CN1888962A - 液晶显示设备及其制造方法 - Google Patents

液晶显示设备及其制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN1888962A
CN1888962A CNA2005100971088A CN200510097108A CN1888962A CN 1888962 A CN1888962 A CN 1888962A CN A2005100971088 A CNA2005100971088 A CN A2005100971088A CN 200510097108 A CN200510097108 A CN 200510097108A CN 1888962 A CN1888962 A CN 1888962A
Authority
CN
China
Prior art keywords
substrate
liquid crystal
photosensitive material
crystal display
interval body
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA2005100971088A
Other languages
English (en)
Other versions
CN100424574C (zh
Inventor
柳尚澈
金钟熙
丁相哲
柳基泽
朴商炜
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LG Display Co Ltd
Original Assignee
LG Philips LCD Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LG Philips LCD Co Ltd filed Critical LG Philips LCD Co Ltd
Publication of CN1888962A publication Critical patent/CN1888962A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100424574C publication Critical patent/CN100424574C/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133345—Insulating layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136231—Active matrix addressed cells for reducing the number of lithographic steps
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/50—Protective arrangements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

液晶显示设备及其制造方法。提供了一种可以通过简化工艺制造的液晶显示设备。该液晶显示设备包括第一基板和第二基板，以及介于该第一基板与该第二基板之间的液晶层。将薄膜晶体管形成在限定在第一基板上的像素区中。将感光材料涂覆在各个薄膜晶体管上，并通过包括全开口区域、半开口区域和封闭区域的光掩模来照射光。因此，从像素区去除感光材料，并且将钝化层和间隔体同时形成在各个薄膜晶体管上。将透明导电图案与形成在像素区中的像素电极一起形成在间隔体上，并且将该透明导电图案电连接到第二基板的公共电极。

Description

液晶显示设备及其制造方法
技术领域
本发明涉及一种液晶显示设备(LCD)，更具体地，涉及一种可以通过简化工艺制造的LCD，以及制造该LCD的方法。
背景技术
液晶显示设备(LCD)由于其具有良好的便携性和低功耗，并且技术精细、附加值高，所以被看作是下一代显示设备。
LCD包括其间充有液晶的两个玻璃(或塑料)基板。在各个基板上形成有透明电极(例如公共电极和像素电极)以向所充的液晶施加给定电压。通过施加到透明电极的电压来控制液晶板的透光率，并通过光快门效应来显示字符/图像。
包括用于驱动各个像素的开光装置的有源矩阵型LCD由于其在显示运动图像时的优异的分辨率和性能而被最广泛地使用。
通常，制造液晶板的方法包括：用于形成开光装置和像素电极的阵列基板制造工艺；用于形成滤色器和公共电极的滤色器基板制造工艺；以及用于将液晶插入在两个基板之间的液晶单元工艺。
在与阵列基板制造工艺和滤色器基板制造工艺相比时，液晶单元工艺要求很少的操作或没有重复操作。可以将液晶单元工艺大致划分为：用于调整液晶分子的排列方向的配向层形成操作；单元间隙形成操作；单元切割操作；以及液晶注入操作。
图1是现有技术的LCD的剖面图。
参照图1，LCD包括彼此分开预定距离的阵列基板30和滤色器基板10，以及介于阵列基板30与滤色器基板10之间的液晶层50。
阵列基板30包括：透明基板1；形成在透明基板1上的栅极32；形成在包括栅极32的透明基板1上的栅绝缘层34；半导体层36，其包括与栅极32相对应地依次形成在栅绝缘层34上的有源层36a和欧姆接触层36b；以及形成在半导体层36上的彼此分开预定距离的源极38和漏极40。栅极32、半导体层36、以及源极38和漏极40构成薄膜晶体管(TFT)T。
尽管图1中未示出，但是沿第一方向形成有与栅极32相连的选通线，沿与第一方向交叉的第二方向形成有与源极38相连的数据线。将选通线和数据线相互交叉的区域定义为像素区P。
在TFT T上形成有具有漏极接触孔44的钝化层42，在像素区P中形成有通过漏极接触孔44与漏极40电连接的像素电极48。
滤色器基板10包括：透明基板5；形成在透明基板5上的与像素电极48相对应的位置处的滤色器层14，以使特定波长的光透过；以及形成在透明电极5与滤色器层14之间的界面处的黑底12，以阻挡漏光并阻止光流入TFT T。
在滤色器层14和黑底12上形成有用于向液晶层50施加电压的公共电极16。
为了防止液晶层50泄漏，利用密封图案52密封阵列基板30和滤色器基板10的边缘。
在阵列基板30与滤色器基板10之间的预定区域处布置有球状间隔体54以保持其间的单元间隙。
球状间隔体54由具有抗外部压力的弹性的有机材料或玻璃纤维形成。将球状间隔体54随机地散布在基板10和30上，因此存在以下问题。
第一，球状间隔体的可能移动可能会引起配向层中的缺陷。
第二，球状间隔体与相邻液晶分子之间的吸收力(absorptivepower)可能在球状间隔体周围引起漏光。
第三，在宽屏LCD的情况下，难以保持稳定的单元间隙。
第四，球状间隔体是弹性的并可移动的，因此在触摸屏幕时可能引起波纹现象。
因此，在使用球状间隔体保持单元间隙的LCD中难以获得高质量的图像。
为了解决这些问题，提出一种通过光刻法在预定位置处形成间隔体图案(即构图间隔体)的方法。
将构图间隔体固定在LCD的非像素区。因此，使用构图间隔体使得可以容易地保持单元间隙、防止漏光、对于要求小单元间隙的LCD精确地控制单元间隙、增强LCD的强度、并防止在触摸屏幕时出现波纹现象。
图2是现有技术的包括构图间隔体的LCD的剖面图。
参照图2，LCD包括彼此相对设置的阵列基板70和滤色器基板60。在阵列基板70上形成有TFT T和由透明导电材料制成的与TFT T相连的像素电极72。在滤色器基板60上与TFT T相对应的位置处形成有黑底62，在黑底62上与像素电极72相对应的位置处形成有滤色器64，并且在滤色器64上形成有公共电极66。
在黑底62与TFT T之间形成有构图间隔体74，以保持阵列基板70与滤色器基板60之间的均匀的单元间隙。
在阵列基板70与滤色器基板60之间插入有液晶层80。
在现有技术中，在基板70和60之一上形成构图间隔体，然后将基板70和60接合在一起，从而保持基板70与60之间的均匀的单元间隙。
然而，必须通过单独的掩模工艺来形成构图间隔体74。这使得增加了整个制造工艺的复杂性和成本。
发明内容
因此，本发明旨在一种LCD及其制造方法，其基本上消除了由于现有技术的局限和缺点所导致的一个或更多个问题。
本发明的一个优点是提供了一种具有带有间隔体的钝化层的LCD，以及制造该LCD的方法。
本发明的另一优点是提供了一种其中可以使用间隔体上的导电材料来代替Ag点的LCD，以及制造该LCD的方法。
本发明的其它特征和优点将部分地在以下说明中提出，并且部分地通过该说明而变得明了，或者可以通过对本发明的实践而习得。本发明的这些和其它优点可以通过在所撰写的说明书及其权利要求以及附图中具体指出的结构而实现和获得。
为了实现这些和其它优点并且根据本发明的目的，如本文所具体实施和广泛描述地，提出了一种LCD设备，其包括：彼此面对并包括以矩阵形式排列的多个像素区的第一基板和第二基板；介于第一基板与第二基板之间的液晶层；形成在第一基板的像素区上的多个TFT；形成在TFT上的多个钝化层；以及与钝化层一体地形成的间隔体。
在本发明的另一方面，提供了一种制造LCD设备的方法，该方法包括：在第一基板上的各个像素区中形成多个TFT，其中在该第一基板中限定有以矩阵排列的多个像素区；在TFT上同时形成间隔体和钝化层；制备面对第一基板并包括滤色器层和公共电极的第二基板；并且在第一基板与第二基板之间插入有液晶层。
应该理解，对本发明实施例的上述一般性说明和以下详细说明都是示例性和说明性的，旨在提供对要求保护的本发明的进一步的理解。
附图说明
包含附图以提供对本发明的进一步的理解，将其并入并构成本申请的一部分，附图示出了本发明的实施例并与说明书一起用于说明本发明的原理。在附图中：
图1是现有技术的LCD的剖面图；
图2是现有技术的包括构图间隔体的LCD的剖面图；
图3是根据本发明实施例的LCD的剖面图；以及
图4A至图4E是表示制造根据本发明实施例的LCD的工艺的序列剖面图。
具体实施方式
下面详细说明本发明的具体实施例，其示例在附图中示出。只要可能，在所有图中，将使用相同的标号来指示相同或者相似的部分。
图3是根据本发明实施例的LCD的剖面图。
具体地，图3示出了在LCD的显示区域中的周边像素A和中心像素B。
参照图3，LCD包括彼此相对设置的阵列基板130和滤色器基板110，以及介于阵列基板130与滤色器基板110之间的液晶层150。
阵列基板130包括：透明基板101；形成在透明基板101上的栅极132；形成在包括栅极132的透明基板101上的栅绝缘层134；半导体层136，其包括与栅极132相对应地依次形成在栅绝缘层134上的有源层136a和欧姆接触层136b；以及形成在半导体层136上并且彼此分开预定距离的源极138和漏极140。栅极132、半导体层136、以及源极38和漏极40构成薄膜晶体管(TFT)T。
尽管图3中未示出，但是沿第一方向形成与栅极132相连的选通线，并且沿与第一方向交叉的第二方向形成与源极138相连的数据线。将选通线与数据线相互交叉的区域定义为像素区。
在TFT T上形成具有漏极接触孔144的钝化层142，并且在像素区中形成通过漏极接触孔144与漏极140电连接的像素电极148。
钝化层142形成在与TFT T和数据线相对应的位置处，而不是形成在像素区中。
钝化层142与间隔体162形成在一片内，并且形成在周边像素A的部分中的间隔体162上形成由与像素电极148相同材料制成的透明导电图案168。将间隔体162形成为多个。间隔体162可以是构图间隔体。
将透明导电图案168形成为经由密封图案152的底面延伸到周边部分。
滤色器基板110包括：透明基板102；形成在基板102上的与TFT T相对应的区域中的黑底112；形成在基板102上的与像素电极148相对应的区域中的滤色器层114；形成在滤色器层114上的保护层(overcoatlayer)118；以及形成在保护层118上的并以与像素电极148相同的材料制成的公共电极116。
在显示区域周围形成有用于将阵列基板130与滤色器基板110接合在一起的密封图案152。
与钝化层142形成在一片中的间隔体162用于保持阵列基板130与滤色器基板110之间的均匀的单元间隙，并且该间隔体162形成在黑底与TFT T之间的区域中。
尽管图3未示出，但是在液晶层150与基板110和130的每一个之间的界面上形成有用于调整液晶分子排列方向的配向层。
形成在周边像素A的间隔体162上的透明导电图案168与公共电极116电连接。将经由密封图案152的底面延伸到周边部分的透明导电图案168与公共电压生成器(未示出)相连。
因此，通过形成在间隔体162上的透明导电图案168将公共电压施加到公共电极116上。
如上所述，将钝化层142和间隔体162形成在一片中，并且它们是在通过使用一个衍射掩模而无需使用额外掩模工艺的情况下由感光性材料同时制成的，从而可以降低整个制造过程的复杂性和成本。
图4A至图4E是表示根据本发明实施例的LCD的制造工艺的序列剖面图。
参照图4A，在基板101上淀积金属材料，并对所得结构进行构图以形成选通线(未示出)和栅极132。
在包括栅极132的基板101上淀积从包括硅氮化物(SiNX)和二氧化硅(SiO2)的组中选择出的有机绝缘材料，以形成栅绝缘层134。
参照图4B，在包括栅绝缘层134的基板101上依次淀积非晶硅和含杂非晶硅，然后通过光刻法对所得结构进行构图以形成岛形的有源层136a和欧姆接触层136b。有源层136a和欧姆接触层136b构成半导体层136。
其后，在包括半导体层136的基板101上淀积金属材料，并对所得结构进行构图，以在基板101上形成与选通线交叉的数据线(未示出)以及彼此分开预定距离的源极138和漏极140，该预定距离与栅极132相对应。
参照图4C，在包括源极138和漏极140的基板101上形成负性光刻胶160。
负性光刻胶160是光可固化材料。
在负性光刻胶160上将光掩模180对准，并将光照射到所得结构上。
光掩模180包括全开口区域180a、半开口区域180b和封闭区域180c。全开口区域180a被形成为面对间隔体形成部分(例如，与源极138相对应的区域)以完全透光。半开口区域180b被形成为面对钝化层形成部分(例如，与栅极132相对应的区域)以衍射并透射光。封闭区域180c被形成为面对漏极接触孔形成部分(例如，漏极140上的给定区域)和像素电极形成部分(例如，像素区)以完全阻光。
参照图4D，透射光使面对光掩模180的全开口区域180a的光刻胶160硬化以形成间隔体162。另外，通过光掩模180的半开口区域180b使光衍射。衍射光使面对半开口区180b的负性光刻胶160半硬化以形成钝化层142。此外，将面对封闭区域180c的负性光刻胶160去除以形成漏极接触孔144并暴露像素区上的栅绝缘层134。即，因为封闭区域180c不透光所以去除栅绝缘层134上的负性光刻胶160。
参照图4E，在基板101的整个区域上形成透明导电材料并对所得结构进行构图以形成像素电极148和透明导电图案168。
像素电极148通过漏极接触孔144与漏极140相连，并且像素电极148形成在像素区的被暴露的栅绝缘层134上。在形成周边像素A的部分上的间隔体162上形成透明导电图案168。
因此，透明导电图案168与滤色器基板110的公共电极116接触，并与经由密封图案152的底面延伸到外部的公共电压生成器(未示出)相连。
因此，通过形成在间隔体162上的透明导电图案168将来自公共电压生成器的公共电压施加到公共电极116。
钝化层142和间隔体162可由除负性光刻胶160之外的感光材料制成。即，可以使用正性光刻胶代替负性光刻胶160。
正性光刻胶是可以通过光来溶解并去除的材料。因此，当使用正性光刻胶代替负性光刻胶160时，必须将全开口区域180a与封闭区域180c彼此互换。在该情况下，可以将半开口区域180b保持原样。
因此，当在正性光刻胶上将光掩模对准并将光照射到所得结构上时，使与封闭区域面对的正性光刻胶硬化以形成间隔体，通过衍射使与半开口区域面对的正性光刻胶半硬化以形成钝化层，并且溶解并去除与全开口区域面对的正性光刻胶以形成漏极接触孔并暴露像素区的栅绝缘层。
因此，即使在使用正性光刻胶代替负性光刻胶时，也可以将间隔体和钝化层同时形成在一片中。
如上所述，将钝化层和间隔体形成在一片中，并且它们是在通过使用一个衍射掩模而无需使用额外掩模工艺的情况下由感光材料同时制成的，从而使得能够降低整个制造过程的复杂性和成本并因此提高制造产量。
此外，将透明导电电极形成在周边像素部分中的间隔体上，并且使其与公共电极相连，从而使得能够在无需使用单独的Ag点(Ag dotting)工艺的情况下电连接上基板和下基板。
本领域的技术人员显然可以对本发明作出各种修改和变型。因此，本发明旨在涵盖落入所附权利要求及其等同物范围内的对本发明的修改和变型。
本发明要求于2005年6月29日在韩国提交的韩国专利申请No.2005-057264的优先权，在此以引用的方式将其并入，如同在此完整地阐述一样。

Claims (24)

1、一种液晶显示设备，其包括：
彼此面对并且包括以矩阵形式排列的多个像素区的第一基板和第二基板；
介于所述第一基板与第二基板之间的液晶层；
形成在所述第一基板的所述像素区上的多个薄膜晶体管；
形成在所述薄膜晶体管上的钝化层；以及
与所述钝化层一体地形成的间隔体。
2、根据权利要求1所述的液晶显示设备，其中所述间隔体形成在所述薄膜晶体管上。
3、根据权利要求1所述的液晶显示设备，其中所述间隔体是构图间隔体。
4、根据权利要求1所述的液晶显示设备，还包括形成在所述间隔体上的透明导电图案。
5、根据权利要求4所述的液晶显示设备，其中所述透明导电图案被形成在所述第一基板的周边区域中。
6、根据权利要求4所述的液晶显示设备，其中所述透明导电图案与所述第二基板的公共电极电连接。
7、根据权利要求4所述的液晶显示设备，其中所述透明导电图案由与电连接到薄膜晶体管的像素电极相同的材料制成。
8、根据权利要求1所述的液晶显示设备，还包括形成在所述第一基板上的各个像素中的并且与所述薄膜晶体管相连的像素电极。
9、根据权利要求1所述的液晶显示设备，其中所述钝化层不形成在所述像素区中。
10、根据权利要求1所述的液晶显示设备，其中所述钝化层和所述间隔体由相同材料制成。
11、根据权利要求1所述的液晶显示设备，其中所述钝化层和所述间隔体由感光材料制成。
12、根据权利要求11所述的液晶显示设备，其中所述感光材料是负性光刻胶。
13、根据权利要求11所述的液晶显示设备，其中所述感光材料是正性光刻胶。
14、一种制造液晶显示设备的方法，该方法包括以下步骤：
在第一基板上的各个像素区中形成多个薄膜晶体管，其中在该第一基板中限定有以矩阵形式排列的多个像素区；
在所述薄膜晶体管上同时形成间隔体和钝化层；
制备与所述第一基板面对并且包括滤色器层和公共电极的第二基板；并且
在所述第一基板与所述第二基板之间插入液晶层。
15、根据权利要求14所述的方法，其中所述同时形成间隔体和钝化层的步骤包括：
在所述第一基板上涂覆感光材料；
在所涂覆的感光材料上将包括全开口区域、半口开区域和封闭区域的掩模对准；并且
向所述掩模照射光。
16、根据权利要求15所述的方法，其中所述半开口区域衍射并透射所述光。
17、根据权利要求15所述的方法，其中所述感光材料是负性光刻胶。
18、根据权利要求15所述的方法，其中所述感光材料是正性光刻胶。
19、根据权利要求15所述的方法，其中，当所述感光材料是负性光刻胶时，面对所述全开口区域的感光材料被硬化以形成所述间隔体，面对所述半开口区域的感光材料被半硬化以形成所述钝化层，并且去除面对所述封闭区域的感光材料。
20、根据权利要求15所述的方法，其中，当所述感光材料是正性光刻胶时，面对所述封闭区域的感光材料被硬化以形成所述间隔体，面对所述半口开区域的感光材料被半硬化以形成所述钝化层，并且去除面对所述全开口区域的感光材料。
21、根据权利要求14所述的方法，还包括在包括所述钝化区的所述第一基板上形成像素电极。
22、根据权利要求21所述的方法，其中在所述间隔体上形成透明导电图案，并且使该透明导电图案与所述第二基板的所述公共电极电连接。
23、根据权利要求21所述的方法，其中在所述第一基板的周边区域中形成透明导电图案。
24、根据权利要求14所述的方法，其中不将所述钝化层形成在所述像素区中。
CNB2005100971088A 2005-06-29 2005-12-30 液晶显示设备及其制造方法 Active CN100424574C (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050057264 2005-06-29
KR10-2005-0057264 2005-06-29
KR1020050057264A KR20070001659A (ko) 2005-06-29 2005-06-29 액정 표시 장치 및 그 제조 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1888962A true CN1888962A (zh) 2007-01-03
CN100424574C CN100424574C (zh) 2008-10-08

Family

ID=37578243

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB2005100971088A Active CN100424574C (zh) 2005-06-29 2005-12-30 液晶显示设备及其制造方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US7535540B2 (zh)
KR (1) KR20070001659A (zh)
CN (1) CN100424574C (zh)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102169251A (zh) * 2011-01-14 2011-08-31 深圳莱宝高科技股份有限公司 一种显示面板及其制造方法
CN102314038A (zh) * 2010-07-06 2012-01-11 乐金显示有限公司 电泳显示器件及其制造方法
CN102341774A (zh) * 2009-02-02 2012-02-01 苹果公司 集成触摸屏
CN103033997A (zh) * 2011-10-06 2013-04-10 瀚宇彩晶股份有限公司 显示装置及其制造方法
CN103293776A (zh) * 2013-05-07 2013-09-11 北京京东方光电科技有限公司 一种阵列基板及其制备方法、显示装置
CN103499895A (zh) * 2013-10-12 2014-01-08 北京京东方光电科技有限公司 显示面板、显示装置以及显示面板的制造方法
CN104298011A (zh) * 2014-09-05 2015-01-21 深圳市华星光电技术有限公司 一种掩模板及使用掩模板制作光阻间隔物的方法
CN106773240A (zh) * 2016-12-13 2017-05-31 深圳市华星光电技术有限公司 Coa基板的制作方法、coa基板及液晶显示面板
CN107255896A (zh) * 2017-07-27 2017-10-17 深圳市华星光电技术有限公司 一种显示面板、阵列基板及其制造方法
CN109633997A (zh) * 2018-12-21 2019-04-16 惠科股份有限公司 基板及显示面板
CN112086471A (zh) * 2020-09-28 2020-12-15 成都中电熊猫显示科技有限公司 阵列基板的制造方法、阵列基板及显示面板

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20070001659A (ko) * 2005-06-29 2007-01-04 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
KR20070036286A (ko) * 2005-09-29 2007-04-03 삼성전자주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
KR101329079B1 (ko) 2007-04-09 2013-11-20 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그의 제조방법
KR20090130938A (ko) * 2008-06-17 2009-12-28 삼성전자주식회사 표시 기판 및 이를 포함하는 표시 장치
KR101572976B1 (ko) * 2010-01-19 2015-12-01 삼성디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 표시판 제조 방법
KR20120108336A (ko) 2011-03-23 2012-10-05 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 이의 제조 방법
KR101985481B1 (ko) * 2012-07-23 2019-06-05 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 표시 장치 제조 방법
KR102438886B1 (ko) * 2015-10-22 2022-09-01 삼성디스플레이 주식회사 어레이 기판 및 이를 포함하는 표시 장치
JP2017207582A (ja) * 2016-05-17 2017-11-24 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置用基板及び表示装置
CN107272232B (zh) * 2017-07-20 2020-12-25 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种液晶显示面板的制造方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3498020B2 (ja) * 1999-09-29 2004-02-16 Ｎｅｃ液晶テクノロジー株式会社 アクティブマトリックス基板及びその製造方法
KR100721304B1 (ko) * 2000-12-29 2007-05-25 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치용 액정패널 및 그의 제조방법
KR100855884B1 (ko) * 2001-12-24 2008-09-03 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치용 얼라인 키
KR100652063B1 (ko) * 2001-12-27 2006-11-30 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자 및 그 제조방법
KR100450701B1 (ko) * 2001-12-28 2004-10-01 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치용 어레이기판과 그 제조방법
KR100876403B1 (ko) * 2002-08-27 2008-12-31 엘지디스플레이 주식회사 횡전계방식 액정 표시 장치 및 그 제조방법
KR20040059001A (ko) 2002-12-27 2004-07-05 엘지.필립스 엘시디 주식회사 공정을 단순화한 액정표시장치의 제조방법
KR100640209B1 (ko) * 2002-12-31 2006-10-31 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
KR100936953B1 (ko) * 2002-12-31 2010-01-14 엘지디스플레이 주식회사 반사투과형 액정표시장치용 컬러필터 기판과 그 제조방법
KR100980020B1 (ko) * 2003-08-28 2010-09-03 삼성전자주식회사 박막 트랜지스터 표시판과 그 제조 방법
KR20070001659A (ko) * 2005-06-29 2007-01-04 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
KR20070002373A (ko) * 2005-06-30 2007-01-05 삼성전자주식회사 액정 표시 장치
US7525631B2 (en) * 2005-12-13 2009-04-28 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal display device and method of fabricating the same

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102341774A (zh) * 2009-02-02 2012-02-01 苹果公司 集成触摸屏
CN102314038B (zh) * 2010-07-06 2014-12-10 乐金显示有限公司 电泳显示器件及其制造方法
CN102314038A (zh) * 2010-07-06 2012-01-11 乐金显示有限公司 电泳显示器件及其制造方法
US8861069B2 (en) 2010-07-06 2014-10-14 Lg Display Co., Ltd. Electrophoretic display device and method of fabrication thereof
CN102169251A (zh) * 2011-01-14 2011-08-31 深圳莱宝高科技股份有限公司 一种显示面板及其制造方法
CN103033997A (zh) * 2011-10-06 2013-04-10 瀚宇彩晶股份有限公司 显示装置及其制造方法
CN103033997B (zh) * 2011-10-06 2015-10-07 瀚宇彩晶股份有限公司 显示装置及其制造方法
CN103293776A (zh) * 2013-05-07 2013-09-11 北京京东方光电科技有限公司 一种阵列基板及其制备方法、显示装置
WO2014180111A1 (zh) * 2013-05-07 2014-11-13 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制备方法、显示装置
US9740053B2 (en) 2013-05-07 2017-08-22 Boe Technology Group Co., Ltd. Array substrate, fabrication method thereof, and display device
CN103499895A (zh) * 2013-10-12 2014-01-08 北京京东方光电科技有限公司 显示面板、显示装置以及显示面板的制造方法
CN104298011A (zh) * 2014-09-05 2015-01-21 深圳市华星光电技术有限公司 一种掩模板及使用掩模板制作光阻间隔物的方法
WO2016033833A1 (zh) * 2014-09-05 2016-03-10 深圳市华星光电技术有限公司 一种掩模板及使用掩模板制作光阻间隔物的方法
US9632366B2 (en) 2014-09-05 2017-04-25 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Mask and method of manufacturing photoresist spacers with the mask
CN106773240A (zh) * 2016-12-13 2017-05-31 深圳市华星光电技术有限公司 Coa基板的制作方法、coa基板及液晶显示面板
CN107255896A (zh) * 2017-07-27 2017-10-17 深圳市华星光电技术有限公司 一种显示面板、阵列基板及其制造方法
WO2019019316A1 (zh) * 2017-07-27 2019-01-31 深圳市华星光电技术有限公司 一种显示面板、阵列基板及其制造方法
CN109633997A (zh) * 2018-12-21 2019-04-16 惠科股份有限公司 基板及显示面板
CN112086471A (zh) * 2020-09-28 2020-12-15 成都中电熊猫显示科技有限公司 阵列基板的制造方法、阵列基板及显示面板

Also Published As

Publication number Publication date
KR20070001659A (ko) 2007-01-04
US7535540B2 (en) 2009-05-19
US20070002259A1 (en) 2007-01-04
CN100424574C (zh) 2008-10-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1888962A (zh) 液晶显示设备及其制造方法
CN1693973A (zh) 薄膜晶体管上滤色片型液晶显示器件及其制造方法
CN1746735A (zh) 显示装置及其制造方法
CN1892394A (zh) 液晶显示器件及其制造方法
CN1782842A (zh) 液晶显示器件及其制造方法
CN1991556A (zh) 用于面内切换型液晶显示器件的阵列基板及其制造方法
CN1707338A (zh) 液晶显示器件及其制造方法
CN1794048A (zh) 液晶显示面板及其制造方法
CN1614473A (zh) 滤色器基片及其制造方法和液晶显示器
CN1716066A (zh) 液晶显示器件及其制造方法
CN1896857A (zh) 液晶显示装置及其制造方法
CN1991544A (zh) 液晶显示器件及其制造方法
CN1573487A (zh) 阵列基底及其制造方法、采用该阵列基底的液晶显示装置
CN1773314A (zh) 薄膜构图装置及使用其制造滤色片阵列基板的方法
CN1690785A (zh) 具有两面显示功能的液晶显示装置
CN1841150A (zh) 面内切换型液晶显示装置的阵列基板及其制造方法
CN1637593A (zh) 掩模和使用该掩模制造液晶显示器件的方法
CN1455291A (zh) 液晶显示装置及其制造方法
CN1892389A (zh) 液晶显示装置
CN1707342A (zh) 液晶显示器件及其制造方法
CN1693975A (zh) 具有图案化间隔体的液晶显示器件及其制造方法
CN1556421A (zh) 彩色滤光片及其制造方法
CN1991480A (zh) 液晶显示器件及其制造方法
CN1991576A (zh) 母模、母模制造方法，以及利用其制造液晶显示装置的方法
CN1782843A (zh) 液晶显示器件及其制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant