DE10136285A1 - Integrierte Halbleiterschaltungsvorrichtung und Verfahren zum Anbringen von Schaltungsblöcken in der integrierten Halbleiterschaltungsvorrichtung - Google Patents
Integrierte Halbleiterschaltungsvorrichtung und Verfahren zum Anbringen von Schaltungsblöcken in der integrierten HalbleiterschaltungsvorrichtungInfo
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Abstract
In einer Mehrzahl vorkommende Überbrückungskondensatoren (7, 8, 9) sind in einer Mehrzahl vorkommenden Schaltungsblöcken (4, 5, 6) zugeordnet, welche in einem Mikrocomputer (1) enthalten sind. Jeder Überbrückungskondensator ist zwischen einem Spannungseingangsanschluss (4V, 5V, 6V) eines entsprechenden Schaltungsblocks und einer Masseleitung (3) angeordnet. Die Schaltungsblöcke (4, 5, 6) sind bezüglich eines Spannungsversorgungsanschlusses (Vdd) in der Reihenfolge des Rauschpegels an den Spannungseingangsanschlüssen (4V, 5V, 6V) der jeweiligen Schaltungsblöcke derart gruppiert, dass ein Schaltungsblock (4), welcher einen kleineren Rauschpegel besitzt, nahe dem Spannungsversorgungsanschluss (Vdd) lokalisiert ist, während ein Schaltungsblock (6), welcher einen größeren Rauschpegel besitzt, entfernt von dem Spannungsversorgungsanschluss (Vdd) lokalisiert ist.
Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine inte
grierte Halbleiterschaltungsvorrichtung, welche ein Halb
leitersubstrat und eine Mehrzahl von Schaltungsblöcken auf
weist, die jeweils auf diesem Substrat vorgesehen sind und
einem Engergie- bzw. Spannungseingangsanschluss zum Empfan
gen von elektrischer Energie besitzen, die an einem Ener
gie- bzw. Spannungsversorgungsanschluss zugeführt wird. Des
weiteren bezieht sich die vorliegende Erfindung auf ein
Verfahren zum Anbringen von Schaltungsblöcken in dieser in
tegrierten Halbleiterschaltungsvorrichtung.
Ein Einchipmikrocomputer, welcher als integrierte Halb
leiterschaltungsvorrichtung dient, enthält eine Mehrzahl
von Schaltungsblöcken wie eine CPU, ein ROM, ein RAM und
A/D-Wandler. Beispielsweise enthält die CPU (d. h. die Zen
tralverarbeitungseinheit) zahlreiche Transistoren, welche
jeweils eine Schaltoperation im Ansprechen auf ein Taktsi
gnal wiederholen. Dementsprechend wird die CPU einem erhöh
ten Betrag eines Einstreuungs- bzw. Durchgriffsstroms
(feedthrough current) unterworfen.
Des weiteren enthalten der ROM (d. h. der Festwertspei
cher) und der RAM (d. h. der Speicher mit Direktzugriff) ei
ne Vielzahl von Transistoren, welche als Decoderpuffer die
nen, die ebenfalls die Schaltoperation wiederholen. Dement
sprechend sind der ROM und der RAM einem erhöhten Betrag
eines Einstreuungsstroms unterworfen.
Der auf diese Weise im Ansprechen auf Taktsignale her
vorgerufene Einstreuungsstrom induziert eine Fluktuation
eines elektrischen Potentials, was als "Spannungssprung"
("bounce") bezeichnet wird, an einem Spannungsversorgungs
anschluss oder einem Masseanschluss. Der erzeugte Span
nungssprung wird zu einem Energie- bzw. Spannungsrauschen,
welches sich zu einem externen Gerät über einen Spannungs
versorgungsanschluss eines Mikrocomputers fortpflanzt oder
dahin übertragen wird. Als Ergebnis erzeugt eine gedruckte
Struktur einer Energie- bzw. Spannungsversorgungsverdrah
tung auf einer gedruckten Schaltungsplatte ein unerwünsch
tes Strahlungsrauschen, welches sich aus dem Spannungsrau
schen des Mikrocomputers ergibt.
Da der Einstreuungsstrom pulsiert, breitet sich das un
erwünschte Strahlungsrauschen in einem weiten Frequenzbe
reich aus. Beispielsweise wird auf einer gedruckten Schal
tungsplatte das Strahlungsrauschen umfassend in einem Fre
quenzbereich von mehreren 10 MHz bis zu mehreren 100 MHz
erzeugt. Um ein derartiges von einer gedruckten Schaltungs
platte hervorgerufenes Rauschen aufzuheben, besteht ein
herkömmlich bekanntes Verfahren darin einen externen Über
brückungskondensator vorzusehen, welcher mit einem Energie-
bzw. Spannungsquellenanschluss eines Mikrocomputers verbun
den ist. Jedoch wird infolge der in einzelnen Kondensatoren
innewohnenden parasitären Induktivität die Impedanz des
Überbrückungskondensators groß, wenn das erzeugte Rauschen
eine höhere Frequenz aufweist. Somit ist ein einfaches sich
Verlassen auf einen externen Überbrückungskondensator, wel
cher mit dem Spannungsquellenanschluss eines Mikrocomputers
verbunden ist, nicht zum Unterdrücken von Hochfrequenz
rauschen wirksam.
Im Hinblick auf die oben beschriebenen Schwierigkeiten
bei dem Stand der Technik ist es Aufgabe der vorliegenden
Erfindung eine integrierte Halbleiterschaltungsvorrichtung
bereitzustellen, welche zum Unterdrücken von Spannungsquel
lenrauschen in einem breiten Frequenzbereich, insbesondere
bei höheren Frequenzen geeignet ist. Des weiteren ist es
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ein Verfahren zum An
bringen von Schaltungsblöcken in der integrierten Halblei
terschaltungsvorrichtung bereitzustellen.
Zur Lösung der obigen und anderer verwandter Aufgaben
stellt die vorliegende Erfindung eine integrierte Halblei
terschaltungsvorrichtung bereit, welche ein Halbleiter
substrat aufweist, auf welchem eine Mehrzahl von Schal
tungsblöcken angebracht ist, denen elektrische Energie bzw.
eine elektrische Spannung an einem Energie- bzw. Spannungs
versorgungsanschluss zugeführt wird. Jeder der in der Mehr
zahl vorkommenden Schaltungsblöcke besitzt einen Spannungs
eingangsanschluss und einen Masseanschluss. Eine Mehrzahl
von Überbrückungskondensatoren ist für die Mehrzahl der
Schaltungsblöcke vorgesehen, wobei jeder Überbrückungskon
densator zwischen dem Spannungseingangsanschluss und dem
Masseanschluss eines entsprechenden Schaltungsblocks ange
ordnet ist. Bei der ersten integrierten Halbleiterschal
tungsvorrichtung ist die Reihenfolge der Mehrzahl von
Schaltungsblöcken, welche bezüglich des Spannungsversor
gungsanschlusses in einer Gruppe angeordnet sind, abhängig
von dem Rauschpegel an den Spannungseingangsanschlüssen der
jeweiligen Schaltungsblöcke, so dass ein Schaltungsblock
mit einem geringeren Rauschpegel nahe dem Spannungsversor
gungsanschluss lokalisiert ist, während ein Schaltungs
block, welcher einen höheren Rauschpegel besitzt, von dem
Spannungsversorgungsanschluss weit entfernt lokalisiert
ist.
Beispielsweise dient ein Mikrocomputer als integrierte
Halbleiterschaltungsvorrichtung, die auf einer gedruckten
Schaltungsplatte angebracht ist. Wie bei einer herkömmli
chen Technik ermöglicht es ein Hinzufügen eines externen
Überbrückungskondensators zu dem Spannungsversorgungsan
schluss eines Mikrocomputers das Ausbreiten des Spannungs
rauschens entlang einer Spannungsverdrahtungsstruktur auf
der gedruckten Schaltungsplatte zu verringern, wenn ein
derartiges Rauschen im Ansprechen auf eine Operation des
Mikrocomputers erzeugt wird.
Jedoch enthält eine wirklich äquivalente Schaltung des
an einem Mikrocomputer befestigten externen Überbrückungs
kondensators nicht nur eine Kapazitätskomponente, sondern
ebenfalls eine Induktivitätskomponente ebenso wie eine wi
derstandskomponente. Aus diesen Komponenten wird die Induk
tivitätskomponente in einem Hochfrequenzgebiet dominant und
erhöht die Impedanz. Als Ergebnis ist es bei einem sich
Verlassen lediglich auf den externen Überbrückungskondensa
tor nicht effektiv das Spannungsrauschen des Mikrocomputers
hinreichend zu absorbieren.
Daher werden bei der vorliegenden Erfindung interne
Überbrückungskondensatoren in einer integrierten Halblei
terschaltung derart bereitgestellt, dass ein unabhängiger
Überbrückungskondensator zwischen einem Spannungseingangs
anschluss und einem Masseanschluss jedes Schaltungsblocks
in der integrierten Halbleiterschaltung angeordnet ist.
Dies ist wirksam die Induktivitätskomponente derart zu ver
ringern, dass das Erhöhen der Impedanz in dem Hochfrequenz
gebiet wirksam unterdrückt werden kann. Als Ergebnis kann
das Spannungsrauschen in den jeweiligen Schaltungsblöcken
hinreichend absorbiert werden. Da die Kapazität jedes Über
brückungskondensators entsprechend der Betriebsbedingung
jedes Schaltungsblocks optimiert werden kann, kann eine Ab
sorption des Spannungsrauschens wirksam durchgeführt wer
den.
Des weiteren sind bei der vorliegenden Erfindung in der
Mehrzahl vorkommende Schaltungsblöcke bezüglich des Span
nungsversorgungsanschlusses in der Reihenfolge des Rausch
pegels an den einzelnen Spannungseingangsanschlüssen in ei
ner Gruppe derart angeordnet, dass ein Schaltungsblock,
welcher einen geringen Rauschpegel besitzt, nahe dem Span
nungsversorgungsanschluss lokalisiert ist, während ein
Schaltungsblock, welcher einen höheren Rauschpegel besitzt,
weit entfernt von dem Spannungsversorgungsanschluss lokali
siert ist. Entsprechend diesem Layout besitzt der Schal
tungsblock, welcher den größten Rauschpegel besitzt, die
größte Verdrahtungsimpedanz von dem Spannungsversorgungsan
schluss aus beobachtet oder gemessen.
Wenn beispielsweise LC eine Induktivitätskomponente ei
nes Überbrückungskondensators darstellt, der zwischen einem
Spannungseingangsanschluss und einem Masseanschluss eines
Schaltungsblocks angeordnet ist, und LP eine Induktivität
einer Verdrahtungsimpedanz darstellt, welche zwischen zwei
Spannungseingangsanschlüssen von zwei Schaltungsblöcken
vorhanden ist, ergibt sich die Beziehung LP<<LC. Dadurch
wird es dem erzeugten Rauschen bei einer Erzeugung an einem
Spannungseingangsanschluss ermöglicht über einen Zirkulati
onspfad einschließlich des Überbrückungskondensators zu
zirkulieren und sich in diesem Schaltungsblock abzuschwä
chen. Als Ergebnis kann eine Fortpflanzung des Rauschens zu
einem benachbarten Schaltungsblock oder zu dem Spannungs
versorgungsanschluss der integrierten Halbleiterschaltung
wirksam verhindert werden.
In dem Schaltungsblock, welcher am entferntesten von
dem Spannungsversorgungsanschluss der integrierten Halblei
terschaltung lokalisiert ist, kann die Verdrahtungsimpedanz
nicht hinreichend sein das Spannungsrauschen zu hemmen, und
dementsprechend kann sich ein Teil des Spannungsrauschens
in einen benachbarten Schaltungsblock fortpflanzen. Jedoch
kann in diesem Fall das sich verbreitete Spannungsrauschen
durch eine Verdrahtungsimpedanz des benachbarten Schal
tungsblock gehemmt werden. Das Spannungsrauschen zirkuliert
in einem Zirkulationspfad einschließlich eines Über
brückungskondensators und schwächt sich in diesem benach
barten Schaltungsblock ab. Somit kann ein weiteres Ausbrei
ten des Rauschens auf den Spannungsversorgungsanschluss zu
sicher verhindert werden.
Dementsprechend kann durch ein Lokalisieren einer Mehr
zahl von Schaltungsblöcken auf diese Weise die durch den
Überbrückungskondensator veranlasste Zirkulationsabschwä
chung des Spannungsrauschens verbessert werden. Somit er
möglicht die vorliegende Erfindung ein wirksames Unterdrüc
ken von Hochfrequenzkomponenten des Spannungsrauschens und
verhindert, dass das Spannungsrauschen sich über den Span
nungsversorgungsanschluss außerhalb der integrierten Halb
leiterschaltungsanordnung fortpflanzt. Somit kann ein
Strahlungsrauschen der gedruckten Schaltungsplatte verrin
gert werden.
Das Lokalisieren des Schaltungsblocks des höheren
Rauschpegels entfernt von dem Spannungsversorgungsanschluss
(oder dem Masseanschluss) in der integrierten Halbleiter
schaltungsanordnung ermöglicht eine Verringerung einer Ele
mentefläche eines benötigten Überbrückungskondensators.
Wenn dieser Schaltungsblock benachbart zu der Kontaktstelle
des Spannungsversorgungsanschlusses (oder Masseanschlusses)
lokalisiert ist, wird es notwendig eine hinreichend große
Kondensatorfläche zum Hemmen des Hochfrequenzrauschens vor
zusehen. Es muss nämlich die Impedanz eines Überbrückungs
kondensators entsprechend der Verringerung der Drahtimpe
danz verringert werden. Das Bereitstellen einer großen Kon
densatorfläche wird zu einem Erhöhen einer Chipfläche füh
ren, und dementsprechend wird die Verringerung der Größe
einer integrierten Halbleiterschaltungsvorrichtung nicht
realisiert.
Des weiteren stellt die vorliegende Erfindung eine
zweite integrierte Halbleiterschaltungsvorrichtung bereit,
welche sich von der ersten integrierten Halbleiterschaltung
dahingehend unterscheidet, dass die Reihenfolge einer Mehr
zahl von Schaltungsblöcken, die bezüglich des Spannungsver
sorgungsanschlusses in einer Gruppe angeordnet sind, von
der Anzahl von Schaltungselementen abhängig ist, die in je
weiligen Schaltungsblöcken vorgesehen sind, so dass ein
Schaltungsblock mit einer kleineren Anzahl von Schaltungs
elementen nahe dem Spannungsversorgungsanschluss lokali
siert ist, während ein Schaltungsblock mit einer größeren
Anzahl von Schaltungselementen von dem Spannungversorgungs
anschluss entfernt lokalisiert ist.
Die zweite integrierte Halbleiterschaltung besitzt die
selben Funktionen und liefert dieselben Wirkungen wie jene
der ersten integrierten Halbleiterschaltung.
Des weiteren stellt die vorliegende Erfindung eine
dritte integrierte Halbleiterschaltungsvorrichtung bereit,
welche sich von der ersten integrierten Halbleiterschaltung
dahingehend unterscheidet, dass die Reihenfolge einer Mehr
zahl von Schaltungsblöcken, die bezüglich des Spannungsver
sorgungsanschlusses in einer Gruppe angeordnet sind, von
der Frequenz bzw. Häufigkeit des Zugriffs auf jeweilige
Schaltungsblöcke abhängt, so dass ein Schaltungsblock mit
einer kleineren Frequenz bzw. Häufigkeit des Zugriffs nahe
dem Spannungsversorgungsanschluss lokalisiert ist, während
ein Schaltungsblock mit einer größeren Frequenz bzw. Häu
figkeit des Zugriffs entfernt von dem Spannungsversorgungs
anschluss lokalisiert ist.
Die dritte integrierte Halbleiterschaltung besitzt die
selben Funktionen und liefert dieselben Wirkungen wie jene
der ersten integrierten Halbleiterschaltung.
Darüber hinaus stellt die vorliegende Erfindung ein er
stes Verfahren zum Anbringen einer Mehrzahl von Schaltungs
blöcken auf einem Halbleitersubstrat bereit, wobei jeder
der Schaltungsblöcke einen einzelnen Spannungseingangsan
schluss besitzt, welcher die von einem Spannungsversor
gungsanschluss zugeführte elektrische Spannung bzw. Energie
empfängt, und die Mehrzahl von Schaltungsblöcken einer
Mehrzahl von Überbrückungskondensatoren zugeordnet ist, wo
bei jeder Überbrückungskondensator zwischen dem Spannungs
eingangsanschluss und einem Masseanschluss eines entspre
chenden Schaltungsblocks angeordnet ist. Das erste Anbrin
gungsverfahren umfasst einen Schritt des Anordnens der
Mehrzahl von Schaltungsblöcken bezüglich des Spannungsver
sorgungsanschlusses in einer Gruppe in der Reihenfolge des
Rauschpegels an dem einzelnen Spannungseingangsanschluss,
so dass ein Schaltungsblock mit einem geringeren Rauschpe
gel nahe dem Spannungsversorgungsanschluss lokalisiert ist,
während ein Schaltungsblock mit einem höheren Rauschpegel
entfernt von dem Spannungsanschluss lokalisiert ist.
Des weiteren stellt die vorliegende Erfindung ein zwei
tes Anbringungsverfahren bereit, welches sich von dem er
sten Anbringungsverfahren dahingehend unterscheidet, dass
eine Mehrzahl von Schaltungsblöcken bezüglich des Span
nungsversorgungsanschlussses in der Reihenfolge der Anzahl
von Schaltelementen, die in jeweiligen Schaltungsblöcken
vorgesehen sind, in einer Gruppe angeordnet wird, so dass
ein Schaltungsblock mit einer kleineren Anzahl von Schal
tungselementen nahe dem Spannungsversorgungsanschluss loka
lisiert ist, während ein Schaltungsblock mit einer größeren
Anzahl von Schaltungselementen entfernt von dem Spannungs
versorgungsanschluss lokalisiert ist.
Des weiteren stellt die vorliegende Erfindung ein drit
tes Anbringungsverfahren bereit, welches sich von dem er
sten Anbringungsverfahren dahingehend unterscheidet, dass
eine Mehrzahl von Schaltungsblöcken bezüglich des Span
nungsversorgungsanschlusses in einer Reihenfolge der Fre
quenz bzw. Häufigkeit des Zugriffs auf die jeweiligen
Schaltungsblöcke in einer Gruppe angeordnet wird, so dass
ein Schaltungsblock mit einer kleineren Frequenz bzw. Häu
figkeit des Zugriffs nahe dem Spannungsversorgungsanschluss
lokalisiert ist, während ein Schaltungsblock mit einer grö
ßeren Frequenz bzw. Häufigkeit des Zugriffs entfernt von
dem Spannungsversorgungsanschluss lokalisiert ist.
Die obigen und andere Aufgaben, Merkmale und Vorteile
der vorliegenden Erfindung werden aus der folgenden detail
lierten Beschreibung ersichtlich, die in Verbindung mit den
zugehörigen Zeichnungen zu lesen ist, wobei
Fig. 1 ein Schaltungsdiagramm zeigt, welches eine sche
matische Anordnung einer Mehrzahl von in einem Mikrocompu
ter aufgenommenen Schaltungsblöcken einer bevorzugten Aus
führungsform der vorliegenden Erfindung darstellt; und
Fig. 2 eine äquivalente Schaltung zeigt, die hauptsäch
lich ein Energie- bzw. Spannungversorgungssystem der in
Fig. 1 dargestellten Schaltungsanordnung veranschaulicht.
Bevorzugte Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung
werden hiernach unter Bezugnahme auf die beigefügten Figu
ren erklärt.
Entsprechend Fig. 1 enthält ein Mikrocomputer 1 einen
Spannungsversorgungsanschluss Vdd und einen Masseanschluss
Gnd, welche als externe Anschlüsse des Mikrocomputers 1
dienen. Eine Spannungsversorgungsleitung 2, welche an dem
Spannungsversorgungsanschluss Vdd angeschlossen ist, er
streckt sich in den Mikrocomputer 1. Auf ähnliche Weise er
streckt sich eine Masseleitung 3, die an dem Masseanschluss
Gnd angeschlossen ist, in den Mikrocomputer 1.
Der Mikrocomputer 1 umfasst eine Gesamtheit von drei,
d. h. ersten bis dritten, Schaltungsblöcken 4, 5 und 6. Je
der der ersten bis dritten Schaltungsblöcke 4, 5 und 6 ist
zwischen der Spannungsversorgungsleitung 2 und der Masse
leitung 3 angeordnet. Der erste Schaltungsblock 4 ist be
nachbart zu dem Spannungsversorgungsanschluss Vdd und dem
Masseanschluss Gnd lokalisiert. Der dritte Schaltungsblock
6 ist am entferntesten von dem Spannungsversorgungsan
schluss Vdd und dem Masseanschluss Gnd lokalisiert.
Jeder der Schaltungsblöcke 4 bis 6 ist ein funktionaler
Block, welcher jeweils eine unabhängige Halbleiterschaltung
besitzt, die in Abhängigkeit von benötigten Funktionen ge
bildet ist. Der erste Schaltungsblock 4 arbeitet hauptsäch
lich als analoge Steuerlogikschaltung. Der zweite Schal
tungsblock 5 ist ein Multifunktionsblock, welcher ein seri
elles Kommunikationsgerät, einen Timer und eine Ein
gangs/Ausgangs-Steuerlogikschaltung enthält. Der dritte
Schaltungsblock 6 enthält eine CPU, einen ROM und einen
RAM.
Der Mikrocomputer 1 enthält eine Gesamtheit von drei,
d. h. ersten bis dritten, Überbrückungskondensatoren 7 bis
9. Der erste Überbrückungskondensator 7 ist nahe dem ersten
Schaltungsblock 4 angeordnet, wobei ein Ende direkt an ei
nem Spannungseingangsanschluss 4V des ersten Schaltungs
blocks 4 und das andere Ende direkt an einem Masseanschluss
4G des ersten Schaltungsblocks 4 angeschlossen sind.
Der zweite Überbrückungskondensator 8 ist nahe dem
zweiten Schaltungsblock 5 angeordnet, wobei ein Ende direkt
an einem Spannungseingangsanschluss 5V des zweiten Schal
tungsblocks 5 und das andere Ende an einem Masseanschluss
5G des zweiten Schaltungsblock 5 angeschlossen sind.
Der dritte Überbrückungskondensator 9 ist nahe dem
dritten Schaltungsblock 6 angeordnet, wobei ein Ende direkt
an einem Spannungseingangsanschluss 6V des dritten Schal
tungsblocks 6 und das andere Ende direkt an einem Massean
schluss 6G des dritten Schaltungsblocks angeschlossen sind.
Die Spannungsversorgungsleitung 2 besitzt eine Impedanz
Z1 an einem ersten Gebiet, welches sich von dem Spannungs
versorgungsanschluss Vdd bis zu dem Spannungseingangsan
schluss 4V des ersten Schaltungsblocks 4 erstreckt, eine
Impedanz Z2 an einem zweiten Gebiet, welches sich von dem
Spannungseingangsanschluss 4V des ersten Schaltungsblocks 4
zu dem Spannungseingangsanschluss 5V des zweiten Schal
tungsblocks 5 erstreckt, und eine Impedanz Z3 an einem
dritten Gebiet, welches sich von dem Spannungseingangsan
schluss 5V des zweiten Schaltungsblocks 4 bis zu dem Span
nungseingangsanschluss 6V des dritten Schaltungsblocks 6
erstreckt.
Die Masseleitung 3 besitzt eine Impedanz Z1G an einem
ersten Gebiet, welches sich von dem Masseanschluss Gnd bis
zu dem Masseanschluss 4G des ersten Schaltungsblocks 4 er
streckt, eine Impedanz Z2G an einem zweiten Gebiet, welches
sich von dem Masseanschluss 4G des ersten Schaltungsblocks
4 bis zu dem Masseanschluss 5G des zweiten Schaltungsblock
5 erstreckt, und eine Impedanz Z3G an einem dritten Gebiet,
welches von dem Masseanschluss 5G des zweiten Schaltungs
blocks 5 bis zu dem Masseanschluss 6G des dritten Schal
tungsblocks 6 erstreckt.
Obwohl in der Figur nicht dargestellt sind die Span
nungsversorgungsleitung 2 und die Masseleitung aus Alumi
nium oder dergleichen gebildet, und die Überbrückungskon
densatoren 7-9 sind jeweils durch Dazwischenbringen einer
Oxidschicht zwischen Polysiliziumelektroden gebildet sind.
Als nächstes werden Funktionen dieser Ausführungsform
unter Bezugnahme auf Fig. 2 erklärt. Das Layout der in Fig.
1 dargestellten ersten bis dritten Schaltungsblöcke ist ab
hängig von dem Spannungsrauschpegel, der durch eine Simula
tion (oder eine aktuelle Überwachung) an den Spannungsein
gangsanschlüssen 4V bis 6V der jeweiligen Schaltungsblöcke
4 bis 6 abgeschätzt wird.
Der erste Schaltungsblock 4 besitzt eine relativ nied
rige Betriebsgeschwindigkeit oder eine relativ niedrige
Frequenz bzw. Häufigkeit des Betriebs, wie es hauptsächlich
durch die analoge Steuerlogikschaltung eingerichtet wird.
Somit wird angenommen, dass der erste Schaltungsblock 4 den
geringsten Spannungsrauschpegel unter den drei Schaltungs
blöcken 4 bis 6 besitzt. Dementsprechend ist aus der Mehr
zahl von Schaltungsblöcken 4 bis 6 der erste Schaltungs
block am nächsten zu dem Spannungsversorgungsanschluss Vdd
lokalisiert.
Demgegenüber besitzt der dritte Schaltungsblock 6 eine
relativ hohe Betriebsgeschwindigkeit oder eine relativ hohe
Frequenz bzw. Häufigkeit des Betriebs da er eine CPU, einen
ROM und einen RAM aufweist. Somit wird angenommen, dass der
dritte Schaltungsblock 6 den höchsten Rauschpegel aus den
drei Schaltungsblöcken 4 bis 6 besitzt. Dementsprechend ist
von den Schaltungsblöcken 4 bis 6 der dritte Schaltungs
block 6 am entferntesten von dem Spannungsversorgungsan
schluss Vdd lokalisiert.
Der zweite Schaltungsblock 5 besitzt eine mittlere Be
triebsgeschwindigkeit oder eine mittlere Frequenz bzw. Häu
figkeit des Betriebs, da er die serielle Kommunikationsvor
richtung, den Timer und die Eingabe/Ausgabe-Steuerlogik
schaltung aufweist. Somit wird angenommen, dass der zweite
Schaltungsblock 5 einen mittleren Spannungsrauschpegel un
ter den drei Schaltungsblöcken 4 bis 6 besitzt, und er ist
daher zwischen dem ersten Schaltungsblock 4 und dem dritten
Schaltungsblock 6 lokalisiert.
Fig. 2 zeigt eine äquivalente Schaltung, die hauptsäch
lich ein Spannungsversorgungssystem der dargestellten
Schaltungsanordnung veranschaulicht.
Entsprechend Fig. 2 stellen #1 bis #3 Spannungsquellen
ein Spannungsrauschen dar, welches an den Spannungsein
gangsanschlüssen 4V bis 6V jeweils überwacht wird. Indukti
vitäten L1-L6 und L1G-L3G stellen Induktivitätskomponenten
dar, welche in den Impedanzen Z1-Z3 bzw. Z1G-Z3G enthalten
sind. Des weiteren stellen LC1 bis LC3 Induktivitätskompo
nenten dar, welche in Überbrückungskondensatoren 7 bis 9
enthalten sind.
Entsprechend dem Layout, bei welchem der dritte Schal
tungsblock 6, welcher den höchsten Spannungsrauschpegel be
sitzt, am entferntesten von dem Spannungsversorgungsan
schluss Vdd lokalisiert ist, ist eine Gesamtheit von drei
Induktivitäten L1 bis L3 in Serie zwischen dem Spannungs
versorgungsanschluss Vdd und dem Spannungseingangsanschluss
6V des dritten Schaltungsblocks 6 angeordnet. Somit gibt
dieses Layout dem dritten Schaltungsblock 6 eine große
Hochfrequenzimpedanz von dem Spannungseingangsanschluss 6V
aus betrachtet oder gemessen.
Im Hinblick auf die Bedingung L3<<LC3 hemmt die Induk
tivität L3 das von dem dritten Schaltungsblock 6 erzeugte
Spannungsrauschen, welches durch eine Spannung der #3 Span
nungsquelle dargestellt wird. Das Spannungsrauschen zirku
liert entlang einem Zirkulationspfad R3 einschließlich des
Überbrückungskondensators 9 (C3) und schwächt sich in dem
dritten Schaltungsblock 6 ab.
Trotz des Vorhandenseins der Induktivität L3 pflanzt
sich etwas des Spannungsrauschens zu dem nächsten Schal
tungsblock durch, d. h. zu dem zweiten Schaltungsblock 5.
Jedoch hemmt in dem zweiten Schaltungsblock 5 die Indukti
vität L2 das Fortpflanzen des Spannungsrauschens. Somit
zirkuliert das verbreitete Spannungsrauschen entlang dem
Zirkulationspfad R2 einschließlich des Überbrückungskonden
sators 8 (C2) und schwächt in dem zweiten Schaltungsblock 5
ab. Als Ergebnis wird ein weiteres Ausbreiten des Span
nungsrauschens zu dem Spannungsversorgungsanschluss Vdd si
cher beschränkt.
Der erste Schaltungsblock 4 ist am nächsten zu dem
Spannungsversorgungsanschluss Vdd lokalisiert, da sein
Rauschpegel, d. h. eine Spannung der #1 Spannungsquelle, aus
den drei Schaltungsblöcken 4 bis 6 am niedrigsten ist. Das
von dem ersten Schaltungsblock 4 erzeugte Spannungsrauschen
ist so klein, dass es durch die Induktivität L1 vollständig
gehemmt werden kann. Das Spannungsrauschen zirkuliert ent
lang einem Zirkulationspfad R1 einschließlich des Über
brückungskondensators 7 (C1) und schwächt sich in dem er
sten Schaltungsblock ab.
Ähnlich hemmen L1G bis L3G ein an den Masseanschlüssen
4G bis 6G der ersten bis dritten Schaltungsblöcke 4 bis 6
erzeugtes Masserauschen. Somit wird eine Ausbreitung des
Masserauschens zu dem Masseanschluss Gnd im wesentlichen
beschränkt.
Wie oben beschrieben sind bei der ersten Ausführungs
form der vorliegenden Erfindung unabhängige Überbrückungs
kondensatoren 7 bis 9 zwischen dem Spannungseingangsan
schluss und dem Masseanschluss der entsprechenden Schal
tungsblöcke 4 bis 6 in dem Mikrocomputer 1 angeordnet. Dem
entsprechend wird es effektiv die Impedanzkomponenten der
Überbrückungskondensatoren 7 bis 9 zu verringern, so dass
das Erhöhen der Impedanz in dem Hochfrequenzgebiet unter
drückt werden kann. Als Ergebnis kann das Spannungsrauschen
hinreichend absorbiert werden. Da die Kapazitäten der je
weiligen Überbrückungskondensatoren 7 bis 9 entsprechend
den Betriebsbedingungen der jeweiligen Schaltungsblöcke 4
bis 6 optimiert werden können, kann des weiteren eine Ab
sorption des Spannungsrauschens wirksam durchgeführt wer
den.
Des weiteren sind bei der ersten Ausführungsform die
ersten bis dritten Schaltungsblöcke 4 bis 6 bezüglich des
Spannungsversorgungsanschlusses Vdd in einer Gruppe ange
ordnet, wobei der Rauschpegel an einzelnen Spannungsein
gangsanschlüssen 4V bis 6V der jeweiligen Schaltungsblöcke
4 bis 6 derart berücksichtigt wird, dass der erste Schal
tungsblock 4, welcher den geringsten Rauschpegel besitzt,
am nächsten zu dem Spannungsversorgungsanschluss Vdd loka
lisiert ist, während der dritte Schaltungsblock 6, welcher
den höchsten Rauschpegel besitzt, am entferntesten von dem
Spannungsversorgungsanschluss Vdd lokalisiert ist.
Wenn von dem dritten Schaltungsblock 6 ein Spannungs
rauschen eines hohen Pegels erzeugt wird, kann das Span
nungsrauschen nicht vollständig von dem Zirkulationspfad R3
absorbiert werden. In einem derartigen Fall wird etwas von
dem Spannungsrauschen sich in den zweiten Schaltungsblock 5
fortpflanzen. Jedoch hemmt die Induktivität L2 sicher das
verbreitete Spannungsrauschen. Die Gesamtheit des verbrei
teten Spannungsrauschens wird in dem zweiten Schaltungs
block 5 absorbiert.
Dementsprechend kann die Zirkulationsabschwächung des
Spannungsrauschens veranlasst durch die jeweiligen Über
brückungskondensatoren 7 bis 9 verbessert werden. Somit er
möglicht es die erste Ausführungsform wirksam zu verhin
dern, dass das von dem Mikrocomputer 1 erzeugte Spannungs
rauschen sich nach außen über den Spannungsversorgungsan
schluss Vdd fortpflanzt. Ein Hochfrequenzrauschen kann
wirksam unterdrückt werden. Unerwünschtes Strahlungsrau
schen kann aus einer gedruckten Schaltungsplatte entfernt
werden, auf welcher der Mikrocomputer 1 angebracht ist.
Des weiteren enthalten bei der ersten Ausführungsform
die Überbrückungskondensatoren 7 bis 9 Polysiliziumelektro
den, welche sich von den Aluminiumteilen unterscheiden, die
die Spannungsversorgungsleitung 2 und die Masseleitung bil
den. Dies verhindert wirksam, dass die Kapazitäten der
Überbrückungskondensatoren 7 bis 9 sich zerstreuen wie ein
verteiltes Parametersystem, und ermöglicht die Über
brückungskondensatoren wie ein konzentriertes Parametersy
stem anzuordnen. Dementsprechend kann eine Abschwächung des
Spannungsrauschens durch die Überbrückungskondensatoren 7
bis 9 verbessert werden.
Eine zweite Ausführungsform ist im wesentlichen zu der
ersten Ausführungsform mit der Ausnahme identisch, dass das
Gruppieren der Schaltungsblöcke unterschiedlich ist.
Anstelle der Verwendung des Rauschpegels nimmt die
zweite Ausführungsform die Anzahl von Schaltungselementen
wie von Metalloxidhalbleitertransistoren (MOS-Transisto
ren), welche in die jeweiligen Schaltungsblöcke einbezogen
sind, als Kriterium zur Bestimmung der Gruppierung der
Schaltungsblöcke an.
Bei der zweiten Ausführungsform ist der in Fig. 1 dar
gestellte erste Schaltungsblock 4 ein Schaltungsblock, wel
cher die geringste Anzahl von Schaltungselementen besitzt,
während der dritte Schaltblock 6 ein Schaltungsblock ist,
welcher die höchste Anzahl von Schaltungselementen besitzt.
Der zweite Schaltungsblock ist ein Schaltungsblock, welcher
eine dazwischenliegende Anzahl von Schaltungselementen be
sitzt.
Der Rest der zweiten Ausführungsform ist gleich demje
nigen der ersten Ausführungsform.
Eine dritte Ausführungsform ist im wesentlichen zu der
ersten Ausführungsform mit der Ausnahme identisch, dass das
Gruppieren der Schaltungsblöcke unterschiedlich ist.
Anstelle der Verwendung des Rauschpegels nimmt die
dritte Ausführungsform die Frequenz bzw. Häufigkeit des Zu
griffs auf jeweilige Schaltungsblöcke als Kriterium zum Be
stimmen des Gruppierens der Schaltungsblöcke an.
Bei der dritten Ausführungsform ist der in Fig. 1 dar
gestellte erste Schaltungsblock 4 ein Schaltungsblock, wel
cher die geringste Frequenz bzw. Häufigkeit eines Zugriffs
besitzt, während der dritte Schaltungsblock 6 ein Schal
tungsblock ist, welcher die höchste Frequenz bzw. Häufig
keit eines Zugriffs besitzt. Der zweite Schaltungsblock 5
ist ein Schaltungsblock, welcher eine dazwischenliegende
Frequenz bzw. Häufigkeit eines Zugriffs besitzt.
Der Rest der dritten Ausführungsform ist gleich demje
nigen der ersten Ausführungsform.
Diese Erfindung kann in mehreren Formen ausgeführt wer
den, ohne vom Rahmen der wesentlichen Charakteristik davon
abzuweichen.
Die Kapazitäten der Überbrückungskondensatoren 7 bis 9
können unter Berücksichtigung des Rauschpegels, der Anzahl
von Schaltelementen, der Frequenz bzw. Häufigkeit von Zu
griffen oder dergleichen der jeweiligen Blöcke 4 bis 6 an
gemessen festgelegt werden.
Des weiteren können durch angemessenes Einstellen bzw.
Festlegen der Verdrahtungsstruktur, der Impedanzen Z1 bis
Z3G der Verdrahtungsleitungen 2 und 3 unter Berücksichti
gung des Rauschpegels, der Anzahl von Schaltungselementen,
der Frequenz bzw. Häufigkeit von Zugriffen und dergleichen
der jeweiligen Blöcke auf optimale Werte festgelegt werden.
Die Anzahl von Schaltungsblöcken ist nicht auf drei be
schränkt und kann daher erhöht oder verringert werden.
Der Spannungsversorgungsanschluss ist nicht auf einen
gemeinsamen beschränkt, und daher ist es möglich einen oder
mehrere zusätzliche Spannungsversorgungsanschlüsse bereit
zustellen.
Die integrierte Halbleiterschaltungsvorrichtung ist
nicht auf einen Mikrocomputer beschränkt, daher kann die
vorliegende Erfindung auf irgendeine andere integrierte
Schaltungsvorrichtung angewandt werden, welche eine Mehr
zahl von Schaltungsblöcken enthält, die auf einem Halblei
tersubstrat angebracht sind.
Die vorliegenden Ausführungsformen wie oben beschrieben
sind daher lediglich als Erläuterung und nicht als Be
schränkung vorgesehen, da der Rahmen der Erfindung durch
die beigefügten Ansprüche gegenüber der vorhergehenden Be
schreibung definiert ist. Alle Änderungen, welche innerhalb
der Grenzen der Ansprüche oder deren Äquivalente liegen,
werden daher von den Ansprüchen umfasst.
Claims (6)
1. Integrierte Halbleiterschaltungsvorrichtung mit einem
Halbleitersubstrat, auf welchem eine Mehrzahl von Schal
tungsblöcken (4, 5, 6) angebracht ist, denen eine elektri
sche Spannung von einem Versorgungsspannungsanschluss (Vdd)
aus zugeführt wird,
dadurch gekennzeichnet, dass
jeder der in der Mehrzahl vorkommenden Schaltungs blöcke einen Spannungseingangsanschluss (4V, 5V, 6V) und einen Massenanschluss (4G, 5G, 6G) besitzt,
eine Mehrzahl von Überbrückungskondensatoren (7, 8, 9) für die in der Mehrzahl vorkommenden Schaltungsblöcke (4, 5, 6) vorgesehen ist, wobei jeder Überbrückungskondensator zwischen dem Spannungseingangsanschluss und dem Massean schluss eines entsprechenden Schaltungsblocks angeordnet ist, und
die Reihenfolge der in der Mehrzahl vorkommenden Schaltungsblöcke (4, 5, 6), welche bezüglich des Spannungs versorgungsanschlusses (Vdd) gruppiert sind, von dem Rauschpegel an den Spannungseingangsanschlüssen (4V, 5V, 6V) der jeweiligen Schaltungsblöcke derart abhängt, dass ein Schaltungsblock (4), welcher einen niedrigeren Rausch pegel besitzt, nahe dem Spannungsversorgungsanschluss (Vdd) lokalisiert ist, während ein Schaltungsblock (6), welcher einen höheren Rauschpegel besitzt, entfernt von dem Span nungsversorgungsanschluss (Vdd) lokalisiert ist.
dadurch gekennzeichnet, dass
jeder der in der Mehrzahl vorkommenden Schaltungs blöcke einen Spannungseingangsanschluss (4V, 5V, 6V) und einen Massenanschluss (4G, 5G, 6G) besitzt,
eine Mehrzahl von Überbrückungskondensatoren (7, 8, 9) für die in der Mehrzahl vorkommenden Schaltungsblöcke (4, 5, 6) vorgesehen ist, wobei jeder Überbrückungskondensator zwischen dem Spannungseingangsanschluss und dem Massean schluss eines entsprechenden Schaltungsblocks angeordnet ist, und
die Reihenfolge der in der Mehrzahl vorkommenden Schaltungsblöcke (4, 5, 6), welche bezüglich des Spannungs versorgungsanschlusses (Vdd) gruppiert sind, von dem Rauschpegel an den Spannungseingangsanschlüssen (4V, 5V, 6V) der jeweiligen Schaltungsblöcke derart abhängt, dass ein Schaltungsblock (4), welcher einen niedrigeren Rausch pegel besitzt, nahe dem Spannungsversorgungsanschluss (Vdd) lokalisiert ist, während ein Schaltungsblock (6), welcher einen höheren Rauschpegel besitzt, entfernt von dem Span nungsversorgungsanschluss (Vdd) lokalisiert ist.
2. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung mit einem
Halbleitersubstrat, auf welchem eine Mehrzahl von Schal
tungsblöcken (4, 5, 6) angebracht ist, denen eine elektri
sche Spannung von einem Spannungsversorgungsanschluss (Vdd)
aus zugeführt wird,
dadurch gekennzeichnet, dass
jeder der in der Mehrzahl vorkommenden Schaltungs blöcke einen Spannungseingangsanschluss (4V, 5V, 6V) und einen Masseanschluss (4G, 5G, 6G) besitzt,
eine Mehrzahl von Überbrückungskondensatoren (7, 8, 9) für die in der Mehrzahl vorkommenden Schaltungsblöcke (4, 5, 6) vorgesehen ist, wobei jeder Überbrückungskondensator zwischen dem Spannungseingangsanschluss und dem Massean schluss eines entsprechenden Schaltungsblocks angeordnet ist, und
die Reihenfolge der in der Mehrzahl vorkommenden Schaltungsblöcke (4, 5, 6), welche bezüglich des Spannungs versorgungsanschlusses (Vdd) gruppiert sind, von der Anzahl von in den jeweiligen Schaltungsblöcken vorgesehenen Schaltelementen derart abhängt, dass ein Schaltungsblock (4), welcher eine kleinere Anzahl von Schaltelementen be sitzt, nahe dem Spannungsversorgungsanschluss (Vdd) lokali siert ist, während ein Schaltungsblock (6), welcher eine größere Anzahl von Schaltelementen besitzt, entfernt von dem Spannungsversorgungsanschluss (Vdd) lokalisiert ist.
dadurch gekennzeichnet, dass
jeder der in der Mehrzahl vorkommenden Schaltungs blöcke einen Spannungseingangsanschluss (4V, 5V, 6V) und einen Masseanschluss (4G, 5G, 6G) besitzt,
eine Mehrzahl von Überbrückungskondensatoren (7, 8, 9) für die in der Mehrzahl vorkommenden Schaltungsblöcke (4, 5, 6) vorgesehen ist, wobei jeder Überbrückungskondensator zwischen dem Spannungseingangsanschluss und dem Massean schluss eines entsprechenden Schaltungsblocks angeordnet ist, und
die Reihenfolge der in der Mehrzahl vorkommenden Schaltungsblöcke (4, 5, 6), welche bezüglich des Spannungs versorgungsanschlusses (Vdd) gruppiert sind, von der Anzahl von in den jeweiligen Schaltungsblöcken vorgesehenen Schaltelementen derart abhängt, dass ein Schaltungsblock (4), welcher eine kleinere Anzahl von Schaltelementen be sitzt, nahe dem Spannungsversorgungsanschluss (Vdd) lokali siert ist, während ein Schaltungsblock (6), welcher eine größere Anzahl von Schaltelementen besitzt, entfernt von dem Spannungsversorgungsanschluss (Vdd) lokalisiert ist.
3. Integrierte Halbleiterschaltungsvorrichtung mit einem
Halbleitersubstrat, auf welchem eine Mehrzahl von Schal
tungsblöcken (4, 5, 6) angebracht ist, denen eine elektri
sche Spannung von einem Versorgungsspannungsanschluss (Vdd)
aus zugeführt wird,
dadurch gekennzeichnet, dass
jeder der in der Mehrzahl vorkommenden Schaltungs blöcke einen Spannungseingangsanschluss (4V, 5V, 6V) und einen Masseanschluss (4G, 5G, 6G) besitzt,
eine Mehrzahl von Überbrückungskondensatoren (7, 8, 9) für die in der Mehrzahl vorkommenden Schaltungsblöcke (4, 5, 6) vorgesehen ist, wobei jeder Überbrückungskondensator zwischen dem Spannungseingangsanschluss und dem Massean schluss eines entsprechenden Schaltungsblocks angeordnet ist, und
die Reihenfolge der in der Mehrzahl vorkommenden Schaltungsblöcke (4, 5, 6), welche bezüglich des Spannungs versorgungsanschlusses (Vdd) gruppiert sind, von der Fre quenz bzw. Häufigkeit eines Zugriffs auf die jeweiligen Schaltungsblöcke derart abhängt, dass ein Schaltungsblock (4), welcher eine kleinere Frequenz bzw. Häufigkeit eines Zugriffs besitzt, nahe dem Spannungsversorgungsanschluss (Vdd) lokalisiert ist, während ein Schaltungsblock (6), welcher eine größere Frequenz bzw. Häufigkeit eines Zu griffs besitzt, entfernt von dem Spannungsversorgungsan schluss (Vdd) lokalisiert ist.
dadurch gekennzeichnet, dass
jeder der in der Mehrzahl vorkommenden Schaltungs blöcke einen Spannungseingangsanschluss (4V, 5V, 6V) und einen Masseanschluss (4G, 5G, 6G) besitzt,
eine Mehrzahl von Überbrückungskondensatoren (7, 8, 9) für die in der Mehrzahl vorkommenden Schaltungsblöcke (4, 5, 6) vorgesehen ist, wobei jeder Überbrückungskondensator zwischen dem Spannungseingangsanschluss und dem Massean schluss eines entsprechenden Schaltungsblocks angeordnet ist, und
die Reihenfolge der in der Mehrzahl vorkommenden Schaltungsblöcke (4, 5, 6), welche bezüglich des Spannungs versorgungsanschlusses (Vdd) gruppiert sind, von der Fre quenz bzw. Häufigkeit eines Zugriffs auf die jeweiligen Schaltungsblöcke derart abhängt, dass ein Schaltungsblock (4), welcher eine kleinere Frequenz bzw. Häufigkeit eines Zugriffs besitzt, nahe dem Spannungsversorgungsanschluss (Vdd) lokalisiert ist, während ein Schaltungsblock (6), welcher eine größere Frequenz bzw. Häufigkeit eines Zu griffs besitzt, entfernt von dem Spannungsversorgungsan schluss (Vdd) lokalisiert ist.
4. Verfahren zum Anbringen einer Mehrzahl von Schaltungs
blöcken (4, 5, 6) auf einem Halbleitersubstrat, wobei jeder
der Schaltungsblöcke einen einzelnen Spannungseingangsan
schluss (4V, 5V, 6V) aufweist, welcher eine von einem Span
nungsversorgungsanschluss (Vdd) aus zugeführte elektrische
Spannung empfängt, und die in der Mehrzahl vorkommenden
Schaltungblöcke einer Mehrzahl von Überbrückungskondensato
ren (7, 8, 9) zugeordnet sind, wobei jeder Überbrückungs
kondensator zwischen dem Spannungseinganganschluss und ei
nem Masseanschluss (4G, 5G, 6G) eines entsprechenden
Schaltblocks angeordnet ist,
dadurch gekennzeichnet, dass
das Anbringungsverfahren einen Schritt des Gruppierens
der in der Mehrzahl vorkommenden Schaltungsblöcke (4, 5, 6)
bezüglich des Spannungsversorgungsanschlusses (Vdd) in der
Reihenfolge des Rauschpegels an dem einzelnen Spannungsein
gangsanschluss derart aufweist, dass ein Schaltungsblock
(4), welcher einen niedrigeren Rauschpegel besitzt, nahe
dem Spannungsversorgungsanschluss (Vdd) lokalisiert ist,
während ein Schaltungsblock (6), welcher einen höheren
Rauschpegel besitzt, entfernt von dem Spannungsversorgungs
anschluss lokalisiert ist.
5. Verfahren zum Anbringen einer Mehrzahl von Schaltungs
blöcken (4, 5, 6) auf einem Halbleitersubstrat, wobei jeder
Schaltungsblöcke einen einzelnen Spannungseingangsanschluss
(4V, 5V, 6V) besitzt, welcher eine von einem Spannungsver
sorgungsanschluss (Vdd) aus zugeführte elektrische Spannung
empfängt, und die in der Mehrzahl vorkommenden Schaltungs
blöcke einer Mehrzahl von Überbrückungskondensatoren (7, 8,
9) zugeordnet sind, wobei jeder Überbrückungskondensator
zwischen dem Spannungseingangsanschluss und einem Massean
schluss (4G, 5G, 6G) eines entsprechenden Schaltungsblocks
angeordnet ist,
dadurch gekennzeichnet, dass
das Anbringungsverfahren einen Schritt des Gruppierens
der in der Mehrzahl vorkommenden Schaltungsblöcke (4, 5, 6)
bezüglich des Spannungsversorgungsanschlusses (Vdd) in der
Reihenfolge der Anzahl von Schaltelementen, die in den je
weiligen Schaltungsblöcken vorgesehen sind, derart auf
weist, dass ein Schaltungsblock (4), welcher eine kleinere
Anzahl von Schaltelementen besitzt, nahe dem Spannungsver
sorgungsanschluss (Vdd) lokalisiert ist, während ein Schal
tungsblock (6), welcher eine größere Anzahl von Schaltele
menten besitzt, entfernt von dem Spannungsversorgungsan
schluss (Vdd) lokalisiert ist.
6. Verfahren zum Anbringen einer Mehrzahl von Schaltungs
blöcken (4, 5, 6) auf einem Halbleitersubstrat, wobei jeder
der Schaltungsblöcke einen einzelnen Spannungseingangsan
schluss (4V, 5V, 6V) besitzt, welcher eine von einem Span
nungsversorgungsanschluss (Vdd) aus zugeführte elektrische
Spannung empfängt, und die in der Mehrzahl vorkommenden
Schaltungsblöcke einer Mehrzahl von Überbrückungskondensa
toren (7, 8, 9) zugeordnet sind, wobei jeder Überbrückungs
kondensator zwischen dem Spannungseingangsanschluss und ei
nem Masseanschluss (4G, 5G, 6G) eines entsprechenden Schal
tungsblocks angeordnet ist,
dadurch gekennzeichnet, dass
das Anbringungsverfahren einen Schritt des Gruppierens
der in der Mehrzahl vorkommenden Schaltungsblöcke (4, 5, 6)
bezüglich des Spannungsversorgungsanschlusses (Vdd) in der
Reihenfolge der Frequenz bzw. Häufigkeit eines Zugriffs auf
die jeweiligen Schaltungsblöcke derart aufweist, dass ein
Schaltungsblock (4), welcher eine kleinere Frequenz bzw.
Häufigkeit eines Zugriffs besitzt, nahe dem Spannungsver
sorgungsanschluss (Vdd) lokalisiert ist, während ein Schal
tungsblock (6), welcher eine größere Frequenz bzw. Häufig
keit des Zugriffs besitzt, entfernt von dem Spannungsver
sorgungsanschluss (Vdd) lokalisiert ist.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000-225584 | 2000-07-26 | ||
JP2000225584A JP3509713B2 (ja) | 2000-07-26 | 2000-07-26 | 半導体集積回路装置及び半導体集積回路装置の回路ブロック搭載方法 |
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DE10136285A1 true DE10136285A1 (de) | 2002-03-14 |
DE10136285B4 DE10136285B4 (de) | 2011-12-08 |
Family
ID=18719329
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE10136285A Expired - Fee Related DE10136285B4 (de) | 2000-07-26 | 2001-07-25 | Integrierte Halbleiterschaltungsvorrichtung und Verfahren zum Anbringen von Schaltungsblöcken in der integrierten Halbleiterschaltungsvorrichtung |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6657318B2 (de) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R020 | Patent grant now final |
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R084 | Declaration of willingness to licence | ||
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