JP5619586B2 - 投影型映像表示機器 - Google Patents
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Description
図1は、投影型映像表示機器である反射型液晶プロジェクターの概念図であり、図1を参照して、本発明の投影型映像表示機器について説明する。
用いる光源に制限は無い。投影型映像表示機器サイズの小型化が可能となるLEDを用いることも可能である。
ワイヤグリッド偏光板22は、格子状凹凸形状を有する基材と導電体で設けることができる。具体的には、上述したように、所定の方向に延在する格子状凸部を具備する基材26と、基材26の格子状凸部の一方の側面に偏在して設けられた導電体25で設けることができる。
基材26の形状は、格子状凸部の延在方向に対して、垂直な面内において、放物線のようになだらかに曲率が変わる略正弦波状とすることが好ましい。ここで、略正弦波状とは、凹部と凸部の繰り返しからなる曲線部を持つことを意味する。なお、曲線部は湾曲した曲線であればよく、例えば、凸部にくびれがある形状も正弦波状に含める。前記樹脂基材の格子状凸部及びその側面の少なくとも一部を誘電体層が覆いやすくする観点から、前記形状の端部又は頂部、谷は緩やかな曲率をもって湾曲していることが好ましい。また、樹脂基材と誘電体層との間の密着強度を高くする観点から、前記断面形状は略正弦波状であることが好ましい。さらに、反射型液晶表示素子23から出光した光の導光路を確保し、光学特性を高めるという視点から、略正弦波状とすることが好ましい。また、基材26は、目的とする波長領域において実質的に透明であればよい。なお、所定の方向に延在するとは、格子状凸部が実質的に延在していればよく、格子状凸部が厳密に平行に延在している必要はない。
導電体25は、基材26の格子状凸部の一方向側の側面に接し、上部が基材26の凸部頂部より上方に伸びるように設けられた構造を有している。導電体25を、格子状凸部の頂部より上方に伸びるよう設けることで、偏光特性が向上し、光の損失を減らすことができる。導電体25は、所定の方向に延在する基材26の格子状凸部と略平行に所定の間隔(周期)をとって直線状に形成されるが、この直線状の導電体25の周期が可視光の波長よりも小さい場合、ワイヤグリッド偏光板は、導電体25に対して平行に振動する偏光成分を反射し、垂直な偏光成分は透過する偏光素子となる。導電体25としては、アルミニウム、銀、銅、白金、金またはこれらの各金属を主成分とする合金を使用することができ、斜めスパッタリング法や斜め蒸着法により形成することができる。特に、アルミニウムもしくは銀を用いて導電体25を形成することにより、可視域光の吸収損失を小さくすることができるため、好ましい。
基材を構成する材料と導電体との密着性向上のため、両者の間に両者と密着性が高い誘電体材料を好適に用いることができる。例えば、二酸化珪素などの珪素(Si)の酸化物、窒化物、ハロゲン化物、炭化物の単体またはその複合物(誘電体単体に他の元素、単体または化合物が混じった誘電体)や、アルミニウム(Al)、クロム(Cr)、イットリウム(Y)、ジルコニア(Zr)、タンタル(Ta)、チタン(Ti)、バリウム(Ba)、インジウム(In)、錫(Sn)、亜鉛(Zn)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、セリウム(Ce)、銅(Cu)などの金属の酸化物、窒化物、ハロゲン化物、炭化物の単体またはそれらの複合物を用いることができる。誘電体材料は、透過偏光性能を得ようとする波長領域において実質的に透明であればよい。誘電体材料の積層方法には特に限定は無く、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの物理的蒸着法を好適に用いることができる。
格子状の凸部構造を有する基材を保持するものとして、基板を用いることができる。基板としては、ガラスなどの無機材料や樹脂材料を用いることができるが、投影型映像表示機器の軽量化や耐衝撃性の向上が可能で、様々な光学部材と組み合わせが容易となる平板状の樹脂材料を用いることが好ましい。基板の厚みは、偏光ビームスプリッターに要求される光学特性を考慮すると、薄い方が好ましい。2mm以下の厚みであることが好ましく、さらに好ましくは1mm以下である。
光学特性の観点から、必要に応じ基材26の凹部の底部に積層する金属を、エッチングにより除去する。エッチング方法は、基材や誘電体層に悪影響を及ぼさず、必要量の金属が除去できる方法であれば特に限定は無いが、生産性や装置コストの観点から酸やアルカリの水溶液に浸漬させる方法が好ましい。
反射型液晶表示素子に特に制限はなく、液晶分子が垂直に配向したもの、強誘電液晶を用いたもの等を用いることができる。
投射レンズとしては、投影型映像表示機器の光学設計に即したレンズであれば、特に限定は無く、樹脂からなるレンズであっても、ガラスからなるレンズであっても問題は無い。
まず、本実施例で用いたワイヤグリッド偏光板の作製方法について以下に説明する。
格子状凹凸形状転写フィルムの作製には、2種類のNi製金型(以下、「金型A」、「金型B」とする。)を用いた。金型Aはピッチ幅140nmの格子状凹凸形状を有し、格子の延在する方向に垂直な断面における凹凸形状が略正弦波状であった。金型Bはピッチ幅140nmの格子状凹凸形状を有し、格子の延在する方向に垂直な断面における凹凸形状が略矩形状であった。基板は、厚み80μmのトリアセチルセルロース系樹脂からなるTACフィルム(TD80UL−H:富士写真フィルム社製)とし、前記TACフィルムの波長550nmにおける面内位相差値は3.2nmで、遅相軸はMD方向と略一致し、表面の屈折率は1.49であった。前記TACフィルムにアクリル系UV硬化性樹脂(屈折率1.52)を約3μm塗布し、塗布面を下に、TACフィルムのMD方向と金型Aまたは金型Bの格子状凹凸形状の延在方向のなす角度が略直交となるよう、TACフィルム上に金型Aまたは金型Bを重畳した。TACフィルム側から中心波長365nmのUVランプを用いて紫外線を1000mJ/cm2照射し、金型Aまたは金型Bの格子状凹凸形状を転写した。TACフィルムを金型から剥離し、縦300mm、横200mmの格子状凹凸形状を転写した。続いて、格子状凹凸形状転写表面に、スパッタリング法により誘電体層として二酸化珪素を成膜した。スパッタリング装置条件は、Arガス圧力0.2Pa、スパッタリングパワー770W/cm2、被覆速度0.1nm/sとし、転写フィルム上の誘電体厚みが平膜換算で3nmとなるように成膜することで、金型Aの格子状凹凸形状が転写された転写フィルムAと金型Bの格子状凹凸形状が転写された転写フィルムBとを得た。
次に転写フィルムAおよび転写フィルムBの格子状凹凸形状転写表面に、真空蒸着によりアルミニウム(Al)を成膜した。Alの蒸着条件は、常温下、真空度2.0×10−3Pa、蒸着速度40nm/sとした。Alの厚みを測定するため、表面が平滑なガラス基板を転写フィルムAまたは転写フィルムBと同時に装置に挿入し、平滑ガラス基板上のAl厚みをAl平均厚みとした。基板のフィルム幅方向(TD方向)と垂直に交わる平面内において、格子状の凹凸形状を有した基材の法線に対して蒸着角を20度とし、Al平均厚みが120nmとなるよう、転写フィルムAおよび転写フィルムBにAlを蒸着した。なお、ここでいう平均厚みとは、平滑ガラス基板上にガラス面に垂直方向から物質を蒸着させたと仮定した時の蒸着物の厚みのことを指し、蒸着量の目安として使用している。
次に不要Alの除去を目的として、Alを蒸着した転写フィルムAおよび転写フィルムBを0.1重量%水酸化ナトリウム水溶液に室温下で60秒間浸漬させた。その後すぐに水洗いし、乾燥させた。これを、それぞれワイヤグリッド偏光板Aおよびワイヤグリッド偏光板Bとする。なお、ワイヤグリッド偏光板Aおよびワイヤグリッド偏光板Bのワイヤグリッド延在方向は、基板のMD方向に対して略直交であった。また、ワイヤグリッド偏光板Aおよびワイヤグリッド偏光板Bの、ワイヤグリッド延在方向と垂直な断面をSEMで確認したところ、ワイヤグリッド延在方向と垂直な断面における基材凸部の一方の側面に導電体が偏在し、導電体の頂部を通り立設方向に沿う導電体軸と、凸部構造の頂部を通り凸部の立設方向に沿う凸部軸が重畳しておらず、基材凸部の頂部より導電体の一部が上方に存在していた。また、ワイヤグリッド偏光板Aの凹凸形状は略正弦波状であり、ワイヤグリッド偏光板Bは略矩形状であった。得られたワイヤグリッド偏光板Aの格子状凹凸形状の延在方向に対する垂直面での断面形状を示すSEM画像を図3に示す。
特定構造を有するワイヤグリッド偏光板に対する比較例として、Moxtek社製ProFluxを用いた。ProFluxのワイヤグリッド延在方向と垂直な断面をSEMで確認したところ、凹凸形状を有した基材は存在しなかった。
変角分光光度計(型番GSP−2、村上色彩技術研究所社製)により、ワイヤグリッド偏光板Aについて、測定波長450nm、550nm、650nmにおける変角平行透過率測定を行った。また、Moxtek社製ProFluxを比較例として、同様の変角平行透過率測定を行った。前記変角分光光度計は、受光部に検光子を備えており、測定サンプル台は、一軸方向に動作する。変角平行透過率測定は、光源と受光部の位置は変化させずに、測定サンプルを載せた測定サンプル台を動作させ、測定サンプルへの入光角度が20度から70度の範囲で変化するようにし、実施した。なお、測定サンプル台の動作回転軸と実施例および比較例の偏光板の透過軸方向は略直交とし、実施例に関しては、ワイヤグリッド延在方向に垂直な切断面における基材凸部の導電体偏在側と逆側から測定光を入光させるようにした。
ΔTP(λ、θ)=(TP(λ、θ)/MaxTp(λ))×100
角度変化率ΔTP(λ、θ)は、入光角度変化に伴う平行透過率の透過特性変化を示し、広範な入光角度範囲における該比率の変動が小さい場合、広範な入光角度で優れた偏光透過特性を示す。
次に、ワイヤグリッド偏光板Aおよびワイヤグリッド偏光板Bを投影形映像表示機器の偏光ビームスプリッターとして用い、ワイヤグリッド偏光板に対する光源及び反射型液晶表示素子との位置関係を変化させた場合の光学特性について測定した。
偏光ビームスプリッターとして、実施例で作製したワイヤグリッド偏光板Aまたはワイヤグリッド偏光板Bを用い、反射型液晶表示素子とLED光源と投射レンズを備えた投影型映像表示機器を作製した。偏光ビームスプリッターであるワイヤグリッド偏光板Aまたはワイヤグリッド偏光板Bは、ワイヤグリッド構造面が光源および反射型液晶表示素子と面するようにし、光源光の入光方向に対して45度に傾斜配置するように配置した。また、反射型液晶表示素子を出光した光が、ワイヤグリッド延在方向に対して垂直に切断した際に観察できる前記偏光ビームスプリッターのワイヤグリッド構造の導電体偏在側と逆側から入光するようにした(図7(A)参照)。
配置例1と同様の光学部材を備え、偏光ビームスプリッターである各ワイヤグリッド偏光板のワイヤグリッド構造面が、光源および反射型液晶表示素子と面するように配置した投影型映像表示機器(反射型液晶プロジェクター)を作製した。ただし、反射型液晶表示素子を出光した光の入光方向に関しては、ワイヤグリッド延在方向に対して垂直に切断した際に観察できる前記偏光ビームスプリッターのワイヤグリッド構造の導電体偏在側から入光するようにした(図7(B)参照)。
配置例1と同様の光学部材を備えた投影型映像表示機器を作製した。ただし、偏光ビームスプリッターである各ワイヤグリッド偏光板のワイヤグリッド構造面が、光源および反射型液晶表示素子と面しないように配置した。反射型液晶表示素子を出光した光の入光方向に関しては、ワイヤグリッド延在方向に対して垂直に切断した際に観察できる前記偏光ビームスプリッターのワイヤグリッド構造の導電体偏在側から前記偏光ビームスプリッターを透過する光が出光するような配置とした(図7(C)参照)。
配置例1と同様の光学部材を備えた投影型映像表示機器を作製した。ただし、偏光ビームスプリッターである各ワイヤグリッド偏光板のワイヤグリッド構造面が、光源および反射型液晶表示素子と面しないように配置した。また、反射型液晶表示素子を出光した光の入光方向に関しては、ワイヤグリッド延在方向に対して垂直に切断した際に観察できる前記偏光ビームスプリッターのワイヤグリッド構造の導電体偏在側と逆側から前記偏光ビームスプリッターを透過する光が出光するような配置とした(図7(D)参照)。
配置例1から配置例4がスクリーン上に表示する映像の輝度を測定した。投影型映像表示機器がスクリーン上に白画面表示するよう、画像表示設定を行い、スクリーンを反射する前記映像の輝度を、コニカミノルタ社製分光放射輝度計CS−2000で測定した。測定箇所は、スクリーン上に表示された映像領域の中心とした。また投影型映像表示機器とスクリーンの位置関係および分光放射輝度計とスクリーンの位置関係は、輝度測定に最適な条件を設定し、配置例1から配置例4の輝度測定中は条件を変更しないようにした。
22 ワイヤグリッド偏光板
23 反射型液晶表示素子
24 投射レンズ
25 導電体
26 基材
31 凸部軸
32 導電体軸
Claims (6)
- 光源と、前記光源から出光した光を反射及び透過することにより偏光分離するワイヤグリッド偏光板と、前記ワイヤグリッド偏光板に反射された反射光を変調して出光する反射型液晶表示素子とを具備し、前記反射型液晶表示素子から出光した光のうち、前記ワイヤグリッド偏光板を透過した光を投影する投影型映像表示機器であって、
前記ワイヤグリッド偏光板は、表面に所定の方向に延在する格子状凸部が設けられた基材と、前記基材の格子状凸部の一方の側面に偏在するように前記所定の方向に延在して設けられた導電体とを有し、
前記導電体が形成された前記基材の表面側が前記光源及び前記反射型液晶表示素子と面し、前記光源から出光した光が前記導電体が形成された前記基材の表面側に入光し、前記反射型液晶表示素子から出光した光が前記導電体が偏在していない前記基材の格子状凸部の他方の側面側へ入光するように前記ワイヤグリッド偏光板が配置されていることを特徴とする投影型映像表示機器。 - 前記格子状凸部の延在方向に垂直な面において、前記基材の格子状凸部の頂部を通り前記格子状凸部の立設方向に沿う凸部軸と、前記導電体の頂部を通り前記立設方向に沿う導電体軸が異なることを特徴とする請求項1に記載の投影型映像表示機器。
- 前記基材の格子状凸部の頂部より前記導電体の少なくとも一部が上方に存在することを特徴とする請求項2に記載の投影型映像表示機器。
- 前記格子状凸部の延在方向に垂直な面において、前記導電体が形成される前記基材の表面が略正弦波状であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の投影型映像表示機器。
- 前記ワイヤグリッド偏光板は、入光角度30度から60度の範囲における平行透過率の角度変化率が90%以上であることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の投影型映像表示機器。
- 前記ワイヤグリッド偏光板への入光角度範囲が、中心角度±10度以上であることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載の投影型映像表示機器。
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