor, der die gleiche uniaxiale Betriebsrotationsachse aufweist, und jedes Element kann entsprechend dem Zweck der Messung bewegt werden.
Messung des Phasendifferenzwerts in der Ebene
Eine Polarisationsanalyse-Vorrichtung (hergestellt durch Oji Scientific Instruments, KOBRA-WR), das das parallele Nicol-Verfahren verwendet, wurde als Messvorrichtung für den Phasendifferenzwert in der Ebene verwendet. Die Wellenlänge des Messlichts wurde auf 550 nm eingestellt, und ein Phasendifferenzwert im Fall eines Einfallswinkels von 0 Grad wurde als ein Phasendifferenzwert in der Ebene betrachtet.
Messverfahren des Brechungsindexes
Bei der Messung des Brechungsindexes wurde eine Brechungsindex-Messvorrichtung verwendet (hergestellt von Metricon Corporation, Laser-Brechungsindex-Messmodell 2010). Wenn die Messung eines aushärtenden Harzes durchgeführt wurde, wurde der Brechungsindex nach der Durchführung der Aushärtungsverarbeitung gemessen. Aus Messresultaten des Brechungsindexes bei Wellenlängen von 532 nm, 633 nm und 824 nm durch die Brechungsindex-Messvorrichtung, wurde ein Wellenlängendispersionsdiagramm des Brechungsindexes unter Verwendung der Cauchy's-Dispersionsgleichung erhalten, und der Brechungsindex bei einer Wellenlänge von 589 nm wurde erhalten.
Anfertigungsverfahren der Drahtgitter-Polarisationsplatte
Im Folgenden werden Anfertigungsverfahren von Drahtgitter-Polarisationsplatten erläutert, die in den Beispielen verwendet werden.
Anfertigung einer Form (engl. mold)
Silizium-basierte Substrate 1 bis 10, in denen sich eine konkav-konvexe Struktur in einer Richtung erstreckt und der Abstand P1 der konkav-konvexen Struktur in einer Querschnittsansicht 155 nm oder 100 nm war, wurden durch Fotolithographie-Techniken angefertigt. Unter den Substraten war der Abstand P1 des Silizium-basierten Substrats 1 bei 145 nm, die Abstände P1 der Silizium-basierten Substrate 2 bis 5 waren auf 100 nm eingestellt, und die Abstände P1 der Silizium-basierten Substrate 6 bis 10 waren bei 120 nm eingestellt. Als Höhe von dem höchsten Abschnitt des konvexen Abschnitts zu dem niedrigsten Abschnitt des konkaven Abschnitts der konkav-konvexen Struktur war das Silizium-basierte Substrat 1 auf ca. 145 nm eingestellt, das Silizium-basierte Substrat 2 war auf ca. 150 nm eingestellt, das Silizium-basierte Substrat 3 war auf ca. 110 nm eingestellt, das Silizium-basierte Substrat 4 war auf ca. 90 nm eingestellt, das Silizium-basierte Substrat 5 war auf ca. 125 nm eingestellt, das Silizium-basierte Substrat 6 war auf ca. 85 nm eingestellt, das Silizium-basierte Substrat 7 auf ca. 110 nm eingestellt, das Silizium-basierte Substrat 8 war auf ca. 120 nm eingestellt, das Silizium-basierte Substrat 9 war auf ca. 150 nm eingestellt und das Silizium-basierte Substrat 10 auf ca. 170 nm eingestellt.
Ein Acryl-basiertes UV-härtendes Harz (Brechungsindex 1,52) wurde auf einen PET-Film (A-4300, hergestellt durch Toyobo Co., Ltd.) mit einer Dicke von ca. 3 μm aufgebracht, und jedes Silizium-basierte Substrat wurde überlagert, so dass die Oberfläche der konkav-konvexen Struktur von jedem Substrat das UV-härtende Harz kontaktiert. Unter Verwendung einer UV-Lampe mit einer zentralen Wellenlänge von 365 nm wurde eine UV-Bestrahlung von 1000 mJ/cm² von der Seite des PET-Films durchgeführt, und die konkav-konvexe Struktur des Silizium-basierten Substrats wurde auf den PET-Film transferiert. Die Oberfläche des PET-Films und die konkav-konvexe Struktur in der Querschnittsansicht wurden durch SEM betrachtet, und es wurde bestätigt, dass sich die konkav-konvexe Struktur in einer Richtung erstreckt, und dass die konkav-konvexe Struktur des Silizium-basierten Substrats transferiert wurde. Der Abstand der transferierten konkav-konvexen Struktur war, mit anderen Worten, der gleiche Abstand wie der Abstand P1. Als Leitungsverarbeitung an der Oberfläche der konkav-konvexen Struktur des PET-Films wurde, wie oben erläutert, die konkav-konvexe Struktur durch Sputtern mit Platinpalladium beschichtet, danach jeweils einem Elektroplattieren mit Nickel unterworfen, und es wurden Nickel-Stempel bzw. Nickel-Stanzer (engl. nickel stampers) angefertigt, welche die konkav-konvexe Struktur an deren Oberfläche aufweisen. Darüber hinaus wird angenommen, dass der Nickel-Stempel, der aus dem Silizium-basierten Substrat 1 mit dem Abstand P1 von 145 nm angefertigt wurde, eine Form A ist, die Nickel-Stempel, die aus den Silzium-basierten Substraten 2 bis 5 mit dem Abstand P1 von 100 nm angefertigt wurden, die Formen B, D, E bzw. F sind, und dass Nickel-Stempel, die von den Silizium-basierten Substraten 6 bis 10 mit dem Abstand P1 von 120 nm angefertigt wurden, Formen G bis K sind.
Unter Verwendung der angefertigten Form B wurde die konkav-konvexe Struktur auf die Oberfläche einer Cycloolefin-Harz (im Folgenden als COP bezeichnet) Platte mit einer Dicke von 0,5 mm transferiert, durch ein Heißpress-Verfahren, um eine COP-Platte B anzufertigen, die die konkav-konvexe Struktur an dessen Oberfläche aufweist. Eine Oberflächenbehandlung durch UV-Ozon wurde anschließend an der Oberfläche der konkav-konvexen Struktur der COP-Platte B durchgeführt, wobei die konkav-konvexe Struktur an der Oberfläche der Form B darauf transferiert wurde. Unter Verwendung einer ultravioletten Oberflächenbehandlungsvorrichtung (Photo Surface Processor, Modell: PM906N-2, hergestellt durch SEN Lights Co. Ltd.), wurde die Oberfläche mit der konkav-konvexen Struktur der COP-Platte B mit UV der Beleuchtungsstärke von 34 mW/cm² bei einer Wellenlänge von 254 nm für 30 Sekunden bestrahlt. Als Leitungsverarbeitung an der oberflächenbehandelten COP-Platte B wurde die konkav-konvexe Struktur durch Sputtern mit Platinpalladium beschichtet, und dann jeweils einem Elektroplattieren mit Nickel unterworfen, um einen Nickel-Stempel bzw. Nickel-Stanzer (engl. nickel stamper) anzufertigen. Es wird angenommen, dass der Nickel-Stempel, der von der oberflächenbehandelten COP-Platte B angefertigt wurde, eine Form C ist.
Anfertigung eines konkav-konvex-Struktur-transferierten Films unter Verwendung eines UV-härtenden Harzes
Transferierte Filme, welche die konkav-konvexe Struktur an deren Oberfläche aufweisen, wurden unter Verwendung der Formen A bis K angefertigt, wie oben erläutert. Das Substrat war ein TAC-Film (TD80UL-H, hergestellt durch FUJIFILM Corporation), hergestellt aus einem Triacetylzellulose-basierten Harz mit einer Dicke von 80 μm und ein Phasendifferenzwert in der Ebene des TAC-Films war 3,5 nm bei einer Wellenlänge von 550 nm. Ein Acryl-basiertes UV-aushärtendes Harz (Brechungsindex 1,52) wurde auf den TAC-Film in einer Dicke von ca. 3 μm angewendet, und die Form wurde auf den TAC-Film gesetzt. Durch den Betrieb einer UV-Lampe mit der zentralen Wellenlänge bei 365 nm wurde eine UV-Bestrahlung von 1000 mJ/cm² von der Seite des TAC-Films durchgeführt, und die konkav-konvexe Struktur der Form wurde auf das UV-aushärtende Harz transferiert. Der TAC-Film wurde von der Form abgezogen, um einen transferierten Film mit der konkav-konvexen Struktur anzufertigen, die auf die Substratoberfläche transferiert wurde, die aus dem UV-aushärtenden Harz besteht. Der oben erwähnte Betrieb wurde an jeder der Formen A bis K durchgeführt, um jeweils transferierte Filme A bis K anzufertigen, wie in Tabelle 1 gezeigt, die im Folgenden beschrieben wird. Tabelle 1 zeigt Resultate, die erhalten werden durch eine Betrachtung der Oberfläche von jedem transferierten Film sowie der konkav-konvexen Struktur in der Querschnittsansicht durch SEM. Darüber hinaus ist in der Tabelle 1 der „Abstand P1” ein Abstand (engl. pitch) zwischen zwei benachbarten Abschnitten, die „Höhe des konvexen Abschnitts H” ist eine Differenz in der Höhe zwischen dem höchsten Abschnitt des konvexen Abschnitts und dem niedrigsten Abschnitt des konkaven Abschnitts der konkav-konvexen Struktur, und das „Breitenverhältnis des konvexen Abschnitts (I)” ist ein Wert, der durch die folgende Gleichung (1) berechnet wurde.
Gleichung (1)

Breitenverhältnis des konvexen Abschnitts = Breite eines konvexen Abschnitts in der ersten Höhenposition/Breite des konvexen Abschnitts in der zweiten Höhenposition

In der Gleichung (1) betrifft die erste Höhenposition eine Position von im Wesentlichen 9/10H des konvexen Abschnitts H, wobei es sich um eine Differenz in der Höhe zwischen dem höchsten Abschnitt des konvexen Abschnitts und dem niedrigsten Abschnitt des konkaven Abschnitts in einer Querschnittsansicht in der senkrechten Richtung zu der Erstreckungsrichtung der konkav-konvexen Struktur handelt, und die zweite Höhenposition betrifft eine Position von im Wesentlichen 1/10H. Tabelle 1

transferierter Film	Abstand P1	Höhe H des konvexen Abschnitts	Halber Breitenwert des konvexen Abschnitts W	Breitenverhältnis (I) d. konvexen Abschnitts
A	145 nm	145 nm	40 nm	0.7
B	100 nm	145 nm	30 nm	0.67
C	100 nm	145 nm	25 nm	0.25
D	100 nm	108 nm	25 nm	0.6
E	100 nm	90 nm	25 nm	0.63
F	100 nm	120 nm	25 nm	0.6
G	120 nm	85 nm	30 nm	0.65
H	120 nm	108 nm	35 nm	0.68
I	120 nm	120 nm	35 nm	0.7
J	120 nm	145 nm	35 nm	0.7
K	120 nm	165 nm	35 nm	0.7

Ausbildung der dielektrischen Schicht unter Verwendung eines Sputter-Verfahrens
Als nächstes wurde Silizium-Dioxid auf der Substratoberfläche abgeschieden, welche die konkav-konvexe Struktur aufweist, von jedem der transferierten Filme A bis K als eine dielektrische Schicht durch ein Sputter-Verfahren. Bezüglich der Bedingungen der Sputter-Vorrichtung war der Ar-Gasdruck 0,2 Pa, war die Sputter-Leistung 770 W/cm², und die Beschichtungsrate war 0,1 nm/s, wobei das Abscheiden derart durchgeführt wurde, dass die dielektrische Dicke an dem transferierten Film bezüglich des flachen Films 3 nm war.
Ausbildung der leitfähigen Materialien unter Verwendung des schrägen bzw. geneigten Depositions- bzw. Abscheide-Verfahrens
Als nächstes wurde Aluminium (Al) an der Substratoberfläche abgeschieden, welche die konkav-konvexe Struktur aufweist bezüglich jedem transferierten Film A bis K durch eine Vakuumdeposition. Die Al-Vakuumdepositionsbedingungen waren dahingehend, dass bei Zimmertemperatur der Vakuumgrad bei 2,0 × 10^–3 Pa lag, und die Depositions- bzw. Abscheidungsrate bei 40 nm/s lag. In der Querschnittsansicht war bei den transferierten Filmen A, B, C, D und E der Depositionswinkel bezüglich der senkrechten Richtung des Substrats auf 18 Grad eingestellt, und Al wurde derart abgelagert, dass eine mittlere Al-Dicke bei 110 nm lag. Die mittlere Al-Dicke wurde darüber hinaus durch ein Einfügen eines Glassubstrats mit einer glatten Oberfläche in die Depositionsvorrichtung zusammen mit jedem der transferierten Filme A bis K und Messen der Al-Dicke an dem abgelagerten glatten Glassubstrat erhalten, verweist auf eine Dicke der abgelagerten Substanz, unter der Annahme, dass die Substanz an dem glatten Glassubstrat von der senkrechten Richtung abgeschieden wird, und wird als ein Index einer abgeschiedenen Menge verwendet.
Beispiele 1 bis 6 und vergleichende Beispiele 1 bis 5 Entfernung von unnötigem Al
Um unnötiges Al zu entfernen, wurden die mit Al beschichteten transferierten Filme A bis K in einer 0,1 Gewichtsprozent wässriger Natronlauge bei Zimmertemperatur getränkt, unmittelbar nach dem Eintauchen abgespült und getrocknet, um Drahtgitter-Polarisationsplatten A1 bis K1 mit einer parallelen optischen Durchlässigkeit von ca. 86% anzufertigen.
Wenn die konkav-konvexe Struktur und die Form der leitfähigen Materialien in der Querschnittsansicht von jeder der Drahtgitter-Polarisationsplatten A1 bis K1 durch SEM betrachtet wird, sind die leitfähigen Materialien an einer Seitenoberfläche des konvexen Abschnitts der konkav-konvexen Struktur an dem Substrat verteilt (siehe 3). Die leitfähigen Materialien, die sich von dem im Wesentlichen niedrigsten Abschnitt zu dem höchsten Abschnitt der konkav-konvexen Struktur erstrecken, und zumindest ein diesbezüglicher Teil wurde ferner höher als der höchste Abschnitt des konvexen Abschnitts der konkav-konvexen Struktur bereitgestellt. Die Höhe von dem höchsten Abschnitt des konvexen Abschnitts zu dem höchsten Abschnitt des leitfähigen Materials liegt bei 50 nm oder mehr.

Ferner zeigt Tabelle 2 die „Dicke des konvexen Abschnitts (II)”, „Form des konvexen Abschnitts”, „Dicke des leitfähigen Materials (III)”, und „Höhe des leitfähigen Materials (IV)” von jeder der Drahtgitter-Polarisationsplatten A1 bis K1. Die „Dicke des konvexen Abschnitts (II)'” ist eine Breite des konvexen Abschnitts an der ersten Höhenposition, und die „Form des konvexen Abschnitts” bedeutet die Form der konkav-konvexen Struktur in der Querschnittsansicht. Die „Dicke des leitfähigen Materials (III)” ist ferner eine Dicke in einem Abschnitt, in dem die Dicke in der horizontalen Richtung des leitfähigen Materials die dünnste zwischen dem ersten Höhenabschnitt und dem im Wesentlichen höchsten Abschnitt des konvexen Abschnitts ist, und die „Höhe des leitfähigen Materials (IV)” bedeutet eine Höhe von dem niedrigsten Abschnitt zu dem höchsten Abschnitt des leitfähigen Materials. Tabelle 2

Drahtgitter-Polarisationsplatte	Dicke d. konvexen Abschnitts/II)	Form d. konvexen Abschnitts	Dicke des leitfähigen Materials (III)	Höhe des leitfähigen Materials (IV)
Al	40 nm	reckteckige Form	25 nm	230 nm
B1	30 nm	reckteckige Form	15 nm	220 nm
C1	15 nm	Sinuswellen-Form	20 nm	220 nm
D1	20 nm	reckteckige Form	30 nm	185 nm
E1	25 nm	reckteckige Form	35 nm	170 nm
F1	20 nm	reckteckige Form	35 nm	240 nm
G1	30 nm	reckteckige Form	38 nm	170 nm
H1	15 nm	reckteckige Form	35 nm	210 nm
I1	15 nm	reckteckige Form	30 nm	240 nm
J1	20 nm	reckteckige Form	28 nm	290 nm
K1	25 nm	reckteckige Form	20 nm	335 nm

Die parallele optische Durchlässigkeit bei einem geneigten Einfall von jeder der Drahtgitter-Polarisationsplatten A1 bis K1 wurde durch RETS-100 gemessen, hergestellt durch Otsuka Electronics Co., Ltd. Die parallele optische Durchlässigkeit wurde unter der Bedingung gemessen, dass die Betriebsrotationsachse des Messproben-Objekttisches und die Transmissionsachsenrichtungen des Messpolarisators, des Messfotodetektors und jeder Drahtgitter-Polarisationsplatte, die der Messung unterliegt orthogonal waren. Der Einfallswinkel des Messlichts, das auf jede der Drahtgitter-Polarisationsplatten A1 bis K1 einfällt, wurde auf –45 Grad und +45 Grad eingestellt, wobei die senkrechte Richtung der Drahtgitter-Polarisationsplatte als Null Grad angesehen wird. Die Messwellenlänge wurde ferner auf 555 nm eingestellt, so dass das menschliche Auge das Licht als stark fühlt. Ein Absolutwert von ΔTp_{(λ = 550 nm)}, d. h. eine Differenz in der parallelen optischen Durchlässigkeit Tp_{(λ = 550 nm)} zwischen Einfallswinkeln von –45 Grad und +45 Grad wurde aus erhaltenen Messergebnissen der parallelen optischen Durchlässigkeit berechnet. Tabelle 3 zeigt die berechnete optische Symmetrie |ΔTp_{(λ = 550 nm)}|. Eine geringe optische Symmetrie |ΔTp_{(λ = 550 nm)}| führt darüber hinaus zu einer hohen optischen Symmetrie. Tabelle 3

Drahtgitter-Polarisationsplatte	Optische Symmetrie
A1 (Vergleichsbeispiel 1)	5,10%
B1 (Vergleichsbeispiel 2)	4,40%
C1 (Vergleichsbeispiel 3)	5,00%
D1 (Beispiel 1)	2,40%
E1 (Beispiel 2)	1,80%
F1 (Beispiel 3)	2,90%
G1 (Vergleichsbeispiel 4)	2,40%
H1 (Beispiel 4)	2,50%
I1 (Beispiel 5)	2,80%
J1 (Beispiel 6)	3,20%
K1 (Vergleichsbeispiel 5)	4,50%

Verglichen mit den Beispielen 1 bis 6, in den Vergleichsbeispielen 1, 2, 3 und 5 war die Differenz der parallelen optischen Durchlässigkeit zwischen Einfallswinkeln von –45 Grad und +45 Grad groß, wie in Tabelle 3 gezeigt, und die optische Symmetrie war gering. Die größte Differenz zwischen Vergleichsbeispiel 1 und den Beispielen 1, 2 und 4 war der Abstand P1, und durch eine Verringerung des Abstands P1 wurde die optische Symmetrie verbessert. In den Vergleichsbeispielen 2, 3 und 5 war die Höhe des konvexen Abschnitts H ferner größer als 1,3 mal der Abstand P1, und im Vergleichsbeispiel 3 war das Breitenverhältnis des konvexen Abschnitts (I) kleiner als 0,5 mal der Abstand P1. Die Fläche des konvexen Abschnitts, die zwischen benachbarten leitfähigen Materialien in der Querschnittsansicht belegt ist, war entsprechend groß, und die optische Symmetrie wurde verringert. Beispiele 1 bis 6 gemäß 1,3 mal den Abstand P1 oder geringer führten zu einer hohen optischen Symmetrie, und können geeignet verwendet werden.
Beispiele 7 bis 9 und Vergleichsbeispiele 6 bis 9 Entfernung von unnötigem Al
Eine Vielzahl von Schichten von jedem transferierten Film A, B, C, D, E, G und H mit abgeschiedenem Al wurde angefertigt, um jeweilige Drahtgitter-Polarisationsplatten anzufertigen, wobei die Immersionszeit in 0,1 Gewichtsprozent wässriger Natronlauge (bei Zimmertemperatur) variiert wurde. Der Betrieb des Entfernens von unnötigem Al war mit Ausnahme der Immersionszeit gleich, und ein Abspülen und Trocknen wurde unmittelbar nach der Immersion bzw. dem Eintauchen in der wässrigen Natronlauge durchgeführt. In den erhaltenen Drahtgitter-Polarisationsplatten wurde ferner angenommen, dass die von den transferierten Filmen A, B, C, D, E, G und H erhaltenen Drahtgitter-Polarisationsplatten jeweils Drahtgitter-Polarisationsplatten A2, B2, C2, D2, E2, G2 und H2 sind.
Als nächstes wurde die parallele optische Durchlässigkeit und die orthogonale optische Durchlässigkeit mit VAP-7070 gemessen, hergestellt durch JASCO Corporation, im Fall des Anwendens von Messlicht von der senkrechten Richtung von jeder der erhaltenen Drahtgitter-Polarisationsplatten A2, B2, C2, D2, E2, G2 und H2. Die Messwellenlänge wurde auf 555 nm eingestellt, so dass das menschliche Auge das Licht stark fühlt, und die erhaltenden Messresultate der parallelen optischen Durchlässigkeit und der orthogonalen optischen Durchlässigkeit sind in dem Diagramm der 4 gezeigt. Zusätzlich wird angenommen, dass die Drahtgitter-Polarisationsplatte A2 Vergleichsbeispiel 6 ist, die Drahtgitter-Polarisationsplatte B2 Vergleichsbeispiel 7 ist, die Drahtgitter-Polarisationsplatte C2 Vergleichsbeispiel 8 ist, die Drahtgitter-Polarisationsplatte D2 Beispiel 7 ist, die Drahtgitter-Polarisationsplatte E2 Beispiel 8 ist, die Drahtgitter-Polarisationsplatte G2 Vergleichsbeispiel 9 ist, und dass die Drahtgitter-Polarisationsplatte H2 Beispiel 9 ist.
Wie in 4 gezeigt, war in der Drahtgitter-Polarisationsplatte A2 (Vergleichsbeispiel 6) aufgrund dessen, dass der Abstand P1 groß war, die orthogonale optische Durchlässigkeit hoch, und das Extinktionsverhältnis des durchgelassenen Lichts war gering. In den Drahtgitter-Polarisationsplatten B2 (Vergleichsbeispiel 7), C2 (Vergleichsbeispiel 8), D2 (Beispiel 7) und E2 (Beispiel 8) war der Abstand P1 100 nm und somit gering, jedoch führte die Drahtgitter-Polarisationsplatte B2 (Vergleichsbeispiel 7) zu einer hohen orthogonalen optischen Durchlässigkeit. Dies ist der Fall, da die Höhe des konvexen Abschnitts H bezüglich des Abstands P1 hoch war und die Dicke des leitfähigen Materials (III) der leitfähigen Materialien, ausgebildet durch das geneigte Depositionsverfahren, dadurch dünner als 20 nm war. Eines der Verfahren zum Verdicken der Dicke des leitfähigen Materials (III) ohne Ändern des Abstands P1 und der Höhe des konvexen Abschnitts H ist das Verfahren (Drahtgitter-Polarisationsplatte C2, Vergleichsbeispiel 8) zur Herstellung der Form des konvexen Abschnitts in einer Sinuswellenform und Verdünnen der Dicke in der horizontalen Richtung des im Wesentlichen höchsten Abschnitts des konvexen Abschnitts, wobei eine Reduzierung der optischen Symmetrie auftritt. Zusätzlich wird bevorzugt, dass die Höhe des konvexen Abschnitts 1,3 mal der Abstand P1 oder geringer ist.
Verglichen mit der Drahtgitter-Polarisationsplatte D2 (Beispiel 7), führt die Drahtgitter-Polarisationsplatte E2 (Beispiel 8) zu einer hohen orthogonalen optischen Durchlässigkeit. Dies ist der Fall, da die Höhe des konvexen Abschnitts H gering war und die Höhe der leitfähigen Materialien, die durch das geneigte Depositionsverfahren ausgebildet wurden, daher gering war. Dies ist gleich zu G2 (Vergleichsbeispiel 9) bezüglich der Drahtgitter-Polarisationsplatte H2 (Beispiel 9). Wenn die Höhe des konvexen Abschnitts H verringert wird, ist die optische Symmetrie höher, aber es erfolgt eine hohe orthogonale optische Durchlässigkeit. Es ist möglich, das Problem durch Steuern der Depositionsmenge bei der Deposition zu steuern, jedoch unter Berücksichtigung der Tatsache, dass eine Erhöhung der Depositionsmenge zu einer Reduzierung der Herstellungseffizienz führt und zu einem Faktor hoher Kosten wird, so dass bevorzugt wird, dass die Höhe des konvexen Abschnitts H gleich 0,8 mal der Abstand P1 oder mehr ist.
Extinktionsverhältnis reflektierten Lichts

Der orthogonale Reflektionsgrad und der parallele Reflektionsgrad wurden mit der Spektrophotometer gemessen (hergestellt durch Hitachi High-Technologies Corporation, U-4001), im Fall der Anwendung von Messlicht auf die Strukturoberfläche des leitfähigen Materials von jeder der Drahtgitter-Polarisationsplatten C1 (Vergleichsbeispiel 3), E1 (Beispiel 2) und F1 (Beispiel 3), wobei der Abstand P1 bei 100 nm lag. Die Betriebsrotationsachse des Messprobe-Objekttisches und die Transmissionsachsenrichtung von jeder Drahtgitter-Polarisationsplatte, die der Messung unterliegt, waren parallel und die Betriebsrotationsachse des Messproben-Objekttisches und die Transmissionsachsenrichtung des Polarisators in der Nähe der Lichtquelle der Messvorrichtung waren orthogonal. Der Winkel des Messlichts, das an jeder der Drahtgitter-Polarisationsplatten angewendet wurde, wurde auf einen Einfallswinkel von 45 Grad eingestellt, wobei die senkrechte Richtung der Drahtgitter-Polarisationsplatte als Null Grad angesehen wurde, und der orthogonale Reflektionsgrad und der parallele Reflektionsgrad einer Wellenlänge von 555 nm bei dem Einfallswinkel wurde gemessen. Die Resultate sind in Tabelle 4 gezeigt. Wenn, nach der Messung des Verhältnisses (Extinktionsverhältnis des reflektierten Lichts) des orthogonalen Reflektionsgrads zu dem parallelen Reflektionsgrad berechnet wurde, war der der Drahtgitter-Polarisationsplatte C1 bei 19, der Drahtgitter-Polarisationsplatte E1 bei 101, und der Drahtgitter-Polarisationsplatte F1 bei 51. Tabelle 4

	orthogonaler Reflektionsgrad (%)	paralleler Reflektionsgrad (%)	Extinktionsverhältnis reflektierten Lichts
Drahtgitter-Polarisationsplatte C1 (Vergleichsbeispiel 3)	89,8	4,7	19
Drahtgitter-Polarisationsplatte E1 (Beispiel 2)	90,8	0,9	101
Drahtgitter-Polarisationsplatte F1 (Beispiel 3)	91,2	1,8	51

In den Drahtgitter-Polarisationsplatten E1 und F1 wurde, indem die Höhe des konvexen Abschnitts H auf 1,3 mal den Abstand P1 oder weniger eingestellt wurde, in der Querschnittsansicht, da die Fläche des konvexen Abschnitts, die zwischen benachbarten leitfähigen Materialien belegt ist, ausreichend gering ist, das Extinktionsverhältnis reflektierten Lichts erhöht.
Beispiele 10 bis 12 und Vergleichsbeispiel 10 Optische Eigenschaften vor und nach der Verbindung eines Schutzfilms
Die Oberfläche der Drahtgitter-Polarisationsplatte E1, die die leitfähigen Materialien aufweist, wurde mit einem Schutzfilm 1 oder Schutzfilm 2 verbunden, der ein Acryl-basiertes Klebemittel (engl. adhesive) 1 (Brechungsindex 1,47) aufweist, auf einem PET-Film, wobei es sich um das Basissubstrat handelt, und einem Schutzfilm 3 oder Schutzfilm 4, die ein Silikon-basiertes Klebemittel 1 aufweisen, an einem PET-Film, wobei es sich um das Basissubstrat handelt, und die parallele optische Durchlässigkeit und die orthogonale optische Durchlässigkeit wurden vor und nach der Verbindung des Schutzfilm gemessen. Die Schutzfilme 1 und 2 waren nur in den Schichtdicken des Acryl-basierten Klebemittels 1 verschieden, wobei die Schichtdicke des Schutzfilms 1 2,5 μ, war, und die Schichtdicke des Schutzfilms 2 10 μm war. Die Schutzfilme 3 und 4 unterschieden sich nur in dem Schichtdicken des Silikon-basierten Klebemittels 1, wobei die Schichtdicke des Schutzfilms 3 10 μm war, und die Schichtdicke des Schutzfilms 20 μm war. Darüber hinaus wurde VAP-7070, hergestellt durch die JASCO Corporation, bei der optischen Messung verwendet.
Es wurde angenommen, dass der Fall der Verwendung des Schutzfilms 1 Beispiel 10 ist, der Fall der Verwendung des Schutzfilms 2 Beispiel 11 ist, der Fall der Verwendung des Schutzfilms 3 Beispiel 12 ist, und dass der Fall der Verwendung des Schutzfilms 4 Vergleichsbeispiel 10 ist.
Vor der Verbindung des Schutzfilm wurde die parallele optische Durchlässigkeit Tp1 und die orthogonale optische Durchlässigkeit Tc1 der Drahtgitter-Polarisationsplatte E1 bei einer Wellenlänge von 555 nm gemessen. Anschließend wurde der Schutzfilm verbunden, der verbundene Schutzfilm abgezogen, nachdem dieser bei Zimmertemperatur für 30 Minuten stehen gelassen wurde, und die parallele optische Durchlässigkeit Tp2 und die orthogonale optische Durchlässigkeit Tc2 der Drahtgitter-Polarisationsplatte E1 wurde bei der Wellenlänge von 555 nm gemessen. Aus Tp1, Tp2, Tc1 und Tc2 wurden ΔTp und ΔTc unter Verwendung der folgenden Gleichung (2) berechnet. Wenn ΔTp kleiner ist, bedeutet dies, dass Verringerungen der optischen Eigenschaften der Drahtgitter-Polarisationsplatte aufgrund des Schutzfilms geringer sind.
Gleichung (2)

ΔTp = |Tp1 – Tp2|
ΔTc = |Tc1 – Tc2|

Tabelle 5

	Klebemittel	ΔTp	ΔTc
Schutzfilm 1 (Beispiel 10)	Acryl-basiert	0,32	< 0,001
Schutzfilm 2 (Beispiel 11)	Acryl-basiert	0,39	0,003
Schutzfilm 3 (Beispiel 12)	Acryl-basiert	2,9	0,08
Schutzfilm 4 (Beispiel 10)	Acryl-basiert	8,7	0,096

Wie in Tabelle 5 gezeigt, sind, verglichen mit dem Vergleichsbeispiel 10, Verringerungen der optischen Eigenschaften im Beispiel 12 geringer. Durch Verdünnen der Dicke der Adhäsionsschicht war es möglich, Reduzierungen der Polarisationsseparationseigenschaften, wie zum Beispiel Änderungen in der parallelen optischen Durchlässigkeit und der orthogonalen optischen Durchlässigkeit der Drahtgitter-Polarisationsplatte E1 zu verhindern.
Im Vergleich zwischen Beispiel 10 und Beispiel 11 ist darüber hinaus, im Hinblick der optischen Eigenschaften Beispiel 9 mit der dünnen Klebemittelschichtdicke bevorzugt, es ist jedoch schwer zu sagen, dass eine Adhäsion zwischen der Drahtgitter-Polarisationsplatte E1 und den leitfähigen Materialien gut ist, und die Frequenz der Vermischung von Luft bei der Verbindung wird erhöht. Dies ist der Fall, da eine Adhäsion zwischen der Drahtgitter-Polarisationsplatte und den leitfähigen Materialien exzessiv verringert wird. Folglich wird bevorzugt, dass die Dicke der Klebemittelschicht in einem Bereich von 2 μm bis 10 μm liegt.
Die vorliegende Erfindung ist darüber hinaus nicht auf die oben erwähnten Ausführungsformen beschränkt, und kann in der Praxis mit verschiedenen diesbezüglichen Modifikationen ausgeführt werden. In den oben erwähnten Ausführungsformen sind die Größen, Formen und dergleichen, gezeigt in den begleitenden Zeichnungen, nicht darauf beschränkt, und können geeignet im Umfang der Effekte der Erfindung modifiziert werden. Die Erfindung kann ferner mit diesbezüglichen Modifikationen geeignet ausgeführt werden, ohne vom Umfang der Erfindung abzuweichen.
Industrielle Anwendbarkeit
Gemäß der vorliegenden Erfindung sind die Drahtgitter-Polarisationsplatten in der optischen Symmetrie exzellent, und können bei der Realisierung einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung hoher Bildqualität verwendet werden.
Die vorliegende Anwendung basiert auf der Japanischen Patentanmeldung mit der Nummer 2011-226736 , angemeldet am 14. Oktober 2011. Der gesamte diesbezügliche Inhalt und der gesamte Inhalt der Japanischen Patentschrift mit der Nummer 4147247 , zitiert in der vorliegenden Beschreibung, sind ausdrücklich durch Verweis einbezogen.

Claims

Drahtgitter-Polarisationsplatte, mit: einem Substrat mit einer konkav-konvexen Struktur, die sich in einer besonderen Richtung an einer diesbezüglichen Oberfläche erstreckt; und einem leitfähigen Material, das an einer Seitenoberfläche eines konvexen Abschnitts der konkav-konvexen Struktur verteilt bereitgestellt ist, wobei in einer Querschnittsansicht in einer senkrechten Richtung zu einer Erstreckungsrichtung der konkav-konvexen Struktur ein Abstand P1, wobei es sich um einen Abstand zwischen zwei benachbarten konvexen Abschnitten handelt, 120 nm oder weniger ist, und eine Höhe des konvexen Abschnitts H, wobei es sich um eine Differenz einer Höhe zwischen einem höchsten Abschnitt des konvexen Abschnitts und einem niedrigsten Abschnitt eines konkaven Abschnitts handelt, in einem Bereich von 0,8 mal bis 1,3 mal dem Abstand P1 liegt.
Drahtgitter-Polarisationsplatte nach Anspruch 1, wobei in der Querschnittansicht in der senkrechten Richtung zu der Erweiterungsrichtung der konkav-konvexen Struktur, bezüglich der Höhe des konvexen Abschnitts H, wobei es sich um eine Differenz in der Höhe zwischen dem höchsten Abschnitt des konvexen Abschnitts und dem niedrigsten Abschnitt des konkaven Abschnitts handelt, wenn eine Position von im Wesentlichen 9/10H eine erste Höhenposition ist, und eine Position von im Wesentlichen 1/10H eine zweite Höhenposition ist, eine Breite des konvexen Abschnitts in der ersten Höhenposition in einem Bereich von 0,5 mal bis 1,0 mal die Breite des konvexen Abschnitts in der zweiten Höhenposition ist, und ein Wert einer halben Breite des konvexen Abschnitts der konkav-konvexen Struktur in einem Bereich von 0,05 mal bis 0,5 mal dem Abstand P1 liegt.
Drahtgitter-Polarisationsplatte nach Anspruch 1 oder 2, wobei sich das leitfähige Material von einem im Wesentlichen niedrigsten Abschnitt zu einem höchsten Abschnitt der konkav-konvexen Struktur erstreckt, und zumindest ein Teil des leitfähigen Materials höher als der höchste Abschnitt des konvexen Abschnitts der konkav-konvexen Struktur bereitgestellt ist.
Drahtgitter-Polarisationsplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei in der Querschnittsansicht in der senkrechten Richtung zu der Erstreckungsrichtung der konkav-konvexen Struktur eine Querschnittsform des konvexen Abschnitts der konkav-konvexen Struktur im Wesentlichen eine rechteckige Form ist.
Drahtgitter-Polarisationsplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei das leitfähige Material sich von einem im Wesentlichen niedrigsten Abschnitt zu einem höchsten Abschnitt der konkav-konvexen Struktur erstreckt, und ferner höher als ein oberer Abschnitt des konvexen Abschnitts des Substrats ein Ende aufweist.
Drahtgitter-Polarisationsplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei in der Querschnittsansicht in der senkrechten Richtung zu der Erstreckungsrichtung der konkav-konvexen Struktur eine Höhe von einem höchsten Abschnitt des konvexen Abschnitts zu einem höchsten Abschnitt des leitfähigen Materials 50 nm oder mehr ist.
Drahtgitter-Polarisationsplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei in der Querschnittsansicht in der senkrechten Richtung zu der Erstreckungsrichtung der konkav-konvexen Struktur das leitfähige Material eine Dicke von 20 nm oder mehr zwischen der ersten Höhenposition von im Wesentlichen 9/10H des konvexen Abschnitts und einem im Wesentlichen höchsten Abschnitt des konvexen Abschnitts aufweist.
Drahtgitter-Polarisationsplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei in der Querschnittsansicht in der senkrechten Richtung zu der Erstreckungsrichtung der konkav-konvexen Struktur die Breite in der ersten Höhenposition von im Wesentlichen 9/10H des konvexen Abschnitts 15 nm oder mehr ist.
Drahtgitter-Polarisationsplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei das leitfähige Material durch isotropes Ätzen geätzt ist.
Drahtgitter-Polarisationsplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei die konkav-konvexe Struktur unter Verwendung eines Silizium-basierten Substrats transferiert und angefertigt wird, das eine konkav-konvexe Struktur an einer diesbezüglichen Oberfläche als eine ursprüngliche Platte aufweist.
Drahtgitter-Polarisationsplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 10, ferner mit: einem Schutzfilm zum Schützen des leitfähigen Materials, wobei eine Dicke einer adhäsiven Schicht des Schutzfilms in einem Bereich von 2 μm bis 10 μm liegt.
Drahtgitter-Polarisationsplatte, mit: einem Substrat mit einer konkav-konvexen Struktur, die sich in einer bestimmten Richtung an einer diesbezüglichen Oberfläche erstreckt; und einem leitfähigen Material, das an einer Seitenoberfläche eines konvexen Abschnitts der konkav-konvexen Struktur verteilt bereitgestellt ist, wobei dann, wenn eine senkrechte Richtung der Drahtgitter-Polarisationsplatte auf Null Grad eingestellt ist, eine Differenz in einer parallelen optischen Durchlässigkeit (Tp) zwischen Einfallswinkeln von –45 Grad und +45 Grad von Licht mit einer Wellenlänge von 555 nm gleich 4% oder weniger ist.
Projektionsartige Bildanzeigevorrichtung, mit: der Drahtgitter-Polarisationsplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 12; einer Lichtquelle; und einer reflektionsartigen Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung, wobei Licht, das von der Lichtquelle ausgeht, durch die Drahtgitter-Polarisationsplatte hindurch gelassen oder reflektiert wird, um in die Reflektions-Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung einzutreten, und das durch die Reflektions-Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung modulierte Licht von der Drahtgitter-Polarisationsplatte reflektiert oder hindurch gelassen wird, um ein Bild zu projizieren.