CN1614473A - 滤色器基片及其制造方法和液晶显示器 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种可减少漏光现象且提高画质的滤色器基片、用简单工序制造该滤色器基片的方法及液晶显示器。该滤色器基片包括基片、滤色器、遮光部件、及多个粒状遮光隔板。该基片包括用于遮挡光的遮光区域。将滤色器设置在基片上。将遮光部件设置在基片上的遮光区域内。将粒状遮光隔板设置在遮光区域内。因此，可以减少漏光现象，提高画质，简化了制造工序。

Description

滤色器基片及其制造方法和液晶显示器
技术领域
本发明涉及一种滤色器基片及其制造方法和液晶显示器，更具体地说，涉及一种可减少漏光现象并提高画质的滤色器基片、用简化工序制造滤色器基片的方法及可减少漏光现象并提高画质的液晶显示器。
背景技术
液晶显示器(LCD)是一种向形成薄膜晶体管的阵列基片及滤色器基片之间注入具有各向异性电容率的液晶物质并向其施加电场，通过调节该电场强度来调整透射基片的光量，从而获得图像信号的显示器。
传统液晶显示器包括第一基片、第二基片、液晶层、及隔板。
隔板使第一基片及第二基片的单元狭缝保持不变。液晶显示器的特性-黑色(Black)与白色(White)之间转换速度的应答速度、对比度、视角、亮度均匀性等随着液晶层的厚度而变化。
上述隔板有珠状隔板、圆柱形隔板、和导电性隔板等。
通常，珠状隔板(bead spacer)包含球形具有弹性的塑料材料。珠状隔板随机设置在第一基片及第二基片之间。随着珠状隔板数量的增加，可以保持均匀的单元狭缝。然而，珠状隔板数量增加时，扰乱液晶层的取向，导致液晶显示器的画质下降。
圆柱形隔板与第一基片形成一体。在制造第一基片时，调整圆柱形隔板的位置，以防止扰乱液晶层的取向。然而，因为圆柱形隔板需要单独的光学工序或蚀刻工序，这导致了液晶显示器制作成本的上升。而且，因为圆柱形隔板比珠状隔板弹性小，所以随着温度变化液晶层体积变化时可能产生气泡。
为了解决上述缺点，在日本专利平9-292619号(液晶显示器及其制造方法，Yamada Satoshi)中一起设置珠状隔板与黑阵。而且，在日本专利平5-216048号(液晶电器光学装置及其制造方法，Sugiyama Nobuo)中，涂布感光性树脂(Photoresist，光致抗蚀剂)和珠状隔板后，照射光选择性地除去感光性树脂和珠状隔板，将珠状隔板设置在规定的位置。
然而，一起形成珠状隔板与黑阵时，因为一部分光通过珠状隔板，因此降低了黑阵的遮光特性。黑阵的遮光特性降低时会产生漏光现象，导致对比度及画质降低。
而且，当用于制作液晶显示器的液晶显示器用母板大小较大时，由第一母板及第二母板错开的不良排列(Align Miss)，导致画质下降。
发明内容
为了解决上述缺点，本发明的第一目的在于提供一种减少漏光现象并提高画质的滤色器基片。
本发明的第二目的在于提供一种适合用简单工序制造滤色器基片的滤色器基片制造方法。
本发明的第三目的在于提供一种减少漏光现象并提高画质的液晶显示器。
为了实现上述第一目的根据本发明一实施例的滤色器基片包括基片、滤色器、遮光部件、及多个粒状遮光隔板(Granular MaskingSpacer)。基片包括遮挡光的遮光区域。滤色器设置在基片上。遮光部件设置在基片的遮光区域内。粒状遮光隔板设置在遮光区域内。
根据本发明另一实施例的滤色器基片包括基片、滤色器、遮光部件、多个粒状遮光隔板、及共同电极。基片包括遮挡光的遮光区域及像素区域。滤色器设置在基片上。遮光部件设置在基片上的遮光区域内。粒状遮光隔板设置在遮光区域内。共同电极具有连接设置在滤色器上像素区域内的多个像素区域用电极及邻接的像素区域用电极的电桥(bridge)。
为了实现上述第二目的，根据本发明一实施例的滤色器基片制造方法中，首先，在具有遮挡光遮光区域的基片整个面涂布包括多个粒状遮光隔板及遮光物质的感光性树脂。接着，通过掩模将感光性树脂曝光。然后，将曝光感光性树脂显像，在遮光区域内形成粒状遮光隔板及遮光部件。最后，在基片上形成滤色器。
根据本发明另一实施例的滤色器基片制造方法中，首先，在具有遮挡光遮光区域的基片上形成滤色器。接着，在基片的整个面涂布包括多个粒状遮光隔板及遮光物质的感光性树脂。然后，通过掩模，将感光性树脂曝光。然后，将曝光的感光性树脂显像，在遮光区域内形成粒状遮光隔板及遮光部件。
为了实现上述第三目的，根据本发明一实施例的液晶显示器包括第一基片、第二基片、液晶层、及多个粒状遮光隔板。第一基片包括设置在遮挡光遮光区域内的遮光部件。第二基片面对第一基片。液晶层设置在第一基片和第二基片之间。粒状遮光隔板设置在遮光区域内，保持第一基片与第二基片之间的间隔。
根据本发明第一实施例的另一液晶显示器包括滤色器基片、阵列基片、及液晶层。滤色器基片包括：包含遮挡光遮光区域的基片、设置在基片上的滤色器、设置在基片上的遮光区域内的遮光部件、设置在遮光区域内的多个粒状遮光隔板。阵列基片面对滤色器基片。液晶层设置在滤色器基片及阵列基片之间。
遮光部件包括黑阵。粒状遮光隔板包括粒状半透明隔板及粒状不透明隔板。粒状隔板(granular spacer)包括在没有粘性物质时自己无法粘结在基片上的隔板，并且可以具有多种形态及材料。
因此，粒状遮光隔板与遮光区域内的黑阵一起设置，以减少漏光现象，提高画质。而且，可以一起设置粒状遮光隔板和黑阵，使液晶显示器的制造工序简化。而且，因为粒状遮光隔板具有弹性，因此，可以吸收液晶显示器外部施加的冲击力或液晶显示器内部产生的应力。
附图说明
图1是根据本发明第一实施例的液晶显示器平面图；
图2是图1所示的液晶显示器的共同电极平面图；
图3是沿着图1的A-A′线的截面图；
图4a至图4h是根据本发明第一实施例的液晶显示器制造方法截面图；
图5是根据本发明第二实施例的液晶显示器截面图；
图6是根据本发明第三实施例的液晶显示器平面图；
图7是沿着图6的B-B′线的截面图；
图8a至图8e是根据本发明第三实施例的液晶显示器制造方法截面图；
图9是根据本发明第四实施例的液晶显示器截面图；以及
图10是根据本发明第五实施例的液晶显示器截面图。
具体实施方式
下面，参照附图详细说明根据本发明的优选实施例。
实施例1
图1是根据本发明第一实施例的液晶显示器平面图，而图3是沿着图1的A-A′线的截面图。
参照图1及图3所示，液晶显示器包括第一基片170、第二基片180、液晶层108、及粒状遮光隔板110。第一基片170包括上部基片100、黑阵102a、滤色器104a、保护涂层105、及共同电极106a。第二基片180包括下部基片120、薄膜晶体管119、源极线118a′、栅极线118b′、栅极绝缘层126、钝化层116、有机层114、及像素电极112。第一基片170包括像素区域140及遮光区域145。
像素区域140是调整液晶排列且显示图像的区域。滤色器104a、共同电极106a等设置在像素区域140内。周边区域145是无法调整液晶排列的区域，光被遮挡。黑阵102a设置在周边区域145内。
上部基片100及下部基片120使用可以通过光的透明材料的玻璃。玻璃是无碱性的。当玻璃为碱性时，玻璃的碱性离子可能溶进液晶单元中，液晶电阻率下降，导致显示特性改变，降低封口与玻璃间的附着力，对薄膜晶体管的工作起副作用。
黑阵102a设置在遮光区域145内遮挡光。黑阵102a遮挡通过无法控制液晶区域的光，以提高画质。而且，黑阵102a起将粒状遮光隔板110粘结在上部基片100上的粘合剂作用。
优选地，黑阵102a包括具有黑色颜料的感光性树脂。而且，黑阵102a可以由聚碳酸酯(polycarbonate)组成。
粒状遮光隔板110隔着黑阵102设置在基片100上。用隔板110第一基片170及第二基片180之间的单元狭缝保持稳定。
粒状遮光隔板110具有球形、正六面体、其它多面体形状。优选地，粒状遮光隔板110包括具有球形的珠状隔板。
粒状遮光隔板110包括包含黑色颜料的合成树脂。这时，粒状遮光隔板110也可以包含黑色染料。合成树脂是热塑性树脂或热固性树脂。合成树脂具有弹性，吸收液晶显示器外部的冲击力或液晶显示器内部产生的应力。
粒状遮光隔板110的横截面积为黑阵102a面积的20％以下。当粒状遮光隔板110的面积超过黑阵102a面积的20％时，粒状遮光隔板110就相互重叠，导致单元狭缝的不良。优选地，粒状遮光隔板110的横截面积在黑阵102a面积10％以下。
优选地，粒状遮光隔板110的宽度与黑阵102a宽度比为1∶3至1∶6。因为邻接粒状遮光隔板110的液晶取向不良，当粒状遮光隔板110的宽度与黑阵102a的宽度比在1∶3以上时，黑阵102a无法遮挡通过不良取向液晶的光，因此，液晶显示器的画质会降低。而且，粒状遮光隔板110的宽度与黑阵102a宽度在1∶6以上时，因遮挡光的宽度太宽，纵横比(开口率，opening rate)就会下降。更优选地，粒状遮光隔板110的宽度与黑阵102a宽度比为1∶5。
优选地，粒状遮光隔板110的宽度在6μm至10μm之间，黑阵102a的宽度在27μm至33μm之间。
将滤色器104a设置在形成黑阵102及粒状遮光隔板110的上部基片100上，只选择性地透射规定波长的光。
将保护涂层105设置在设置黑阵102a、粒状遮光隔板110及滤色器104a的上部基片100上，消除因黑阵102a及滤色器104a引起的高度差，并使粒状遮光隔板110的一部分凸出。保护涂层105包括透明材料的有机层。
共同电极106a设置在保护涂层105上。共同电极106a包括ITO(氧化铟锡)、IZO(氧化铟锌)或ZO(氧化锌，Zinc Oxide)等透明导电性物质。
优选地，为了防止根据上部基片170与下部基片180之间不良排列引起的共同电极106a与像素电极110之间的短路，开口遮光区域145内的共同电极106a的一部分，露出粒状遮光隔板110。
图2是图1的液晶显示器共同电极平面图。
参照图2所示，共同电极106a具有设置在滤色器104a上的像素区域140内的多个像素区域用电极128及连接邻接的像素区域用电极的电桥129。
这时，在第二基片180的有机层上并排设置共同电极106a和像素电极112。
薄膜晶体管119形成在下部基片120上，并且包括源极118a、栅极118b、漏极118c及半导体层图案。驱动电路(未示出)输出数据电压，通过源极线118a′传送到源极118a，输出选择信号并通过栅极线118b′传送到栅极118b。
将半导体图案设置在栅极绝缘层126上，在栅极118b上施加选择信号时，在源极118a和漏极118c之间通过半导体层图案传导电流。
存储电容器(未示出)形成在下部基片120上，保持共同电极106a与像素电极113之间的电位差。存储电容器(未示出)为前端栅极方式或独立布线方式。
栅极绝缘层126设置在形成栅极118b及栅极线118b′的上部基片120的整个面，将栅极118b与源极118a及漏极118c电绝缘。栅极绝缘层126包括氮化硅(SiNx)。
钝化层116设置在形成薄膜晶体管119的下部基片120上的整个面。钝化层126包括氮化硅(SiNx)。
有机层114设置在钝化层116的整个面上，包括露出漏极一部分的小孔。钝化层126及有机层114绝缘薄膜晶体管119与像素电极。随着有机层114调整液晶层。有机层114设置在薄膜晶体管119、源极线118a′、栅极线118b′，对具有不同高度的下部基片起平坦化作用。这时，有机层114可能具有互不相同的单元狭缝，且有机层114的上部表面可以具有多个凹部(Recess)及突出部(Protrusion)。
像素电极112形成在露出有机层114上的像素电极140及漏极118c的开口部内侧，与漏极118c电连接。像素电极112根据施加在于共同电极106a之间的电压，控制液晶层208内的液晶，调整光的透射。像素电极112包括透明导电性物质氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(Zinc Oxide，ZO)等。这时，有机层114的一部分或像素电极112的一部分上可能设置反射外部光的反射电极(未示出)。
这时，像素电极112可能设置在有机层114与钝化层116之间。
驱动电路(未示出)通过薄膜晶体管119向像素电极112提供数据电压，在共同电极106a与像素电极112之间形成电场。
液晶层108设置在第一基片170及第二基片180之间，并用封口(Seal，未示出)封闭。液晶层108内的液晶以垂直取向(VA)、扭曲取向(TN)、混合扭曲取向(Mixed Twisted Nematic，MTN)或均匀取向(Homogeneous)等模式排列。
为了取向液晶，在第一基片170及第二基片180的表面设置取向层(未示出)，并将取向层(未示出)的表面以一定方向研磨(Rubbing)。
图4a至图4h是根据本发明第一实施例的液晶显示器制造方法截面图。
参照图4a所示，首先，在上部基片100上限定显示图像的像素区域140及遮挡光的遮光区域145。
参照图4b所示，接着，在上部基片100的整个面涂布包括粒状遮光隔板110的黑感光性树脂。通过狭缝涂布(Slit Coating)工序或旋转涂布(Spin Coating)工序涂布粒状遮光隔板110和黑感光性树脂。优选地，用狭缝涂布工序涂布粒状遮光隔板110和黑感光性树脂。在狭缝涂布工序中，通过狭缝喷射粒状遮光隔板110和黑感光性树脂的混合物，在上部基片100的整个面以均匀厚度涂布。粒状遮光隔板110由黑感光性树脂粘结在上部基片100上。这时，黑感光性树脂包括曝光部分由显像除去的正性感光性树脂(PositivePhotoresist)或曝光部分残留的负性感光性树脂(NegativePhotoresist)。
参照图4c所示，然后，利用掩模将已涂布的粒状遮光隔板110及黑感光型树脂露用紫外线(Ultraviolet，UV)进行曝光。因粒状遮光隔板110具有遮挡光的特性，优选地，紫外线照射在涂布感光性树脂的反面进行。掩模(未示出)包括不透射紫外线的不透明部分及透射紫外线的透明部分。不透明部分对应于遮光区域145，透明部分对应于像素区域140。
照射紫外线的部分因黑感光性树脂的分子结合被断裂，导致像素区域140内的黑感光性树脂分子量减少。
接着，显像(Developing)曝光的粒状遮光隔板110及黑感光性树脂。根据上述显像，除去减少分子量的黑感光性树脂及像素区域140内的粒状遮光隔板，在遮光区域145内形成粒状遮光隔板110及黑阵102a。
参照图4d所示，然后，在形成黑阵102a及粒状遮光隔板110的上部基片100上形成滤色器104a。滤色器104a只透射特定波长的光。优选地，涂布包括颜料(Pigment)的感光性树脂后，将感光性树脂曝光后显像，形成滤色器104a。这时，也可以先形成滤色器104a后形成黑阵102a及粒状遮光隔板110。
参照图4e所示，接着，在形成滤色器104a的上部基片100上涂布透明有机物，形成保护涂层105。保护涂层105除去黑阵102a及滤色器104a的高度差，并使粒状遮光隔板110的一部分突出。
参照图4f所示，接着，在保护涂层105的整个面涂布透明导电物质。然后，除去对应于遮光区域145的透明导电物质的一部分，形成具有连接设置在滤色器104a上的像素区域140内的多个像素区域用电极128及邻接的像素区域用电极的电桥的共同电极106a。
接着，形成包括上部基片100、黑阵102a、粒状遮光隔板110、滤色器104a、保护涂层105及共同电极106a的第一基片。
参照图4g所示，然后，在下部基片120上沉积导电物质。接着，蚀刻导电物质的一部分形成栅极118b及栅极线118b′。然后，在形成栅极118b及栅极线118b′的下部基片120的整个面沉积栅极绝缘层126。栅极绝缘层126包括透明绝缘物质。优选地，栅极绝缘层126包含氮化硅层(SiNx)。
接着，沉积非晶硅及N+非晶硅并蚀刻，在对应于栅极118b的栅极绝缘层126上形成半导体层。接着，在形成半导体层的栅极绝缘层126上沉积导电物质。然后，蚀刻导电物质的一部分，形成源极118a、源极线118a′及漏极118c。因此，形成包括源极118a、栅极118b、漏极118c及半导体层的薄膜晶体管119。
接着，在形成薄膜晶体管119的下部基片120上沉积透明绝缘物质形成钝化层。优选地，透明绝缘物质包括氮化硅(SiNx)。然后，除去钝化层的一部分，形成露出栅极118c一部分的开口部。这时，也可以形成有机层114后形成开口部。
接着，在钝化层116上涂布有机物质形成有机层。优选地，有机物质包括感光性树脂成分。
然后，将有机层曝光后显像，形成漏极118c一部分开口的有机层114。这时，优选地，在有机层的上部表面形成凹部(未示出)和突出部(未示出)。
接着，在有机层114及感光性树脂层116上沉积透明导电物质。透明导电物质包括ITO、IZO、ZO。优选地，透明导电物质包含ITO。接着，蚀刻导电物质的一部分，在像素区域140内形成像素电极112。
这时，也可以在有机层114及透明电极112上形成反射电极(未示出)。
因此，形成包括下部基片120、薄膜晶体管119、源极线118a′、栅极线118b′、有机层114及像素电极112的第二基片180。
参照图4h所示，接着，面对结合第一基片170及第二基片180。
接着，在第一基片170及第二基片180之间注入液晶层108之后，用封口(Seal，未示出)封闭。这时，也可以在形成封口(未示出)的第一基片或第二基片上荷载液晶后，面对结合第一基片及第二基片，形成液晶层108。
因此，包括不透明物质的粒状遮光隔板110在遮光区域145内与黑阵102a一起设置，减少漏光现象、提高画质。而且，粒状遮光隔板110和黑阵102a一起形成，因此可以用比较简单的工序制造液晶显示器。而且，粒状遮光隔板110富有弹性，因此，吸收液晶显示器外部施加的冲击力或液晶显示器内部产生的应力。
实施例2
图5是根据本发明第二实施例的液晶显示器截面图。因为在本发明实施例中除了第二基片包括滤色器之外其他结构因素都与第一实施例相同，因此对重复的部分省略详细说明。
参照图5所示，第一基片170包括上部基片100、黑阵102a、保护涂层105、及共同电极106a。第二基片180包括下部基片120、薄膜晶体管119、源极线118a′、栅极线118b′、栅极绝缘层126、钝化层116、滤色器104b、有机层114、及像素电极112。
优选地，滤色器104b设置在钝化层116与有机层114之间。这时，滤色器104b可以设置在有机层114与像素电极112之间。而且，可以省略有机层114。
因此，滤色器104b设置在钝化层116与有机层114之间，即使第一基片170与第二基片180之间产生不良排列，也能保持滤色器104b和像素电极112的整列(Alignment)。
实施例3
图6是根据本发明第三实施例的液晶显示器截面图。图7是沿着图6的B-B′线的截面图。在本实施例中除了黑阵及共同电极之外的其他结构与第一实施例相同，因此，对于重复部分省略详细说明。
参照图6及图7所示，第一基片170包括上部基片100、滤色器104a、保护涂层105及共同电极106b。第二基片180包括下部基片120、薄膜晶体管119、源极线118a′、栅极线118b′、栅极绝缘层126、钝化层116、黑阵102b、有机层114及像素电极112。
滤色器104a形成在上部基片100上，只选择性地透射规定波长的光。
将保护涂层105设置在设置滤色器104a的上部基片100上，消除由滤色器104a引起的高度差，对上部基片100的表面进行平坦化。
共同电极106b设置在保护涂层105的整个面。
黑阵102b设置在对应于遮光区域145的钝化层116上遮挡光。
粒状遮光隔板110由黑阵102及有机层114粘结在下部基片120上。
有机层114设置在形成黑阵102b及粒状遮光隔板110的钝化层116的整个面，包括露出漏极118c一部分的小孔。钝化层116及有机层114绝缘薄膜晶体管119和像素电极112。由有机层114和粒状遮光隔板110调整液晶层108的厚度。
图8a至图8e是根据本发明第三实施例的液晶显示器制造方法的截面图。
参照图8a所示，首先，在上部基片100上限定显示图像的像素区域140及遮挡光的遮光区域145。然后，在上部基片100上像素区域140内形成滤色器104a。接着，在形成滤色器104a的上部基片100上涂布透明有机物形成保护涂层105。接着，在保护涂层105的整个面涂布透明导电物质形成共同电极106b。
因此，形成包括上部基片100、滤色器104a、保护涂层105及共同电极106b的第一基片170。
参照图8b所示，然后，在下部基片120上形成薄膜晶体管119。接着，在形成薄膜晶体管119的下部基片120上沉积透明绝缘物质形成钝化层。然后，除去钝化层的一部分形成露出漏极118c一部分的开口部。
参照图8c所示，接着，在钝化层116的整个面涂布包括粒状遮光隔板110的黑感光性树脂。通过狭缝涂布工序或旋转涂布工序涂布粒状遮光隔板110和黑感光性树脂。粒状遮光隔板110由黑感光性树脂粘结在钝化层116上。
然后，将涂布的粒状遮光隔板110及黑感光性树脂用紫外线(UV)曝光显像后，在对应于遮光区域145的钝化层116上形成粒状遮光隔板110及黑阵102b。
参照图8d所示，接着，在形成粒状遮光隔板110及黑阵102b的钝化层116上形成漏极118c一部分开口的有机层114。
接着，在有机层114及钝化层116上沉积透明导电物质。然后，通过光学蚀刻工序蚀刻透明导电物质的一部分，在像素区域140内形成像素电极112。
接着，形成包括下部基片120、薄膜晶体管119、源极线118a′、栅极线118b′、有机层114、黑阵102b、及像素电极112的第二基片180。
参照图8e所示，接着，面对结合第一基片170及第二基片180，并在第一基片170及第二基片180之间注入液晶层108。
接着，黑阵102b设置在钝化层116上，省略除去对应于遮光区域145的共同电极106b一部分的工序，即使第一基片170与第二基片180之间具有不良排列，共同电极106b与像素电极112之间也不会产生短路(Short)。
实施例4
图9是根据本发明第四实施例的液晶显示器截面图。在本实施例中除了第二基片包括滤色器之外，其他结构因素与第三实施例相同，因此对重复的部分省略详细说明。
参照图9所示，第一基片170包括上部基片100、保护涂层105、及共同电极106b。第二基片180包括下部基片120、薄膜晶体管119、源极线118a′、栅极线118b′、栅极绝缘层126、钝化层116、滤色器104b、黑阵102b、有机层114、及像素电极112。
优选地，滤色器104b设置在钝化层116与有机层114之间。这时，滤色器104b也可以设置在有机层114与像素电极112之间。而且，也可以省略有机层114。
滤色器104b设置在钝化层116与有机层114之间，黑阵102b设置在钝化层116上，省略除去对应于遮光区域145的共同电极106b一部分的工序，即使第一基片170与第二基片180之间产生不良排列，滤色器104b与像素电极112保持整列，共同电极106b与像素电极112之间不发生短路。
实施例5
图10是根据本发明第五实施例的液晶显示器截面图。在本实施例中除了第二基片包括滤色器之外，其他结构因素与第三实施例相同，因此，对于重复的部分省略详细说明。
第一基片170包括上部基片100及共同电极106b。第二基片180包括下部基片120、薄膜晶体管119、源极线118a′、栅极线118b′、栅极绝缘层126、钝化层116、滤色器104b、黑阵102b、有机层114、及像素电极112。
滤色器104b设置在钝化层116与有机层114之间，黑阵102b设置在钝化层116上，因此，不产生因上部基片100上的滤色器104b或黑阵102b引起的高度差。
共同电极106b直接设置在上部基片100上，省略共同电极106b和上部基片100之间的保护涂层105。
接着，滤色器104b设置在钝化层116与有机层114之间，黑阵102b设置在钝化层116上。保护涂层105省略，也能减少液晶显示器的制造成本。
根据本发明，粒状遮光隔板在遮光区域内与黑阵一起设置，减少漏光现象，提高了画质。而且，一起形成粒状遮光隔板110和黑阵102a，简化了液晶显示器的制造工序。而且，因为粒状遮光隔板具有弹性，吸收液晶显示器外部施加的冲击力或液晶显示器内部产生的应力。
而且，滤色器设置在钝化层和有机层之间，即使第一基片及第二基片之间产生不良排列，也能保持滤色器与像素电极的整列。而且，黑阵设置在钝化层上，省略了除去对应遮光区域的共同电极一部分的工序，即使第一基片与第二基片之间产生不良排列，共同电极与像素电极之间也不产生短路，也可以省略保护涂层。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (24)

1.一种滤色器基片，包括：
基片，包含遮挡光的遮光区域；
滤色器，设置在所述基片上；
遮光部件，设置在所述基片上的所述遮光区域内；以及
多个粒状遮光隔板，设置在所述遮光区域内。
2.根据权利要求1所述的滤色器基片，其特征在于，所述粒状遮光隔板由具有黑色物质的合成树脂组成。
3.根据权利要求2所述的滤色器基片，其特征在于，所述黑色物质为黑色染料或黑色颜料。
4.根据权利要求1所述的滤色器基片，其特征在于，所述粒状遮光隔板为球形、正六面体形、圆柱形、或多边柱形。
5.根据权利要求1所述的滤色器基片，其特征在于，所述遮光部件由感光性树脂组成。
6.根据权利要求1所述的滤色器基片，其特征在于，所述遮光部件由聚碳酸酯组成。
7.根据权利要求1所述的滤色器基片，其特征在于，所述遮光部件具有粘结所述粒状遮光隔板的粘性。
8.根据权利要求7所述的滤色器基片，其特征在于，所述粒状遮光部件的宽度与所述遮光部件的宽度比为1∶3至1∶6。
9.根据权利要求1所述的滤色器基片，其特征在于，所述粒状遮光隔板的横截面积为所述黑阵面积的20％以下。
10.一种滤色器基片，包括：
基片，包含遮挡光的遮光区域及像素区域；
滤色器，设置在所述基片上；
遮光部件，设置在所述基片上的所述遮光区域内；
多个粒状遮光隔板，设置在所述遮光区域内；以及
电桥，具有连接设置在所述滤色器上所述像素区域内的
多个像素区域用电极及邻接的所述像素区域用电极。
11.根据权利要求10所述的滤色器基片，其特征在于，所述遮光部件具有粘结所述粒状遮光隔板的粘性。
12.一种滤色器基片制造方法，包括以下工序：
在具有遮挡光遮光区域的基片整个面上涂布包括多个粒状遮光隔板及遮光物质的感光性树脂；
通过掩模将所述感光性树脂曝光；
显像所述曝光的感光性树脂，在所述遮光区域内形成所述粒状遮光隔板及遮光部件；以及
在所述基片上形成滤色器。
13.根据权利要求12所述的滤色器基片制造方法，其特征在于，在曝光所述感光性树脂的工序中，对涂布所述感光性树脂的对面进行曝光。
14.根据权利要求12所述的滤色器基片制造方法，其特征在于，涂布所述感光性树脂的工序包括狭缝涂布工序。
15.根据权利要求12所述的滤色器基片制造方法，其特征在于，涂布所述感光性树脂的工序包括旋转涂布工序。
16.一种滤色器基片制造方法，包括以下工序：
在形成所述粒状遮光隔板、所述遮光部件、及所述滤色器的基片上涂布透明导电物质；以及
除去所述遮光区域上部分透明导电物质，形成具有连接设置在所述滤色器上的所述像素区域内的多个像素区域用电极及邻接的所述像素区域用电极的电桥的共同电极。
17.一种滤色器基片制造方法，包括以下工序：
在具有遮挡光遮光区域的基片上形成滤色器；
在所述基片整个面涂布包括多个粒状遮光隔板及遮光物质的感光性树脂；
通过掩模对所述感光性树脂曝光；以及
将所述曝光的感光性树脂显像，在所述遮光区域内形成所述粒状遮光隔板及遮光部件。
18.根据权利要求17所述的滤色器基片制造方法，其特征在于，在曝光所述感光性树脂的工序中，对涂布所述感光性树脂的对面进行曝光。
19.一种液晶显示器，包括：
第一基片，包含设置在遮挡光的遮光区域内的遮光部件；
第二基片，面对所述第一基片；
液晶层，设置在所述第一基片及所述第二基片之间；以及
多个粒状遮光隔板，设置在所述遮光区域内，保持所述第一基片和所述第二基片之间的间隔。
20.根据权利要求19所述的液晶显示器，其特征在于，还包括设置在所述第二基片上的滤色器及设置在所述第二基片上的薄膜晶体管。
21.根据权利要求19所述的液晶显示器，其特征在于，还包括设置在所述第一基片上的薄膜晶体管。
22.根据权利要求21所述的液晶显示器，其特征在于，还包括设置在所述第一基片上的滤色器。
23.一种液晶显示器，包括：
滤色器基片，包括包含遮挡光遮光区域的基片、设置在所述基片上的滤色器、设置在所述基片上的所述遮光区域内的遮光部件、设置在所述遮光区域内的多个粒状遮光隔板；
阵列基片，面对所述滤色器基片；以及
液晶层，设置在所述滤色器基片及所述阵列基片之间。
24.根据权利要求23所述的液晶显示器，其特征在于，所述粒状遮光隔板的宽度与所述遮光部件的宽度比为1∶3至1∶6。
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