CN105467500A - 线栅偏振片及制作方法、显示装置 - Google Patents

线栅偏振片及制作方法、显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种线栅偏振片及制作方法、显示装置。其中，该线栅偏振片的制作方法包括：在基板的表面上形成多个等间隔设置且相互平行的长方体状的凸起；从预定方向上对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的至少一个大侧面上形成金属层以得到线栅偏振片的线栅，其中，所述大侧面为所述凸起的面积最大的侧面，在同时垂直于所述大侧面和所述基板的平面上，所述预定方向与所述凸起的高度方向之间的夹角为预定角度，所述预定角度小于90度。通过本发明，达到了降低制作成本，且使得制作而成的线栅偏振片可以更大范围地应用于可见光的效果。

Description

线栅偏振片及制作方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种线栅偏振片及制作方法、显示装置。
背景技术
在由金属层构成的线栅偏振片中，金属层呈层状结构一一排列在线栅上。当光线入射至线栅偏振片时，在金属层的表面自由电子的振荡作用下，将与线栅平行振动的电场矢量分量的光线几乎全部反射，而将垂直于线栅的电场矢量分量的光线几乎全部透过。众所周知，相对于传统的采用聚乙烯醇(PVA)薄膜制成的偏振片，这种线栅偏振片可以有效提升光线的利用率。请参考图1，图1是根据现有技术的线栅偏振片的结构示意图，如图1所示，线栅周期为P，线栅宽度为w，线栅高度为h。
目前，通常采用刻蚀工艺制作线栅偏振片上的线栅，但是由于常规刻蚀工艺自身的精度限制，一般只能刻蚀出微米级别的线栅间距，而微米级别的线栅间距只能用于红外波段的偏振使用。因此，为了提高线栅间距的长度级别达到纳米级别，使线栅偏振片能用于可见光波段，科研人员提出了很多优化方法制作线栅偏振片，例如，双干涉激光刻蚀工艺或纳米压印刻蚀工艺。但是，采用这些工艺的制作成本较高，而且，制作出的线栅偏振片的线栅间距仍然较大，导致线栅偏振片应用于可见光波段的范围仍然比较小。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种可以降低制作成本，且可以提高线栅偏振片应用于可见光波段的范围的技术方案。
为了达到上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种线栅偏振片的制作方法，包括：在基板的表面上形成多个等间隔设置且相互平行的长方体状的凸起；从预定方向上对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的至少一个大侧面上形成金属层以得到线栅偏振片的线栅，其中，所述大侧面为所述凸起的面积最大的侧面，在同时垂直于所述大侧面和所述基板的平面上，所述预定方向与所述凸起的高度方向之间的夹角为预定角度，所述预定角度小于90度。
优选地，在基板的表面上形成多个间隔设置且平行的长方体形状的凸起包括：在所述基板的表面上涂覆一树脂层；使用纳米压印模对所述树脂层进行压印，并使所述纳米压印模与所述基板相接触；将所述纳米压印模与所述树脂材料和所述基板分离，得到所述多个凸起。
优选地，所述预定角度θ满足以下条件：tanθ≥d/h，其中，d为所述凸起的间隙，h为所述凸起的高度。
优选地，从预定方向上对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的至少一个大侧面上形成金属层以得到线栅偏振片的线栅，包括：在相对于所述凸起的高度方向逆时针旋转所述预定角度后的第一预定方向上，对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的第一大侧面和顶面形成所述金属层，得到所述线栅偏振片的线栅。
优选地，从预定方向上对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的至少一个大侧面上形成金属层以得到线栅偏振片的线栅，包括：在相对于所述凸起的高度方向顺时针旋转所述预定角度后的第二预定方向上，对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的第二大侧面和顶面形成所述金属层，得到所述线栅偏振片的线栅。
优选地，从预定方向上对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的至少一个大侧面上形成金属层以得到线栅偏振片的线栅，包括：在相对于所述凸起的高度方向逆时针旋转所述预定角度后的第一预定方向上，对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的第一大侧面和顶面形成所述金属层；在相对于所述凸起的高度方向顺时针旋转所述预定角度后的第二预定方向上，对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的第二大侧面和顶面形成所述金属层，得到所述线栅偏振片的线栅。
优选地，从预定方向上对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的至少一个大侧面上形成金属层以得到线栅偏振片的线栅，包括：在相对于所述凸起的高度方向逆时针旋转所述预定角度后的第一预定方向上，对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的第一大侧面和顶面形成所述金属层；在相对于所述凸起的高度方向顺时针旋转所述预定角度后的第二预定方向上，对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的第二大侧面和顶面形成所述金属层；对形成于所述凸起顶面的金属层进行完全刻蚀，得到所述线栅偏振片的线栅。
优选地，形成的所述线栅的间隙与所述凸起的宽度相同，所述线栅的线宽＝所述金属层的厚度＝(所述凸起的间隙-所述凸起的宽度)/2，所述线栅的周期＝所述凸起的间隙/2+所述凸起的宽度/2。
优选地，所述线栅的周期的范围为：大于等于80nm且小于等于150nm。
优选地，所述金属层的材料包括：铝、铜、或铁。
根据本发明的另一个方面，提供了一种线栅偏振片，线栅偏振片采用上述线栅偏振片的制作方法制作而成。
根据本发明的又一个方面，提供了一种显示装置，该显示装置包括上述线栅偏振片。
与现有技术相比，本发明所述的线栅偏振片及制作方法、显示装置，采用纳米压印形成多个树脂凸起，再结合倾斜溅射或倾斜蒸镀工艺在多个树脂凸起的表面形成金属层以最终形成线栅，本发明主要对线栅偏振片的制备工艺进行了优化，降低制作成本，且使得制作而成的线栅偏振片的线栅间距进一步缩小，可以更大范围地应用于可见光。
附图说明
图1是根据现有技术的线栅偏振片的结构示意图；
图2是根据本发明实施例的线栅偏振片的制作方法流程图；
图3是根据本发明实施例的纳米压印工艺示意图；
图4是根据本发明实施例的纳米压印后形成凸起的剖视图
图5A是根据本发明实施例的从凸起右侧进行蒸镀或溅射的示意图；
图5B是根据图5A形成金属层的位置示意图；
图6A是在图5A的基础上从凸起左侧进行蒸镀或溅射的示意图；
图6B是根据图6A形成金属层的位置示意图；
图7A是根据本发明实施例的对从凸起双侧进行蒸镀或溅射形成的顶部金属层进行刻蚀的示意图；以及
图7B是根据图7A形成金属层的位置示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域的普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供了一种线栅偏振片的制作方法。图2是根据本发明实施例的线栅偏振片的制作方法流程图，如图2所示，该流程包括以下步骤(步骤S202-步骤S204)：
步骤S202、在基板的表面上形成多个等间隔设置且相互平行的长方体状的凸起；
步骤S204、从预定方向上对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的至少一个大侧面上形成金属层以得到线栅偏振片(WireGridPolarizer，简称为WGP)的线栅，其中，所述大侧面为所述凸起的面积最大的侧面，在同时垂直于所述大侧面和所述基板的平面上，所述预定方向与所述凸起的高度方向之间的夹角为预定角度，所述预定角度小于90度。
通过上述两个步骤，可以对形成在基板上的凸起进行倾斜蒸镀或倾斜溅射以形成覆盖于凸起部分表面的金属层，最终在基板上形成多个线栅。在传统的双干涉激光刻蚀技术或纳米压印刻蚀等制作线栅工艺中，通常是在长方体状的凸起的全部表面都蒸镀形成金属表面，再将相邻凸起之间的部分金属层刻蚀掉才可以形成光能够通过的线栅，显然，这样的制作工艺程序复杂，耗时较长且制作成本较高。
因此，相较于传统制作工艺，本发明提供的线栅偏振片的制作方法由于简化了制作工艺，能够明显降低制作成本，而且可以进一步缩小线栅偏振片的线栅间距，使得线栅偏振片应用于可见光的范围更大。
在本发明实施例中，上述步骤S202可以采用这样的方式实现：先在所述基板的表面上涂覆一树脂层，再使用纳米压印模对所述树脂层进行压印，并使所述纳米压印模与所述基板相接触，最后，将所述纳米压印模与所述树脂材料和所述基板分离，得到所述多个凸起。
在实际应用中，在对树脂等涂覆材料进行纳米压印时，可以选择的纳米压印膜可以有多种。作为一个优选示例，可以使用SiO2压印模具作为本发明实施例中的纳米压印模，当基板上涂覆完树脂层后，使用SiO2压印模具对树脂层进行压印，将SiO2压印模具压到与基板接触的程度，这样可以使得树脂材料形成的相邻凸起之间不会产生粘连部分，每个凸起是独立的。最后，将SiO2压印模脱离基板。
为了使压印后形成的多个凸起的成型时间变短以节约工艺时间，还可以对多个凸起进行固化。实际应用中，这样的固化工艺也是经常与纳米压印工艺配合使用的，便于提高成型效果。
在多个凸起上形成金属层时，需要使所述预定角度θ满足以下条件：tanθ≥d/h，其中，d为相邻两个所述凸起的间隙，h为所述凸起的高度。满足这个条件的好处在于，在蒸镀或溅射过程中，不会在相邻两个凸起之间的基板区域上形成金属层，从而避免为了让光线通过从相邻凸起的间隙中需要将该形成的金属成刻蚀掉，从而可以降低工艺成本。
在上述步骤S202的具体实现方式的基础上，可以得到树脂形成的多个凸起，接下来只需在多个凸起上形成金属层即可形成线栅偏振片的线栅。因此，以下对如何在凸起上形成金属层以最终形成线栅偏振片的方式(即步骤S204的实现方式)进行介绍：
方式一、在相对于所述凸起的高度方向逆时针旋转所述预定角度后的第一预定方向上，对所述凸起进行蒸镀或溅射，再在所述凸起的第一大侧面和顶面形成所述金属层，得到所述线栅偏振片的线栅。
采用此方式一进行蒸镀或溅射时，可以将基板平放，同时将设置有凸起的一面朝下，使用蒸镀装置或溅射装置在朝向凸起且倾斜所述预定角度进行蒸镀或溅射，最终在凸起的第一大侧面和顶面形成金属层，由于所述预定角度是逆时针旋转得到的，因此，这里相当于从凸起的第一大侧面的右侧方向进行蒸镀或溅射工艺。
在实际应用中，在进行蒸镀或溅射时，也可以将基板倾斜所述预定角度，并将设置有凸起的一面朝下，而蒸镀装置或溅射装置只需要朝向凸起且沿着竖直方向进行蒸镀即可。当然，由于基板倾斜，所以有的凸起距离蒸镀装置或溅射装置较近而有些距离较远，可能导致蒸镀或溅射得到的金属层厚度不均。因此，为了蒸镀或溅射效果较好，可以优选基板平放的方式。
方式二、在相对于所述凸起的高度方向顺时针旋转所述预定角度后的第二预定方向上，对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的第二大侧面和顶面形成所述金属层，得到所述线栅偏振片的线栅。
采用此方式二进行蒸镀或溅射时，可以将基板平放，同时将设置有凸起的一面朝下，使用蒸镀装置或溅射装置在朝向凸起且倾斜所述预定角度进行蒸镀或溅射，最终在凸起的第二大侧面和顶面形成金属层，由于所述预定角度是顺时针旋转得到的，因此，这里相当于从凸起的第二大侧面的左侧侧方向进行蒸镀或溅射工艺。
在实际应用中，在进行蒸镀或溅射时，也可以将基板倾斜所述预定角度，并将设置有凸起的一面朝下，而蒸镀装置或溅射装置只需要朝向凸起且沿着竖直方向进行蒸镀即可。当然，由于基板倾斜，所以有的凸起距离蒸镀装置或溅射装置较近而有些距离较远，可能导致蒸镀或溅射得到的金属层厚度不均。因此，为了蒸镀或溅射效果较好，可以优选基板平放的方式。
方式三、在相对于所述凸起的高度方向逆时针旋转所述预定角度后的第一预定方向上，对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的第一大侧面和顶面形成所述金属层；在相对于所述凸起的高度方向顺时针旋转所述预定角度后的第二预定方向上，对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的第二大侧面和顶面形成所述金属层。
采用此方式三，需要分两步进行蒸镀或溅射，首先可以将基板平放，同时将设置有凸起的一面朝下，此时第一步可以将蒸镀装置或溅射装置从朝向凸起且逆时针倾斜所述预定角度后的方向对凸起的第一大侧面和顶面进行蒸镀或溅射从而形成金属层，第二步再将将蒸镀装置或溅射装置从朝向凸起且顺时针倾斜所述预定角度后的方向对凸起的第二大侧面和顶面进行蒸镀或溅射。也就相当于说，先从第一大侧面的右侧对第一大侧面和顶面进行蒸镀或溅射，再从第二大侧面的左侧对第一大侧面和顶面进行蒸镀或溅射，最后在第一大侧面、第二大侧面和顶面均形成有金属层。
方式四、在相对于所述凸起的高度方向逆时针旋转所述预定角度后的第一预定方向上，对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的第一大侧面和顶面形成所述金属层；在相对于所述凸起的高度方向顺时针旋转所述预定角度后的第二预定方向上，对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的第二大侧面和顶面形成所述金属层；对形成于所述凸起顶面的金属层进行完全刻蚀，得到所述线栅偏振片的线栅。
可以看出，该方式四在方式三的基础上进行了优化，这是为了进一步增加线栅偏振片的透光率，在方式四中，是将凸起顶面的金属层的全部都刻蚀掉了，当然，在实际应用中，还可以将顶面形成的金属层刻蚀掉一部分。
也就是说，由于将形成在每个凸起顶面的金属层完全刻蚀掉，则剩余在每个凸起两侧面的金属层则形成了两个独立的线栅，这样一来，光线既可以通过两个线栅之间的间隙(即空气部分)，也可以通过两个线栅之间的凸起(因为凸起是由树脂这一透明材料形成)。
作为一个较佳的示例，本发明实施例中，形成的所述线栅的间隙与所述凸起的宽度相同，所述线栅的线宽＝所述金属层的厚度＝(所述凸起的间隙-所述凸起的宽度)/2，所述线栅的周期＝所述凸起的间隙/2+所述凸起的宽度/2。
在本发明实施例中，所述金属层的材料可以包括：铝、铜、或铁。作为一个较佳示例，所述金属层的材料可以优先选择铝材料来成型。
作为一个较佳示例，本发明实施例中将最终形成的所述线栅的周期的范围设定为：大于等于80nm且小于等于150nm。这样得到的线栅间距将更小，以扩大线栅偏振片应用于可见光的范围。
为便于理解上述步骤S202结合步骤S204的四个方式的实现方案，以下结合三个示例进行进一步描述。
示例一、
该示例对应于步骤S202结合步骤S204的方式一和方式二的实现方案进行说明。该示例通过以下几个步骤实现：
(1)如图3所示(图3是根据本发明实施例的纳米压印工艺示意图)，在基板上涂有一定厚度的树脂，利用纳米压印模具(例如，SiO2压印模具)进行纳米压印并固化，形成如图4所示的纳米压印图案(图4是根据本发明实施例的纳米压印后形成凸起的剖视图)；
(2)对图4所示的纳米压印图案进行倾斜一定角度θ(即所述预定角度)的蒸镀或溅射工艺，蒸镀或溅射工艺用到的金属材质优选为Al材质；
(3)对纳米压印图案中的凸起进行单边倾斜蒸镀或溅射(即为方式一，而方式二为方式一的对称变形)。
为便于理解，请参考图5A和图5B，图5A是根据本发明实施例的从凸起右侧进行蒸镀或溅射的示意图，图5B是根据图5A形成金属层的位置示意图，也就是说，图5A和图5B示出了方式一(从凸起右侧进行蒸镀或溅射的方式)的实现过程，最终在凸起的右侧面(即上述第一大侧面)和顶面形成金属层，同样道理，从凸起左侧进行蒸镀或溅射也即为方式二的实现过程，最终在凸起的左侧面(即上述第二大侧面)和顶面形成金属层，采用这样的单边蒸镀或单边溅射方式，可以节省一个Mask工艺，从而简化线栅偏振片的制作工艺，降低制作成本。
在该示例一中，假设纳米压印后得到的凸起高度为h凸，凸起周期为P凸，凸起空隙为d凸，凸起的宽度为w凸，金属层的厚度为t，进行蒸镀或溅射的倾斜角度为θ，则需满足tanθ≥d凸/h凸，此时，如图5B所示，最终形成的线栅偏振片的线栅周期为P栅＝w凸+d凸，线栅的线宽为w凸+t，线栅的间隙为d凸-t。采用这种方式，在光栅周期不变情况下，光栅线宽加宽，光栅间隙变小，从而可以提高线栅偏振片在可见光的应用范围。在实际应用中，最终形成的线栅的线栅周期P栅可以设定60nm到100nm之间。
示例二、
该示例二在示例一的基础上做双侧向蒸镀或双向溅射。该示例二对应于步骤S202结合步骤S204的方式三的实现方案进行说明。该示例通过以下几个步骤实现：
(1)如图3所示(图3是根据本发明实施例的纳米压印工艺示意图)，在基板上涂有一定厚度的树脂，利用纳米压印模具(例如，SiO2压印模具)进行纳米压印并固化，形成如图4所示的纳米压印图案(图4是根据本发明实施例的纳米压印后形成凸起的剖视图)；
(2)对图4所示的纳米压印图案进行倾斜一定角度θ(即所述预定角度)的蒸镀或溅射工艺，蒸镀或溅射工艺用到的金属材质优选为Al材质；
(3)对纳米压印图案中的凸起进行双边倾斜蒸镀或溅射(相当于方式三)，为便于理解，请参考图6A和图6B(图6A是在图5A的基础上从凸起左侧进行蒸镀或溅射的示意图，图6B是根据图6A形成金属层的位置示意图)，即，先在凸起右侧对凸起的右侧面和顶面进行倾斜一定角度θ的蒸镀或溅射，将金属材质(例如Al)形成在凸起的右侧面(即上述第一大侧面)和顶面上，然后再在对称的左侧倾斜相同的角度θ进行蒸镀或溅射，将金属材质(例如Al)形成在凸起的左侧面(即上述第二大侧面)和顶面上，采用这样的双边蒸镀或双边溅射方式，由于无需对顶面金属层进行刻蚀工艺，因此可以节省一个Mask工艺，从而简化线栅偏振片的制作工艺，降低制作成本。
在该示例二中，该线栅偏振片的线栅周期为P栅＝w凸+d凸，线栅的线宽为(w凸+2t),光栅的间隙为(d凸-2t)。在实际应用中，最终形成的线栅的线栅周期P栅可以设定60nm到100nm之间。
示例三、
该示例三是在示例二的基础上，对形成在凸起顶面的金属层进行刻蚀，最终得到线栅偏振片。
在示例二的所有步骤执行完毕后，再执行以下步骤即可：
如图7A(图7A是根据本发明实施例的对从凸起双侧进行蒸镀或溅射形成的顶部金属层进行刻蚀的示意图)所示，对已有图案进行曝光刻蚀，去掉顶部的金属部分，保留侧边的金属，形成如图7B(图7B是根据图7A形成金属层的位置示意图)所示的线栅图案。当然，可以刻蚀掉顶部的部分金属层，也可以刻蚀掉顶部的全部金属层。
需要注意的是，如果选择刻蚀掉顶部的全部金属层，为保证刻蚀效果，可适当进行过刻，这样一来，侧边壁(即两个大侧面)上的金属层的高度略有降低。该示例三，可实现更小的光栅周期及更细的线栅宽度，但需要满足以下参数条件：
P栅1＝P栅2，P栅1＝w凸+t，P栅2＝d凸-t，纳米压印后的母光栅(即所述凸起)的周期P凸＝w凸+d凸，根据这些参数关系，可得：t＝(d凸-w凸)/2，P栅1＝P栅2＝(d凸+w凸)/2＝P凸/2。
例如，未形成金属层前，凸起的周期P凸为200nm，凸起的宽度w凸为80nm,凸起的间隙d凸为120nm，则需倾斜蒸镀或溅射金属的厚度t＝(d凸-w凸)/2＝20nm，周期P栅1＝P栅2＝P凸/2＝100nm，当然，进行蒸镀或溅射的角度为θ，也需要满足tanθ≥d凸/h凸这一条件。也就是说，采用示例三，可以在相同的工艺制备条件下，将线栅周期减小一半，线栅宽度也可显著减小。
对应于上述线栅偏振片的制作方法，本发明实施例还一种线栅偏振片，该线栅偏振片的改进在于采用上述线栅偏振片的制作方法制作而成，在此不再结合附图进行说明。
进一步地，在该采用改进的制作工艺制作而成的线栅偏振片的基础上，本发明实施例又提供了一种显示装置，该显示装置的改进之处在于包括上述改进的线栅偏振片，在此不再结合附图进行说明。
综上所述，本发明实施例通过纳米压印结合倾斜蒸镀或溅射工艺对现有线栅偏振片的制作工艺进行优化，相对现有工艺而言，进一步缩小线栅偏振片的线栅周期及线栅间距，从而降低制作工艺的成本，提高线栅在可见光范围的偏振度。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为包含在本发明的保护范围之内。

Claims (12)

1.一种线栅偏振片的制作方法，其特征在于，包括：
在基板的表面上形成多个等间隔设置且相互平行的长方体状的凸起；
从预定方向上对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的至少一个大侧面上形成金属层以得到线栅偏振片的线栅，其中，所述大侧面为所述凸起的面积最大的侧面，在同时垂直于所述大侧面和所述基板的平面上，所述预定方向与所述凸起的高度方向之间的夹角为预定角度，所述预定角度小于90度。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在基板的表面上形成多个间隔设置且平行的长方体形状的凸起包括：
在所述基板的表面上涂覆一树脂层；
使用纳米压印模对所述树脂层进行压印，并使所述纳米压印模与所述基板相接触；
将所述纳米压印模与所述树脂材料和所述基板分离，得到所述多个凸起。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述预定角度θ满足以下条件：
tanθ≥d/h，其中，d为所述凸起的间隙，h为所述凸起的高度。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，从预定方向上对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的至少一个大侧面上形成金属层以得到线栅偏振片的线栅，包括：
在相对于所述凸起的高度方向逆时针旋转所述预定角度后的第一预定方向上，对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的第一大侧面和顶面形成所述金属层，得到所述线栅偏振片的线栅。
5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，从预定方向上对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的至少一个大侧面上形成金属层以得到线栅偏振片的线栅，包括：
在相对于所述凸起的高度方向顺时针旋转所述预定角度后的第二预定方向上，对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的第二大侧面和顶面形成所述金属层，得到所述线栅偏振片的线栅。
6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，从预定方向上对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的至少一个大侧面上形成金属层以得到线栅偏振片的线栅，包括：
在相对于所述凸起的高度方向逆时针旋转所述预定角度后的第一预定方向上，对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的第一大侧面和顶面形成所述金属层；
在相对于所述凸起的高度方向顺时针旋转所述预定角度后的第二预定方向上，对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的第二大侧面和顶面形成所述金属层，得到所述线栅偏振片的线栅。
7.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，从预定方向上对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的至少一个大侧面上形成金属层以得到线栅偏振片的线栅，包括：
在相对于所述凸起的高度方向逆时针旋转所述预定角度后的第一预定方向上，对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的第一大侧面和顶面形成所述金属层；
在相对于所述凸起的高度方向顺时针旋转所述预定角度后的第二预定方向上，对所述凸起进行蒸镀或溅射，在所述凸起的第二大侧面和顶面形成所述金属层；
对形成于所述凸起顶面的金属层进行完全刻蚀，得到所述线栅偏振片的线栅。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，形成的所述线栅的间隙与所述凸起的宽度相同；所述线栅的线宽＝所述金属层的厚度＝(所述凸起的间隙-所述凸起的宽度)/2；所述线栅的周期＝所述凸起的间隙/2+所述凸起的宽度/2。
9.根据权利要求4至8中任一项所述的方法，其特征在于，所述线栅的周期的范围为：大于等于80nm且小于等于150nm。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述金属层的材料包括：铝、铜、或铁。
11.一种线栅偏振片，其特征在于，采用权利要求1至10中任一项所述的制作方法制作而成。
12.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求11所述的线栅偏振片。
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