CN103499895A - 显示面板、显示装置以及显示面板的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明的显示面板、显示装置以及显示面板的制造方法，其中，显示面板的第一基板上设置有公共导电薄膜，第二基板上设置有用于为栅极驱动电路供电的跳线，公共导电薄膜与跳线的所在区域之间设置有阻挡层。显示装置包括本发明的显示面板。显示面板的制造方法，包括以下步骤：设置公共导电薄膜，设置跳线；涂布负性光刻胶层；对负性光刻胶层曝光；清除没有曝光部分，形成阻挡层。本发明的显示面板和显示装置使显示面板的边框宽度可以缩小，满足移动产品对显示面板的窄边框要求。利用本发明的显示面板的制造方法可以实现4次掩模制造窄边框TN型的显示面板，不必增加掩模次数，同时满足移动产品对显示面板的窄边框要求。

Description

显示面板、显示装置以及显示面板的制造方法
技术领域
本发明涉及液晶显示领域，特别是涉及一种显示面板、显示装置以及显示面板的制造方法。
背景技术
移动产品对显示面板的窄边框要求越来越高，为了对应这种要求，显示面板的彩膜基板的左右两侧不能放置电路板（IC），因此目前手机与平板电脑的显示面板普遍使用GOA技术。
GOA技术即Gate Driver on Array（阵列基板行驱动技术），是直接将栅极驱动电路（Gate driver ICs）制作在阵列（Array）基板上。该技术的应用可以减少显示面板制作程序，且降低产品成本。
使用GOA技术生产显示面板的时，如果没有使用GI mask（gate insulatormask，栅极绝缘掩模），就需要使用ITO（Indium tin oxide，氧化铟锡）材质的跳线。
对于TN型的显示面板来说，密封胶中需要使用金球，以导通下基板（阵列基板）的公共电极与上基板（彩膜基板）的彩膜上的Com ITO（公共导电薄膜）。如果密封胶涂布在彩膜基板的左右两侧的GOA区域，就会导通GOA区域的ITO材质的跳线与彩膜上的Com ITO，GOA区域将无法正常工作。
为了避免这个问题，现有的TN型的显示面板在使用GOA技术时，如未使用GI mask时，都采用密封胶远离GOA跳线区的设计，这样使显示面板的边框宽度增加0.5微米左右，不能满足移动产品对显示面板的窄边框要求。
发明内容
本发明的目的是提供一种边框较窄的使用GOA技术的显示面板、显示装置以及显示面板的制造方法。
本发明的显示面板，包括第一基板、与所述第一基板相对设置的第二基板，所述第一基板上设置有公共导电薄膜，所述第二基板上设置有用于为栅极驱动电路供电的跳线，所述公共导电薄膜与所述跳线的所在区域相对，所述公共导电薄膜与所述跳线的所在区域之间设置有用于使公共导电薄膜与所述跳线绝缘的阻挡层。
本发明的显示面板，其中，所述第一基板为彩膜基板，所述第二基板为阵列基板，所述阻挡层设置于所述第一基板上的所述公共导电薄膜的外侧。
本发明的显示面板，其中，所述公共导电薄膜上设置有用于涂覆密封胶的涂胶区域，所述涂胶区域与所述公共导电薄膜的与所述跳线的所在区域相对应的区域有重叠部分，所述阻挡层设置于所述重叠部分的外侧。
本发明的显示面板，其中，所述第一基板与所述阻挡层之间设置有黑矩阵。
本发明的显示面板，其中，所述阻挡层的材料为负性光刻胶。
本发明的显示面板，其中，所述阻挡层的厚度小于2微米。
本发明的显示面板，其中，所述阻挡层的厚度为1微米。
本发明的显示装置，包括本发明的显示面板。
本发明的显示面板的制造方法，包括以下步骤：
在彩膜基板上设置公共导电薄膜，在阵列基板上设置用于为栅极驱动电路供电的跳线；
在公共导电薄膜上涂布负性光刻胶层；
对所述负性光刻胶层的与所述跳线的所在区域相对应的区域以及用于形成柱状隔垫物的区域曝光；
清除负性光刻胶层的没有曝光部分，形成用于使公共导电薄膜与所述跳线绝缘的阻挡层以及用于支承所述彩膜基板、所述阵列基板的柱状隔垫物。
本发明的显示面板的制造方法，其中，对所述负性光刻胶层的与所述跳线的所在区域相对应的区域曝光时，所述负性光刻胶层的与所述跳线的所在区域相对应的区域的光通过率低于5%。
本发明的显示面板的制造方法，其中，所述公共导电薄膜上设置有用于涂覆密封胶的涂胶区域，所述负性光刻胶层与所述涂胶区域对应的区域与所述负性光刻胶层的与所述跳线的所在区域相对应的区域有重叠部分，对所述负性光刻胶层的与所述跳线的所在区域相对应的区域曝光为对所述负性光刻胶层的所述重叠部分曝光。
本发明的显示面板的制造方法，其中，包括以下步骤：
在彩膜基板上设置公共导电薄膜，在阵列基板上设置用于为栅极驱动电路供电的跳线；
在公共导电薄膜上涂布正性光刻胶层；
对所述负性光刻胶层的与所述跳线的所在区域相对应的区域以及用于形成柱状隔垫物的区域遮盖后，对所述负性光刻胶层曝光；
清除负性光刻胶层的曝光部分，形成用于使公共导电薄膜与所述跳线绝缘的阻挡层以及用于支承所述彩膜基板、所述阵列基板的柱状隔垫物。
本发明的显示面板和显示装置通过在公共导电薄膜与跳线的所在区域之间设置阻挡层，这样密封胶不必远离GOA跳线的所在区域，由此使本发明的显示面板的边框宽度可以缩小0.5微米左右，满足移动产品对显示面板的窄边框要求。
利用本发明的显示面板的制造方法可以实现4次掩模（4mask）制造窄边框TN型的显示面板。利用本发明的显示面板的制造方法制造显示面板，不必增加掩模次数，同时使得显示面板的边框宽度可以缩小0.5微米左右，满足移动产品对显示面板的窄边框要求。
附图说明
图1为本发明的显示面板的结构示意图的主视图；
图2为本发明的显示面板的结构示意图的局部放大图，示出了本发明的显示面板的具体结构；
图3为本发明的显示面板的制造方法的示意图。
具体实施方式
本发明的显示面板通过在公共导电薄膜与跳线的所在区域之间设置阻挡层，这样密封胶不必远离GOA跳线的所在区域，由此使本发明的显示面板的边框宽度可以缩小0.5微米左右，满足移动产品对显示面板的窄边框要求。
如图1、图2所示，本发明的显示面板，包括第一基板1、与第一基板1相对设置的第二基板2、设置于第一基板1和第二基板2之间的液晶层3，第一基板1上设置有公共导电薄膜4，第二基板2上设置有用于为栅极驱动电路供电的跳线5，公共导电薄膜4与跳线5的所在区域相对。跳线5的所在区域为跳线区域10，第二基板2的除跳线区域10外的区域为工作区域20。公共导电薄膜4与跳线5的所在区域（即跳线区域10）之间设置有用于使公共导电薄膜4与跳线5绝缘的阻挡层6。
本发明的显示面板，其中，第一基板1为彩膜基板，第二基板2为阵列基板，阻挡层6设置于第一基板1上的公共导电薄膜4的外侧。
具体来说，公共导电薄膜4上设置有用于涂覆密封胶的涂胶区域41，涂胶区域41与公共导电薄膜4的与跳线5的所在区域相对应的区域有重叠部分42，阻挡层6设置于重叠部分42的外侧。
本发明的显示面板，其中，第一基板1与阻挡层6之间设置有黑矩阵7。
本发明的显示面板，其中，阻挡层6的材料为负性光刻胶。
本发明的显示面板，其中，阻挡层6的厚度小于2微米。
本发明的显示面板，其中，阻挡层6的厚度为1微米。
本发明的显示装置，包括本发明的显示面板。
上述显示装置可以为液晶面板、电子纸、OLED面板、液晶电视、液晶显示器、数码相框、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或部件。
本发明的显示面板的制造方法是为实现4次掩模（4mask）制造窄边框TN型的显示面板而设计。
如图3所示，本发明的显示面板的制造方法的实施例，包括以下步骤：
在彩膜基板1上形成黑矩阵7、红（Red，R）、绿（Green，G）、蓝（Blue，B）色胶层；
在彩膜基板1上设置公共导电薄膜4，在阵列基板上设置用于为栅极驱动电路供电的跳线；
在公共导电薄膜4上涂布负性光刻胶层8；
利用掩模9对负性光刻胶层8的与跳线的所在区域相对应的区域（即对应区域30）以及用于形成柱状隔垫物的区域（即柱状隔垫物区域21）曝光；
清除负性光刻胶层8的没有曝光部分，形成用于使公共导电薄膜与所述跳线绝缘的阻挡层6以及用于支承彩膜基板1、阵列基板的柱状隔垫物40。
本发明的显示面板的制造方法的实施例，其中，对负性光刻胶层8的与跳线的所在区域相对应的区域曝光时，负性光刻胶层8的与所述跳线的所在区域相对应的区域的光通过率低于5%。这样设计是为了使阻挡层6的厚度尽量小，减小阻挡层6的厚度可以保证密封胶的厚度以保证涂布的湿面积，比较理想的情况下，阻挡层6厚度优选为1微米左右。
本发明的显示面板的制造方法的实施例，其中，公共导电薄膜4上设置有用于涂覆密封胶的涂胶区域41，负性光刻胶层8与所述涂胶区域41对应的区域与所述负性光刻胶层8的与所述跳线的所在区域相对应的区域有重叠部分50，即负性光刻胶层8与所述涂胶区域41对应的区域与对应区域30有重叠部分50，利用掩模9对负性光刻胶层8的与跳线的所在区域相对应的区域（即对应区域30）曝光为对所述负性光刻胶层8的所述重叠部分50曝光。
本发明的显示面板的制造方法的其他实施例中，还可以利用正性光刻胶实现4次掩模（4mask）制造窄边框TN型的显示面板。
本发明的显示面板的制造方法的另一种实施例，包括以下步骤：
在彩膜基板上设置公共导电薄膜，在阵列基板上设置用于为栅极驱动电路供电的跳线；
在公共导电薄膜上涂布正性光刻胶层；
对所述负性光刻胶层的与所述跳线的所在区域相对应的区域以及用于形成柱状隔垫物的区域遮盖后，对所述负性光刻胶层曝光；
清除负性光刻胶层的曝光部分，形成用于使公共导电薄膜与所述跳线绝缘的阻挡层以及用于支承所述彩膜基板、所述阵列基板的柱状隔垫物。
以上仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (12)

1.一种显示面板，包括第一基板、与所述第一基板相对设置的第二基板，所述第一基板上设置有公共导电薄膜，所述第二基板上设置有用于为栅极驱动电路供电的跳线，所述公共导电薄膜与所述跳线的所在区域相对，其特征在于，所述公共导电薄膜与所述跳线的所在区域之间设置有用于使公共导电薄膜与所述跳线绝缘的阻挡层。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一基板为彩膜基板，所述第二基板为阵列基板，所述阻挡层设置于所述第一基板上的所述公共导电薄膜的外侧。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述公共导电薄膜上设置有用于涂覆密封胶的涂胶区域，所述涂胶区域与所述公共导电薄膜的与所述跳线的所在区域相对应的区域有重叠部分，所述阻挡层设置于所述重叠部分的外侧。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一基板与所述阻挡层之间设置有黑矩阵。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阻挡层的材料为负性光刻胶。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阻挡层的厚度小于2微米。
7.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述阻挡层的厚度为1微米。
8.一种显示装置，其特征在于，包括如1-7任一项所述的显示面板。
9.一种显示面板的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
在彩膜基板上设置公共导电薄膜，在阵列基板上设置用于为栅极驱动电路供电的跳线；
在公共导电薄膜上涂布负性光刻胶层；
对所述负性光刻胶层的与所述跳线的所在区域相对应的区域以及用于形成柱状隔垫物的区域曝光；
清除负性光刻胶层的没有曝光部分，形成用于使公共导电薄膜与所述跳线绝缘的阻挡层以及用于支承所述彩膜基板、所述阵列基板的柱状隔垫物。
10.根据权利要求9所述的显示面板的制造方法，其特征在于，对所述负性光刻胶层的与所述跳线的所在区域相对应的区域曝光时，所述负性光刻胶层的与所述跳线的所在区域相对应的区域的光通过率低于5%。
11.根据权利要求9所述的显示面板的制造方法，其特征在于，所述公共导电薄膜上设置有用于涂覆密封胶的涂胶区域，所述负性光刻胶层与所述涂胶区域对应的区域与所述负性光刻胶层的与所述跳线的所在区域相对应的区域有重叠部分，对所述负性光刻胶层的与所述跳线的所在区域相对应的区域曝光为对所述负性光刻胶层的所述重叠部分曝光。
12.一种显示面板的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
在彩膜基板上设置公共导电薄膜，在阵列基板上设置用于为栅极驱动电路供电的跳线；
在公共导电薄膜上涂布正性光刻胶层；
对所述负性光刻胶层的与所述跳线的所在区域相对应的区域以及用于形成柱状隔垫物的区域遮盖后，对所述负性光刻胶层曝光；
清除负性光刻胶层的曝光部分，形成用于使公共导电薄膜与所述跳线绝缘的阻挡层以及用于支承所述彩膜基板、所述阵列基板的柱状隔垫物。
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