JP3458733B2 - 斜め光照射装置 - Google Patents
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
-
- G—PHYSICS
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- G02B7/20—Light-tight connections for movable optical elements
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- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
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- G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
- G02F1/133788—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation by light irradiation, e.g. linearly polarised light photo-polymerisation
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置、特に液
晶表示素子の配向膜に紫外光を照射して液晶を光配向さ
せるための露光装置等に使用される斜め光照射装置に関
する。
晶表示素子の配向膜に紫外光を照射して液晶を光配向さ
せるための露光装置等に使用される斜め光照射装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子の、光配向膜のプレチルト
角の大きさと方向とを決定するために、紫外光を、ワー
クである液晶表示素子に対して、斜めに照射する方法が
提案されている（特開平９−２１１４６５号公報の例え
ば図１等参照）。ワークに入射させる光の角度は、光配
向膜の種類やその他の製造プロセスの処理条件により異
なる。したがって、光をワークに対し斜めに照射しワー
クを露光する装置（このような露光装置をここでは「斜
め露光装置」という）においては、照射光のワークヘの
入射角度を、自由に設定できることが要求されている。
角の大きさと方向とを決定するために、紫外光を、ワー
クである液晶表示素子に対して、斜めに照射する方法が
提案されている（特開平９−２１１４６５号公報の例え
ば図１等参照）。ワークに入射させる光の角度は、光配
向膜の種類やその他の製造プロセスの処理条件により異
なる。したがって、光をワークに対し斜めに照射しワー
クを露光する装置（このような露光装置をここでは「斜
め露光装置」という）においては、照射光のワークヘの
入射角度を、自由に設定できることが要求されている。
【０００３】上記斜め露光装置における、斜め照射の方
法は、特開平９−２１１４６５号公報の図１に示される
ような、光照射部（ランプハウス）自体をワークに対し
て斜めに傾ける方法が考えられる。また、本出願人が先
に提案した特開平１０−１５４６５８号公報には光照射
部に円弧状のレールを取りつけ、ランプ自体は傾かない
ようにして光照射部を傾斜させる機構が示されている。
法は、特開平９−２１１４６５号公報の図１に示される
ような、光照射部（ランプハウス）自体をワークに対し
て斜めに傾ける方法が考えられる。また、本出願人が先
に提案した特開平１０−１５４６５８号公報には光照射
部に円弧状のレールを取りつけ、ランプ自体は傾かない
ようにして光照射部を傾斜させる機構が示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】光照射部（ランプハウ
ス）は、ランプと、ランプよりの光を集光・平行光とす
る集光鏡、コリメータ、また、光路を折り返す反射鏡な
どの光学素子を含んでいる。前記した特開平１０−１５
４６５８号公報に記載される光照射部の場合、光を照射
する面積が比較的狭ければ、光照射部が小さくてすむの
で、光照射部を傾ける機構も大掛かりなものにならな
い。
ス）は、ランプと、ランプよりの光を集光・平行光とす
る集光鏡、コリメータ、また、光路を折り返す反射鏡な
どの光学素子を含んでいる。前記した特開平１０−１５
４６５８号公報に記載される光照射部の場合、光を照射
する面積が比較的狭ければ、光照射部が小さくてすむの
で、光照射部を傾ける機構も大掛かりなものにならな
い。
【０００５】ところが、近年液晶表示素子の基板は５５
０×６５０ｍｍ〜６５０×８３０ｍｍの大型基板が主流
になりつつある。基板が大型化すると、その分照射面積
が広くなるので、光照射部も大型化する。光照射部が大
型化すると、重量が増えるので、光照射部を傾ける機構
が大型化し、装置全体が非常に大型化する。本発明は上
記した事情に鑑みなされたものであって、その目的とす
るところは、光をワークに対し斜めに照射する光照射装
置において、コンパクトな構成で、大型の光照射部を移
動させることなく、ワークに対する光の入射角度を自由
に設定できるようにすることである。
０×６５０ｍｍ〜６５０×８３０ｍｍの大型基板が主流
になりつつある。基板が大型化すると、その分照射面積
が広くなるので、光照射部も大型化する。光照射部が大
型化すると、重量が増えるので、光照射部を傾ける機構
が大型化し、装置全体が非常に大型化する。本発明は上
記した事情に鑑みなされたものであって、その目的とす
るところは、光をワークに対し斜めに照射する光照射装
置において、コンパクトな構成で、大型の光照射部を移
動させることなく、ワークに対する光の入射角度を自由
に設定できるようにすることである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明においては、上記
課題を次のように解決する。 （１）光照射部のコリメータレンズもしくはコリメータ
ミラーの出射側に平面ミラーを設け、ミラー駆動機構に
より、上記平面ミラーの光軸に対する角度を変えるとと
もに平面ミラーに反射して形成される照射領域の中心位
置が移動しないように、照射光の光路長を変更する方向
に該平面ミラーを移動させ、平面ミラーの反射光がワー
クに入射する角度を変化させる。 （２）コリメータミラーを駆動するミラー駆動機構を設
け、ミラー駆動機構により、コリメータミラーの角度を
変えるとともにコリメータミラーに反射して形成される
照射領域の中心位置が移動しないように、照射光の光路
長を変更する方向にコリメータミラーを移動させ、該コ
リメータミラーの反射光がワークに入射する角度を変化
させる。 （３）上記（１）（２）において、上記ミラー駆動機構
を、上記平面ミラー、コリメータミラーを固定するガイ
ド部材と、曲線状のガイドから構成し、上記ガイド部材
が曲線状のガイドに沿って移動可能とする。 （４）上記（１）（２）において、上記ミラー駆動機構
を、照射光の光軸方向に移動可能な台から構成し、台の
上に上記平面ミラー、コリメータミラーを揺動可能に支
持する。
課題を次のように解決する。 （１）光照射部のコリメータレンズもしくはコリメータ
ミラーの出射側に平面ミラーを設け、ミラー駆動機構に
より、上記平面ミラーの光軸に対する角度を変えるとと
もに平面ミラーに反射して形成される照射領域の中心位
置が移動しないように、照射光の光路長を変更する方向
に該平面ミラーを移動させ、平面ミラーの反射光がワー
クに入射する角度を変化させる。 （２）コリメータミラーを駆動するミラー駆動機構を設
け、ミラー駆動機構により、コリメータミラーの角度を
変えるとともにコリメータミラーに反射して形成される
照射領域の中心位置が移動しないように、照射光の光路
長を変更する方向にコリメータミラーを移動させ、該コ
リメータミラーの反射光がワークに入射する角度を変化
させる。 （３）上記（１）（２）において、上記ミラー駆動機構
を、上記平面ミラー、コリメータミラーを固定するガイ
ド部材と、曲線状のガイドから構成し、上記ガイド部材
が曲線状のガイドに沿って移動可能とする。 （４）上記（１）（２）において、上記ミラー駆動機構
を、照射光の光軸方向に移動可能な台から構成し、台の
上に上記平面ミラー、コリメータミラーを揺動可能に支
持する。
【０００７】
【発明の実施の形態】図１は本発明の第１の実施例の光
照射装置の構成を示す図である。図１において、ランプ
１が放出する光は、集光鏡２で集光され第１の平面ミラ
ー３で反射されインテグレータレンズ４に入射する。イ
ンテグレータレンズ４から出射する光は、第２の平面ミ
ラー５を介して、コリメータミラー６に入射し、コリメ
ータミラー６で平行光にされ、第３の平面ミラー７で反
射され例えば液晶基板等の大型ワークＷに斜めに入射す
る。なお、上記コリメータミラー６に替えてコリメータ
レンズを使用してもよい。第３の平面ミラー７（以下、
単に平面ミラー７という）の角度は可変であり、平面ミ
ラー７の光軸に対する角度を変えることにより、光のワ
ークＷに入射する光の角度を変えることができる。
照射装置の構成を示す図である。図１において、ランプ
１が放出する光は、集光鏡２で集光され第１の平面ミラ
ー３で反射されインテグレータレンズ４に入射する。イ
ンテグレータレンズ４から出射する光は、第２の平面ミ
ラー５を介して、コリメータミラー６に入射し、コリメ
ータミラー６で平行光にされ、第３の平面ミラー７で反
射され例えば液晶基板等の大型ワークＷに斜めに入射す
る。なお、上記コリメータミラー６に替えてコリメータ
レンズを使用してもよい。第３の平面ミラー７（以下、
単に平面ミラー７という）の角度は可変であり、平面ミ
ラー７の光軸に対する角度を変えることにより、光のワ
ークＷに入射する光の角度を変えることができる。
【０００８】ここで、単に平面ミラー７の角度を変える
だけでは、図２（ａ）に示すように、平面ミラー７で反
射して被照射面に形成される照射領域の中心が移動する
ため、平面ミラー７の角度に応じてワークＷの位置を移
動させなければならなくなる。そこで、本実施例では、
図２（ｂ）に示すように上記平面ミラー７の角度を変化
させるとともに、平面ミラー７に反射して形成される照
射領域の中心位置が移動しないように、光源からワーク
Ｗまでの光路上の距離（光路長）を変化させるように、
平面ミラー７の位置を移動させる。
だけでは、図２（ａ）に示すように、平面ミラー７で反
射して被照射面に形成される照射領域の中心が移動する
ため、平面ミラー７の角度に応じてワークＷの位置を移
動させなければならなくなる。そこで、本実施例では、
図２（ｂ）に示すように上記平面ミラー７の角度を変化
させるとともに、平面ミラー７に反射して形成される照
射領域の中心位置が移動しないように、光源からワーク
Ｗまでの光路上の距離（光路長）を変化させるように、
平面ミラー７の位置を移動させる。
【０００９】図３は、平面ミラー７の角度と位置を変化
させる機構を説明する図である。同図に示すように、角
度を調整する角度調整機構と光軸方向移動機構を具備す
るミラー保持部１１を設け、ミラー保持部１１により平
面ミラー７を保持し、光軸に対する平面ミラー７の角度
を角度調整機構により調整しながら、光軸方向移動機構
によりリニアガイド１２上を光軸方向に平行に移動させ
る。平面ミラー７の角度と位置は、予めワークＷの光の
入射角度に応じた平面ミラーの角度と光軸方向の位置を
求めておき、ワークＷに対する光の入射角度に応じて、
その位置と角度とを制御する。
させる機構を説明する図である。同図に示すように、角
度を調整する角度調整機構と光軸方向移動機構を具備す
るミラー保持部１１を設け、ミラー保持部１１により平
面ミラー７を保持し、光軸に対する平面ミラー７の角度
を角度調整機構により調整しながら、光軸方向移動機構
によりリニアガイド１２上を光軸方向に平行に移動させ
る。平面ミラー７の角度と位置は、予めワークＷの光の
入射角度に応じた平面ミラーの角度と光軸方向の位置を
求めておき、ワークＷに対する光の入射角度に応じて、
その位置と角度とを制御する。
【００１０】図４は上記平面ミラー７の角度と位置を変
化させる機構（以下、角度／位置調整機構という）の具
体的構成例を示す図であり、同図（ａ）は角度／位置調
整機構を平面ミラー７の移動方向に直交する方向から見
た図、同図（ｂ）は角度／位置調整機構を平面ミラーの
移動方向から見た図であり、同図（ａ）は（ｂ）のＡ−
Ａ断面図である。図４において、基台１３上に支持部材
１４が設けられ、支持部材１４にはリニアガイド１２が
取り付けられている。リニアガイド１２にはミラー保持
部１１が移動可能に取り付けられ、ミラー保持部１１
は、ボールネジ、プーリー等から構成される図示しない
光軸方向移動機構によりリニアガイド１２に沿って移動
する。
化させる機構（以下、角度／位置調整機構という）の具
体的構成例を示す図であり、同図（ａ）は角度／位置調
整機構を平面ミラー７の移動方向に直交する方向から見
た図、同図（ｂ）は角度／位置調整機構を平面ミラーの
移動方向から見た図であり、同図（ａ）は（ｂ）のＡ−
Ａ断面図である。図４において、基台１３上に支持部材
１４が設けられ、支持部材１４にはリニアガイド１２が
取り付けられている。リニアガイド１２にはミラー保持
部１１が移動可能に取り付けられ、ミラー保持部１１
は、ボールネジ、プーリー等から構成される図示しない
光軸方向移動機構によりリニアガイド１２に沿って移動
する。
【００１１】ミラー保持部１１には、平面ミラー７が回
転可能に取り付けられ、平面ミラー７の回転軸７ａは、
歯車機構１６を介してミラー駆動モータ１５に接続され
ており、ミラー駆動モータ１５を駆動することにより、
平面ミラー７の角度が変化する。また、ミラー保持部１
１の上側にはミラー位置センサ１７が設けられており、
該ミラー位置センサ１７により平面ミラー７の位置を検
出する。また、平面ミラー７の回転軸７ａには、平面ミ
ラーの角度を検出する角度センサ（図示せず）が取り付
けられている。上記ミラー位置センサ１７および角度セ
ンサにより検出される平面ミラー７の位置および角度
は、図示しない制御装置に送られる。
転可能に取り付けられ、平面ミラー７の回転軸７ａは、
歯車機構１６を介してミラー駆動モータ１５に接続され
ており、ミラー駆動モータ１５を駆動することにより、
平面ミラー７の角度が変化する。また、ミラー保持部１
１の上側にはミラー位置センサ１７が設けられており、
該ミラー位置センサ１７により平面ミラー７の位置を検
出する。また、平面ミラー７の回転軸７ａには、平面ミ
ラーの角度を検出する角度センサ（図示せず）が取り付
けられている。上記ミラー位置センサ１７および角度セ
ンサにより検出される平面ミラー７の位置および角度
は、図示しない制御装置に送られる。
【００１２】図示しない制御装置は、ワークＷに対する
光の入射角度が与えられると、それに対応した平面ミラ
ーの角度と光軸方向の位置を求め、前記光軸方向移動機
構およびミラー駆動モータ１５により、ミラー保持部１
１をリニアガイド１２に沿って移動させるとともに平面
ミラー７の角度を変化させ、平面ミラー７の角度と光軸
方向の位置が所望の値になるように制御する。なお、平
面ミラー７の角度制御は５°ステップ程度の段階的制御
でよく、また、平面ミラー７の光軸方向の位置制御も高
精度な位置決めは必要ないので、上記ミラー位置センサ
１７および角度センサとしては、例えばホトセンサ等の
光学的センサを使用することができる。
光の入射角度が与えられると、それに対応した平面ミラ
ーの角度と光軸方向の位置を求め、前記光軸方向移動機
構およびミラー駆動モータ１５により、ミラー保持部１
１をリニアガイド１２に沿って移動させるとともに平面
ミラー７の角度を変化させ、平面ミラー７の角度と光軸
方向の位置が所望の値になるように制御する。なお、平
面ミラー７の角度制御は５°ステップ程度の段階的制御
でよく、また、平面ミラー７の光軸方向の位置制御も高
精度な位置決めは必要ないので、上記ミラー位置センサ
１７および角度センサとしては、例えばホトセンサ等の
光学的センサを使用することができる。
【００１３】本実施例においては、上記のように、光照
射装置のコリメータミラーもしくはコリメータレンズの
出射側に平面ミラー７を設け、平面ミラー７の角度と光
軸方向の位置を変えることにより、ワークＷに入射する
光の角度を変えるようにしたので、大型の光照射部を移
動させることなく、ワークに対する光の入射角度を自由
に設定することができる。
射装置のコリメータミラーもしくはコリメータレンズの
出射側に平面ミラー７を設け、平面ミラー７の角度と光
軸方向の位置を変えることにより、ワークＷに入射する
光の角度を変えるようにしたので、大型の光照射部を移
動させることなく、ワークに対する光の入射角度を自由
に設定することができる。
【００１４】上記第１の実施例では、リニアガイドに沿
って平面ミラーを移動させるようにしたが、平面ミラー
を円弧状のガイドに沿って移動させることにより平面ミ
ラーの移動機構を簡単化することができる。以下、平面
ミラーを円弧状のガイドに沿って移動させる本発明の第
２の実施例について説明する。図５は本実施例の平面ミ
ラー７の位置・角度および光路を説明する図である。同
図に示すように、被照射面に対し直角に光を照射すると
きの平面ミラー７と被照射面との距離をＲとした時、半
径が２Ｒの円を仮定する。該円の円弧上を、平面ミラー
７が該円の接線に対し角度が変わらないように移動する
と、平面ミラー７の光軸に対する角度と光路長とが変化
し、被照射面における照射領域の中心位置を略変えない
で、ワークに対する入射角度を変えることができる。具
体的には、半径が２ＲのＲガイドを準備し、このＲガイ
ド上を移動する移動部にミラーを取りつけ、Ｒガイドに
沿ってミラーを移動させる。
って平面ミラーを移動させるようにしたが、平面ミラー
を円弧状のガイドに沿って移動させることにより平面ミ
ラーの移動機構を簡単化することができる。以下、平面
ミラーを円弧状のガイドに沿って移動させる本発明の第
２の実施例について説明する。図５は本実施例の平面ミ
ラー７の位置・角度および光路を説明する図である。同
図に示すように、被照射面に対し直角に光を照射すると
きの平面ミラー７と被照射面との距離をＲとした時、半
径が２Ｒの円を仮定する。該円の円弧上を、平面ミラー
７が該円の接線に対し角度が変わらないように移動する
と、平面ミラー７の光軸に対する角度と光路長とが変化
し、被照射面における照射領域の中心位置を略変えない
で、ワークに対する入射角度を変えることができる。具
体的には、半径が２ＲのＲガイドを準備し、このＲガイ
ド上を移動する移動部にミラーを取りつけ、Ｒガイドに
沿ってミラーを移動させる。
【００１５】前記した第１の実施例では、平面ミラー７
の移動機構として角度調整機構と光軸方向移動機構の２
つを設ける必要があるが、本実施例によれば移動機構と
しては、平面ミラー７をＲガイドに沿って移動させる移
動機構だけでよい。ただし、本実施例の場合には、平面
ミラーが円狐状に移動するのでミラーが移動するとミラ
ーに照射される光の位置がずれる。例えば、図５の場合
には、同図に示すように平面ミラー７が移動するにつ
れ、平面ミラー７が下方にずれ、光が照射される位置が
平面ミラー７の上の方に移る。このため、本実施例にお
いては、平面ミラー７の面積は照射光の光芒の大きさ
と、ミラーの光軸方向に対する位置ずれ量とを考慮し、
十分に大きいものにする必要がある。
の移動機構として角度調整機構と光軸方向移動機構の２
つを設ける必要があるが、本実施例によれば移動機構と
しては、平面ミラー７をＲガイドに沿って移動させる移
動機構だけでよい。ただし、本実施例の場合には、平面
ミラーが円狐状に移動するのでミラーが移動するとミラ
ーに照射される光の位置がずれる。例えば、図５の場合
には、同図に示すように平面ミラー７が移動するにつ
れ、平面ミラー７が下方にずれ、光が照射される位置が
平面ミラー７の上の方に移る。このため、本実施例にお
いては、平面ミラー７の面積は照射光の光芒の大きさ
と、ミラーの光軸方向に対する位置ずれ量とを考慮し、
十分に大きいものにする必要がある。
【００１６】また、本実施例の場合、被照射面における
照射領域の中心位置が、平面ミラーの移動に伴って若干
ずれる。このため、ワーク上の照射領域より、照射光の
照射範囲を大きくしておく必要がある。図６は５５０〜
６５０ｍｍ以上の基板に斜め方向から光を照射するとき
の照射領域の中心のずれ量を作図したものであり、同図
はＲ＝１４００ｍｍで、平面ミラーの角度が１０°から
４０°まで変化した場合を示している。上記大きさの基
板の場合、照射領域の中心位置のずれは、５０ｍｍ程度
であれば許容できるので、図６から明らかなように、平
面ミラー７の角度範囲が垂直に近い角度である９０°〜
７０°であれば、図５に示した半径２ＲのＲガイドを使
用できる。しかし、角度が小さくなる（平面ミラー７の
傾きが大きくなる）につれて照射中心の移動量が大きく
なるので、半径２ＲのＲガイドの適用は難しくなる。し
たがって、平面ミラー７から照射面までの距離、斜めか
らの照射角度を考慮してＲガイドの形状を選択する必要
がある。なお、Ｒガイドは必ずしも円弧状である必要は
なく、その他の曲線であってもよい。
照射領域の中心位置が、平面ミラーの移動に伴って若干
ずれる。このため、ワーク上の照射領域より、照射光の
照射範囲を大きくしておく必要がある。図６は５５０〜
６５０ｍｍ以上の基板に斜め方向から光を照射するとき
の照射領域の中心のずれ量を作図したものであり、同図
はＲ＝１４００ｍｍで、平面ミラーの角度が１０°から
４０°まで変化した場合を示している。上記大きさの基
板の場合、照射領域の中心位置のずれは、５０ｍｍ程度
であれば許容できるので、図６から明らかなように、平
面ミラー７の角度範囲が垂直に近い角度である９０°〜
７０°であれば、図５に示した半径２ＲのＲガイドを使
用できる。しかし、角度が小さくなる（平面ミラー７の
傾きが大きくなる）につれて照射中心の移動量が大きく
なるので、半径２ＲのＲガイドの適用は難しくなる。し
たがって、平面ミラー７から照射面までの距離、斜めか
らの照射角度を考慮してＲガイドの形状を選択する必要
がある。なお、Ｒガイドは必ずしも円弧状である必要は
なく、その他の曲線であってもよい。
【００１７】図７は本実施例の平面ミラー７の移動機構
の具体的構成例を示す図であり、同図（ａ）は移動機構
を平面ミラー７の移動方向に対して直交する方向から見
た図、同図（ｂ）は角度／位置調整機構を平面ミラーの
移動方向から見た図であり、同図（ａ）は（ｂ）のＡ−
Ａ断面図である。図７において、基台１３上に支持部材
１４が設けられ、支持部材１４には円弧状の貫通穴であ
るＲガイド２１が設けられている。平面ミラー７が取り
付けられたミラー保持部１１の両側にはそれぞれ２つの
ガイド部材２２が取り付けられ、ガイド部材２２は上記
Ｒガイド２１に係合している。また、ミラー保持部１１
は、図示しない駆動機構により駆動され、上記ガイド部
材２２に沿って移動する。このため、上記駆動機構によ
りミラー保持部１１を移動させると、平面ミラー７はＲ
ガイド２１の接線に対し角度が変わらないように移動す
る。
の具体的構成例を示す図であり、同図（ａ）は移動機構
を平面ミラー７の移動方向に対して直交する方向から見
た図、同図（ｂ）は角度／位置調整機構を平面ミラーの
移動方向から見た図であり、同図（ａ）は（ｂ）のＡ−
Ａ断面図である。図７において、基台１３上に支持部材
１４が設けられ、支持部材１４には円弧状の貫通穴であ
るＲガイド２１が設けられている。平面ミラー７が取り
付けられたミラー保持部１１の両側にはそれぞれ２つの
ガイド部材２２が取り付けられ、ガイド部材２２は上記
Ｒガイド２１に係合している。また、ミラー保持部１１
は、図示しない駆動機構により駆動され、上記ガイド部
材２２に沿って移動する。このため、上記駆動機構によ
りミラー保持部１１を移動させると、平面ミラー７はＲ
ガイド２１の接線に対し角度が変わらないように移動す
る。
【００１８】ミラー保持部１１には、図示しない位置セ
ンサが設けられており、該位置センサの出力は、図示し
ない制御装置に送られる。図示しない制御装置は、ワー
クＷに対する光の入射角度が与えられると、それに対応
した平面ミラー７の位置を求め、上記位置センサの出力
に基づき、ミラー保持部１１を移動させ、平面ミラー７
の位置が所望の位置になるように制御する。
ンサが設けられており、該位置センサの出力は、図示し
ない制御装置に送られる。図示しない制御装置は、ワー
クＷに対する光の入射角度が与えられると、それに対応
した平面ミラー７の位置を求め、上記位置センサの出力
に基づき、ミラー保持部１１を移動させ、平面ミラー７
の位置が所望の位置になるように制御する。
【００１９】以上の実施例では、コリメータレンズもし
くはコリメータミラーの出射側に平面ミラーを設け、そ
の角度と位置とを変化させることで、照射中心の位置を
変えることなくワークに入射する光の角度を変えるよう
にしたが、このような平面ミラーを設けず、コリメータ
ミラーの光軸に対する角度と、光路長に係わる位置とを
制御し、被照射面における照射領域の中心位置を変えな
いで、ワークに入射する光の角度を変えるような光学系
とすることもできる。図８は上記した本発明の第３の実
施例を示す図である。同図において、ランプ１が放出す
る光は、集光鏡２で集光されインテグレータレンズ４に
入射する。インテグレータレンズ４から出射する光は、
第１の平面ミラー３で反射されコリメータミラー６で平
行光にされ、例えば液晶基板等の大型ワークＷに斜めに
入射する。
くはコリメータミラーの出射側に平面ミラーを設け、そ
の角度と位置とを変化させることで、照射中心の位置を
変えることなくワークに入射する光の角度を変えるよう
にしたが、このような平面ミラーを設けず、コリメータ
ミラーの光軸に対する角度と、光路長に係わる位置とを
制御し、被照射面における照射領域の中心位置を変えな
いで、ワークに入射する光の角度を変えるような光学系
とすることもできる。図８は上記した本発明の第３の実
施例を示す図である。同図において、ランプ１が放出す
る光は、集光鏡２で集光されインテグレータレンズ４に
入射する。インテグレータレンズ４から出射する光は、
第１の平面ミラー３で反射されコリメータミラー６で平
行光にされ、例えば液晶基板等の大型ワークＷに斜めに
入射する。
【００２０】上記コリメータミラー６は、第１の実施例
における平面ミラー７と同様、光軸方向に移動可能に構
成されているとともに、光軸に対する角度が可変であ
り、コリメータミラー６光軸に対する角度および位置変
えることにより、光のワークＷに入射する光の角度を変
えることができる。コリメータミラー６の位置と角度を
変化させる機構としては、前記第１の実施例、もしくは
第２の実施例で示したものと同様なものを使用すること
ができ、ワークＷへの光の入射角度に応じて、コリメー
タミラー６の角度と光軸方向の位置を制御して、ワーク
Ｗに対する光の入射角度を変化させる。本実施例におい
ては、上記のようにコリメータミラー６の位置と角度を
変化させてワークＷに入射する光の角度を変えるように
したので、前記第１、第２の実施例に示した平面ミラー
を設ける必要がなく、構成を簡単化することができる。
における平面ミラー７と同様、光軸方向に移動可能に構
成されているとともに、光軸に対する角度が可変であ
り、コリメータミラー６光軸に対する角度および位置変
えることにより、光のワークＷに入射する光の角度を変
えることができる。コリメータミラー６の位置と角度を
変化させる機構としては、前記第１の実施例、もしくは
第２の実施例で示したものと同様なものを使用すること
ができ、ワークＷへの光の入射角度に応じて、コリメー
タミラー６の角度と光軸方向の位置を制御して、ワーク
Ｗに対する光の入射角度を変化させる。本実施例におい
ては、上記のようにコリメータミラー６の位置と角度を
変化させてワークＷに入射する光の角度を変えるように
したので、前記第１、第２の実施例に示した平面ミラー
を設ける必要がなく、構成を簡単化することができる。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、以下の効果を得ることができる。 （１）平面ミラーもしくはコリメータミラーを移動させ
ることにより、ワークに入射する光の角度を変えるよう
にしたので、光照射部全体を移動させる場合と比べて、
ミラーを移動させる駆動機構は小型ですみ、装置全体を
コンパクトな構成とすることができる。 （２）ミラーの光軸に対する角度を変化させるととも
に、平面ミラーもしくはコリメータミラーの位置を、光
路長を変えるように移動させるので、ワークに対する光
の入射角度が変化しても、照射領域の中心が移動するこ
とがなく、ワークを移動させる必要がない。
は、以下の効果を得ることができる。 （１）平面ミラーもしくはコリメータミラーを移動させ
ることにより、ワークに入射する光の角度を変えるよう
にしたので、光照射部全体を移動させる場合と比べて、
ミラーを移動させる駆動機構は小型ですみ、装置全体を
コンパクトな構成とすることができる。 （２）ミラーの光軸に対する角度を変化させるととも
に、平面ミラーもしくはコリメータミラーの位置を、光
路長を変えるように移動させるので、ワークに対する光
の入射角度が変化しても、照射領域の中心が移動するこ
とがなく、ワークを移動させる必要がない。
【図１】本発明の第１の実施例を示す図である。
【図２】平面ミラーの角度を変えた場合および角度、位
置を変えた場合の照射領域の中心位置を示す図である。
置を変えた場合の照射領域の中心位置を示す図である。
【図３】本発明の第１の実施例における平面ミラーの角
度と位置を変化させる機構を説明する図である。
度と位置を変化させる機構を説明する図である。
【図４】本発明の第１の実施例における平面ミラーの角
度／位置調整機構の具体的構成例を示す図である。
度／位置調整機構の具体的構成例を示す図である。
【図５】本発明の第２の実施例の平面ミラーの位置・角
度および光路を説明する図である。
度および光路を説明する図である。
【図６】本発明の第２の実施例において平面ミラーの位
置・角度変化に対する照射中心のずれ量を示す図であ
る。
置・角度変化に対する照射中心のずれ量を示す図であ
る。
【図７】本発明の第２の実施例の平面ミラーの角度／位
置調整機構の具体的構成例を示す図である。
置調整機構の具体的構成例を示す図である。
【図８】本発明の第３の実施例を示す図である。
１ ランプ
２ 集光鏡
３ 平面ミラー
４ インテグレータレンズ
５ 平面ミラー
６ コリメータミラー
７ 平面ミラー
１１ ミラー保持部
１２ リニアガイド
１３ 基台
１４ 支持部材
１５ ミラー駆動モータ
１６ 歯車機構
１７ ミラー位置センサ
２１ Ｒガイド
２２ ガイド部材
Ｗ ワーク
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平10−154658（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−224205（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−318942（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−90684（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−80442（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−244267（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−80435（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G02F 1/1337
G03F 7/20
Claims (4)
- 【請求項１】 紫外線を含む光を放出するランプと、該
ランプの光を集光する集光鏡と、インテグレータレンズ
と、インテグレータレンズから出射される光を平行光と
するコリメータレンズもしくはコリメータミラーと、 上記コリメータレンズもしくはコリメータミラーからの
光が入射する平面ミラーと、 上記平面ミラーを駆動するミラー駆動機構とを備え、 上記ミラー駆動機構により、上記平面ミラーの角度を変
えるとともに、照射光の光路長を変更する方向に該平面
ミラーを移動させ、平面ミラーの反射光がワークに入射
する角度を変化させるようにしたことを特徴とする斜め
光照射装置。 - 【請求項２】 紫外線を含む光を放出するランプと、該
ランプの光を集光する集光鏡と、インテグレータレンズ
と、インテグレータレンズから出射される光を平行光と
するコリメータミラーと、 上記コリメータミラーを駆動するミラー駆動機構とを備
え、 上記ミラー駆動機構により、上記コリメータミラーの角
度を変えるとともに、照射光の光路長を変更する方向に
上記コリメータミラーを移動させ、該コリメータミラー
の反射光がワークに入射する角度を変化させるようにし
たことを特徴とする斜め光照射装置。 - 【請求項３】 上記ミラー駆動機構は、上記平面ミラー
もしくはコリメータミラーを固定するガイド部材と、曲
線状のガイドとを備え、 上記ガイド部材が曲線状のガイドに沿って移動可能に設
けられていることを特徴とする請求項１または請求項２
の斜め光照射装置。請求項４ - 【請求項４】 上記ミラー駆動機構は、照射光の光軸方
向に移動可能な台の上に上記平面ミラーもしくはコリメ
ータミラーを揺動可能に支持していることを特徴とする
請求項１または請求項２の斜め光照射装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33255898A JP3458733B2 (ja) | 1998-11-24 | 1998-11-24 | 斜め光照射装置 |
| TW88114479A TW573185B (en) | 1998-11-24 | 1999-08-24 | Device for oblique light irradiation |
| DE69931330T DE69931330T2 (de) | 1998-11-24 | 1999-11-23 | Vorrichtung zur Bestrahlung mit schräg-einfallendem Licht |
| EP99123374A EP1004926B1 (en) | 1998-11-24 | 1999-11-23 | Device for oblique light irradiation |
| KR10-1999-0052437A KR100510890B1 (ko) | 1998-11-24 | 1999-11-24 | 경사 광조사 장치 |
| US09/448,481 US6206527B1 (en) | 1998-11-24 | 1999-11-24 | Device for oblique light irradiation |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33255898A JP3458733B2 (ja) | 1998-11-24 | 1998-11-24 | 斜め光照射装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| JP3458733B2 true JP3458733B2 (ja) | 2003-10-20 |
Family
ID=18256274
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33255898A Expired - Fee Related JP3458733B2 (ja) | 1998-11-24 | 1998-11-24 | 斜め光照射装置 |
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| KR (1) | KR100510890B1 (ja) |
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| TW (1) | TW573185B (ja) |
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| KR100672640B1 (ko) * | 2002-02-07 | 2007-01-23 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Ｕｖ조사장치 및 그를 이용한 액정표시소자의 제조방법 |
| JP2005115833A (ja) * | 2003-10-10 | 2005-04-28 | Denso Wave Inc | 光学情報読取装置 |
| US7413317B2 (en) * | 2004-06-02 | 2008-08-19 | 3M Innovative Properties Company | Polarized UV exposure system |
| JP2007290233A (ja) * | 2006-04-25 | 2007-11-08 | Ushio Inc | 光照射器およびインクジェットプリンタ |
| JP5709368B2 (ja) * | 2009-11-04 | 2015-04-30 | キヤノン株式会社 | 生体情報取得装置 |
| CN102346337B (zh) * | 2011-08-05 | 2013-07-17 | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 | 液晶显示器面板用光配向设备 |
| TW201314374A (zh) * | 2011-09-30 | 2013-04-01 | Chimei Innolux Corp | 配向膜之光配向裝置及配向膜製造方法及液晶顯示裝置製造方法 |
| CN105607351B (zh) * | 2016-01-04 | 2019-03-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种紫外线固化装置、封框胶固化系统及封框胶固化方法 |
| JP7083642B2 (ja) * | 2017-12-28 | 2022-06-13 | 株式会社小糸製作所 | モータ、及びこれを用いた灯具 |
| CN111781773B (zh) * | 2019-04-04 | 2022-07-01 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | 光配向设备以及光配向方法 |
| CN110888267B (zh) * | 2019-11-26 | 2020-12-08 | Tcl华星光电技术有限公司 | 液晶配向装置及其操作方法 |
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|---|---|---|---|---|
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| US4605290A (en) * | 1985-07-22 | 1986-08-12 | Rockwell International Corporation | Coherent light vergence varying apparatus |
| JP3104081B2 (ja) * | 1991-06-12 | 2000-10-30 | ソニー株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
| FR2678746B1 (fr) * | 1991-07-05 | 1993-11-05 | Sextant Avionique | Systeme de projection d'image a directivite ajustable. |
| JPH06152035A (ja) * | 1992-10-30 | 1994-05-31 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | レーザー光照射装置 |
| KR100379873B1 (ko) * | 1995-07-11 | 2003-08-21 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 막질개량방법 |
| US5889571A (en) | 1996-02-01 | 1999-03-30 | Lg Electronics Inc. | Ultraviolet irradiating device for photo-alignment process and an irradiating method using the same |
| JP3334569B2 (ja) * | 1996-09-27 | 2002-10-15 | ウシオ電機株式会社 | 照射角度を変えられるプロキシミティ露光装置 |
| KR0179297B1 (ko) * | 1996-12-30 | 1999-04-01 | 문정환 | 반도체 노광 장치 |
| KR100201249B1 (ko) * | 1997-01-17 | 1999-06-15 | 구자홍 | 광배향용 광조사장치 및 그의 조사방법 |
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-
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- 1998-11-24 JP JP33255898A patent/JP3458733B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-08-24 TW TW88114479A patent/TW573185B/zh not_active IP Right Cessation
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- 1999-11-23 DE DE69931330T patent/DE69931330T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-11-24 KR KR10-1999-0052437A patent/KR100510890B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1999-11-24 US US09/448,481 patent/US6206527B1/en not_active Expired - Fee Related
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