CN1437050A - 紫外线照射装置和利用该装置制造液晶显示器的方法 - Google Patents

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Abstract

公开了UV照射装置和利用该装置制造LCD装置的方法。UV照射装置包括具有UV灯和反射板的UV光源部件，支撑UV光源的支架，上面放置基板的平台，UV光源以倾斜角照射到基板上。UV照射到形成UV密封剂的基板上，使得即使在UV照射表面和UV密封剂之间形成光屏蔽层或金属线层也能固化密封剂。

Description

紫外线照射装置和利用该装置制造液晶显示器的方法
本申请要求2002年2月7日在韩国专利局递交的申请No.P2002-7130的权益，该韩国申请在此引作参考。
技术领域
本发明涉及液晶显示(LCD)设备，尤其涉及通过应用紫外光可固化至少局部愈合的密封剂的紫外线(UV)照射装置和利用该装置制造LCD装置的方法。
背景技术
通常，显示屏厚度为几厘米或更小的超薄平板显示器、特别是平板LCD装置广泛应用于笔记本电脑、航天器、飞行器的监视器中，原因是这种LCD装置的功率消耗低，易于携带。
这种LCD装置包括下基板、上基板和液晶显示层。薄膜晶体管(TFT)和像素电极形成在下基板上。上基板与下基板相对形成。在上基板上形成光屏蔽层、滤色器层和公共电极层。还在面内开关LCD装置的下基板上形成公共电极。液晶显示层位于上下基板之间。操作中，通过像素电极和公共电极在上下基板之间形成电场，以便根据电场的方向将液晶显示层驱动成对准。通过驱动液晶显示层控制光透射率，以便显示图片图像。
在上述LCD装置中，为了在上下基板之间形成液晶显示层，通常使用基于毛细现象和压力差的真空注射方法。
下面描述基于真空注射方法的现有技术的LCD装置的制造方法。
首先，制造设有TFT和像素电极的下基板和设有光屏蔽层、滤色器层和公共电极的上基板。
为了保持上下基板之间的液晶盒(cell)间隙均匀，在上基板或下基板上形成垫片。在一个基板的角落上形成密封剂以防止液晶泄漏并将两个基板彼此粘接起来。此时，用环氧密封剂这样的热固化密封剂作为密封剂。
上下基板彼此粘接。将环氧树脂和引发剂混合制造环氧密封剂。如果加热环氧密封剂，由引发剂活化的环氧树脂通过交联被聚合，以便提供出色的粘附度。
粘接起来的基板放置在真空室中以保持基板处于真空状态下，然后被浸在液晶中。如果将基板保持在真空状态下，则通过毛细动作将液晶注入基板中。
在基板中适当地填充液晶后将氮气(N2)注入真空室中，在基板内部和基板外部之间造成压力差，从而将液晶填充到基板之间的真空中。这样，液晶层最终形成在两个基板之间。
但是，这种真空注射方法存在问题，因为尤其对于具有大显示区域的装置来说，在基板之间注射液晶需要花相当长的时间，从而降低了生产率。
为了解决这个问题，已经开发了液晶显示应用方法。为了有助于理解本发明，这里参考图1A-1D作一简要说明。
如图1A所示，制备下基板1和上基板3。在下基板1上形成多条控制线和数据线(未示出)。控制线和数据线交叉，定义一个像素区域。在控制线和数据线之间的每个交叉点上形成薄膜晶体管(未示出)。在像素区域中形成与薄膜晶体管连接的像素电极(未示出)。
在上基板3上形成光屏蔽层(未示出)来防止光从控制线和数据线以及薄膜晶体管中泄漏。在光屏蔽层上形成红(R)、绿(G)和蓝(B)的滤色器层(未示出)，在滤色器层上形成公共电极(未示出)。在面内开关LCD装置的情况下，在下基板上设置公共电极。在下基板1和上基板3中至少其中之一上形成定向膜(未示出)，初始定向将应用的液晶。
如图1B所示，密封剂7形成在下基板1上，其上施加液晶5，以便形成液晶显示层。在上基板3上放置垫片(未示出)以保持液晶盒间隙。
如图1C所示，下基板1和上基板3彼此粘接。
此时，在基于真空注射方法制造LCD装置的方法中，在注射液晶之前完成两个基板的粘接工序。另一方面，在基于液晶施加方法制造LCD装置的方法中，在施加液晶5之后完成两个基板的粘接工序。所以，如果用热固化密封剂作为密封剂7，则受热时液晶扩展，密封剂7会流出。因此，由于液晶5受到污染，会出现问题。
所以，在基于液晶施加方法制造LCD的方法中，用通过紫外线(UV)光至少可局部愈合的密封剂作为密封剂7。
如图1D所示，垂直照射UV光源9，以便固化密封剂7。
同时，图2A-2D示出了根据光屏蔽层图案的密封剂的固化率的不同，密封剂形成在基板上。
如图2A所示，在形成光屏蔽层8的区域外部形成密封剂7。在这种情况下，即使在形成光屏蔽层8的上基板3上照射UV光，UV光也会入射到密封剂7上。
但是，如图2B所示，如果形成密封剂7来重叠光屏蔽层8，则UV光不入射到重叠区域中的密封剂上。因此，重叠区域中的密封剂不被固化。因此，减小了下基板1和上基板3之间的粘附度。
如图2C所示，如果在光屏蔽层8的内部形成密封剂7，则将UV光入射到上基板3上，形成光屏蔽层8，密封剂7不会被UV光照射。所以，UV光还应该照射到下基板1上，以便从下面充分固化密封剂7。
但是，如图2D所示，如果金属线层例如下基板1上的控制线6a和/或数据线6b重叠密封剂7，则UV光不入射到区域A中的密封剂7上。因此，密封剂7未被固化，降低了下基板1和上基板3之间的粘接度。
换言之，如果重叠密封剂7形成光屏蔽层或金属线层，则UV光不入射到密封剂上。结果，降低了下基板和上基板之间的粘接度。
因此，本发明的目的是解决现有技术缺陷带来的一个或多个问题，提供一种UV照射装置和利用该装置制造LCD的方法。
本发明的优势在于提供一种固化密封剂的UV照射装置，以及利用该装置制造LCD的方法，即使在UV照射表面和UV密封剂之间形成光屏蔽层或金属线层。
通过以下的说明和本发明的实践可阐明本发明的其他优点和特征。通过说明书和权利要求书以及附图所述的结构可以实现本发明的这些其他优点。
为了实现这些以及其他优点，根据本发明的目的，正如广泛描述和体现的，根据本发明的UV照射装置包括具有UV灯和反射板的UV光源部分，支撑UV光源部分的支架，基板平台，在该平台上放置基板，UV光源以倾斜角照射到基板上。
为了以倾斜角将UV光源照射到基板平台上，相对于水平面以倾斜角形成支架，相对于水平面以倾斜角形成基板平台，或者形成反射板以使光源以倾斜角被反射。
在本发明的另一个方案中，制造LCD的方法包括：制备下、上基板；在下基板或上基板上形成UV密封剂；在下基板或上基板上施加液晶；使上下基板彼此附接；将UV以倾斜角照射到附接的基板上。
在本发明的实施例中，将UV光以倾斜角照射到形成UV密封剂的基板上，以便即使在UV照射表面和密封剂之间形成光屏蔽层或金属线层也能固化密封剂。
可以理解，上述概述和下面的详细说明是示例性、解释性的，将由权利要求提供进一步的解释。
附图简要说明
附图有助于进一步理解本发明，附图包括在说明书中并构成说明书的一部分，它们示出了本发明的实施例，和说明书一起解释本发明的原理。
图中：
图1A-1D是根据现有技术液晶施加方法制造LCD装置的的方法的透视图；
图2A-2D示出了根据光屏蔽层的图案的密封剂固化率的不同且该密封剂形成在基板上；
图3是根据本发明第一实施例的UV照射装置的示意图；
图4A和4B是根据本发明第一实施例的另一个UV照射装置的示意图；
图5是根据本发明第二实施例的UV照射装置的示意图；
图6是根据本发明第三实施例的UV照射装置的示意图；
图7A-7D是根据本发明原理制造LCD装置的方法的透视图；
图8A是以倾斜角θ在具有重叠在密封剂上的光屏蔽层的附接基板上照射UV光的工序的截面图；
图8B是根据倾斜角θ的改变的密封剂固化率表；
图9A-9D是根据本发明第五实施例制造LCD装置的方法的透视图；
图10A-10D是根据本发明第六实施例在制造LCD装置的方法中照射UV工序的透视图；
图11是根据本发明制造LCD的方法的草图。
具体实施例
参考附图说明本发明的最佳实施例。其中，附图中相同的部件用相同的参考数字表示。
图3是根据本发明第一实施例的UV照射装置的示意图。
如图3所示，根据本发明第一实施例的UV照射装置包括UV光源10，支架20，和上面放置将用UV光照射的基板的基板平台30。UV光源10包括UV灯12和上面放置UV灯12的反射板14。支架20支撑UV光源10且可相对于水平面可移动成倾斜。
此时，可用高压水银UV灯，金属卤化物UV灯或金属UV灯作为UV灯12。
如图所示，反射板14屏蔽UV灯12，UV灯12放置在内反射表面上，使得照射的UV以恒定的直线被反射。所以，UV光源的照射角取决于UV光源10的倾斜角。
支架20绕驱动轴受到驱动，相对于水平面倾斜。支架20的倾斜角θ1位于0°-90°的范围内。
所以，如果支架20的倾斜角θ被改变，则相对于垂直面以θ角照射来自UV光源10的UV光源。
尽管所示支架20相对于水平面成θ1角，但支架20可以以-θ1向上被驱动。或者，支架20的驱动轴可以从支架20的右面变到支架20的左面，或者可以形成在支架20的中心，或者沿支架20形成在任何其他位置。
基板平台30是水平的，接收施加了密封剂的附接基板。此外，为了批量生产，基板平台30可以形成为通过传送带来移动。
同时，如果基板大，则对于一个UV光源10来说难以在整个基板上均匀照射UV。因此，需要设有多个UV光源的UV照射装置。
图4A和4B是设有多个UV光源的UV照射装置的示意图。如图4A所示，多个UV光源10a、10b和10c可以由一个支架20支撑。如图4B所示，UV光源10a、10b和10c可以分别由支架20a、20b和20c支撑。
在图4A的情况下，UV照射装置的每个光源10a、10b和10c与基板之间的距离可以不同。因此，从各个UV光源到基板表面由此到待愈合的密封剂的照射强度可以不同。在图4B的情况下，每个相应的UV光源10a、10b和10c可以与基板之间的距离可以是相同的，因此，来自各个UV光源10a、10b和10c的UV光的照射特性可以是相同的。
图5是根据本发明第二实施例的UV照射装置的示意图。
如图5所示，根据本发明第二实施例的UV照射装置包括UV光源10、支架20和基板平台30。UV光源10包括UV灯12和上面放置UV灯12的反射板14。支架20支撑UV光源10且在固定状态下是水平的。将用UV光照射的基板放置在基板平台30上。基板平台30可相对于水平面移动成倾斜。
换言之，在根据本发明第二实施例的UV照射装置中，基板平台30代替支架20可以以倾斜角移动，以便UV光以倾斜角照射到基板平台30上。
可用高压水银UV灯，金属卤化物UV灯或金属UV灯作为UV灯12。反射板14屏蔽UV灯12，形成放置UV灯12的内放射表面，使得照射的UV以恒定的直线被反射或对准。
支架20在固定状态下是水平放置的。因此，从UV光源部件10垂直照射UV光源。
基板平台30绕驱动轴受到驱动，相对于水平面倾斜。基板平台30的倾斜角θ位于0°-90°的范围内。
所以，如果基板平台30的倾斜角θ被改变，则相对于基板平台30的垂直面以倾斜角θ照射来自UV光源部件10的UV光源。
尽管所示基板平台30相对于水平面成θ角，但基板平台30可以以-θ角向下被驱动。或者，基板平台30的驱动轴可以从基板平台30的右面变到基板平台30的左面，或者可以形成在基板平台30的中心，或者沿基板平台30形成在任何其他位置。
可以对大基板使用多个UV光源，以便可以同时照射大面积的基板。
图6是根据本发明第三实施例的UV照射装置的示意图。
如图6所示，根据本发明第三实施例的UV照射装置包括UV光源10、支架20和基板平台30。UV光源10包括UV灯12和上面放置UV灯12的反射板14。此外，形成反射板14使得UV光源相对于垂直面以倾斜角θ照射。支架20支撑UV光源10。将用UV光源照射的基板放置在基板平台30上。
换言之，在根据本发明第三实施例的UV照射装置中，支架20和基板平台30规定在水平面(或两个平行面)上，形成反射板14的内反射表面，使得在反射板14上反射的UV以倾斜角照射到基板上。
可用高压水银UV灯，金属卤化物UV灯或金属UV灯作为UV灯12。基板平台30可在水平面上移动或可移动成相对于水平面倾斜。
由于形成反射板14的内反射表面，使得照射的UV以倾斜角被反射，以与基板平台30的垂直面成θ的倾斜角(例如，如果基板平台30处于水平面中，则以相对于水平面的90°-θ的角)照射来自UV光源10的UV光。此时，通过改变反射板14的内反射表面的形状可调节倾斜角θ。
图7A-7D是根据本发明原理制造LCD装置的方法实施例的透视图。
尽管图中仅示出了一个单元盒，但可根据基板的尺寸形成多个单元盒。
参考图7A，制备下基板100和上基板300。在下基板100上形成多条控制线和数据线(未示出)。控制线和数据线(未示出)交叉，定义一个像素区域。在控制线和数据线的交叉点上形成具有具有栅极、栅绝缘层、半导体层、电阻接触层、源极/漏极和保护层的薄膜晶体管(未示出)。在像素区域中形成与薄膜晶体管连接的像素电极(未示出)。
在像素电极上形成定向膜(未示出)，用于液晶的初始定向。定向膜可以通过摩擦由聚酰胺或聚酰胺基化合物、聚乙烯醇(PVA)和聚酰胺酸而形成。或者，定向膜可以利用光定向方法由感光材料例如聚乙烯肉桂酸盐(PVCN)、聚硅醚肉桂酸盐(PSCN)或纤维素肉桂酸盐(CelCN)基化合物形成。
在上基板300上形成光屏蔽层(未示出)，屏蔽控制线、数据线和薄膜晶体管区域的光泄漏。在光屏蔽层上形成R、G和B的滤色层(未示出)。在滤色层上形成公共电极(未示出)。此外，可以在滤色器层和公共电极之间形成外涂层(未示出)。在公共电极上形成定向膜。
在下基板100外部形成银(Ag)点(未示出)，从而在下基板100和上基板300彼此粘接后给上基板300上的公共电极施加电压。或者，可在上基板300上形成银点。
在面内开关(IPS)模式LCD中，与像素电极一样在下基板上形成公共电极，以便可以在公共电极和像素电极之间水平感应电场。在这种情况下，不在基板上形成银点。
参考图7B，在下基板100和上基板300之一上形成UV密封剂700，在下基板100或上基板300上施加液晶500。更详细的，在下基板100上形成液晶500从而形成液晶层，在上基板300上形成UV密封剂700。但是可以在上基板300上形成液晶500，或者可以在下基板100上形成UV密封剂700。
或者，液晶500和UV密封剂700可以形成在一个基板上。但是，在这种情况下，在有液晶和密封剂的基板的处理时间和没有液晶和密封剂的基板的处理时间之间存在不平衡。因此，制造工序时间增加。此外，在液晶和密封剂形成在一个基板上的情况下，即使在基板彼此粘接起来之前密封剂被污染了也可以不清洁基板。
因此，在上基板300上形成UV密封剂700之后在粘接工序之前还可以设置清洁上基板300的清洁工序。
此时，两端耦合丙烯酸组、与引发剂混合的单体或低聚物用作UV密封剂700。或者，一端连接丙烯酸基、另一端连接环氧基、与引发剂混合的单体或低聚物用作UV密封剂700。利用分配方法或丝网印刷方法以闭合图案形成这种UV密封剂700。
在固化密封剂700之前液晶500和密封剂700接触会受到污染。因此，液晶500最好施加到下基板100的中央部分上。在这种情况下，甚至在固化密封剂700之后逐渐涂抹液晶500。因此，液晶500被均匀分布在基板表面上。
同时，可以在两个基板100和300中的其中之一上形成垫片来保持液晶盒间隙。垫片最好形成在上基板300上。
可以用球形垫片或柱形垫片作为垫片。球形垫片的形成方式可以是：与适当浓度的溶液混合然后从喷嘴以高压分散到基板上。柱形垫片可以形成在与控制线和数据线相对应的基板部分上。由于对于大尺寸的基板而言，球形垫片会导致不均匀的液晶盒间隙，因此可以对大尺寸的基板使用柱形垫片。柱形垫片可以由感光有机树脂形成。
参考图7C，下基板100和上基板300通过以下过程彼此附接。首先，上面施加有液晶的其中一个基板被放在下侧。另一个基板被转过180度例如翻转使得上基板上的层面对下侧上的基板层，从而上基板位于下基板上。此后，按压上侧的基板，使得两个基板彼此附接。或者，可以将基板之间的空间保持在真空状态下，使得两个基板通过释放真空状态而彼此附接。
接着，参考图7D，水平布置附接的基板，相对于垂直于基板的平面以倾斜角θ照射UV光源900。在第一和第三实施例中所述的各种光照射装置可用于以倾斜角照射UV光源900。
尽管图中已经在附接基板上形成了UV光源900，但它也可以形成在附接的基板下面。可以用附接的基板的上基板表面或下基板表面作为UV光源的UV照射表面。
一旦照射UV，由构成UV密封剂的引发剂活化的单体或低聚物就被聚合和固化，从而将下基板100粘接到上基板300上。如果相对于基板以倾斜角照射UV，则即使光屏蔽层或金属线层重叠UV密封剂也能固化密封剂。因此，不会影响基板之间的粘接度。
如果将一端连接丙烯酸基另一端连接环氧基、与引发剂混合的单体或低聚物用作UV密封剂700，则不能完全聚合环氧基。因此，可以在UV照射之后再将密封剂在约120℃下加热一小时，从而完全固化密封剂。
同时，图8A是在附接的基板上照射UV的过程，所述基板具有相对于垂直于基板的平面以倾斜角θ重叠密封剂700的光屏蔽层800。图8B是根据倾斜角θ的变化密封剂700的固化率的表。
从图8B可见，当倾斜角θ处于30°-60°的范围内时，密封剂700的固化率是80％或更高。为了补偿会防止密封剂700的一些部分完全固化的角度阴影或者尽可能地扩展，可以在从0°-90°或0°-180°的角度范围或任何适当的范围内，离散地或连续地，施加UV光。
尽管未示出，但在UV照射和最后测试过程之后完成将基板切割成单元盒中的过程。
在切割过程中，用硬度高于玻璃例如钻石硬度的材料的笔或轮在基板表面上形成切割线(划线过程)，然后通过机械冲击沿切割线切割基板(断裂过程)。或者，利用具有齿形的高硬度材料的笔或轮同时完成划线过程和断裂过程。
最后测试过程是在单元盒装配到液晶模块中之前检查是否存在缺陷。在最后测试过程中，测试液晶模块，以确定在施加电压或未施加电压时每个像素是否被正确驱动。
图9A-9D是根据本发明原理制造LCD装置的方法的透视图。
如图9A所示，制备下基板100和上基板300。如图9B所示，在上基板300上形成UV密封剂700，在下基板100上施加液晶。如图9C所示，下基板100和上基板300彼此附接。如图9D所示，附接的基板倾斜定位，UV光源900垂直地照射到附接的基板上。
除了UV照射过程之外，本实施例和前面的方法实施例类似。即，根据和前面实施例不同的本实施例，附接的基板以倾斜角放置且垂直照射UV。
为了使附接的基板倾斜，可使用根据第二实施例的光照射装置。
由于本实施例的其他部件和前一实施例的部件相同，相同的部件用相同的参考数字表示，说明从略。
图10A-10D是根据本发明在制造LCD装置过程中UV照射方法的另一个
实施例的透视图。
在UV照射中，如果UV照射在附接的基板的整个表面上，则UV会削弱基板上例如薄膜晶体管这样的装置特性，或者改变为初始定向液晶形成的定向膜的预倾斜角。
所以，在图10A-10D所示的本发明的本实施例中，以倾斜角照射UV光并用掩模覆盖未形成密封剂的区域。
参考图10A，附接的基板放置在水平方向上，覆盖未形成密封剂700的区域的掩模800和附接的基板平行放置。UV光源900则以倾斜角照射。
此时，附接的基板表面和掩模800之间的距离最好位于1mm-5mm的范围内。
参考图10B，使附接的基板倾斜，覆盖未形成密封剂700的区域的掩模800和附接的基板平行放置。UV光源900垂直照射。
参考图10C，在附接的基板的上侧和下侧形成覆盖没有密封剂700的区域的掩模800和820。在图10C中，附接的基板和掩模800和820放置在水平方向上，同时以倾斜角照射UV光源900。可以使附接的基板和掩模800和820倾斜同时垂直照射UV光源900。
一旦在附接的基板上侧和下侧形成掩模800和820，则反射照射的UV光，从而防止UV光照射到没有密封剂的区域上。
参考图10D，在附接的基板和掩模800中形成对准掩模200和850，以准确覆盖没有密封剂700的区域。附接的基板和掩模800的位置通过检查对准掩模200和850的照相机950来调节。
附接的基板的对准掩模200可以形成在附接基板的上基板300或者下基板100上。
参考图10D，尽管附接基板和掩模800水平放置同时以倾斜角照射UV光源900，也可使附接基板和掩模800倾斜同时垂直照射UV光源900。具有对准掩模的掩模可以分别形成在附接基板的上下侧上。
图11是根据本发明制造LCD的方法的流程图。
如图11所示，制备上基板并在其上形成定向膜。在定向膜上形成密封剂，从而完成上基板。此外，制备下基板并在其上形成定向膜。然后在定向膜上施加液晶，从而完成下基板。此时，制造上基板的过程和制造下基板的过程同时完成。可以选择性地在基板上形成液晶和密封剂。
之后，将作好的上下基板彼此附接。然后照射UV光来固化密封剂，从而粘接基板。将基板切割成单元盒，完成最后的测试过程，从而完成一个液晶盒。
如上所述，根据本发明制造LCD的方法具有如下优点。
UV光以倾斜角照射到形成UV密封剂的基板上。即使在UV照射表面和密封剂之间形成光屏蔽层或金属线层也能由此固化密封剂。
此外，由于V光以未形成密封剂的区域被掩模覆盖的状态下以倾斜角照射到基板上，因此可能防止形成在基板上的薄膜基督徒或定向膜被损坏。
此外，由于放置附接基板的基板平台可移动地形成，因此可提高产量。
显然，对于本领域的技术人员来说，在不违背本发明精神和范围的情况下可以对本发明作出各种修改和变形。因此，本发明覆盖了权利要求范围内对本发明的各种修改和变形。

Claims (52)

1、一种包括UV照射装置的液晶显示器(LCD)制造系统，包括：
UV光源，具有UV灯和反射板；
底座，支撑UV光源且可相对于水平面倾斜；以及
平台，上面放置将用UV光源照射的基板。
2、一种包括UV照射装置的液晶显示器(LCD)制造系统，包括：
UV光源，具有UV灯和反射板；
底座，支撑UV光源；以及
平台，上面放置将用UV光源照射的基板，平台可相对于水平面倾斜。
3、一种包括UV照射装置的液晶显示器(LCD)制造系统，包括：
UV光源，具有UV灯和与UV灯相邻的反射板，反射板配置成允许UV光源相对于水平面以倾斜角照射；
底座，支撑UV光源；以及
平台，上面放置将用UV光源照射的基板。
4、根据权利要求1的液晶显示器制造系统，其中，UV光源包括多个UV光源部件。
5、根据权利要求2的液晶显示器制造系统，其中，UV光源包括多个UV光源部件。
6、根据权利要求4的液晶显示器制造系统，其中，UV光源部件由单个支架支撑。
7、根据权利要求5的液晶显示器制造系统，其中，UV光源部件由单个支架支撑。
8、根据权利要求4的液晶显示器制造系统，其中，UV光源部件由多个支架支撑。
9、根据权利要求5的液晶显示器制造系统，其中，UV光源部件由多个支架支撑。
10、根据权利要求1的液晶显示器制造系统，其中，平台是可移动的。
11、根据权利要求3的液晶显示器制造系统，其中，平台是可移动的。
12、根据权利要求3的液晶显示器制造系统，其中，反射板是可移动的。
13、根据权利要求3的液晶显示器制造系统，其中，UV光源是可移动的。
14、一种将UV光源照射到液晶显示装置的基板上的装置，包括：
平台，支撑预定平面中将用UV光照射的基板；以及
UV光源，其中UV光源配置成相对于预定平面以多个角度照射光。
15、根据权利要求14的装置，其中UV光源包括多个UV光源部件。
16、根据权利要求15的装置，其中UV光源由单个支架支撑。
17、根据权利要求15的装置，其中UV光源由多个支架支撑。
18、根据权利要求14的装置，其中平台是可移动的。
19、根据权利要求14的装置，其中UV光源包括反射板。
20、根据权利要求19的装置，其中反射板是可移动的。
21、根据权利要求14的装置，其中UV光源是可移动的。
22、一种将UV光源照射到液晶显示器的基板上的装置，包括：
UV光源；以及
平台，支撑预定平面中将用UV光照射的基板；其中平台配置成相对于预定平面以多个角度照射来自UV光源的光。
23、根据权利要求22的装置，其中UV光源包括多个UV光源部件。
24、根据权利要求23的装置，其中UV光源由单个支架支撑。
25、根据权利要求23的装置，其中UV光源由多个支架支撑。
26、根据权利要求22的装置，其中平台是可移动的。
27、根据权利要求22的装置，其中UV光源包括反射板。
28、根据权利要求27的装置，其中反射板是可移动的。
29、根据权利要求22的装置，其中UV光源是可移动的。
30、一种将UV光源照射到液晶显示装置的基板上的装置，包括：
UV光源，用于产生UV光；以及
平台，支撑将用UV光照射的基板；
其中，UV光源和平台至少其中之一是可移动的，以便UV光以多个角度入射到平台上。
31、根据权利要求30的装置，其中UV光源包括多个UV光源部件。
32、根据权利要求31的装置，其中UV光源由单个支架支撑。
33、根据权利要求31的装置，其中UV光源由多个支架支撑。
34、根据权利要求30的装置，其中平台是可移动的。
35、根据权利要求30的装置，其中UV光源是可移动的。
36、一种制造液晶显示装置的方法，包括：
制备下基板和上基板；
在下基板或上基板上形成密封剂；
在下基板或上基板上施加液晶；
使上下基板彼此附接；以及
相对于附接基板以倾斜角将UV光照射到附接基板上。
37、根据权利要求36的方法，其中密封剂遇热可局部愈合。
38、根据权利要求36的方法，其中密封剂通过用UV光照射至少可局部愈合。
39、根据权利要求36的方法，其中照射UV光包括在附接基板放置在水平方向上的状态下以倾斜角照射UV光源。
40、根据权利要求36的方法，其中照射UV光包括在附接基板相对于水平面倾斜的状态下垂直照射UV光源。
41、根据权利要求36的方法，其中UV相对于垂直面以30°-60°的倾斜角照射。
42、根据权利要求36的方法，还包括用掩模覆盖未形成密封剂的区域。
43、根据权利要求42的方法，其中用掩模覆盖上述区域包括在附接基板的上或下表面上放置掩模。
44、根据权利要求42的方法，其中用掩模覆盖上述区域包括在附接基板的上和下表面上放置掩模。
45、根据权利要求36的方法，其中在上基板上形成密封剂且在下基板上施加液晶。
46、根据权利要求36的方法，照射UV光包括在照射期间改变倾斜角。
47、根据权利要求46的方法，其中以恒定速率改变倾斜角。
48、根据权利要求46的方法，其中在角度的范围内改变倾斜角。
49、根据权利要求47的方法，其中上述范围是约30-60度。
50、根据权利要求36的方法，其中在下基板上形成密封剂且在上基板上施加液晶。
51、根据权利要求36的方法，其中施加液晶包括将液晶滴到上基板和下基板的其中之一的基板上。
52、根据权利要求50的方法，其中以预定图案将液晶滴在上基板和下基板其中之一的基板上。
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