CN1218738A - 双轴取向聚酯膜及其制备方法 - Google Patents

双轴取向聚酯膜及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN1218738A
CN1218738A CN98124521A CN98124521A CN1218738A CN 1218738 A CN1218738 A CN 1218738A CN 98124521 A CN98124521 A CN 98124521A CN 98124521 A CN98124521 A CN 98124521A CN 1218738 A CN1218738 A CN 1218738A
Authority
CN
China
Prior art keywords
film
temperature
polyester film
under
horizontal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN98124521A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1107584C (zh
Inventor
朝仓正芳
江头贤一
恒川哲也
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP31898997A external-priority patent/JP3726456B2/ja
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Publication of CN1218738A publication Critical patent/CN1218738A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN1107584C publication Critical patent/CN1107584C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C55/00—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor
    • B29C55/02—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets
    • B29C55/10—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets multiaxial
    • B29C55/12—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets multiaxial biaxial
    • B29C55/16—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets multiaxial biaxial simultaneously
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2067/00—Use of polyesters or derivatives thereof, as moulding material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2367/00—Characterised by the use of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Derivatives of such polymers
    • C08J2367/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/91—Product with molecular orientation
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31786—Of polyester [e.g., alkyd, etc.]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)

Abstract

本发明公开了一种双轴拉伸聚酯膜,在纵向(YmMD)或横向(YmTD)任何一个方向上具有7.0GPa或更高的杨氏模量,和在聚酯骨架链的方向上来自晶体平面的衍射线的圆周半宽是在55°或55°以上到85°或85°以下的范围内,这是通过在聚酯膜沿着其法向旋转的同时由广角X－射线衍射仪所进行的晶体取向分析来测得。该膜在模平面所有方向上具有高硬度,具有高抗撕裂强度,具有高尺寸稳定性,和抗负载变形,和在高密度磁性记录介质的材料而具有非常大的工业意义,可广泛地用作静电电容器、热转移带和热敏模板印刷基纸的材料。

Description

双轴取向聚酯膜及其制备方法
本发明涉及双轴取向聚酯膜及其制备方法。更具体地说，本发明涉及在膜平面上所有方向具有高硬度和抗负荷变形，并用作高密度磁性记录介质的基膜的双轴取向聚酯膜，当用作数据记录带时显示出特别高的传输耐久性和在磁带工作环境中具有改进的可保持性，以及涉及它们的制备方法。
最近的磁性记录带已变得更加薄和记录密度更加高，使得有可能生产出记录时间更长的小型产品，日益需求在拉伸应力下有较小伸长变形和在磁带工作环境中有更长保持性的磁带产品。在磁性记录带产品开发的外部环境下，对具有较高强度和在磁带工作环境中具有较高形状稳定性和尺寸稳定性的改进基膜材越来越需求。
为了提供满足上述要求的基膜，芳酰胺材料已经常常采用，因为它们具有高的强度和尺寸稳定性。虽然它们具有较高的价格和在成本上不利，但是制造商还是使用它们，因为没有可替代物。另一方面，在生产高强度双轴取向聚酯膜的普通方法中，膜再次在两个方向即纵向和横向被拉伸，并进一步在纵向拉伸以确保纵向的高强度(例如JP-B-昭和42-9270,JP-B-昭和43-3040,JP-A-昭和46-1119和JP-A-昭和46-1120)。为了进一步提高横向上的强度，已经提出了“纵向和横向再拉伸方法”，其中膜首先在纵向被再拉伸和然后在横向再拉伸(例如，此类膜报道于JP-A-昭和50-13327和JP-A-昭和55-22915)。由这些普通方法生产的高强度聚酯膜具有诸多缺点：1)在使用过程中磁带断裂，2)在横向中硬度不够，导致边缘损坏，3)应力下的伸长变形或因环境条件引起的尺寸变形导致记录轨迹发生位移，使得当读取记录时出错，和4)不够的强度将使得在厚度减少上变困难，和不可能获得所需磁性转化性能。因此，为了从这些膜生产大容量、高密度磁性记录带仍然有许多问题需要克服。
此外，还提出了另一种拉伸方法，其中在上述拉伸取向工艺之前进行初级拉伸。US专利5,409,657，例如，建议了一种方法，在该方法中膜在(聚酯玻璃化转变温度Tg+40)℃-(结晶温度Tc-20)℃的温度下和在纵向以1.2-3倍的拉伸比进行初级拉伸，随后在横向和纵向进行拉伸，并且指出，仅仅在纵向上加强了。此外，JP-A-平9-300455也建议了(a)方法，其中膜在100℃-120℃的温度下和在横向以1.5-2.5倍的拉伸比进行初级拉伸，随后在横向和纵向都进行拉伸，和(b)方法，其中除上述方法(a)外，还在100℃-120℃的温度下以1.1-2.2倍的拉伸比进行初级拉伸，并表明膜仅仅在横向上加强了。此外，JP-A-昭和58-145421建议了一种方法，其中膜在115℃或更高的温度下在两个方向上同时被拉伸，随后进行同时的双轴拉伸，目的是生产薄膜和提高生产速度，并表明膜具有较小的杨氏模量。由这些技术生产的膜在所有方向上没有高硬度，因此不能解决在将该材料应用于高密度记录带的生产中所遇到的问题。
本发明的目的是提供一种双轴取向的膜，它在薄膜平面所有方向上具有高硬度，具有尺寸稳定性，耐负荷变形，和可用作高密度磁性记录介质的基膜，当被用作数据记录带时它显示出特别高的传输耐久性和显示出在磁带工作环境中改进的维护性；并提供它们的生产方法。
本发明人进行了研究工作来解决上述问题，并在发现以下事实之后实现本发明：在双轴拉伸和热处理之后具有某些结构和某些物理性能的膜能够用于生产具有减少的边缘损坏、提高的传输耐久性和改进的维护性的聚酯磁性记录带。
根据本发明的双轴取向聚酯膜，在纵向(YmMD)或横向(YmTD)任何一个方向上具有7.0GPa或更高的杨氏模量，和在聚酯骨架链的方向上来自晶体平面的衍射线的圆周半宽是在55°或55°以上到85°或85°以下的范围内，这是通过在聚酯膜沿着其法向旋转的同时由广角X-射线衍射仪所进行的晶体取向分析来测得。由本发明生产的膜具有以下所述的有利方面：(a)在聚酯骨架链方向上晶体尺寸是在45埃或45埃以上-90埃或90埃以下的范围内。(b)在纵向(YmMD)的杨氏模量和在横向(YmTD)的杨氏模量的总和是13GPa或13GPa以上到25GPa或25GPa以下的范围内，和在对角方向的杨氏模量(45°或135°)是6GPa或更高到10GPa或更低。(c)在50℃的温度和28MPa的负荷的条件下保持30分钟后蠕变柔量是0.11GPa-1或更高到0.35GPa-1或更低。(d)转化成5μm厚度后，膜在横向上的抗蔓延撕裂强度是0.7g或更高和1.8g或更低。(e)聚酯是聚对苯二甲酸乙二醇酯。(f)在纵向的峰强度(IMD)与在法向的峰强度(IND)之比R1(=IMD/IND)，由激光拉曼散射法在1615cm-1处测量，或在横向的峰强度(ITD)与在法向的峰强度(IND)之比R2(=ITD/IND)，两者中至少一个是6或更高。(g)在法向上的折光指数(nZD)是1.470或更高到1.485或更低，平面取向指数(fn)是0.175或更高和0.195或更低。(h)膜的密度是1.385或更高和1.400或更低。(i)膜的热收缩起始温度是70℃或更高，和在80℃下的热收缩率是0.5％或更低。
根据这里所述的本发明的双轴取向聚酯膜能够理想地用作高密度磁性记录介质、静电电容器和热转移带的基膜。
根据本发明的理想聚酯膜生产方法，但并不限于以下所述的生产方法(Ⅰ)和生产方法(Ⅱ)。
生产方法(Ⅰ)是双轴取向聚酯膜生产方法，其中基本上无定形的聚酯膜在纵向和横向被双轴拉伸以使该膜的双折射率(Δn)和结晶度分别变为0-0.02和6％或更低，然后该膜在比前一次横向拉伸的温度低的温度下进行第二次横向拉伸，随后进行第二次纵向拉伸。
本发明的生产双轴取向聚酯膜的生产方法(Ⅰ)将具有以下所述的有利方面：(a)基本上无定形的聚酯膜的边缘部分(A)的最大厚度与宽度的中心(B)的厚度之比(A/B)是在2.0-6.0范围内。
生产方法(Ⅱ)是双轴取向聚酯膜生产方法，它包括三个拉伸步骤，其中在第一步中非拉伸流延膜在(聚酯玻璃化转变温度Tg+25)℃-(Tg+45)℃范围内的温度下和在2-7倍的面积拉伸比下同时在纵向和横向进行双轴拉伸，随后在第二步中，该膜在(Tg-15)℃-(Tg+10)℃范围内的温度下和4-16倍的面积拉伸比下同时在纵向和横向进行双轴拉伸，和在第三步中，该膜在(聚酯熔点-130)℃-(Tm-10)℃范围内的温度下和1.5-5倍的面积拉伸比下同时在纵向和横向进一步进行双轴拉伸。
生产本发明的双轴取向聚酯膜的生产方法(Ⅱ)将具有以下所述的有利方面：(a)在第三步中的拉伸是在温度范围内的两个或多个阶段中进行的。(b)夹持膜边缘的膜夹头的温度是在(聚酯玻璃化转变温度Tg+15)℃-(Tg+50)℃的温度范围内。(c)在第一步中通过同时双轴拉伸所生产的膜具有双折射率(Δn)为0-0.02和结晶度为6％或更低。
优选实施方案的详细叙述
下面将参考优选的实施方案更加详细地解释本发明。
在本发明涉及到的聚酯被定义为通过二醇和二羧酸的缩聚反应所制备的聚合物。二羧酸包括对苯二甲酸，间苯二甲酸，邻苯二甲酸，萘二甲酸，己二酸，和癸二酸。二醇包括乙二醇，三亚甲基二醇，四亚甲基二醇和环己烷二甲醇。具体地说，有用的聚酯包括聚对苯二甲酸亚甲基二醇酯，聚对苯二甲酸乙二醇酯，聚对苯二甲酸丙二醇酯，间苯二甲酸乙二醇酯，聚对苯二甲酸四亚甲基二醇酯，对-羟基苯甲酸乙二醇酯，聚对苯二甲酸1,4-亚环己基二醇-二亚甲基二醇酯，和2,6-萘二甲酸乙二醇酯。不用说，这些聚酯可以是均聚物或共聚物，共聚合组分例如是诸如二乙二醇、新戊基二醇和聚亚烷基二醇的二醇组分，和诸如己二酸、癸二酸、邻苯二甲酸、间苯二甲酸和2,6-萘二羧酸的二羧酸组分。从机械强度、热稳定性、耐化学性和耐久性考虑，本发明的优选聚酯包括聚对苯二甲酸乙二醇酯，聚对苯二甲酸丙二醇酯，聚间苯二甲酸乙二醇酯，聚萘二甲酸乙二醇酯聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯)，以及它们的共聚物。尤其，就膜性能和价格而言，聚对苯二甲酸乙二醇酯是高度优选的。所使用的聚酯的特性粘度(Ⅳ)优选在0.6dl/g或更高和1.0dl/g或更低的范围内，从成膜能力、尺寸稳定性和抗撕裂性考虑，0.65dl/g或更高和0.80dl/g或更低的范围是特别优选的。
本发明的任何双轴取向聚酯膜，在纵向(YmMD)或横向(YmTD)的任何一个方向上具有7.0GPa或更高的杨氏模量，和在聚酯骨架链的方向上来自晶体平面的衍射线的圆周半宽是在55°或55°以上到85°或85°以下的范围内，这是通过在聚酯膜沿着其法向旋转的同时由广角X-射线衍射仪所进行的晶体取向分析来测得。在聚酯骨架链的方向上来自晶体平面的衍射线的圆周半宽表示了在双轴取向聚酯膜中晶体的取向方向的分布的变宽程度。如果半宽低于55°，膜的抗蔓延撕裂强度将是较小的，容易引起磁带断裂，而如果高于85°，将不可能生产出在膜平面的所有方向上具有高强度的膜，本发明的目的不会实现。在这里所涉及到的聚酯骨架链的方向上的晶体平面是由广角X-射线衍射法检测为衍射线的平面，其法线比任何其它晶体平面更接近聚酯骨架链。它是聚对苯二甲酸乙二醇酯的平面(-105)和聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯的平面(-306)。上述半宽优选在60°或更高和85°或更低的范围内，最优选在65°或更高和80°或更低的范围内，以达到本发明的效果。
如果在纵向(YmMD)的杨氏模量和在横向(YmTD)的杨氏模量都低于7.0GPa，则膜在硬度上太小，从其生产的薄膜将容易遭遇在应力下的伸长变形(尤其在纵向)和边缘损坏(尤其在横向)。从磁带的伸长变形和边缘损坏考虑，杨氏模量值YmMD和YmTD中任何一个更优选是8GPa或更高。
对于本发明，在聚酯骨架链方向上膜中的晶体尺寸优选是在45埃或更高和90埃或更低的范围内。这里，聚酯骨架链方向被定义为与聚酯骨架链的方向最近的晶体平面的法线的方向。它，对于聚对苯二甲酸乙二醇酯而言，是平面(-105)的法线的方向，对于聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯而言，是平面(-306)的法线的方向。如果晶体尺寸低于45埃，所得到的磁带将遭遇较大的伸长变形，边缘损坏，和损害所制造磁带在贮存过程中的稳定性。如果晶体尺寸高于90埃，则会较高频率地发生磁带断裂。所需晶体尺寸取决于所使用的聚酯。对于聚对苯二甲酸乙二醇酯，晶体尺寸优选在50埃或更高和85埃或更低的范围内，更优选在55埃或更高和80埃或更低的范围内。如果所使用的聚酯是聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯，则50埃或更高和65埃或更低的范围是更加优选的。
对于本发明的膜，在纵向(YmMD)的杨氏模量和在横向(YmTD)的杨氏模量的总和，即YmMD+YmTD，优选在13GPa或更高和25GPa或更低的范围内，在对角方向上的杨氏模量优选是在6GPa或更高和10GPa或更低的范围内。以上所涉及到的对角方向上的杨氏模量被定义为在45°或135°的方向上膜平面的杨氏模量，假设膜的纵向和横向是分别处在90和0°的方向。如果该杨氏模量的总和低于13GPa和在对角方向上杨氏模量低于6GPa，则该膜容易在应力下遭受伸长变形。相反，如果杨氏模量的总和是高于25GPa和在对角方向上的杨氏模量是高于10GPa，则该膜容易在抗撕裂性和热收缩性上受到损失，使得很难达到本发明的效果。在纵向(YmMD)的杨氏模量和在横向(YmTD)的杨氏模量的总和，即YmMD+YmTD，优选在14GPa或更高和20GPa或更低的范围内，在对角方向上的杨氏模量更优选在7GPa或更高和9GPa或更低的范围内。虽然取决于基膜上磁性涂层的硬度和磁带的工作条件，YmMD和YmTD的比值，即YmMD/YmTD优选在0.6-1.3范围内，更优选在0.7-1.2范围内，为的是减少边缘损坏。如果磁性层被加合到基膜上以提高硬度，YmMD优选是6.0GPa或更高，和YmMD/YmTD优选是在0.6-0.9范围内。
对于本发明，在50℃的温度和28MPa的负荷的条件下保持30分钟后的膜的蠕变柔量优选是在0.11GPa-1或更高和0.35GPa-1或更低的范围内。对于本发明，如果蠕变柔量高于0.35GPa-1，则在磁带的传输或贮存过程中所发生的拉伸将容易导致磁带的伸长变形，使得在数据记录过程中轨迹发生位移。相反，如果蠕变柔量低于0.11GPa-1，则常常发生磁带断裂。对于本发明，蠕变柔量更优选是在0.15GPa-1或更高和0.30GPa-1或更低的范围内。本发明的蠕变柔量如在由Kagakudojin出版的“Kobunshi-Kagaku Joron(聚合物化学导论)，第二版”的150页中所定义。
对于本发明的双轴拉伸聚酯膜，膜在横向上的抗蔓延撕裂强度，转化成5μm的厚度，优选在0.7g或更高和1.8g或更低的范围内。对于本发明，此外，在横向上抗蔓延撕裂强度更优选在0.8g或更高和1.5g或更低的范围内。
本发明所使用的聚酯优选是如以上所述的聚对苯二甲酸乙二醇酯，和在这种情况下对于本发明的膜而言，在纵向的峰强度(IMD)与在法向的峰强(IND)之比R1(=IMD/IND)，由激光拉曼散射法在1615cm-1处测量，或在横向的峰强度(ITD)与在法向的峰强度(IND)之比R2(=ITD/IND)，两者中任何一个优选是6或更高。在纵向的峰强度(IMD)与在法向的峰强度(IND)之比R1(=IMD/IND)，由激光拉曼散射法在1615cm-1处测量，和在横向的峰强度(ITD)与在法向的峰强度(IND)之比R2(=ITD/IND)，与分别在纵向和横向上取向的强度有关。然而，本发明所使用的1615cm-1拉曼谱带归属于苯环的C=C拉伸振动(vC=C)，其强度取决于苯环的堆积。对于双轴取向膜，尤其，强度主要取决于除取向以外的因素。对于本发明，为了生产在膜平面的所有方向上高度增强的膜，纵向和横向的强度比R1和R2中任何一项优选是6或更高，更优选7或更高。为了生产磁性记录介质，更优选的是横向的强度比R2是6或更高。
对于本发明的双轴取向聚对苯二甲酸乙二醇酯，在法向上的折光指数(nZD)优选是在1.470或更高和1.485或更低的范围内，和平面取向指数(fn)优选是在0.175或更高和0.195或更低的范围内。对于本发明，如果在法向上的折光指数(nZD)高于1.485和平面取向指数(fn)低于0.175，则在磁带的传输过程中，则更容易由施加在磁带上的应力引起伸长变形，使轨迹发生位移。如果在法向上的折光指数(nZD)低于1.470和平面取向指数(fn)高于0.195，则膜的抗蔓延撕裂强度将变小，更易发生磁带的断裂。对于本发明的膜，在法向上的折光指数(nZD)更优选是在1.473或更高和1.482或更低的范围内，和平面取向指数(fn)更优选在0.180或更高和0.193或更低的范围内。
对于本发明的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，密度优选在1.385或更高和1.400或更低的范围内。对于本发明的膜，如果密度低于1.385，则膜中结构将被充分地固定，引起磁带的维护性受到损害，而如果密度高于1.400，则膜的抗蔓延撕裂强度将太小，导致磁带经常断裂。
对于本发明的双轴取向聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，从伸长变形和磁带的维护性考虑，热收缩起始温度优选是70℃或更高和在80℃下的热收缩率优选是0.5％或更低。更优选的是，热收缩起始温度是75℃或更高，和在80℃下的热收缩率是0.3％或更低。对于本发明，如果热收缩起始温度低于70℃或如果在80℃下的热收缩率是高于0.5％，则尺寸稳定性容易受到损害，当磁带被传输磁带和记录磁头之间摩擦热所升温时将导致热变形，或导致损害磁带的维护性。
本发明的双轴取向聚酯膜能够理想地用于生产磁性记录介质，静电电容器和热转移带，它们的膜厚度优选在0.5-20μm范围内，这取决于它们的用途和目的。为生产磁性记录介质，它们提供了适合于高密度磁性记录带(尤其适合于数据贮存的那些)的基膜。磁性记录密度优选是30GB(gigabytes)或更高，更优选70GB或更高，进一步优选100GB或更高。膜厚度，对于生产普通的磁性记录介质来说，优选是在1μm或更高和15μm或更低的范围内，对于生产数据贮存用的涂层型磁性记录介质来说，在2μm或更高和10μm或更低的范围内，和对于生产数据贮存用的蒸发型磁性记录介质来说，在3μm或更高和9μm或更低的范围内。
为了生产静电电容器，本发明的双轴取向聚酯膜优选具有0.5-15μm的厚度，使之具有介电击穿电压的高稳定性和高介电性能。
为了生产热转移带，本发明的双轴取向聚酯膜优选具有1-6μm的厚度，它允许高精度的印刷而不会产生卷曲或引起不均匀的印刷，过多墨水的转移，等等。
为了生产热敏型模板印刷用的基膜，本发明的双轴取向聚酯膜优选具有0.5-5μm的厚度，它允许以低能量进行方便的穿孔(穿孔直径的变化取决于能量大小)，和允许使用几个模板的高质量彩色印刷。
对于本发明的双轴取向聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，磁性记录表面的表面粗糙度(Ra)优选在0.2-15nm范围内以减少磁头和磁带之间的距离来增强磁电转化性能。从基膜的后处理和膜的卷绕(得到卷筒)考虑，传输表面(处于磁性记录表面的反侧)的表面粗糙度(Ra)优选在5-30nm范围内。为确保磁带的高传输性能和高磁电转化性能，两表面粗糙度的单独控制是非常需要的。这可通过由聚酯和具有不同直径的颗粒组成的两种树脂材料进行共挤出，得到由两层或多层组成的层压膜来实现。薄层进一步被加合到磁性记录表面上形成三层的膜。对于两层膜，用作磁性记录表面的层的厚度(A)和用作传输表面的层的厚度(B)之比(A/B)优选在80/1-3/1范围内。
本发明的聚酯膜可含有无机或有机颗粒，其它各种包括氧化抑制剂、抗静电剂和晶体成核剂在内的添加剂。它们可含有少量的其它树脂如骨架链含有中生基团(mesogenic)(可形成液晶的结构单元)的共聚酯树脂。
含有中生基团的此类共聚酯树脂包括从单羟基单羧酸化合物、芳族二羟基化合物、芳族二羧酸、亚烷基二醇等等生产的共聚酯。此类单羟基单羧酸化合物包括对-羟基苯甲酸和6-羟基-2-萘甲酸。此类芳族二羟基化合物包括4,4’-二羟基联苯，氢醌，和2,6-二羟基萘。此类芳族二羧酸化合物包括对苯二甲酸，间苯二甲酸，4,4’-联苯二羧酸，2,6-萘二羧酸，和1,2-双(苯氧基)乙烷-4,4’-二羧酸。此类亚烷基二醇包括乙二醇，和丁二醇。共聚合的单羟基单羧酸化合物和共聚合的芳族二羟基化合物的量的总和(M)和共聚合的亚烷基二醇的量(N)的摩尔比(M/N)优选在80/20-50/50范围内。被加入到聚对苯二甲酸乙二醇酯膜或聚萘二甲酸乙二醇酯膜的所需共聚酯包括从羟基苯甲酸，4,4’-二羟基联苯，乙二醇，对苯二甲酸或2,6-萘二羧酸等生产的那些。它们在聚酯膜中的含量优选在0.5-10.0wt％范围内。
以上所述的无机颗粒包括，但不限于，氧化物类如氧化硅，氧化铝，氧化镁，和氧化钛，复合氧化物如高岭土，滑石，和蒙脱土，碳酸盐类如碳酸钙，和碳酸钡，硫酸盐类如硫酸钙，和硫酸钡，钛酸盐类如钛酸钡，和钛酸钾，以及磷酸盐类如三元磷酸钙，二元磷酸钙，和一元磷酸钙。为获得特定的目的可以一起使用这些化合物的两种或多种。
以上所述的有机颗粒包括，但不限于，乙基材料如聚苯乙烯，交联聚苯乙烯，交联苯乙烯-丙烯酸聚合物，交联丙烯酸聚合物，交联苯乙烯-甲基丙烯酸聚合物，和交联甲基丙烯酸聚合物，以及其它材料如苯并胍胺-甲醛、硅氧烷和聚四氟乙烯的颗粒料。可使用任何其它颗粒，如果该颗粒的至少一部分是不溶于聚酯中的细聚合物颗粒。此类有机颗粒优选是球形的并具有均匀的直径分布，为的是确保高光滑度和在膜表面上形成均匀的突起。
颗粒的所需直径、含量和形状取决用途和目的。然而，一般来说，它们的平均直径优选在0.01μm或更高和2μm或更低的范围内，和它们的含量优选在0.002wt％或更高和2wt％或更低的范围内。
上面的叙述表明，具有特定结构和性能的双轴取向聚酯膜能够优异地用作高密度磁性记录带的基膜，因为它们减少磁带断裂和增强传输耐久性和维护性。下面将描述生产本发明这些双轴取向聚酯膜的理想方法。不用说，下面的叙述对本发明没有任何限制，除非超出本发明的范围。
纵向，简写为MD，也可称作与成膜的拉伸过程相关的纵向，而横向，简写为TD，也称作与成膜的拉伸过程相关的横向。
本发明的双轴取向聚酯膜由熔融模塑的聚酯片材组成，即在纵向和横向顺序双轴取向和/或同时双轴取向来进行取向。该片材是通过在不同温度下进行几次双轴拉伸以获得非常高的取向度而制备的。理想的生产方法包括，但不限于，以上所述的生产方法(Ⅰ)和(Ⅱ)。
对于生产方法(Ⅰ)，聚对苯二甲酸乙二醇酯(下文称作PET)的顺序双轴拉伸在以下作为例子来描述。
聚对苯二甲酸乙二醇酯的粒料(特性粘度：0.65dl/g，玻璃化转变温度Tg:75℃，熔点：255℃)在真空下充分地干燥，加入到保持在270-300℃的温度下的挤出机中，通过T-模头挤出得到片材。利用静电将这一熔化片材粘附在具有10-40℃的冷却表面的鼓上以确保紧密的接触，这样获得基本上无定形的非拉伸流延膜。在这一过程中，在纵向的折光指数和在横向的折光指数优选被控制在1.570-1.575范围内，而结晶度优选保持在1.5％或更低，更优选1.0％或更低，以生产本发明的膜。此外，非拉伸膜的边缘部分的最大厚度(A)与在宽度的中心处的厚度(B)之比(A/B)优选在2.0-6.0范围内，更优选3.0-5.0范围内，这样可有利地进行随后的拉伸操作。
这一非拉伸膜的顺序双轴拉伸的所需条件(拉伸温度，拉伸度)必须确保，以使得在纵向和横向进行顺序双轴拉伸之后该膜具有0-0.02的双折射率(Δn)和6％或更低的结晶度。为了顺利地进行顺序双轴拉伸，非拉伸膜被导向一组加热金属辊以便在(聚酯玻璃化转变温度Tg+15)℃-(Tg+45)℃、范围内的温度下获得1.5-2.5倍的拉伸(MD拉伸1)。这一拉伸优选在两步中进行，以获得所需拉伸度。该膜由拉幅机夹头夹持其端部，导入拉幅机中，预热，然后在(聚酯玻璃化转变温度Tg+1 5)℃-(Tg+45)℃、更优选(聚酯玻璃化转变温度Tg+25)℃-(Tg+45)℃范围内的温度下在横向上以1.5-2.5倍拉伸比进行拉伸(TD拉伸1)得到一种膜，该膜具有双折射率为0-0.02、更优选0-0.01、进一步优选0-0.005，和结晶度为6％或更低、更优选3％或更低、进一步优选2％或更低，由基于密度的技术测定。该膜在纵向和横向的折光指数优选是1.590或更低，更优选1.580或更低。因此，优选的是在纵向和横向上拉伸至1.5-2.5倍的操作是在由该拉伸不会显著提高取向和结晶度的温度下进行。该拉伸会使聚合物链解脱缠结，使得由垂直方向上以两个或多个堆积的取向苯环(堆积结构)组成的结构得以形成。在这一结构形成之后，然后在几个步骤中进行再拉伸是生产这里公开的膜所需要的。这里涉及到的在纵向上的拉伸度被定义为在拉伸之后的膜速度与在该拉伸过程中的拉伸之前的膜速度之比，而在拉伸之前在纵向上延伸的和在横向上相互以等间距排列的几根线被提供在膜上，然后在拉伸之后测定各线之间的加大的距离以测定在横向上的拉伸度，其被定义为在拉伸之后在各线之间的距离与拉伸之前的距离之比。
在TD拉伸1之后，该膜再次在低于TD拉伸1的拉伸温度的温度下在横向上被拉伸，随后在纵向上进一步拉伸。在横向上的拉伸优选在(Tg-15)℃-(Tg+25)℃、更优选(Tg-15)℃-(Tg+10)℃范围内的温度下进行到横向拉伸度的3-5倍(TD拉伸2)。由于在低于(Tg+10)℃的温度下的这一拉伸会引起小的缩颈(假缩颈拉伸)，该拉伸比应该设定为3倍或更高倍数。如果TD拉伸2的拉伸比低于3倍，则该膜容易在厚度上变不均匀，这应该小心避免。为了确保在Tg附近的温度下的高度拉伸，重要的是该MD拉伸1和TD拉伸1在所希望的温度和拉伸度条件下进行以获得具有如以上所述的所需性能的双轴拉伸膜。
为了随后的第二次纵向拉伸，该膜被导向一组加热金属辊(具有一层坚硬、镀铬、镜面修饰的表面)上和然后优选在(Tg-25)℃-(Tg+85)℃范围内的温度下以2-6倍的拉伸比在纵向上再次进行拉伸(MD拉伸2)。更优选地，以3-6倍拉伸比的第二次纵向拉伸(MD拉伸2)应该在几个步骤中进行，具体地说在第一步中在(Tg-15)℃-(Tg+10)℃范围内的温度下和在随后的步骤中在高于(Tg+10)℃至(聚酯熔点Tm+85)℃范围内的温度下。当进行此多步纵向拉伸时，在(Tg-15)℃-(Tg+10)℃范围内的温度下进行的第一步的拉伸度应该是在MD拉伸2过程中的总拉伸比的约70％-95％范围内。更优选的是，由在(Tg-15)℃-(Tg+10)℃范围内的温度下进行的第一步的纵向再拉伸所达到的这一拉伸比可以在两个或多个分开的步骤中达到。
然后，这一双轴取向膜可进一步在横向上进一步再拉伸。为了进行此第二次拉伸，该双轴拉伸膜由拉幅机夹头夹持其端部，导入拉幅机中，预热，然后在MD拉伸2的温度至(Tm-20)℃范围内的温度下在横向上以1.05-3倍拉伸比进行拉伸，优选在高于(Tg+10)℃至(聚酯熔点Tm-45)℃范围内逐渐升高温度的情况下，在一个或多个步骤中进行横向上的拉伸(TD拉伸3)。TD拉伸3的温度优选在(Tm-120)℃-(Tm-45)℃范围内，膜的结晶度开始提高。该膜然后在(Tm-75)℃-(Tm-35)℃温度范围内进行热处理，随后在从热处理温度冷却的过程中在横向和/或纵向上进行松弛。松弛处理优选在两个或多个步骤(例如在180-130℃和130-90℃)中进行。通过逐渐减少拉幅机夹头的导轨之间的距离能够有利地实现在横向上的松弛，而通过逐渐减少夹持膜边缘的夹头逐渐的距离能够有利地实现纵向上的松弛。
该膜在(Tg-30)℃-(Tg+110)℃的温度范围内作进一步的热处理。该第二次热处理的优选方法包括加热烘箱的使用和几个加热辊的使用。在使用加热烘箱的优选热处理方法中，例如，对带有边缘(在膜生产过程中在膜的端部形成的较厚部分)的膜施加2MPa或更高的拉伸应力以便在纵向上拉伸边缘，通过在加热烘箱入口处所提供的膨胀装置(膨胀辊等)在横向上对膜拉伸，随后在加热烘箱的两侧所提供的夹辊上进行热处理。在这一步骤中，在齿轮侧夹辊的运转速度可设定在比前端的夹辊速度低的值，以便在纵向上实现松弛。当几个加热辊被用于第二次热处理时，夹辊可提供在一组加热辊的两侧，和经夹辊进行热处理。在这一步骤中，在齿轮侧夹辊的运转速度可以设定在比前端的夹辊的速度低的值以在纵向上实现松弛。
在修整边缘后，所制备的膜被切成带，卷绕在卷筒上并在(Tg-30)℃-(Tg+30)℃的温度下老化1-10天。
下面描述使用同时双轴拉伸的生产方法(Ⅱ)的例子。当使用同时双轴拉伸时，基膜生产原理和拉伸条件与以上所述的顺序双轴拉伸相同，和顺序双轴拉伸方法能够部分地或全部地被同时双轴拉伸所取代。例如，1)MD拉伸1和TD拉伸1是通过同时双轴拉伸来进行，该方法的剩余部分由顺序拉伸来进行；2)MD拉伸1，TD拉伸1和TD拉伸2和MD拉伸2的第一步是通过同时双轴拉伸来进行的，该方法的剩余部分是通过顺序拉伸来进行的；3)MD拉伸1和TD拉伸1是通过顺序双轴拉伸进行的，随后TD拉伸2和MD拉伸2的第一步，MD拉伸2的第二步，和TD拉伸3由同时双轴拉伸进行；4)MD拉伸1,TD拉伸1,TD拉伸2和MD拉伸2的第一步是通过顺序双轴拉伸来进行的，随后MD拉伸2的第二步和TD拉伸3是通过同时双轴拉伸进行的；5)MD拉伸1,TD拉伸1,TD拉伸2的第一步和MD拉伸2,MD拉伸2的第二步和后面的步骤，和TD拉伸3，即整个拉伸方法，是通过同时双轴拉伸进行的；6)MD拉伸1和TD拉伸1是通过顺序双轴拉伸进行，和随后TD拉伸2和MD拉伸2的第一步是通过同时双轴拉伸进行，随后MD拉伸2的第二步和后面的步骤，和TD拉伸2是通过顺序双轴拉伸进行的；或7)MD拉伸1和TD拉伸1是通过同时双轴拉伸进行的，和随后的TD拉伸2和MD拉伸2是通过顺序双轴拉伸进行的，随后该方法的剩余部分是通过同时双轴拉伸进行的。对于本发明，第五种操作程序是优选的：其中MD拉伸1,TD拉伸1,TD拉伸2的第一步和MD拉伸2,MD拉伸2的第二步和后面的步骤，TD拉伸3，即整个拉伸方法，是通过同时双轴拉伸进行的。
整个拉伸方法由同时双轴拉伸进行的方法如下所述。
根据与对于顺序双轴拉伸生产膜的方法所述同样的操作程序生产基本上无定形的非拉伸流延膜。在这一操作程序中，在纵向的折光指数和在横向的折光指数优选被控制在1.570-1.575范围内，而结晶度应该保持在1.5％或更低，更优选1.0％或更低，为的是生产本发明的膜。此外，非拉伸膜的边缘部分的最大厚度(A)和在宽度的中心处的厚度(B)之比(A/B)优选在2.0-6.0，更优选3.0-5.0，更优选3.0-4.0范围内，这样后面的拉伸将理想地进行的。
流延膜(其边缘由拉幅机夹头夹持)被放在同时双轴拉伸机中，在其中在(Tg+25)℃-(Tg+45)℃的温度和在纵向和横向两个方向上以2-7倍、优选1.5-2.5倍的面积拉伸比对膜进行拉伸。该同时双轴拉伸膜在纵向和横向上的折光指数优选是1.590或更低，更优选1.580或更低。其双折射率优选是0-0.02，更优选是0-0.01，更优选0-0.005。从密度测量值所测得的结晶度优选是6％或更低，更优选3％或更低，更优选2％或更低，获得本发明的膜。随后，双轴拉伸膜在(Tg-15)℃-(Tg+10)℃的温度下，以纵向和横向中每一方向上4-16倍、优选3-5倍的面积拉伸比，再次进行同时双轴拉伸。随后，该膜进一步在高于(Tg+10)℃至(聚酯熔点Tm-45)℃的温度下，以纵向和横向中每一方向上1.5-5倍、优选1.2-2.5倍的面积拉伸比，进行一步或多步的同时双轴拉伸。在该方法中同时双轴拉伸的温度优选在(Tm-120)℃至(Tm-45)℃范围内，在该范围内膜的结晶度会提高。该膜然后在(Tm-75)℃-(Tm-10)℃，优选(Tm-70)℃-(Tm-35)℃的温度下进行热处理，随后在从热处理温度的冷却过程中在横向和纵向上进行松地。该松弛处理优选在两个或多个步骤(例如在180-130℃和130-90℃)中进行。通过逐渐减少拉幅机夹头的导轨之间的距离来理想地实现横向上的松弛，而通过逐渐减少夹持膜边缘的拉幅机夹头之间的距离来理想地实现纵向上的松弛。
本发明的同时双轴拉伸的优选器是使用直线移动式马达在纵向上使拉幅机夹头移动的一台同时双轴拉伸拉幅机。与膜接触的夹头那一面的形状应使得纵向的长度(LMD)与横向的宽度(LTD)之比(LMD/LTD)是3-15，这是为在膜的端部获得纵向上的均匀拉伸所优选的。夹持该膜的边缘实施拉伸的夹头的温度优选是在(Tg+15)℃-(Tg+50)℃范围内，以确保在膜端部的纵向均匀拉伸。夹头穿过拉幅机同时在预热区中受热，穿过热处理区，和从拉幅机中穿出，沿着烘箱运动返回拉幅机的入口，以上所指的夹头的温度被定义为在夹持膜的边缘之前所测量的温度。通过调节冷却空气流速和在返回入口的通路中冷却部分的长度能够控制夹头的温度。这一温度在规定的膜生产条件下在3-5小时的连续操作之后保持稳态。
对于本发明，聚酯膜可在膜的拉伸之前或之后用涂料进行涂敷，获得特殊表面性能，易于粘附，高滑爽度，易脱模，和高抗静电性。
本发明的双轴拉伸聚酯膜可理想地用作磁性记录介质以及静电电容器、熟转移带和模板印刷的热敏基纸的材料。
[用于评价性能的方法]
(1)由广角X-射线衍射法测定的来自膜的晶体平面的衍射线的圆周半宽
这是通过使用X-射线衍射仪在下述条件下由衍射测定。X-射线衍射仪：由Rigakudenki制造，Model4036A2(密封的单灯丝X-射线管型)
X-射线源：CuKα射线(使用Ni过滤器)
输出功率：40kV,20mA
测角仪：由Rigakudenki公司制造
狭缝：2mmΦ-1°-1°
检测仪：闪烁计数器计数器-记录仪：由Rigakudenki公司制造，型号RAD-C
以相同方向排列的尺寸为2cm×2cm的样品堆积体和计数器被放置在从2θ/θ扫描测得的来自晶体平面的衍射线上，样品堆积体在该平面内旋转获得圆周形轮廓图(β扫描)。假设在峰的两侧的底部构成背景，从由β扫描所获得的峰轮廓测得峰的半宽(度)。(2)从广角X-射线衍射法测得的晶体尺寸
这是通过使用X-射线衍射仪在下述条件下由透射法测定。X-射线衍射仪：由Rigakudenki制造，Model4036A2
X-射线源：CuKα射线(使用Ni过滤器)
输出功率：40kV,20mA
测角仪：由Rigakudenki公司制造
狭缝：2mmΦ-1°-1°
检测仪：闪烁计数器计数器-记录仪：由Rigakudenki公司制造，型号RAD-C
以相同方向排列的尺寸为2cm×2cm的样品堆积体在火胶棉乙醇溶液中处理成肿胀块，在广角X-射线衍射仪下观察获得2θ/θ强度数据，使用以下给出的Scherrer方程式从平面的不同方向上的半宽计算晶体尺寸。晶体尺寸表示在主取向轴上的尺寸。
晶体尺寸L(埃)=kλ/β0cosθB
K：常数(=1.0)
λ：X-射线的波长(=1.5418埃)
θB：布拉格角
βO=(βE 2-βI 2)1/2
βE表观半宽(测量值)
βI：装置常数(=1.046×10-2)(3)杨氏模量
使用Instron型拉伸试验仪按照ASTM-D882中规定的操作程序进行测量。测量的条件在以下给出：
测量装置：自动膜强度测量装置，由Orientec公司制造，型号“TensilonAMF/RTA-100”
样品尺寸：宽度10mm×有效样品长度100mm
拉伸速度：200mm/min
测量环境：温度23℃，湿度65％RH(4)蠕变柔量
切下宽度4mm的样品，安放在具有加热控制装置“TA-1500”的、由Shinku RikoCorporation制造的TMA“TM-3000”中，这样有效样品长度是15mm。
对样品施加28MPa的负荷，它在50℃和65％RH的条件下保持30分钟，测量膜的伸长率。膜的伸长率(百分数，表示为ΔL)是用NEC PC-9801个人计算机经过CanopusCo.,Ltd.AD转化器ADX-98E来测定，和从以下方程式确定蠕变柔量。
蠕变柔量(GPa-1)=(ΔL/100)/0.028(5)从激光拉曼散射测定的膜的取向
用于激光拉曼谱分析的测量条件是如下所述。装置：    JobinYvon,RamanorU-1000Micro-Raman：测量构型；180°散射样品载体；固体光源    ：NECGLG3300,Ar+激光，波长515nm谱仪    ：构型；1m,Czemy-Tumer型
      双单色器
      衍射光栅；
      平面全息照相，1800g/mm,110×110mm
      分散度；9.23cm-1/mm
      反光除去率；10-14(20cm-1)检测仪：PM RCA31034,HamamatsuDenshi943-02
用于测量的膜被包埋到聚甲基丙烯酸甲酯中，并进行湿磨光。截面的方向被设定与横向平行。中心部分用于测量。10次测量在稍微不同的位置进行，计算它们的平均值。在纵向上偏振平行光的1615cm-1谱带强度(IMD)和在法向上偏振平行光的1615cm-1谱带强度(IND)被测量后来确定比率R1(R1=IMD/IND)，它表示取向度。还有，在横向上偏振平行光的1615cm-1谱带强度(ITD)和在法向上偏振平行光的1615cm-1谱带强度(IND)被测量后来确定比率R2(R2=ITD/IND)，它表示取向度。(6)抗蔓延撕裂强度
根据ASTM-D1922，使用轻量级撕裂试验仪(Toyo Seiki KogyoCo.,Ltd.)进行测量。在64×51mm样品中制造13mm的切口，然后将剩余的51mm部分撕裂，随后读取指示数值。(7)折光指数和平面取向指数(fn)
根据在JIS-K7105中规定的方法，使用钠D射线作为光源和使用Atago Type4阿贝折光仪来测量折光指数。使用二碘甲烷作为固定液体，在23℃和65％RH下进行测量。
使用以下关系式从折光指数测量值计算平面取向指数(fn)。平面取向指数=(nMD+nTD)/2-nZDnMD：在纵向的折光指数nTD：在横向的折光指数nZD：在法向的折光指数(8)双折射率
Berek补偿仪与NIKON偏振显微镜相结合被用来测定膜的光程差(R)，由以下关系式计算双折射率(Δn)。
Δn=R/d
R：光程差(μm)
d：膜厚度(μm)(9)密度和结晶度
使用溴化钠水溶液，用JIS-K7112中规定的密度梯度方法来测量膜的密度。这一密度值与晶体密度和聚酯的无定形密度一起用来由下式计算结晶度。结晶度(％)=[(膜密度-无定形密度)/(晶体密度-无定形密度)]×100对于PET，无定形密度：1.335g/cm3
晶体密度：1.455g/cm3(10)热收缩起始温度
从膜上切下的4mm宽样品被安放在段落(4)中所使用的TMA设备中，这样有效样品长度是15mm。通过施加1g的负荷，以2℃/min的加热速度将样品加热至120℃，随后测定收缩率(％)。记录数据，获得温度和收缩率的曲线图。在收缩曲线偏离基线(0％)处的温度被读取下来，这一读取值被用作热收缩起始温度。(11)热收缩率
根据JIS-C2318进行测量。样品尺寸：宽度10mm，标记线间距200mm测量条件：温度80℃，处理时间30分钟，未负荷条件
80℃下热收缩率由下式计算。热收缩率(％)=[(L0-L)/L0]×100L0：在加热前的标记线间距L：在加热后的标记线间距(12)玻璃化转变温度Tg和熔点Tm
差示扫描量热仪，Seiko Instruments Inc.Robot DSC-RDC220，与数据分析仪，Seiko Instruments Inc.Disk Session SSC/5200一起使用。取5mg样品，以20℃/min的加热速度从室温加热至280℃，在此温度保持5分钟，用液氮骤冷，再次以20℃/min的加热速度从室温加热至280℃，所获得的热曲线用来测定Tg和Tm。(13)中心线平均表面粗糙度(Ra)
用Kosaka LaboratoryLtd.ET-10高精度薄膜步测机进行测量，根据JIS-B0601测定中心线平均表面粗糙度(Ra)。示踪器(tracer)尖端直径为0.5μm，示踪剂压力5mg，测量长度1mm，和切口0.08mm。(14)模断裂的频率
为了生产双轴取向聚酯模，模断裂的频率根据以下标准来测定：◎：从边缘开始的断裂在48小时或48小时以上不会发生○：从边缘开始的断裂在24小时或24小时以上不会发生Δ：从边缘开始的断裂在7小时或7小时以上不会发生×：由于模断裂，使得模生产无法进行6小时或6小时以上。
依据成膜稳定性和产率，根据以上标准以◎、○或Δ来判断是否“接受”。(15)在高速传输过程中的表面损坏
模被切成1/2英寸宽的条形试样，在磁带运行试验机(传输速度250m/min，传输次数1，卷绕角60°，传输张力90g)中的导销(表面粗糙度Ra=100nm)上运行，在完成膜的传输之后，导销用肉眼观察，如果在销上没有发现碎屑则膜被判断为优异(○)，如果在销上发现少量的碎屑则膜被判断为良好(Δ)，如果在销上发现大量的碎屑则膜被判断为不好(×)。优异的是需要的，但膜被判断为良好也可以胜任实际应用的需要。(16)电磁转化性能(C/N)
通过使用挤出涂覆机，本发明样品的表面用具有以下组成的磁性涂料和非磁性涂料(涂料)进行涂覆(上涂层：磁性，0.1μm厚；下涂层：非磁性，不同厚度)，进行磁场定向(magnetically ordered)，然后加以干燥。然后反面被涂覆形成具有以下组成的背面涂层，随后在小试验型砑光机(钢/钢辊，5步)上在85℃和线性载荷200kg/cm下进行砑光，在60℃下固化48小时。从原始膜上切下另一8mm宽条形试样形成一薄卷饼(pancake)，从该薄饼上松下200m长的带并放入带盒中得到录像带。
使用商品H：8录像机(SONYEV-BS3000)，并测量7MHz+1MHz的载波噪声比C/N。
(磁性涂料的组成)·铁磁金属粉：                     100重量份·磺酸钠-改性的氯乙烯共聚物：      10重量份·磺酸钠-改性的聚氨酯              10重量份·多异氰酸酯                       5重量份·硬脂酸                           1.5重量份·油酸                             1重量份·炭黑                             1重量份·氧化铝                           10重量份·丁酮                             75重量份·环己酮                           75重量份·甲苯                             75重量份(非磁性下层的组成)·二氧化钛                         100重量份·炭黑                             10重量份·磺酸钠-改性的氯乙烯共聚物        10重量份·磺酸钠-改性的聚氨酯              10重量份·丁酮                             30重量份·甲基异丁基酮                     30重量份·甲苯                             30重量份(背面涂层的组成)·炭黑(平均粒度20nm)               95重量份·炭黑(平均粒度280nm)              10重量份·α-氧化铝                        0.1重量份·氧化锌                                    0.3重量份·磺酸钠-改性的聚氨酯                       20重量份·磺酸钠-改性的氯乙烯共聚物                 30重量份·环己酮                                    200重量份·丁酮                                      300重量份·甲苯                                      100重量份(17)彩色印刷的热转移带的性能
所获得的膜被涂覆青色、品红和黄色的油墨层，生产出印刷带，它借助于可变点式热转移彩色印刷机印刷出彩色图案，随后用肉眼观察梯度。还以印刷部分的非均匀性观察结果来检查带的皱纹。(18)电容器性能的评价A．介电特性
让铝以蒸汽形式沉积在膜两侧的18mm直径圆形部分上达到600-1000埃的厚度，在20±5℃的温度和65±5％的相对湿度的环境中保持48小时或48小时以上。介电特性测量机，TA Instnments DEA-2970，用来测定在1KHz的频率和2℃/min的加热速率下介电损失tan值对温度的依赖性，如果在105℃的温度下它们具有1.3％或1.3％以下的介电损失tan值，则试样被判断为“良好”。B．介电击穿电压
根据JIS-C2319，没有金属沉积物的膜用作试样。
将肖氏硬度60°和厚度约2mm的橡胶片铺展在合适尺寸的金属片上，该金属片上提供了10片厚度6μm的铝箔的堆积体作为下电极和提供约50g重8mm直径的、具有光滑且无疵点的底部(其1mm圆周部分呈圆形(rounded)的黄铜圆柱体作为上电极。在试验之前，试样在20±5℃的温度和65±5％的相对湿度的环境中保持48小时或48小时以上。在20±5℃的温度和65±5％的相对湿度的环境中试样被放置在上电极和下电极之间，DC电源被用来在电极之间提供DC电压，以100伏/秒的速度从0伏升高电压直至介电击穿为止。总共测试50个试样。各试样的介电击穿电压除以各自的厚度，计算其平均值。平均值为400V/μm或更高的试样被判断为“接受”。(19)磁带的传输耐久性和维护性
本发明的膜的一个表面用具有以下组成的磁性涂料进行涂覆，达到2.0μm的厚度，磁场定向，和干燥。然后，另一表面被涂覆具有以下组成的背面涂层，随后砑光和在60℃下固化48小时。从原始膜上切下另一1/2英寸宽条形试样并加工成磁带，从其上面松取200m长的部分并装入带盒中得到录像带。(磁性涂料的组成)·铁磁金属粉                                100重量份·改性氯乙烯共聚物                          10重量份·改性聚氨酯                                10重量份·多异氰酸酯                                5重量份·硬脂酸                                    1.5重量份·油酸                                      1重量份·炭黑                                      1重量份·氧化铝                                    10重量份·丁酮                                      75重量份·环己酮                                    75重量份·甲苯                                      75重量份(背面涂层的组成)·炭黑(平均粒度20nm)                         95重量份·炭黑(平均粒度280nm)                        10重量份·α-氧化铝                                  0.1重量份·改性多异氰酸酯                             20重量份·改性氯乙烯共聚物                           30重量份·环己酮                                     200重量份·丁酮                                       300重量份·甲苯                                       100重量份
磁带在IBM“Magstar3590”MODELB1A磁带驱动器中运转100小时，根据以下标准评价其传输耐久性。○：在磁带端部没有伸长和弯曲，和没有表面损坏。Δ：在磁带端部没有伸长和弯曲，但发现少量的表面损坏。×：在磁带端部有伸长，缠结状变形，和表面损坏。
在通过使用IBM“Magstar 3590”MODEL B1A磁带驱动器在录象磁带盒内的带上记录数据后，让录象磁带盒在40℃的环境温度和80％的相对湿度下保持100小时，随后复制数据来评价磁带的维护性。○：轨迹没有位移，正常复制Δ：磁带宽度没有变化，部分数据不能复制×：在磁带宽度上发生一些变化，数据不能复制
实施例
下面参考实施例更加详细地解释本发明。
实施例1
由已知方法生产的聚对苯二甲酸乙二醇酯(特性粘度0.65)的粒料在180℃下真空干燥3小时，提供给已加热到280℃的挤出机，通过T-模头熔融挤出成片材。使用静电力将该片材从一表面温度为25℃的冷却鼓上拖过以确保它们紧密接触，这样，片材能够被冷却而固化成基本上未取向的膜。在膜在表1中所列出的条件下被拉伸。首先在由几个辊组成的、通过利用辊圆周速度的不同进行拉伸的一纵向拉伸机中在纵向被拉伸(MD拉伸1)，然后在拉幅机中在横向被拉伸(TD拉伸1)，再次在拉幅机中进行第二次横向拉伸(TD拉伸2)，再次在辊式拉伸机中进行纵向拉伸(MD拉伸2)，进一步在拉幅机中在横向被拉伸(TD拉伸3)，热处理，冷却到室温，随后修整膜边缘，生产出具有厚度10.1μm的双轴拉伸膜。表1中给出了膜生产条件，和膜断裂的频率，而表2中给出了非拉伸膜(A)的边缘部分的最大厚度(A)与宽度的中心处的厚度(B)之比(A/B)，其折光指数，其结晶度，以及在膜生产过程中的折光指数，双折射率，和结晶度。表3中给出了所制备膜的杨氏模量，衍射线的圆周半宽，晶体尺寸，对角杨氏模量，在宽度方向上的抗蔓延撕裂强度，在法向上的折光指数，平面取向指数，和密度，而表4给出了膜的蠕变柔量，热收缩起始温度，在80℃下的热收缩率，和在激光拉曼散射中的峰强度(R)。在纵向和横向被双轴拉伸过的膜的性能都在本发明所要求的范围内，表明所获得的膜在纵向和横向都具有高强度，在膜平面内所有方向上具有高强度，高的抗负荷变形性，和高的尺寸稳定性，以及在膜生产过程中的稳定性。
   表1
 材料       MD拉伸1      TD拉伸1  TD拉伸2 MD拉伸2       TD拉伸3  热处理温度(℃)  总拉伸比率(倍数)   断裂频率
  温度(℃)   比率(倍数)   温度(℃)    比率(倍数) 温度(℃) 比率(倍数) 温度(℃) 比率(倍数)   温度(℃)    比率(倍数)
实施例1  PET  100  2.0  105  2.0  75  3.6  80  4.0  135  1.3  200  75  ◎
实施例2  PET  105  2.0  110  2.0  75  3.4  85  4.5  150  1.4  200  86  ○
实施例3  PET  115  2.5  105  2.0  75  3.4  90  5.5  170  1.2  200  112  ○
实施例4  PET  105  1.5  110  2.0  75  3.6  85  5.0  150  1.4  200  76  ◎
实施例5  PET  100  2.0  105  2.0  75  3.6  80  4.0  135  1.3  200  75  ◎
实施例6  PEN  160  2.2  160  2.2  125  3.5  135  5.0  170  1.4  200  119  ◎
实施例7  PEN  165  2.5  160  2.2  125  3.5  140  5.0  170  1.2  200  115  ○
实施例8  PET  100  2.0  105  2.0  75  3.8  80  3.2  135  1.2  200  58  Δ
实施例9  PET  100  2.0  105  2.0  75  3.4  80  3.0  135  1.2  200  49  Δ
对比实施例1  PET   95  3.5   95  3.5   -    -    -    -  165  1.3  200  16  ○
对比实施例2  PET  110  3.0  100  3.6   -    -    -    -  200  1.5  200  16  ×
对比实施例3  PET    -   -   95  3.6   -    -   85    4.2  -    -  200  15  ○
对比实施例4  PET   95  2.8   95  2.2   95   1.8   130    1.3  175  1.3  200  18  ×
对比实施例5  PEN  150  3.5  135  4.6   -    -   -    -  200  1.2  200  19  ×
MD：纵向TD：横向
表2
    非拉伸膜的性能                双轴拉伸膜的性能
 端部厚度比(A/B)         折光指数   结晶度(％)         折光指数   双折射率   结晶度(％)
     MD      TD      MD      TD
    实施例1     3.5     1.571     1.570     0.3     1.578     1.578     0     0.7
    实施例2     3.5     1.571     1.570     0.3     1.576     1.576     0     0.3
    实施例3     3.5     1.571     1.570     0.3     1.586     1.576     0.010     0.8
    实施例4     3.5     1.571     1.570     0.3     1.573     1.576     0.003     0.4
    实施例5     3.3     1.571     1.570     0.3     1.579     1.578     0.001     0.5
    实施例6     3.3     1.650     1.648     0.4     1.660     1.660     0     0.6
    实施例7     3.3     1.650     1.648     0.4     1.657     1.660     0.003     0.8
    实施例8     1.7     1.571     1.570     0.3     1.585     1.580     0.005     2.1
    实施例9     6.5     1.571     1.570     0.4     1.578     1.578     0     0.7
对比实施例1     3.5     1.571     1.570     0.4     1.630     1.633     0.030     25
对比实施例2     3.5     1.571     1.570     0.4     1.600     1.615     0.015     18
对比实施例3     3.5     1.571     1.570     0.4     1.570     1.660     0.090     15
对比实施例4     3.5     1.571     1.570     0.4     1.618     1.578     0.040     21
对比实施例5     3.3     1.650     1.648     0.4     1.700     1.770     0.070     27
MD：纵向TD：横向双轴拉伸膜的性能：MD拉伸1和TD拉伸1之后膜的性能
表3
     杨氏模量(GPa) 衍射线的圆周半宽(°) 晶体尺寸(埃) 对角杨氏模量(GPa) 在宽度方向的抗蔓延撕裂强度(g/5μm) 在法向上的折光指数 平面取向指数   密度(g/cm3)
    MD     TD 45° 135°
   实施例1   5.3   8.8     75     62  6.3  6.5      0.8      1.478   0.187   1.391
   实施例2   5.8   8.0     80     65  6.5  6.7      0.9      1.476   0.192   1.392
   实施例3   8.8   6.8     77     64  7.5  7.7      1.0      1.474   0.193   1.392
   实施例4   5.3   8.8     73     65  6.5  6.6      0.9      1.478   0.187   1.390
   实施例5   5.4   8.8     75     67  6.6  6.8      0.9      1.477   0.189   1.392
   实施例6   8.8   9.8     70     53  9.2  9.1      0.7      1.493   0.253   1.347
   实施例7   10.1   8.3     75     55  9.0  8.9      0.7      1.490   0.251   1.348
   实施例8   5.4   7.2     65     60  6.0  6.1      0.8      1.481   0.183   1.392
   实施例9   5.5   7.5     73     58  6.4  6.5      0.8      1.479   0.184   1.390
对比实施例1   4.4   6.8     45     41  5.1  5.2      0.7      1.493   0.168   1.392
对比实施例2   4.4   9.8     43     43  5.5  5.8      0.6      1.492   0.170   1.390
对比实施例3   6.8   4.4     42     40  5.2  5.3      0.8      1.489   0.171   1.390
对比实施例4   9.8   4.4     47     41  5.7  5.9      0.8      1.488   0.173   1.389
对比实施例5   5.8   11.8     45     40  7.5  8.0      0.4      1.498   1.349
MD：纵向TD：横向
表4
蠕变柔量(GPa-1) 热收缩起始温度(℃) 在80℃的热收缩率(％) 在激光拉曼散射中的峰强度(R)
   MD    TD    MD     TD     MD     TD   IMD/IND  ITD/IND
   实施例1   0.33  0.23    72    85     0.2     0.1     6.5     9.5
   实施例2   0.29  0.25    72    85     0.2     0     7.2     9.2
   实施例3   0.23  0.29    72    85     0.3     0     10.0     7.8
   实施例4   0.34  0.22    70    85     0.2     0.1     6.5     9.8
   实施例5   0.32  0.23    70    85     0.2     0.1     6.8     9.5
   实施例6   0.33  0.30    118    121     0     0     -      -
   实施例7   0.29  0.34    118    121     0     0    -     -
   实施例8   0.33  0.30    70    80     0.3     0.2     6.6     8.0
   实施例9   0.32  0.29    70    80     0.2     0.1     6.8     8.3
对比实施例1   0.45  0.36    72    85     0.1     0     5.0     5.6
对比实施例2   0.44  0.32    72    85     0.1     0     5.1     5.8
对比实施例3   0.36  0.46    70    85     0.3     0.1     5.5     5.1
对比实施例4   0.29  0.45    70    85     0.2     0.2     5.8     5.0
对比实施例5   0.45  0.25    117    121     0     0       -     -
MD：纵向TD：横向
实施例2-7，对比实施例1-5
在实施例2-5中，使用与实施例1中所用相同的材料，在不同的拉伸条件下生产膜。在实施5中，由已知方法生产的聚对苯二甲酸乙二醇酯(特性粘度0.65)的粒料用来由与实施例1中相同的方法生产膜。在实施例6和7和对比实施例5中，通过使用同样的干燥条件，挤出机，T-模头和拉伸机，由已知方法所生产的聚对苯二甲酸乙二醇酯(特性粘度0.65)的粒料被用来生产膜。拉伸条件示于表1总结。表1中给出了膜生产条件，和膜的断裂频率，而表2中给出了非拉伸膜的边缘部分的最大厚度(A)与宽度的中心处的厚度(B)之比(A/B)，其折光指数，和其结晶度，以及在膜生产过程中的折光指数，双折射率，和结晶度。表3中给出了所制备膜的杨氏模量，衍射线的圆周半宽，晶体尺寸，对角杨氏模量，在宽度方向上的抗蔓延撕裂强度，在法向上的折光指数，平面取向指数，和密度，而表4给出了其蠕变柔量，热收缩起始温度，在80℃下的热收缩率，和在激光拉曼散射中的峰强度(R)。
如果在纵向和横向两个方向上双轴拉伸的膜的性能在本发明所要求的范围内，该膜具有在纵向和横向上的高强度，在膜平面内所有方向上的高强度，高的抗负荷变形性能，和高的尺寸稳定性，以及在膜生产过程中的高稳定性。然而，在对比实施例1-5中，聚酯的分子链在横向和纵向没有有效地解除缠结，没有获得足够的强度，无法生产出满足本发明标准的膜。
实施例8-9
与实施例1中相同的材料被用来生产基本上未取向的非拉伸流延膜。具体地说，具有10.1μm厚度的双轴拉伸膜由与实施例1相同的方法制备，只是模头的缝宽(slit space)(用来将熔化的PET成形为片材)被控制在宽度方向以使非拉伸流延膜的边缘部分的最大厚度(A)与在宽度的中心处膜的厚度(B)之比(A/B)是：在实施例8中为1.7和在实施例9中为6.5。表1中给出了膜生产条件，和膜的断裂频率，而表2中给出了非拉伸膜的边缘部分的最大厚度(A)与在宽度的中心处膜的厚度(B)之比(A/B)，其折光指数，和其结晶度，以及在膜生产过程中的折光指数，双折射率和结晶度。表3中给出了所制备膜的杨氏模量，衍射线的圆周半宽，对角杨氏模量，在宽度方向上的抗蔓延撕裂强度，在法向上的折光指数，平面取向指数，和密度，而表4中给出了其蠕变柔量，热收缩起始温度，在80℃下的热收缩率，和在激光拉曼散射中的峰强度(R)。
在实施例8中，在纵向上的拉伸过程(MD拉伸1)中膜端的硬度不够。结果，宽度变窄(缩颈)，和折光指数提高，导致双轴拉伸膜提高了结晶度。在实施例9中，在膜厚度上存在差异，和在双轴拉伸膜的端部的双折射率是0.018，导致在随后的纵向拉伸(MD拉伸2)中的拉伸比降低。
实施例10-12，对比实施例6-9
使用指定为A和B的两台挤出机。PETI的粒料(特性粘度0.65，玻璃化转变温度75℃，熔点255℃，含有0.16wt％平均直径0.07μm的球形硅石颗粒)在180℃下真空干燥3小时，然后加入到已预热到280℃的挤出机A中，而PETⅡ的粒料(特性粘度0.65，玻璃化转变温度75℃，熔点255℃，含有0.2wt％具有平均直径0.3μm的球形交联聚苯乙烯颗粒和0.01wt％的具有平均直径0.8μm的球形交联聚苯乙烯颗粒)在180℃下真空干燥3小时，加入到已预热到280℃的挤出机B中。两种材料在T-形模头相结合(层压比Ⅰ/Ⅱ=10/1)并浇在表面温度25℃的流延鼓上，利用静电力确保它们紧密接触，这样片材被冷却而固化成非拉伸层压膜。层压膜在纵向上折光指数为1.571，在横向上折光指数为1.570，和结晶度为0.8％。非拉伸膜的边缘部分的最大厚度(A)与在宽度的中心处膜的厚度(B)之比(A/B)是3.8。这一非拉伸膜在加热辊(表面材料：硅橡胶)上加热和在此温度下在纵向上被拉伸并拉伸到表5中所示的拉伸比，随后冷却(MD拉伸1)。该膜由夹头夹持其端部并导入拉幅机，在拉幅机中在表5中所示的温度和拉伸比下在横向上分两步进行拉伸(TD拉伸1和2)。该膜在加热金属辊上加热和在表5中所示的温度下在纵向上被拉伸并被拉伸到表5中所示的拉伸比(MD拉伸2)。随后，在端部被夹头夹持的情况下，膜被导入拉幅机中，并在表5中所示温度和拉伸比下在横向上分两步被拉伸(TD拉伸3)，随后在200℃的温度下热处理，在150℃冷却区中以3％的松弛率在横向上进行松弛，在100℃冷却区中以1.0％的松弛率在横向上进行松弛，逐渐冷却至室温，和卷绕。控制挤出速度以调节膜厚度为6.7μm。表5中给出了膜生产条件，和表6中给出了非拉伸膜的边缘部分的最大厚度(A)与在宽度的中心处膜的厚度(B)之比(A/B)，其折光指数，和其结晶度，以及在膜生产过程中的折光指数，双折射率，结晶度和断裂频率。表7中给出了所制备膜的杨氏模量，衍射线的圆周半宽，晶体尺寸，对角杨氏模量，在宽度方向上的抗蔓延撕裂强度，在法向上的折光指数，平面取向指数，和密度，而表8中给出了其蠕变柔量，热收缩起始温度，在80℃下的热收缩率，和在激光拉曼散射中的峰强度(R)，以及磁带的传输耐久性和维护性。
在实施例11中，MD拉伸1方法的总拉伸比是在两个步骤中实现的，和MD拉伸2的总拉伸比是在两个步骤中实现的，进一步提高膜的强度。在对比实施例6中，PET的分子链在纵向上没有充分解除缠结，使得不可能生产出满足本发明标准的膜。在对比实施例7中，在MD拉伸1和TD拉伸1之后膜的取向和结晶度不太高而无法满足本发明的标准，在MD拉伸2和TD拉伸3中发生膜断裂现象，导致拉伸比下降。在对比实施例8中，PET的分子链仅仅在纵向上被解除缠结，使得不可能生产出满足本发明标准的膜。在对比实施例9中，PET的分子链在纵向和横向上都没有解除缠结，使得不可能生产出满足本发明标准的膜。
表5
       MD拉伸1        TD拉伸1       TD拉伸2                  MD拉伸2                TD拉伸3 总拉伸比率(倍数)
第一次拉伸     第二次拉伸     第一次拉伸     第二次拉伸
 温度(℃)    比率(倍数)   温度(℃)    比率(倍数)   温度(℃)    比率(倍数)   温度(℃)    比率(倍数)   温度(℃)    比率(倍数)   温度(℃)    比率(倍数)   温度(℃)    比率(倍数)
实施例10  110  2.0  115   2.0  75  3.5  80  3.4  130  1.1  170     1.3  190   1.1  75
实施例11  110  1.5/1.5  115   2.0  75  3.6  80  1.2/1.9  130  1.1  170     1.3  190   1.1  89
实施例12  115  1.7  110   1.7  75  3.5     80  1.3/3.0  140  1.1  180     1.4  200   1.1  67
对比实施例6  100  1.1  100   2.5  75  3.5     80  3.4  130  1.1  170     1.2  190   1.1  48
对比实施例7  105  2.8  105   2.8  75  3.5  80  3.0  130  1.1  170     1.1  190   1.0  100
对比实施例8  110  2.0  95   2.0  95  2.0  95  3.5  130  1.1  170     1.1  190   1.1   37
对比实施例9  95  2.0  95   2.0  95  2.0  95  2.0  130  1.1  150     1.1  180   1.1   21
对比实施例10  110  2.4  110   2.4  80  3.5  85  3.0  130  1.1  180     1.2  190   1.0   80
对比实施例11  95  3.0  100   1.9  100  1.9  105  1.3  140  1.1  190     1.4     -    -   22
实施例13  110  1.5/1.5  115   2.0  75  3.6  80  1.3/3.0  140  1.1  180     1.4  200   1.1   107
实施例14  165  2.2  160   2.2  122  3.6  133  3.6  160  1.1  170     1.3  190   1.1    99
对比实施例12  140  4.0  135   2.0  135  1.9  160  1.2  -     -  190     1.3   -    -    24
MD：纵向TD：横向
表6
             非拉伸膜的性能 在MD拉伸1和MD拉伸1之后膜的性能   断裂频率
 端部厚度比(A/B)          折光指数   结晶度(％)         折光指数   双折射率   结晶度(％)
    MD     TD     MD     TD
    实施例10     3.8     1.571     1.570     0.8     1.575     1.577     0.002     0.9     ◎
    实施例11     3.8     1.571     1.570     0.8     1.576     1.577     0.001     1.0     ○
    实施例12     3.8     1.571     1.570     0.8     1.574     1.575     0.001     0.9     ○
    对比实施例6     3.8     1.571     1.570     0.8     1.572     1.598     0.026     6.5     ×
    对比实施例7     3.8     1.571     1.570     0.8     1.590     1.593     0.003     7.0     ×
    对比实施例8     3.8     1.571     1.570     0.8     1.575     1.596     0.021     6.3     Δ
    对比实施例9     3.8     1.571     1.570     0.8     1.595     1.597     0.002     8.0     Δ
    对比实施例10     3.8     1.574     1.572     1.8     1.583     1.588     0.005     6.2     ×
    对比实施例11     3.8     1.571     1.570     0.8     1.632     1.597     0.035     17.2     ○
    实施例13     3.4     1.571     1.570     0.6     1.576     1.576     0     0.9     ○
    实施例14     3.5     1.649     1.648     0.7     1.656     1.658     0.002     0.9     ○
对比实施例12 3.5 1.649 1.648 0.7 1.730 1.692 0.038 14.8 Δ
MD：纵向TD：横向
表7
杨氏模量(GPa) 衍射线的圆周半宽(°) 晶体尺寸(埃)      对角杨氏模量(GPa) 在宽度方向的抗蔓延撕裂强度(g/5μm) 在法向上的折光指数 平面取向指数 密度(g/cm3)           表面粗糙度(Ra)(nm)
  MD    TD     45°     135°     Ⅰ层表面     Ⅱ层表面
    实施例10   6.5     8.5     80     61     7.2     7.2      1.2     1.482   0.182     1.391     4.0     10.5
    实施例11   7.2     9.2     85     65     7.8     7.8      1.1     1.476   0.192     1.389     3.8     9.8
    实施例12   6.8     8.6     75     55     7.2     7.3      1.0     1.478   0.189     1.390     4.1     10.3
对比实施例6   4.8     9.2     45     43     5.6     5.6      0.6     1.488   0.173     1.391     4.2     10.6
对比实施例7   5.4     5.1     48     42     5.2     5.3      0.7     1.486   0.171     1.390     4.4     10.6
对比实施例8   5.8     5.5     42     42     5.8     5.9      0.7     1.486   0.170     1.390     4.1     10.5
对比实施例9   5.3     5.4     45     40     5.5     5.4      0.7     1.492   0.168     1.392     4.2     10.6
对比实施例10   5.2     5.8     52     43     5.8     5.9      0.7     1.489   0.170     1.390     4.5     10.7
对比实施例11   6.5     5.5     42     42     6.0     6.1      0.7     1.488   0.173     1.392     3.8     10.3
    实施例13   6.6     8.5     80     55     7.3     7.3      1.3     1.478   0.187     1.388     3.9     10.1
实施例14 6.7 8.5 70 51 7.4 7.4 0.7 1.491 - 1.348 4.2 10.6
对比实施例12 5.8 7.6 45 40 6.4 6.3 0.5 1.496 - 1.349 4.3 10.7
MD：纵向TD：横向
表8
蠕变柔量(GPa-1) 热收缩起始温度(℃) 在80℃的热收缩率(％)   在激光拉曼散射中的峰强度(R)  传输稳定性  记录带维护性
   MD    TD    MD   TD     MD   TD  IMD/IND  ITD/IND
实施例10  0.29  0.25    70   85     0.2  0     7.0     9.2     ○     ○
实施例11  0.20  0.17    70   85     0.2  0     8.2     9.5     ○     ○
实施例12  0.26  0.22    68   85     0.3  0.1     7.5     9.0     ○     ○
对比实施例6  0.45  0.20    70   76     0.2  0.2     5.0     6.5     ×     ×
对比实施例7  0.40  0.42    70   85     0.2  0.1     5.4     5.6     ×     ×
对比实施例8  0.37  0.39    70   85     0.2 -0.1     5.5     5.0     ×     ×
对比实施例9  0.42  0.41    70   85     0.1 -0.1     5.3     5.2     ×     ×
对比实施例10  0.42  0.38    70   88     0.2   0     6.5     7.0     ×     ×
对比实施例11  0.38  0.39    70   85     0.2 -0.1     5.8     5.5     Δ     Δ
实施例13  0.25  0.22    67   83     0.3  0.1     7.5     8.5     ○     ○
实施例14  0.32  0.29    115  121     0   0      -      -     ○     ○
对比实施例12  0.38  0.36    120  122     0   0      -      -   带断裂     Δ
MD：纵向TD：横向
对比实施例10
从与实施例10中相同的PET材料，由与实施例10中相同的方法生产出非拉伸层压膜，只是在提高的挤出机挤出速度生产片材，流延鼓(其表面温度调节至60℃)的旋转速度被提高以提高片材的卷绕速度。非拉伸层压膜在纵向上的折光指数为1.574，和在横向上的折光指数为1.572，和结晶度为1.8％。该层压膜在表5中所示的在实施例11中使用的顺序双轴拉伸条件下被拉伸，但是在MD拉伸2过程中常常发生膜断裂。因此，在表5中给出的顺序双轴拉伸条件下进行拉伸，生产出厚度为6.7μm的拉伸膜。表5中给出了膜生产条件，和表6中给出了非拉伸膜的边缘部分的最大厚度(A)与在宽度的中心处膜的厚度(B)之比(A/B)，其折光指数，和其结晶度，以及在膜生产过程中的折光指数，双折射率，结晶度和断裂频率。表7中给出了所制备膜的杨氏模量，衍射线的圆周半宽，晶体尺寸，对角杨氏模量，在宽度方向上的抗蔓延撕裂强度，在法向上的折光指数，平面取向指数，密度，和表面粗糙度，而表8中给出了其蠕变柔量，热收缩起始温度，在80℃下的热收缩率，和在激光拉曼散射中的峰强度(R)，以及磁带的传输耐久性和维护性。
在对比实施例10中，非拉伸膜的结晶度是如此的高，以致于在MD拉伸1和TD拉伸之后双轴拉伸膜的结晶度不在本发明的所需范围内，使得不可能生产出满足本发明标准的膜。
对比实施例11
从与实施例10中同样的PET材料，由与实施例10中相同的方法生产非拉伸层压膜。这一非拉伸膜被导入加热金属辊上在95℃下加热和在纵向上以3倍的拉伸比实施拉伸，纵向拉伸的膜被导入拉幅机中，其端部由夹头夹持，在100℃的温度下加热和在横向上以3.61倍的拉伸比进行拉伸。这一双轴拉伸膜被导入加热金属辊上，然后进一步在105℃和140℃两种温度下在纵向上以1.3和1.1倍拉伸比进行拉伸。这一拉伸膜被导入拉幅机中，其端部由夹头夹持，加热至190℃，和在横向上被拉伸至1.4倍的拉伸比，随后在200℃的温度下热处理，在150℃冷却区中以3％的松弛率在横向上进行松弛，在100℃冷却区中以1.0％的松弛率在横向上进行松弛，逐渐冷却至室温，和卷绕。控制挤出速度以调节膜厚度为6.7μm。表5中给出了膜生产条件，和表6中给出了非拉伸膜的边缘部分的最大厚度(A)与在宽度的中心处膜的厚度(B)之比(A/B)，其折光指数，和其结晶度，以及在膜生产过程中的折光指数，双折射率，结晶度和断裂频率。表7中给出了所制备膜的杨氏模量，衍射线的圆周半宽，晶体尺寸，对角杨氏模量，在宽度方向上的抗蔓延撕裂强度，在法向上的折光指数，平面取向指数，密度，和表面粗糙度，而表8中给出了其蠕变柔量，热收缩起始温度，在80℃下的热收缩率，和在激光拉曼散射中的峰强度(R)，以及磁带的传输耐久性和维护性。
在这一对比实施例中，PET分子链在纵向和横向上都解开了缠结。在这种情况下，尽管再拉伸以提高强度，杨氏模量太低和抗负荷变形性能不高。
实施例13
这一实施例使用高分子量聚对苯二甲酸乙二醇酯。
使用指定为A和B的两台挤出机。PETⅠ的粒料(特性粘度0.75，玻璃化转变温度76℃，熔点256℃，含有0.16wt％平均直径0.07μm的球形硅石颗粒)在180℃下真空干燥3小时，然后加入到已预热到280℃的挤出机A中，而PETⅡ的粒料(特性粘度0.75，玻璃化转变温度76℃，熔点256℃，含有0.2wt％具有平均直径0.3μm的球形交联聚苯乙烯颗粒和0.01wt％的具有平均直径0.8μm的球形交联聚苯乙烯颗粒)在180℃下真空干燥3小时，加入到已预热到280℃的挤出机B中。两种材料在T-形模头相结合(层压比Ⅰ/Ⅱ=10/1)并浇在表面温度25℃的流延鼓上，利用静电力确保它们紧密接触，这样片材被冷却而固化成非拉伸层压膜(在纵向上折光指数为1.571，和在横向上折光指数为1.570，和结晶度为0.6％)。这一非拉伸膜在加热辊(表面材料：硅橡胶)上加热和在此温度下在纵向上被拉伸并拉伸到表5中所示的拉伸比，随后冷却(MD拉伸1)。该膜由夹头夹持其端部并导入拉幅机中，在拉幅机中在表5中所示的温度下在横向上被拉伸并被拉伸到表5中所示的拉伸比，和随后在表5中所示的温度下在横向上被拉伸并被拉伸到表5中所示的拉伸比(TD拉伸1和2)。该膜在加热金属辊上加热和在表5中所示的两种温度下在纵向上被拉伸并被拉伸到表5中所示的拉伸比(MD拉伸2)。只是，端部被夹头夹持的该膜被导入拉幅机中，然后在表5中所示两种温度下在横向上被拉伸且被拉伸至表5中所示的拉伸比(TD拉伸3)，进行与实施例10相同的操作程序生产出厚度6.7μm的双轴拉伸膜。表5中给出了膜生产条件，和表6中给出了非拉伸膜的边缘部分的最大厚度(A)与在宽度的中心处膜的厚度(B)之比(A/B)，其折光指数，和其结晶度，以及在膜生产过程中的折光指数，双折射率，结晶度和断裂频率。表7中给出了所制备膜的杨氏模量，衍射线的圆周半宽，晶体尺寸，对角杨氏模量，在宽度方向上的抗蔓延撕裂强度，在法向上的折光指数，平面取向指数，密度，和表面粗糙度，而表8中给出了其蠕变柔量，热收缩起始温度，在80℃下的热收缩率，和在激光拉曼散射中的峰强度(R)，以及磁带的传输耐久性和维护性。
使用具有较高分子量的PET材料，使得有可能生产出强度和抗撕裂性能比实施例11的膜更高的膜。
实施例14
这一实施例使用PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)作为聚酯材料。
使用指定为A和B的两台挤出机。聚萘二甲酸乙二醇酯(下文指作PEN)Ⅰ的料料(特性粘度0.65，玻璃化转变温度124℃，熔点265℃，含有0.16wt％平均直径0.07μm的球形硅石颗粒)在180℃下真空干燥3小时，然后加入到已预热到290℃的挤出机A中，而PENⅡ的粒料(特性粘度0.65，玻璃化转变温度124℃，熔点265℃，含有0.2wt％具有平均直径0.3μm的球形交联聚苯乙烯颗粒和0.01wt％的具有平均直径0.8μm的球形交联聚苯乙烯颗粒)在180℃下真空干燥3小时，加入到已预热到290℃的挤出机B中。两种材料在T-形模头相结合(层压比Ⅰ/Ⅱ=10/1)并浇在表面温度25℃的流延鼓上，利用静电力确保它们紧密接触，这样片材被冷却而固化成非拉伸层压膜。该层压膜在纵向上折光指数为1.649，和在横向上折光指数为1.648，和结晶度为0.7％。这一非拉伸膜在加热辊(表面材料：硅橡胶)上加热和在此温度下在纵向上被拉伸并拉伸到表5中所示的拉伸比，随后冷却(MD拉伸1)。该膜由夹头夹持其端部并导入拉幅机中，在拉幅机中在表5中所示的温度下在横向上分两步被拉伸并被拉伸到表5中所示的拉伸比(TD拉伸1和2)。该膜在加热金属辊上加热和在表5中所示的两种温度下在纵向上被拉伸并被拉伸到表5中所示的拉伸比(MD拉伸2)。随后，端部被夹头夹持的该膜被导入拉幅机中，然后在表5中所示温度下在横向上分两步被拉伸且被拉伸至表5中所示的拉伸比(TD拉伸3)，然后在210℃下进行热处理，在170℃冷却区中以3％的松弛率在横向上进行松弛，在130℃冷却区中以0.5％的松弛率在横向上进行松弛，逐渐冷却至室温，和卷绕。控制挤出速度以调节膜厚度为6.7μm。表5中给出了膜生产条件，和表6中给出了非拉伸膜的边缘部分的最大厚度(A)与在宽度的中心处膜的厚度(B)之比(A/B)，其折光指数，和其结晶度，以及在膜生产过程中的折光指数，双折射率，结晶度和断裂频率。表7中给出了所制备膜的杨氏模量，衍射线的圆周半宽，晶体尺寸，对角杨氏模量，在宽度方向上的抗蔓延撕裂强度，在法向上的折光指数，平面取向指数，密度，和表面粗糙度，而表8中给出了其蠕变柔量，热收缩起始温度，在80℃下的热收缩率，和在激光拉曼散射中的峰强度(R)，以及磁带的传输耐久性和维护性。
当PEN用作聚酯材料时，也生产出了具有高强度和高抗撕裂性能以及在生产过程中高稳定性的本发明膜。
对比实施例12
由与实施例14中同样的操作程序生产非拉伸层压膜。这一非拉伸膜被引导至加热金属辊上在140℃下加热并在纵向上以4倍的拉伸比进行拉伸，然后纵向拉伸的膜被导入拉幅机中，膜的端部被夹头夹持，在135℃下加热，和在横向上以3.8倍的拉伸比进行拉伸。该双轴取向膜被引导至加热金属辊上，并在纵向上于160℃以1.2倍的拉伸比进行拉伸。该拉伸膜被导入拉幅机中，膜端部被夹头夹持，加热至190℃，并在横向上以1.3倍拉伸比进行拉伸，随后在210℃的温度下进行热处理，在170℃冷却区中以3％的松弛率在横向上进行松弛，在130℃冷却区中以0.5％的松弛率在横向上进行松弛，逐渐冷却至室温，和卷绕。控制挤出速度以调节膜厚度为6.7μm。表5中给出了膜生产条件，和表6中给出了非拉伸膜的边缘部分的最大厚度(A)与在宽度的中心处膜的厚度(B)之比(A/B)，其折光指数，和其结晶度，以及在膜生产过程中的折光指数，双折射率，结晶度和断裂频率。表7中给出了所制备膜的杨氏模量，衍射线的圆周半宽，晶体尺寸，对角杨氏模量，在宽度方向上的抗蔓延撕裂强度，在法向上的折光指数，平面取向指数，密度，和表面粗糙度，而表8中给出了其蠕变柔量，热收缩起始温度，在80℃下的热收缩率，和在激光拉曼散射中的峰强度(R)，以及磁带的传输耐久性和维护性。
当PEN用作材料时，很难将膜拉伸至较高的拉伸比和所得到的膜在膜生产过程中稳定性及抗撕裂强度都不高，除非PEN的分子链没有缠结。
实施例15和16，对比实施例13和14
由已知方法生产的聚对苯二甲酸乙二醇酯的粒料(特性粘度0.65，玻璃化转变温度75℃，熔点255℃，含有0.1wt％平均直径0.3μm的球形交联聚苯乙烯)在180℃下真空干燥3小时，然后加入到已预热到280℃的挤出机中，通过T-形模头熔融挤出成片材。片材在表面温度25℃的冷却鼓上通过，利用静电力确保它们紧密接触，这样片材被冷却而固化成非拉伸流延膜。该非拉伸膜由夹头夹持其端部，被引导至进行同时双轴拉伸(拉幅机具有带直线移动式马达的驱动装置)的拉幅机中，在110℃的温度下预热，进行第一步同时双轴拉伸至表9中所示拉伸比，在80℃的温度下进行第二步同时双轴拉伸至表9中所示的拉伸比，在210℃的温度下预热，在120℃冷却区中在纵向上以1.5％的松弛率和在横向上以2％的松弛率进行松弛，逐渐冷却至室温，和卷绕。控制挤出速度以调节膜厚度为9μm。拉幅机的夹头的温度是100℃。在对比实施例中，进行与实施例15中相同的操作程序，只是拉伸温度和拉伸比如表9中所示。当观察膜的端部(它被夹头利用来夹持膜)，实施例15和16中发现膜拉伸的证据，而在对比实施例13和14中，在该膜端部发现未拉伸部分，和发现该膜从膜端破裂。表9中给出了膜生产条件和断裂频率，表10给出了非拉伸膜的边缘部分的最大厚度(A)与在宽度的中心处膜的厚度(B)之比(A/B)，其折光指数，和其结晶度，以及在膜生产过程中的折光指数，双折射率，和结晶度。表11中给出了所制备膜的杨氏模量，衍射线的圆周半宽，晶体尺寸，对角杨氏模量，在宽度方向上的抗蔓延撕裂强度，在法向上的折光指数，平面取向指数，和密度，而表12中给出了其蠕变柔量，热收缩起始温度，在80℃下的热收缩率，和在激光拉曼散射中的峰强度(R)。
同样对于同时双轴拉伸而言，在通过双轴拉伸进行取向之前无法使PET分子链解除缠结，与实施例13和14中一样，得到具有低拉伸强度(尤其在被夹持的膜端)的膜，使得很难生产出本发明的膜。
表9
        第一次同时双轴拉伸     第二次同时双轴拉伸 总拉伸比(倍数) 断裂频率
温度(℃)     拉伸比(倍数) 温度(℃)     拉伸比(倍数)
    MD     TD     MD     TD
实施例15     110     2.0     2.0     80     3.5     4.0     56     ○
实施例16     110     2.0     2.0     80     4.0     4.0     64     ○
实施例17     110     2.0     2.0     80     3.5     4.0     56     Δ
对比实施例13     80     1.8     1.8     80     1.8     1.8     10     Δ
对比实施例14     90     2.0     2.0     90     2.0     2.0     16     Δ
MD：纵向TD：横向表10
                   非拉伸膜的性能            在MD拉伸1和TD拉伸1之后膜的性能
端部厚度比(A/B)         折光指数 结晶度(％)     折光指数   双折射率   结晶度(％)
    MD     TD
实施例15     3.2     1.571     1.570     0.5     1.576     1.575     0.001     0.8
实施例16     3.2     1.571     1.570     0.5     1.576     1.575     0.001     0.8
实施例17     3.2     1.571     1.570     0.5     1.578     1.575     0.003     0.9
对比实施例13     3.2     1.571     1.570     0.5     1.590     1.590     0     9.0
对比实施例14     3.2     1.571     1.570     0.5     1.585     1.585     0     7.5
MD：纵向TD：横向
表11
杨氏模量(GPa) 衍射线的圆周半宽(°) 晶体尺寸(埃) 对角杨氏模量(GPa) 在宽度方向上抗蔓延撕裂强度(g/5μm) 在法向上的折光指数  平面取向指数   密度(g/cm3)
MD    TD     45°     135°
    实施例15  6.5    7.5     81     60     6.9     7.0     1.2      1.482   0.180  1.394
    实施例16  7.0    7.0     84     65     6.8     6.9     1.1      1.479   0.182  1.393
    实施例17  6.2    7.0     75     55     6.5     6.8     0.8      1.485   0.177  1.395
对比实施例13  4.3    4.3     45     42     4.3     4.4     1.4      1.492   0.162  1.394
对比实施例14  4.6    4.5     50     42     4.5     4.4     1.5      1.490   0.165  1.394
MD：纵向TD：横向表12
蠕变柔量(GPa-1) 热收缩起始温度(℃) 在80℃的热收缩率(％) 在激光拉曼散射中的峰强度(R)
   MD     TD     MD     TD     MD     TD  IMD/IND  ITD/IND
    实施例15   0.28     0.19     72     85     0.1     0     7.0     8.0
    实施例16   0.22     0.21     72     85     0.2     0     8.0     8.0
    实施例17   0.32     0.34     72     85     0.2     0.1     6.8     7.9
对比实施例13   0.45     0.45     75     85     0.1     0     4.2     4.2
对比实施例14   0.43     0.42     75     85     0.1     0     4.5     4.6
MD：纵向TD：横向
实施例17
由与实施例15中相同的操作程序生产厚度9μm的膜，只是同时拉伸用的拉幅机的夹头温度是70℃。在用于夹持的膜端部观察未拉伸部分，该膜被发现从膜端部破裂，这说明供夹持用的膜端部具有较差的拉伸性能，而实施例15中的膜相比而言。表9中给出了膜生产条件和断裂频率，表10给出了拉伸膜的边缘部分的最大厚度(A)与在宽度的中心处膜的厚度(B)之比(A/B)，其折光指数，和其结晶度，以及在膜生产过程中的折光指数，双折射率，和结晶度。表11中给出了所制备膜的杨氏模量，衍射线的圆周半宽，晶体尺寸，对角杨氏模量，在宽度方向上的抗蔓延撕裂强度，在法向上的折光指数，平面取向指数，和密度，而表12中给出了其蠕变柔量，热收缩起始温度，在80℃下的热收缩率，和在激光拉曼散射中的峰强度(R)。
实施例18-19，对比实施例15-16
由已知方法生产的聚对苯二甲酸乙二醇酯的粒料(特性粘度0.65，玻璃化转变温度75℃，熔点255℃，含有0.1wt％平均直径0.3μm的球形交联聚苯乙烯)在180℃下真空干燥3小时，然后加入到已预热到280℃的挤出机中，通过T-形模头熔融挤出成片材。片材在表面温度25℃的冷却鼓上通过，利用静电力确保它们紧密接触，这样片材被冷却而固化成非拉伸流延膜。该非拉伸膜由夹头夹持其端部，被引导至进行同时双轴拉伸(拉幅机具有带直线移动式马达的驱动装置)的拉幅机中，在110℃的温度下预热，进行第一步同时双轴拉伸至表13中所示拉伸比，在80℃的温度下进行第二步同时双轴拉伸至表13中所示的拉伸比。随后在160℃的温度下进行第三步同时双轴拉伸至表13中所示的拉伸比，然后该膜在210℃的温度下预热，在120℃冷却区中在纵向上以2％的松弛率和在横向上以3％的松弛率进行松弛，逐渐冷却至室温，和卷绕。控制挤出速度以调节膜厚度为9μm。拉幅机的夹头的温度是105℃。在对比实施例中，进行与实施例18中相同的操作程序，只是拉伸温度和拉伸比如表13中所示。当观察膜的端部(它被夹头利用来夹持膜)，发现用于夹持的膜部分已被拉伸至与实施例18和19在纵向上的拉伸比接近的拉伸比，而在对比实施例15中，夹持用的膜端部的一部分被轻度拉伸，和发现该膜从膜端破裂。在对比实施例16中，发现从膜端的破裂，因此不可能将该膜拉伸。表13中给出了膜生产条件和断裂频率，表14给出了非拉伸膜的边缘部分的最大厚度(A)与在宽度的中心处膜的厚度(B)之比(A/B)，其折光指数，和其结晶度，以及在膜生产过程中的折光指数，双折射率，和结晶度。表15中给出了所制备膜的杨氏模量，衍射线的圆周半宽，晶体尺寸，对角杨氏模量，在宽度方向上的抗蔓延撕裂强度，在法向上的折光指数，平面取向指数，和密度，而表16中给出了其蠕变柔量，热收缩起始温度，在80℃下的热收缩率，和在激光拉曼散射中的峰强度(R)。
在实施例18和19中，在多步骤中的同时双轴拉伸增强了膜的拉伸性能和膜的强度仍高于实施例16的膜的强度。在对比实施例中，PET的分子链没有解除缠结，因此不可能将膜拉伸至高拉伸比，导致在膜生产过程中的低膜强度和低稳定性。
表13
       第一次同时双轴拉伸       第二次同时双轴拉伸     第三次同时双轴拉伸 总拉伸比(倍数) 断裂频率
 温度(℃)     拉伸比(倍数)   温度(℃) 拉伸比(倍数)   温度(℃) 拉伸比(倍数)
    MD     TD    MD     TD     MD     TD
实施例18  110     2.0     2.0    80    3.0     3.0    160     1.3     1.5     70     ◎
实施例19  110     2.0     2.0    80    3.0     3.0    160     1.5     1.5     81     ○
对比实施例15  90     2.0     2.0    90    1.5     1.5    160     1.3     1.3     15     Δ
对比实施例16  90     2.0     2.0    90    1.5     1.5    160     1.5     1.5     20     ×
MD：纵向TD：横向表14
    非拉伸膜的性能 在MD拉伸1和TD拉伸1之后膜的性能
端部厚度比(A/B)     折光指数 结晶度(％) 折光指数 双折射率     结晶度(％)
   MD     TD  MD  TD
实施例18     3.2   1.571   1.570   0.5  1.576  1.575  0.001     0.8
实施例19     3.2   1.571   1.570   0.5  1.576  1.575  0.001     0.8
对比实施例15     3.2   1.571   1.570   0.5  1.585  1.585     0     7.5
对比实施例16     3.2   1.571   1.570   0.5  1.585  1.585     0     7.5
MD：纵向TD：横向
表15
   杨氏模量(GPa)  衍射线的圆周半宽(°) 晶体尺寸(埃) 对角杨氏模量(GPa) 在宽度方向上抗蔓延撕裂强度(g/5μm) 在法向上的折光指数 平面取向指数    密度(g/cm3)
MD  TD     45°     135°
实施例18  7.0  8.5     83     63  7.6  7.7     0.9     1.480  0.185  1.394
实施例19  7.5  9.0     80     65  7.3  8.0     0.8     1.476  0.187  1.393
对比实施例15  5.1  5.0     48     40  5.2  5.1     0.7     1.488  0.172  1.395
对比实施例16   -     -     -      -    -    -       -        -       -     -
MD：纵向TD：横向表16
蠕变柔量(GPa-1) 热收缩起始温度(℃) 在80℃的热收缩率(％) 在激光拉曼散射中的峰强度(R)
   MD    TD  MD     TD     MD     TD  IMD/IND  ITD/IND
    实施例18  0.21  0.18  72     85     0.2     0     9.2     10.3
    实施例19  0.20  0.16  72     85     0.2     0.1     9.5     11.0
对比实施例15  0.42  0.41  75     85     0.1     0.1     5.3     5.4
对比实施例16    -    -  -     -     -   -      -       -
MD：纵向TD：横向
实施例20
使用指定为A和B的两台挤出机。由与实施例19中相同的方法生产同时双轴拉伸的膜，只是聚对苯二甲酸乙二醇酯Ⅰ的粒料(特性粘度0.65，玻璃化转变温度75℃，熔点255℃，含有0.2wt％平均直径0.2μm的球形交联聚苯乙烯颗粒)在180℃下真空干燥3小时，然后加入到已预热到280℃的挤出机A中，而聚对苯二甲酸乙二醇酯Ⅱ的粒料(特性粘度0.65，玻璃化转变温度75℃，熔点255℃，含有0.1wt％具有平均直径0.3μm的球形交联聚苯乙烯颗粒和0.025wt％的具有平均直径0.45μm的球形交联聚苯乙烯颗粒)在1 80℃下真空干燥3小时，加入到已预热到280℃的挤出机B中，随后两种材料在T-形模头相结合(层压比Ⅰ/Ⅱ=10/1)并浇在表面温度30℃的流延鼓上，利用静电力确保它们紧密接触，这样片材被冷却而固化成厚度为5.5μm的非拉伸层压膜。表17中给出了膜生产条件和断裂频率，和表18中给出了非拉伸膜的边缘部分的最大厚度(A)与在宽度的中心处膜的厚度(B)之比(A/B)，其折光指数，和其结晶度，以及在膜生产过程中的折光指数，双折射率，和结晶度。表19中给出了所制备膜的杨氏模量，衍射线的圆周半宽，晶体尺寸，对角杨氏模量，在宽度方向上的抗蔓延撕裂强度，在法向上的折光指数，平面取向指数，密度，和表面粗糙度，而表20中给出了其蠕变柔量，热收缩起始温度，在80℃下的热收缩率，在激光拉曼散射中的峰强度(R)，和高速传输过程中表面损坏，以及磁带的电磁转化性能。本发明的膜被发现是磁性记录材料的非常合适的材料。
表17
    第一次同时双轴拉伸     第二次同时双轴拉伸     第三次同时双轴拉伸 总拉伸比(倍数) 断裂频率
温度(℃) 拉伸比(倍数) 温度(℃) 拉伸比(倍数) 温度(℃) 拉伸比(倍数)
MD  TD  MD  TD     MD     TD
实施例20  110  2.0  2.0  80  3.0  3.0  160     1.5     1.5     81     ○
MD：纵向TD：横向表18
              非拉伸膜的性能            在MD拉伸1和TD拉伸1之后膜的性能
端部厚度比(A/B)     折光指数 结晶度(％)     折光指数     双折射率    结晶度(％)
    MD      TD      MD      TD
实施例20     3.5     1.572     1.570     0.5     1.576     1.576     0.001     0.8
MD：纵向TD：横向
表19
  杨氏模量(GPa) 衍射线的圆周半宽(°)  晶体尺寸(埃) 对角杨氏模量(GPa) 在宽度方向上抗蔓延撕裂强度(g/5μm) 在法向上的折光指数 平面取向指数   密度(g/cm3)     表面粗糙度(Ra)(nm)
  MD  TD  45° 135° 层Ⅰ表面 层Ⅱ表面
实施例20  7.5  9.0     80     65  7.9  80     0.8     1.476     0.187  1.390     8     10
MD：纵向TD：横向表20
    蠕变柔量(GPa-1) 热收缩起始温度(℃) 在80℃的热收缩率 在激光拉曼散射中的峰强度(R) 在高速进程中的表面损伤 电磁转化性能(C/N)
    MD     TD     MD     TD  MD  TD  IMD/IND  ITD/IND
实施例20     0.20     0.16     72     85  0.2  0     9.4  11.0           ○     +1.0
MD：纵向TD：横向
实施例21
聚对苯二甲酸乙二醇酯的粒料(特性粘度0.65，玻璃化转变温度75℃，熔点255℃，含有0.2wt％平均直径0.3μm的聚结硅石颗粒)在180℃下真空干燥3小时，然后加入到已预热到280℃的挤出机中，通过T-形模头熔融挤出成片材。片材在表面温度25℃的冷却鼓上通过，利用静电力确保它们紧密接触，这样片材被冷却而固化成非拉伸流延膜。该非拉伸膜由夹头夹持其端部，被引导至进行同时双轴拉伸的拉幅机中，在110℃的温度下预热，进行第一步同时双轴拉伸至在纵向上2倍的拉伸比和在横向上2倍的拉伸比而使面积拉伸比为4倍，在80℃下进行第二步同时双轴拉伸至在纵向上的3倍拉伸比和在横向上的3倍拉伸比而使面积拉伸比为9倍，在160℃下进行第三步同时双轴拉伸至在纵向上的1.3倍拉伸比和在横向上的1.2倍拉伸比而使面积拉伸比为1.56倍，在230℃的温度下预热，在150℃冷却区中在纵向上以2％的松弛率和在横向上以3％的松弛率进行松弛，逐渐冷却至室温，和卷绕。控制挤出速度以调节膜厚度为4.5μm。拉幅机的夹头的温度是105℃。表21中给出了膜生产条件和断裂频率，和表22给出了非拉伸膜的边缘部分的最大厚度(A)与在宽度的中心处膜的厚度(B)之比(A/B)，其折光指数，和其结晶度，以及在膜生产过程中的折光指数，双折射率，和结晶度。表23中给出了所制备膜的杨氏模量，衍射线的圆周半宽，晶体尺寸，对角杨氏模量，在宽度方向上的抗蔓延撕裂强度，在法向上的折光指数，平面取向指数，和密度，而表24中给出了其蠕变柔量，热收缩起始温度，在80℃下的热收缩率，和在激光拉曼散射中的峰强度(R)，以及热转移带的彩色印刷性能。本发明的膜被发现是热转移带的非常合适的材料。
表21
    第一次同时双轴拉伸     第二次同时双轴拉伸     第三次同时双轴拉伸 总拉伸比(倍数) 断裂频率
  温度(℃)   拉伸比(倍数) 温度(℃) 拉伸比(倍数) 温度(℃) 拉伸比(倍数)
    MD     TD     MD     TD     MD     TD
实施例21    110     20     20     80     3.0     3.0     160     1.3     1.2        56     ○
MD：纵向TD：横向表22
                  非拉伸膜的性能           在MD拉伸1和TD拉伸1之后膜的性能
端部厚度比(A/B)     折光指数 结晶度(％)          折光指数    双折射率  结晶度(％)
    MD     TD     MD     TD
实施例21     3.8     1.572     1.571     0.8     1.576     1.575     0.001     1.1
MD：纵向TD：横向
表23
  杨氏模量(GPa) 衍射线的圆周半宽(°) 晶体尺寸(埃) 对角杨氏模量(GPa) 在宽度方向上抗蔓延撕裂强度(g/5μm) 在法向上的折光指数 平面取向指数   密度(g/cm3)
  MD  TD 45° 135°
实施例21  7.0  61     81     68  6.5  6.6     0.9     1.481     0.180  1.399
MD：纵向    TD：横向表24
蠕变柔量(GPa-1) 热收缩起始温度(℃) 在80℃的热收缩率 在激光拉曼散射中的峰强度(R)     印刷性能
   MD  TD    MD    TD     MD     TD  IMD/IND       ITD/IND    等级   皱纹
实施例21  0.26  0.30    75    88     0.9     0.1    9.2         8.5    良好    无
MD：纵向TD：横向
实施例22
聚对苯二甲酸乙二醇酯的粒料(特性粘度0.65，玻璃化转变温度75℃，熔点255℃，含有0.1wt％平均直径0.2μm的磷酸钙颗粒)在180℃下真空干燥3小时，然后加入到已预热到280℃的挤出机中，通过T-形模头熔融挤出成片材。片材在表面温度25℃的冷却鼓上通过，利用静电力确保它们紧密接触，这样片材被冷却而固化成非拉伸流延膜。由与实施例21中相同的方法生产同时双轴拉伸的膜，只是拉伸温度和拉伸比如表25中所示和膜厚度和热处理温度分别是3.5μm和220℃。表25给出了膜生产条件和断裂频率，和表26给出了非拉伸膜的边缘部分的最大厚度(A)与在宽度的中心处膜的厚度(B)之比(A/B)，其折光指数，和其结晶度，以及在膜生产过程中的折光指数，双折射率，和结晶度。表27中给出了所制备膜的杨氏模量，衍射线的圆周半宽，晶体尺寸，对角杨氏模量，在宽度方向上的抗蔓延撕裂强度，在法向上的折光指数，平面取向指数，和密度，而表28中给出了其蠕变柔量，热收缩起始温度，在80℃下的热收缩率，和在激光拉曼散射中的峰强度(R)，介电损失tan值，和介电击穿电压。本发明的膜被发现是静电电容器的非常合适的材料。
表25
    第一次同时双轴拉伸     第二次同时双轴拉伸     第三次同时双轴拉伸 总拉伸比(倍数) 断裂频率
 温度(℃)     拉伸比(倍数)  温度(℃) 拉伸比(倍数) 温度(℃)    拉伸比(倍数)
    MD     TD     MD    TD    MD    TD
实施例22   110     2.0     20     80     3.0    3.0    160    1.3    1.2     56     ○
MD：纵向TD：横向表26
                       非拉伸膜的性能     在MD拉伸1和TD拉伸1之后膜的性能
端部厚度比(A/B)     折光指数   结晶度(％)     折光指数     双折射率    结晶度(％)
    MD     TD     MD     TD
实施例22     4.0     1.572     1.571     0.8     1.576     1.575     0.001     1.0
MD：纵向TD：横向
表27
  杨氏模量(GPa) 衍射线的圆周半宽(°) 晶体尺寸(埃)  对角杨氏模量(GPa) 在宽度方向上抗蔓延撕裂强度(g/5μm) 在法向上的折光指数 平面取向指数   密度(g/cm3)
  MD  TD  45° 135°
实施例22  7.3  62     70     65  68  69     0.9     1.480     0.182  1.397
MD：纵向    TD：横向表28
蠕变柔量(GPa-1) 热收缩起始温度(℃) 在80℃的热收缩率 在激光拉曼散射中峰强度(R)  介电损失tan 击穿电压(V/μm)
    MD     TD    MD     TD     MD  TD IMD/IND     ITD/IND
实施例21    0.25    0.29    78     85     0.2    0     9.2     8.5     1.03     600
MD：纵向TD：横向
实施例23
聚对苯二甲酸乙二醇酯-聚间苯二甲酸乙二醇酯共聚物的粒料(特性粘度0.70，玻璃化转变温度75℃，熔点225℃，共聚合比为80/20，含有0.2wt％平均直径0.3μm的聚结硅石颗粒)在120℃下真空干燥3小时，然后加入到已预热到270℃的挤出机中，通过T-形模头熔融挤出成片材。片材在表面温度25℃的冷却鼓上通过，利用静电力确保它们紧密接触，这样片材被冷却而固化成非拉伸流延膜。该非拉伸膜由夹头夹持其端部，被引导至进行同时双轴拉伸的拉幅机中，在105℃的温度下预热，进行第一步同时双轴拉伸至在纵向上2倍的拉伸比和在横向上2倍的拉伸比而使面积拉伸比为4倍，在75℃下进行第二步同时双轴拉伸至在纵向上的3倍拉伸比和在横向上的3倍拉伸比而使面积拉伸比为9倍，在150℃下进行第三步同时双轴拉伸至在纵向上的1.3倍拉伸比和在横向上的1.3倍拉伸比而使面积拉伸比为1.69倍，冷却至120℃，逐渐冷却至室温，和卷绕。所制备的膜具有晶体熔化热(ΔH)为25J/g。该膜被粘附于一片重量为12g/m2的日本纸张以生产用于热敏模板印刷的基纸，它被用来由Risograph(Riso Kagaku Corporation制造)印刷试验图案，以便评价热敏模板印刷的基纸的印刷性能。表29给出了膜生产条件和断裂频率，和表30给出了非拉伸膜的边缘部分的最大厚度(A)与在宽度的中心处膜的厚度(B)之比(A/B)，其折光指数，和其结晶度，以及在膜生产过程中的折光指数，双折射率，和结晶度。表31中给出了所制备膜的杨氏模量，衍射线的圆周半宽，晶体尺寸，对角杨氏模量，在宽度方向上的抗蔓延撕裂强度，在法向上的折光指数，平面取向指数，和密度，而表32中给出了其蠕变柔量，和在激光拉曼散射中的峰强度(R)，以及该膜作为热敏模板印刷的基纸的印刷性能。从本发明的膜生产的热敏模板印刷的基纸被发现可用于清晰印刷。
表29
    第一次同时双轴拉伸     第二次同时双轴拉伸     第三次同时双轴拉伸 总拉伸比(倍数) 断裂频率
 温度(℃)     拉伸比(倍数)  温度(℃)     拉伸比(倍数) 温度(℃) 拉伸比(倍数)
    MD     TD     MD     TD     MD    TD
实施例23    105     2.0     2.0     75     3.0     3.0    150    1.3    1.3      61     ○
MD：纵向TD：横向表30
    非拉伸膜的性能     在MD拉伸1和TD拉伸1之后膜的性能
端部厚度比(A/B)          折光指数    结晶度(％)          折光指数     双折射率  结晶度(％)
     MD      TD      MD      TD
实施例23     4.5     1.573     1.570     0.8     1.575     1.575     0     1.1
MD：纵向TD：横向
表31
  杨氏模量(GPa) 衍射线的圆周半宽(°) 晶体尺寸(埃)  对角杨氏模量(GPa) 在宽度方向上抗蔓延撕裂强度(g/5μm) 在法向上的折光指数 平面取向指数   密度(g/cm3)
 MD  TD  45° 135°
实施例23  65  6.4     78     48  65  64       0.9        1.480     1.480  1.361
MD：纵向TD：横向表32
    蠕变柔量(GPa-1) 在激光拉曼散射中的峰强度(R) 热敏型模板印刷用的基纸的印刷性能
    MD     TD   IMD/IND      ITD/IND    等级    清晰度
实施例23     0.24     0.26     9.0       8.0    良好     良好
MD：纵向TD：横向
实施例24
由与实施例10同样的操作程序生产非拉伸层压膜。这一非拉伸膜在加热辊(表面材料：硅橡胶)上加热和在110℃温度下分两步在纵向上以1.5倍×1.5倍的拉伸比进行拉伸(MD拉伸1)。该膜由夹头夹持其端部并导入拉幅机，在拉幅机中在115℃的温度和2倍的拉伸比下在横向上拉伸，然后在75℃下在横向上以3.6倍的拉伸比进行拉伸(TD拉伸1和2)。该膜在加热金属辊上加热和在80℃的温度下以3.4倍的拉伸比在纵向上被拉伸(MD拉伸2的第一步)。随后，在膜端部被夹持的情况下，该膜被导入拉幅机中进行同时双轴拉伸，在160℃下和在纵向上以1.2倍拉伸比和在横向上以1.3倍拉伸比进行同时双轴拉伸，在190℃下和在纵向上以1.1倍拉伸比和在横向上以1.1倍拉伸比进行同时双轴拉伸，随后在200℃的温度下热处理，在150℃冷却区中以2％的松弛率在纵向上进行松弛，在100℃冷却区中以1.0％的松弛率在纵向上进行松弛，逐渐冷却至室温，和卷绕。同时双轴拉伸拉幅机的拉幅机夹头的温度(在拉幅机的进口处)是105℃。控制挤出速度以调节膜厚度为6.7μm。表33中给出了膜生产条件，和表34中给出了非拉伸膜的边缘部分的最大厚度(A)与在宽度的中心处膜的厚度(B)之比(A/B)，其折光指数，和其结晶度，以及在膜生产过程中的折光指数，双折射率，结晶度和断裂频率。表35中给出了所制备膜的杨氏模量，衍射线的圆周半宽，晶体尺寸，对角杨氏模量，在宽度方向上的抗蔓延撕裂强度，在法向上的折光指数，平面取向指数，和密度，而表36中给出了其蠕变柔量，热收缩起始温度，在80℃下的热收缩率，和在激光拉曼散射中的峰强度(R)，以及磁带的传输耐久性和维护性。
表33
      MD拉伸1     TD拉伸1  TD拉伸2               MD拉伸2               TD拉伸3 总拉伸比(倍数)
温度(℃)     比率(倍数)  温度(℃)  比率(倍数) 温度(℃) 比率(倍数)   第一次拉伸      第二次拉伸   第一次拉伸        第二次拉伸
 温度(℃)  比率(倍数)  温度(℃)     比率(倍数)  温度(℃)  比率(倍数)  温度(℃)       比率(倍数)
    实施例24  110     1.5/1.5  115  2.0  75  3.6  80  3.4 同时双轴拉伸(1) 160℃,1.2*1.3,(2)190℃,1.1*1.1     87
    实施例25     同时双轴拉伸110℃,2.0*2.0     同时双轴拉伸75℃,3.3*3.3  140  1.5  180  1.3  190       1.1     93
MD：纵向TD：横向同时双轴拉伸：拉伸温度(℃),MD拉伸比(倍数),TD拉伸比(倍数)表34
             非拉伸膜的性能               MD拉伸1和TD拉伸后膜的性能 断裂频率
端部厚度比(A/B)         折射指数 结晶度(％)     折射指数   双折射率 结晶度(％)
    MD     TD      MD      TD
实施例24     3.8     1.571     1.570     0.8     1.576     1.577     0.001     0.9     ○
实施例25     3.0     1.571     1.570     0.8     同时双轴拉伸：nMD=1.576,nTD=1.576双折射率=0，结晶度=0.9％     ○
MD：纵向TD：横向
表35
   杨氏模量(GPa)  衍射线的圆周半宽(°)  晶体尺寸(埃)   对角杨氏模量(GPa) 在宽度方向上抗蔓延撕裂强度(g/5μm) 在法向上的折光指数  平面取向指数     密度(g/cm3)     表面粗糙度(Ra)(nm)
    MD  TD  45° 135° 层Ⅰ表面 层Ⅱ表面
实施例24     74  9.3     83     60  8.0  7.9     0.9     1.476   0.192     1.390     3.8     9.8
实施例25     73  7.8     82     62  7.5  7.6     1 1     1.479   0.190     1.390     4.2     10.3
MD：纵向TD：横向表36
蠕变柔量(GPa-1) 热收缩起始温度℃) 在80℃的热收缩率 在激光拉曼散射中的峰强度(R) 传输耐久性 记录带维护性
   MD    TD    MD    TD     MD  TD  IMD/IND  ITD/IND
实施例24  0.20  0.18     77     83     0.1     0     8.9     10.5     ○     ○
实施例25  0.21  0.19     73     85     0.1     0     8.7     9.5     ○
MD：纵向TD：横向
实施例25
由与实施例10同样的操作程序生产非拉伸层压膜，只是在宽度方向上调节模头的刮板的空间，以使非拉伸膜的边缘部分的最大厚度(A)与在宽度的中心处膜的厚度(B)之比(A/B)是3.0。该膜由夹头夹持其端部并导入同时双轴拉伸式拉幅机中，在110℃的温度和2倍的拉伸比下在纵向和横向两个方向上进行同时双轴拉伸，在75℃下和3.3倍的拉伸比下在纵向和横向两个方向上进行同时双轴拉伸。同时双轴拉伸式拉幅机的拉幅机夹头的温度(在拉幅机的进口处)是100℃。该膜在加热金属辊上加热和在140℃的温度下以1.5倍的拉伸比在纵向上被拉伸，并冷却。随后，在膜端部被夹持的情况下，该膜被导入横向拉伸式拉幅机中，在180℃下在横向上以1.3倍拉伸比拉伸，然后在190℃下在横向上以1.1倍拉伸比进行拉伸，随后在200℃的温度下热处理，在150℃冷却区中以3％的松弛率在横向上进行松弛，在100℃冷却区中以1.0％的松弛率在横向上进行松弛，逐渐冷却至室温，和卷绕。控制挤出速度以调节膜厚度为6.7μm。表33中给出了膜生产条件，和表34中给出了非拉伸膜的边缘部分的最大厚度(A)与在宽度的中心处膜的厚度(B)之比(A/B)，其折光指数，和其结晶度，以及在膜生产过程中的折光指数，双折射率，结晶度和断裂频率。表35中给出了所制备膜的杨氏模量，衍射线的圆周半宽，晶体尺寸，对角杨氏模量，在宽度方向上的抗蔓延撕裂强度，在法向上的折光指数，平面取向指数，密度，和表面粗糙度，而表36中给出了其蠕变柔量，热收缩起始温度，在80℃下的热收缩率，和在激光拉曼散射中的峰强度(R)，以及磁带的传输耐久性和维护性。
这里所公开的双轴拉伸聚酯膜，在纵向(YmMD)或横向(YmTD)任何一个方向上具有7.0Gpa或更高的杨氏模量，和在聚酯骨架链的方向上来自晶体平面的衍射线的圆周半宽是在55°或55°以上到85°或85°以下的范围内，这是通过在聚酯膜沿着其法向旋转的同时由广角X-射线衍射仪所进行的晶体取向分析来测得，在模平面所有方向上具有高硬度，具有高抗撕裂强度，具有高尺寸稳定性，和抗负载变形，和在高密度磁性记录介质的材料而具有非常大的工业意义，可广泛地用作静电电容器、热转多带和热敏模板印刷基纸的材料。
虽然这里已经详细地说明本发明的优选实施方案，但本发明并不限于它们。本技术领域中熟练人员将会认识到，在不脱离本发明的新颖和理想的教导的情况下可作各种变化。因此，这里所公开的实施方案仅仅是举例而言。应该理解的是本发明的范围并不限于这些，但取决于权利要求。

Claims (28)

1、一种双轴取向聚酯膜，在纵向(YmMD)或横向(YmTD)任何一个方向上具有7.0GPa或更高的杨氏模量，和在聚酯骨架链的方向上来自晶体平面的衍射线的圆周半宽是在55°或55°以上到85°或85°以下的范围内，这是通过在聚酯膜沿着其法向旋转的同时由广角X-射线衍射仪所进行的晶体取向分析来测得。
2、根据权利要求1所定义的双轴取向聚酯膜，其中聚酯骨架链方向上晶体尺寸是45埃或更高和90埃或更低。
3、根据权利要求1所定义的双轴取向聚酯膜，其中在纵向(YmMD)和横向(YmTD)两个方向上杨氏模量的总和是13GPa或更高和25GPa或更低，在对角方向(45°或135°)上的杨氏模量是6GPa或更高和10GPa或更低。
4、根据权利要求1所定义的双轴取向聚酯膜，其中在50℃温度和28MPa负载的条件下保持30分钟之后蠕变柔量是0.11GPa-1或更高和0.35GPa-1或更低。
5、根据权利要求1所定义的双轴取向聚酯膜，其中在横向上膜的抗蔓延撕裂强度，转成5μm的厚度，是0.7g或更高和1.8g或更低。
6、根据权利要求1所定义的双轴取向聚酯膜，其中聚酯是聚对苯二甲酸乙二醇酯。
7、根据权利要求6所定义的双轴取向聚酯膜，在纵向的峰强度(IMD)与在法向的峰强度(IND)之比R1(=IMD/IND)，由激光拉曼散射法在1615cm-1处测量，或在横向的峰强度(ITD)与在法向的峰强度(IND)之比R2(=ITD/IND)，两者中至少一个是6或更高。
8、根据权利要求6所定义的双轴取向聚酯膜，其中在法向上的折光指数(nZD)是1.470或更高到1.485或更低，平面取向指数(fn)是0.175或更高和0.195或更低。
9、根据权利要求6所定义的双轴取向聚酯膜，其中膜的密度是1.385或更高和1.400或更低。
10、根据权利要求6所定义的双轴取向聚酯膜，其中膜的热收缩起始温度是70℃或更高，和在80℃下的热收缩率是0.5％或更低。
11、包括权利要求1的双轴取向聚酯膜的高密度磁性记录介质。
12、包括权利要求1的双轴取向聚酯膜的静电电容器。
13、包括权利要求1的双轴取向聚酯膜的热转移带。
14、一种生产双轴取向聚酯膜的方法，其中基本上无定形的聚酯膜在纵向和横向被双轴拉伸以使该膜的双折射率(Δn)和结晶度分别变为0-0.02和6％或更低，然后该膜在比前一次横向拉伸的温度低的温度下进行第二次横向拉伸，随后进行第二次纵向拉伸。
15、根据权利要求14的生产双轴取向聚酯膜的方法，其中基本上无定形的聚酯膜的边缘部分的最大厚度(A)与在宽度的中心处膜的厚度(B)之比(A/B)是在2.0-6.0范围内。
16、根据权利要求14所定义的双轴取向聚酯膜的生产方法，其中基本上无定形的聚酯膜在(聚酯玻璃化转变温度Tg+15)℃-(Tg+45)℃范围内的温度下在纵向上以1.5-2.5倍拉伸比进行拉伸，随后在(Tg+15)℃-(Tg+45)℃范围内的温度下在横向上以1.5-2.5倍拉伸比进行拉伸。
17、根据权利要求14所定义的双轴取向聚酯膜，其中第二次横向拉伸是在(Tg-15)℃-(Tg+25)℃范围内的温度下以3-5倍拉伸比进行。
18、根据权利要求14所定义的双轴取向聚酯膜，其中第二次纵向拉伸是在(Tg-25)℃-(Tg+85)℃范围内的温度下以2-6倍拉伸比进行。
19、根据权利要求14所定义的双轴取向聚酯膜，其中第二次纵向拉伸是在多个步骤中以高达3-6倍拉伸比进行的，其中第一步是在(Tg-15)℃-(Tg+15)℃范围内的温度下进行，和第二和随后的步骤中是在(Tg+10)℃-(Tg+85)℃范围内的温度下进行。
20、根据权利要求14-19中任何一项所定义的双轴取向聚酯膜生产方法，其中双轴拉伸聚酯膜，在第二次纵向拉伸之后，进行第三次横向拉伸。
21、根据权利要求14-19中任何一项所定义的双轴取向聚酯膜的生产方法，其中双轴拉伸聚酯膜，在纵向上第二次拉伸之后，在横向上在一个步骤或在两个或多个步骤中以1.2-2.5倍拉伸比进行第三次拉伸，与此同时将温度逐渐提高至(Tg+10)℃-(聚酯熔点-45)℃范围内的温度。
22、生产权利要求1所定义的双轴取向聚酯膜的方法，其中基本上无定形的聚酯膜在纵向和横向被双轴拉伸，以使该膜的双折射率(Δn)和结晶度分别变为0-0.02和6％或更低，然后该膜在比前一次横向拉伸的温度低的温度下进一步进行横向拉伸，随后进行第二次纵向拉伸。
23、包括三个拉伸步骤的一种生产双轴取向聚酯膜的方法，其中在第一步中，非拉伸流延膜在(聚酯玻璃化转变温度Tg+25)℃-(Tg+45)℃范围内的温度下和在2-7倍的面积拉伸比下同时在纵向和横向进行双轴拉伸，随后在第二步中，该膜在(Tg-15)℃-(Tg+10)℃范围内的温度下和4-16倍的面积拉伸比下同时在纵向和横向进行双轴拉伸，和在第三步中，该膜在(聚酯熔点-130)℃-(Tm-10)℃范围内的温度下和1.5-5倍的面积拉伸比下同时在纵向和横向进一步进行双轴拉伸。
24、根据权利要求23所定义的双轴取向聚酯膜的生产方法，其中通过第一步同时双轴拉伸所生产的膜具有双折射率(Δn)为0-0.02和结晶度为6％或更低。
25、根据权利要求23的双轴取向聚酯膜的生产方法，其中第三次拉伸是在上述温度范围内的两个或多个阶段中进行的。
26、根据权利要求23的双轴取向聚酯膜的生产方法，其中夹持膜端部的拉幅机夹头的温度是在(聚酯玻璃化转变温度Tg+15)℃-(Tg+50)℃范围内。
27、生产权利要求1的双轴取向聚酯膜的方法，包括三个拉伸步骤，其中在第一步中，非拉伸流延膜在(聚酯玻璃化转变温度Tg+25)℃-(Tg+45)℃范围内的温度下和在2-7倍的面积拉伸比下同时在纵向和横向进行双轴拉伸，随后在第二步中，该膜在(Tg-15)℃-(Tg+10)℃范围内的温度下和4-16倍的面积拉伸比下同时在纵向和横向进行双轴拉伸，和在第三步中，该膜在(聚酯熔点-130)℃-(Tm-10)℃范围内的温度下和1.5-5倍的面积拉伸比下同时在纵向和横向进一步进行双轴拉伸。
28、生产权利要求1的双轴取向聚酯膜的方法，其中基本上无定形的聚酯膜在纵向和横向被双轴拉伸，以使该膜的双折射率(Δn)和结晶度分别变为0-0.02和6％或更低，然后该膜在比前一次横向拉伸的温度低的温度下进一步进行横向拉伸，该膜在纵向上再拉伸，随后该膜在(聚酯熔点-130)℃-(Tm-10)℃范围内的温度下和1.5-5倍的面积拉伸比下同时在纵向和横向进行多步同时双轴拉伸。
CN98124521A 1997-10-14 1998-10-14 双轴取向聚酯膜及其制备方法 Expired - Lifetime CN1107584C (zh)

Applications Claiming Priority (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP280349/97 1997-10-14
JP280349/1997 1997-10-14
JP28034997 1997-10-14
JP31898997A JP3726456B2 (ja) 1997-11-05 1997-11-05 同時二軸延伸ポリエステルフィルムおよびその製造方法
JP318989/1997 1997-11-05
JP318989/97 1997-11-05
JP218829/98 1998-08-03
JP218829/1998 1998-08-03
JP21882998 1998-08-03

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1218738A true CN1218738A (zh) 1999-06-09
CN1107584C CN1107584C (zh) 2003-05-07

Family

ID=27330192

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN98124521A Expired - Lifetime CN1107584C (zh) 1997-10-14 1998-10-14 双轴取向聚酯膜及其制备方法

Country Status (10)

Country Link
US (2) US6197430B1 (zh)
EP (1) EP0909780B1 (zh)
KR (1) KR100554045B1 (zh)
CN (1) CN1107584C (zh)
CA (1) CA2249766A1 (zh)
DE (1) DE69837904T2 (zh)
ID (1) ID21071A (zh)
MY (1) MY117927A (zh)
SG (1) SG76565A1 (zh)
TW (1) TW411316B (zh)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109196392A (zh) * 2016-05-31 2019-01-11 Skc株式会社 偏振器保护膜、包括该保护膜的偏振片和显示装置
CN110337357A (zh) * 2017-02-28 2019-10-15 富士胶片株式会社 热塑性树脂薄膜及热塑性树脂薄膜的制造方法
CN110573943A (zh) * 2017-04-28 2019-12-13 株式会社Lg化学 光调制装置
CN113646670A (zh) * 2019-03-28 2021-11-12 东丽先端素材株式会社 双轴取向的聚酯反射膜及其制造方法
CN113861627A (zh) * 2021-09-28 2021-12-31 中国科学技术大学 光学聚酯薄膜及其制备方法

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE60036686T2 (de) * 1999-10-22 2008-07-17 Teijin Ltd. Laminierte Basisfolie für ein Thermotransferaufzeichnungsmedium
JP2001212877A (ja) * 2000-02-03 2001-08-07 Toray Ind Inc 二軸配向ポリエステルフィルムの製造方法および二軸配向ポリエステルフィルム
US6635338B1 (en) * 2000-09-20 2003-10-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Magnetic recording tape and method for manufacturing the same
US6706371B2 (en) * 2000-12-11 2004-03-16 Exxonmobil Oil Corporation Film with edge trim
DE60130793T2 (de) * 2000-12-11 2008-07-17 Teijin Ltd. Biaxial orientierte polyesterfolie und verfahren zu ihrer herstellung
JP4052021B2 (ja) * 2002-06-04 2008-02-27 帝人デュポンフィルム株式会社 配向ポリエステルフィルムおよびそれを用いた積層フィルム
JP3896098B2 (ja) * 2003-06-27 2007-03-22 株式会社東芝 ホログラム記録媒体およびその作製方法
US7011425B2 (en) * 2003-08-01 2006-03-14 S.C. Johnson & Son, Inc. Luminary product
DE602004011242T2 (de) * 2003-09-02 2009-01-02 Toyo Boseki K.K. Polyesterfolie zur formgebung
US8067105B2 (en) 2004-01-29 2011-11-29 Teijin Dupont Films Japan Limited Biaxially oriented film
WO2005078010A1 (ja) * 2004-02-17 2005-08-25 Toray Industries, Inc. 二軸配向ポリエステルフィルム
WO2006132244A1 (ja) * 2005-06-09 2006-12-14 Toray Industries, Inc. 二軸延伸ポリエステルフィルムの製造方法
JP5003493B2 (ja) * 2005-12-08 2012-08-15 コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 位相差フィルム、位相差フィルムの製造方法、偏光板及び液晶表示装置
JPWO2007091381A1 (ja) * 2006-02-09 2009-07-02 帝人デュポンフィルム株式会社 二軸配向ポリエステルフィルムおよび磁気記録テープ
US20070231616A1 (en) * 2006-03-29 2007-10-04 Fujifilm Corporation Magnetic recording medium
JP5319073B2 (ja) * 2007-03-20 2013-10-16 帝人デュポンフィルム株式会社 固体高分子電解質膜補強用二軸配向ポリエステルフィルム
WO2008149869A1 (ja) * 2007-06-04 2008-12-11 Teijin Dupont Films Japan Limited 電気絶縁用二軸配向フィルム
US20090045544A1 (en) * 2007-08-14 2009-02-19 General Electric Company Method for manufacturing ultra-thin polymeric films
KR101335222B1 (ko) * 2007-11-19 2013-11-29 코오롱인더스트리 주식회사 열수축성 폴리에스테르계 필름
KR20130117765A (ko) * 2010-09-27 2013-10-28 도레이 카부시키가이샤 2축 배향 폴리에스테르 필름 및 선형 자기 기록 매체
GB2488787A (en) * 2011-03-07 2012-09-12 Dupont Teijin Films Us Ltd Stabilised polyester films
WO2013148004A1 (en) * 2012-03-30 2013-10-03 3M Innovative Properties Company Backsheet film with improved hydrolytic stability
GB201310837D0 (en) 2013-06-18 2013-07-31 Dupont Teijin Films Us Ltd Polyester film -IV
KR101317491B1 (ko) * 2013-07-08 2013-10-15 코오롱인더스트리 주식회사 열수축성 폴리에스테르계 필름
JP6276853B2 (ja) * 2013-07-10 2018-02-07 コリア インスティチュート オブ インダストリアル テクノロジー 繊維配向複合材の製造方法、それにより製造された繊維配向複合材、前記繊維配向複合材よりなる反射偏光フィルム及びその製造方法
GB201317551D0 (en) 2013-10-03 2013-11-20 Dupont Teijin Films Us Ltd Co-extruded polyester films
AU2015362532B2 (en) * 2014-12-12 2018-08-02 Jfe Steel Corporation Resin-Coated Metal Sheet for Can Lids
KR101681546B1 (ko) * 2015-07-28 2016-12-01 (주)광진상사 합성수지 수세미의 제조방법
WO2017209218A1 (ja) 2016-05-31 2017-12-07 大日本印刷株式会社 電池用包装材料、その製造方法、電池、及びポリエステルフィルム
US10137608B2 (en) * 2016-09-20 2018-11-27 Sumitomo Chemical Company, Limited Film-stretching apparatus and method of producing film
US10543656B2 (en) 2018-01-11 2020-01-28 Eastman Chemical Company Tough shrinkable films
CN112789156A (zh) 2018-10-08 2021-05-11 伊士曼化工公司 由树脂共混物制成的可结晶可收缩膜和可热成形片材
US11806909B2 (en) * 2020-12-22 2023-11-07 Nan Ya Plastics Corporation Biaxially oriented polyester film and manufacturing method thereof

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS533784B2 (zh) 1974-04-10 1978-02-09
JPS5522915A (en) 1978-08-07 1980-02-19 Toray Ind Inc Manufacture of polyester film
JPS58145421A (ja) * 1982-02-24 1983-08-30 Toray Ind Inc ポリエステルフイルムの製造方法
GB2134442B (en) * 1983-01-18 1987-05-28 Diafoil Co Ltd Polyester film for magnetic recording media
JP2935565B2 (ja) 1989-06-28 1999-08-16 ジモン，デーヴィッド・エス バルーンタンポン挿入装置と、それを位置づける方法
FR2682915B1 (fr) 1991-10-24 1997-09-19 Rhone Poulenc Films Films en polyester semi-cristallins orientes, leur procede d'obtention et leur emploi comme support de revetement magnetique
JP3020723B2 (ja) * 1992-04-10 2000-03-15 帝人株式会社 二軸延伸ポリエステルフィルムの製造方法
US5627175A (en) * 1992-12-02 1997-05-06 Shellinternationale Research Maatschappij B.V. Azoxycyanobenzene compounds
EP0671993A1 (en) * 1992-12-09 1995-09-20 Hoechst Aktiengesellschaft Biaxially oriented copolyester film for magnetic recording disks and magnetic recording disks made therefrom
US5474730A (en) * 1993-06-09 1995-12-12 Hoechst Celanese Corporation Production of highly birefringent film
EP0724947B1 (en) * 1994-08-30 2002-05-08 Toray Industries, Inc. Biaxially oriented polyester film and process for production thereof
JPH08276493A (ja) * 1995-01-09 1996-10-22 Toray Ind Inc ポリエステルフイルムの製造方法
JPH09164641A (ja) * 1995-12-15 1997-06-24 Toray Ind Inc 二軸配向ポリエステルフィルム
JPH09300455A (ja) 1996-05-20 1997-11-25 Toray Ind Inc 二軸延伸ポリエステルフィルムおよびその製造方法

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109196392A (zh) * 2016-05-31 2019-01-11 Skc株式会社 偏振器保护膜、包括该保护膜的偏振片和显示装置
CN110337357B (zh) * 2017-02-28 2021-12-10 富士胶片株式会社 热塑性树脂薄膜及热塑性树脂薄膜的制造方法
CN110337357A (zh) * 2017-02-28 2019-10-15 富士胶片株式会社 热塑性树脂薄膜及热塑性树脂薄膜的制造方法
CN110573943B (zh) * 2017-04-28 2022-08-23 株式会社Lg化学 光调制装置
US11262600B2 (en) 2017-04-28 2022-03-01 Lg Chem, Ltd. Light modulation device
US11314106B2 (en) 2017-04-28 2022-04-26 Lg Chem, Ltd. Light modulation device
US11347080B2 (en) 2017-04-28 2022-05-31 Lg Chem, Ltd. Light modulation device
CN110573943A (zh) * 2017-04-28 2019-12-13 株式会社Lg化学 光调制装置
US11506915B2 (en) 2017-04-28 2022-11-22 Lg Chem, Ltd. Light modulation device
US11536987B2 (en) 2017-04-28 2022-12-27 Lg Chem, Ltd. Light modulation device
CN113646670A (zh) * 2019-03-28 2021-11-12 东丽先端素材株式会社 双轴取向的聚酯反射膜及其制造方法
CN113646670B (zh) * 2019-03-28 2024-04-02 东丽先端素材株式会社 双轴取向的聚酯反射膜及其制造方法
CN113861627A (zh) * 2021-09-28 2021-12-31 中国科学技术大学 光学聚酯薄膜及其制备方法
CN113861627B (zh) * 2021-09-28 2022-12-30 中国科学技术大学 光学聚酯薄膜及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW411316B (en) 2000-11-11
EP0909780A2 (en) 1999-04-21
US6197430B1 (en) 2001-03-06
DE69837904D1 (de) 2007-07-26
DE69837904T2 (de) 2008-02-28
ID21071A (id) 1999-04-15
CN1107584C (zh) 2003-05-07
KR100554045B1 (ko) 2006-06-22
EP0909780B1 (en) 2007-06-13
MY117927A (en) 2004-08-30
US6562274B1 (en) 2003-05-13
CA2249766A1 (en) 1999-04-14
SG76565A1 (en) 2000-11-21
KR19990037091A (ko) 1999-05-25
EP0909780A3 (en) 2000-05-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1107584C (zh) 双轴取向聚酯膜及其制备方法
CN1106262C (zh) 聚酯薄膜的制备方法
JP4023090B2 (ja) 磁気記録テープ用二軸配向ポリエステルフィルムおよび磁気記録テープ
WO2010131643A1 (ja) 二軸配向ポリエステルフィルムおよび磁気記録媒体
CN1630680A (zh) 双轴取向热塑性树脂薄膜
JP4026795B2 (ja) 二軸配向ポリエステルフィルム
JP4893190B2 (ja) 二軸配向ポリエステルフィルム
JP4161378B2 (ja) 高寸法安定性高分子フィルムおよびそれを用いた磁気記録媒体
JP2729189B2 (ja) 磁気記録媒体用積層ポリエステルフィルム
KR100293886B1 (ko) 폴리에스테르조성물및그것으로이루어지는필름
JP2002205332A (ja) 二軸配向ポリエステルフィルム
JP2009221277A (ja) 二軸配向ポリエステルフィルムおよび磁気記録媒体
JPH06262677A (ja) 二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルム
JPH11322970A (ja) 二軸配向ポリエステルフィルム
JP2001121602A (ja) 二軸配向ポリエステルフィルムとその製造方法
JP4066768B2 (ja) 二軸配向ポリエステルフィルム
JP2005196944A (ja) 磁気記録媒体用支持体および磁気記録媒体
JP3206222B2 (ja) ポリエステル組成物
JP2001030448A (ja) 二軸配向ポリエステルフィルム
JP4742396B2 (ja) 二軸配向ポリエステルフィルムとその製造方法
JP2011184605A (ja) 二軸配向フィルム
JP2001034931A (ja) 磁気記録媒体用ポリエステルフィルム
JP2000000946A (ja) 二軸配向積層ポリエステルフィルム
JPH07266521A (ja) 積層二軸配向ポリエステルフイルム
JPH06139551A (ja) 磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフィルム

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CX01 Expiry of patent term

Granted publication date: 20030507

CX01 Expiry of patent term